JP2000042779A - Laser beam machining device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のレーザビー
ムのエネルギを用いて、溶接、接合、穿設、切断、除
去、改質等を行うためのレーザ加工装置に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a laser processing apparatus for performing welding, joining, drilling, cutting, removing, modifying and the like using the energy of a plurality of laser beams.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のレーザ加工技術として、単一のレ
ーザビームを用いたものが広く普及している。また、複
数のレーザビームを用いたレーザ加工技術が、特開平9-
300087号公報等に開示されている。2. Description of the Related Art As a conventional laser processing technique, a technique using a single laser beam has been widely used. Also, a laser processing technique using a plurality of laser beams is disclosed in
No. 300087 discloses this.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
レーザ加工技術では、レーザビームの移動速度が速くな
るほど、キーホールが不安定となる。その結果、キーホ
ール深さが浅くなることにより、反射光も多くなる。す
なわち、レーザビームの移動速度が速い場合は、溶融深
さが浅くなるという問題があった。However, in the former laser processing technique, the higher the moving speed of the laser beam, the more unstable the keyhole becomes. As a result, the depth of the keyhole becomes shallow, and the amount of reflected light also increases. That is, when the moving speed of the laser beam is high, there is a problem that the melting depth becomes shallow.
【0004】後者のレーザ加工技術では、図9に示すよ
うに、互いに異なる光軸のレーザビーム90,92の焦
点90f,92fを、被加工物94の一点96に集中さ
せて照射している。そのため、被加工物94の位置がレ
ーザビーム90,92の光軸方向に変動すると、レーザ
ビーム90,92が被加工物94上の一点に集まらなく
なるので、十分な加工ができなくなるという問題があっ
た。また、レーザビーム90,92を被加工物94上で
移動させるとき、移動方向によって溶融深さが異なると
いう問題もあった。これは、レーザビーム90,92の
互いの位置関係に方向性があることに起因していると思
われる。In the latter laser processing technique, as shown in FIG. 9, the focal points 90f and 92f of laser beams 90 and 92 having different optical axes are radiated to one point 96 of a workpiece 94 in a concentrated manner. Therefore, when the position of the workpiece 94 fluctuates in the optical axis direction of the laser beams 90 and 92, the laser beams 90 and 92 do not converge at one point on the workpiece 94, so that there is a problem that sufficient processing cannot be performed. Was. Further, when the laser beams 90 and 92 are moved on the workpiece 94, there is another problem that the melting depth varies depending on the moving direction. This seems to be due to the directivity of the positional relationship between the laser beams 90 and 92.
【0005】[0005]
【発明の目的】そこで、本発明の目的は、次の〜の
いずれかを達成した、レーザ加工装置を提供することに
ある。.レーザビームの移動速度が速くても、十分な
溶融深さが得られる。.被加工物の位置がレーザビー
ムの光軸方向に変動しても、複数のレーザビームが分か
れない。.レーザビームの移動方向によって、溶融深
さが変化しない。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a laser processing apparatus which achieves any of the following. . Even when the moving speed of the laser beam is high, a sufficient melting depth can be obtained. . Even if the position of the workpiece changes in the optical axis direction of the laser beam, the plurality of laser beams do not separate. . The melting depth does not change depending on the moving direction of the laser beam.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】請求項1記載のレーザ加
工装置は、レーザビームを発生させる複数のレーザ共振
器と、これらのレーザ共振器から発生した複数のレーザ
ビームに対して光軸を一致させて混合するビーム混合手
段と、このビーム混合手段で混合されたレーザビームを
被加工物へ照射するビーム照射手段と、を備えたもので
ある。According to a first aspect of the present invention, there is provided a laser processing apparatus comprising: a plurality of laser resonators for generating laser beams; and an optical axis coincident with the plurality of laser beams generated from the laser resonators. And a beam irradiating unit for irradiating the workpiece with the laser beam mixed by the beam mixing unit.
【0007】複数のレーザビームは光軸が一致したま
ま、被加工物へ照射される。そのため、被加工物の位置
がどのように変動しても、複数のレーザビームは分かれ
ない。また、被加工物上において複数のレーザビームの
互いの位置関係に方向性はないので、移動方向によって
溶融深さが変化することもない。[0007] A plurality of laser beams are irradiated onto a workpiece while their optical axes are aligned. Therefore, no matter how the position of the workpiece changes, the plurality of laser beams are not separated. In addition, since the positional relationship between the plurality of laser beams on the workpiece is not directional, the melting depth does not change depending on the moving direction.
【0008】請求項2記載のレーザ加工装置は、請求項
1記載のレーザ加工装置において、前記レーザビームの
焦点位置を自在に移動することができる焦点位置可変手
段を更に備えたものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided a laser processing apparatus according to the first aspect, further comprising a focus position changing means capable of freely moving a focus position of the laser beam.
【0009】請求項3記載のレーザ加工装置は、請求項
2記載のレーザ加工装置において、前記焦点位置可変手
段が、電気信号によって鏡面の曲率が変化する可変形ミ
ラーを有するものである。可変形ミラーは、鏡面の曲率
が変化するので、光学部品の光路長方向への移動を伴う
ことなく、焦点位置を変えることができる。According to a third aspect of the present invention, in the laser processing apparatus according to the second aspect, the focal position changing means has a deformable mirror whose curvature of a mirror surface is changed by an electric signal. Since the deformable mirror changes the curvature of the mirror surface, the focal position can be changed without moving the optical component in the optical path length direction.
【0010】請求項4記載のレーザ加工装置は、請求項
2記載のレーザ加工装置において、前記焦点位置可変手
段が、前記複数のレーザビームの焦点位置を互いに異な
らせるものである。光軸上に焦点が複数形成されるの
で、より深い溶融深さが得られる。According to a fourth aspect of the present invention, in the laser processing apparatus according to the second aspect, the focal position varying means makes the focal positions of the plurality of laser beams different from each other. Since a plurality of focal points are formed on the optical axis, a deeper fusion depth can be obtained.
【0011】請求項5記載のレーザ加工装置は、請求項
1記載のレーザ加工装置において、前記レーザ共振器か
ら発生したレーザビームの戻り光を反射する戻り光反射
膜付きミラーが、当該レーザ共振器に設けられたもので
ある。レーザビームの戻り光は、戻り光反射膜付きミラ
ーで反射されるので、レーザ共振器に戻らない。According to a fifth aspect of the present invention, in the laser processing apparatus according to the first aspect, the mirror provided with a return light reflecting film for reflecting return light of a laser beam generated from the laser resonator is provided. It is provided in. The return light of the laser beam does not return to the laser resonator because it is reflected by the mirror with the return light reflection film.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】図1は、本発明に係るレーザ加工
装置の第一実施形態を示す構成図である。以下、この図
面に基づき説明する。FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of a laser processing apparatus according to the present invention. Hereinafter, description will be made based on this drawing.
【0013】本実施形態のレーザ加工装置10は、レー
ザビームA,Bを発生させるレーザ共振器12A,12
Bと、レーザ共振器12A,12Bから発生したレーザ
ビームA,Bに対して光軸Aa,Baを一致させて混合
するビーム混合手段14と、ビーム混合手段14で混合
されたレーザビームA,Bを被加工物94へ照射するビ
ーム照射手段16と、レーザビームA,Bの焦点Af,
Bfを自在に移動することができる焦点位置可変手段1
8,20とを備えている。The laser processing apparatus 10 according to the present embodiment includes laser resonators 12A, 12A for generating laser beams A, B.
B, beam mixing means 14 for mixing the laser beams A and B generated from the laser resonators 12A and 12B with the optical axes Aa and Ba coincident with each other, and the laser beams A and B mixed by the beam mixing means 14. Beam irradiation means 16 for irradiating the workpiece 94 with the laser beam A, the focal points Af,
Focus position changing means 1 capable of freely moving Bf
8, 20.
【0014】レーザ共振器12Aは炭酸ガスレーザ(波
長10.6〔μm〕)であり、レーザ共振器12BはYAG
レーザ(波長1.06〔μm〕)である。レーザ共振器12
A,12Bには、それぞれ戻り光反射膜付きミラー22
A,22Bが設けられている。戻り光反射膜付きミラー
22A,22Bは、レーザビームA,Bの戻り光をレー
ザ共振器12A,12へ入れないようにすることで、レ
ーザ共振器12A,12Bを保護する。戻り光反射膜付
きミラー22Aとビーム混合手段14との間には反射鏡
24が設けられている。The laser resonator 12A is a carbon dioxide laser (wavelength 10.6 [μm]), and the laser resonator 12B is a YAG laser.
Laser (wavelength 1.06 [μm]). Laser resonator 12
A and 12B respectively have a mirror 22 with a return light reflecting film.
A, 22B are provided. The mirrors with return light reflecting films 22A and 22B protect the laser resonators 12A and 12B by preventing return light of the laser beams A and B from entering the laser resonators 12A and 12B. A reflection mirror 24 is provided between the mirror 22A with the return light reflection film and the beam mixing means 14.
【0015】ビーム混合手段14は、レーザビームAを
透過させるとともにレーザビームBを反射させるダイク
ロイックミラー141と、ダイクロイックミラー141
を収容する防塵筐体142とからなる。レーザビームA
はダイクロイックミラー141を45°の入射角で透過
し、レーザビームBはダイクロイックミラー141を45
°の入射角で反射することにより、それぞれの光軸A
a,Baが一致する。The beam mixing means 14 includes a dichroic mirror 141 for transmitting the laser beam A and reflecting the laser beam B, and a dichroic mirror 141.
And a dustproof housing 142 that accommodates Laser beam A
Is transmitted through the dichroic mirror 141 at an incident angle of 45 °, and the laser beam B is transmitted through the dichroic mirror 141 by 45 °.
By reflecting at an incident angle of °, each optical axis A
a and Ba match.
【0016】ビーム照射手段16は、凹面鏡161から
なり、図示しない移動機構により、所望の加工位置へ移
動させることができる。The beam irradiating means 16 comprises a concave mirror 161 and can be moved to a desired processing position by a moving mechanism (not shown).
【0017】焦点位置可変手段18は可変形ミラー18
1からなり、焦点位置可変手段20は可変形ミラー20
1,202からなる。可変形ミラー181,201,2
02は、電流値に応じて変形するピエゾアクチュエータ
(図示せず)と、ピエゾアクチュエータで発生する力に
よって凹面から凸面まで連続的に変形する金属反射膜
(図示せず)とを備えることにより、電気信号によって
鏡面の曲率が変化するものである。可変形ミラー18
1,…の凹凸を制御することによって、レーザビーム
A,Bの集光点でのスポット径、焦点位置、焦点深度等
を、光学部品の光路長方向への移動を伴うことなく任意
に設定できる。このような可変形ミラーは、ドイツDI
EHL社から「Adaptive Optics」として販売されてい
る。The focus position changing means 18 is a deformable mirror 18
1 and the focus position changing means 20 is a deformable mirror 20
1,202. Deformable mirrors 181, 201, 2
Numeral 02 is provided with a piezo actuator (not shown) that deforms in accordance with a current value, and a metal reflective film (not shown) that continuously deforms from a concave surface to a convex surface by a force generated by the piezo actuator, thereby providing electricity. The curvature of the mirror surface changes according to the signal. Deformable mirror 18
By controlling the irregularities of 1,..., The spot diameter, focal position, focal depth, and the like at the focal point of the laser beams A and B can be arbitrarily set without moving the optical component in the optical path length direction. . Such deformable mirrors are
It is sold by EHL as "Adaptive Optics".
【0018】焦点位置可変手段20は、戻り光反射膜付
きミラー22Bとビーム混合手段14との間に設けられ
ている。戻り光反射膜付きミラー22Bを透過したレー
ザビームBは、可変形ミラー201で反射した後、可変
形ミラー202で反射し、続いてビーム混合手段14へ
進む。焦点位置可変手段20によって、レーザビームA
の焦点位置に対して、レーザビームBの焦点位置を任意
に設定できる。The focal position changing means 20 is provided between the mirror 22B with the return light reflecting film and the beam mixing means 14. The laser beam B transmitted through the return light reflecting film-equipped mirror 22B is reflected by the deformable mirror 201, reflected by the deformable mirror 202, and then proceeds to the beam mixing means 14. The laser beam A
The focal position of the laser beam B can be set arbitrarily with respect to the focal position.
【0019】焦点位置可変手段18は、ビーム混合手段
14とビーム照射手段16との間に設けられている。焦
点位置可変手段18,20によって、レーザビームA,
Bの集光状態を一致させたり異ならせたりすることが可
能となる。また、焦点Af,Bfと被加工物94との位
置ずれを検出するギャップセンサ(図示せず)と、ギャ
ップセンサから位置ずれのデータに基づき可変形ミラー
181の凹凸を制御するコントローラ(図示せず)とに
より、被加工物94に対して焦点Af,Bfの位置を補
正することができる。The focus position changing means 18 is provided between the beam mixing means 14 and the beam irradiation means 16. The laser beam A,
It is possible to make the light collecting states of B coincide or differ. Further, a gap sensor (not shown) for detecting a displacement between the focal points Af, Bf and the workpiece 94, and a controller (not shown) for controlling unevenness of the deformable mirror 181 based on data of the displacement from the gap sensor. ), The positions of the focal points Af and Bf with respect to the workpiece 94 can be corrected.
【0020】レーザ加工装置10は、二つの可変形ミラ
ー201,202からなる焦点位置可変手段20を有す
るので、レーザビームBの発散角がレーザビームAより
も著しく大きい場合、及びレーザビームA,Bの合計出
力が5〔kW〕以下の場合に適している。Since the laser processing apparatus 10 has the focus position changing means 20 including two deformable mirrors 201 and 202, the laser beam B has a divergence angle significantly larger than the laser beam A, and the laser beams A and B Is suitable when the total output is 5 [kW] or less.
【0021】図2は、レーザ加工装置10による被加工
物94の溶接状態を示し、図2〔1〕が平面図、図2
〔2〕が図2〔1〕におけるII−II線縦断面図である。
以下、図1及び図2に基づき、レーザ加工装置10の動
作を説明する。FIG. 2 shows a welding state of the workpiece 94 by the laser processing apparatus 10, and FIG.
[2] is a vertical sectional view taken along the line II-II in FIG. 2 [1].
Hereinafter, the operation of the laser processing apparatus 10 will be described with reference to FIGS.
【0022】レーザビームA,Bは被加工物94上を矢
印26の方向に進んでいる。レーザビームA,Bが照射
されている部分にはキーホール941が形成され、レー
ザビームA,Bが既に照射された部分には溶接ビード9
42が形成されている。The laser beams A and B are traveling on the workpiece 94 in the direction of arrow 26. A keyhole 941 is formed in a portion irradiated with the laser beams A and B, and a welding bead 9 is formed in a portion already irradiated with the laser beams A and B.
42 are formed.
【0023】レーザビームA,Bは光軸Aa,Baが一
致したまま、被加工物94へ照射される。そのため、被
加工物94の位置が変動しても、レーザビームA,Bは
分かれない。また、被加工物94上においてレーザビー
ムA,Bの互いの位置関係に方向性はないので、移動方
向によって溶融深さが変化することもない。更に、レー
ザビームA,Bの焦点Af,Bfの位置が異なることに
より、一本の光軸Aa,Ba上に二つの焦点Af,Bf
が形成されるので、より深い溶融深さが得られる。した
がって、高速溶接時でも良好な溶接状態が維持される。
なお、焦点Af,Bfの位置は、図のように焦点Afを
浅く焦点Bfを深くするのに限らず、焦点Afを深く焦
点Bfを浅くしてもよく、図8に示す例のようにしても
よい。The laser beams A and B are applied to the workpiece 94 with the optical axes Aa and Ba aligned. Therefore, even if the position of the workpiece 94 changes, the laser beams A and B do not separate. Further, since the positional relationship between the laser beams A and B on the workpiece 94 has no directionality, the melting depth does not change depending on the moving direction. Further, since the positions of the focal points Af and Bf of the laser beams A and B are different, two focal points Af and Bf are arranged on one optical axis Aa and Ba.
Is formed, so that a deeper melting depth is obtained. Therefore, a favorable welding state is maintained even during high-speed welding.
The positions of the focal points Af and Bf are not limited to the case where the focal point Af is shallow and the focal point Bf is deep as shown in the figure, but the focal point Af may be deep and the focal point Bf may be shallow, as in the example shown in FIG. Is also good.
【0024】図3は、本発明に係るレーザ加工装置の第
二実施形態を示す構成図である。以下、この図面に基づ
き説明する。ただし、図1と同一部分は同一符号を付す
ことにより重複説明を省略する。FIG. 3 is a configuration diagram showing a second embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention. Hereinafter, description will be made based on this drawing. However, the same parts as those in FIG.
【0025】本実施形態のレーザ加工装置30は、レー
ザビームA,Bを発生させるレーザ共振器12A,12
Bと、レーザ共振器12A,12Bから発生したレーザ
ビームA,Bに対して光軸Aa,Baを一致させて混合
するビーム混合手段14と、ビーム混合手段14で混合
されたレーザビームA,Bを被加工物94へ照射するビ
ーム照射手段16と、レーザビームA,Bの焦点Af,
Bfを自在に移動することができる焦点位置可変手段2
0,32とを備えている。The laser processing apparatus 30 according to the present embodiment includes laser resonators 12A, 12A for generating laser beams A, B.
B, beam mixing means 14 for mixing the laser beams A and B generated from the laser resonators 12A and 12B with the optical axes Aa and Ba coincident with each other, and the laser beams A and B mixed by the beam mixing means 14. Beam irradiation means 16 for irradiating the workpiece 94 with the laser beam A, the focal points Af,
Focus position changing means 2 capable of freely moving Bf
0, 32.
【0026】焦点位置可変手段32は、可変形ミラー3
21からなり、戻り光反射膜付きミラー22Aとビーム
混合手段14との間に設けられている。戻り光反射膜付
きミラー22Aを透過したレーザビームAは、可変形ミ
ラー321で反射した後、ビーム混合手段14へ進む。
可変形ミラー321によって、レーザビームAの焦点A
fの位置を任意に設定できる。また、ビーム混合手段1
4とビーム照射手段16との間には、反射鏡34が設け
られている。The focus position changing means 32 includes a deformable mirror 3
21 is provided between the mirror 22A with the return light reflection film and the beam mixing means 14. The laser beam A transmitted through the return light reflecting film-equipped mirror 22A is reflected by the deformable mirror 321, and then proceeds to the beam mixing means 14.
The focal point A of the laser beam A is changed by the deformable mirror 321.
The position of f can be set arbitrarily. Also, beam mixing means 1
A reflection mirror 34 is provided between 4 and the beam irradiation means 16.
【0027】レーザ加工装置30は、二つの可変形ミラ
ー201,202からなる焦点位置可変手段20を有す
るので、レーザビームBの発散角がレーザビームAより
も著しく大きい場合、及びレーザビームA,Bの合計出
力が5〔kW〕以上の場合に適している。Since the laser processing apparatus 30 has the focal position changing means 20 including two deformable mirrors 201 and 202, the laser beam B has a divergence angle significantly larger than that of the laser beam A, and the laser beams A and B Is suitable when the total output is 5 [kW] or more.
【0028】図4は、本発明に係るレーザ加工装置の第
三実施形態を示す構成図である。以下、この図面に基づ
き説明する。ただし、図1及び図3と同一部分は同一符
号を付すことにより重複説明を省略する。FIG. 4 is a configuration diagram showing a third embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention. Hereinafter, description will be made based on this drawing. However, the same parts as those in FIGS. 1 and 3 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
【0029】本実施形態のレーザ加工装置40は、レー
ザビームA,Bを発生させるレーザ共振器12A,12
Bと、レーザ共振器12A,12Bから発生したレーザ
ビームA,Bに対して光軸Aa,Baを一致させて混合
するビーム混合手段14と、ビーム混合手段14で混合
されたレーザビームA,Bを被加工物94へ照射するビ
ーム照射手段16と、レーザビームA,Bの焦点Af,
Bfを自在に移動することができる焦点位置可変手段3
2,42とを備えている。The laser processing apparatus 40 according to the present embodiment comprises laser resonators 12A, 12A for generating laser beams A, B.
B, beam mixing means 14 for mixing the laser beams A and B generated from the laser resonators 12A and 12B with the optical axes Aa and Ba coincident with each other, and the laser beams A and B mixed by the beam mixing means 14. Beam irradiation means 16 for irradiating the workpiece 94 with the laser beam A, the focal points Af,
Focus position changing means 3 capable of freely moving Bf
2, 42.
【0030】焦点位置可変手段42は、可変形ミラー4
21からなり、戻り光反射膜付きミラー22Bとビーム
混合手段14との間に、反射鏡44とともに設けられて
いる。戻り光反射膜付きミラー22Bを透過したレーザ
ビームBは、反射鏡44で反射した後、可変形ミラー4
21で反射し、続いてビーム混合手段14へ進む。可変
形ミラー421によって、レーザビームBの焦点Bfの
位置を任意に設定できる。The focus position changing means 42 includes the deformable mirror 4
21 and is provided together with the reflecting mirror 44 between the mirror 22B with the return light reflecting film and the beam mixing means 14. The laser beam B transmitted through the return light reflecting film-equipped mirror 22B is reflected by the reflecting mirror 44, and then reflected by the deformable mirror 4B.
The light is reflected at 21 and subsequently proceeds to the beam mixing means 14. The position of the focal point Bf of the laser beam B can be arbitrarily set by the deformable mirror 421.
【0031】レーザ加工装置40は、可変形ミラー32
1からなる焦点位置可変手段32及び可変形ミラー42
1からなる焦点位置可変手段42を有するので、レーザ
ビームA,Bの発散角が比較的小さい場合、及びレーザ
ビームA,Bの合計出力が5〔kW〕以上の場合に適し
ている。The laser processing device 40 includes a deformable mirror 32
1 variable focal position means 32 and deformable mirror 42
Since the focus position changing means 42 of 1 is used, it is suitable when the divergence angle of the laser beams A and B is relatively small and when the total output of the laser beams A and B is 5 [kW] or more.
【0032】図5は、本発明に係るレーザ加工装置の第
四実施形態を示す構成図である。以下、この図面に基づ
き説明する。ただし、図1及び図4と同一部分は同一符
号を付すことにより重複説明を省略する。FIG. 5 is a block diagram showing a fourth embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention. Hereinafter, description will be made based on this drawing. However, the same parts as those in FIGS. 1 and 4 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
【0033】本実施形態のレーザ加工装置50は、レー
ザビームA,Bを発生させるレーザ共振器12A,12
Bと、レーザ共振器12A,12Bから発生したレーザ
ビームA,Bに対して光軸Aa,Baを一致させて混合
するビーム混合手段14と、ビーム混合手段14で混合
されたレーザビームA,Bを被加工物94へ照射するビ
ーム照射手段16と、レーザビームA,Bの焦点Af,
Bfを自在に移動することができる焦点位置可変手段1
8,42とを備えている。The laser processing apparatus 50 according to the present embodiment comprises laser resonators 12A, 12A for generating laser beams A, B.
B, beam mixing means 14 for mixing the laser beams A and B generated from the laser resonators 12A and 12B with the optical axes Aa and Ba coincident with each other, and the laser beams A and B mixed by the beam mixing means 14. Beam irradiation means 16 for irradiating the workpiece 94 with the laser beam A, the focal points Af,
Focus position changing means 1 capable of freely moving Bf
8, 42.
【0034】レーザ加工装置50は、可変形ミラー18
1からなる焦点位置可変手段18、可変形ミラー321
からなる焦点位置可変手段32及び可変形ミラー421
からなる焦点位置可変手段42を有するので、レーザビ
ームA,Bの発散角が比較的小さい場合、及びレーザビ
ームA,Bの合計出力が5〔kW〕以下の場合に適して
いる。The laser processing device 50 includes the deformable mirror 18
1 and a deformable mirror 321
Variable position mirror 32 and deformable mirror 421
This is suitable for the case where the divergence angles of the laser beams A and B are relatively small and the case where the total output of the laser beams A and B is 5 [kW] or less.
【0035】図6は、本発明に係るレーザ加工装置の第
五実施形態を示す構成図である。以下、この図面に基づ
き説明する。ただし、図1及び図4と同一部分は同一符
号を付すことにより重複説明を省略する。FIG. 6 is a block diagram showing a fifth embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention. Hereinafter, description will be made based on this drawing. However, the same parts as those in FIGS. 1 and 4 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
【0036】本実施形態のレーザ加工装置60は、レー
ザビームA,Bを発生させるレーザ共振器12A,12
Bと、レーザ共振器12A,12Bから発生したレーザ
ビームA,Bに対して光軸Aa,Baを一致させて混合
するビーム混合手段14と、ビーム混合手段14で混合
されたレーザビームA,Bを被加工物94へ照射するビ
ーム照射手段16と、レーザビームA,Bの焦点Af,
Bfを自在に移動することができる焦点位置可変手段2
0,62とを備えている。The laser processing apparatus 60 according to the present embodiment includes laser resonators 12A, 12A for generating laser beams A, B.
B, beam mixing means 14 for mixing the laser beams A and B generated from the laser resonators 12A and 12B with the optical axes Aa and Ba coincident with each other, and the laser beams A and B mixed by the beam mixing means 14. Beam irradiation means 16 for irradiating the workpiece 94 with the laser beam A, the focal points Af,
Focus position changing means 2 capable of freely moving Bf
0,62.
【0037】焦点位置可変手段62は、可変形ミラー6
21,622からなり、戻り光反射膜付きミラー22A
とビーム混合手段14との間に設けられている。戻り光
反射膜付きミラー22Aを透過したレーザビームAは、
可変形ミラー621で反射した後、可変形ミラー622
で反射し、続いてビーム混合手段14へ進む。可変形ミ
ラー621,622によって、レーザビームAの焦点A
fの位置を任意に設定できる。The focus position changing means 62 includes the deformable mirror 6
21 and 622, a mirror 22A with a return light reflecting film
And the beam mixing means 14. The laser beam A transmitted through the mirror with return light reflection film 22A is
After being reflected by the deformable mirror 621, the deformable mirror 622
, And then proceeds to the beam mixing means 14. The focal point A of the laser beam A is changed by the deformable mirrors 621 and 622.
The position of f can be set arbitrarily.
【0038】レーザ加工装置50は、可変形ミラー20
1,202からなる焦点位置可変手段20及び可変形ミ
ラー621,622からなる焦点位置可変手段62を有
するので、レーザビームA,Bの発散角がどちらも比較
的大きい場合、及びレーザビームA,Bの合計出力が5
〔kW〕以上の場合に適している。The laser processing device 50 includes the deformable mirror 20
1 and 202, and the focal position varying means 62 composed of deformable mirrors 621 and 622, so that the divergence angles of the laser beams A and B are both relatively large and that the laser beams A and B are relatively large. Total output of 5
[KW] or more.
【0039】図7は、本発明に係るレーザ加工装置の第
六実施形態を示す部分構成図である。以下、この図面に
基づき説明する。ただし、図1と同一部分は同一符号を
付すことにより重複説明を省略する。FIG. 7 is a partial configuration diagram showing a sixth embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention. Hereinafter, description will be made based on this drawing. However, the same parts as those in FIG.
【0040】本実施形態のレーザ加工装置は、ビーム混
合手段74に特徴がある。ビーム混合手段74は、レー
ザビームAを透過させるとともにレーザビームBを反射
させるダイクロイックミラー141と、ダイクロイック
ミラー141を収容する防塵筐体142と、ダイクロイ
ックミラー141を僅かに透過したレーザビームBを検
出する光検出器741とからなる。The laser processing apparatus of this embodiment is characterized by the beam mixing means 74. The beam mixing means 74 detects the dichroic mirror 141 that transmits the laser beam A and reflects the laser beam B, the dustproof housing 142 that houses the dichroic mirror 141, and the laser beam B that has slightly transmitted through the dichroic mirror 141. And a photodetector 741.
【0041】ダイクロイックミラー141のレーザビー
ムBの照射面S1には、レーザビームA(炭酸ガスレー
ザ)を透過させるとともにレーザビームB(YAGレー
ザ)を反射させるコーティングが施されている。ダイク
ロイックミラー141のレーザビームAの照射面S2に
は、レーザビームAを透過させるコーティングが施され
ている。しかしながら、YAGレーザを100 〔%〕全反
射させるコーティングは無いので、レーザビームBはダ
イクロイックミラー141を僅かに透過する。そこで、
ビーム混合手段74では、ダイクロイックミラー141
を透過したレーザビームBを検出する光検出器741を
設けることにより、ダイクロイックミラー141の劣化
や損傷を検出している。すなわち、光検出器741で検
出されたレーザビームBが異常であれば、ダイクロイッ
クミラー141の劣化や損傷が生じたと判断できる。The irradiation surface S1 of the laser beam B of the dichroic mirror 141 is provided with a coating for transmitting the laser beam A (carbon dioxide laser) and reflecting the laser beam B (YAG laser). The irradiation surface S2 of the dichroic mirror 141 with the laser beam A is provided with a coating for transmitting the laser beam A. However, since there is no coating that totally reflects 100% of the YAG laser, the laser beam B slightly transmits through the dichroic mirror 141. Therefore,
In the beam mixing means 74, the dichroic mirror 141
The deterioration or damage of the dichroic mirror 141 is detected by providing the photodetector 741 for detecting the laser beam B transmitted through the mirror. That is, if the laser beam B detected by the photodetector 741 is abnormal, it can be determined that the dichroic mirror 141 has been deteriorated or damaged.
【0042】図8は、本発明に係るレーザ加工装置にお
けるレーザビームの焦点位置を示す概略図であり、図8
〔1〕が第一例、図8〔2〕が第二例、図8〔3〕が第
三例、図8〔4〕が第四例である。以下、この図面に基
づき説明する。ただし、図2と同一部分は同一符号を付
すことにより重複説明を省略する。FIG. 8 is a schematic diagram showing a focal position of a laser beam in the laser processing apparatus according to the present invention.
[1] is a first example, FIG. 8 [2] is a second example, FIG. 8 [3] is a third example, and FIG. 8 [4] is a fourth example. Hereinafter, description will be made based on this drawing. However, the same parts as those in FIG.
【0043】レーザビームA,Bの焦点Af,Bfは、
図2に示す以外にも、次のような位置関係をとり得る。
図8〔1〕の第一例は、焦点Af,Bfがどちらも被加
工面940上にある。図8〔2〕の第二例は、焦点A
f,Bfがどちらも被加工面940外にある。図8
〔3〕の第三例は、一方の焦点Afが被加工面940上
にあり、他方の焦点Bfが被加工面940上にある。図
8〔4〕の第四例は、一方の焦点Afが被加工面940
上にあり、他方の焦点Bfが被加工面940内にある。The focal points Af, Bf of the laser beams A, B are
2, the following positional relationship can be taken.
In the first example of FIG. 8A, the focal points Af and Bf are both on the processing surface 940. The second example of FIG.
Both f and Bf are outside the work surface 940. FIG.
In the third example of [3], one focus Af is on the processing surface 940, and the other focus Bf is on the processing surface 940. In the fourth example of FIG. 8D, one of the focal points Af is
Above, and the other focal point Bf is within the processing surface 940.
【0044】図2の例は、焦点Af,Bfのどちらも被
加工面940内にある。図示しないが、焦点Af,Bf
の一方が被加工面940内にあり他方が被加工面940
外にあるようにしてもよい。図面において、焦点Af,
Bfの位置を逆にしてもよい。In the example shown in FIG. 2, both the focal points Af and Bf are within the processing surface 940. Although not shown, the focal points Af, Bf
Is in the work surface 940 and the other is in the work surface 940
It may be outside. In the drawing, the focal points Af,
The position of Bf may be reversed.
【0045】なお、本発明は、いうまでもなく、上記実
施形態に限定されない。例えば、レーザビームは、炭酸
ガスレーザ及びYAGレーザに限定されるものではな
く、本数も三本以上としてもよい。焦点位置可変手段
は、レンズ等によって構成することもできる。It is needless to say that the present invention is not limited to the above embodiment. For example, the laser beam is not limited to the carbon dioxide gas laser and the YAG laser, and the number of laser beams may be three or more. The focal position changing means may be constituted by a lens or the like.
【0046】[0046]
【発明の効果】請求項1乃至5記載のレーザ加工装置に
よれば、複数のレーザビームに対して光軸を一致させて
混合するビーム混合手段を備えたことにより、複数のレ
ーザビームの光軸を一致させて被加工物へ照射すること
ができる。したがって、被加工物の位置の変動に伴い複
数のレーザビームが分かれることを防止できる。また、
レーザビームの互いの位置関係に方向性がないので、移
動方向によって溶融深さが変化することも防止できる。According to the laser processing apparatus of the first to fifth aspects, the beam mixing means for mixing the plurality of laser beams so that their optical axes coincide with each other is provided, so that the optical axes of the plurality of laser beams are provided. Can be applied to the workpiece. Therefore, it is possible to prevent a plurality of laser beams from being separated due to a change in the position of the workpiece. Also,
Since there is no directivity in the positional relationship between the laser beams, it is possible to prevent the melting depth from changing depending on the moving direction.
【0047】請求項2乃至4記載のレーザ加工装置によ
れば、レーザビームの焦点位置を自在に移動することが
できる焦点位置可変手段を備えたことにより、所望の溶
融深さを得ることができる。According to the laser processing apparatus of the second to fourth aspects, the desired melting depth can be obtained by providing the focal position changing means capable of freely moving the focal position of the laser beam. .
【0048】請求項3記載のレーザ加工装置によれば、
電気信号によって鏡面の曲率が変化する可変形ミラーを
有する焦点位置可変手段を備えたので、光学部品の光路
長方向への移動を伴うことなく、焦点位置を変えること
ができる。したがって、焦点位置をレンズ等によって変
えるものと比較して、小型化及び高速応答化を達成でき
る。According to the laser processing apparatus of the third aspect,
Since the focal position varying means having the deformable mirror whose curvature of the mirror surface is changed by an electric signal is provided, the focal position can be changed without moving the optical component in the optical path length direction. Therefore, as compared with the case where the focal position is changed by a lens or the like, downsizing and high-speed response can be achieved.
【0049】請求項4記載のレーザ加工装置によれば、
焦点位置可変手段によって複数のレーザビームの焦点位
置を互いに異ならせることにより、より深い溶融深さが
得られる。したがって、レーザビームの高速移動により
溶融深さが浅くなることを抑制できる。According to the laser processing apparatus of the fourth aspect,
By making the focal positions of the plurality of laser beams different from each other by the focal position varying means, a deeper fusion depth can be obtained. Therefore, it is possible to suppress the melting depth from becoming shallow due to the high-speed movement of the laser beam.
【0050】請求項5記載のレーザ加工装置によれば、
レーザビームの戻り光を反射する戻り光反射膜付きミラ
ーをレーザ共振器に設けたことにより、戻り光によるレ
ーザ共振器の損傷を防止できる。According to the laser processing apparatus of the fifth aspect,
By providing the mirror with the return light reflection film for reflecting the return light of the laser beam in the laser resonator, damage to the laser resonator due to the return light can be prevented.
【図1】本発明に係るレーザ加工装置の第一実施形態を
示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of a laser processing apparatus according to the present invention.
【図2】図1のレーザ加工装置による被加工物の溶接状
態を示し、図2〔1〕が平面図、図2〔2〕が図2
〔1〕におけるII−II線縦断面図である。2 shows a welding state of a workpiece by the laser processing apparatus of FIG. 1, FIG. 2 [1] is a plan view, and FIG. 2 [2] is FIG.
FIG. 2 is a vertical sectional view taken along the line II-II in [1].
【図3】本発明に係るレーザ加工装置の第二実施形態を
示す構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram showing a second embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention.
【図4】本発明に係るレーザ加工装置の第三実施形態を
示す構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram showing a third embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention.
【図5】本発明に係るレーザ加工装置の第四実施形態を
示す構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram showing a fourth embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention.
【図6】本発明に係るレーザ加工装置の第五実施形態を
示す構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram showing a fifth embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention.
【図7】本発明に係るレーザ加工装置の第六実施形態を
示す部分構成図である。FIG. 7 is a partial configuration diagram showing a sixth embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention.
【図8】本発明に係るレーザ加工装置におけるレーザビ
ームの焦点位置を示す概略図であり、図8〔1〕が第一
例、図8〔2〕が第二例、図8〔3〕が第三例、図8
〔4〕が第四例である。8 is a schematic view showing a focal position of a laser beam in the laser processing apparatus according to the present invention, wherein FIG. 8 [1] is a first example, FIG. 8 [2] is a second example, and FIG. 8 [3] is Third example, FIG.
[4] is a fourth example.
【図9】従来のレーザ加工装置の問題点を示す説明図で
ある。FIG. 9 is an explanatory view showing a problem of the conventional laser processing apparatus.
10,30,40,50,60 レーザ加工装置 12A,12B レーザ共振器 14,70 ビーム混合手段 16 ビーム照射手段 18,20,32,42,62 焦点位置可変手段 94 被加工物 A,B レーザビーム Aa,Ba レーザビームの光軸 Af,Bf レーザビームの焦点 10, 30, 40, 50, 60 Laser processing apparatus 12A, 12B Laser resonator 14, 70 Beam mixing means 16 Beam irradiation means 18, 20, 32, 42, 62 Focus position changing means 94 Workpieces A, B Laser beam Aa, Ba Optical axis of laser beam Af, Bf Focus of laser beam
Claims (5)
共振器と、これらのレーザ共振器から発生した複数のレ
ーザビームに対して光軸を一致させて混合するビーム混
合手段と、このビーム混合手段で混合されたレーザビー
ムを被加工物へ照射するビーム照射手段と、を備えたレ
ーザ加工装置。1. A plurality of laser resonators for generating a laser beam, a beam mixing means for mixing the plurality of laser beams generated from these laser resonators with their optical axes aligned, and a beam mixing means. A beam irradiation unit for irradiating the workpiece with the mixed laser beam.
動することができる焦点位置可変手段を更に備えた、請
求項1記載のレーザ加工装置。2. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising a focus position changing unit that can freely move a focus position of the laser beam.
って鏡面の曲率が変化する可変形ミラーを有する、請求
項2記載のレーザ加工装置。3. The laser processing apparatus according to claim 2, wherein said focal position changing means has a deformable mirror whose curvature of a mirror surface changes according to an electric signal.
ーザビームの焦点位置を互いに異ならせるものである、
請求項2又は3記載のレーザ加工装置。4. The apparatus according to claim 1, wherein the focus position changing unit changes the focus positions of the plurality of laser beams.
The laser processing apparatus according to claim 2.
ームの戻り光を反射する戻り光反射膜付きミラーが、当
該レーザ共振器に設けられた、請求項1記載のレーザ加
工装置。5. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein a mirror with a return light reflecting film for reflecting return light of a laser beam generated from the laser resonator is provided in the laser resonator.
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