JP2000048955A - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス素子

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JP2000048955A
JP2000048955A JP10209747A JP20974798A JP2000048955A JP 2000048955 A JP2000048955 A JP 2000048955A JP 10209747 A JP10209747 A JP 10209747A JP 20974798 A JP20974798 A JP 20974798A JP 2000048955 A JP2000048955 A JP 2000048955A
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organic
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organic compound
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compound layer
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JP10209747A
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English (en)
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Hisahiro Azuma
久洋 東
Toshio Sakai
俊男 酒井
Chishio Hosokawa
地潮 細川
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 長時間の駆動に対しても発光輝度が減衰する
ことがなく、耐久性に優れた実用的な有機EL素子を提
供すること。 【解決手段】 陽極と陰極との間に設けられた有機発光
層を有する有機化合物層を形成する有機化合物の中の少
なくとも一つが、GPC法による分析において、全体の
ピーク面積に対するメインピーク面積の割合が98%以
上の有機EL素子である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス素子(エレクトロルミネッセンスを、以下
「EL」と略記する。)に関し、さらに詳しくは、長時
間の駆動に対しても発光輝度が減衰することがなく、耐
久性に優れた有機EL素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電界発光を利用したEL素子は、自己発
光のため視認性が高く、かつ完全固体素子であるため、
耐衝撃性に優れるなどの特徴を有することから、各種表
示装置における発光素子としての利用が注目されてい
る。このEL素子には、発光材料に無機化合物を用いて
なる無機EL素子と有機化合物を用いてなる有機EL素
子とがあり、このうち、特に有機EL素子は、印加電圧
を大幅に低くしうる上、小型化が容易であって、消費電
力が小さく、面発光が可能であり、かつ三原色発光も容
易であることから、次世代の発光素子としてその実用化
研究が積極的になされている。この有機EL素子の構成
については、陽極/有機発光層/陰極の構成を基本と
し、これに正孔注入輸送層や電子注入層を適宜設けたも
の、例えば陽極/正孔注入輸送層/有機発光層/陰極
や、陽極/正孔注入輸送層/有機発光層/電子注入層/
陰極などの構成のものが知られている。
【0003】このような有機EL素子の実用化研究にお
ける最大の課題は、長時間の駆動に伴う有機EL素子の
発光輝度の減衰を抑制し、実用的にも耐え得るものとす
る技術を確立することである。この点、「月刊ディスプ
レイ、9月号、15頁(1995)」や、「応用物理、
第66巻、第2号、114〜115頁(1997)」に
よれば、有機EL素子を作成するために用いる各種有機
化合物の純度が、発光効率や発光輝度の減衰に強く影響
を及ぼすことが知られている。しかしながら、有機EL
素子に用いられる各種有機化合物の構造・性質等が有機
EL素子の性能に与える影響は未だ明らかでなく、これ
らを定量的に調べる方法は知られていなかった。したが
って、有機EL素子を長時間使用した場合、この発光輝
度が減衰する理由の詳細は、現在のところ不明であるの
が実状である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、長時間の駆動に対しても発光輝度が減衰する
ことがなく、耐久性に優れた実用的な有機EL素子を提
供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、耐久性に
優れた有機EL素子を開発すべく鋭意研究を重ねた結
果、有機EL素子を構成する有機化合物層の形成に供さ
れる有機化合物の少なくとも一つに、ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー法(GPC法)による分析で、
全体のピーク面積に対するメインピーク面積の割合があ
る値以上のものを用いることにより、その目的を達成し
うることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて
完成したものである。すなわち、本発明は、少なくとも
有機発光層を有する有機化合物層を陽極と陰極とからな
る一対の電極で挟持してなる有機EL素子において、前
記有機化合物層を形成するために用いる有機化合物の中
の少なくとも一つが、GPC法による分析において、全
体のピーク面積に対するメインピーク面積の割合が98
%以上であることを特徴とする有機EL素子を提供する
ものである。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の有機EL素子は、陽極と
陰極とからなる一対の電極の間に、少なくとも有機発光
層を有する有機化合物層が設けられたものであって、上
記有機化合物層は、発光層からなる層であってもよく、
また、発光層とともに、正孔注入輸送層,電子注入輸送
層などを積層した多層構造のものであってもよい。この
有機EL素子の素子構成としては、例えば陰極/発光層
/陽極,陰極/発光層/正孔注入輸送層/陽極,陰極/
電子注入輸送層/発光層/陽極,陰極/電子注入輸送層
/発光層/正孔注入輸送層/陽極などを挙げることがで
きる。
【0007】この有機EL素子において、発光層は
(1)電界印加時に、陽極又は正孔注入輸送層により正
孔を注入することができ、かつ陰極又は電子注入輸送層
より電子を注入することができる注入機能、(2)注入
した電荷(電子と正孔)を電界の力で移動させる輸送機
能、(3)電子と正孔の再結合の場を発光層内部に提供
し、これを発光につなげる発光機能などを有している。
この発光層に用いられる発光材料の種類については特に
制限はなく、従来有機EL素子における発光材料として
公知のものを用いることができる。また、正孔注入輸送
層は、正孔伝達化合物からなる層であって、陽極より注
入された正孔を発光層に伝達する機能を有し、この正孔
注入輸送層を陽極と発光層との間に介在させることによ
り、より低い電界で多くの正孔が発光層に注入される。
その上、発光層に陰極又は電子注入層により注入された
電子は、発光層と正孔注入輸送層の界面に存在する電子
の障壁により、この発光層内の界面付近に蓄積されEL
素子の発光効率を向上させ、発光性能の優れたEL素子
とする。この正孔注入輸送層に用いられる正孔伝達化合
物については特に制限はなく、従来有機EL素子におけ
る正孔伝達化合物として公知のものを使用することがで
きる。さらに、電子注入輸送層は、陰極より注入される
電子を発光層に伝達する機能を有している。この電子注
入輸送層に用いられる電子伝達化合物については特に制
限はなく、従来有機EL素子における電子伝達化合物と
して公知のものを使用することができる。
【0008】また、各有機化合物層には、微量の有機化
合物からなる添加物などを混入させることも可能であ
る。ここで用いる微量の添加物はドーパントと呼ばれる
が、各層の電荷注入性を向上させたり、あるいはそれ自
身が発光種となったりして、有機EL素子の性能を向上
させる目的のために用いるものである。本発明において
は、前記の有機化合物層を形成するために用いる有機化
合物のうち少なくとも一つが、GPC法による分析にお
いて、全体のピーク面積に対するメインピーク面積の割
合が98%以上であることが必要である。このメインピ
ーク面積の割合が98%未満では所望の耐久性を有する
有機EL素子が得られない。有機EL素子の耐久性の面
から、このメインピーク面積の好ましい割合は99%以
上であり、特に99.5%以上が好適である。この場合、
有機化合物のうち、少なくとも一つとは、発光層,正孔
注入輸送層(正孔注入層と正孔輸送層),電子注入輸送
層(電子注入層と電子輸送層),ドーパントなどを構成
する有機化合物の中の一つ又は二つ以上を指す。
【0009】なお、前記GPC法による分析は、以下に
示す方法により行う。カラム(東ソー(株)製)はHM
+G3000H8+G2000H8+G1000H8を
用い、溶媒はテトラヒドロフラン(以下、THFと略
す)を用いた。サンプルをTHFに溶解し、流量1.4m
l/minにて展開し、検出はUV(紫外線)あるいは
RI(屈折率)を用いた。このような純度の高い有機化
合物を得る方法としては、特に制限はなく、従来公知の
方法、例えば昇華精製法,再結晶法,再沈殿法,ゾーン
メルティング法,カラム精製法,吸着法などを用いるこ
とができるが、そのうち再結晶法が有利であり、また昇
華性を有する有機化合物であれば昇華精製法を採用する
のが有利である。ここで再結晶法としては特に制限はな
く、従来公知の方法を用いることができる。また昇華性
を有する有機化合物としては、昇華可能な化合物であれ
ばよく、特に制限はないが、例えばπ共役を有する炭素
の主鎖に対して酸素および窒素が直接的に、または間接
的に接続されている構造を有する分子、いわゆるキレー
ト錯体化合物が好ましく挙げられる。一般的に、キレー
ト錯体化合物は、結晶水を含有していたり配位子が金属
の配位数を満足するだけの配位基を持たない場合、配位
されずに残された位置は、他の一座配位子とか溶媒分子
であるH2 Oなどの配位によって満たされている。
【0010】これらのキレート錯体化合物が加熱され、
結晶水を失い無水キレート錯体化合物となったり、配位
水を失ったりすると、キレート錯体化合物の凝集が起こ
り殻が形成されたような状態となる。このような、キレ
ート錯体化合物は、その凝集により形成された殻を、攪
拌、振動、または攪拌と振動の併用のいずれかの方法で
破壊あるいは粉砕することにより、固相から気相への転
移を促進することができるので、昇華精製法が有効であ
る。キレート錯体化合物の具体例としては、トリス(8
−キノリノラト)アルミニウム,トリス(5−クロロ−
8−キノリノラト)アルミニウム,トリス(5−ブロモ
−8−キノリノラト)アルミニウム,トリス(5,7−
ジクロロ−8−キノリノラト)アルミニウム,トリス
(2−メチル−5−クロロ−8−キノリノラト)アルミ
ニウム,トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アル
ミニウム,ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アル
ミニウムオキサイドなどのキノリノラトアルミニウム
類、あるいは、Bi,Cd,Co,Cr,Cu,Fe,
Ga,In,Mg,Mn,MoO2 ,Ni,Pb,S
b,Th,TiO,Be,V2 3 ,WO2 ,Zn,Z
rを中心金属とするキノリン誘導体、などが挙げられ
る。
【0011】この他の具体例としては、2−(o−ヒド
ロキシフェニル)ベンゾチアゾール金属錯体,10−ヒ
ドロキシベンゾキノリン錯体,アゾメチン錯体,ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)(アリールラー
ト)錯体、などが挙げられる。ビス(2−メチル−8−
キノリノラート)(アリールラート)錯体の具体例とし
ては、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(フェ
ノラート)アルミニウム(III),ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(オルソ−クレゾラート)アルミニ
ウム(III),ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(メタ−クレゾラート)アルミニウム(III),ビス(2
−メチル−8−キノリノラート)(パラ−クレゾラー
ト)アルミニウム(III),ビス(2−メチル−8−キノ
リノラート)(オルソ−フェニルフェノラート)アルミ
ニウム(III),ビス(4−エチル−2−メチル−8−キ
ノリノラート)アルミニウム(III)−μ−oxo−ビス
(4−エチル−2−メチル−キノリノラート)アルミニ
ウム(III),ビス(2−メチル−4−メトキシキノラー
ト)アルミニウム(III)−μ−oxo−ビス(2−メチ
ル−4−メトキシキノラート)アルミニウム(III),ビ
ス(5−シアノ−2−メチル−8−キノリノラート)ア
ルミニウム(III)−μ−oxo−ビス(5−シアノ−2
−メチル−8−キノリノラート)アルミニウム(III),
ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノ
リノラート)アルミニウム(III)−μ−oxo−ビス
(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリノ
ラート)アルミニウム(III)、などが挙げられる。
【0012】また、この他の化合物としては、キナクリ
ドン系化合物,フタロシアニン系化合物、あるいは芳香
族縮合環を有する化合物が挙げられる。キナクリドン系
化合物の具体例としては、2,3−キナクリドン、など
が挙げられる。フタロシアニン系化合物の具体例として
は、フタロシアニン銅(α型),フタロシアニン銅(β
型)、などが挙げられる。芳香族縮合環を有する化合物
の具体例としては、ジベンゾ〔fg,ij〕ペンタフェ
ン,ベンゾ〔a〕ピレン,ベンゾ〔b〕ペリレン,ジベ
ンゾ〔a,e〕ピレン,ジベンゾ〔b,h〕ピレン,ジ
ベンゾ〔e,l〕ピレン,ジベンゾ〔a,h〕ピレン,
ジベンゾ〔de,qr〕ナフタセン,ジベンゾ〔c,M
n〕クリセン,ジベンゾ〔opq,stu〕ピセン,ペ
リレン、などが挙げられる。さらに、上記以外の有機化
合物としては、9,10−ジフェニルアントラセン;
1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジエ
ン;3,4,9,10−ペリレンテトラカルボキシリッ
クジイミドなどが挙げられるが、もちろん、これらに限
定されるものではない。
【0013】本発明で採用する昇華精製方法は、攪拌方
法と振動方法に大別することができる。前者の攪拌方法
の具体例としては、真空シールされた攪拌機の先端に、
例えば攪拌羽根を装着し、人力あるいは機械力により表
面に形成された殻を直接破壊し、粉砕し、その後攪拌を
継続し表面の殻を減少させるメカニカル攪拌方法、昇華
精製を目的とする有機化合と共に、いわゆるマグネティ
ックバーを存在させ、このマグネティックバーを外部回
転機構を用いて任意の回転数で回転させることにより、
表面の殻を直接破壊し、粉砕し、その後攪拌を継続し表
面の殻を減少させるマグネティック攪拌方法、さらに
は、例えば鉄球を表面の殻の上に落下させることによ
り、破壊し、粉砕する方法などが挙げられる。一方、振
動方法の具体例としては、昇華精製を目的とする有機化
合物の存在する容器の外部に超音波発生装置を付設し、
外部より超音波を照射し、これにより表面の殻を破壊
し、粉砕する超音波振動方法、昇華精製を目的とする有
機化合物の存在する容器を外部より、直接機械的振動あ
るいは人力による振動を与え、表面の殻を破壊し、粉砕
し、攪拌する直接振動方法などが挙げられる。前記攪拌
方法及び振動方法は、それぞれ単独で実施してもよく、
また組み合わせて実施してもよい。
【0014】本発明の有機EL素子においては、各有機
化合物層は、それを構成する有機化合物を用い、真空蒸
着やスパッタリングなどの物理的気相蒸着法(PVD
法)により、形成させるのが好ましい。本発明の有機E
L素子は、基板に支持されていることが好ましい。ここ
で該基板については特に制限はなく、従来有機EL素子
に慣用されているもの、例えばガラスや透明プラスチッ
クからなるものが用いられる。この有機EL素子におけ
る陽極は、素子中に正孔を注入するための電極であり、
この陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金
属,合金,電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極
物質とするものが好ましく用いられる。このような電極
物質の具体例としては、Auなどの金属,CuI,IT
O(インジウムチンオキシド),SnO2 ,ZnOなど
の導電性透明材料が挙げられる。この陽極は、例えばこ
れらの電極物質を真空蒸着やスパッタリングなどの方法
により、薄膜を形成させることにより作製することがで
きる。この電極より発光を取り出す場合には、発光に対
する透過率を10%より大きくすることが望ましく、ま
た、電極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好まし
い。
【0015】さらに膜厚は材料にもよるが、通常10n
m〜1μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ば
れる。一方、陰極は、素子中に電子を注入するための電
極であり、この陰極としては、仕事関数の小さい(4e
V以下)金属,合金,電気伝導性化合物及びこれらの混
合物を電極物質とするものが用いられる。このような電
極物質の具体例としては、ナトリウム,ナトリウム−カ
リウム合金,マグネシウム,リチウム,マグネシウム/
銅混合物,マグネシウム/銀合金,アルミニウム−リチ
ウム合金,Al/Al2 3 混合物,インジウム,希土
類金属などが挙げられる。この陰極は、例えばこれらの
電極物質を真空蒸着やスパッタリングなどの方法によ
り、薄膜を形成させることにより、作製することができ
る。この電極より発光を取り出す場合には、発光に対す
る透過率を10%より大きくすることが望ましく、また
電極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。
さらに膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1μm、
好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれる。
【0016】本発明の有機EL素子に、直流電圧を印加
する場合には、陽極を+,陰極を−の極性として電圧3
〜40V程度を印加すると、発光が透明又は半透明の電
極側より観測できる。また、逆の極性で印加しても電流
は流れずに発光は全く生じない。さらに、交流電圧を印
加する場合には、正極が+,負極が−の状態になったと
きのみ発光する。なお、印加する交流の波形は任意でよ
い。
【0017】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳しく
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。 製造例1 発光材料の製造 発光材料として、下記の構造を有する4,4''−ビス
(2,2−ジフェニルビニル−1−イル)−p−タ−フ
ェニレン(以下、DPVTPと略記する。)を製造し
た。
【0018】
【化1】
【0019】アルゴンガス雰囲気下、100ミリリット
ルの三つ口フラスコにベンゾフェノン1.0g、及び次式
で示される構造を有するホスホン酸エステル1.2gをモ
レキュラーシーブを用いて乾燥させたジメチルスルホキ
シド30ミリリットルに懸濁させた。
【0020】
【化2】
【0021】この懸濁液を室温にて、カリウム−t−ブ
トキシド0.5gを加えて反応させたところ、反応物は直
ちに赤茶色の懸濁液となった。その後、反応温度を27
℃に保持し約1時間攪拌すると、この反応物は黄色の懸
濁液となった。更に、2時間攪拌した後、メタノール4
0ミリリットルを加えて黄色沈殿を濾取した。次いで、
この黄色沈殿物をトルエン100ミリリットルに懸濁さ
せ、目的物を加熱抽出した後、トルエンを留去すること
により0.5gの白色粉末を得た。これをDPVTP−1
とした。この粉末をボート温度320℃、10-5tor
rの条件で昇華精製することにより、0.38gの精製粉
末を得た。これをDPVTP−2とした。 製造例2 正孔注入材料の製造 正孔注入材料として、下記の構造を有する4,4’,
4''−トリス−〔N−(m−トリル)−N−フェニルア
ミノ〕トリフェニルアミン(以下、MTDATAと略記
する。)を製造した。
【0022】
【化3】
【0023】300ミリリットルの三つ口フラスコに
4,4’,4''−トリヨードトリフェニルアミン1.0
g、N−(3−トリル)−N−フェニルアミン(アルド
リッチ社製)1.0g、無水炭酸カリウム3g及び銅粉1.
0gを加え、200ミリリットルのジメチルスルホキシ
ドに溶解し200℃で8時間攪拌して反応させた。反応
終了後、反応液を濾過し、母液を塩化メチレンで抽出し
た。そして、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去
し、残渣をシリカゲル(広島和光純薬社製)を充填した
カラムクロマトでトルエンを展開溶媒として精製し、淡
黄色粉末0.3gを得た。これをMTDATA−1とし
た。
【0024】これを更に、ボート温度390℃、10-5
torrの条件で3回昇華精製することにより、0.24
gの淡黄色粉末を得た。これをMTDATA−2とし
た。 製造例3 正孔輸送材料の製造 正孔輸送材料として、下記の構造を有するN,N’−ジ
−(ナフチル−1−イル)−N,N’−ジフェニル−
4,4''−ベンジジン(以下、NPDと略記する。)を
製造した。
【0025】
【化4】
【0026】4,4’,4''−トリヨードトリフェニル
アミンの代わりに1−ヨードナフタレン(東京化成社
製)2.0gを、そして、N−(3−トリル)−N−フェ
ニルアミン(アルドリッチ社製)の代わりにN,N’−
ジフェニルベンジジン(広島和光純薬社製)1.0gを用
いた以外は、製造例2と同様に反応・精製を行い、0.3
7gの淡黄色粉末を得た。これを、NPD−1とした。
これを更に、ボート温度320℃、10-5torrの条
件で2回昇華精製することにより、0.31gの淡黄色粉
末を得た。これをNPD−2とした。 製造例4 ドーパントの製造 ドーパントとして、下記の構造を有する4,4’−ビス
−〔2−〔4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル
−1−イル〕−ビニル−1−イル〕−1,1’−ビフェ
ニル(以下、DPAVBiと略記する。)を製造した。
【0027】
【化5】
【0028】200ミリリットルの三つ口フラスコに製
造例1で用いたホスホン酸エステル1.9g、及びN,N
−ジフェニル−4−アミノベンズアルデヒド3.0gを加
え、モレキュラーシーブで乾燥させたジメチルスルホキ
シド50ミリリットルに溶解させた。これをアルゴンガ
ス雰囲気下、室温にてマグネチックスタラーで攪拌しな
がら、カリウム−t−ブトキシド(関東化学社製)1.0
gを粉末の状態で少量ずつ加えた。反応液は、直ちに赤
黒色を呈し、やがて退色し、緑黄色、後に黄土色の析出
物となった。
【0029】反応後は、室温のまま更に3時間攪拌し
た。これを室温にて一晩放置した後、80重量%メタノ
ール水溶液50ミリリットルを徐々に加えた後、生成し
た黄色沈殿物を濾取し、80重量%メタノール水溶液5
0ミリリットルにて2回洗浄し、更にメタノール50ミ
リリットルにて2回洗浄した。これを50℃にて3時間
真空乾燥を行ったところ、黄色粉末2.8gが得られた。
次に、シリカゲル(富士デヴィソン化学社製、商品名B
W−820MH)140gをトルエンにて充填したカラ
ムクロマトに、前記黄色粉末をトルエンを用いて展開
し、最初に展開する画分を集めた。なお、この際の薄層
クロマトグラフィー(展開溶媒トルエン:n−ヘキサン
=2:1(容量比)、シリカゲル薄層)では、移動率
(Rate of flow) Rf =0.8であった。
【0030】次に、目的物の含まれる画分を集め、溶媒
をエバポレーターにて留去して乾固させた。そして、こ
のようにして得られた黄色粉末をトルエン60ミリリッ
トルに熱溶解させ、不溶解物はメンブランフィルター
(ADVANTEC社製、1μm、25mm)にて濾過
した。このトルエン溶液を室温にて放置し、得られた析
出物を濾取し、50℃で2時間乾燥することにより黄色
粉末2.3gを得た。これを、DPAVBi−1とした。
これを更にもう一度、トルエン50ミリリットルに熱溶
解させ、3回再結晶を繰り返した。その結果、黄色粉末
1.6gを得た。これを、DPAVBi−2とした。
【0031】製造例5 電子輸送材料の精製 電子輸送材料として、下記の構造を有する同仁化学社製
のアルミニウム−トリス(8−ヒドロキシキノリノー
ル)(以下、Alqと略記する。)を用いた。
【0032】
【化6】
【0033】同仁化学社製Alq(これをAlq−1と
した)1.0gをボート温度300℃、10-5torrの
条件で2回昇華精製することにより、0.7gの黄色粉末
を得た。これをAlq−2とした。製造例1〜5で得ら
れた各化合物について、明細書本文に記載した方法に従
い、GPC法による分析を行い、全体のピーク面積に対
するメインピーク面積の割合を求めた。結果を第1表に
示す。
【0034】
【表1】
【0035】実施例1 25mm×75mm×1.1mmのガラス基板上に蒸着法
により、厚さ100nmのインジウム−錫−酸化物膜
(In−Ti−O膜、以下ITO膜と略記する)(陽極
に相当)を設け、これを透明支持基板とした。この透明
支持基板をイソプロピルアルコールで5分間超音波洗浄
し、更に純粋中で5分間超音波洗浄した後、UVイオン
洗浄器(サムコインターナショナル社製)を用いて基板
温度150℃で20分間洗浄した。この透明支持基板を
乾燥窒素ガスで乾燥して市販の蒸着装置(日本真空技術
社製)の基板ホルダーに固定した。また、この市販の蒸
着装置には複数のモリブデン製の抵抗加熱ボートが配設
され、それぞれ独立した抵抗加熱ボートにMTDATA
−1を200mg、NPD−1を200mg、DPVT
P−2を200mg、DPAVBi−1を200mg、
Alq−1を200mg入れ、これらを蒸着用有機化合
物とした。
【0036】蒸着用有機化合物を抵抗加熱ボートに入れ
た後、真空槽を4×10-6torr迄減圧し、MTDA
TA−1の入った前記加熱ボートに通電して360℃迄
加熱し、蒸着速度0.1〜0.3nm/秒で透明支持基板上
に蒸着して60nmのMTDATA−1層を設けた。そ
して、NPD−1の入った前記加熱ボートに通電して2
60℃迄加熱し、蒸着速度0.1〜0.3nm/秒で、上記
MTDATA−1層の上に、NPD−1を蒸着して膜厚
20nmのMTDATA−1層を設けた。次いで、DP
VTP−2の入った前記加熱ボートとDPAVBi−1
の入った前記加熱ボートを同時に通電し、DPVTP−
2とDPAVBi−1から成る膜厚40nmの発光層を
形成した。この時の蒸着速度は、DPVTP−2が2.8
〜3.0nm/秒であり、DPAVBi−1が0.1〜0.1
3nm/秒であった。更に、Alq−1の入った加熱ボ
ートに通電して、蒸着速度0.1〜0.3nm/秒で上記発
光層の上にAlq−1層を蒸着して、膜厚20nmのA
lq−1層を設けた。
【0037】次に、これを真空槽から取り出し、上記電
子注入層の上にステンレススチール製のマスクを配置
し、再度基板ホルダー上に固定した。次いで、アルミニ
ウム及びリチウム(Al−Li)から成るリチウム濃度
5原子%の合金母材を陰極形成用の蒸着材料として用
い、蒸着時の真空度1×10-6torr、蒸着速度0.5
〜1.0nm/秒の条件で蒸着し、膜厚150nmの陰極
を形成した。以上のようにして得られた有機EL素子
に、ITO電極を正、Al−Li合金電極を負にし、6
Vの直流電圧を印加したところ、均一な青色発光が得ら
れた。この有機EL素子の半減寿命(初期輝度300c
d/m2 が150cd/m2へと減衰する迄の時間)
は、窒素気流下、定電流駆動することにより測定した。
この有機EL素子の半減寿命を第2表に示した。 実施例2 実施例1において、DPVTP−2をDPVTP−1
に、そしてMTDATA−1をMTDATA−2に変え
た以外は全く同様にして有機EL素子を作製した。得ら
れた有機EL素子に、ITO電極を正、Al−Li合金
電極を負にし、6Vの直流電圧を印加したところ、均一
な青色発光が得られた。この有機EL素子の半減寿命を
第2表に示した。
【0038】実施例3 実施例1において、DPVTP−2をDPVTP−1
に、そしてNPD−1をNPD−2に変えた以外は全く
同様にして有機EL素子を作製した。得られた有機EL
素子に、ITO電極を正、Al−Li合金電極を負に
し、6Vの直流電圧を印加したところ、均一な青色発光
が得られた。この有機EL素子の半減寿命を第2表に示
した。 実施例4 実施例1において、DPVTP−2をDPVTP−1
に、そしてDPAVBi−1をDPAVBi−2に変え
た以外は全く同様にして有機EL素子を作製した。得ら
れた有機EL素子に、ITO電極を正、Al−Li合金
電極を負にし、6Vの直流電圧を印加したところ、均一
な青色発光が得られた。この有機EL素子の半減寿命を
第2表に示した。
【0039】実施例5 実施例1において、DPVTP−2をDPVTP−1
に、そしてAlq−1をAlq−2に変えた以外は全く
同様にして有機EL素子を作製した。得られた有機EL
素子に、ITO電極を正、Al−Li合金電極を負に
し、6Vの直流電圧を印加したところ、均一な青色発光
が得られた。この有機EL素子の半減寿命を第2表に示
した。 実施例6 実施例1において、MTDATA−1をMTDATA−
2に、NPD−1をNPD−2に、DPAVBi−1を
DPAVBi−2に、更にAlq−1をAlq−2に変
えた以外は全く同様にして有機EL素子を作製した。得
られた有機EL素子に、ITO電極を正、Al−Li合
金電極を負にし、6Vの直流電圧を印加したところ、均
一な青色発光が得られた。この有機EL素子の半減寿命
を第2表に示した。 比較例1 実施例1において、DPVTP−2をDPVTP−1に
変えた以外は全く同様にして有機EL素子を作製した。
得られた有機EL素子に、ITO電極を正、Al−Li
合金電極を負にし、6Vの直流電圧を印加したところ、
均一な青色発光が得られた。この有機EL素子の半減寿
命を第2表に示した。
【0040】
【表2】
【0041】第2表から明らかなように、実施例1〜6
の有機EL素子は、比較例1のものに比べて、いずれも
半減寿命が2倍以上改善されていることが分かる。
【0042】
【発明の効果】本発明の有機EL素子は、長時間の駆動
に対しても発光輝度が減衰することがなく、耐久性に優
れた実用的なものであって、例えば情報機器のディスプ
レイなどに好適に用いられる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも有機発光層を有する有機化合
    物層を陽極と陰極とからなる一対の電極で挟持してなる
    有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記有機
    化合物層を形成するために用いる有機化合物の中の少な
    くとも一つが、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
    ー法(GPC法)による分析において、全体のピーク面
    積に対するメインピーク面積の割合が98%以上である
    ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
  2. 【請求項2】 有機化合物層を形成するために用いる有
    機化合物の中の少なくとも一つが、昇華法によって精製
    されたものである請求項1記載の有機エレクトロルミネ
    ッセンス素子。
  3. 【請求項3】 有機化合物を形成するために用いる有機
    化合物の中の少なくとも一つが、再結晶法によって精製
    されたものである請求項1記載の有機エレクトロルミネ
    ッセンス素子。
  4. 【請求項4】 有機化合物層が、物理的気相蒸着法によ
    り形成されたものである請求項1記載の有機エレクトロ
    ルミネッセンス素子。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000143569A (ja) * 1998-11-12 2000-05-23 Samsung Sdi Co Ltd 発光化合物及びこれを発色材料として採用している表示素子
WO2002008500A2 (en) * 2000-07-25 2002-01-31 Board Of Regents, The University Of Texas System In situ regrowth and purification of crystalline thin films
WO2003007658A2 (en) 2001-07-11 2003-01-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-emitting device and aromatic compound

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