JP2000057785A - Semiconductor integrated circuit apparatus and memory card using the same - Google Patents

Semiconductor integrated circuit apparatus and memory card using the same

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JP2000057785A
JP2000057785A JP22975898A JP22975898A JP2000057785A JP 2000057785 A JP2000057785 A JP 2000057785A JP 22975898 A JP22975898 A JP 22975898A JP 22975898 A JP22975898 A JP 22975898A JP 2000057785 A JP2000057785 A JP 2000057785A
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Japan
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voltage
power supply
semiconductor integrated
integrated circuit
unit
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Japanese (ja)
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Masahiro Hirata
正博 平田
Shoji Kubono
昌次 久保埜
Michitaro Kanemitsu
道太郎 金光
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Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten a data write time at a flash memory. SOLUTION: When a user selects a write operation of a high-speed mode, a switch control signal is input to a switch circuit 18 by a command or the like and a voltage of approximately -13.7v generated by a high-speed voltage generation circuit 15 is output as a word line potential. Normally, a voltage of approximately -12.5v generated by a voltage generation circuit 16 is output as the word line potential. Since the write voltage for the high-speed mode of approximately -13.7v higher than at the normal write is output from the switch circuit 18, a write speed can be increased higher than at the normal write.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、データの書き込み
技術に関し、特に、フラシュメモリにおけるデータ書き
込み時間の短縮化に適用して有効な技術に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a data writing technique, and more particularly to a technique which is effective when applied to shorten data writing time in a flash memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、た
とえば、デジタルカメラなどによって取り込まれた画像
データの記憶メディアとしてメモリカードが急速に普及
している。また、メモリカードにおける高性能化の要求
に伴って、メモリカードに搭載される半導体メモリとし
て、たとえば、フラッシュメモリが用いられている。
2. Description of the Related Art According to studies made by the present inventor, for example, a memory card is rapidly spreading as a storage medium for image data captured by a digital camera or the like. Further, with the demand for higher performance in memory cards, for example, flash memories have been used as semiconductor memories mounted on memory cards.

【0003】このフラッシュメモリは、電気的に一括消
去、書き換えが可能であり、電池なしで大容量のデータ
を保持できる。データを書き込む場合には、メモリセル
のフローティングゲートに高電界で電子を注入してお
り、消去する場合には、逆にトンネル現象を用いてフロ
ーティングゲートから電子を抜いている。
This flash memory is electrically erasable and rewritable collectively, and can hold a large amount of data without a battery. When writing data, electrons are injected into the floating gate of the memory cell with a high electric field, and when erasing, the electrons are removed from the floating gate by using a tunnel phenomenon.

【0004】なお、この種の半導体集積回路装置につい
て詳しく述べてある例としては、1995年6月1日、
株式会社工業調査会発行、大島雅志(編)、「電子材
料」6月号(第34巻第6号)、P32〜P37があ
り、この文献には、フラッシュメモリの構成などが記載
されている。
[0004] An example of this type of semiconductor integrated circuit device is described in detail on June 1, 1995.
Published by Industrial Research Institute Co., Ltd., Masashi Oshima (ed.), "Electronic Materials" June Issue (Vol. 34, No. 6), and P32 to P37. This document describes the configuration of flash memory and the like. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な半導体集積回路装置では、次のような問題点があるこ
とが本発明者により見い出された。
However, the present inventor has found that the above-mentioned semiconductor integrated circuit device has the following problems.

【0006】すなわち、フラッシュメモリでは、通常、
200万〜300万回程度の書き換え回数を保証できる
ようにデータ書き込み時の電圧、すなわち、ワード線電
位(たとえば、−12.5V程度)が設定されいる。
That is, in a flash memory, usually,
The voltage at the time of data writing, that is, the word line potential (for example, about -12.5 V) is set so that the number of rewrites of about 2 to 3 million times can be guaranteed.

【0007】近年、デジタルカメラの高画質化に伴い、
画像データが大幅に増加しする傾向にあるが、前述した
ように書き込み回数を保証するためにワード線電位が低
く設定されており、フラッシュメモリの書き込み時間が
長時間化してしまうという問題がある。
[0007] In recent years, with the increase in image quality of digital cameras,
Although the image data tends to increase significantly, as described above, the word line potential is set low to guarantee the number of times of writing, and there is a problem that the writing time of the flash memory becomes longer.

【0008】本発明の目的は、データ書き込み時間を大
幅に短縮することのできる半導体集積回路装置およびそ
れを用いたメモリカードを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of greatly shortening a data write time and a memory card using the same.

【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0011】すなわち、本発明の半導体集積回路装置
は、ワード線電位として用いられる第1の電圧と、その
第1の電圧よりも高い高速書き込み用のワード線電位と
して用いられる第2の電圧とを生成し、第1の電圧また
は第2の電圧を制御信号に基づいて切り換えて出力する
高電圧発生手段を備えたものである。
That is, in the semiconductor integrated circuit device of the present invention, a first voltage used as a word line potential and a second voltage used as a high-speed write word line potential higher than the first voltage are used. It is provided with high voltage generating means for generating and switching and outputting the first voltage or the second voltage based on the control signal.

【0012】また、本発明の半導体集積回路装置は、前
記高電圧発生手段が、第1の電圧を生成する第1の高電
圧発生部と、第2の電圧を生成する第2の高電圧発生部
と、制御信号に基づいて第1の高電圧発生部と第2の高
電圧発生部との切り換えを行い、第1の電圧または第2
の電圧のいずれかをワード線電位として出力する切り換
え部とよりなるものである。
Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the high voltage generating means includes a first high voltage generating section for generating a first voltage, and a second high voltage generating section for generating a second voltage. And switching between the first high-voltage generator and the second high-voltage generator based on the control signal and the first voltage or the second voltage.
And a switching unit that outputs one of the voltages as the word line potential.

【0013】さらに、本発明の半導体集積回路装置は、
前記高電圧発生手段が、第1の基準電圧を昇圧して第1
の電圧を生成し、第2の基準電圧を昇圧して第2の電圧
を生成する昇圧電源部と、第1の基準電圧を生成する第
1の基準電源部と、第1の基準電圧よりも高い第2の基
準電圧を生成する第2の基準電源部と、制御信号に基づ
いて第1の基準電源部と第2の基準電源部との切り換え
を行い、第1の基準電圧または第2の基準電圧のいずれ
かを昇圧電源部に出力する切り換え部とよりなるもので
ある。
Further, the semiconductor integrated circuit device of the present invention
The high voltage generating means boosts a first reference voltage to generate a first reference voltage.
, A boosted power supply unit that boosts the second reference voltage to generate the second voltage, a first reference power supply unit that generates the first reference voltage, A second reference power supply unit for generating a high second reference voltage, and switching between the first reference power supply unit and the second reference power supply unit based on the control signal; And a switching unit that outputs one of the reference voltages to the boost power supply unit.

【0014】また、本発明の半導体集積回路装置は、前
記高電圧発生手段が、基準電圧を昇圧して昇圧電圧を生
成する昇圧電源部と、昇圧電源部のレベルモニタ制御を
行い、昇圧電源部に第1の電圧を生成させる第1のレベ
ルモニタ部と、昇圧電源部のレベルモニタ制御を行い、
昇圧電源部に第2の電圧を生成させる第2のレベルモニ
タ部と、制御信号に基づいて第1のレベルモニタ部また
は第2のレベルモニタ部のいずれかを動作させる制御部
とよりなるものである。
Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the high-voltage generating means performs a boost power supply unit for generating a boosted voltage by boosting a reference voltage, and performs a level monitor control of the boosted power supply unit. A first level monitor unit for generating a first voltage, and a level monitor control of a boost power supply unit.
The booster power supply includes a second level monitor for generating a second voltage, and a controller for operating either the first level monitor or the second level monitor based on the control signal. is there.

【0015】さらに、本発明の半導体集積回路装置は、
書き込みベリファイ電圧として用いられる第3の電圧
と、その第3の電圧と異なる電圧値からなり、高速動作
用ベリファイ電圧として用いられる第4の電圧とを生成
し、第3の電圧または第4の電圧を制御信号に基づいて
切り換えて出力する高電圧発生手段を備えたものであ
る。
Further, the semiconductor integrated circuit device according to the present invention
A third voltage used as a write verify voltage and a fourth voltage which is different from the third voltage and is used as a high-speed operation verify voltage are generated, and the third voltage or the fourth voltage is generated. In response to a control signal.

【0016】また、本発明のメモリカードは、前記半導
体集積回路装置を用いて構成したものである。
Further, a memory card according to the present invention is configured using the semiconductor integrated circuit device.

【0017】以上のことにより、半導体集積回路装置の
データ書き込み速度を高速化でき、デジタルカメラなど
の大容量データが格納されるメモリカードであっても、
書き込み時間を大幅に短縮するとができる。
As described above, the data writing speed of the semiconductor integrated circuit device can be increased, and even a memory card such as a digital camera storing a large amount of data can be used.
The writing time can be greatly reduced.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0019】図1は、本発明の一実施の形態によるフラ
ッシュメモリのブロック図、図2は、本発明の一実施の
形態によるフラッシュメモリに設けられた高圧電発生回
路の説明図、図3は、本発明の一実施の形態によるフラ
ッシュメモリを用いたメモリカードの説明図、図4は、
本発明の一実施の形態によるフラッシュメモリにおける
メモリセルの説明図である。
FIG. 1 is a block diagram of a flash memory according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram of a high-voltage generating circuit provided in the flash memory according to one embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram of a memory card using a flash memory according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an explanatory diagram of a memory cell in the flash memory according to the embodiment of the present invention.

【0020】本実施の形態において、フラッシュメモリ
1には、図1に示すように、ロジックコントロール2お
よび入出力コントロール回路3が設けられている。ロジ
ックコントロール2は、接続先となるマイクロコンピュ
ータなどのホストから入力される制御用信号を一時的に
格納し、動作ロジックの制御を行う。
In this embodiment, the flash memory 1 is provided with a logic control 2 and an input / output control circuit 3, as shown in FIG. The logic control 2 temporarily stores a control signal input from a host such as a microcomputer to be connected, and controls operation logic.

【0021】また、入出力コントロール回路3には、ホ
ストから入出力されるコマンド、外部アドレス、プログ
ラムデータなどの各種信号が入力され、制御用信号に基
づいてコマンド、外部アドレス、データをそれぞれのコ
マンドレジスタ4、アドレレスレジスタ5、データレジ
スタ/センスアンプ6に出力する。
The input / output control circuit 3 receives various signals such as a command, an external address, and program data input / output from the host, and outputs a command, an external address, and data based on a control signal. The data is output to the register 4, the address register 5, and the data register / sense amplifier 6.

【0022】さらに、アドレスレジスタ4には、カラム
アドレスバッファ7ならびにローアドレスバッファ8が
接続されている。これらカラムアドレスバッファ7、ロ
ーアドレスバッファ8は、アドレスレジスタ4から出力
されたアドレスを一時的に格納する。
Further, a column address buffer 7 and a row address buffer 8 are connected to the address register 4. The column address buffer 7 and the row address buffer 8 temporarily store the address output from the address register 4.

【0023】カラムアドレスバッファ7には、カラムア
ドレスデコーダ9が接続されており、ローアドレスバッ
ファ8には、ローアドレスデコーダ10が接続されてい
る。カラムアドレスデコーダ9は、カラムアドレスバッ
ファ7から出力されたカラムアドレスに基づいてデコー
ドを行い、ローアドレスデコーダ10は、ローアドレス
バッファ8から出力されたローアドレスに基づいてデコ
ードを行う。
A column address decoder 9 is connected to the column address buffer 7, and a row address decoder 10 is connected to the row address buffer 8. The column address decoder 9 performs decoding based on the column address output from the column address buffer 7, and the row address decoder 10 performs decoding based on the row address output from the row address buffer 8.

【0024】ロジックコントロール2、コマンドレジス
タ4には、制御回路11が接続されており、この制御回
路11によって、データレジスタ/センスアンプ6、高
電圧発生回路(高電圧発生手段)12、ベリファイ電圧
発生回路13が制御されている。
A control circuit 11 is connected to the logic control 2 and the command register 4. The control circuit 11 controls the data register / sense amplifier 6, the high voltage generating circuit (high voltage generating means) 12, and the verify voltage generating circuit. The circuit 13 is controlled.

【0025】高電圧発生回路12は、書き込み電圧、す
なわち、ワード線電位として用いられる高電圧を生成
し、ベリファイ電圧発生回路13は、ベリファイ動作に
用いられるベリファイ電圧を生成する。
The high voltage generating circuit 12 generates a write voltage, that is, a high voltage used as a word line potential, and the verify voltage generating circuit 13 generates a verify voltage used for a verify operation.

【0026】また、データレジスタ/センスアンプ6、
ローアドレスデコーダ10には、電気的なデータの消去
が可能であり、データの保存に電源が不要なフラッシュ
メモリアレイ14が接続されている。フラッシュメモリ
アレイ14は、記憶の最小単位であるメモリセルが規則
正しくアレイ状に並べられている。
The data register / sense amplifier 6,
The row address decoder 10 is connected to a flash memory array 14 capable of electrically erasing data and requiring no power supply for storing data. In the flash memory array 14, memory cells, which are the minimum units of storage, are regularly arranged in an array.

【0027】さらに、前述した高電圧発生回路12、ベ
リファイ電圧発生回路13には、データレジスタ/セン
スアンプ6、ローアドレスデコーダ10、およびフラッ
シュメモリアレイ14が接続され、所定の電圧が供給さ
れている。
Further, a data register / sense amplifier 6, a row address decoder 10, and a flash memory array 14 are connected to the above-described high voltage generation circuit 12 and verify voltage generation circuit 13, and are supplied with a predetermined voltage. .

【0028】高電圧発生回路12について、図2を用い
て説明する。
The high voltage generating circuit 12 will be described with reference to FIG.

【0029】この高電圧発生回路12は、高速用電圧発
生回路(第2の高電圧発生部)15と、電圧発生回路
(第1の高電圧発生部)16と、基準電源回路17と、
切り換え回路(切り換え部)18とから構成されてい
る。高速用電圧発生回路15は、たとえば、−13.7
V程度の高速モード用書き込み電圧(第2の電圧)を発
生する。
The high voltage generation circuit 12 includes a high-speed voltage generation circuit (second high voltage generation unit) 15, a voltage generation circuit (first high voltage generation unit) 16, a reference power supply circuit 17,
And a switching circuit (switching unit) 18. The high-speed voltage generation circuit 15 is, for example, -13.7.
A write voltage (second voltage) for high-speed mode of about V is generated.

【0030】また、電圧発生回路16は、−12.5V
程度の通常モードの書き込み電圧(第1の電圧)を発生
する。基準電源回路17は、高速用電圧発生回路15お
よび電圧発生回路16に供給される基準電圧を発生す
る。
The voltage generating circuit 16 has a voltage of -12.5 V
A normal mode write voltage (first voltage) is generated. The reference power supply circuit 17 generates a reference voltage supplied to the high-speed voltage generator 15 and the voltage generator 16.

【0031】切り換え回路18、コマンドまたは外部入
力端子によって入力された切り換え制御信号(制御信
号)に基づいて接続先の切り換えを行い、高速用電圧発
生回路15が発生した−13.7V程度の高速モード用
書き込み電圧または電圧発生回路16が発生した−1
2.5V程度の通常モードの書き込み電圧のいずれかを
フラッシュメモリアレイ14のメモリセルへワード線電
位として出力する。
The switching circuit 18 switches the connection destination based on a switching control signal (control signal) input by a command or an external input terminal, and a high-speed mode of about -13.7 V generated by the high-speed voltage generating circuit 15. -1 generated by the write voltage or the voltage generation circuit 16
One of the normal mode write voltages of about 2.5 V is output to the memory cells of the flash memory array 14 as a word line potential.

【0032】このフラッシュメモリ1を用いて構成した
メモリカード19について、図3を用いて説明する。
A memory card 19 using the flash memory 1 will be described with reference to FIG.

【0033】メモリカード19は、フラッシュメモリカ
ードであり、たとえば、デジタルカメラの画像データの
記憶用やノートブック形パーソナルコンピュータや多機
能端末機などの外部記憶メディアとして用いられる。
The memory card 19 is a flash memory card and is used, for example, for storing image data of a digital camera or as an external storage medium for a notebook personal computer, a multifunctional terminal, or the like.

【0034】メモリカード19のプリント配線基板20
には、フラッシュメモリ1が実装されている。このフラ
ッシュメモリ1は、コントローラとフラッシュメモリと
が1チップ化されている。
Printed circuit board 20 of memory card 19
, A flash memory 1 is mounted. In the flash memory 1, a controller and a flash memory are integrated into one chip.

【0035】また、図3においては、1つのフラッシュ
メモリ1がプリント配線基板20に実装されているが、
メモリ容量の増加などに応じてフラッシュメモリ1を複
数実装してもよい。
In FIG. 3, one flash memory 1 is mounted on the printed wiring board 20.
A plurality of flash memories 1 may be mounted according to an increase in memory capacity.

【0036】さらに、フラッシュメモリ1が実装された
プリント配線基板20は、フレームおよび上下パネルな
どによって固定され、プリント配線基板20の所定の周
辺部に設けられたコネクタ21を介して前述したデジタ
ルカメラや多機能端末機などのホストコンピュータとの
信号のやり取りが行われる。
Further, the printed wiring board 20 on which the flash memory 1 is mounted is fixed by a frame, upper and lower panels, and the like, and is connected to the above-described digital camera or the like via a connector 21 provided at a predetermined peripheral portion of the printed wiring board 20. Signals are exchanged with a host computer such as a multi-function terminal.

【0037】次に、本実施の形態の作用について説明す
る。
Next, the operation of the present embodiment will be described.

【0038】まず、ユーザが通常モードの書き込み動作
を選択した場合、コマンドなどによって切り換え回路1
8に切り換え制御信号が入力され、電圧発生回路16が
発生する−12.5v程度の電圧がワード線電位として
出力さえるように切り換えられる。
First, when the user selects the write operation in the normal mode, the switching circuit 1 is activated by a command or the like.
8, a switching control signal is input, and switching is performed so that a voltage of about -12.5 V generated by the voltage generating circuit 16 is output as a word line potential.

【0039】また、ユーザが高速モードの書き込み動作
を選択した場合、コマンドなどによって切り換え回路1
8に切り換え制御信号が入力され、高速用電圧発生回路
15が発生する−13.7v程度の電圧がワード線電位
として出力されるように切り換えられる。
When the user selects the write operation in the high-speed mode, the switching circuit 1 is activated by a command or the like.
8, a switching control signal is input, and switching is performed so that a voltage of about -13.7 V generated by the high-speed voltage generating circuit 15 is output as a word line potential.

【0040】フラッシュメモリアレイ14におけるメモ
リセルSは、図4に示すように、たとえば、1トランジ
スタ積層ゲート構造からなり、書き込み時には、ゲート
(ワード線)とドレイン(データ線)とに高電圧をか
け、ドレイン近傍で発生したホットエレクトロンをフロ
ーティングゲートに注入することによって行う。
As shown in FIG. 4, the memory cell S in the flash memory array 14 has, for example, a one-transistor stacked gate structure, and applies a high voltage to the gate (word line) and the drain (data line) during writing. By injecting hot electrons generated near the drain into the floating gate.

【0041】よって、切り換え回路18から出力される
電圧が高いほど書き込み動作を高速化でき、通常書き込
み時よりも高い−13.7V程度の高速モード用書き込
み電圧が該切り換え回路18から出力されることによっ
て書き込み速度を通常の書き込み動作時よりも大幅に高
速化することができる。たとえば、デジタルカメラの画
像データなどの大容量データを格納する場合に、メモリ
カード19への書き込みに必要な時間を大幅に短縮する
ことができる。
Therefore, the higher the voltage output from the switching circuit 18 is, the faster the writing operation can be performed, and the higher-mode write voltage of about -13.7 V is output from the switching circuit 18 which is higher than that during normal writing. Thus, the writing speed can be significantly increased as compared with the normal writing operation. For example, when storing a large amount of data such as image data of a digital camera, the time required for writing to the memory card 19 can be greatly reduced.

【0042】それにより、本実施の形態によれば、フラ
ッシュメモリ1に高電圧発生回路12を設けることによ
り、フラッシュメモリの書き込み時間を大幅に短縮する
ことができる。
Thus, according to the present embodiment, by providing the high voltage generation circuit 12 in the flash memory 1, the writing time of the flash memory can be greatly reduced.

【0043】また、このフラッシュメモリ1を用いたメ
モリカード19により、デジタルカメラなどの大容量デ
ータを格納する場合であっても、メモリカード19の書
き込みに必要な時間を大幅に短縮することができる。
Further, the memory card 19 using the flash memory 1 can greatly reduce the time required for writing to the memory card 19, even when storing a large amount of data in a digital camera or the like. .

【0044】さらに、本実施の形態では、高電圧発生回
路12が、高速用電圧発生回路15、電圧発生回路1
6、基準電源回路17、および切り換え回路18によっ
て構成されていたが、高電圧発生回路12を、たとえ
ば、図5に示すように、電圧発生回路(昇圧電源部)1
6a、基準電源回路(第1の基準電源部)17a、基準
電源回路(第2の基準電源部)17b、切り換え回路1
8によって構成してもよい。
Further, in the present embodiment, the high-voltage generation circuit 12 includes the high-speed voltage generation circuit 15 and the voltage generation circuit 1.
6, the reference power supply circuit 17, and the switching circuit 18, the high voltage generation circuit 12 is replaced with, for example, a voltage generation circuit (step-up power supply) 1 as shown in FIG.
6a, reference power supply circuit (first reference power supply unit) 17a, reference power supply circuit (second reference power supply unit) 17b, switching circuit 1
8 may be used.

【0045】この場合、基準電源回路17a、17bの
電圧は、それぞれ異なる基準電圧を生成しており、基準
電源回路17aの基準電圧(第1の基準電源)が電圧発
生回路16aに供給された場合には−12.5V程度の
通常モードの書き込み電圧が電圧発生回路16aによっ
て生成され、基準電源回路17bの基準電圧(第2の基
準電源)が電圧発生回路16aに供給された場合には−
13.7V程度の高速モード用書き込み電圧が電圧発生
回路16aによって生成される。
In this case, the voltages of the reference power supply circuits 17a and 17b generate different reference voltages, respectively. When the reference voltage (first reference power supply) of the reference power supply circuit 17a is supplied to the voltage generation circuit 16a. In the case where the write voltage in the normal mode of about -12.5 V is generated by the voltage generation circuit 16a and the reference voltage (second reference power supply) of the reference power supply circuit 17b is supplied to the voltage generation circuit 16a,
A high-speed mode write voltage of about 13.7 V is generated by the voltage generation circuit 16a.

【0046】また、図6に示すように、2つの異なるレ
ベルをモニタするレベルモニタを電圧発生回路に設け、
通常モードの書き込み電圧と高速モード用書き込み電圧
を生成するようにしてもよい。
As shown in FIG. 6, a level monitor for monitoring two different levels is provided in the voltage generation circuit.
The normal mode write voltage and the high-speed mode write voltage may be generated.

【0047】この場合には、高電圧発生回路12の電圧
発生回路16bは、基準電源回路17cによって発生さ
れた基準電圧を昇圧するチャージポンプ回路(昇圧電源
部)16b1 と、−12.5V程度の通常モードの書き
込み電圧の電圧レベルモニタを行うレベルモニタ(第1
のレベルモニタ部)16b2 と、−13.7V程度の高
速モード用書き込み電圧の電圧レベルモニタを行うレベ
ルモニタ(第2のレベルモニタ部)16b3 と、レベル
モニタ16b2 ,16b3 の動作制御を行う制御部16
4 とにより構成されている。
[0047] In this case, the voltage generation circuit 16b of the high voltage generating circuit 12 includes a charge pump circuit (step-up power supply unit) that boosts the reference voltage generated by the reference power supply circuit 17c and 16b 1, about -12.5V Level monitor for monitoring the voltage level of the write voltage in the normal mode (first mode)
A level monitoring unit) 16b 2, the level monitor (second level monitor unit) 16b 3 performing voltage level monitor in the high speed mode for writing a voltage of about -13.7V, the operation control of the level monitor 16b 2, 16b 3 Control unit 16 that performs
It is composed of a b 4.

【0048】そして、これらレベルモニタ16b2 ,1
6b3 が、コマンドまたは外部入力端子によって入力さ
れた信号に基づいて制御部16b4 の切り換え制御信号
により制御され、選択されたレベルモニタ16b2 ,1
6b3 によってチャージポンプ回路16b1 の制御が行
われる。
The level monitors 16b 2 , 1
6b 3 is controlled by a switching control signal of the control unit 16b 4 based on a command or a signal input from an external input terminal, and the selected level monitor 16b 2 , 1
Control of the charge pump circuit 16b 1 is performed by 6b 3.

【0049】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0050】たとえば、前記実施の形態によれば、ワー
ド線電位に用いられる電圧を高くすることによってフラ
ッシュメモリのデータ書き込み速度を高速化したが、所
定の制御信号によって2つの書き込みベリファイ電圧を
供給する高電圧発生手段を設け、図7(a)、(b)に
示すように、高速モード時にメモリセルにおけるしきい
値電圧Vthの判定電圧である書き込みベリファイ電圧
(第3、第4の電圧)を消去のしきい値電圧Vth側に
ずらすことによっても書き込み時間を短縮することがで
きる。
For example, according to the above embodiment, the data write speed of the flash memory is increased by increasing the voltage used for the word line potential. However, two write verify voltages are supplied by a predetermined control signal. A high voltage generating means is provided, and as shown in FIGS. 7A and 7B, a write verify voltage (third and fourth voltage) which is a determination voltage of a threshold voltage Vth in a memory cell in a high speed mode is provided. The writing time can also be shortened by shifting to the threshold voltage Vth for erasing.

【0051】[0051]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0052】(1)本発明によれば、半導体集積回路装
置に高電圧発生手段を設けることにより、データ書き込
み速度を大幅に高速化することができる。
(1) According to the present invention, by providing a high voltage generating means in a semiconductor integrated circuit device, the data writing speed can be greatly increased.

【0053】(2)また、本発明では、デジタルカメラ
などの大容量データを格納する場合でもメモリカードの
書き込み時間を大幅に短縮できるので、メモリカードの
性能を向上することができる。
(2) Further, according to the present invention, even when a large amount of data is stored in a digital camera or the like, the writing time of the memory card can be greatly reduced, so that the performance of the memory card can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態によるフラッシュメモリ
のブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram of a flash memory according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態によるフラッシュメモリ
に設けられた高圧電発生回路の説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a high-voltage generating circuit provided in the flash memory according to one embodiment of the present invention;

【図3】本発明の一実施の形態によるフラッシュメモリ
を用いたメモリカードの説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a memory card using a flash memory according to one embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施の形態によるフラッシュメモリ
におけるメモリセルの説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a memory cell in the flash memory according to one embodiment of the present invention;

【図5】本発明の他の実施の形態によるフラッシュメモ
リに設けられた高圧電発生回路の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a high-voltage generating circuit provided in a flash memory according to another embodiment of the present invention.

【図6】本発明の他の実施の形態によるフラッシュメモ
リに設けられた高圧電発生回路の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a high-piezoelectric generation circuit provided in a flash memory according to another embodiment of the present invention.

【図7】(a)は、本発明の一実施の形態によるフラッ
シュメモリのメモリセルにおける消去のしきい値が高電
圧側に分布した場合の説明図、(b)は、本発明の一実
施の形態によるフラッシュメモリのメモリセルにおける
消去のしきい値が低電圧側に分布した場合の説明図であ
る。
FIG. 7A is a diagram illustrating a case where an erasing threshold in a memory cell of a flash memory according to an embodiment of the present invention is distributed on a high voltage side, and FIG. 7B is an embodiment of the present invention; FIG. 10 is an explanatory diagram in a case where the erase threshold value in the memory cell of the flash memory according to the embodiment is distributed on the low voltage side.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フラッシュメモリ(半導体集積回路装置) 2 ロジックコントロール 3 入出力コントロール回路 4 コマンドレジスタ 5 アドレレスレジスタ 6 データレジスタ/センスアンプ 7 カラムアドレスバッファ 8 ローアドレスバッファ 9 カラムアドレスデコーダ 10 ローアドレスデコーダ 11 制御回路 12 高電圧発生回路(高電圧発生手段) 13 ベリファイ電圧発生回路 14 フラッシュメモリアレイ 15 高速用電圧発生回路(第2の高電圧発生部) 16 電圧発生回路(第1の高電圧発生部) 16a 電圧発生回路(昇圧電源部) 16b 電圧発生回路 16b1 チャージポンプ回路(昇圧電源部) 16b2 レベルモニタ(第1のレベルモニタ部) 16b3 レベルモニタ(第2のレベルモニタ部) 16b4 制御部 17 基準電源回路 17a 基準電源回路(第1の基準電源部) 17b 基準電源回路(第2の基準電源部) 17c 基準電源回路 18 切り換え回路(切り換え部) 19 メモリカード 20 プリント配線基板 21 コネクタ S メモリセルDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flash memory (semiconductor integrated circuit device) 2 Logic control 3 I / O control circuit 4 Command register 5 Address register 6 Data register / sense amplifier 7 Column address buffer 8 Row address buffer 9 Column address decoder 10 Row address decoder 11 Control circuit 12 High voltage generating circuit (high voltage generating means) 13 Verify voltage generating circuit 14 Flash memory array 15 High-speed voltage generating circuit (second high voltage generating section) 16 Voltage generating circuit (first high voltage generating section) 16a Voltage generation Circuit (boost power supply unit) 16b Voltage generation circuit 16b 1 Charge pump circuit (boost power supply unit) 16b 2 Level monitor (first level monitor unit) 16b 3 Level monitor (second level monitor unit) 16b 4 control unit 17 Reference Power supply circuit 1 a reference power supply circuit (first reference power supply unit) 17b reference power supply circuit (the second reference power supply unit) 17c reference power supply circuit 18 switching circuit (switching unit) 19 memory card 20 printed circuit board 21 Connector S memory cells

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保埜 昌次 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 金光 道太郎 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 Fターム(参考) 5B025 AA01 AB01 AD10 AE05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor: Shoji Kubono 5-22-1, Josuihonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Inside of Hitachi Super LSI Systems Co., Ltd. (72) Michitaro Kanemitsu Tokyo 5-22-1, Kamimizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo F-term in Hitachi Super LSI Systems, Ltd. (Reference) 5B025 AA01 AB01 AD10 AE05

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワード線電位として用いられる第1の電
圧と、その第1の電圧よりも高い高速書き込み用のワー
ド線電位として用いられる第2の電圧とを生成し、第1
の電圧または第2の電圧を制御信号に基づいて切り換え
て出力する高電圧発生手段を備えたことを特徴とする半
導体集積回路装置。
A first voltage used as a word line potential and a second voltage used as a high-speed write word line potential higher than the first voltage;
A high voltage generating means for switching and outputting the second voltage or the second voltage based on a control signal.
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、 前記高電圧発生手段が、 第1の電圧を生成する第1の高電圧発生部と、 第2の電圧を生成する第2の高電圧発生部と、 制御信号に基づいて前記第1の高電圧発生部と前記第2
の高電圧発生部との切り換えを行い、第1の電圧または
第2の電圧のいずれかをワード線電位として出力する切
り換え部とよりなることを特徴とする半導体集積回路装
置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said high-voltage generating means includes: a first high-voltage generating unit that generates a first voltage; and a second high-voltage generating unit that generates a second voltage. A voltage generator, the first high-voltage generator based on a control signal, and the second
And a switching unit that switches between the high voltage generation unit and the first voltage or the second voltage as a word line potential.
【請求項3】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、 前記高電圧発生手段が、 第1の基準電圧を昇圧して第1の電圧を生成し、第2の
基準電圧を昇圧して第2の電圧を生成する昇圧電源部
と、 第1の基準電圧を生成する第1の基準電源部と、 第1の基準電圧よりも高い第2の基準電圧を生成する第
2の基準電源部と、 制御信号に基づいて前記第1の基準電源部と前記第2の
基準電源部との切り換えを行い、第1の基準電圧または
第2の基準電圧のいずれかを前記昇圧電源部に出力する
切り換え部とよりなることを特徴とする半導体集積回路
装置。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said high-voltage generating means generates a first voltage by boosting a first reference voltage, and generates a first voltage by boosting a second reference voltage. A first reference power supply for generating a first reference voltage; a second reference power supply for generating a second reference voltage higher than the first reference voltage; Switching between the first reference power supply unit and the second reference power supply unit based on a control signal and outputting either the first reference voltage or the second reference voltage to the boosted power supply unit And a semiconductor integrated circuit device.
【請求項4】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、 前記高電圧発生手段が、 基準電圧を昇圧して昇圧電圧を生成する昇圧電源部と、 前記昇圧電源部のレベルモニタ制御を行い、前記昇圧電
源部に第1の電圧を生成させる第1のレベルモニタ部
と、 前記昇圧電源部のレベルモニタ制御を行い、前記昇圧電
源部に第2の電圧を生成させる第2のレベルモニタ部
と、 制御信号に基づいて前記第1のレベルモニタ部または前
記第2のレベルモニタ部のいずれかを動作させる制御部
とよりなることを特徴とする半導体集積回路装置。
4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the high voltage generating means performs a level monitor control of the boosted power supply section that boosts a reference voltage to generate a boosted voltage, A first level monitor for causing the boosted power supply to generate a first voltage, a second level monitor for performing level monitor control of the boosted power supply and generating a second voltage by the boosted power supply; A semiconductor integrated circuit device, comprising: a control unit that operates either the first level monitor unit or the second level monitor unit based on a control signal.
【請求項5】 書き込みベリファイ電圧として用いられ
る第3の電圧と、その第3の電圧と異なる電圧値からな
り、高速動作用ベリファイ電圧として用いられる第4の
電圧とを生成し、第3の電圧または第4の電圧を制御信
号に基づいて切り換えて出力する高電圧発生手段を備え
たことを特徴とする半導体集積回路装置。
5. A third voltage comprising a third voltage used as a write verify voltage and a fourth voltage having a voltage value different from the third voltage and used as a high-speed operation verify voltage. Alternatively, a semiconductor integrated circuit device includes a high voltage generating means for switching and outputting a fourth voltage based on a control signal.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の半
導体集積回路装置を用いて構成したことを特徴とするメ
モリカード。
6. A memory card comprising the semiconductor integrated circuit device according to claim 1. Description:
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7304891B2 (en) 2005-07-23 2007-12-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for improving write/read endurance of non-volatile memory
WO2011106056A1 (en) * 2010-02-23 2011-09-01 Rambus Inc. Methods and circuits for dynamically scaling dram power and performance

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