JP2000063891A - Washing apparatus by supercritical carbon dioxide - Google Patents

Washing apparatus by supercritical carbon dioxide

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JP2000063891A
JP2000063891A JP10230781A JP23078198A JP2000063891A JP 2000063891 A JP2000063891 A JP 2000063891A JP 10230781 A JP10230781 A JP 10230781A JP 23078198 A JP23078198 A JP 23078198A JP 2000063891 A JP2000063891 A JP 2000063891A
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Japan
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carbon dioxide
cleaned
supercritical carbon
cleaning
chamber
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JP10230781A
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Japanese (ja)
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Yoshiyuki Sato
芳之 佐藤
Shigeyuki Tsurumi
重行 鶴見
Shiro Nishi
史郎 西
Yukitoshi Takeshita
幸俊 竹下
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To remote PCB without use of an organic solvent to increase detergent efficiency. SOLUTION: A heating apparatus 14 and an oscillator are mounted on a cover 4 of a chamber 1 in which an item to be washed 3 is disposed and these apparatuses are connected to a power supply via a terminal 16. Supercritical carbon dioxide is supplied into a chamber 1 through a pipe 6 to be contacted with the item to be washed 3 and solubilize to remove PCB attached on the item to be washed 3. When the item to be washed 3 is heated by the heating apparatus 14 or oscillated by the oscillator, molecular mobility of PCB is activated to increase solubility and then the detergent efficiency by the supercritical carbon dioxide is improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被洗浄物に付着し
ている有機塩素化合物(特にポリ塩化ビフェニール)を
超臨界二酸化炭素によって洗浄し、除去する洗浄装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning device for cleaning and removing organic chlorine compounds (particularly polychlorinated biphenyls) adhering to an object to be cleaned by supercritical carbon dioxide.

【0002】[0002]

【従来の技術】トランス、コンデンサ、安定器等の各種
電気部品においては、絶縁油としてポリ塩化ビフェニー
ル( polychlorinated biphenyls:以下、PCBとい
う)が用いられてきた。PCBは塩素数や塩素の付加位
置により各種の同族体の混合物である。毒性もそれぞれ
の同族体によって大きく異なる。特にコプラナーPCB
と呼ばれる同族体はダイオキシン類に劣らず有害である
ことが指摘されている。PCBは化学的に安定で排出さ
れ難いため生体蓄積性が高く、症状が長期にわたってあ
らわれる。全身倦怠感、病的疲労、発ガン性作用を強め
る働きを有するといわれている。また、胎盤透過性、母
乳への移行のため、胎児、乳児にも障害が及ぶといわれ
ている。そのため、最近ではPCBの製造および使用が
禁止されている。
2. Description of the Related Art Polychlorinated biphenyls (hereinafter referred to as PCBs) have been used as insulating oil in various electric parts such as transformers, capacitors and ballasts. PCB is a mixture of various homologues depending on the number of chlorine and the position of addition of chlorine. Toxicity also varies greatly with each homologue. Especially coplanar PCB
It has been pointed out that the homologues referred to as are as harmful as dioxins. Since PCB is chemically stable and difficult to be excreted, it has a high bioaccumulation potential and the symptoms appear for a long time. It is said to have a function of enhancing general malaise, morbid fatigue, and carcinogenic effects. In addition, it is said that the fetus and the infant are damaged due to the placental permeability and transfer to breast milk. For this reason, the manufacture and use of PCBs has recently been banned.

【0003】PCBの製造、使用を禁止される以前に製
造し、使用された前記各種電気部品は絶縁油としてPC
Bが使用されているため、PCBを含まない一般の廃棄
物として処理することができず、格別な容器に保管する
かまたは燃焼法、アルカリ触媒分解法(BDC法)、超
臨界水酸化法等によってPCBを分解して処理するよう
にしている。
The various electric parts manufactured and used before the manufacture and use of PCB are prohibited are used as insulating oil in PC.
Since B is used, it cannot be treated as general waste that does not contain PCB, and it must be stored in a special container or burned, alkali catalytic decomposition method (BDC method), supercritical water oxidation method, etc. PCB is disassembled and processed.

【0004】従来、絶縁油を抜き取った後のトランス等
の電気部品に付着しているPCBを洗浄し、除去するに
当たっては、超臨界抽出法によって洗浄している。例え
ば特開平7−34096号公報に記載されたトランスの
除染方法は、抽出セル内にトランスを配置し、超臨界状
態(または擬臨界状態)の二酸化炭素と少量の助溶剤を
供給することによりトランスに付着しているPCBの洗
浄、除去を行っている。助溶剤としては、n−ヘキサン
等の有機溶媒が用いられ、これを用いるとPCBの溶解
度が増大し、超臨界二酸化炭素単独による場合よりもさ
らにPCBの抽出効率を向上させることができる。
Conventionally, when cleaning and removing the PCB adhering to electric parts such as a transformer after the insulating oil is removed, the cleaning is carried out by a supercritical extraction method. For example, in the method for decontaminating a transformer described in JP-A-7-34096, a transformer is placed in an extraction cell, and carbon dioxide in a supercritical state (or pseudocritical state) and a small amount of a cosolvent are supplied. The PCB adhering to the transformer is cleaned and removed. As the co-solvent, an organic solvent such as n-hexane is used, and when it is used, the solubility of PCB is increased, and the extraction efficiency of PCB can be further improved as compared with the case of using supercritical carbon dioxide alone.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
は超臨界状態の二酸化炭素を用いてPCBの洗浄、除去
を行う場合、超臨界二酸化炭素に対して少量の助溶剤を
添加することによりPCBの抽出効率を向上させるよう
にしている。しかしながら、有機溶媒を添加して抽出効
率を向上させる方法は、洗浄後の有機溶媒を回収して処
理するための設備を必要とするため、装置自体が大型化
し、高価になるという問題があった。
As described above, conventionally, when cleaning and removing PCB using carbon dioxide in a supercritical state, a small amount of a cosolvent is added to supercritical carbon dioxide. The PCB extraction efficiency is improved. However, the method of adding an organic solvent to improve the extraction efficiency requires a facility for collecting and processing the washed organic solvent, and thus has a problem that the apparatus itself becomes large and expensive. .

【0006】そこで、本発明者等は抽出効率の向上につ
いて検討し実験を行った結果、被洗浄物を加熱したり、
超音波で振動させたりしてPCBの分子運動を活発化さ
せると溶解し易くなるため、助溶剤を用いた場合と同様
に抽出効率を向上させることができることを確認した。
Therefore, the inventors of the present invention have studied and improved the extraction efficiency, and as a result, heat the object to be cleaned,
It was confirmed that the extraction efficiency can be improved as in the case of using a co-solvent, because it becomes easy to dissolve when the molecular motion of PCB is activated by vibrating with ultrasonic waves or the like.

【0007】本発明は上記した従来の問題および実験結
果に基づいてなされたもので、その目的とするところ
は、有機溶媒を用いないで洗浄効率を向上させることが
できるようにした超臨界二酸化炭素による洗浄装置を提
供することにある。
The present invention has been made on the basis of the above-mentioned conventional problems and experimental results, and an object thereof is to provide supercritical carbon dioxide capable of improving cleaning efficiency without using an organic solvent. To provide a cleaning device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に第1の発明は、有機塩素化合物によって汚染されてい
る被洗浄物に超臨界二酸化炭素を接触させることにより
被洗浄物を洗浄するチャンバーを備え、このチャンバー
に前記被洗浄物を加熱する加熱装置を設けたことを特徴
とする。このような構成においては、被洗浄物を加熱装
置によって加熱すると、有機塩素化合物の分子運動が活
発化し超臨界二酸化炭素によって溶解され易くなる。し
たがって、被洗浄物に付着している有機塩素化合物を効
率よく洗浄し、除去することができる。
To achieve the above object, a first invention is a chamber for cleaning an object to be cleaned by contacting the object to be cleaned contaminated with an organic chlorine compound with supercritical carbon dioxide. And a heating device for heating the object to be cleaned is provided in the chamber. In such a configuration, when the object to be cleaned is heated by the heating device, the molecular motion of the organic chlorine compound is activated and the organic chlorine compound is easily dissolved by the supercritical carbon dioxide. Therefore, the organic chlorine compound attached to the object to be cleaned can be efficiently cleaned and removed.

【0009】二酸化炭素は、超臨界状態に変化する温度
(臨界温度31.1°C)、圧力(臨界圧力7.38M
Pa)が他の溶媒物質に比較して低温、低圧であるた
め、比較的小さいエネルギーで超臨界状態となることか
ら、PCBを洗浄し、除去する溶媒として好適である。
また、熱伝導率が大きいため抽出反応が促進されるなど
の利点を有している。超臨界二酸化炭素はチャンバーに
供給されるか、またはチャンバー内において生成され
る。
Carbon dioxide has a temperature (critical temperature 31.1 ° C.) and pressure (critical pressure 7.38 M) at which it changes to a supercritical state.
Since Pa) has a lower temperature and a lower pressure than other solvent substances, it becomes a supercritical state with a relatively small energy, and thus is suitable as a solvent for cleaning and removing PCB.
Further, it has an advantage that the extraction reaction is accelerated because of its high thermal conductivity. Supercritical carbon dioxide is supplied to or produced within the chamber.

【0010】第2の発明は、有機塩素化合物によって汚
染されている被洗浄物に超臨界二酸化炭素を接触させる
ことにより被洗浄物を洗浄するチャンバーを備え、この
チャンバーに前記被洗浄物を振動させる加振装置を設け
たことを特徴とする。このような構成においては、被洗
浄物を加振装置によって振動させると、有機塩素化合物
の分子運動が活発化し超臨界二酸化炭素によって溶解さ
れ易くなる。したがって、被洗浄物に付着している有機
塩素化合物を効率よく洗浄し、除去することができる。
A second aspect of the present invention comprises a chamber for cleaning an object to be cleaned by contacting the object to be cleaned contaminated with an organic chlorine compound with supercritical carbon dioxide, and vibrating the object to be cleaned in this chamber. A vibrating device is provided. In such a configuration, when the object to be cleaned is vibrated by the vibrating device, the molecular motion of the organic chlorine compound is activated and the organic chlorine compound is easily dissolved by the supercritical carbon dioxide. Therefore, the organic chlorine compound attached to the object to be cleaned can be efficiently cleaned and removed.

【0011】第3の発明は、上記第1の発明において、
加熱装置が高周波加熱装置であることを特徴とする。こ
のような構成においては、被洗浄物が金属の場合に有効
である。
A third aspect of the invention is the same as the first aspect of the invention.
The heating device is a high frequency heating device. Such a structure is effective when the object to be cleaned is a metal.

【0012】第4の発明は、上記第1の発明において、
加熱装置が抵抗加熱装置であることを特徴とする。この
ような構成においては、被洗浄物がセラミックス等の非
金属の場合に有効である。
A fourth invention is the same as the first invention,
The heating device is a resistance heating device. Such a configuration is effective when the object to be cleaned is a nonmetal such as ceramics.

【0013】第5の発明は、上記第1の発明において、
加熱装置がレーザー発生装置であることを特徴とする。
このような構成においては、高い加熱温度を得ることが
できる。
A fifth invention is the same as the first invention,
The heating device is a laser generator.
In such a structure, a high heating temperature can be obtained.

【0014】第6の発明は、上記第2の発明において、
加振装置が超音波振動装置であることを特徴とする。こ
のような構成においては、被洗浄物を超音波振動装置に
よって振動させると、有機塩素化合物の分子運動が活発
化するため、被洗浄物に付着している有機塩素化合物を
効率よく洗浄し、除去することができる。
A sixth aspect of the invention is the same as the second aspect of the invention.
The vibrating device is an ultrasonic vibrating device. In such a configuration, when the object to be cleaned is vibrated by the ultrasonic vibration device, the molecular motion of the organic chlorine compound is activated, so the organic chlorine compound adhering to the object to be cleaned is efficiently cleaned and removed. can do.

【0015】第7の発明は、上記第1〜第6の発明のう
ちのいずれか1つの発明において、複数個のチャンバー
を並列に接続したことを特徴とする。このような構成に
おいては、複数個の被洗浄物を同時に洗浄することがで
きるので洗浄効率を向上させることができる。
A seventh invention is characterized in that, in any one of the first to sixth inventions, a plurality of chambers are connected in parallel. In such a configuration, a plurality of objects to be cleaned can be cleaned at the same time, so that cleaning efficiency can be improved.

【0016】第8の発明は、上記第1〜7のうちのいず
れか1つの発明において、有機塩素化合物がポリ塩化ビ
フェニールであることを特徴とする。このような構成に
おいては、被洗浄物からポリ塩化ビフェニールを洗浄
し、除去するため、被洗浄物を無害化することができ、
PCBを含まない一般の廃棄物として処理することがで
きる。
An eighth invention is characterized in that, in any one of the first to seventh inventions, the organic chlorine compound is polychlorinated biphenyl. In such a configuration, since the polychlorinated biphenyl is washed and removed from the object to be cleaned, the object to be cleaned can be rendered harmless,
It can be treated as general waste that does not contain PCB.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施の
形態に基づいて詳細に説明する。図1は本発明に係る洗
浄装置に用いられるチャンバーおよび蓋体の一実施の形
態を示す分解斜視図、図2(A)、(B)は蓋体の正面
図および底面図である。これらの図において、1は超臨
界二酸化炭素2により被洗浄物3を洗浄する洗浄装置に
用いられるチャンバー、4はこのチャンバー1の上面開
口部5を気密に密閉する蓋体である。被洗浄物3は、ト
ランス、コンデンサ、安定器等のPCBによって汚染さ
れた電気部品からなり、前記チャンバー1内に設置され
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below in detail based on the embodiments shown in the drawings. FIG. 1 is an exploded perspective view showing an embodiment of a chamber and a lid used in a cleaning apparatus according to the present invention, and FIGS. 2A and 2B are a front view and a bottom view of the lid. In these figures, 1 is a chamber used in a cleaning apparatus for cleaning an object 3 to be cleaned with supercritical carbon dioxide 2, and 4 is a lid for hermetically sealing an upper opening 5 of the chamber 1. The object to be cleaned 3 is made up of electrical parts contaminated by PCB such as a transformer, a condenser, a ballast, etc., and is installed in the chamber 1.

【0018】前記チャンバー1は、ステンレス製で、例
えば3×3×3cmの上面が開放する箱型に形成され、
4つの側壁部のうち3つの側壁部に超臨界二酸化炭素2
を供給するための供給用配管6、超臨界二酸化炭素2を
排出するための排出用配管7および超臨界二酸化炭素2
をリークさせるためのリーク用配管8の一端がそれぞれ
接続されている。また、各配管6,7,8にはバルブ
9,10,11がそれぞれ設けられている。チャンバー
1の上面開口部5には、蓋体4によって密閉されたとき
のシール性を高めるためにシール部材12が全周にわた
って取付けられている。
The chamber 1 is made of stainless steel, and is formed in a box shape having an open upper surface of, for example, 3 × 3 × 3 cm,
Supercritical carbon dioxide 2 on 3 of the 4 side walls
Supply pipe 6 for supplying the gas, discharge pipe 7 for discharging the supercritical carbon dioxide 2, and supercritical carbon dioxide 2
One end of a leaking pipe 8 for leaking is connected to each. Further, valves 9, 10, and 11 are provided in the pipes 6, 7, and 8, respectively. A seal member 12 is attached to the upper surface opening 5 of the chamber 1 over the entire circumference in order to improve the sealing performance when the cover 1 is hermetically sealed.

【0019】前記蓋体4は、同じくステンレス製でチャ
ンバー1と略同一の大きさを有する矩形の板体からな
り、下面側に前記チャンバー1内に設置される被洗浄物
3を加熱する加熱装置14と、被洗浄物3を振動させる
加振装置15が配設され、表面側にこれら両装置14,
15が電気的に接続される4本の端子16が突設されて
いる。端子16は蓋体4に対して電気的に絶縁されて取
付けられている。
The lid 4 is also made of stainless steel and is a rectangular plate having substantially the same size as the chamber 1, and a heating device for heating the object 3 to be cleaned installed in the chamber 1 on the lower surface side. 14 and a vibrating device 15 for vibrating the object to be cleaned 3 are provided, and both devices 14, 14 are provided on the front surface side.
Four terminals 16 to which 15 is electrically connected are provided in a protruding manner. The terminal 16 is attached to the lid 4 while being electrically insulated.

【0020】加熱装置14としては、被洗浄物3が金属
の場合、加熱用コイル18を備えた高周波加熱装置が用
いられ、加熱用コイル18の両端が2本の電極16を介
して高周波電源に接続される。加熱用コイル18は、蓋
体4の板厚方向に適宜間隔をおいて5重に巻回された矩
形のコイル部18aを有している。これらのコイル部1
8aは、蓋体4によってチャンバー1の上面開口部5を
気密に覆ったとき、チャンバー1内の被洗浄物3の周囲
を取り囲むに十分な大きさを有し、洗浄時に高周波電流
が供給されることにより被洗浄物3を電磁加熱する。加
熱温度としては、被洗浄物3の材質によっても異なる
が、100°C〜数百°C程度である。被洗浄物3がセ
ラミックス等の非金属で電磁加熱が有効でない場合は、
抵抗加熱装置が用いられる。この場合は、上記の加熱用
コイル18を高抵抗材料で構成し低周波電流あるいは直
流電流によって抵抗加熱すればよい。
As the heating device 14, when the object to be cleaned 3 is a metal, a high frequency heating device having a heating coil 18 is used, and both ends of the heating coil 18 are connected to a high frequency power source via two electrodes 16. Connected. The heating coil 18 has a rectangular coil portion 18a that is wound in five layers at appropriate intervals in the plate thickness direction of the lid body 4. These coil parts 1
When the lid 4 covers the upper opening 5 of the chamber 1 in an airtight manner, the reference numeral 8a has a sufficient size to surround the object 3 to be cleaned in the chamber 1, and a high-frequency current is supplied during cleaning. The object 3 to be cleaned is thereby electromagnetically heated. The heating temperature is about 100 ° C. to several hundreds of ° C., although it varies depending on the material of the article to be cleaned 3. If the object to be cleaned 3 is a non-metal such as ceramics and electromagnetic heating is not effective,
A resistance heating device is used. In this case, the heating coil 18 may be made of a high resistance material and resistance-heated by a low frequency current or a direct current.

【0021】前記加振装置15としては、超音波振動装
置が用いられる。この超音波振動装置15は、蓋体4の
下面に被洗浄物3と対向するように設けた超音波振動板
20を備え、この振動板20に電流を供給すると振動板
20と被洗浄物3に超音波振動を発生させることができ
る。なお、超音波振動板20は、上記した加熱用コイル
18が接続されている端子16とは異なる2本の端子を
介して電源に接続されている。
As the vibrating device 15, an ultrasonic vibrating device is used. This ultrasonic vibration device 15 is provided with an ultrasonic vibration plate 20 provided on the lower surface of the lid 4 so as to face the object to be cleaned 3, and when an electric current is supplied to the diaphragm 20, the ultrasonic plate 20 and the object to be cleaned 3 Ultrasonic vibration can be generated. The ultrasonic diaphragm 20 is connected to the power source through two terminals different from the terminal 16 to which the heating coil 18 is connected.

【0022】次に、このような構造からなるチャンバー
1を備えた洗浄装置による被洗浄物3の洗浄について説
明する。先ず被洗浄物3チャンバー1内に設置し、蓋体
4によってチャンバー1の上面か一行部5を気密に密閉
する。なお、チャンバー1は、内部温度および圧力が二
酸化炭素の臨界点(臨界温度31.1°C、臨界圧力
7.38MPa)以上、例えば内部温度が50〜90°
C程度、内部圧力が15〜30MPa程度に保持され
る。
Next, the cleaning of the object 3 to be cleaned by the cleaning device equipped with the chamber 1 having such a structure will be described. First, the object to be cleaned 3 is installed in the chamber 1, and the upper surface of the chamber 1 or the row 5 is hermetically sealed by the lid 4. The chamber 1 has an internal temperature and pressure of at least the critical point of carbon dioxide (critical temperature 31.1 ° C, critical pressure 7.38 MPa), for example, an internal temperature of 50 to 90 °.
The internal pressure is maintained at about C and about 15 to 30 MPa.

【0023】次に、バルブ9,10を開き、超臨界状態
の二酸化炭素2を供給用配管6によってチャンバー1内
に導く。この超臨界二酸化炭素2は排気用配管7を通っ
てチャンバー1から排出されるが、その途中で被洗浄物
3と接触することにより被洗浄物3に付着しているPC
Bを洗浄し、除去する。超臨界二酸化炭素2は、拡散係
数が大きく、粘度が小さく、被洗浄物3に付着している
PCBを効率よく洗浄し、除去する。
Next, the valves 9 and 10 are opened, and the carbon dioxide 2 in the supercritical state is introduced into the chamber 1 through the supply pipe 6. The supercritical carbon dioxide 2 is discharged from the chamber 1 through the exhaust pipe 7, but the PC attached to the cleaning object 3 comes into contact with the cleaning object 3 in the middle thereof.
B is washed and removed. The supercritical carbon dioxide 2 has a large diffusion coefficient and a small viscosity, and efficiently cleans and removes the PCB adhering to the object to be cleaned 3.

【0024】また、超臨界二酸化炭素2による洗浄に際
して、加熱装置14の加熱用コイル18に通電して被洗
浄物3を加熱するか、または加振装置15の超音波振動
板20に通電して被洗浄物3および超音波振動板20を
超音波振動させるか、あるいはこれら両装置に通電して
被洗浄物3を加熱すると同時に超音波振動させると、n
−ヘキサン等の助溶剤を用いた場合と同様に超臨界二酸
化炭素2によるPCBの洗浄効率をさらに向上させるこ
とができる。その理由としては、加熱、超音波振動のい
ずれの場合も、被洗浄物3に付着しているPCBの分子
運動が活発化して溶解または遊離し易くなるため、超臨
界二酸化炭素2による溶解度が増大することによるもの
と推測される。
When cleaning with supercritical carbon dioxide 2, the heating coil 18 of the heating device 14 is energized to heat the object 3 to be cleaned, or the ultrasonic vibration plate 20 of the vibrating device 15 is energized. When the object to be cleaned 3 and the ultrasonic vibration plate 20 are ultrasonically vibrated, or both of these devices are energized to heat the object to be cleaned 3 and simultaneously ultrasonically vibrate, n
As in the case of using a cosolvent such as hexane, the efficiency of cleaning the PCB with supercritical carbon dioxide 2 can be further improved. The reason is that, in both cases of heating and ultrasonic vibration, the molecular motion of the PCB adhering to the object to be cleaned 3 is activated and easily dissolved or released, so that the solubility by the supercritical carbon dioxide 2 increases. It is speculated that this is due to

【0025】洗浄の終了は、排出用配管7の先端側取付
けた図示しないPCBセンサがPCBを検知しなくなっ
たことにより確認される。被洗浄物3の洗浄が終了した
後、開放しているバルブ9,10を閉じ、リーク用配管
8のバルブ11を開くことによりチャンバー1を大気開
放させ、蓋体4を開いて洗浄された被洗浄物3を取出
す。この被洗浄物3は、PCBが除去されているので、
環境および人体に対して無害となり、PCBを含まない
一般の廃棄物として処理される。次に洗浄すべき被洗浄
物をチャンバー1内に設置し、同様な操作を行う。
The completion of cleaning is confirmed by the fact that the PCB sensor (not shown) mounted on the tip side of the discharge pipe 7 no longer detects the PCB. After the cleaning of the object to be cleaned 3 is completed, the opened valves 9 and 10 are closed and the valve 11 of the leak pipe 8 is opened to open the chamber 1 to the atmosphere, and the lid 4 is opened to open the cleaned object. Take out the wash item 3. Since the PCB has been removed from the object to be cleaned 3,
It is harmless to the environment and the human body and is treated as general waste that does not contain PCBs. Next, the object to be cleaned is set in the chamber 1 and the same operation is performed.

【0026】[0026]

【実施例】次に、上記したチャンバーを用いてPCBの
洗浄、除去を行った実施例について説明する。 〔実施例1〕上記チャンバー1に40°C、100気圧
の超臨界二酸化炭素を流通させると共に加熱装置14に
よって被洗浄物3を加熱して被洗浄物3の洗浄を行っ
た。その結果、超臨界二酸化炭素2のみを用いた従来の
洗浄では3時間要していたものが、加熱装置14を併用
すると1時間で洗浄することができ、洗浄効率の向上が
達成された。た。 〔実施例2〕上記チャンバー1に40°C、100気圧
の超臨界二酸化炭素を流通させると共に加振装置15に
よって被洗浄物3を超音波振動させながら被洗浄物3の
洗浄を行った。その結果、超臨界二酸化炭素2のみを用
いた従来の洗浄では3時間要していたものが、加振装置
15を併用すると1.5時間で洗浄することができ、洗
浄効率の向上が達成された。
EXAMPLE Next, an example of cleaning and removing the PCB using the above chamber will be described. [Example 1] Supercritical carbon dioxide at 40 ° C and 100 atm was passed through the chamber 1, and the cleaning object 3 was heated by the heating device 14 to clean the cleaning object 3. As a result, the conventional cleaning using only the supercritical carbon dioxide 2 required 3 hours, but when the heating device 14 was used together, the cleaning could be performed in 1 hour, and the cleaning efficiency was improved. It was Example 2 The object 3 to be cleaned was washed while supercritical carbon dioxide at 40 ° C. and 100 atm was passed through the chamber 1 while the object 3 to be cleaned was ultrasonically vibrated by the vibration device 15. As a result, the conventional cleaning using only the supercritical carbon dioxide 2 took 3 hours, but when the vibration device 15 is used together, the cleaning can be completed in 1.5 hours, and the cleaning efficiency is improved. It was

【0027】ここで、上記実施の形態においては、1個
のチャンバーを用いた例を示したが、例えば2個のチャ
ンバーを並列に接続して洗浄を行うようにしてもよい。
洗浄に際しては、各チャンバーに対して超臨界二酸化炭
素の供給とリークを交互に行い、連続的に洗浄すること
により、洗浄効率を2倍に向上させることができる。ま
た、チャンバーの数を増加させると、さらに洗浄効率を
向上させることができる。
Here, in the above embodiment, an example using one chamber has been shown, but it is also possible to connect two chambers in parallel for cleaning.
During cleaning, the supply of supercritical carbon dioxide and the leakage of gas are alternately performed in each chamber and the cleaning is continuously performed, whereby the cleaning efficiency can be doubled. In addition, the cleaning efficiency can be further improved by increasing the number of chambers.

【0028】加熱装置14としては、高周波加熱装置、
抵抗加熱装置の代わりに、レーザー発生装置を使用して
もよい。その場合は、蓋体4に透明窓を設け、チャンバ
ー1の外部に配置した例えばYAGレーザーからのレザ
ー光線を透明窓を通してチャンバー内の被洗浄物を照
射、加熱するようにすればよい。このような構造におい
ても、電気加熱用コイル18や超音波振動板20を用い
た場合と同様に洗浄効率を向上させることができる。
As the heating device 14, a high frequency heating device,
A laser generator may be used instead of the resistance heating device. In that case, a transparent window may be provided on the lid 4, and a laser beam from, for example, a YAG laser arranged outside the chamber 1 may be irradiated through the transparent window to heat the object to be cleaned in the chamber. Even in such a structure, the cleaning efficiency can be improved as in the case of using the electric heating coil 18 or the ultrasonic vibration plate 20.

【0029】なお、上記した実施の形態においては超臨
界二酸化炭素2をチャンバー1に供給するようにした例
を示したが、これに限らず、チャンバー1内で超臨界状
態の二酸化炭素にしてもよい。その場合は、通常の二酸
化炭素を加圧ポンプによってチャンバー1に導き、内部
を二酸化炭素の臨界温度および臨界圧力以上に保持すれ
ばよい。また、上記した実施の形態においては、被洗浄
物としてPCBによって汚染されている電気部品の例に
ついて説明したが、PCBに類似した他の有機塩素系の
毒物によって汚染されている被洗浄物の洗浄にも有効で
あることはいうまでもない。
In the above-described embodiment, the example in which the supercritical carbon dioxide 2 is supplied to the chamber 1 has been shown. However, the present invention is not limited to this. Good. In that case, normal carbon dioxide may be introduced into the chamber 1 by a pressure pump, and the inside may be maintained at the critical temperature and the critical pressure of carbon dioxide or higher. Further, in the above-described embodiment, the example of the electric component contaminated with PCB as the object to be cleaned has been described, but the cleaning of the object to be cleaned contaminated with other organochlorine poison similar to PCB It goes without saying that it is also effective.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る超臨界
二酸化炭素による洗浄装置によれば、n−ヘキサン等の
有機溶媒を用いることなく洗浄効率を向上させることが
できるので、有機溶剤を処理するための設備を必要とせ
ず、装置自体の簡素化および低廉化を実現することがで
きる。
As described above, the cleaning apparatus using supercritical carbon dioxide according to the present invention can improve the cleaning efficiency without using an organic solvent such as n-hexane. It is possible to realize simplification and cost reduction of the device itself without requiring equipment for doing so.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明に係る洗浄装置に用いられるチャンバ
ーおよび蓋体の一実施の形態を示す分解斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an embodiment of a chamber and a lid used in a cleaning apparatus according to the present invention.

【図2】 (A)、(B)は蓋体の正面図および底面図
である。
2A and 2B are a front view and a bottom view of a lid.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…チャンバー、2…超臨界二酸化炭素、3…被洗浄
物、4…蓋体、5…開口部、6,7,8…配管、9,1
0,11…バルブ、14…加熱装置、15…加振装置、
16…端子、18…加熱用コイル、20…超音波振動
板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chamber, 2 ... Supercritical carbon dioxide, 3 ... Cleaning object, 4 ... Lid body, 5 ... Opening part, 6, 7, 8 ... Piping, 9, 1
0,11 ... Valve, 14 ... Heating device, 15 ... Vibration device,
16 ... Terminal, 18 ... Heating coil, 20 ... Ultrasonic vibration plate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西 史郎 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 竹下 幸俊 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 Fターム(参考) 4D056 AB18 AC24 BA16 4H003 DA15 DB01 DB02 DC04 EA31 4H006 AA04 AB70 AD10 BD82    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Shiro Nishi             3-19-3 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Japan             Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Yukitoshi Takeshita             3-19-3 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Japan             Telegraph and Telephone Corporation F-term (reference) 4D056 AB18 AC24 BA16                 4H003 DA15 DB01 DB02 DC04 EA31                 4H006 AA04 AB70 AD10 BD82

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機塩素化合物によって汚染されている
被洗浄物に超臨界二酸化炭素を接触させることにより被
洗浄物を洗浄するチャンバーを備え、このチャンバーに
前記被洗浄物を加熱する加熱装置を設けたことを特徴と
する超臨界二酸化炭素による洗浄装置。
1. A chamber for cleaning an object to be cleaned by contacting the object to be cleaned contaminated with an organic chlorine compound with supercritical carbon dioxide, and a heating device for heating the object to be cleaned is provided in the chamber. A cleaning device using supercritical carbon dioxide.
【請求項2】 有機塩素化合物によって汚染されている
被洗浄物に超臨界二酸化炭素を接触させることにより被
洗浄物を洗浄するチャンバーを備え、このチャンバーに
前記被洗浄物を振動させる加振装置を設けたことを特徴
とする超臨界二酸化炭素による洗浄装置。
2. A vibration device for vibrating the object to be cleaned is provided with a chamber for cleaning the object to be cleaned by contacting the object to be cleaned contaminated with an organic chlorine compound with supercritical carbon dioxide. A cleaning device using supercritical carbon dioxide, which is provided.
【請求項3】 請求項1記載の超臨界二酸化炭素による
洗浄装置において、 加熱装置が高周波加熱装置であることを特徴とする超臨
界二酸化炭素による洗浄装置。
3. The cleaning device for supercritical carbon dioxide according to claim 1, wherein the heating device is a high-frequency heating device.
【請求項4】 請求項1記載の超臨界二酸化炭素による
洗浄装置において、 加熱装置が抵抗加熱装置であることを特徴とする超臨界
二酸化炭素による洗浄装置。
4. The cleaning device using supercritical carbon dioxide according to claim 1, wherein the heating device is a resistance heating device.
【請求項5】 請求項1記載の超臨界二酸化炭素による
洗浄装置において、 加熱装置がレーザー発生装置であることを特徴とする超
臨界二酸化炭素による洗浄装置。
5. The cleaning apparatus for supercritical carbon dioxide according to claim 1, wherein the heating device is a laser generator.
【請求項6】 請求項2記載の超臨界二酸化炭素による
洗浄装置において、 加振装置が超音波振動装置であることを特徴とする超臨
界二酸化炭素による洗浄装置。
6. The cleaning device for supercritical carbon dioxide according to claim 2, wherein the vibration device is an ultrasonic vibration device.
【請求項7】 請求項1〜6のうちのいずれか1つに記
載の超臨界二酸化炭素による洗浄装置において、 複数個のチャンバーを並列に接続したことを特徴とする
超臨界二酸化炭素による洗浄装置。
7. The cleaning apparatus for supercritical carbon dioxide according to claim 1, wherein a plurality of chambers are connected in parallel. .
【請求項8】 請求項1〜7のうちのいずれか1つに記
載の超臨界二酸化炭素による洗浄装置において、 有機塩素化合物がポリ塩化ビフェニールであることを特
徴とする超臨界二酸化炭素による洗浄装置。
8. The cleaning apparatus for supercritical carbon dioxide according to claim 1, wherein the organic chlorine compound is polychlorinated biphenyl. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004081255A1 (en) * 2003-01-27 2004-09-23 Tokyo Electron Limited Semiconductor device

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