JP2000074622A - Method and instrument for displacement measurement - Google Patents

Method and instrument for displacement measurement

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JP2000074622A
JP2000074622A JP10242086A JP24208698A JP2000074622A JP 2000074622 A JP2000074622 A JP 2000074622A JP 10242086 A JP10242086 A JP 10242086A JP 24208698 A JP24208698 A JP 24208698A JP 2000074622 A JP2000074622 A JP 2000074622A
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Japan
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measured
light intensity
light
objective lens
displacement
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JP10242086A
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Japanese (ja)
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Kuniaki Yanagisawa
邦晃 柳澤
Yoshinori Ikeda
芳則 池田
Shintaro Koike
慎太郎 小池
Akira Nishiki
亮 西木
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and instrument for displacement measurement which can measure the position and displacement of a measured body with high precision irrelevantly to whether or not the surface state of the measured body is good. SOLUTION: The light emitted by a light source 12 is condensed by an objective 15 to irradiate the surface of the measured body 16 and the light reflected by the surface of the measured body 16 is received by an optical detector 20. At plural positions of the measured body 16, light intensity curves are found while the objective 15 is moved along the optical axis. The light intensity curves which are thus obtained are put together to find the light intensity composite curve and the focus position of the objective 15 when the light intensity composite curve becomes maximum is decided as the surface position of the measured body 16.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は変位測定方法及び変
位測定装置に関する。特に、被測定物の表面位置や表面
変位を非接触で計測するための変位測定方法及び変位測
定装置に関する。
The present invention relates to a displacement measuring method and a displacement measuring device. In particular, the present invention relates to a displacement measuring method and a displacement measuring device for measuring a surface position and a surface displacement of an object to be measured in a non-contact manner.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の変位測定装置の構成を図1に示
す。この変位測定装置1は共焦点光学系を用いたもので
あって、レーザーダイオードのような光源2から出射さ
れた光はコリメートレンズ3を通過して平行光となり、
ビームスプリッタ4を通過する。ビームスプリッタ4を
通過した光は、対物レンズ5によって集光され、被測定
物6の表面に照射される。被測定物6の表面で反射され
た光は、再び対物レンズ5を通ってビームスプリッタ4
に入射し、ビームスプリッタ4で方向を90度曲げられ
た光は、集光レンズ7で集光され、集光レンズ7の焦点
位置に配置されたピンホール8を通過した光のみが光検
出器9に入射し、光強度を計測される。
2. Description of the Related Art The configuration of a conventional displacement measuring device is shown in FIG. This displacement measuring device 1 uses a confocal optical system, and light emitted from a light source 2 such as a laser diode passes through a collimating lens 3 and becomes parallel light.
It passes through the beam splitter 4. The light that has passed through the beam splitter 4 is condensed by the objective lens 5 and illuminates the surface of the DUT 6. The light reflected on the surface of the device under test 6 passes through the objective lens 5 again and passes through the beam splitter 4.
Is incident on the beam splitter 4, and the light whose direction is bent by 90 degrees is condensed by the condenser lens 7, and only the light that has passed through the pinhole 8 disposed at the focal position of the condenser lens 7 is a photodetector. 9 and the light intensity is measured.

【0003】この変位測定装置1においては、対物レン
ズ5は光軸方向(図1の上下方向)に移動調整できるよ
うになっており、対物レンズ5を光軸方向に沿って移動
させる場合、光検出器9で計測される光強度は対物レン
ズ5の位置に応じて図2に示すように変化し、被測定物
6の表面(光照射位置)と対物レンズ5との距離が対物
レンズ5の有効焦点距離に等しくなったときに光検出器
9の光強度Pが最大値Pmaxとなる。従って、この光強
度Pの変化(光強度曲線)から光強度が最大値Pmaxと
なるときの対物レンズ5の位置z0を求めれば、その位
置z0から対物レンズ5の焦点位置だけ離れた位置を被
測定物6の表面の位置として計測することができる。
In this displacement measuring apparatus 1, the objective lens 5 can be moved and adjusted in the direction of the optical axis (up and down direction in FIG. 1). The light intensity measured by the detector 9 changes as shown in FIG. 2 according to the position of the objective lens 5, and the distance between the surface of the measured object 6 (light irradiation position) and the objective lens 5 is When it becomes equal to the effective focal length, the light intensity P of the photodetector 9 becomes the maximum value Pmax. Accordingly, if the position z 0 of the objective lens 5 when the light intensity reaches the maximum value Pmax is obtained from the change (light intensity curve) of the light intensity P, a position distant from the position z 0 by the focal position of the objective lens 5 is obtained. Can be measured as the position of the surface of the DUT 6.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のような変位測定
装置1においては、被測定物6の表面が鏡面に近い場合
には、対物レンズ5の位置を変化させたときの光強度P
は、図2に示したような形状の安定した山形の光強度曲
線となり、高精度の位置計測が可能である。
In the displacement measuring apparatus 1 as described above, when the surface of the measured object 6 is close to a mirror surface, the light intensity P when the position of the objective lens 5 is changed is changed.
Is a stable chevron-shaped light intensity curve having a shape as shown in FIG. 2, and highly accurate position measurement is possible.

【0005】しかし、被測定物6の表面に凹凸がある
と、光を照射された箇所の微細でランダムな凹凸によ
り、図3や図4に示すような光強度曲線が得られる。こ
のような不規則な光強度曲線から光強度最大値に相当す
る点(光強度最大時の対物レンズの位置)z0を判別す
ることは困難であり、高精度の位置計測や変位計測がで
きなかった。
However, if the surface of the object 6 has irregularities, light intensity curves as shown in FIGS. 3 and 4 can be obtained due to fine and random irregularities at the portions irradiated with light. Such irregular that the light intensity curve corresponding to the light intensity maximum value (light intensity maximum when the objective lens position) to determine the z 0 is difficult, can position measurement or displacement measurement precision Did not.

【0006】また、光強度曲線の最大値から被測定物の
表面位置を検出する方法では、ノイズ等によって大きな
光強度が突発的に検出された場合(図16参照)には過
った計測結果が出力されることになり、計測動作が不安
定になりやすかった。
In the method of detecting the surface position of the object to be measured from the maximum value of the light intensity curve, when a large light intensity is suddenly detected due to noise or the like (see FIG. 16), the measurement result is excessive. Was output, and the measurement operation was likely to be unstable.

【0007】なお、鏡面とは、表面粗さRaが0.01
μm以下の表面をいい、凹凸面とは表面粗さRaが0.
01〜1μm程度の表面をいう。
The mirror surface is defined as having a surface roughness Ra of 0.01.
μm or less, and the uneven surface means a surface roughness Ra of 0.
It refers to a surface of about 01 to 1 μm.

【0008】本発明は上述の技術的問題点を解決するた
めになされたものであり、その目的とするところは、被
測定物の表面状態の良否にかかわらず、被測定物の位置
や変位を高精度に計測することができる変位測定方法及
び変位測定装置を提供することにある。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned technical problems, and an object of the present invention is to determine the position and displacement of an object to be measured irrespective of the quality of the surface condition of the object. An object of the present invention is to provide a displacement measuring method and a displacement measuring device capable of measuring with high accuracy.

【0009】[0009]

【発明の開示】本発明による変位測定方法は、対物レン
ズを通して被測定物に光を投射し、被測定物からの反射
光を受光し、前記対物レンズの焦点位置を光軸方向に沿
って移動させることによって対物レンズの焦点移動に伴
う光強度の変化を計測し、被測定物の複数の測定箇所に
おいて計測された各光強度の変化を合成し、その合成結
果に基づいて被測定物の変位を測定することを特徴とし
ている。
DISCLOSURE OF THE INVENTION A displacement measuring method according to the present invention projects light on an object to be measured through an objective lens, receives reflected light from the object to be measured, and moves the focal position of the objective lens along the optical axis direction. By measuring the change in light intensity due to the focal point movement of the objective lens, the changes in the light intensity measured at a plurality of measurement points on the measured object are combined, and the displacement of the measured object is calculated based on the combined result. Is measured.

【0010】この方法は、例えば、光を出射する発光部
と、発光部から出射された光を被測定物に投射するため
の対物レンズと、前記対物レンズを光軸方向に沿って移
動させるレンズ駆動手段と、前記対物レンズの位置を検
出するレンズ位置検出手段と、被測定物からの反射光を
受光する受光部と、対物レンズによる光投射位置を被測
定物の表面に沿って移動させる手段と、被測定物の複数
の測定位置において対物レンズを移動させながら前記受
光部により計測された光強度の変化を合成し、その合成
結果に基づいて被測定物の変位を測定する手段とを備え
た変位測定装置によって実施することができる。
In this method, for example, a light emitting section for emitting light, an objective lens for projecting the light emitted from the light emitting section to an object to be measured, and a lens for moving the objective lens along the optical axis direction Driving means, lens position detecting means for detecting the position of the objective lens, a light receiving section for receiving reflected light from the object to be measured, and means for moving the light projection position of the objective lens along the surface of the object to be measured Means for combining a change in the light intensity measured by the light receiving unit while moving the objective lens at a plurality of measurement positions on the measurement object, and measuring a displacement of the measurement object based on the synthesis result. Can be implemented by a displacement measuring device.

【0011】このような変位測定方法によれば、複数の
測定箇所で得た光強度を合成した結果に基づいて被測定
物の変位を求めているので、光強度が大きくて誤差の小
さな光強度の重みを大きくし、光強度が小さくて誤差の
大きな光強度の重みを小さくでき、被測定物表面の凹凸
面の散乱の影響を小さくできる。よって、本発明によれ
ば、被測定物表面の位置や変位を高精度で、かつ安定に
計測することが可能になる。
According to such a displacement measuring method, since the displacement of the object to be measured is determined based on the result of combining the light intensities obtained at a plurality of measurement points, the light intensity is large and the error is small. , The weight of the light intensity having a small light intensity and a large error can be reduced, and the influence of the scattering of the uneven surface of the object to be measured can be reduced. Therefore, according to the present invention, it is possible to measure the position and displacement of the surface of the object to be measured with high accuracy and stably.

【0012】複数箇所における光強度の合成結果から被
測定物の変位を求める方法としては、合成された光強度
の変化が最大となる位置からから求めることができる。
この方法によれば、被測定物の変位を求めるための演算
を簡単にすることができる。
The displacement of the object to be measured can be obtained from the position where the change in the combined light intensity is maximum, based on the combined light intensity at a plurality of locations.
According to this method, the calculation for determining the displacement of the measured object can be simplified.

【0013】また、合成された光強度の変化を表わす曲
線からしきい値を求め、当該曲線としきい値によって囲
まれた領域の重心を求め、当該重心位置から被測定物の
表面の変位を測定するようにすれば、対物レンズの焦点
移動方向におけるサンプリング間隔よりも小さな精度で
被測定物の変位を求めることができる。さらに、しきい
値を設定して当該しきい値以上のデータを用いているの
で、不要なノイズ成分を除き、より測定精度を向上させ
ることができる。
Further, a threshold value is obtained from a curve representing a change in the combined light intensity, a center of gravity of an area surrounded by the curve and the threshold value is obtained, and a displacement of the surface of the object is measured from the position of the center of gravity. By doing so, the displacement of the object to be measured can be obtained with an accuracy smaller than the sampling interval in the focus moving direction of the objective lens. Further, since a threshold value is set and data equal to or higher than the threshold value is used, unnecessary noise components can be removed, and the measurement accuracy can be further improved.

【0014】また、合成された光強度の変化を表わす曲
線と近似した所定の曲線を求め、当該近似曲線に基づい
て被測定物の表面の変位を測定するようにすれば、理想
に近い曲線によって対物レンズの焦点位置を定め、それ
によって被測定物の変位を求めることができる。
Further, if a predetermined curve approximating a curve representing the change of the combined light intensity is obtained and the displacement of the surface of the object to be measured is measured based on the approximate curve, a curve close to the ideal can be obtained. The focal position of the objective lens can be determined, and thereby the displacement of the measured object can be obtained.

【0015】また、光強度曲線の重心位置や近似曲線か
ら被測定物の表面位置を求めれば、ノイズ等によって突
発的に大きな光強度が計測されても、それに影響される
ことなく安定した計測結果を得ることができる。
Further, if the surface position of the object to be measured is obtained from the position of the center of gravity of the light intensity curve or the approximate curve, even if suddenly large light intensity is measured due to noise or the like, the measurement results are stable without being affected by the large light intensity. Can be obtained.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】(第1の実施形態)図5は本発明
の第1の実施形態による変位測定装置11の構成を示す
図である。光源12はレーザーダイオードやレーザー駆
動回路等によって構成されており、光源12から出射さ
れる光(レーザー光)は、オートパワーコントローラ
(APC)23によって一定の光強度となるように自動
調整されている。光源12は、その発光点がコリメート
レンズ13の焦点位置となるように配置されており、光
源12から出射された発散光はコリメートレンズ13に
よって平行光に変換される。コリメートレンズ13を通
過して平行光となった光は、ビームスプリッタ14に入
射し、その一部がビームスプリッタ14を透過して対物
レンズ15に入射する。
(First Embodiment) FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a displacement measuring device 11 according to a first embodiment of the present invention. The light source 12 includes a laser diode, a laser driving circuit, and the like, and light (laser light) emitted from the light source 12 is automatically adjusted by an auto power controller (APC) 23 to have a constant light intensity. . The light source 12 is arranged such that its light emitting point is the focal position of the collimator lens 13, and the divergent light emitted from the light source 12 is converted by the collimator lens 13 into parallel light. The light that has passed through the collimator lens 13 and turned into parallel light enters the beam splitter 14, and a part of the light passes through the beam splitter 14 and enters the objective lens 15.

【0017】対物レンズ15にはレンズ駆動装置21が
設けられており、対物レンズ15はレンズ駆動装置21
により一定振幅、一定周期で駆動される。例えば、レン
ズ駆動装置21としては、ボイスコイルに発生させた交
番磁界により対物レンズ15に設けた磁性体に磁力を及
ぼすことにより、振幅100μm、周波数1kHzで対
物レンズ15を光軸方向に振動させるものを用いること
ができる。また、対物レンズ15の近傍には、対物レン
ズ15の位置を高精度に検出することができる位置セン
サ22を設けている。
The objective lens 15 is provided with a lens driving device 21.
Is driven at a constant amplitude and a constant cycle. For example, the lens driving device 21 vibrates the objective lens 15 in the optical axis direction at an amplitude of 100 μm and a frequency of 1 kHz by applying a magnetic force to a magnetic body provided on the objective lens 15 by an alternating magnetic field generated in a voice coil. Can be used. In addition, a position sensor 22 that can detect the position of the objective lens 15 with high accuracy is provided near the objective lens 15.

【0018】対物レンズ15を透過した光は、対物レン
ズ15によって集光され、対物レンズ15に対向させて
静置された被測定物16に照射される。被測定物16で
反射した光は、再び対物レンズ15を通過し、その一部
はビームスプリッタ14で反射される。ビームスプリッ
タ14で反射された光は、方向を90度曲げられて集光
レンズ17に入射する。集光レンズ17の焦点位置には
ピンホール19を開口された遮光板18が設けられてお
り、集光レンズ17を通過した光はピンホール19に集
められる。ピンホール19を通過した光は、フォトダイ
オードやフォトトランジスタ、CCD等からなる光検出
器20で受光される。
The light transmitted through the objective lens 15 is condensed by the objective lens 15 and is applied to an object 16 to be measured, which is set to face the objective lens 15 and stand still. The light reflected by the DUT 16 passes through the objective lens 15 again, and a part of the light is reflected by the beam splitter 14. The light reflected by the beam splitter 14 is turned by 90 degrees and enters the condenser lens 17. A light-shielding plate 18 having a pinhole 19 is provided at a focal position of the condenser lens 17, and light passing through the condenser lens 17 is collected in the pinhole 19. The light passing through the pinhole 19 is received by a photodetector 20 including a photodiode, a phototransistor, a CCD, and the like.

【0019】位置センサ22で検出されている対物レン
ズ15の位置情報及び光検出器20で計測されている光
強度の値Pは、データ処理部24へ送られる。従って、
データ処理部24では、レンズ駆動装置21で対物レン
ズ15を振動させながら、位置センサ22からの位置情
報と光検出器20からの光強度の値Pを取り込み、必要
な処理を施すことにより、例えば図2に示したような光
強度曲線を繰り返し計測することができる。
The position information of the objective lens 15 detected by the position sensor 22 and the light intensity value P measured by the photodetector 20 are sent to a data processing unit 24. Therefore,
The data processing unit 24 captures the position information from the position sensor 22 and the value P of the light intensity from the photodetector 20 while oscillating the objective lens 15 with the lens driving device 21 and performs necessary processing, for example, The light intensity curve as shown in FIG. 2 can be repeatedly measured.

【0020】また、変位測定装置11の測定ヘッド26
(変位測定装置11の光学系を納めている)は、ヘッド
駆動装置25によって被測定物16の表面と平行な方向
に移動できるようになっている。
The measuring head 26 of the displacement measuring device 11
(Containing the optical system of the displacement measuring device 11) can be moved in a direction parallel to the surface of the object 16 by the head driving device 25.

【0021】これによって、変位測定装置11は、図6
に示すように、微細な凹凸のある被測定物表面の異なる
箇所において、対物レンズ15を移動させたときの光強
度曲線を求め、それを記憶する。このときの測定ヘッド
26の移動ピッチδは、被測定物16の表面状態によっ
て決まり、例えば被測定物16の表面の凹凸の大きさの
1倍〜数倍を目安とすればよい。また、被測定物16に
照射する光のスポット径があまり大きいとどの光強度曲
線も同じになるので、光の最小スポット径は適当な大き
さにする必要がある。このスポット径は被測定物16に
応じて試行錯誤的に決めればよいが、被測定物16の平
らな部分の大きさの数倍、特に2倍程度の大きさが望ま
しい。
As a result, the displacement measuring device 11 is
As shown in (1), a light intensity curve when the objective lens 15 is moved is obtained at different locations on the surface of the object having fine irregularities, and is stored. The movement pitch δ of the measuring head 26 at this time is determined by the surface condition of the object 16, and may be, for example, about one to several times the size of the unevenness on the surface of the object 16. Further, if the spot diameter of the light applied to the DUT 16 is too large, all the light intensity curves become the same, so that the minimum spot diameter of the light needs to be an appropriate size. The spot diameter may be determined by trial and error according to the measured object 16, but is desirably several times the size of the flat portion of the measured object 16, particularly preferably about twice as large.

【0022】こうして、例えば図6のA1、A2、A
3、A4の各点で計測したときの光強度曲線が図7に示
すB1、B2、B3、B4の各曲線であったとすると、
データ処理部24はこれらの光強度曲線B1、B2、B
3、B4を足し合せ、図8のような光強度合成曲線Bを
得る。ついで、データ処理部24は、図9に示すよう
に、光強度合成曲線Bから光強度が最大値Pmaxとなる
位置zmaxを求め、そのときの対物レンズ15の焦点位
置を被測定物16の表面位置と判定する。
Thus, for example, A1, A2, A in FIG.
Assuming that the light intensity curves measured at points 3 and A4 are the curves B1, B2, B3 and B4 shown in FIG.
The data processing unit 24 calculates these light intensity curves B1, B2, B
3 and B4 are added to obtain a light intensity synthesis curve B as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 9, the data processing unit 24 obtains a position z max at which the light intensity reaches the maximum value Pmax from the light intensity synthesis curve B, and determines the focal position of the objective lens 15 at that time. Judge as the surface position.

【0023】ヘッド駆動装置25は、図10に示すよう
に、測定ヘッド26を一定ピッチδ毎に間欠送りするよ
うにし、測定ヘッド26を各点A1、A2、A3、A4
で停止させた状態で各光強度曲線を計測するようにして
もよい。あるいは、図11に示すように、ヘッド駆動装
置25によって測定ヘッド26を一定速度で移動させる
ようにし、一定速度で測定ヘッド26を移動させながら
δのピッチ毎の点A1、A2、A3、A4で光強度曲線
の計測を行なうようにしてもよい。後者の場合には、ヘ
ッド駆動装置25による測定ヘッド26の移動速度は、
対物レンズ15の移動速度に比べて遅くしておく必要が
ある。図10のように測定ヘッド26をピッチ送りする
方法では、光強度曲線を測定中は同一位置を測定してい
るので、ヘッド駆動装置25の目的に合った駆動方法で
あるが、高速移動と静止とを繰り返さなければならない
ので、高速でピッチ送りすることが困難となり、動作が
不安定になる恐れがある。これに対し、測定ヘッド26
を一定速度で移動させる方法では、光強度曲線を測定中
も測定ヘッド26が移動しているので、多少の誤差を含
む可能性があるが、一定速度で測定ヘッド26を移動さ
せるので、高速化が容易になり、安定した動作が可能に
なる。
As shown in FIG. 10, the head driving device 25 intermittently feeds the measuring head 26 at a constant pitch δ, and moves the measuring head 26 to each point A1, A2, A3, A4.
Each light intensity curve may be measured in the state where the light intensity is stopped. Alternatively, as shown in FIG. 11, the measuring head 26 is moved at a constant speed by the head driving device 25, and the points A1, A2, A3, and A4 for each pitch of δ are moved while moving the measuring head 26 at a constant speed. The light intensity curve may be measured. In the latter case, the moving speed of the measuring head 26 by the head driving device 25 is
It is necessary to make the moving speed slower than the moving speed of the objective lens 15. In the method of pitch-moving the measuring head 26 as shown in FIG. 10, since the same position is measured during the measurement of the light intensity curve, this is a driving method suitable for the purpose of the head driving device 25. Must be repeated, so that it is difficult to feed the pitch at high speed, and the operation may be unstable. On the other hand, the measuring head 26
In the method of moving the measuring head at a constant speed, the measuring head 26 moves even during the measurement of the light intensity curve, which may include some errors. However, since the measuring head 26 moves at a constant speed, the speed is increased. , And stable operation becomes possible.

【0024】こうして、この変位測定装置11によれ
ば、被測定物表面の変位量や基準位置からの変位、ある
いは変位測定装置11からの距離を計測することができ
る。あるいは、上記のようにしてマクロな2点(つま
り、前記移動ピッチδに比べて大きな距離離れた2点)
を計測すれば、その変位や高低差なども計測することが
できる。例えば、セラミック基板やその上に印刷された
電極の高さ方向の変位や厚みを測定することができる。
In this way, the displacement measuring device 11 can measure the displacement amount of the surface of the object to be measured, the displacement from the reference position, or the distance from the displacement measuring device 11. Alternatively, two macro points as described above (that is, two points separated by a distance larger than the moving pitch δ)
, The displacement, height difference, etc. can be measured. For example, it is possible to measure the displacement and the thickness in the height direction of the ceramic substrate and the electrodes printed thereon.

【0025】また、上記のような共焦点光学系を用いた
本発明の変位測定装置11またはその測定原理によれ
ば、微細な複数位置の光強度分布を足し合わせることに
より、凹凸面の散乱の影響を減らし、被測定物16の変
位や距離などを安定に測定することができる。つまり、
被測定物16の表面が鏡面に近いと、反射光の光強度は
相対的に大きくなり、測定誤差も小さくなるが、被測定
物16の表面における凹凸面の散乱の影響が大きい場合
には、反射光の光強度は相対的に小さくなるので、凹凸
面の平均値を求めるとしても、その誤差は大きくなる。
本発明の測定原理は、この点を利用している。単に、対
物レンズ15の焦点位置を平均することによって被測定
物16の表面位置を求めるのでは、誤差が大きい場合と
小さい場合とが同じ重みで平均される。これに対し、光
強度曲線を足し合せて合成すれば、光強度が大きくて誤
差の小さな場合の重みが大きくなり、光強度が小さくて
誤差の大きな場合の重みが小さくなる。この結果、被測
定物16の表面の凹凸が大きな場合であっても被測定物
16表面の位置や変位を高精度で、かつ安定に計測する
ことが可能になる。
According to the displacement measuring apparatus 11 of the present invention using the confocal optical system as described above or its measuring principle, the light intensity distribution at a plurality of fine positions is added to reduce the scattering of the uneven surface. The influence can be reduced, and the displacement, distance, and the like of the DUT 16 can be stably measured. That is,
When the surface of the DUT 16 is close to a mirror surface, the light intensity of the reflected light is relatively large and the measurement error is small, but when the influence of the uneven surface on the surface of the DUT 16 is large, Since the light intensity of the reflected light becomes relatively small, even if the average value of the uneven surface is obtained, the error increases.
The measurement principle of the present invention utilizes this point. If the surface position of the DUT 16 is simply obtained by averaging the focal positions of the objective lens 15, the case where the error is large and the case where the error is small are averaged with the same weight. On the other hand, if the light intensity curves are added and combined, the weight when the light intensity is large and the error is small increases, and the weight when the light intensity is small and the error is large decreases. As a result, the position and displacement of the surface of the object 16 can be measured with high accuracy and stably even when the surface of the object 16 has large irregularities.

【0026】しかも、光強度合成曲線Bの最大値Pmax
に対応する対物レンズ15の位置z0から被測定物16
の変位や位置を求めるようにすれば、他の実施形態と比
較して演算回数を少なくすることができる。
Moreover, the maximum value Pmax of the light intensity synthesis curve B
From the position z 0 of the objective lens 15 corresponding to
If the displacement and position of are calculated, the number of calculations can be reduced as compared with other embodiments.

【0027】(第2の実施形態)次に、本発明の第2の
実施形態を説明する。第1の実施形態では、光強度合成
曲線Bの最大値Pmaxから被測定物16の表面位置を求
めたが、この実施形態では、光強度合成曲線Bの重心位
置から被測定物16の表面位置を求める。以下、この実
施形態を説明するが、変位測定装置11の構成(図5)
及びデータ処理部24において複数位置における光強度
曲線を合成するところまでは、第1の実施形態と同じで
あるから、説明を省略する。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the first embodiment, the surface position of the DUT 16 is obtained from the maximum value Pmax of the light intensity composite curve B. In this embodiment, however, the surface position of the DUT 16 is obtained from the center of gravity of the light intensity composite curve B. Ask for. Hereinafter, this embodiment will be described. The configuration of the displacement measuring device 11 (FIG. 5)
The process up to the point where the light intensity curves at a plurality of positions are combined in the data processing unit 24 is the same as that of the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0028】図8に示したような光強度合成曲線Bが、
対物レンズ15の位置zの関数としてf(z)で表され
るとすると、データ処理部24は、光強度合成曲線f
(z)から次の(1)式により対物レンズ15の移動方向
の重心位置zGを求める。なお、(1)式において、z1
2は対物レンズ15が移動(振動)範囲の端にあると
きの位置である。そして、データ処理部24は、図12
に示すように重心位置zGを求め、対物レンズ15がそ
の重心位置zGにあるときの焦点位置を被測定物16の
表面位置と判定する。
The light intensity synthesis curve B as shown in FIG.
If it is expressed as f (z) as a function of the position z of the objective lens 15, the data processing unit 24 calculates the light intensity synthesis curve f
From (z), the position of the center of gravity z G in the moving direction of the objective lens 15 is obtained by the following equation (1). Note that, in equation (1), z 1 ,
z 2 is the position when the objective lens 15 is at the end of the movement (vibration) range. And the data processing unit 24
As shown in (2), the center of gravity position z G is obtained, and the focal position when the objective lens 15 is at the center of gravity position z G is determined as the surface position of the DUT 16.

【0029】[0029]

【数1】 (Equation 1)

【0030】なお、光強度合成曲線f(z)が対物レン
ズ15の離散位置ziのデータf(zi)である場合に
は、対物レンズ15の移動方向の重心位置zGは、次の
(2)式で求められる。
[0030] Note that when the light intensity synthesizing curve f (z) is the data f of the discrete positions zi of the objective lens 15 (zi) is the center of gravity position z G in the moving direction of the objective lens 15, the following
It is obtained by equation (2).

【0031】[0031]

【数2】 (Equation 2)

【0032】第1の実施形態では、対物レンズ15の移
動方向におけるサンプリング間隔よりも小さな精度で測
定することはできないが、この実施形態のように光強度
曲線Bの重心位置から被測定物16の位置や変位を演算
することにより、対物レンズ15の移動方向におけるサ
ンプリング間隔よりも小さな精度で被測定物16の位置
や変位を求めることができる。
In the first embodiment, the measurement cannot be performed with a precision smaller than the sampling interval in the moving direction of the objective lens 15, but as in this embodiment, the position of the object 16 to be measured is determined from the position of the center of gravity of the light intensity curve B. By calculating the position and the displacement, the position and the displacement of the DUT 16 can be obtained with an accuracy smaller than the sampling interval in the moving direction of the objective lens 15.

【0033】(第3の実施形態)次に、本発明の第3の
実施形態を説明する。第2の実施形態では、光強度合成
曲線全体の重心位置を求めたが、この実施形態では、し
きい値を設定し、しきい値よりも大きな光強度の領域に
おける重心位置を求め、その重心位置から被測定物16
の表面位置を求める。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described. In the second embodiment, the position of the center of gravity of the entire light intensity synthesis curve is obtained. However, in this embodiment, a threshold is set, the position of the center of gravity in a region of light intensity larger than the threshold is obtained, and the center of gravity is obtained. Measured object 16 from position
Find the surface position of.

【0034】まず、データ処理部24は、光強度曲線を
足し合せて光強度合成曲線Bを求めた後、光強度合成曲
線Bからしきい値Pthを演算する。しきい値Pthを決め
る方法の1つは、光強度合成曲線Bの最大値Pmaxのα
%(ただし、0<α<100)とすることである。つま
り、Pth=α×Pmax/100によりしきい値を決め
る。しきい値Pthを決める別な方法は、図13に示すよ
うに、予めサンプル測定により対物レンズ15の位置z
3、z4(大まかな被測定物16の存在領域に対応する対
物レンズ15の位置)を求めておき、区間[z3、z4
における光強度合成曲線下の面積の、光強度軸方向の重
心PGを求め、これをしきい値Pth=PGとする。
First, the data processing unit 24 calculates the light intensity composite curve B by adding the light intensity curves, and then calculates the threshold value P th from the light intensity composite curve B. One of the methods for determining the threshold value P th is to set the maximum value P max of the light intensity synthesis curve B to α
% (However, 0 <α <100). That is, the threshold value is determined by Pth = α × Pmax / 100. Another method for determining the threshold value P th is to perform position measurement of the objective lens 15 in advance by sample measurement as shown in FIG.
3 , z 4 (the position of the objective lens 15 corresponding to the approximate area where the object 16 is present) is determined, and the section [z 3 , z 4 ]
In the area under the intensity synthetic curve, determine the gravity center P G of the light intensity axis direction, which is the threshold P th = P G.

【0035】いずれかの方法でしきい値Pthを求める
と、データ処理部24は、光強度合成曲線f(z)から
次の(3)式により対物レンズ15の移動方向の重心位置
Gを求める。なお、(3)式において、z5、z6は光強度
Pがしきい値Pthに等しいときの対物レンズ15の位置
である。そして、データ処理部24は、図14に示すよ
うに重心位置zGを求め、対物レンズ15がその重心位
置zGにあるときの焦点位置を被測定物16の表面位置
と判定する。
When the threshold value P th is determined by any of the methods, the data processing unit 24 calculates the center of gravity z G in the moving direction of the objective lens 15 from the light intensity synthesis curve f (z) according to the following equation (3). Ask for. Incidentally, (3) In the equation, z 5, z 6 is the position of the objective lens 15 when the light intensity P is equal to the threshold P th. Then, the data processing unit 24 obtains the position of the center of gravity z G as shown in FIG. 14, and determines the focal position when the objective lens 15 is at the position of the center of gravity z G as the surface position of the DUT 16.

【0036】[0036]

【数3】 (Equation 3)

【0037】なお、光強度合成曲線f(z)が離散デー
タf(zi)である場合には、対物レンズ15の移動方
向の重心位置zGは、次の(4)式で求められる。
When the light intensity synthesis curve f (z) is discrete data f (zi), the position of the center of gravity z G of the moving direction of the objective lens 15 can be obtained by the following equation (4).

【0038】[0038]

【数4】 (Equation 4)

【0039】この実施形態でも、光強度合成曲線Bの重
心位置から被測定物16の位置や変位を演算することに
より、対物レンズ15の移動方向におけるサンプリング
間隔よりも小さな精度で被測定物16の位置や変位を求
めることができる。さらに、不要なノイズ成分を除くた
め、光強度のしきい値Pth以上の光強度Pから重心位置
を求めているので、より測定精度を向上させることがで
きる。
Also in this embodiment, by calculating the position and displacement of the object 16 from the position of the center of gravity of the light intensity synthesis curve B, the position of the object 16 can be calculated with a precision smaller than the sampling interval in the moving direction of the objective lens 15. The position and displacement can be determined. Furthermore, since the position of the center of gravity is determined from the light intensity P equal to or higher than the light intensity threshold Pth in order to remove unnecessary noise components, the measurement accuracy can be further improved.

【0040】(第4の実施形態)つぎに、本発明の第4
の実施形態を説明する。この実施形態では、図15に示
すように、光強度合成曲線Bを曲線近似し、その近似曲
線Cの基準位置から被測定物16の表面位置を求める。
(Fourth Embodiment) Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.
An embodiment will be described. In this embodiment, as shown in FIG. 15, the light intensity synthesis curve B is approximated by a curve, and the surface position of the DUT 16 is obtained from the reference position of the approximate curve C.

【0041】例えば近似曲線Cを次の(5)式とする。た
だし、a、b、cは定数である。 k(z)=a・exp{−b(z−c)2} …(5) データ処理部24は、最小二乗法などにより演算から定
数a、b、cの値を定める。そして、この近似曲線Cの
中心z=cを基準位置とし、対物レンズ15がその基準
位置にあるときの対物レンズ15の焦点位置を被測定物
16の表面位置と判定する。あるいは、この近似曲線C
の中心z=cから一定距離だけ外れた位置を基準位置と
し、対物レンズ15がその基準位置にあるときの焦点位
置を被測定物16の表面位置と判定してもよい。
For example, the approximate curve C is expressed by the following equation (5). Here, a, b, and c are constants. k (z) = a · exp {−b (z−c) 2 } (5) The data processing unit 24 determines the values of the constants a, b, and c from the calculation by the least square method or the like. Then, the center z = c of the approximate curve C is set as a reference position, and the focal position of the objective lens 15 when the objective lens 15 is at the reference position is determined as the surface position of the DUT 16. Alternatively, the approximate curve C
May be determined as the reference position, and the focal position when the objective lens 15 is at the reference position may be determined as the surface position of the DUT 16.

【0042】なお、近似曲線としては、上記関数以外の
関数をもちいてもよいことはもちろんである。そして、
近似関数の形によっては、光強度が最大となる位置や重
心位置を基準位置としてもよい。
It is needless to say that a function other than the above function may be used as the approximate curve. And
Depending on the form of the approximation function, the position where the light intensity is maximum or the position of the center of gravity may be used as the reference position.

【0043】このように近似曲線を用いる方法では、理
想に近い曲線の焦点位置を定めることができる。
In the method using the approximate curve as described above, it is possible to determine the focal position of the curve close to the ideal.

【0044】また、第2又は第3の実施形態のように、
光強度曲線の重心位置から被測定物16の表面位置を求
めたり、第4の実施形態のように近似曲線から被測定物
16の表面位置を求めたりすれば、不安定な状況で計測
していて、対物レンズ15を移動させながら光強度を計
測している時にノイズ等によって突発的に大きな値が計
測されても(つまり、図16のように光強度曲線にスパ
イクが生じても)、それに影響されることなく、比較的
安定した計測結果が得られる。これに対し、従来例のよ
うに光強度曲線の最大値から被測定物16の表面位置を
求める方法では、ノイズ等によってスパイク状に突出し
た光強度が計測されると、ただちに過った計測結果が出
力され、計測結果が不安定になり易かった。
Further, as in the second or third embodiment,
If the surface position of the DUT 16 is obtained from the position of the center of gravity of the light intensity curve, or the surface position of the DUT 16 is obtained from the approximate curve as in the fourth embodiment, measurement is performed in an unstable state. Therefore, if a large value is suddenly measured due to noise or the like while measuring the light intensity while moving the objective lens 15 (that is, even if a spike occurs in the light intensity curve as shown in FIG. 16), A relatively stable measurement result can be obtained without being affected. On the other hand, in the method of obtaining the surface position of the DUT 16 from the maximum value of the light intensity curve as in the conventional example, if the light intensity protruding in a spike shape due to noise or the like is measured, the measurement result that was immediately passed. Was output, and the measurement result was likely to be unstable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来例による変位測定装置の構成を示す概略図
である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a conventional displacement measuring device.

【図2】上記変位測定装置により計測した理想的な光強
度曲線を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an ideal light intensity curve measured by the displacement measuring device.

【図3】表面に凹凸のある被測定物から得た光強度曲線
を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a light intensity curve obtained from an object to be measured having an uneven surface.

【図4】表面に凹凸のある被測定物から得た別な光強度
曲線を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing another light intensity curve obtained from an object to be measured having an uneven surface.

【図5】本発明の一実施形態による変位測定装置の構成
を示す概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a configuration of a displacement measuring device according to an embodiment of the present invention.

【図6】被測定物の表面を拡大して示す図である。FIG. 6 is an enlarged view of the surface of the device under test.

【図7】被測定物の異なる位置で計測された光強度曲線
を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing light intensity curves measured at different positions on an object to be measured.

【図8】図7の光強度曲線を合成した光強度合成曲線を
示す図である。
FIG. 8 is a view showing a light intensity synthesis curve obtained by synthesizing the light intensity curves of FIG. 7;

【図9】同上の実施形態において被測定物の表面位置を
検出する方法を説明する図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining a method for detecting a surface position of an object to be measured in the embodiment.

【図10】測定ヘッドの送り方法を説明する図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a method of feeding a measuring head.

【図11】測定ヘッドの別な送り方法を説明する図であ
る。
FIG. 11 is a diagram illustrating another method of feeding the measuring head.

【図12】本発明の別な実施形態において、被測定物の
表面位置を検出する方法を説明する図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating a method for detecting a surface position of an object to be measured in another embodiment of the present invention.

【図13】本発明のさらに別な実施形態において、光強
度のしきい値を決める方法を説明する図である。
FIG. 13 is a diagram illustrating a method for determining a threshold value of light intensity in still another embodiment of the present invention.

【図14】同上の実施形態において、被測定物の表面位
置を検出する方法を説明する図である。
FIG. 14 is a diagram for explaining a method for detecting a surface position of an object to be measured in the embodiment.

【図15】本発明のさらに別な実施形態において、被測
定物の表面位置を検出する方法を説明する図である。
FIG. 15 is a diagram illustrating a method for detecting a surface position of an object to be measured in still another embodiment of the present invention.

【図16】光強度曲線にスパイク状のノイズが乗った状
態を説明する図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating a state in which spike-shaped noise is on a light intensity curve.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 光源 14 ビームスプリッタ 15 対物レンズ 16 被測定物 17 集光レンズ 19 ピンホール 20 光検出器 21 レンズ駆動装置 22 位置センサ 24 データ処理部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 Light source 14 Beam splitter 15 Objective lens 16 Object to be measured 17 Condensing lens 19 Pinhole 20 Photodetector 21 Lens driving device 22 Position sensor 24 Data processing unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小池 慎太郎 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 西木 亮 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 2F065 AA02 AA06 AA09 AA24 AA25 AA30 DD04 FF41 GG06 GG12 HH02 HH04 HH13 JJ01 JJ03 JJ18 JJ26 LL04 LL30 MM14 MM24 MM28 NN02 QQ17 QQ25 QQ27 QQ29 UU07  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Shintaro Koike 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Co., Ltd. Inside Murata Manufacturing Co., Ltd. (72) Ryo Nishiki 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Co., Ltd. F-term in Murata Manufacturing (reference) 2F065 AA02 AA06 AA09 AA24 AA25 AA30 DD04 FF41 GG06 GG12 HH02 HH04 HH13 JJ01 JJ03 JJ18 JJ26 LL04 LL30 MM14 MM24 MM28 NN02 QQ17 QQ25 QQU U

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対物レンズを通して被測定物に光を投射
し、被測定物からの反射光を受光し、前記対物レンズの
焦点位置を光軸方向に沿って移動させることによって対
物レンズの焦点移動に伴う光強度の変化を計測し、被測
定物の複数の測定箇所において計測された各光強度の変
化を合成し、その合成結果に基づいて被測定物の変位を
測定することを特徴とする変位測定方法。
1. A focal point shift of an objective lens by projecting light onto an object to be measured through an objective lens, receiving reflected light from the object to be measured, and moving a focal position of the objective lens along an optical axis direction. Measuring a change in light intensity associated with the measurement, synthesizing a change in each light intensity measured at a plurality of measurement points on the measured object, and measuring a displacement of the measured object based on the synthesized result. Displacement measurement method.
【請求項2】 前記合成された光強度の変化が最大とな
る位置から被測定物の変位を測定することを特徴とす
る、請求項1に記載の変位測定方法。
2. The displacement measuring method according to claim 1, wherein the displacement of the object to be measured is measured from a position where a change in the combined light intensity is maximum.
【請求項3】 前記合成された光強度の変化を表わす曲
線からしきい値を求め、当該曲線としきい値によって囲
まれた領域の重心を求め、当該重心位置から被測定物の
変位を測定することを特徴とする、請求項1に記載の変
位測定方法。
3. A threshold is determined from a curve representing the change in the combined light intensity, a center of gravity of an area surrounded by the curve and the threshold is determined, and a displacement of the object is measured from the position of the center of gravity. The displacement measuring method according to claim 1, wherein:
【請求項4】 前記合成された光強度の変化を表わす曲
線と近似した所定の曲線を求め、当該近似曲線に基づい
て被測定物の変位を測定することを特徴とする、請求項
1に記載の変位測定方法。
4. The method according to claim 1, wherein a predetermined curve approximating a curve representing the change in the combined light intensity is obtained, and the displacement of the device under test is measured based on the approximate curve. Displacement measurement method.
【請求項5】 光を出射する発光部と、 発光部から出射された光を被測定物に投射するための対
物レンズと、 前記対物レンズを光軸方向に沿って移動させるレンズ駆
動手段と、 前記対物レンズの位置を検出するレンズ位置検出手段
と、 被測定物からの反射光を受光する受光部と、 対物レンズによる光投射位置を被測定物の表面に沿って
移動させる手段と、 被測定物の複数の測定位置において対物レンズを移動さ
せながら前記受光部により計測された光強度の変化を合
成し、その合成結果に基づいて被測定物の変位を測定す
る手段とを備えた変位測定装置。
5. A light emitting unit for emitting light, an objective lens for projecting the light emitted from the light emitting unit to an object to be measured, and a lens driving unit for moving the objective lens along an optical axis direction; Lens position detecting means for detecting the position of the objective lens; a light receiving section for receiving reflected light from the object to be measured; means for moving the light projection position of the objective lens along the surface of the object to be measured; Means for synthesizing a change in light intensity measured by the light receiving unit while moving the objective lens at a plurality of measurement positions of the object, and measuring a displacement of the object to be measured based on a result of the synthesis. .
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