JP2000057778A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2000057778A
JP2000057778A JP10231229A JP23122998A JP2000057778A JP 2000057778 A JP2000057778 A JP 2000057778A JP 10231229 A JP10231229 A JP 10231229A JP 23122998 A JP23122998 A JP 23122998A JP 2000057778 A JP2000057778 A JP 2000057778A
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JP
Japan
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pair
circuit
transistors
current
transistor
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JP10231229A
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Japanese (ja)
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Shintaro Shibata
信太郎 柴田
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a semiconductor memory in which a current sense circuit can start a readout operation without being affected by the completion timing of the recovery operation, of a bit line, which follows a write operation. SOLUTION: A flip-flop circuit which is composed of transistors Q1, Q2, Q3, Q4 and a pair of transistors Q5, Q6 for cell selection constitute a memory cell 1. The transistors Q5, Q6 are connected to a bit line BL and a bit line *BL which are connected to a write circuit. The source of the transistor Q1 and the source of the transistor Q2 are connected to a pseudo grounding conductor Vgnd and a pseudo grounding conductor *Vgnd which are connected to a current sense circuit 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電流センス回路を用
いた半導体メモリに係り、特に高速な読み出しを可能と
した半導体メモリに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory using a current sensing circuit, and more particularly to a semiconductor memory capable of high-speed reading.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体MOSメモリに使用される電流セ
ンス回路は、電流を入力信号とする信号検出回路であ
り、出力は電圧信号である。この電流センス回路は、入
力信号の電圧振幅を極限(理想的には零)まで抑えるこ
とが可能であるので、寄生容量が大きくその遅延時間が
問題となるような伝送線路上の信号を高速に検出する場
合に有効である。このような電流センス回路は、SRA
Mでは、メモリセルからデータを読み出す際に、ビット
線上の読み出し信号を検出する目的で用いられている
(参考文献:N.Shibata,"Current sense amplifiers fo
r low-voltage memories," IEICE Trans.Electron.,vo
l.E79-C,no.8,pp.1120-1130,Aug.1996.)。
2. Description of the Related Art A current sensing circuit used in a semiconductor MOS memory is a signal detection circuit using a current as an input signal, and an output is a voltage signal. Since this current sensing circuit can suppress the voltage amplitude of the input signal to the limit (ideally, zero), the signal on the transmission line, which has a large parasitic capacitance and causes a delay time, can be used at high speed. It is effective when detecting. Such a current sense circuit is provided by the SRA
M is used to detect a read signal on a bit line when reading data from a memory cell (reference: N. Shibata, "Current sense amplifiers fo
r low-voltage memories, "IEICE Trans.Electron., vo
l.E79-C, no.8, pp.1120-1130, Aug. 1996.).

【0003】以下、従来の技術として図5を参照しなが
らその問題点を説明する。メモリセル1’はフリップフ
ロップ回路を構成する一対の負荷用PchMOSトランジ
スタQ3,Q4と一対の駆動用NchMOSトランジスタ
Q1’,Q2’に、セル選択用NchMOSトランジスタ
Q5,Q6を組み合わせて構成されている。フリップフ
ロップ回路の一対の回路節点T1,T2は何れか一方が
HIGHレベル、他方がLOWレベルとなり、その状態の違い
によってメモリセル1’は1ビットのデータを記憶す
る。WLはメモリセル1’の選択信号を伝送するワード
線であり、選択時にはHIGHレベル、非選択時にはLOWレ
ベルに制御される。BLと*BLは対となるビット線(*
は反転を表す。以下の説明でも同様である。)であり、
入出力データを差動信号の形でメモリセル1’まで伝送
する。なお、ビット線には多数のメモリセルが接続され
るが、同図では代表してひとつだけを図示している。
Hereinafter, the problem will be described with reference to FIG. 5 as a conventional technique. The memory cell 1 'is configured by combining a pair of load PchMOS transistors Q3, Q4 and a pair of drive NchMOS transistors Q1', Q2 'forming a flip-flop circuit with cell selection NchMOS transistors Q5, Q6. One of the pair of circuit nodes T1 and T2 of the flip-flop circuit is
The memory cell 1 'stores 1-bit data depending on the difference between the high level and the low level. WL is a word line for transmitting a selection signal of the memory cell 1 ', and is controlled to a high level when selected and to a low level when not selected. BL and * BL are paired bit lines (*
Represents inversion. The same applies to the following description. )
The input / output data is transmitted to the memory cell 1 'in the form of a differential signal. Although a large number of memory cells are connected to the bit line, only one is shown in FIG.

【0004】Q11’、Q12’はPchMOSトランジ
スタ、R1’、R2’は負荷抵抗であり、これら4個の
素子で電流センス回路2’が構成されている。T3,T
4は電流センス回路2’の入力節点であり、従来の構成
では一対のビット線BL,*BLに接続されている。
[0004] Q11 'and Q12' are Pch MOS transistors, R1 'and R2' are load resistors, and these four elements constitute a current sense circuit 2 '. T3, T
Reference numeral 4 denotes an input node of the current sense circuit 2 ', which is connected to a pair of bit lines BL and * BL in the conventional configuration.

【0005】Q9,Q10はNchMOSトランジスタで
あり、書き込み回路の出力段を構成しており、メモリセ
ル1’にデータを書き込む際に入力データに応じて一方
のビット線BLもしくは*BLを接地(GND)レベル
近傍まで低下させる為に用いられる。Q7,Q8はビッ
ト線プルアップ用のPchMOSトランジスタであり、メ
モリセル1’からデータを読み出す際には定電流源とし
て機能し、また書き込みサイクルではデータをメモリセ
ル1’に書き込んだ後、ビット線を電源電圧VDD近傍
の初期レベルまで戻す為のリカバリトランジスタとして
機能する。CB1,CB2はビット線BL,*BLの寄
生容量である。
Q9 and Q10 are Nch MOS transistors which constitute an output stage of a write circuit. When writing data to the memory cell 1 ', one of the bit lines BL or * BL is grounded (GND) according to the input data. ) Used to lower to near level. Q7 and Q8 are P-channel MOS transistors for pulling up a bit line, function as a constant current source when reading data from the memory cell 1 ', and write data to the memory cell 1' in a write cycle, Function as a recovery transistor for returning the power supply voltage to an initial level near the power supply voltage VDD. CB1 and CB2 are parasitic capacitances of the bit lines BL and * BL.

【0006】さて、接点T1がHIGHレベル、接点T2が
LOWレベルになるように、メモリセル1’にデータが記
憶されているとして、メモリセル1’からの読み出し動
作を以下に説明する。制御信号φ1,φ2は共にLOWレ
ベルに制御されるので、トランジスタQ9,Q10は非
導通状態、トランジスタQ7,Q8は導通状態であり、
このトランジスタQ7,Q8は電流値が等しい定電流源
として機能する。
The contact T1 is at a high level and the contact T2 is
Assuming that data is stored in the memory cell 1 'so as to be at the LOW level, a read operation from the memory cell 1' will be described below. Since both control signals φ1 and φ2 are controlled to LOW level, transistors Q9 and Q10 are off, transistors Q7 and Q8 are on,
The transistors Q7 and Q8 function as constant current sources having the same current value.

【0007】ここで、メモリセル1’からデータを読み
出す為にワード線WLをHIGHレベルに制御すると、トラ
ンジスタQ6は導通状態になり、ビット線*BLからメ
モリセル1’に電流Icellが流れ込む。この時、節点T
4から電流センス回路2’に流れ込む電流をI2、節点
T3から電流センス回路2’に流れ込む電流をIとす
ると、このときのトランジスタQ7とQ8を流れる電流
は等しいので、上記の電流の間には、 I1=I2+Icell (1) の関係が成り立つ。
Here, when the word line WL is controlled to a high level in order to read data from the memory cell 1 ', the transistor Q6 is turned on, and a current I cell flows from the bit line * BL into the memory cell 1'. At this time, the node T
'Current into I 2, the current sense circuit 2 from the node T3' current sense circuit 2-4 and the current flowing into the I 1, the current flowing through the transistors Q7 and Q8 in this case is equal, during the current Has a relationship of I 1 = I 2 + I cell (1).

【0008】簡単の為に、一般性を失うことなく、トラ
ンジスタQ11’,Q12’、抵抗R1’,R2’はそ
れぞれ電気的特性が揃っているとする。抵抗R1’,R
2’を流れる電流量の違いから、出力節点Toutは、も
う一つの出力節点*Toutより相対的にHIGHレベルとな
る。これらの出力節点Tout、*Toutには、電流センス
回路2’に流れ込む信号電流Icellと負荷抵抗R1’、
R2’が大きいほど、大きな差動信号電圧を得られる
が、その出力節点がラッチ状態(差動入力が逆の状態に
なっても出力が追従しないこと)に陥ることがあるの
で、出力信号量の大きさには限界がある。
For simplicity, it is assumed that the transistors Q11 'and Q12' and the resistors R1 'and R2' have the same electrical characteristics without loss of generality. Resistance R1 ', R
Due to the difference in the amount of current flowing through 2 ', the output node Tout is at a higher level than the other output node * Tout. At these output nodes Tout and * Tout, the signal current I cell flowing into the current sense circuit 2 'and the load resistance R1',
As R2 'is larger, a larger differential signal voltage can be obtained, but the output node may fall into a latch state (the output does not follow even if the differential input is reversed). There is a limit to the size of.

【0009】これらの出力節点Tout、*Toutに得られ
る信号電圧が次段の論理ゲートを直接駆動するのに不十
分な場合は、これらの信号を例えばカレントミラー形セ
ンス回路のような第2のセンス回路に入力して、その振
幅をさらに増幅させることが行われる。
If the signal voltages available at these output nodes Tout, * Tout are not sufficient to directly drive the next logic gate, these signals are applied to a second, such as a current mirror type sense circuit. The amplitude is input to a sense circuit to further amplify the amplitude.

【0010】なお、(1)式が示すように、トランジス
タQ7,Q8を流れる電流が等しいので、対となるビッ
ト線BL,*BLの差動信号電圧は零である。これは別
のメモリセルが選択されて読み出しデータが変っても、
大きなビット線の寄生容量CB1,CB2に対して電荷
の充放電が起きないことを意味しており、電流センス回
路2’を用いることで極めて高速にデータを読み出せ
る。
As shown by the equation (1), since the currents flowing through the transistors Q7 and Q8 are equal, the differential signal voltage of the paired bit lines BL and * BL is zero. This means that even if another memory cell is selected and the read data changes,
This means that charge and discharge do not occur in the large bit line parasitic capacitances CB1 and CB2, and data can be read very quickly by using the current sense circuit 2 '.

【0011】一方、メモリセル1’へのデータの書き込
みは、以下の通りである。初期状態として、メモリセル
1’には接点T1がHIGHレベル、接点T2がLOWレベル
になるようにデータが記憶されているものとして、これ
と逆のデータを書き込む場合について説明する。初期状
態では、制御信号φ1,φ2は共にLOWレベルであり、
ペアビット線BL,*BLは電源電圧VDD近傍の高い
レベルに設定されている。
On the other hand, data writing to the memory cell 1 'is as follows. As an initial state, it is assumed that data is stored in the memory cell 1 'so that the contact T1 is at a high level and the contact T2 is at a low level, and a case where data opposite to this is written will be described. In the initial state, the control signals φ1 and φ2 are both at the LOW level,
The pair bit lines BL and * BL are set to a high level near the power supply voltage VDD.

【0012】ここで、ワード線WLをHIGHレベルに制御
した後、制御信号φ1をHIGHレベルに制御すると、トラ
ンジスタQ7は非導通状態、トランジスタQ9は導通状
態になり、ビット線BLのレベルは低下する。このた
め、トランジスタQ5のゲートとソース(ビット線BL
側の節点)間には十分大きな電圧が印加されることにな
り、そのトランジスタQ5は導通状態になる。その結
果、接点T1のレベルが低下して、トランジスタQ
2’、Q4で構成されるインバータの論理閾値電圧を下
回ると、フリップフロップ回路の状態は反転し、接点T
1がLOWレベル、接点T2がHIGHレベルになって、メモ
リセル1’は更新データを保持可能になる。このように
してメモリセル1’にデータを書き込んだ後は、制御信
号φ1を再びLOWレベルに戻すことにより、トランジス
タQ7を導通状態、トランジスタQ9を非導通状態に制
御する。
Here, when the control signal φ1 is controlled to a high level after controlling the word line WL to a high level, the transistor Q7 is turned off, the transistor Q9 is turned on, and the level of the bit line BL is lowered. . Therefore, the gate and source of the transistor Q5 (bit line BL
A sufficiently large voltage is applied between the nodes (side nodes), and the transistor Q5 is turned on. As a result, the level of the contact T1 decreases and the transistor Q
When the voltage falls below the logical threshold voltage of the inverter composed of 2 'and Q4, the state of the flip-flop circuit is inverted and the contact T
1 becomes LOW level and the contact T2 becomes HIGH level, and the memory cell 1 'can hold updated data. After the data is written in the memory cell 1 'in this manner, the control signal φ1 is returned to the LOW level again to control the transistor Q7 to be conductive and the transistor Q9 to be non-conductive.

【0013】この結果、ビット線BLのレベルは、トラ
ンジスタQ7を介して電源VDDから供給される電荷に
よって初期のレベルまで回復する。ワード線WLを非活
性状態(LOWレベル)にするタイミングについては、デ
ータの書き込みが終了した後であれば特に制約はない。
As a result, the level of the bit line BL is restored to the initial level by the electric charge supplied from the power supply VDD via the transistor Q7. There is no particular limitation on the timing of setting the word line WL to the inactive state (LOW level) after the data writing is completed.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】ところで、電流センス
回路2’を用いた従来の読み出し回路は、読み出し時に
定電流源として機能するビット線プルアップ用のトラン
ジスタQ7,Q8を用いて、書き込み後のビット線のリ
カバリ動作を行っていた。このトランジスタQ7,Q8
の特性を理想定電流源に近づけるにはその導通抵抗を十
分高く設定する必要があり、反面、リカバリ動作を高速
化するにはそのトランジスタQ7,Q8の導通抵抗を低
く設定する必用があるが、通常では、メモリセル1’の
記憶内容に応じて電流センス回路2’に入力される電流
の変化が大きくなるように、そのトランジスタQ7,Q
8の導通抵抗が高めに設定されるので、結果的にリカバ
リ時間が長くなる。
The conventional read circuit using the current sense circuit 2 'uses a bit line pull-up transistor Q7 or Q8 which functions as a constant current source at the time of reading, and uses the bit line pull-up transistors Q7 and Q8 to perform the write operation. The recovery operation of the bit line was performed. These transistors Q7, Q8
It is necessary to set the conduction resistance of the transistors Q7 and Q8 low in order to make the characteristics close to the ideal constant current source. On the other hand, to speed up the recovery operation, the conduction resistance of the transistors Q7 and Q8 must be set low. Normally, the transistors Q7 and Q7 are set so that the change in the current input to the current sense circuit 2 'increases in accordance with the contents stored in the memory cell 1'.
Since the conduction resistance of No. 8 is set higher, the recovery time becomes longer as a result.

【0015】半導体メモリの性能を表わす項目のひとつ
に最小サイクル時間がある。電流センス回路2’を用い
た従来の構成では、上記のように、書き込み動作に続く
リカバリ動作が遅い為に、書き込みサイクル時間が読み
出しサイクル時間より長くなる(最小書き込みサイクル
時間は、データ書き込み時間とリカバリ時間の和で与え
られる)ので、これを少しでも短縮するために、書き込
み動作に続くビット線のリカバリ動作の完了を待たずし
て、すなわち誤書き込みが発生しない程度にペアビット
間の電位差がある程度小さくなった状態で、選択メモリ
セルを切り替えて、新たに読み出し動作を開始すること
も可能である。
One of the items representing the performance of a semiconductor memory is a minimum cycle time. In the conventional configuration using the current sense circuit 2 ', the write cycle time is longer than the read cycle time because the recovery operation following the write operation is slow as described above (the minimum write cycle time is equal to the data write time. Therefore, in order to shorten this even slightly, the potential difference between the paired bits must be reduced to some extent without waiting for the completion of the recovery operation of the bit line following the write operation, that is, to the extent that erroneous write does not occur. It is also possible to switch the selected memory cell and start a new read operation in the state where the size is reduced.

【0016】しかし、この手法では、リカバリ動作の不
足時間分だけ電流センス回路の動作の開始が遅れ、アク
セス時間が増大するので最小サイクル時間は短くならな
い。これは、どんなに高速な電流センス回路を用いて
も、ビット線に信号が現れない限り、これを検出できな
い為である。
However, in this method, the start of the operation of the current sense circuit is delayed by the shortage of the recovery operation, and the access time increases, so that the minimum cycle time is not shortened. This is because no matter how fast the current sensing circuit is used, it cannot be detected unless a signal appears on the bit line.

【0017】以上述べたように、電流センス回路を用い
た従来の読み出し回路は、読み出し動作は高速で行うこ
とができるが、データを書き込んだ後のリカバリ時間を
長く必要とするので、最小サイクル時間を短縮できない
という問題があった。
As described above, the conventional read circuit using the current sense circuit can perform a read operation at a high speed, but requires a long recovery time after data is written. There was a problem that can not be shortened.

【0018】本発明は以上のような点に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、リカバリ動作の完了タイミン
グに影響されず高速な読み出しが可能となった半導体メ
モリを提供することである。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory capable of high-speed reading without being affected by the completion timing of a recovery operation.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の第1の発明は、一対の負荷用MOSトランジスタおよ
び一対の駆動用MOSトランジスタからなるフリップフ
ロップ回路と、該フリップフロップ回路に接続した一対
のセル選択用MOSトランジスタを備えたメモリセルを
もつ半導体メモリにおいて、前記一対のセル選択用MO
Sトランジスタの前記フリップフロップ回路に接続され
る側と反対側のドレイン又はソースに一対のビット線を
接続し、前記一対の駆動用MOSトランジスタのソース
に一対の疑似接地線を接続し、前記一対のビット線には
書き込み回路を接続し、前記一対の疑似接地線には電流
センス回路を接続して構成した。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a flip-flop circuit comprising a pair of load MOS transistors and a pair of drive MOS transistors, and a pair of flip-flop circuits connected to the flip-flop circuit. In a semiconductor memory having memory cells provided with the cell selecting MOS transistors of
A pair of bit lines are connected to a drain or a source of the S transistor opposite to a side connected to the flip-flop circuit, a pair of pseudo ground lines are connected to sources of the pair of driving MOS transistors, and A write circuit is connected to the bit line, and a current sense circuit is connected to the pair of pseudo ground lines.

【0020】第2の発明は、第1の発明において、前記
電流センス回路が、ゲートとドレインを交差接続した一
対の入力用MOSトランジスタと、該各入力用MOSト
ランジスタの負荷抵抗と、前記負荷抵抗および前記入力
用MOSトランジスタに直列接続され且つゲートとドレ
インが交差接続され前記入力用MOSトランジスタと同
じ導電型の一対の負荷用トランジスタとを具備するよう
構成した。
In a second aspect based on the first aspect, the current sensing circuit comprises: a pair of input MOS transistors having a gate and a drain cross-connected; a load resistance of each of the input MOS transistors; And a pair of load transistors which are connected in series to the input MOS transistor and have a gate and a drain cross-connected and have the same conductivity type as the input MOS transistor.

【0021】第3の発明は、第1又は第2の発明におい
て、前記一対の疑似接地線の一方に第1の抵抗の一端を
接続し、他方に第2の抵抗の一端を接続し、上記第1の
抵抗の他端と上記第2の抵抗の他端を第3の抵抗を介し
て接地して構成した。
According to a third aspect, in the first or second aspect, one end of the first resistor is connected to one of the pair of pseudo ground lines, and one end of the second resistor is connected to the other. The other end of the first resistor and the other end of the second resistor are grounded via a third resistor.

【0022】第4の発明は、第1乃至第3の発明におい
て、前記電流センス回路が、電流をカットオフする為の
スイッチ手段を有するよう構成した。
According to a fourth aspect, in the first to third aspects, the current sense circuit has a switch for cutting off a current.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】[第1の実施の形態]図1は本発
明の第1の実施の形態の半導体メモリを示す回路図であ
る。メモリセル1はフリップフロップ回路を構成する一
対の負荷用PchMOSトランジスタQ3,Q4と一対の
駆動用NchMOSトランジスタQ1、Q2に、セル選択
用NchMOSトランジスタQ5,Q6を組み合わせて構
成する。フリップフロップ回路の一対の回路節点T1,
T2は何れか一方がHIGHレベル、他方がLOWレベルとな
り、その状態の違いによってメモリセル1は1ビットの
データを記憶する。WLはメモリセル1の選択信号を伝
送するワード線であり、選択時にはHIGHレベル、非選択
時にはLOWレベルに制御される。BL,*BLは対となる
ビット線であり、入力データを差動信号の形でメモリセ
ル1まで伝送する。
[First Embodiment] FIG. 1 is a circuit diagram showing a semiconductor memory according to a first embodiment of the present invention. The memory cell 1 is configured by combining a pair of load PchMOS transistors Q3 and Q4 and a pair of drive NchMOS transistors Q1 and Q2 forming a flip-flop circuit with cell selection NchMOS transistors Q5 and Q6. A pair of circuit nodes T1,
In T2, one of them becomes HIGH level and the other becomes LOW level, and the memory cell 1 stores 1-bit data depending on the state. WL is a word line for transmitting a selection signal of the memory cell 1, and is controlled to a high level when selected and to a low level when not selected. BL and * BL are paired bit lines that transmit input data to the memory cell 1 in the form of a differential signal.

【0024】図5に示した従来回路とは、一対の駆動用
NchMOSトランジスタQ1,Q2のソースが、ビット
線BL,*BLに並走する一対の疑似接地線Vgnd,*Vg
ndに接続されていることが異なる。なお、ビット線B
L,*BLと疑似接地線Vgnd,*Vgndには多数のメモリ
セルが接続されるが、同図では代表してひとつだけを図
示している。
5 differs from the conventional circuit shown in FIG. 5 in that the sources of a pair of driving NchMOS transistors Q1 and Q2 have a pair of pseudo ground lines Vgnd and * Vg running in parallel to bit lines BL and * BL.
Differently connected to nd. Note that bit line B
Many memory cells are connected to L and * BL and the pseudo ground lines Vgnd and * Vgnd, but only one is shown in FIG.

【0025】Q11,Q12は入力用のNchMOSトラ
ンジスタ、R1,R2は負荷抵抗であり、これら4個の
素子で電流センス回路2が構成されている。T3,T4
は電流センス回路2の入力節点であり、図5に示した電
流センス回路2’とはこの入力節点T3,T4を一対の
ビット線BL,*BLから分離して、一対の疑似接地線
Vgnd,*Vgndに接続していること、この疑似接地線Vg
nd,*Vgndを一対の定電流源用抵抗R3,R4を介して
接地に接続していることが異なる。
Q11 and Q12 are input NchMOS transistors, R1 and R2 are load resistors, and the current sensing circuit 2 is constituted by these four elements. T3, T4
Is an input node of the current sense circuit 2, and is different from the current sense circuit 2 'shown in FIG. 5 in that the input nodes T3 and T4 are separated from a pair of bit lines BL and * BL to form a pair of pseudo ground lines Vgnd and Vgnd. * Being connected to Vgnd, this pseudo ground line Vg
The difference is that nd and * Vgnd are connected to ground via a pair of constant current source resistors R3 and R4.

【0026】Q9,Q10はNchMOSトランジスタで
あり、これらは書き込み回路の出力段を構成しており、
メモリセル1にデータを書き込む際に入力データに応じ
て一方のビット線(BLもしくは*BL)を接地レベル
近傍まで低下させる為に用いる。Q7,Q8はビット線
プルアップ用のPchMOSトランジスタであり、書き込
みサイクルにおいて、データをメモリセル1に書き込ん
だ後、ビット線BL,*BLを電源電圧VDD近傍の初
期レベルまで戻す為のリカバリトランジスタとして機能
する。CB1,CB2はビット線の寄生容量、CG1,
CG2は疑似接地線Vgnd,*Vgndの寄生容量である。
Q9 and Q10 are Nch MOS transistors, which constitute an output stage of the write circuit.
It is used to lower one bit line (BL or * BL) to near the ground level in accordance with input data when writing data to the memory cell 1. Q7 and Q8 are PchMOS transistors for pulling up bit lines, and are recovery transistors for returning bit lines BL and * BL to an initial level near power supply voltage VDD after writing data to memory cell 1 in a write cycle. Function. CB1 and CB2 are the parasitic capacitance of the bit line, CG1,
CG2 is a parasitic capacitance of the pseudo ground lines Vgnd and * Vgnd.

【0027】さて、接点T1がHIGHレベル、接点T2が
LOWレベルになるように、メモリセル1にデータが記憶
されているとして、このメモリセル1からの読み出し動
作を以下に説明する。制御信号φ1,φ2は共にLOWレ
ベルに制御されるので、トランジスタQ9,Q10は非
導通状態、トランジスタQ7,Q8は導通状態である。
The contact T1 is at a high level and the contact T2 is at a high level.
Assuming that data is stored in the memory cell 1 so as to be at the LOW level, a read operation from the memory cell 1 will be described below. Since both control signals φ1 and φ2 are controlled to the LOW level, transistors Q9 and Q10 are off, and transistors Q7 and Q8 are on.

【0028】ここで、メモリセル1からデータを読み出
す為にワード線WLをHIGHレベルに制御すると、トラン
ジスタQ6は導通状態になり、ビット線*BLからメモ
リセル1に電流Icellが流れ込み、この電流は疑似接地
線Vgndへ流れ出す。このとき、電流センス回路2から
節点T4に流れ出す電流をI2、電流センス回路2から
節点T3に流れ出す電流をIlとすると、抵抗R3,R
4を流れる電流が等しいので、上記の電流の間には、 I1=I2+Icell (2) の関係が成り立つ。
Here, when the word line WL is controlled to a high level in order to read data from the memory cell 1, the transistor Q6 becomes conductive, and a current I cell flows into the memory cell 1 from the bit line * BL. Flows out to the pseudo ground line Vgnd. At this time, if the current flowing from the current sensing circuit 2 to the node T4 is I 2 , and the current flowing from the current sensing circuit 2 to the node T3 is I l , the resistors R3, R
Since the currents flowing through the currents 4 are equal, the relationship of I 1 = I 2 + I cell (2) holds between the above-mentioned currents.

【0029】簡単の為に、一般性を失うことなく、抵抗
R3,R4は抵抗値が十分大きく吸い込み電流の等しい
定電流源として理想的な特性を持っているとし、抵抗R
1,R2と、トランジスタQ11,Q12は各々電気的
特性が揃っているとする。抵抗R1,R2を流れる電流
量の違いから、出力節点*Toutは、もう一つの出力節点
Toutより相対的にLOWレベルになる。出力節点Tout、*
Toutには、電流センス回路2に流れ込む信号電流I
cellと負荷抵抗R1,R2が大きいほど大きな差動信号
電圧を得られるが、その出力節点がラッチ状態(差動入
力が逆の状態になっても出力が追従しないこと)に陥る
ことがあるので出力信号量の大きさには限界がある。
For the sake of simplicity, it is assumed that the resistors R3 and R4 have ideal characteristics as constant current sources having sufficiently large resistance values and equal sink currents without loss of generality.
1 and R2 and the transistors Q11 and Q12 have the same electrical characteristics. Due to the difference in the amount of current flowing through the resistors R1 and R2, the output node * Tout is relatively at a LOW level from the other output node Tout. Output node Tout, *
Tout has a signal current I flowing into the current sense circuit 2.
A larger differential signal voltage can be obtained as the cell and the load resistances R1 and R2 are larger, but the output node may fall into a latch state (the output does not follow even if the differential input is reversed). There is a limit to the magnitude of the output signal amount.

【0030】この出力接点Tout、*Toutに得られる信
号電圧が次段の論理ゲートを直接駆動するのに不十分な
場合は、これらの信号を例えばカレントミラー形センス
回路のような第2のセンス回路に入力して、その振幅を
さらに増幅させる。
If the signal voltage obtained at the output contacts Tout, * Tout is insufficient to directly drive the next logic gate, these signals are supplied to a second sense circuit such as a current mirror type sense circuit. The signal is input to a circuit to further amplify the amplitude.

【0031】(2)式が示すように、抵抗R3,R4を
流れる電流が等しいので、対となる疑似接地線BL,*
BLの差動信号電圧は零であり、これらの疑似接地線は
仮想的にショートされている。それ故、疑似接地線の導
入は、メモリセル1のスタティックノイズマージンを低
下させることはない。
As shown by the equation (2), since the currents flowing through the resistors R3 and R4 are equal, the pair of pseudo ground lines BL and *
The differential signal voltage of BL is zero, and these pseudo ground lines are virtually short-circuited. Therefore, the introduction of the pseudo ground line does not lower the static noise margin of the memory cell 1.

【0032】一方、メモリセル1へのデータの書き込み
は、以下の通りである。初期状態として、メモリセル1
には接点T1がHIGHレベル、接点T2がLOWレベルにな
るようにデータが記憶されているものとして、これと逆
のデータを書き込む場合について説明する。
On the other hand, data writing to the memory cell 1 is as follows. As an initial state, the memory cell 1
It is assumed that data is stored such that the contact T1 is at a high level and the contact T2 is at a low level, and a case where data opposite to this is written will be described.

【0033】初期状態では、制御信号φ1,φ2は共に
LOWレベルであり、ペアビット線BL,*BLは電源電圧
VDD近傍の高いレベルに設定されている。ここで、ワ
ード線WLをHIGHレベルに制御した後、制御信号φ1を
HIGHレベルに制御すると、トランジスタQ7は非導通状
態、トランジスタQ9は導通状態になり、ビット線BL
のレベルは低下する。このため、トランジスタQ5のゲ
ートとソース(ビット線BL側の節点)間には十分大き
な電圧が印加されることになり、そのトランジスタQ5
は導通状態になる。その結果、接点T1のレベルが低下
して、トランジスタQ2,Q4で構成されるインバータ
の論理閾値電圧を下回ると、フリップフロップ回路の状
態は反転し、接点T1がLOWレベル、接点T2がHIGHレ
ベルになって、メモリセル1は更新データを保持可能に
なる。
In the initial state, the control signals φ1 and φ2 are both
It is at the LOW level, and the pair bit lines BL and * BL are set to a high level near the power supply voltage VDD. Here, after controlling the word line WL to a high level, the control signal φ1 is
When controlled to HIGH level, transistor Q7 is turned off, transistor Q9 is turned on, and bit line BL
Levels decrease. Therefore, a sufficiently large voltage is applied between the gate and the source (node on the bit line BL side) of the transistor Q5, and the transistor Q5
Becomes conductive. As a result, when the level of the contact T1 decreases and falls below the logical threshold voltage of the inverter constituted by the transistors Q2 and Q4, the state of the flip-flop circuit is inverted, and the contact T1 changes to the low level and the contact T2 changes to the high level. As a result, the memory cell 1 can hold the updated data.

【0034】このようにしてメモリセル1にデータを書
き込んだ後は、制御信号φ1を再びLOWレベルに戻し
て、トランジスタQ7を導通状態、トランジスタQ9を
非導通状態に制御すると、ビット線BLのレベルは、ト
ランジスタQ7を介して電源VDDから供給される電荷
によって初期のレベルまで回復する。ワード線WLを非
活性状態(LOWレベル)にするタイミングについては、
従来技術同様データの書き込みが終了した後であれば特
に制約はない。
After the data is thus written into the memory cell 1, the control signal φ1 is returned to the low level again to control the transistor Q7 to the conductive state and the transistor Q9 to the non-conductive state. Is restored to the initial level by the electric charge supplied from the power supply VDD via the transistor Q7. Regarding the timing of making the word line WL inactive (low level),
There is no particular limitation as long as the data writing is completed as in the prior art.

【0035】このワード線WLを非活性状態に制御する
時点において、ビット線BLが初期のレベルに完全に回
復していない場合は、トランジスタQ7を介して電源V
DDより電荷が供給され、ビット線BLのリカバリ動作
が続く。しかし、ワード線WLを非活性状態に制御する
ことで、ビット線BLから疑似接地線*Vgndへの電流経
路とビット線*BLから疑似接地線Vgndへの電流経路は
共に完全に遮断されるので、書き込み動作に続いて別の
メモリセルが選択され、反対のデータを読み出す動作が
始まっても、ビット線BL、*BLの充電電流が後続の
読み出し動作に影響を与えることはない。すなわち、書
き込み動作に続くビット線のリカバリ動作の完了タイミ
ングに影響されることなく、電流センス回路が次の読み
出し動作を開始できる。
When the bit line BL is not completely restored to the initial level when the word line WL is controlled to the inactive state, the power supply V is supplied via the transistor Q7.
Charge is supplied from DD, and the recovery operation of the bit line BL continues. However, by controlling the word line WL to the inactive state, both the current path from the bit line BL to the pseudo ground line * Vgnd and the current path from the bit line * BL to the pseudo ground line Vgnd are completely cut off. Even if another memory cell is selected following the write operation and the operation of reading the opposite data starts, the charging current of the bit lines BL and * BL does not affect the subsequent read operation. That is, the current sense circuit can start the next read operation without being affected by the completion timing of the bit line recovery operation following the write operation.

【0036】[第2の実施の形態]本発明の第2の実施
の形態の半導体メモリを図2に示す。第1の実施の形態
とは、図1の電流センス回路2に対して、ゲートとドレ
インを交差接続した一対のNchMOSトランジスタQ1
3,Q14を負荷の一部として付け加えた電流センス回
路2Aが異なる。
[Second Embodiment] FIG. 2 shows a semiconductor memory according to a second embodiment of the present invention. The first embodiment is different from the first embodiment in that a pair of NchMOS transistors Q1 having a gate and a drain cross-connected to the current sense circuit 2 in FIG.
3 is different from the current sense circuit 2A in which Q14 is added as a part of the load.

【0037】これらのMOSトランジスタQ13,Q1
4は、その導通抵抗が抵抗R1,R2を流れる電流によ
って変化する。例えば、電流Ilが増加し、電流I2が減
少すると、トランジスタQ13は印加されるゲート・ソ
ース間電圧が増大するので導通抵抗が低下し、トランジ
スタQ14はゲート・ソース間電圧が減少する為に導通
抵抗が増大する。すなわち、トランジスタQ13,Q1
4は抵抗R1,R2を直列抵抗とする可変インビーダン
ス負荷として機能する。結果的に、トランジスタQ1
3,Q14は出力節点Tout,*Toutの振幅を抑えるの
で、電流センス回路2Aに流れる電流値(I1とI2)が
大きく変化しても出力節点Tout,*Toutがラッチ状態
に陥ることは少なく高速動作する。
These MOS transistors Q13, Q1
Reference numeral 4 indicates that the conduction resistance changes depending on the current flowing through the resistors R1 and R2. For example, when the current I l increases and the current I 2 decreases, the transistor Q13 increases the applied gate-source voltage, so that the conduction resistance decreases, and the transistor Q14 decreases the gate-source voltage. The conduction resistance increases. That is, the transistors Q13 and Q1
Reference numeral 4 functions as a variable impedance load using the resistors R1 and R2 in series. As a result, the transistor Q1
3, Q14 is the output node Tout, since suppressing the amplitude of * Tout, the current value of the current flowing through the sense circuit 2A (I 1 and I 2) is greater changes output node Tout, * Tout that fall into the latch state It operates with little speed.

【0038】[第3の実施の形態]本発明の第3の実施
の形態の半導体メモリを図3に示す。第1の実施の形態
とは、抵抗R3,R4の接地側に共通抵抗R5を付加し
たことが異なる。
[Third Embodiment] FIG. 3 shows a semiconductor memory according to a third embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment is that a common resistor R5 is added to the ground side of the resistors R3 and R4.

【0039】この抵抗R5は、抵抗R3,R4を流れる
電流に対して共通インビーダンスとして働くので、雑音
の影響により疑似接地線Vgnd,*Vgnd間の仮想ショー
ト関係が損なわれた際に、その電位差を抑えることでメ
モリセル1の記憶内容の破壊を防止する効果がある。
Since the resistor R5 acts as a common impedance to the current flowing through the resistors R3 and R4, when the virtual short-circuit relationship between the pseudo ground lines Vgnd and * Vgnd is impaired due to the influence of noise, the resistance R5 is set to Suppressing the potential difference has the effect of preventing the storage contents of the memory cell 1 from being destroyed.

【0040】[第4の実施の形態]本発明の第4の実施
の形態の半導体メモリを図4に示す。第1の実施の形態
とは、図1の電流センス回路2に対して、その電流経路
をカットオフする為のPchMOSトランジスタQ15,
Q16を付加して構成した電流センス回路2Bが異な
る。
[Fourth Embodiment] FIG. 4 shows a semiconductor memory according to a fourth embodiment of the present invention. The first embodiment is different from the first embodiment in that a PchMOS transistor Q15 for cutting off a current path of the current sense circuit 2 in FIG.
The current sensing circuit 2B configured by adding Q16 is different.

【0041】スタンバイ時やデータの書き込み時等、電
流センス回路を動作させる必要のない時は、制御信号φ
3をHIGHレベルに制御することでトランジスタQ15,
Q16を非導通にして、この電流センス回路2Bの消費
電力を零化できる。
When there is no need to operate the current sense circuit, such as during standby or data writing, the control signal φ
By controlling 3 to a high level, transistor Q15,
By turning off Q16, the power consumption of the current sensing circuit 2B can be reduced to zero.

【0042】なお、R1とQ15、R2とQ16の位置
関係はそれぞれ入れ替えることができる。また、PchM
OSトランジスタの代わりに、NchMOSトランジスタ
を電流経路カットオフ用に用いることも可能である。こ
の場合は、そのNchMOSトランジスタをT3とQ11
との間、T4とQ12の間に各々接続することになる
が、同等の消費電力低減効果がある。
The positional relationship between R1 and Q15 and between R2 and Q16 can be interchanged. Also, PchM
Instead of the OS transistor, an Nch MOS transistor can be used for current path cutoff. In this case, the NchMOS transistor is connected to T3 and Q11
, Each is connected between T4 and Q12, but has the same power consumption reduction effect.

【0043】[その他の実施の形態]その他、第2〜第
4の実施の形態を組み合わせた構成や、MOSトランジ
スタの導電形(PchおよびNch)と電源電圧VDDの正
負極性を入れ替えた構成はすべて実現可能であり、上記
の実施の形態と同等の効果を有する。
[Other Embodiments] Other configurations in which the second to fourth embodiments are combined, and configurations in which the conductivity types (Pch and Nch) of the MOS transistors are replaced with the positive and negative polarities of the power supply voltage VDD are all adopted. It is feasible and has the same effect as the above embodiment.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上のように、第1の発明によれば、書
き込み動作に続くビット線のリカバリ動作の完了タイミ
ングに影響されることなく、電流センス回路が読み出し
動作を開始できる利点がある。その為、最小サイクル時
間への要求が厳しい場合に、本発明の電流センス回路を
用いた半導体メモリを適用すれば、効果大である。
As described above, according to the first aspect, there is an advantage that the current sense circuit can start the read operation without being affected by the completion timing of the bit line recovery operation following the write operation. Therefore, when the demand for the minimum cycle time is strict, application of the semiconductor memory using the current sense circuit of the present invention is very effective.

【0045】また、第2の発明によれば、電流センス回
路に流れる差動電流の差が大きく変化しても出力接点が
ラッチ状態に陥ることなく高速動作する。
According to the second aspect of the present invention, even if the difference between the differential currents flowing through the current sensing circuit changes greatly, the output contact operates at high speed without falling into the latch state.

【0046】また、第3の発明によれば、疑似接地線間
の仮想ショート関係が崩れたときでも、その電位差が抑
えられ、メモリセルの記憶内容の破壊を防止できる。
According to the third aspect of the invention, even when the virtual short-circuit relationship between the pseudo ground lines is broken, the potential difference is suppressed, and the storage contents of the memory cells can be prevented from being destroyed.

【0047】さらに、第4の発明によれば、電流センス
回路をスタンバイ時やデータ書き込み時等のような動作
不要時に電流遮断でき、消費電力低減が可能となる。
Further, according to the fourth aspect of the invention, the current can be cut off when the current sensing circuit is not required to operate such as at the time of standby or at the time of data writing, and power consumption can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施の形態の半導体メモリの
回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の第2の実施の形態の半導体メモリの
回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a semiconductor memory according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の第3の実施の形態の半導体メモリの
回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a semiconductor memory according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の第4の実施の形態の半導体メモリの
回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a semiconductor memory according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 従来の半導体メモリの回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Q1,Q2,Q5,Q6,Q9,Q10,Q11,Q1
2,Q13,Q14,Q15,Q16,Q1’、Q
2’:NchMOSトランジスタ Q3,Q4,Q7,Q
8,Q11’,Q12':PcMOSトランジスタ CB1,CB2,CG1,CG2:寄生容量 VDD:電源電圧 φ1、φ2、φ3:制御信号 T1,T2,T3,T4,Tout,*Tout:回路節点 R1,R2,R3,R4,R5,R1',R2':抵抗 Icell,I1,I2:電流 WL:ワード線 BL、*BL:ビット線 Vgnd,*Vgnd:疑似接地線
Q1, Q2, Q5, Q6, Q9, Q10, Q11, Q1
2, Q13, Q14, Q15, Q16, Q1 ', Q
2 ': Nch MOS transistor Q3, Q4, Q7, Q
8, Q11 ′, Q12 ′: PcMOS transistors CB1, CB2, CG1, CG2: parasitic capacitance VDD: power supply voltage φ1, φ2, φ3: control signals T1, T2, T3, T4, Tout, * Tout: circuit nodes R1, R2 , R3, R4, R5, R1 ′, R2 ′: resistance I cell , I 1 , I 2 : current WL: word line BL, * BL: bit line Vgnd, * Vgnd: pseudo ground line

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一対の負荷用MOSトランジスタおよび一
対の駆動用MOSトランジスタからなるフリップフロッ
プ回路と、該フリップフロップ回路に接続した一対のセ
ル選択用MOSトランジスタを備えたメモリセルをもつ
半導体メモリにおいて、 前記一対のセル選択用MOSトランジスタの前記フリッ
プフロップ回路に接続される側と反対側のドレイン又は
ソースに一対のビット線を接続し、前記一対の駆動用M
OSトランジスタのソースに一対の疑似接地線を接続
し、前記一対のビット線には書き込み回路を接続し、前
記一対の疑似接地線には電流センス回路を接続したこと
を特徴とする半導体メモリ。
1. A semiconductor memory having a flip-flop circuit including a pair of load MOS transistors and a pair of driving MOS transistors, and a memory cell including a pair of cell selection MOS transistors connected to the flip-flop circuit. A pair of bit lines are connected to a drain or a source of the pair of cell selection MOS transistors on a side opposite to a side connected to the flip-flop circuit, and the pair of drive M
A semiconductor memory, wherein a pair of pseudo ground lines is connected to the source of the OS transistor, a write circuit is connected to the pair of bit lines, and a current sense circuit is connected to the pair of pseudo ground lines.
【請求項2】前記電流センス回路が、ゲートとドレイン
を交差接続した一対の入力用MOSトランジスタと、該
各入力用MOSトランジスタの負荷抵抗と、前記負荷抵
抗および前記入力用MOSトランジスタに直列接続され
且つゲートとドレインが交差接続され前記入力用MOS
トランジスタと同じ導電型の一対の負荷用トランジスタ
とを具備することを特徴とする請求項1記載の半導体メ
モリ。
2. A current sensing circuit comprising: a pair of input MOS transistors having a gate and a drain cross-connected; a load resistance of each of the input MOS transistors; and a series connection of the load resistance and the input MOS transistor. The gate and the drain are cross-connected and the input MOS
2. The semiconductor memory according to claim 1, comprising a pair of load transistors having the same conductivity type as the transistor.
【請求項3】前記一対の疑似接地線の一方に第1の抵抗
の一端を接続し、他方に第2の抵抗の一端を接続し、上
記第1の抵抗の他端と上記第2の抵抗の他端を第3の抵
抗を介して接地したことを特徴とする請求項1又は2記
載の半導体メモリ。
3. A pair of pseudo ground lines, one end of a first resistor is connected to one end, the other end of a second resistor is connected to the other, and the other end of the first resistor is connected to the second resistor. 3. The semiconductor memory according to claim 1, wherein the other end is grounded via a third resistor.
【請求項4】前記電流センス回路が、電流をカットオフ
する為のスイッチ手段を有することを特徴とする請求項
1乃至3記載の半導体メモリ。
4. The current sensing circuit according to claim 1, further comprising switch means for cutting off a current.
4. The semiconductor memory according to any one of 1 to 3.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005293751A (en) * 2004-04-01 2005-10-20 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Semiconductor memory

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JP2005293751A (en) * 2004-04-01 2005-10-20 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Semiconductor memory

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