JP2000068349A - Manufacture of semiconductors - Google Patents

Manufacture of semiconductors

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JP2000068349A
JP2000068349A JP23673498A JP23673498A JP2000068349A JP 2000068349 A JP2000068349 A JP 2000068349A JP 23673498 A JP23673498 A JP 23673498A JP 23673498 A JP23673498 A JP 23673498A JP 2000068349 A JP2000068349 A JP 2000068349A
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JP
Japan
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wafer
wafers
test
boat
cassette
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JP23673498A
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Japanese (ja)
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Hitoshi Sekihara
仁 関原
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Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a method of manufacturing semiconductors, in which a semiconductor manufacturing apparatus operates its boat efficiently by allowing the boat to handle two types of testing wafers at the same time and independently. SOLUTION: A wafer transfer unit transfers first and second test wafers TW1 and TW2 in wafer cassettes 11 and 12 to the specified slots in a boat 30 unloaded from a reaction furnace of a semiconductor manufacturing apparatus, respectively, as instructed by a controller. Or conversely, the unit returns the wafers TW1 and TW2 from the specified slots in the boat 30 unloaded from the reaction furnace to specified slots in the cassettes 11 and 12, respectively. In this case, the test wafers TW1 and TW2 each are handled independently of the other testing wafers and wafers other than testing wafers. Hence, the wafers TW1 and TW2 are subjected to treatments which are optimized for their testing purposes.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製造方法
に関し、特に、ウェーハ移載機がボートとカセットとの
間で各種のウェーハを移載する半導体製造方法に関す
る。
The present invention relates to a semiconductor manufacturing method, and more particularly to a semiconductor manufacturing method in which a wafer transfer machine transfers various kinds of wafers between a boat and a cassette.

【0002】[0002]

【従来の技術】図11は、半導体製造方法の従来例を示
す図である。カセットストッカ70には、テストウェー
ハTWをスロットに収納したウェーハカセット71やそ
の他のウェーハをスロットに収納したウェーハカセット
72〜74が格納されている。ウェーハ移載器80は、
ウェーハカセット71〜74のウェーハを半導体製造装
置の反応炉から搬出されたボート90のスロットに移載
し、あるいは、ボート90のスロットに載置されている
ウェーハをウェーハカセット71〜74の各スロットに
移載する。ボートに移載されるウェーハの種別として
は、例えば、製品ウェーハ、ダミーウェーハ、製品補充
用ダミーウェーハ、テストウェーハがある。ウェーハ移
載機80がこれらの各種のウェーハをボートに移載する
とともに、制御プログラムによって決められたボートの
適宜な位置のスロットにテストウェーハカセット71か
らのテストウェーハを移載する例が図12に示されてい
る。すなわち、ダミーウェーハと製品ウェーハの間や製
品ウェーハ同士の間等に1種類のテストウェーハを配置
している。
2. Description of the Related Art FIG. 11 is a view showing a conventional example of a semiconductor manufacturing method. The cassette stocker 70 stores a wafer cassette 71 storing test wafers TW in slots and wafer cassettes 72 to 74 storing other wafers in slots. The wafer transfer device 80
The wafers in the wafer cassettes 71 to 74 are transferred to the slots of the boat 90 unloaded from the reactor of the semiconductor manufacturing apparatus, or the wafers placed in the slots of the boat 90 are transferred to the slots of the wafer cassettes 71 to 74. Transfer. The types of wafers transferred to the boat include, for example, product wafers, dummy wafers, product refill dummy wafers, and test wafers. FIG. 12 shows an example in which the wafer transfer machine 80 transfers these various wafers to the boat and transfers the test wafers from the test wafer cassette 71 to slots at appropriate positions of the boat determined by the control program. It is shown. That is, one type of test wafer is arranged between the dummy wafer and the product wafer, between the product wafers, and the like.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
半導体製造方法においては、ボートに移載するテストウ
ェーハは、1種類であるが、2種類のテストウェーハを
同時に運用することが必要となる場合がある。例えば、
第1のテストウェーハは、成膜評価用としてロット毎に
元のカセットに回収するとともに、新しいカセットと入
れ替えて運用し、第2のテストウェーハは、その他の目
的、例えば、パーティクル測定用として数ロット運用後
にカセットに回収して新しいカセットと入れ替える等の
場合である。この場合、従来の半導体製造方法において
は、ボートに移載するテストウェーハは1種類となって
いるために要望を実現することができない。
As described above, in the conventional semiconductor manufacturing method, only one type of test wafer is transferred to the boat, but it is necessary to operate two types of test wafers simultaneously. May be. For example,
The first test wafer is collected in the original cassette for each lot for film formation evaluation, and is replaced with a new cassette for operation. The second test wafer is used for other purposes, for example, several lots for particle measurement. This is a case in which the cassette is collected after operation and replaced with a new cassette. In this case, in the conventional semiconductor manufacturing method, the request cannot be realized because only one type of test wafer is transferred to the boat.

【0004】この発明は、上記問題に鑑み、半導体製造
装置のボートに2種類のテストウェーハ移載し、2種類
のテストウェーハを同時に独立して運用できるようにテ
ストウェーハの運用の高精度化および高能率化を図るこ
とができる半導体製造方法を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above problems, and has been made to improve the operation accuracy of test wafers so that two types of test wafers can be transferred to a boat of a semiconductor manufacturing apparatus and two types of test wafers can be simultaneously operated independently. It is an object of the present invention to provide a semiconductor manufacturing method capable of achieving high efficiency.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
ために、この発明は、ウェーハ移載機がボートとカセッ
トとの間で各種のウェーハを移載する半導体製造方法に
おいて、第1のテストウェーハと、第2のテストウェー
ハとの前記移載をそれぞれ他方のテストウェーハおよび
その他のウェーハに独立に前記ウェーハ移載機に実行さ
せる制御部を有する。
According to the present invention, there is provided a semiconductor manufacturing method in which a wafer transfer machine transfers various kinds of wafers between a boat and a cassette. A control unit that causes the wafer transfer machine to independently execute the transfer of the wafer and the second test wafer to the other test wafer and the other wafers;

【0006】また、この発明の実施の形態においては、
ウェーハ移載機20がボート30とカセット11,1
2,13,14との間で各種のウェーハを移載する半導
体製造装置1において、ウェーハカセット11に収納さ
れた第1のテストウェーハTW1と、ウェーハカセット
12に収納された第2のテストウェーハTW2との前記
移載をそれぞれ他方のテストウェーハおよびその他のウ
ェーハに独立にウェーハ移載機20に実行させる制御部
40を有する。例えば、第1,第2のテストウェーハT
W1,TW2が移載されるべきボートのスロット番号、
および、それらが反応炉内での使用後にボートからウェ
ーハカセットに移載されるカセットとそのカセットのス
ロット番号とは制御部40の制御プログラムの中で予め
決められており、第1のテストウェーハTW1は、ボー
ト30が半導体製造装置の反応炉の中で処理される毎
に、新たな第1のテストウェーハTW1と交換される
が、第2のテストウェーハTW2は、数回の処理毎に交
換されるように、制御部40の指示に基づき、ウェーハ
移載機は、第1,第2のテストウェーハTW1,TW2
を独立に取り扱う。
[0006] In an embodiment of the present invention,
The wafer transfer machine 20 includes the boat 30 and the cassettes 11, 1
In a semiconductor manufacturing apparatus 1 for transferring various wafers between the wafers 2, 13, and 14, a first test wafer TW1 stored in a wafer cassette 11 and a second test wafer TW2 stored in a wafer cassette 12. And a control unit 40 for causing the wafer transfer machine 20 to execute the transfer with the test wafer and the other wafers independently of each other. For example, first and second test wafers T
The slot number of the boat to which W1 and TW2 are to be transferred,
Further, the cassettes to be transferred from the boat to the wafer cassette after they are used in the reaction furnace and the slot numbers of the cassettes are predetermined in the control program of the control unit 40, and the first test wafer TW1 Is replaced with a new first test wafer TW1 every time the boat 30 is processed in the reaction furnace of the semiconductor manufacturing apparatus, while the second test wafer TW2 is replaced every several processings. As described above, based on the instruction of the control unit 40, the wafer transfer machine performs the first and second test wafers TW1, TW2
Are treated independently.

【0007】このような構成によれば、ウェーハ移載機
がボートとカセットとの間で各種のウェーハを移載する
半導体製造方法において、ウェーハ移載機は、制御部の
指示に基づき、第1のテストウェーハと、第2のテスト
ウェーハとを他方のテストウェーハの取り扱いに拘束さ
れることなく、それぞれの移載目的に合わせて、全く別
々の最良の取り扱い方法で取り扱うことができることと
なる。
According to such a configuration, in the semiconductor manufacturing method in which the wafer transfer machine transfers various wafers between the boat and the cassette, the wafer transfer machine performs the first operation based on an instruction from the control unit. The test wafer and the second test wafer can be handled by completely different best handling methods according to the respective transfer purposes without being restricted by the handling of the other test wafer.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて添付図面に基づいて説明する。図1は、この発明に
係わる半導体製造装置の実施の形態を示す構成図、図2
は、図1の半導体製造装置において、ウェーハ移載機が
2種類のテストウェーハを移載する動作を説明する図、
図3ないし図10は、図2の移載動作以外の移載動作を
説明するための図である。なお、図1においては、この
発明を説明するための構成要素が示されているだけであ
って、反応炉等のその他の機器は図面表示を明瞭にする
ために示されていない。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention.
FIG. 3 is a view for explaining an operation in which a wafer transfer machine transfers two types of test wafers in the semiconductor manufacturing apparatus of FIG. 1;
3 to 10 are diagrams for explaining the transfer operation other than the transfer operation of FIG. In FIG. 1, only components for explaining the present invention are shown, and other devices such as a reactor are not shown for clarity in the drawing.

【0009】図1の半導体製造装置1において、カセッ
トストッカ10には、複数の第1のテストウェーハTW
1が各スロットに収納されたウェーハカセット11と、
複数の第2のテストウェーハTW2が各スロットに収納
されたウェーハカセット12とが格納されている。ま
た、カセットストッカ10には、第1,第2のテストウ
ェーハ以外のウェーハを収納したウェーハカセット1
3,14やそれ以外のカセット(不図示)が格納されて
いる。
In the semiconductor manufacturing apparatus 1 shown in FIG. 1, a plurality of first test wafers TW
1 is a wafer cassette 11 stored in each slot;
A wafer cassette 12 in which a plurality of second test wafers TW2 are stored in respective slots is stored. The cassette stocker 10 has a wafer cassette 1 containing wafers other than the first and second test wafers.
3 and 14 and other cassettes (not shown) are stored.

【0010】ウェーハ移載器20は、制御部40の指示
に従って、ウェーハカセット11,12の第1,第2の
テストウェーハTW1,TW2を半導体製造装置の反応
炉から搬出されたボート30の指示されたスロットにそ
れぞれ移載する。あるいは、逆に、半導体製造装置の反
応炉から搬出されたボート30の指示されたスロットか
ら第1,第2のテストウェーハTW1,TW2を指示さ
れたウェーハカセット(元のウェーハカセットとは限ら
ない)のスロットに戻す。第1,第2のテストウェーハ
TW1,TW2が移載されるべきボートのスロット番
号、および、それらが反応炉内での使用後にボートから
ウェーハカセットに移載されるカセットとそのカセット
のスロット番号とは制御部40の制御プログラムの中で
予め決められている。
[0010] The wafer transfer device 20 is instructed by the boat 30 that has carried out the first and second test wafers TW1 and TW2 of the wafer cassettes 11 and 12 from the reaction furnace of the semiconductor manufacturing apparatus in accordance with the instruction of the control unit 40. Transferred to each slot. Alternatively, conversely, the first and second test wafers TW1 and TW2 are designated from the designated slots of the boat 30 carried out of the reaction furnace of the semiconductor manufacturing apparatus by the designated wafer cassette (not necessarily the original wafer cassette). Return to slot. The slot numbers of the boats to which the first and second test wafers TW1 and TW2 are to be transferred, the cassettes to be transferred from the boat to the wafer cassette after they are used in the reactor, and the slot numbers of the cassettes. Is predetermined in the control program of the control unit 40.

【0011】図2に示される移載によれば、ボートの最
下部の複数のダミーウェーハの上にはウェーハカセット
11からの第1のテストウェーハTW1、ウェーハカセ
ット12からの第2のテストウェーハTW2の順に載置
され、その上に複数の製品補充用ダミーウェーハが載置
されている。製品補充用ダミーウェーハの上には、第2
のテストウェーハTW2、複数の製品ウェーハ、第2の
テストウェーハTW2、第1のテストウェーハTW1、
複数の製品ウェーハ、第2のテストウェーハTW2、複
数の製品ウェーハ、第2のテストウェーハTW2、第1
のテストウェーハTW1、ダミーウェーハがこの順番で
載置されている。
According to the transfer shown in FIG. 2, the first test wafer TW1 from the wafer cassette 11 and the second test wafer TW2 from the wafer cassette 12 are placed on the plurality of dummy wafers at the bottom of the boat. , And a plurality of product replenishment dummy wafers are placed thereon. On the dummy wafer for product replenishment,
Test wafer TW2, a plurality of product wafers, a second test wafer TW2, a first test wafer TW1,
A plurality of product wafers, a second test wafer TW2, a plurality of product wafers, a second test wafer TW2, a first
The test wafer TW1 and the dummy wafer are placed in this order.

【0012】第1,第2のテストウェーハTW1,TW
2を含めて、ボート30に対する各種ウェーハの載置が
図2のように完了したならば、このボート30を半導体
製造装置の反応炉(不図示)の中に配置して所定の処理
を行う。処理が行われた後に、ボート30が反応炉より
搬出され、ウェーハ移載機20による各種ウェーハの移
載が行われる。この場合、第1のテストウェーハTW1
は、成膜評価用として、各ロット毎に例えば、ウェーハ
カセット11に回収し、そのウェーハカセット11を新
しいウェーハカセットと入れ替えることにより、第1の
テストウェーハTW1を交換するように運用する。
First and second test wafers TW1, TW
When the loading of various wafers on the boat 30 including the wafer 2 is completed as shown in FIG. 2, the boat 30 is placed in a reactor (not shown) of the semiconductor manufacturing apparatus to perform predetermined processing. After the processing, the boat 30 is carried out of the reaction furnace, and the wafer transfer machine 20 transfers various wafers. In this case, the first test wafer TW1
For the purpose of film formation evaluation, for example, the first test wafer TW1 is exchanged by collecting the wafer cassette 11 in each lot and replacing the wafer cassette 11 with a new wafer cassette.

【0013】しかし、第2のテストウェーハTW2は、
パーティクル測定用として、数ロット運用後に入れ替え
を行う。このように、ウェーハ移載機20は、制御部4
0に指示されてウェーハカセット11のテストウェーハ
TW1と、ウェーハカセット12のテストウェーハTW
2とを互いに独立に取り扱う。なお、この例において
は、第1,第2のテストウェーハTW1,TW2のボー
ト30への移載位置に関するマッピングにおいて、同一
のスロットに両方のテストウェーハを移載したいような
事態が発生した場合には、第1のテストウェーハTW1
を優先的に移載するようにする。
However, the second test wafer TW2 is
After the operation of several lots, it is replaced for particle measurement. As described above, the wafer transfer machine 20 includes the control unit 4
0, the test wafer TW1 of the wafer cassette 11 and the test wafer TW of the wafer cassette 12
And 2 are treated independently of each other. Note that, in this example, in the mapping regarding the transfer positions of the first and second test wafers TW1 and TW2 to the boat 30, when a situation in which both test wafers are to be transferred to the same slot occurs. Is the first test wafer TW1
Will be transferred with priority.

【0014】このように、第2のウェーハは、第1のテ
ストウェーハTW1の取り扱いとは独立に種々の方法で
ボート30に移載され、あるいは、回収されるが、これ
らの方法の他の幾つかの例を図3ないし図10を参照し
て説明する(この場合、図面の明瞭化のために第1のテ
ストウェーハTW1の取り扱い方法については図示を省
略してある)。図3においては、ボート30に移載する
第2のテストウェーハTW2は、5枚であって、製品ウ
ェーハの全数が均等に4分割され、上下端のダミーウェ
ーハの間に分割された製品ウェーハが移載され、ダミー
ウェーハと製品ウェーハとの間および製品ウェーハ間に
第2のテストウェーハTW2が一枚ずつ移載されてい
る。図4においては、第2のテストウェーハTW2がボ
ート30の指定されたスロット(第45スロット、第6
0スロット、第90スロット)に移載されている。
As described above, the second wafer is transferred to or recovered from the boat 30 by various methods independently of the handling of the first test wafer TW1. Such an example will be described with reference to FIGS. 3 to 10 (in this case, a method of handling the first test wafer TW1 is omitted for clarity of the drawings). In FIG. 3, the number of the second test wafers TW2 transferred to the boat 30 is five, and the total number of the product wafers is equally divided into four, and the product wafer divided between the upper and lower dummy wafers is The second test wafer TW2 is transferred one by one between the dummy wafer and the product wafer and between the product wafers. In FIG. 4, the second test wafer TW2 is placed in the designated slot (the 45th slot, the 6th slot) of the boat 30.
(0 slot, 90th slot).

【0015】図5においては、それぞれ別々のウェーハ
カセットとから移載された製品ウェーハPW1,PW
2,PW3,PW4がボート30に移載されている。製
品ウェーハPW1,PW2,PW3,PW4のうち特定
のウェーハカセットからの製品ウェーハPW2の上下に
第2のテストウェーハTW2が一枚ずつ移載されてい
る。図6においては、製品ウェーハPW1,PW2,P
W3,PW4の上下に第2のテストウェーハTW2が一
枚ずつ移載されている。図7においては、図6でボート
30に移載された第2のテストウェーハTW2が元のウ
ェーハカセットの元のスロットに戻されるところが示さ
れている。図8においては、ボート30からの第2のテ
ストウェーハTW2の回収が元のウェーハカセットでな
く回収専用カセット50に回収されている。
In FIG. 5, product wafers PW1 and PW1 transferred from separate wafer cassettes are shown.
2, PW3 and PW4 are transferred to the boat 30. Among the product wafers PW1, PW2, PW3, and PW4, second test wafers TW2 are transferred one by one above and below a product wafer PW2 from a specific wafer cassette. In FIG. 6, the product wafers PW1, PW2, P
Second test wafers TW2 are transferred one by one above and below W3 and PW4. FIG. 7 shows that the second test wafer TW2 transferred to the boat 30 in FIG. 6 is returned to the original slot of the original wafer cassette. In FIG. 8, the second test wafer TW2 from the boat 30 is collected not in the original wafer cassette but in the collection cassette 50.

【0016】図9においては、4つのウェーハカセット
51,52,53,54からの製品ウェーハがボート3
0の上下端に配置されたダミーウェーハの間に、上から
順番に配置され、各ウェーハカセット51,52,5
3,54からの製品ウェーハに対応して、それらの下に
それぞれ一枚の第2のテストウェーハTW2が配置さ
れ、ボート30における処理終了後、各製品ウェーハが
元のウェーハカセット51,52,53,54に戻され
る際に、それらに対応して配置された第2のテストウェ
ーハTW2が一枚ずつ、それぞれのウェーハカセット5
1,52,53,54に戻されるところを示している。
In FIG. 9, product wafers from four wafer cassettes 51, 52, 53,
0, between the dummy wafers arranged at the upper and lower ends of the wafer cassettes 51, 52, 5
One second test wafer TW2 is arranged below each of the product wafers corresponding to the product wafers 3 and 54. After the processing in the boat 30 is completed, each product wafer is placed in the original wafer cassette 51, 52, 53. , 54, the second test wafers TW2 arranged corresponding to them are placed in the respective wafer cassettes 5 one by one.
1, 52, 53 and 54 are shown.

【0017】図10においては、ウェーハカセット12
からの第2のテストウェーハTW2がボート30におけ
る一回おきの処理に使用される場合を示している。最初
の処理においては、製品ウェーハがボート30の上下端
に配置されたダミーウェーハの間に、4グループの製品
ウェーハが配置され、各製品ウェーハの上下にそれぞれ
一枚の第2のテストウェーハTW2が配置され、ボート
30における処理が行われ、その処理の終了後、第2の
テストウェーハTW2は、ウェーハカセット12に戻さ
れる。次の処理においては、最初の処理で第2のテスト
ウェーハTW2が配置された同じ位置に、製品補充用ダ
ミーウェーハカセット60から製品補充用ダミーウェー
ハが配置され、ボート30における処理が行われ、その
処理の終了後、製品補充用ダミーウェーハは、元の製品
補充用ダミーウェーハカセット60に戻される。次に
は、最初の場合と同様にウェーハカセット12の第2の
テストウェーハTW2が使用され、上述の処理が繰り返
される。
In FIG. 10, the wafer cassette 12
2 shows a case where the second test wafer TW2 from FIG. In the first processing, four groups of product wafers are arranged between the dummy wafers in which the product wafers are arranged at the upper and lower ends of the boat 30, and one second test wafer TW2 is provided above and below each product wafer. The second test wafer TW <b> 2 is returned to the wafer cassette 12 after the arrangement and the processing in the boat 30 are performed. In the next process, a product refill dummy wafer is placed from the product refill dummy wafer cassette 60 at the same position where the second test wafer TW2 was placed in the first process, and the process in the boat 30 is performed. After the processing is completed, the product refill dummy wafer is returned to the original product refill dummy wafer cassette 60. Next, as in the first case, the second test wafer TW2 in the wafer cassette 12 is used, and the above-described processing is repeated.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上に詳述したように、この発明に係わ
る半導体製造方法は、ウェーハ移載機がボートとカセッ
トとの間で各種のウェーハを移載する場合に、制御部の
指示に基づき、第1のテストウェーハと、第2のテスト
ウェーハとの前記移載をそれぞれ他方のテストウェーハ
およびその他のウェーハに独立に実行することにより、
第1のテストウェーハと、第2のテストウェーハとを他
方の取り扱いに拘束されることなく、それぞれの移載目
的に合わせて、全く別々の最良の取り扱い方法で取り扱
うことができることとなり、テストを高精度に、高能率
に実行できるという効果がある。
As described in detail above, the semiconductor manufacturing method according to the present invention is based on the instruction of the control unit when the wafer transfer machine transfers various wafers between the boat and the cassette. By independently performing the transfer of the first test wafer and the second test wafer to the other test wafer and other wafers,
The first test wafer and the second test wafer can be handled by completely different best handling methods for each transfer purpose without being restricted by the handling of the other. There is an effect that it can be executed with high efficiency and high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態を示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体製造装置において、ウェーハ移載
機が2種類のテストウェーハを移載する動作を説明する
図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an operation of transferring two types of test wafers by a wafer transfer machine in the semiconductor manufacturing apparatus of FIG. 1;

【図3】図1の半導体製造装置において、ウェーハ移載
機が第2のテストウェーハを移載する動作を説明する図
である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an operation of transferring a second test wafer by a wafer transfer machine in the semiconductor manufacturing apparatus of FIG. 1;

【図4】同じく、ウェーハ移載機が第2のテストウェー
ハを移載する動作の他の例を説明する図である。
FIG. 4 is a view for explaining another example of the operation in which the wafer transfer machine transfers the second test wafer.

【図5】同じく、ウェーハ移載機が第2のテストウェー
ハを移載する動作の他の例を説明する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating another example of the operation of the wafer transfer device transferring the second test wafer.

【図6】同じく、ウェーハ移載機が第2のテストウェー
ハを移載する動作の他の例を説明する図である。
FIG. 6 is a view for explaining another example of the operation in which the wafer transfer machine transfers the second test wafer.

【図7】同じく、ウェーハ移載機が第2のテストウェー
ハを移載する動作の他の例を説明する図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating another example of the operation of the wafer transfer machine transferring the second test wafer.

【図8】同じく、ウェーハ移載機が第2のテストウェー
ハを移載する動作の他の例を説明する図である。
FIG. 8 is a view for explaining another example of the operation in which the wafer transfer machine transfers the second test wafer.

【図9】同じく、ウェーハ移載機が第2のテストウェー
ハを移載する動作の他の例を説明する図である。
FIG. 9 is a view for explaining another example of the operation in which the wafer transfer machine transfers the second test wafer.

【図10】同じく、ウェーハ移載機が第2のテストウェ
ーハを移載する動作の他の例を説明する図である。
FIG. 10 is a view for explaining another example of the operation in which the wafer transfer machine transfers the second test wafer.

【図11】半導体製造装方法の従来例を示す構成図であ
る。
FIG. 11 is a configuration diagram showing a conventional example of a semiconductor manufacturing method.

【図12】図11において、ウェーハ移載機がテストウ
ェーハを移載する動作を説明する図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating an operation of transferring a test wafer by a wafer transfer machine in FIG. 11;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 カセットストッカ 11,12,13,14,51,52,53,54
ウェーハカセット 20 ウェーハ移載機 30 ボート 40 制御部 50 回収専用カセット 60 製品補充用ダミーウェーハカセット TW1 第1のテストウェーハ TW2 第2のテストウェーハ
10 Cassette stocker 11, 12, 13, 14, 51, 52, 53, 54
Wafer cassette 20 Wafer transfer machine 30 Boat 40 Control unit 50 Collection cassette 60 Product refill dummy wafer cassette TW1 First test wafer TW2 Second test wafer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウェーハ移載機がボートとカセットとの
間で各種のウェーハを移載する半導体製造方法におい
て、 第1のテストウェーハと、第2のテストウェーハとの前
記移載をそれぞれ他方のテストウェーハおよびその他の
ウェーハに独立に前記ウェーハ移載機に実行させるよう
にしたことを特徴とする半導体製造方法。
In a semiconductor manufacturing method in which a wafer transfer machine transfers various wafers between a boat and a cassette, the transfer of a first test wafer and a second test wafer is performed by each of the other test wafers. A method of manufacturing a semiconductor device, wherein the wafer transfer device is independently executed for a test wafer and other wafers.
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