JP2000056116A - Device and method for manufacturing color filter and color filter - Google Patents
Device and method for manufacturing color filter and color filterInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ等に使用されるカラー液晶ディス
プレイなどのカラーフィルタを製造する技術に関し、特
にインクジェット記録技術を利用したものに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for manufacturing a color filter such as a color liquid crystal display used for a color television, a personal computer, etc., and more particularly to a technique utilizing an ink jet recording technique.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、カラーフィルタの製造方法として
は、染料法、顔料分散法、電着法、印刷法等がある。染
料法とは、ガラス基板上に染料用の材料である水溶性の
高分子材料の層を形成し、これをフォトリソグラフィに
より所望のパターンに形成し、そしてこのガラス基板を
染料層に浸漬して着色されたパターンを得る工程をR、
G、B3色につき3回繰り返すことによりカラーフィル
タを形成するものである。2. Description of the Related Art Conventionally, methods for producing a color filter include a dye method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, and a printing method. The dye method is to form a layer of a water-soluble polymer material which is a material for a dye on a glass substrate, form this into a desired pattern by photolithography, and immerse the glass substrate in the dye layer. R is a step of obtaining a colored pattern,
The color filter is formed by repeating three times for the three colors G and B.
【0003】電着法とは、ガラス基板上に透明電極パタ
ーンを形成し、このガラス基板を顔料、樹脂、電解液等
の入った電着塗料液に浸漬して単色を電着させる工程を
R、G、B3色につき3回繰り返し、そして焼成するこ
とによりカラーフィルタを形成するものである。The electrodeposition method is a process of forming a transparent electrode pattern on a glass substrate, immersing the glass substrate in an electrodeposition coating solution containing a pigment, a resin, an electrolytic solution and the like to electrodeposit a single color. , G, and B colors are repeated three times and fired to form a color filter.
【0004】そして印刷法とは、熱硬化型の樹脂に顔料
を分散させたものを用いた印刷を3回繰り返すことによ
りR、G、B各色を塗り分け、その後、樹脂を熱硬化さ
せるものである。[0004] The printing method is a method in which R, G, and B colors are separately applied by repeating printing using a thermosetting resin in which a pigment is dispersed three times, and then the resin is thermoset. is there.
【0005】この4種類の方法に共通しているのは、
R、G、B3色を着色するために同一工程を3回繰り返
す必要があり、工程数が多いために、歩留まりが低下
し、コストが高くなる、等の欠点を有することである。[0005] What is common to these four methods is that
It is necessary to repeat the same process three times in order to color the three colors of R, G, and B, and there are drawbacks such as a low yield and a high cost due to the large number of processes.
【0006】さらに、電着法は、形成可能なパターンの
形状が限定されるため、TFTへの適用が困難である。
また印刷法は、解像性が悪く、パターン微細化への対応
が困難である等の欠点を有する。Furthermore, the electrodeposition method is difficult to apply to a TFT because the shape of a pattern that can be formed is limited.
Further, the printing method has disadvantages such as poor resolution and difficulty in responding to pattern miniaturization.
【0007】そこで、これらの欠点を補うべく、ガラス
基板上にインクジェットを吐出させてフィルタのパター
ンを形成する技術が提案されている(特開平8−869
13、特開平9−48135等)。In order to compensate for these drawbacks, there has been proposed a technique of forming a filter pattern by discharging ink jet onto a glass substrate (Japanese Patent Laid-Open No. 8-869).
13, JP-A-9-48135).
【0008】このインクジェットを用いる技術において
は、インクジェットヘッドの吐出安定性を維持すること
が生産の歩留まり向上にとって重要なファクターであ
り、インクジェットヘッドの定期的なクリーニング動作
(回復動作)が必要不可欠である(特開平9−4813
5)。具体的には、インクを受ける桶やへッドのフェー
ス面を拭くためのブレードなどの機構が必要であり、ク
リーニング動作時には、これらの機構がへッドの下まで
移動し、インクジェットヘッドのクリーニングを行な
う。また、カラーフィルタ描画時には、基板ステージと
干渉しないところまで退避し、クリーニング機構の洗浄
を行なうものである。In this ink jet technology, maintaining the discharge stability of the ink jet head is an important factor for improving the production yield, and a periodic cleaning operation (recovery operation) of the ink jet head is indispensable. (JP-A-9-4813
5). Specifically, mechanisms such as a tub for receiving ink and a blade for wiping the face surface of the head are required. During the cleaning operation, these mechanisms move to below the head, and the cleaning of the inkjet head is performed. Perform Further, at the time of drawing a color filter, it is retracted to a position where it does not interfere with the substrate stage, and the cleaning mechanism is cleaned.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、生産性
を考えると、このクリーニング工程にかかる時間を切り
つめる必要性が生じている。例えば、特開平8−869
13によれば、1色あたり60ノズルを用いても9.4
インチサイズのカラーフィルタ基板を描画した時、描画
時間だけで約70秒程度と試算しており、また、各メー
カーの液晶パネル製作時の各工程の所用時間が60秒を
切ろうとしている現在、各動作(基板受け渡し、基板の
オートフォーカス、基板のアライメント、描画、回復な
ど)に掛かる時間(製造タクト)を切りつめる必要性は
明白である。However, in view of productivity, it is necessary to reduce the time required for this cleaning step. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-869
According to No. 13, even if 60 nozzles per color are used, 9.4 is used.
At the time of drawing an inch size color filter substrate, it is estimated that the drawing time alone is about 70 seconds, and the time required for each process at the time of manufacturing each manufacturer's liquid crystal panel is less than 60 seconds, The necessity to reduce the time (manufacturing tact) required for each operation (substrate delivery, substrate autofocus, substrate alignment, drawing, recovery, etc.) is obvious.
【0010】また、このためインクジェットヘッドのク
リーニング動作を行なう時の動作時間および移動時間を
短縮するため駆動部分の速度アップが考えられるが、そ
れにより、その動作の外乱レベルが大きくなりステージ
の位置決め精度や位置決め時間に影響を与えると言う問
題も生じている。In order to shorten the operation time and the moving time when performing the cleaning operation of the ink jet head, it is conceivable to increase the speed of the driving part. However, the disturbance level of the operation is increased, and the positioning accuracy of the stage is increased. Also, there is a problem that the positioning time is affected.
【0011】本発明は、上述の従来例における問題点に
鑑みてなされたもので、カラーフィルタの製造タクト
(フィルタ基板を送入してから排出するまでの時間)を
短縮することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the conventional example, and has as its object to reduce the tact time for manufacturing a color filter (the time from sending a filter substrate to discharging it). .
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の第1の局面では、インクジェットヘッド
(へッド)を光透過性の基板に対して相対的に走査させ
ながら着色剤を吐出させ、基板上に着色剤により着色さ
れたフィルタエレメントを複数個並べて形成してカラー
フィルタを製造する際、基板の受け渡しおよび該基板と
インクジェットヘッドとの相対高さ調整(オートフォー
カス)を、前記インクジェットへッドのクリーニング
(ヘッド機能回復動作)と並行して行なうことを特徴と
している。In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, a colorant is prepared by causing an ink jet head (head) to scan relative to a light transmitting substrate. When a plurality of filter elements colored by a coloring agent are arranged on a substrate to form a color filter, the delivery of the substrate and the relative height adjustment (autofocus) between the substrate and the inkjet head are performed by: It is characterized in that the cleaning is performed in parallel with the cleaning of the inkjet head (head function recovery operation).
【0013】また、本発明の第2の局面に係るカラーフ
ィルタ製造装置は、インクジェットヘッド(へッド)を
光透過性の基板に対して相対的に走査させながら着色剤
を吐出させ、基板上に着色剤により着色されたフィルタ
エレメントを複数個並べて形成してカラーフィルタを製
造するカラーフィルタ製造装置であって、基板用のオー
トフォーカスセンサ(基板の高さ位置検出センサ)の配
置が、基板を保持したステージが基板の受け渡し位置か
ら走査直交方向に移動するだけでオートフォーカスがで
きる位置に配置されていることを特徴としている。The color filter manufacturing apparatus according to the second aspect of the present invention discharges a colorant while relatively scanning an ink jet head (head) with respect to a light-transmitting substrate, and discharges the colorant on the substrate. A color filter manufacturing apparatus for manufacturing a color filter by arranging a plurality of filter elements colored by a colorant on a substrate, wherein an auto-focus sensor (substrate height position detection sensor) for the substrate is disposed on the substrate. It is characterized in that the held stage is arranged at a position where autofocus can be performed simply by moving the stage in the scanning orthogonal direction from the substrate transfer position.
【0014】さらに、本発明の第3の局面に係るカラー
フィルタ製造装置は、インクジェットヘッド(へッド)
を光透過性の基板に対して相対的に走査させながら着色
剤を吐出させ、前記基板上に前記着色剤により着色され
たフィルタエレメントを複数個並べて形成してカラーフ
ィルタを製造するカラーフィルタの製造装置において、
前記インクジェットへッドのクリーニングを行なう機構
を備え、このクリーニング機構は、前記走査方向と同じ
方向の移動軸を有し、そのガイドおよびアクチュエータ
が、前記基板ステージと基板ステージが搭載している除
振台を介して連結されていることを特徴としている。Further, the color filter manufacturing apparatus according to the third aspect of the present invention is an ink jet head (head).
A colorant is ejected while relatively scanning the light-transmitting substrate with respect to a light-transmissive substrate, and a plurality of filter elements colored with the colorant are arranged on the substrate to form a color filter. In the device,
A mechanism for cleaning the ink-jet head, the cleaning mechanism having a movement axis in the same direction as the scanning direction, and a guide and an actuator provided on the substrate stage; It is characterized by being connected via a stand.
【0015】上記へッドとしては、熱エネルギーを利用
してインクを吐出するへッドであって、インクに与える
熱エネルギーを発生するための熱エネルギー変換体を備
えるものを用いることができる。As the head, a head which uses thermal energy to eject ink and has a thermal energy converter for generating thermal energy to be applied to the ink can be used.
【0016】[0016]
【作用】本発明の第1の局面によれば、基板受け渡しか
らオートフォーカスまでの動作とヘッドのクリーニング
動作とを同時に並行して行なうため、これらの動作を順
次に行なう従来の場合に比べて製造タクトを大幅に短縮
することができる。According to the first aspect of the present invention, the operations from the substrate transfer to the autofocus and the head cleaning operation are performed simultaneously in parallel, so that the manufacturing is performed in comparison with the conventional case in which these operations are sequentially performed. Tact can be greatly reduced.
【0017】本発明の第2の局面によれば、基板を受け
取った基板ステージを走査直交方向に移動するだけでオ
ートフォーカスできるため、基板受け渡しからオートフ
ォーカス完了までの時間を短縮できる。したがって、第
1の局面をこの第2の局面に係る装置に適用して描画動
作を行なうことにより、基板受け渡し動作から基板のオ
ートフォーカス動作までとヘッドのクリーニング動作を
同時に行なうことができ、比較的自由度のあるヘッドク
リーニングの時間を基板受け渡しからオートフォーカス
完了までの時間以下に短縮すれば、製造タクトのさらな
る短縮を図ることも可能である。According to the second aspect of the present invention, autofocus can be performed only by moving the substrate stage that has received the substrate in the scanning orthogonal direction, so that the time from substrate delivery to completion of autofocus can be reduced. Therefore, by performing the drawing operation by applying the first aspect to the apparatus according to the second aspect, the head cleaning operation from the substrate transfer operation to the autofocus operation of the substrate can be performed at the same time. If the time for head cleaning with a degree of freedom is shortened to a time equal to or less than the time from the delivery of the substrate to the completion of the autofocus, it is possible to further reduce the manufacturing tact.
【0018】さらに、本発明の第3の局面によれば、第
1の局面を適用した場合でもクリーニング動作により発
生する外乱の影響を低減でき、第1の局面を適用するこ
とにより短縮された製造タクトに影響を与えることなく
高精度な描画を行なうことができる。Further, according to the third aspect of the present invention, even when the first aspect is applied, it is possible to reduce the influence of disturbance generated by the cleaning operation, and to reduce the manufacturing time by applying the first aspect. High-accuracy drawing can be performed without affecting tact.
【0019】[0019]
【実施例】本発明の実施例を図面に沿って説明する。 (実施例1)図1および2は、本発明の一実施例に係わ
る装置概略図である。同図において、1は装置搭載用の
本体定盤、2は本体定盤1を支持し、外部振動を遮断す
るための除振台、3は本体定盤1上に設けられた、基板
を移動するためのXY静圧ステージを用いた基板ステー
ジ、4は基板ステージ3に用いるXY静圧ガイドベー
ス、5は基板ステージ3に用いる静圧ガイド用のヨーガ
イド、6は基板ステージのXY方向のアクチュエータで
あるリニアモータ、7は基板のZ−チルトおよびθを補
正するためのZ−チルトとθの調整機構、8は基板を保
持するための基板チャック、9はカラーフィルタを形成
する基板、10はR、G、B3色からなる描画ヘッドで
ある。11は3色の描画へッドを交換および位置調整し
やすくするためにユニット化したヘッドユニットであり
各ヘッドの相対位置調整機構を有している。12はヘッ
ドユニットを保持するへッドユニットチャック、13は
へッドユニット11のθ調整用アクチュエータ、14は
へッドユニット11の走査直交方向の位置調整およびへ
ッドユニット交換用の直動ステージ、15は基板9の
X、Y、θ方向の基板アライメント検出用光学系、16
はZ検出用光学系(オートフォーカス)、17はヘッド
のクリーニング動作のためのクリーニングユニット、1
8はクリーニングユニット17を洗浄するための洗浄ユ
ニット、19はクリーニングユニット17を描画へッド
10の下まで移動するクリーニングユニット駆動系であ
る。オートフォーカス16は、基板ステージ3が図1の
左下にある不図示の基板受け渡し位置から走査方向(Y
方向)と垂直な方向(X方向)に移動するだけでオート
フォーカスができる位置に配置されている。An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIGS. 1 and 2 are schematic views of an apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a main body platen for mounting the apparatus, 2 denotes a vibration damping table for supporting the main body platen 1 and isolating external vibrations, and 3 denotes a substrate provided on the main body surface plate 1 for moving a substrate. Stage, a XY static pressure guide base used for the substrate stage 3, a yaw guide for static pressure guide used for the substrate stage 3, and an XY actuator 6 for the substrate stage. A linear motor, 7 is a Z-tilt and θ adjustment mechanism for correcting the Z-tilt and θ of the substrate, 8 is a substrate chuck for holding the substrate, 9 is a substrate for forming a color filter, and 10 is R , G, and B colors. Numeral 11 denotes a unitized head unit for facilitating replacement and position adjustment of the drawing heads of three colors, and has a relative position adjusting mechanism for each head. 12 is a head unit chuck for holding the head unit, 13 is an actuator for adjusting the θ of the head unit 11, 14 is a translation stage for adjusting the position of the head unit 11 in the scanning orthogonal direction and replacing the head unit, and 15 is a substrate 9 Optical system for detecting substrate alignment in the X, Y, and θ directions, 16
Denotes a Z detection optical system (autofocus), 17 denotes a cleaning unit for cleaning the head, 1
Reference numeral 8 denotes a cleaning unit for cleaning the cleaning unit 17, and 19 denotes a cleaning unit drive system for moving the cleaning unit 17 to a position below the drawing head 10. The auto focus 16 moves the substrate stage 3 from the substrate transfer position (not shown) at the lower left of FIG.
Direction) and a direction (X-direction) perpendicular to the direction of the auto-focus.
【0020】図3は、Z−チルトとθの調整機構7の詳
細図であり、基板ステージ3には、XYの可動部の上に
Z−チルト用アクチュエータおよびθ機構が構成されて
いる。20はθ・Z−チルト可動部であり、基板チャッ
ク8が固定されている。21はZ−チルトアクチュエー
タ、22はZ−チルト用ガイド、23はθ回転方向アク
チュエータ、24はθ回転方向ガイド、25はXY可動
ベースとの取り付け板である。FIG. 3 is a detailed view of the Z-tilt and θ adjusting mechanism 7. The substrate stage 3 is provided with a Z-tilt actuator and a θ mechanism on an XY movable section. Reference numeral 20 denotes a θ · Z-tilt movable portion, on which the substrate chuck 8 is fixed. 21 is a Z-tilt actuator, 22 is a Z-tilt guide, 23 is a θ rotation direction actuator, 24 is a θ rotation direction guide, and 25 is a mounting plate with an XY movable base.
【0021】図4は、図1〜3に示したカラーフィルタ
製造装置の基板処理動作を示す。上記構成において、カ
ラーフィルタの製造時には、基板9を基板チャック8に
搭載すると(ステップS51)、基板ステージは3は走
査直交方向(X方向)に移動して基板9をオートフォー
カス16によるオートフォーカス位置に移動させる。オ
ートフォーカス位置では、基板9の面が所定の高さで水
平になるようにオートフォーカス16により計測し、Z
−チルト調整機構(21、22)によりZ−チルト方向
を合わせる(ステップS52)。その後、アライメント
検出用光学系15により、基板9上のアライメントマー
クが基準位置になるように、X、Y、θ3方向のズレ量
を検出する(ステップ53)。この検出は、複数のマー
クを複数の検出系で行なってもよいし、複数の検出マー
クを1ヶ所の検出系で基板ステージ3を移動させて行な
ってもよい。この検出結果に基づき、θ成分のズレは、
基板ステージ3上のθ調整機構(23、24)により補
正し、X方向のズレは、基板ステージ3のX位置を合わ
せることにより補正する(ステップ53)。FIG. 4 shows a substrate processing operation of the color filter manufacturing apparatus shown in FIGS. In the above configuration, when the color filter is manufactured, when the substrate 9 is mounted on the substrate chuck 8 (step S51), the substrate stage 3 moves in the scanning orthogonal direction (X direction) to move the substrate 9 to the autofocus position by the autofocus 16. Move to At the autofocus position, measurement is performed by the autofocus 16 so that the surface of the substrate 9 is horizontal at a predetermined height.
The Z-tilt direction is adjusted by the tilt adjusting mechanism (21, 22) (step S52). Thereafter, the amounts of displacement in the X, Y, and θ3 directions are detected by the alignment detection optical system 15 so that the alignment marks on the substrate 9 are at the reference positions (step 53). This detection may be performed by using a plurality of detection systems for a plurality of marks, or by moving the substrate stage 3 using a single detection system for the plurality of detection marks. Based on this detection result, the deviation of the θ component is
The correction is performed by the θ adjustment mechanism (23, 24) on the substrate stage 3, and the deviation in the X direction is corrected by adjusting the X position of the substrate stage 3 (step 53).
【0022】また、Y方向のズレは描画走査方向である
基板ステージ3のY位置合わせにより、あるいは描画ヘ
ッド10からの吐出タイミングを制御することにより行
なう。基板位置合わせ後、後述のヘッドキャップを解除
して描画動作を行なう(ステップS54)。また、ヘッ
ドクリーニング機構およびヘッドキャップ機構の洗浄
は、描画動作中(ステップS54)に同時に行ないきれ
いな状態を保っている(ステップS55)。描画終了後
の基板の排出および搭載動作時 (ステップS56、S5
1)から新たな基板のフォーカス合わせ(S52)を行
なうのと並行してへッド機能維持のためのクリーニング
シーケンス(ステップS57)およびへッドキャップ
(ステップS58)を行なう。へッドキャップは、へッ
ドクリーニング後の乾燥防止対策である。図中の破線が
今までのシーケンスの流れである。The displacement in the Y direction is performed by adjusting the Y position of the substrate stage 3 in the drawing scanning direction or by controlling the ejection timing from the drawing head 10. After the substrate alignment, a head cap described later is released to perform a drawing operation (step S54). The cleaning of the head cleaning mechanism and the head cap mechanism is simultaneously performed during the drawing operation (step S54) to maintain a clean state (step S55). At the time of discharging and mounting the substrate after drawing is completed (steps S56, S5
A cleaning sequence (Step S57) and a head cap (Step S58) for maintaining the head function are performed in parallel with the focus adjustment of a new substrate (S52) from 1). The head cap is a measure for preventing drying after head cleaning. The broken line in the figure is the flow of the sequence up to now.
【0023】図5は、クリーニングユニット17のクリ
ーニング機構の詳細図である。30はR、G、B各色ヘ
ッドに対応したスポンジ状のブレードであり、31はブ
レード30を上下方向に移動するブレードユニットステ
ージ、32はブレード30の湿り具合を調整するブレー
ド吸引用配管である。へッドクリーニングシーケンス
は、クリーニングユニット17がヘッド10の下部まで
移動し、その場所で、ブレード用ステージ31が上昇
し、前後動(Y方向に揺動)することにより、湿ったス
ポンジ状のブレード30でへッド10の吐出面を拭くこ
とにより行なう。へッドを拭くためのアクチュエータ
は、ブレード用ステージに直動ステージを設けても良い
し、クリーニングユニット駆動系19を用いても良い。
また、ブレード30を湿らすには、洗浄ユニット18に
よりブレード30に純水をかけインクを流しブレード3
0を洗浄し、ブレード吸引配管32を介して真空ポンプ
によりブレードをバキュウムすることにより適度な湿り
具合にする。湿り具合は、バキュウム時間をコントロー
ルすることにより調整する。FIG. 5 is a detailed view of the cleaning mechanism of the cleaning unit 17. Reference numeral 30 denotes a sponge-shaped blade corresponding to each of the R, G, and B color heads, reference numeral 31 denotes a blade unit stage that moves the blade 30 in the vertical direction, and reference numeral 32 denotes a blade suction pipe that adjusts the degree of wetness of the blade 30. In the head cleaning sequence, the cleaning unit 17 moves to the lower part of the head 10, and the blade stage 31 rises and moves back and forth (oscillates in the Y direction) at that location, thereby forming a wet sponge-like blade. This is performed by wiping the ejection surface of the head 10 at 30. As the actuator for wiping the head, a linear motion stage may be provided on the blade stage, or the cleaning unit drive system 19 may be used.
Further, in order to wet the blade 30, pure water is applied to the blade 30 by the cleaning unit 18 to flow ink, and the blade 30 is wetted.
0 is cleaned, and the blade is vacuumed by a vacuum pump through the blade suction pipe 32 so that the blade is appropriately moistened. The degree of wetness is adjusted by controlling the vacuum time.
【0024】図6は、洗浄ユニット18の模式図であ
り、33はブレード30に純水を掛けるための洗浄シャ
ワーユニット、34は洗浄ノズルであり、洗浄水が、む
らなくブレードに掛かるように多数配置されている。ク
リーニングユニット17は、クリーニングユニット駆動
系19により移動し洗浄ユニット18下とへッド10下
を移動できる構成である。FIG. 6 is a schematic view of the cleaning unit 18. Reference numeral 33 denotes a cleaning shower unit for applying pure water to the blade 30, and reference numeral 34 denotes a cleaning nozzle. Are located. The cleaning unit 17 is configured to be moved by the cleaning unit drive system 19 and to move under the cleaning unit 18 and under the head 10.
【0025】ここで、ヘッドクリーニング動作は、図4
の描画装置動作フローに示すように、基板ごとに、描画
済み基板の排出と新基板の投入との間に行ない、基板ご
とのへッド面の条件を一定にしている。このため、クリ
ーニング動作にかかる時間が長くなれば、製造タクトに
影響をあたえる。本実施例の装置構成によれば、クリー
ニング動作中に基板のオートフォーカス動作まで行なう
ことが可能になり製造タクトを短縮することができる。
特に、今後カラーフィルタ製作用のガラス基板が大きく
なることにより、装置も大型化し、クリーニングユニッ
トの移動ストロークが長くなるため、より効果が大きく
なる。Here, the head cleaning operation is performed in the manner shown in FIG.
As shown in the drawing device operation flow, the process is performed between the discharge of the drawn substrate and the input of the new substrate for each substrate, and the condition of the head surface for each substrate is kept constant. For this reason, if the time required for the cleaning operation becomes longer, the manufacturing tact is affected. According to the apparatus configuration of the present embodiment, it is possible to perform even the autofocus operation of the substrate during the cleaning operation, and it is possible to reduce the manufacturing tact.
In particular, as the size of the glass substrate for producing a color filter increases in the future, the size of the apparatus will increase, and the movement stroke of the cleaning unit will increase.
【0026】実際に、製作した描画装置では、クリーニ
ングユニットがヘッド下に移動してくるストロークが1
200mm程度有り、往復の移動時間とクリーニング時
間を含め20秒程度かかる分が、上述の装置構成により
タクト短縮を図ることができた。Actually, in the manufactured drawing apparatus, the stroke in which the cleaning unit moves under the head is one.
The tact time can be reduced by about 200 mm, which takes about 20 seconds including the reciprocating movement time and the cleaning time, by the above-described apparatus configuration.
【0027】(実施例2)本発明の第2の実施例につい
て説明する。図7および8は本発明の他の実施例に係わ
るカラーフィルタ製造装置の概略を示す平面図および側
面図である。同図において、40はクリーニングユニッ
ト17およびクリーニングユニットの駆動系19を保持
するクリーニングユニットベース架台、41はクリーニ
ングユニットベース架台40と本体定盤1の接触を逃げ
るため本体定盤1に設けられた逃げ穴、42は洗浄ユニ
ットを保持する洗浄ユニット支柱、43は本体定盤1、
クリーニングユニットベース架台40および洗浄ユニッ
ト支柱42を位置決めするためのベースである。(Embodiment 2) A second embodiment of the present invention will be described. 7 and 8 are a plan view and a side view schematically showing a color filter manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 40 denotes a cleaning unit base mount for holding the cleaning unit 17 and the drive system 19 of the cleaning unit, and 41 denotes an escape provided on the main body base 1 to escape contact between the cleaning unit base mount 40 and the main body base 1. The hole, 42 is a cleaning unit support for holding the cleaning unit, 43 is the main body platen 1,
This is a base for positioning the cleaning unit base frame 40 and the cleaning unit support 42.
【0028】本構成のようにクリーニングユニット17
と基板ステージ3を基板ステージの除振台2の下で連結
することによりクリーニングユニット17が原因で生じ
る外乱の影響を低減することができ、クリーニングシー
ケンスと並行して行なう、基板のオートフォーカスへの
影響や描画シーケンス中に行なうクリーニングユニット
の洗浄の影響を低減することが可能である。As shown in FIG.
By connecting the substrate stage 3 and the substrate stage 3 under the anti-vibration table 2, the influence of disturbance caused by the cleaning unit 17 can be reduced, and the auto-focusing of the substrate performed in parallel with the cleaning sequence can be reduced. It is possible to reduce the influence and the effect of cleaning of the cleaning unit performed during the drawing sequence.
【0029】実際にクリーニングユニット17および洗
浄ユニット18を本体定盤1上に構成したときには、洗
浄ユニット18の純水を流す電磁弁をON、OFFする
時に描画ヘッド10の先端にインパルス的な振動(振幅
2um程度)が発生していたが、本構成を用いた装置で
は、全然影響が生じなかった。When the cleaning unit 17 and the cleaning unit 18 are actually configured on the main body platen 1, when the electromagnetic valve for flowing the pure water of the cleaning unit 18 is turned on and off, an impulse-like vibration ( (Approximately 2 μm in amplitude), but no influence occurred in the device using this configuration.
【0030】ここで、本実施例のように基板ステージ3
を除振台2の下でクリーニングユニット17を連結する
ことにより、除振台2の揺れによりヘッド6とクリーニ
ングユニット17の位置ズレが生じるが、その量は、最
大でも1mm以下であり、クリーニングの効果への問題
はない。また、基板ステージ3の移動時の加速度(現状
0.1G)がより大きくなり揺れが心配であれば、除振
台2をニューマルクション(空気クッション)からアク
ティブダンパーにすることにより、揺れを低減すること
が可能である。Here, as in this embodiment, the substrate stage 3
When the cleaning unit 17 is connected under the vibration isolation table 2, the head 6 and the cleaning unit 17 are displaced due to the swing of the vibration isolation table 2, but the amount thereof is 1 mm or less at the maximum, and There is no problem with the effect. If the acceleration (currently 0.1 G) at the time of movement of the substrate stage 3 becomes larger and the vibration is a concern, the vibration is reduced by changing the vibration isolation table 2 from a new fusion (air cushion) to an active damper. It is possible to
【0031】以上説明したように、本実施例の構成によ
り、クリーニング動作、基板のオートフォーカスおよび
クリーニングユニットの洗浄を行なうことによりクリー
ニングユニットの動作に伴う外乱の影響を低減し、高精
度な描画を製造タクトに影響を与えることなく行なうこ
とができる。As described above, according to the configuration of the present embodiment, the effect of disturbance due to the operation of the cleaning unit is reduced by performing the cleaning operation, auto-focusing of the substrate, and cleaning of the cleaning unit, and high-precision drawing is performed. It can be performed without affecting the manufacturing tact.
【0032】[0032]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ヘッドクリーニング動作を、基板の受け渡しおよびオー
トフォーカス動作と同時に行なうことにより、製造タク
トの短縮を図ることができる。As described above, according to the present invention,
By performing the head cleaning operation at the same time as the transfer of the substrate and the autofocus operation, it is possible to reduce the manufacturing tact time.
【図1】 本発明の一実施例に係るカラーフィルタ製造
装置の概略構成を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view illustrating a schematic configuration of a color filter manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】 図1の装置の概略構成を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing a schematic configuration of the apparatus shown in FIG.
【図3】 図1におけるXYステージの主要部の側面図
である。FIG. 3 is a side view of a main part of the XY stage in FIG.
【図4】 図1の装置における基板処理のフローチャー
トである。FIG. 4 is a flowchart of substrate processing in the apparatus of FIG.
【図5】 図1におけるクリーニングユニットの概略図
である。FIG. 5 is a schematic diagram of a cleaning unit in FIG. 1;
【図6】 図1におけるクリーニングユニット用のブレ
ード洗浄機構の模式図である。FIG. 6 is a schematic view of a blade cleaning mechanism for the cleaning unit in FIG. 1;
【図7】 本発明の他の実施例に係るカラーフィルタ製
造装置の概略構成を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view illustrating a schematic configuration of a color filter manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention.
【図8】 図7の装置の概略構成を示す側面図である。8 is a side view showing a schematic configuration of the apparatus shown in FIG.
1:本体定盤、2:除振台、3:基板ステージ、4:ベ
ースガイド、5:ヨーガイド、6:リニアモータ、7:
Z−チルトとθの調整機構、8:基板チャック、9:基
板、10:描画へッド、11:ヘッドユニット、12:
へッドユニットチャック、13:ヘッドユニットθアク
チュエータ、14:ヘッドユニット直動ステージ、1
5:基板アライメント検出用光学系、16:オートフォ
ーカス、17:クリーニングユニット、18:洗浄ユニ
ット、19:クリーニングユニット駆動系、20:θ・
Z−チルト可動部、21:Z−チルト用アクチュエー
タ、22:Z−チルト用ガイド、23:θ方向アクチュ
エータ、24:θ方向ガイド、25:XY可動部ベース
取り付け板、30:ブレード、31:ブレードユニット
ステージ、32:ブレード吸引用配管、33:洗浄シャ
ワーユニット、34:洗浄ノズル、40:クリーニング
ユニットベース架台、41:本体定盤逃げ穴、42:洗
浄ユニット支柱、43:ベース。1: body platen, 2: anti-vibration table, 3: substrate stage, 4: base guide, 5: yaw guide, 6: linear motor, 7:
Z-tilt and θ adjustment mechanism, 8: substrate chuck, 9: substrate, 10: drawing head, 11: head unit, 12:
Head unit chuck, 13: Head unit θ actuator, 14: Head unit linear stage, 1
5: substrate alignment detection optical system, 16: autofocus, 17: cleaning unit, 18: cleaning unit, 19: cleaning unit drive system, 20: θ ·
Z-tilt movable part, 21: Z-tilt actuator, 22: Z-tilt guide, 23: θ direction actuator, 24: θ direction guide, 25: XY movable part base mounting plate, 30: blade, 31: blade Unit stage, 32: blade suction pipe, 33: cleaning shower unit, 34: cleaning nozzle, 40: cleaning unit base pedestal, 41: body plate escape hole, 42: cleaning unit support, 43: base.
Claims (8)
保持された光透過性の基板に対して相対的に走査させな
がら着色剤を吐出させ、前記基板上に前記着色剤により
着色されたフィルタエレメントを複数個並べて形成して
カラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造装置に
おいて、 前記基板の受け渡しおよび該基板とインクジェットヘッ
ドとの相対高さを調整するオートフォーカスを、前記イ
ンクジェットへッドのクリーニングと並行して行なうこ
とを特徴とするカラーフィルタ製造装置。1. A colorant is discharged while an inkjet head is relatively scanned with respect to a light-transmitting substrate held on a substrate stage, and a plurality of filter elements colored with the colorant are formed on the substrate. In a color filter manufacturing apparatus for manufacturing a color filter by forming side by side, the delivery of the substrate and the auto focus for adjusting the relative height between the substrate and the inkjet head are performed in parallel with the cleaning of the inkjet head. An apparatus for producing a color filter, comprising:
記基板ステージが前記基板の受け渡し位置から前記走査
方向と直交する方向に移動するだけでオートフォーカス
ができる位置に配置されていることを特徴とする請求項
2記載のカラーフィルタ製造装置。2. The auto-focus sensor according to claim 1, wherein the auto-focus sensor is arranged at a position where the auto-focus can be performed only by moving the substrate stage from a transfer position of the substrate in a direction orthogonal to the scanning direction. The color filter manufacturing apparatus according to claim 2.
走査方向と同じ方向の移動軸を有し、そのガイドおよび
アクチュエータが、前記基板ステージと基板ステージが
搭載している除振台を介して連結されていることを特徴
とする請求項1〜3のいずれかに記載のカラーフィルタ
製造装置。3. The cleaning mechanism has a movement axis in the same direction as the scanning direction, and its guide and actuator are connected via a vibration isolation table on which the substrate stage and the substrate stage are mounted. The color filter manufacturing apparatus according to claim 1, wherein:
に対して相対的に走査させながら着色剤を吐出させ、前
記基板上に前記着色剤により着色されたフィルタエレメ
ントを複数個並べて形成してカラーフィルタを製造する
カラーフィルタの製造装置であって、 前記基板用のオートフォーカスセンサは、前記基板を保
持した基板ステージが前記基板の受け渡し位置から前記
走査方向と直交する方向に移動するだけでオートフォー
カスができる位置に配置されていることを特徴とするカ
ラーフィルタ製造装置。4. A color filter, wherein a colorant is ejected while an ink jet head is relatively scanned with respect to a light transmissive substrate, and a plurality of filter elements colored with the colorant are arranged on the substrate to form a color filter. An apparatus for manufacturing a color filter for manufacturing, wherein the autofocus sensor for the substrate, the substrate stage holding the substrate is moved only in a direction orthogonal to the scanning direction from the transfer position of the substrate, the autofocus An apparatus for manufacturing a color filter, wherein the apparatus is arranged at a position where the color filter can be formed.
保持された光透過性の基板に対して相対的に走査させな
がら着色剤を吐出させ、前記基板上に前記着色剤により
着色されたフィルタエレメントを複数個並べて形成して
カラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造装置に
おいて、 前記走査方向と同じ方向の移動軸を有し、そのガイドお
よびアクチュエータが、前記基板ステージと基板ステー
ジが搭載している除振台を介して連結されている、前記
インクジェットへッドのクリーニング機構を具備するこ
とを特徴とするカラーフィルタ製造装置。5. A colorant is ejected while causing an inkjet head to relatively scan with respect to a light-transmitting substrate held on a substrate stage, and a plurality of filter elements colored with the colorant are formed on the substrate. In a color filter manufacturing apparatus for manufacturing a color filter by forming side by side, has a movement axis in the same direction as the scanning direction, the guide and actuator, the substrate stage and the vibration isolation table mounted on the substrate stage An apparatus for manufacturing a color filter, comprising: a cleaning mechanism for the ink-jet head, the cleaning mechanism being connected to the ink-jet head via an ink jet head.
インクを吐出するヘッドであって、インクに与える熱エ
ネルギーを発生するための熱エネルギー変換体を備えて
いることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の
カラーフィルタ製造装置。6. The head according to claim 1, wherein the head is a head that discharges ink by using thermal energy, and includes a thermal energy converter for generating thermal energy to be applied to the ink. Item 6. A color filter manufacturing apparatus according to any one of Items 1 to 5.
保持された光透過性の基板に対して相対的に走査させな
がら着色剤を吐出させ、前記基板上に前記着色剤により
着色されたフィルタエレメントを複数個並べて形成して
カラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法に
おいて、 前記基板の受け渡しおよび該基板とインクジェットヘッ
ドとの相対高さを調整するオートフォーカスを、前記イ
ンクジェットへッドのクリーニングと並行して行なうこ
とを特徴とするカラーフィルタ製造方法。7. A colorant is discharged while an ink-jet head is relatively scanned with respect to a light-transmitting substrate held on a substrate stage, and a plurality of filter elements colored with the colorant are formed on the substrate. In a color filter manufacturing method for manufacturing a color filter by forming side by side, the delivery of the substrate and the autofocus for adjusting the relative height between the substrate and the inkjet head are performed in parallel with the cleaning of the inkjet head. A method for manufacturing a color filter, comprising:
フィルタ製造装置または請求項7に記載のカラーフィル
タ製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフ
ィルタ。8. A color filter manufactured by the color filter manufacturing apparatus according to claim 1 or the color filter manufacturing method according to claim 7.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22995298A JP2000056116A (en) | 1998-08-03 | 1998-08-03 | Device and method for manufacturing color filter and color filter |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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ID=16900293
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000056116A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7344222B2 (en) | 2002-12-20 | 2008-03-18 | Seiko Epson Corporation | Wiping unit for liquid droplet ejection head; liquid droplet ejection apparatus equipped therewith; electro-optical device; method of manufacturing the same; and electronic device |
US7491271B2 (en) | 2002-03-15 | 2009-02-17 | Seiko Epson Corporation | Film forming apparatus, head cleaning method, device manufacturing system, and device |
-
1998
- 1998-08-03 JP JP22995298A patent/JP2000056116A/en active Pending
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US7344222B2 (en) | 2002-12-20 | 2008-03-18 | Seiko Epson Corporation | Wiping unit for liquid droplet ejection head; liquid droplet ejection apparatus equipped therewith; electro-optical device; method of manufacturing the same; and electronic device |
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