JP2000033487A - Laser beam cutting apparatus - Google Patents

Laser beam cutting apparatus

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JP2000033487A
JP2000033487A JP10203904A JP20390498A JP2000033487A JP 2000033487 A JP2000033487 A JP 2000033487A JP 10203904 A JP10203904 A JP 10203904A JP 20390498 A JP20390498 A JP 20390498A JP 2000033487 A JP2000033487 A JP 2000033487A
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JP
Japan
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resist layer
laser
light
laser light
laser beam
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Application number
JP10203904A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Takeda
実 武田
Shinichi Kai
信一 甲斐
Hisayuki Yamatsu
久行 山津
Motohiro Furuki
基裕 古木
Yasuyuki Takeshita
康之 竹下
Kiyoshi Osato
潔 大里
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To permit the formation of a latent image of a fine pattern on a resist layer by irradiating the resist layer formed on a board with laser beam applying high frequency superpose through an auto-focus mechanism and detecting this reflecting beam. SOLUTION: The laser beam emitted from a beam source 2 irradiates the resist layer 51 formed on the glass board 50 to form the latent image of the prescribed pattern on the resist layer 51. The high frequency convoluted laser beam emitted from the beam source 32 auto-focus, penetrates a correcting lens 33 to correct the chromatic aberration and further, penetrates a polarized- beam splitter 34 and a 1/4 wave length board 35 and directed to a reflecting mirror 36. The high frequency convoluted laser beam passed through the splitter 34 and the 1/4 wave length board 35, is made incident on objective lens 22 as p-polarized beam and the reflected beam of the high frequency superposed laser beam which irradiates the resist layer 51 through the objective lens 22, is used as s-polarized beam and the splippage amount of the focus is efficiently detected with a beam detector 37.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクのディ
スク基板の成形に用いられるスタンパを作製する際に用
いられるレーザカッティング装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser cutting device used for producing a stamper used for molding a disk substrate of an optical disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】記録媒体として、ディスク基板の表面に
情報信号を示すピット等が形成され、このピット等が形
成されたディスク基板にAl反射膜や保護膜が形成され
てなる光ディスクが普及している。
2. Description of the Related Art As a recording medium, an optical disk having a pit or the like indicating an information signal formed on the surface of a disk substrate and an Al reflective film or a protective film formed on the disk substrate having the pit or the like has been widely used. I have.

【0003】この光ディスクのディスク基板は、主とし
て、射出成形法により成形されている。射出成形法は、
例えば一対の金型のキャビティ内に、ディスク基板のピ
ット等とは反転パターンの凹凸形状が形成されたスタン
パを配設し、この金型のキャビティ内に加熱溶融したデ
ィスク材料を射出し、ディスク基板を成形する方法であ
る。
The disk substrate of this optical disk is mainly formed by an injection molding method. The injection molding method
For example, in a cavity of a pair of molds, a stamper in which the pits and the like of the disk substrate are formed in a concavo-convex pattern of an inverted pattern is disposed, and a disk material heated and melted is injected into the cavity of the mold, and the disk substrate It is a method of molding.

【0004】そして、この射出成形法に用いられるスタ
ンパは、以下に示すように作製される。
[0004] A stamper used in this injection molding method is manufactured as follows.

【0005】先ず、表面が精密研磨された円盤状のガラ
ス基板の主面に、密着補強剤等を介して、記録用レーザ
光源の波長に十分な感度を有するフォトレジストが均一
に塗布される。そして、このフォトレジストの有機溶剤
が揮発され、ガラス基板上にフォトレジスト層が形成さ
れる。
First, a photoresist having sufficient sensitivity to the wavelength of a recording laser light source is uniformly applied to the main surface of a disk-shaped glass substrate whose surface is precisely polished, via an adhesion reinforcing agent or the like. Then, the organic solvent of the photoresist is volatilized, and a photoresist layer is formed on the glass substrate.

【0006】次に、フォトレジスト層が形成されたガラ
ス基板が、レーザカッティング装置にセットされる。そ
して、このレーザカッティング装置により、記録用レー
ザ光がガラス基板のフォトレジスト上に集光される。
Next, the glass substrate on which the photoresist layer has been formed is set in a laser cutting device. Then, the laser beam for recording is focused on the photoresist on the glass substrate by the laser cutting device.

【0007】レーザカッティング装置は、このレーザ光
をON/OFFさせて、ガラス基板のレジスト層上を例
えばスパイラル状に走査し、レジスト層に、所定のピッ
ト、グルーブに対応した凹凸パターンの潜像を形成す
る。
The laser cutting device turns on / off the laser beam, scans the resist layer of the glass substrate in, for example, a spiral shape, and forms a latent image of a concavo-convex pattern corresponding to predetermined pits and grooves on the resist layer. Form.

【0008】次に、潜像が形成されたレジスト層が、ア
ルカリ性の現像液により現像され、所定のピット、グル
ーブに対応した凹凸パターンを有するレジスト原盤が形
成される。
Next, the resist layer on which the latent image is formed is developed with an alkaline developer to form a resist master having an uneven pattern corresponding to predetermined pits and grooves.

【0009】次に、レジスト原盤の凹凸パターンを有す
る主面に、スパッタリング法、蒸着法、無電解メッキ法
等の方法で、銀またはニッケル等の金属被膜が形成され
る。
Next, a metal film such as silver or nickel is formed on the main surface of the resist master having an uneven pattern by a method such as sputtering, vapor deposition, or electroless plating.

【0010】次に、金属被膜が形成されたレジスト原盤
が、電気メッキ装置にセットされ、金属被膜を電極とし
て、電気メッキが行われることにより、レジスト原盤の
主面上に、電気メッキ層が形成される。
Next, the resist master on which the metal coating is formed is set in an electroplating apparatus, and electroplating is performed using the metal coating as an electrode to form an electroplating layer on the main surface of the resist master. Is done.

【0011】次に、金属被膜及び電気メッキ層からレジ
スト原盤が剥離され、余分な金属被膜がプレス除去さ
れ、スタンパが完成する。
Next, the resist master is peeled off from the metal film and the electroplating layer, and the excess metal film is removed by pressing to complete the stamper.

【0012】ところで、上述したスタンパ作製工程にお
いて用いられるレーザカッティング装置100は、例え
ば図4に示すように構成される。この図4に示すレーザ
カッティング装置100は、記録用レーザ光として、例
えば、波長が413nmのKrイオンレーザを出射する
光源101と、この光源101から出射される記録用レ
ーザ光の出力を制御する出力制御部(APC:Auto Pow
er Controll)102と、記録用レーザ光の変調を行う
音響光学変調器(AOM:Acousto-optic modulator)
103と、記録用レーザ光の位置補正を行う位置補正機
構104と、記録用レーザ光を集光してレジスト層15
1上に照射させる対物レンズ105と、対物レンズ10
5に入射される記録用レーザ光のビーム径を拡大させる
ビームエキスパンダ106と、記録用レーザ光のレジス
ト層151上における焦点位置ずれを検出するオートフ
ォーカス用光学系107とを備えている。
The laser cutting apparatus 100 used in the stamper manufacturing process described above is configured as shown in FIG. 4, for example. The laser cutting apparatus 100 shown in FIG. 4 includes a light source 101 that emits, for example, a Kr ion laser having a wavelength of 413 nm as recording laser light, and an output that controls the output of the recording laser light emitted from the light source 101. Control unit (APC: Auto Pow
er Controll) 102 and an acousto-optic modulator (AOM) for modulating a recording laser beam.
103, a position correction mechanism 104 for correcting the position of the recording laser light, and a resist layer 15 for condensing the recording laser light.
Objective lens 105 and objective lens 10 for irradiating
A beam expander 106 for expanding the beam diameter of the recording laser light incident on the laser beam 5 and an auto-focusing optical system 107 for detecting a focal position shift of the recording laser light on the resist layer 151 are provided.

【0013】そして、このレーザカッティング装置10
0においては、光源101から位置補正機構104まで
の光学系が固定された光学定盤上に搭載されており、対
物レンズ105、ビームエキスパンダ106及びオート
フォーカス用光学系107が、ガラス基板150の径方
向に移動操作される移動光学テーブル上に搭載されてい
る。
The laser cutting device 10
At 0, the optical system from the light source 101 to the position correction mechanism 104 is mounted on a fixed optical surface plate, and the objective lens 105, the beam expander 106, and the autofocus optical system 107 are mounted on the glass substrate 150. It is mounted on a moving optical table that is moved in the radial direction.

【0014】また、レジスト層151が形成されたガラ
ス基板150は、高回転精度で回転するエアースピンド
ル上にチャッキングされる。
The glass substrate 150 on which the resist layer 151 is formed is chucked on an air spindle that rotates with high rotational accuracy.

【0015】そして、上記光学定盤や移動光学テーブ
ル、エアースピンドル等は、全て設置場所の外部振動の
影響を受けないように、エアー定盤上に搭載されてい
る。
The optical surface plate, the movable optical table, the air spindle, and the like are all mounted on the air surface plate so as not to be affected by external vibration at the installation place.

【0016】以上のように構成されるレーザカッティン
グ装置100によりレーザカッティングを行う際は、ま
ず光源101から、例えば波長が413nmのKrイオ
ンレーザ(記録用レーザ光)が出射される。
When laser cutting is performed by the laser cutting apparatus 100 configured as described above, a Kr ion laser (recording laser light) having a wavelength of, for example, 413 nm is emitted from the light source 101.

【0017】光源から出射された記録用レーザ光は、出
力制御部102を構成する電気光学素子(EOM:Elec
trooptic modulator)108及び偏光ビームスプリッタ
(PBS:Polarization beam splitter)109を透過
し、一部がハーフミラー110により反射され、一部が
ハーフミラー110を透過して記録用レーザ光の出力を
検出するための光検出器111に入射される。
The recording laser light emitted from the light source is applied to an electro-optical element (EOM: Elec)
trooptic modulator) 108 and a polarization beam splitter (PBS) 109, a part of which is reflected by a half mirror 110, and a part of which passes through the half mirror 110 to detect the output of the recording laser light. Incident on the photodetector 111.

【0018】電気光学素子108は、光検出器111に
よりフィードバックされる情報に基づいて、透過する記
録用レーザ光の偏光角を変える。これにより、偏光ビー
ムスプリッタ109を透過する記録用レーザ光の出力
は、常に一定になるように調整される。
The electro-optical element 108 changes the polarization angle of the transmitted recording laser beam based on the information fed back by the photodetector 111. As a result, the output of the recording laser light passing through the polarization beam splitter 109 is adjusted to be always constant.

【0019】ハーフミラー110により反射された記録
用レーザ光は、集光レンズ112を透過して変調素子1
03に入射する。この変調素子103は、入射した記録
用レーザ光を一定方向に回折して、記録用レーザ光の変
調を行う。
The recording laser light reflected by the half mirror 110 passes through the condenser lens 112 and passes through the modulator 1
03. The modulation element 103 modulates the recording laser light by diffracting the incident recording laser light in a certain direction.

【0020】変調素子103により変調された記録用レ
ーザ光は、集光レンズ113を透過して、位置補正機構
104を構成する第1の位置補正板114及び第2の位
置補正板115に順次入射する。これら第1及び第2の
位置補正板114,115は、それぞれ記録用レーザ光
の光軸に直交する方向に対して所定量傾斜して配設され
ることにより、記録用レーザ光の光軸を傾斜量に応じた
分だけX方向またはY方向にシフトさせる。
The recording laser light modulated by the modulation element 103 passes through the condenser lens 113 and sequentially enters the first position correction plate 114 and the second position correction plate 115 constituting the position correction mechanism 104. I do. The first and second position correction plates 114 and 115 are arranged to be inclined by a predetermined amount with respect to a direction orthogonal to the optical axis of the recording laser light, so that the optical axis of the recording laser light is adjusted. The shift is performed in the X direction or the Y direction by an amount corresponding to the amount of inclination.

【0021】位置補正機構104により位置補正が行わ
れた記録用レーザ光は、一部がハーフミラー116によ
り反射され、一部がハーフミラー116を透過してビー
ム位置を検出するための光検出器117に入射される。
光検出器117は、入射した記録用レーザ光の位置に関
する情報を位置補正機構104にフィードバックする。
そして、位置補正機構104が光検出器117より供給
される情報に基づいて、第1及び第2の位置補正板11
4,115の傾斜量を変えることにより、記録用レーザ
光の光軸が常に正しい位置にあるように制御されてい
る。
The recording laser light whose position has been corrected by the position correcting mechanism 104 is partially reflected by the half mirror 116 and partially transmitted through the half mirror 116 to detect the beam position. 117.
The photodetector 117 feeds back information on the position of the incident recording laser light to the position correction mechanism 104.
Then, the position correction mechanism 104 is controlled by the first and second position correction plates 11 based on the information supplied from the photodetector 117.
The optical axis of the recording laser beam is controlled so as to be always at the correct position by changing the amount of inclination of 4,115.

【0022】ハーフミラー116により反射された記録
用レーザ光は、1/4波長板118に入射し、円偏光の
光とされる。
The recording laser light reflected by the half mirror 116 is incident on a quarter-wave plate 118 and is converted into circularly polarized light.

【0023】そして、1/4波長板118により円偏光
の光とされた記録用レーザ光は、ビームエキスパンダ1
06を構成する第1のレンズ119及び第2のレンズ1
20に順次入射し、これら第1のレンズ119及び第2
のレンズ120により、ビーム径が拡大される。
The recording laser light converted into circularly polarized light by the 1 / wavelength plate 118 is applied to the beam expander 1.
06 and the first lens 119 and the second lens 1
20, the first lens 119 and the second lens
The lens diameter of the lens 120 is enlarged.

【0024】ビームエキスパンダ106によりビーム径
が拡大された記録用レーザ光は、オートフォーカス用光
学系107を構成するダイクロイックミラー125を透
過し、折り返しミラー121により光路が曲折されて、
レジスト層151が形成されたガラス基板150の主面
に対向するように配設された対物レンズ105に入射す
る。
The recording laser light whose beam diameter has been expanded by the beam expander 106 passes through a dichroic mirror 125 constituting an autofocus optical system 107, and its optical path is bent by a return mirror 121.
The light enters the objective lens 105 disposed so as to face the main surface of the glass substrate 150 on which the resist layer 151 is formed.

【0025】対物レンズ105は、複数の硝材が接着材
を介して貼り合わされて構成されており、これにより波
長の異なる複数のレーザ光に対して、その波長の違いに
よる色収差を補正して、当該対物レンズ105を透過し
たそれぞれのレーザ光の焦点位置を一致させるようにな
されている。また、この対物レンズ105は、波長の異
なる複数のレーザ光のそれぞれに対して十分な透過率を
有するように、レンズ表面に反射防止コートがなされて
いる。
The objective lens 105 is formed by bonding a plurality of glass materials via an adhesive, thereby correcting chromatic aberration caused by a difference in wavelength for a plurality of laser beams having different wavelengths. The focal positions of the respective laser beams transmitted through the objective lens 105 are matched. The objective lens 105 has an anti-reflection coating on the lens surface so as to have a sufficient transmittance for each of a plurality of laser beams having different wavelengths.

【0026】この対物レンズ105に入射した記録用レ
ーザ光は、この対物レンズ105により集光され、エア
ースピンドルの回転にともなって図4中矢印B方向に回
転するガラス基板150のレジスト層151上に照射さ
れる。
The recording laser light incident on the objective lens 105 is condensed by the objective lens 105 and is deposited on the resist layer 151 of the glass substrate 150 which rotates in the direction of arrow B in FIG. 4 with the rotation of the air spindle. Irradiated.

【0027】そして、レーザカッティング装置100
は、記録レーザ光のON/OFFの切り換えを行いなが
ら、対物レンズ105及びビームエキスパンダが搭載さ
れた移動光学テーブルをガラス基板150の径方向に移
動操作させることにより、ガラス基板150のレジスト
層151上を、例えばスパイラル状に走査し、レジスト
層151に、所定のピット、グルーブに対応した凹凸パ
ターンの潜像をスパイラル状に形成する。
Then, the laser cutting device 100
Moves the moving optical table on which the objective lens 105 and the beam expander are mounted in the radial direction of the glass substrate 150 while switching ON / OFF of the recording laser light, thereby forming the resist layer 151 of the glass substrate 150. The upper portion is scanned, for example, in a spiral shape, and a latent image having a concavo-convex pattern corresponding to predetermined pits and grooves is formed in the resist layer 151 in a spiral shape.

【0028】また、このレーザカッティング装置100
は、記録用レーザ光をレジスト層151に照射するにあ
たり、記録用レーザ光の焦点が常にレジスト層151上
に位置するように、フォーカス制御を行う。このフォー
カス制御は、オートフォーカス用光学系107により検
出されたフォーカスずれ量に応じて対物レンズ105を
対物レンズ105の光軸に沿った方向に移動させること
により行う。
The laser cutting device 100
In irradiating the resist layer 151 with the recording laser light, focus control is performed so that the focal point of the recording laser light is always located on the resist layer 151. This focus control is performed by moving the objective lens 105 in a direction along the optical axis of the objective lens 105 in accordance with the amount of focus shift detected by the autofocus optical system 107.

【0029】オートフォーカス用光学系107は、例え
ば波長が680nmのレーザ光を出射する半導体レーザ
122と、この半導体レーザ122から出射されるレー
ザ光の光路上に配設された偏光ビームスプリッタ123
と、偏光ビームスプリッタ123により反射されるレー
ザ光の光路上に配設された1/4波長板124と、1/
4波長板124を透過したレーザ光の光路及びビームエ
キスパンダ106によりビーム径が拡大された記録用レ
ーザ光の光路上に配設されたダイクロイックミラー12
5と、レジスト層151にて反射されたレーザ光(戻り
光)の光路上に配設された光検出器126とを備えてい
る。
The autofocus optical system 107 includes, for example, a semiconductor laser 122 that emits a laser beam having a wavelength of 680 nm, and a polarization beam splitter 123 disposed on the optical path of the laser beam emitted from the semiconductor laser 122.
A quarter-wave plate 124 disposed on the optical path of the laser light reflected by the polarizing beam splitter 123,
The dichroic mirror 12 disposed on the optical path of the laser beam transmitted through the four-wavelength plate 124 and the optical path of the recording laser beam whose beam diameter has been expanded by the beam expander 106.
5, and a photodetector 126 disposed on the optical path of the laser light (return light) reflected by the resist layer 151.

【0030】半導体レーザ122より出射されたレーザ
光は、先ず、偏光ビームスプリッタ123により反射さ
れた後に、1/4波長板を透過することにより、円偏光
の光とされる。そして、円偏光の光とされたレーザ光
は、ダイクロイックミラー125により反射される。ダ
イクロイックミラー125は、入射した光をその波長に
応じて反射又は透過するものであり、ここで用いられる
ダイクロイックミラー125は、波長が680nmの光
に対してはこれを反射し、波長が413nmの光に対し
てはこれを透過するように構成されている。
The laser light emitted from the semiconductor laser 122 is first reflected by the polarization beam splitter 123 and then transmitted through a quarter-wave plate to be converted into circularly polarized light. The circularly polarized laser light is reflected by the dichroic mirror 125. The dichroic mirror 125 reflects or transmits incident light according to its wavelength. The dichroic mirror 125 used here reflects light having a wavelength of 680 nm, and reflects light having a wavelength of 413 nm. Is configured to transmit this.

【0031】ダイクロイックミラー125により反射さ
れたレーザ光は、折り返しミラー121により更に反射
され、対物レンズ105に入射する。このとき、このレ
ーザ光は、対物レンズ105の光軸に対してやや斜めに
入射し、対物レンズ105を介してレジスト層151上
に斜めに照射される。
The laser light reflected by the dichroic mirror 125 is further reflected by the return mirror 121 and enters the objective lens 105. At this time, the laser light is incident on the optical axis of the objective lens 105 slightly obliquely, and is irradiated obliquely onto the resist layer 151 via the objective lens 105.

【0032】レジスト層151に照射されたレーザ光
は、レジスト層151上において、レジスト層151に
照射される際の入射角と等しい反射角で反射される。そ
して、レジスト層151にて反射されたレーザ光(戻り
光)は、対物レンズ105を透過し、全反射ミラー12
1、ダイクロイックミラー125により順次反射され
る。
The laser beam irradiated on the resist layer 151 is reflected on the resist layer 151 at a reflection angle equal to the incident angle when the resist layer 151 is irradiated. The laser light (return light) reflected by the resist layer 151 passes through the objective lens 105 and is
1. The light is sequentially reflected by the dichroic mirror 125.

【0033】ダイクロイックミラー125により反射さ
れた戻り光は、1/4波長板124及び偏光ビームスプ
リッタ123を透過して、光検出器126に入射する。
The return light reflected by the dichroic mirror 125 passes through the quarter-wave plate 124 and the polarization beam splitter 123 and enters the photodetector 126.

【0034】光検出器126は、例えば受光部が2分割
されたフォトディテクタにより構成され、それぞれの受
光部により受光された光量の差から、戻り光の入射位置
に応じた信号を生成する。
The photodetector 126 is constituted by, for example, a photodetector in which a light receiving portion is divided into two, and generates a signal corresponding to the incident position of the return light from the difference between the amounts of light received by the respective light receiving portions.

【0035】レジスト層151にて反射されるレーザ光
は、レジスト層151上における反射位置に応じて異な
る戻り光光路をとることになる。そして、このレーザ光
のレジスト層151上における反射位置は、対物レンズ
105とレジスト層151との間の距離に応じて変化す
る。したがって、対物レンズ105とレジスト層151
間の距離が、記録用レーザ光の焦点がレジスト層151
上に位置する、いわゆるジャストフォーカスのときの対
物レンズ105とレジスト層151間の距離と異なる場
合、戻り光がジャストフォーカスの時の戻り光光路と異
なる光路をとることになり、光検出器126に入射する
位置が、ジャストフォーカスのときの入射位置と異なる
ことになる。そして、この入射位置の違いが光検出器1
26により検出され、信号として生成される。
The laser beam reflected by the resist layer 151 takes a different return light path depending on the reflection position on the resist layer 151. Then, the reflection position of the laser light on the resist layer 151 changes according to the distance between the objective lens 105 and the resist layer 151. Therefore, the objective lens 105 and the resist layer 151
The distance between them is such that the focal point of the recording laser beam is the resist layer 151.
If the distance is different from the distance between the objective lens 105 and the resist layer 151 at the time of the so-called just focus, the return light takes an optical path different from the return light optical path at the time of the just focus. The incident position is different from the incident position at the time of just focus. The difference in the incident position is due to the photodetector 1
26 and is generated as a signal.

【0036】レーザカッティング装置100は、この光
検出器126により生成された信号に基づいて対物レン
ズ105の位置を移動し、フォーカス制御を行うように
している。
The laser cutting device 100 moves the position of the objective lens 105 based on the signal generated by the photodetector 126 to perform focus control.

【0037】また、このレーザカッティング装置100
は、ガラス基板150のレジスト層151上に照射され
た記録用レーザ光の反射光を複数の折り返しミラー12
7,128,129、集光レンズ130を介してCCD
カメラ131により取り込み、レジスト層151上に照
射された記録用レーザ光の集光状態をモニターするよう
にしている。
The laser cutting device 100
A plurality of return mirrors 12 that reflect reflected light of the recording laser light irradiated onto the resist layer 151 of the glass substrate 150;
7, 128, 129, CCD through condenser lens 130
The focusing state of the recording laser light captured by the camera 131 and irradiated onto the resist layer 151 is monitored.

【0038】[0038]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、情報
通信及び画像処理技術の急速な発展に伴って、光ディス
クに対しても記録容量の大容量化が望まれている。光デ
ィスクにおいて、既存の外形寸法を維持しながら大容量
化を図るには、ピットやグルーブ等のパターンを微細化
して、記録密度の向上を図る必要がある。
In recent years, with the rapid development of information communication and image processing technologies, it has been desired to increase the recording capacity of optical discs. In order to increase the capacity of an optical disc while maintaining the existing external dimensions, it is necessary to improve the recording density by miniaturizing patterns such as pits and grooves.

【0039】そして、このような高記録密度の光ディス
ク用のスタンパを作製するには、光ディスクの微細なパ
ターンに応じたパターンを得るために、レーザカッティ
ング装置100の記録用レーザ光のレジスト層131上
におけるスポットサイズを小さくする必要がある。
In order to manufacture a stamper for an optical disk having such a high recording density, a pattern corresponding to a fine pattern of the optical disk must be obtained on the resist layer 131 of the recording laser beam of the laser cutting apparatus 100. It is necessary to reduce the spot size at.

【0040】ここで、記録用レーザ光のレジスト層13
1上におけるスポットサイズは、対物レンズ105の開
口数NAと、記録用レーザ光の波長によって決定される
が、対物レンズ105の開口数NAを高めるには、レン
ズ設計精度等の関係から限界がある。したがって、記録
用レーザ光のスポットサイズを小さくするには、記録用
レーザ光の短波長化を図る必要がある。
Here, the recording laser beam resist layer 13
The spot size on 1 is determined by the numerical aperture NA of the objective lens 105 and the wavelength of the recording laser beam. However, there is a limit in increasing the numerical aperture NA of the objective lens 105 due to the lens design accuracy and the like. . Therefore, in order to reduce the spot size of the recording laser light, it is necessary to shorten the wavelength of the recording laser light.

【0041】しかしながら、記録用レーザ光の波長を短
くすると、この記録用レーザ光とフォーカス制御に用い
るレーザ光との波長の違いが大きくなるため、対物レン
ズ105にこれら双方のレーザ光に対して十分に透過率
を有する反射防止コートを施すことが困難となる。例え
ば、記録用レーザ光として、波長が250nm程度の紫
外線レーザを用い、フォーカス制御用のレーザ光とし
て、従来と同様の波長が680nmのレーザ光を用いる
場合、記録用レーザ光に対する透過率を90%以上にし
ようとすると、フォーカス制御用のレーザ光に対する透
過率は60%程度が限界となる。
However, if the wavelength of the recording laser beam is shortened, the difference between the wavelength of the recording laser beam and the wavelength of the laser beam used for focus control becomes large. It is difficult to apply an antireflection coat having a transmittance to the surface. For example, when an ultraviolet laser having a wavelength of about 250 nm is used as the recording laser light and a laser light having a wavelength of 680 nm is used as the focus control laser light, the transmittance for the recording laser light is 90%. In this case, the transmittance for the laser light for focus control is limited to about 60%.

【0042】このため、対物レンズ105の表面にて反
射したフォーカス制御用のレーザ光が迷光となってオー
トフォーカス光学系107の光検出器126に入射し
て、レジスト層151にて反射された戻り光に作用して
干渉縞を形成し、フォーカス制御に悪影響を及ぼす場合
があった。
Therefore, the laser beam for focus control reflected on the surface of the objective lens 105 becomes stray light, enters the photodetector 126 of the autofocus optical system 107, and is returned by the resist layer 151. In some cases, they act on light to form interference fringes and adversely affect focus control.

【0043】また、記録用レーザ光の波長を短くする
と、対物レンズ105に適用可能な硝材が限定される。
例えば、記録用レーザ光として、波長が250nm程度
の紫外線レーザを用いる場合、対物レンズ105に適用
可能な硝材は、合成石英又は螢石に限定される。実際に
は、螢石を用いて対物レンズ105として十分なサイズ
の均一なレンズを作製することは極めて困難なため、対
物レンズ105を合成石英のみの単一の硝材により作製
する必要がある。
When the wavelength of the recording laser beam is shortened, the glass material applicable to the objective lens 105 is limited.
For example, when an ultraviolet laser having a wavelength of about 250 nm is used as the recording laser light, the glass material applicable to the objective lens 105 is limited to synthetic quartz or fluorite. Actually, it is extremely difficult to produce a uniform lens having a sufficient size as the objective lens 105 using fluorite. Therefore, the objective lens 105 needs to be produced from a single glass material made of only synthetic quartz.

【0044】従来のレーザカッティング装置100に用
いられていた対物レンズ105は、複数の硝材を組み合
わせることにより、透過する複数のレーザ光の色収差を
補正することができるように構成されていたが、対物レ
ンズ105を単一の硝材で作製した場合、この対物レン
ズ105を透過する複数のレーザ光の色収差を補正する
機能を、対物レンズ105に持たせることができなくな
る。
The objective lens 105 used in the conventional laser cutting apparatus 100 is configured so that the chromatic aberration of a plurality of transmitted laser beams can be corrected by combining a plurality of glass materials. When the lens 105 is made of a single glass material, the objective lens 105 cannot have a function of correcting chromatic aberration of a plurality of laser beams transmitted through the objective lens 105.

【0045】そこで、本発明は、上述した問題を解決し
て、レジスト層に微細なパターンの潜像を形成すること
ができるレーザカッティング装置を提供することを目的
とする。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a laser cutting apparatus capable of forming a latent image having a fine pattern on a resist layer.

【0046】[0046]

【課題を解決するための手段】本発明に係るレーザカッ
ティング装置は、基板上に形成されたレジスト層に記録
用レーザ光を照射して上記レジスト層に潜像を形成する
レーザカッティング装置において、記録用レーザ光の焦
点をレジスト層上に位置させるオートフォーカス機構を
備え、このオートフォーカス機構が、高周波重畳をかけ
たレーザ光を上記基板上に形成されたレジスト層に照射
させ、その反射光を検出することにより、記録用レーザ
光の焦点ずれを検出することを特徴としている。
According to the present invention, there is provided a laser cutting apparatus for irradiating a resist layer formed on a substrate with a recording laser beam to form a latent image on the resist layer. An auto-focus mechanism that positions the focal point of the laser light for use on the resist layer. The auto-focus mechanism irradiates the resist layer formed on the substrate with the laser light that has been subjected to high-frequency superposition, and detects the reflected light. In this case, the defocus of the recording laser light is detected.

【0047】このレーザカッティング装置は、高周波重
畳をかけたレーザ光を用いてフォーカス制御を行うよう
にしているので、このレーザ光の光路上に配された光学
素子にて反射された光が、基板上に形成されたレジスト
層上にて反射された反射光に作用して干渉縞を形成して
しまうといった不都合が回避される。
In this laser cutting apparatus, focus control is performed using a laser beam on which high-frequency superposition is applied, so that light reflected by an optical element arranged on the optical path of the laser beam is applied to the substrate. The inconvenience of forming interference fringes by acting on the light reflected on the resist layer formed thereon is avoided.

【0048】したがって、このレーザカッティング装置
によれば、記録用レーザ光として、例えば紫外線レーザ
等の波長の短いレーザ光を用いた場合であっても、レジ
スト層に適切な潜像を形成することができる。
Therefore, according to this laser cutting apparatus, an appropriate latent image can be formed on the resist layer even when a laser beam having a short wavelength such as an ultraviolet laser is used as the recording laser beam. it can.

【0049】なお、本発明に係るレーザカッティング装
置においては、オートフォーカス機構が、高周波重畳を
かけたレーザ光と記録用レーザ光との波長差によって生
ずる色収差を補正する補正レンズを備えることが望まし
い。
In the laser cutting apparatus according to the present invention, it is preferable that the autofocus mechanism includes a correction lens for correcting chromatic aberration caused by a wavelength difference between the laser light subjected to high-frequency superposition and the recording laser light.

【0050】レーザカッティング装置は、このようにオ
ートフォーカス機構が補正レンズを備えることにより、
記録用レーザ光として紫外線レーザ等の波長の短いレー
ザ光を用い、対物レンズに色収差を補正する機能を持た
せられなくなった場合であっても、レジスト層に適切な
潜像を形成することができる。
In the laser cutting device, the auto focus mechanism is provided with the correction lens as described above,
Even if a laser beam having a short wavelength, such as an ultraviolet laser, is used as a recording laser beam and an objective lens cannot have a function of correcting chromatic aberration, an appropriate latent image can be formed on the resist layer. .

【0051】[0051]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0052】本発明に係るレーザカッティング装置は、
例えばピットやグルーブ等を有する光ディスクのディス
ク基板を射出成形する際に用いられるスタンパを作製す
るためのものであり、図1に示すように、ガラス基板5
0上に形成されたレジスト層51上に記録用レーザ光を
照射させて、レジスト層51に光ディスクのピットやグ
ルーブに対応した所定パターンの潜像を形成するための
ものである。
The laser cutting device according to the present invention comprises:
For example, it is for producing a stamper used for injection molding a disk substrate of an optical disk having pits, grooves, and the like. As shown in FIG.
This is for irradiating a recording laser beam on the resist layer 51 formed on the resist layer 51 to form a latent image of a predetermined pattern corresponding to pits and grooves of the optical disc on the resist layer 51.

【0053】このレーザカッティング装置は、記録用レ
ーザ光として、例えば、波長が266nmの紫外線レー
ザであるYAG4倍波レーザを用いている。なお、本明
細書においては、波長が200〜400nmのレーザ光
を紫外線レーザと称する。
This laser cutting device uses, for example, a YAG quadruple-wave laser which is an ultraviolet laser having a wavelength of 266 nm as the recording laser light. In this specification, a laser beam having a wavelength of 200 to 400 nm is referred to as an ultraviolet laser.

【0054】この記録用レーザ光を出射する光源2は、
図2に示すように、波長が1064nm程度のYAGレ
ーザをSHG結晶によりその2倍波である532nm程
度に変換して発生させるレーザ発生部3と、レーザ発生
部3より発生したレーザ光の位相を変調する位相変調器
4と、位相変調器4により位相が変調されたレーザ光を
BBO結晶によりその2倍波である266nm程度の紫
外線レーザに変換する外部共振器5とを備えている。ま
た、外部共振器5は、内部にボイスコイルモータを備え
ており、これにより共振器長を正確にサーボ制御するこ
とができるようになされている。
The light source 2 that emits the recording laser light includes:
As shown in FIG. 2, a laser generator 3 for converting a YAG laser having a wavelength of about 1064 nm to about 532 nm, which is a second harmonic of the YAG laser, by a SHG crystal, and generating a laser beam generated by the laser generator 3 in phase. A phase modulator 4 that modulates the laser beam and an external resonator 5 that converts the laser light whose phase is modulated by the phase modulator 4 into an ultraviolet laser of about 266 nm, which is a second harmonic of the laser light, using a BBO crystal. Further, the external resonator 5 includes a voice coil motor inside, so that the length of the resonator can be accurately servo-controlled.

【0055】以上のように構成される光源2は、高出力
で安定なYAG4倍波レーザを出射することができる。
The light source 2 configured as described above can emit a high-output and stable YAG fourth-harmonic laser.

【0056】この光源2より出射された記録用レーザ光
の光路上には、この記録用レーザ光の出力を制御する出
力制御部(APC:Auto Power Controll)6が設けら
れている。この出力制御部6は、電気光学素子(EO
M:Electrooptic modulator)7、偏光ビームスプリッ
タ(PBS:Polarization beam splitter)8、ハーフ
ミラー9及び光検出器10を備えている。
An output control unit (APC: Auto Power Control) 6 for controlling the output of the recording laser light is provided on the optical path of the recording laser light emitted from the light source 2. The output control unit 6 includes an electro-optical element (EO)
M: Electrooptic modulator) 7, a polarization beam splitter (PBS) 8, a half mirror 9, and a photodetector 10.

【0057】光源2から出射された記録用レーザ光は、
まず、出力制御部6を構成する電気光学素子7及び偏光
ビームスプリッタ8を透過し、一部がハーフミラー9に
より反射され、一部がハーフミラー9を透過して光検出
器10に入射される。
The recording laser light emitted from the light source 2 is
First, the light passes through the electro-optical element 7 and the polarizing beam splitter 8 that constitute the output control unit 6, is partially reflected by the half mirror 9, and partially passes through the half mirror 9 and enters the photodetector 10. .

【0058】電気光学素子7は、光検出器10によりフ
ィードバックされる情報に基づいて、透過する記録用レ
ーザ光の偏光角を変える。これにより、偏光ビームスプ
リッタ8を透過する記録用レーザ光の出力は、常に一定
になるように調整される。
The electro-optical element 7 changes the polarization angle of the transmitted recording laser beam based on the information fed back by the photodetector 10. As a result, the output of the recording laser light passing through the polarization beam splitter 8 is adjusted to be always constant.

【0059】ハーフミラー9により反射された記録用レ
ーザ光の光路上には、集光レンズ11、音響光学変調器
(AOM:Acousto-optic modulator)12、集光レン
ズ13、位置補正機構14、ハーフミラー15がそれぞ
れ設けられている。
On the optical path of the recording laser light reflected by the half mirror 9, a condensing lens 11, an acousto-optic modulator (AOM) 12, a condensing lens 13, a position correcting mechanism 14, a half Mirrors 15 are provided.

【0060】ハーフミラー9により反射された記録用レ
ーザ光は、集光レンズ11を透過して音響光学変調器1
2に入射する。この音響光学変調器12は、入射した記
録用レーザ光を一定方向に回折して、記録用レーザ光の
変調を行う。
The recording laser light reflected by the half mirror 9 passes through the condenser lens 11 and passes through the acousto-optic modulator 1.
2 is incident. The acousto-optic modulator 12 modulates the recording laser light by diffracting the incident recording laser light in a certain direction.

【0061】音響光学変調器12により変調された記録
用レーザ光は、集光レンズ13を透過して、位置補正機
構14を構成する第1の位置補正板16及び第2の位置
補正板17に順次入射する。これら第1及び第2の位置
補正板16,17は、それぞれ記録用レーザ光の光軸に
直交する方向に対して所定量傾斜して配設されることに
より、記録用レーザ光の光軸を傾斜量に応じた分だけX
方向またはY方向にシフトさせる。
The recording laser light modulated by the acousto-optic modulator 12 passes through the condenser lens 13 and is transmitted to the first position correction plate 16 and the second position correction plate 17 constituting the position correction mechanism 14. Inject sequentially. The first and second position correction plates 16 and 17 are each disposed at a predetermined angle with respect to a direction orthogonal to the optical axis of the recording laser light so that the optical axis of the recording laser light is adjusted. X according to the amount of inclination
In the direction or the Y direction.

【0062】位置補正機構14により位置補正が行われ
た記録用レーザ光は、一部がハーフミラー15により反
射され、一部がハーフミラー15を透過してビーム位置
を検出するための光検出器18に入射される。光検出器
18は、入射した記録用レーザ光の位置に関する情報を
位置補正機構14にフィードバックする。そして、位置
補正機構14が光検出器18より供給される情報に基づ
いて、第1及び第2の位置補正板16,17の傾斜量を
変えることにより、記録用レーザ光の光軸が常に正しい
位置にあるように制御される。
The recording laser light whose position has been corrected by the position correction mechanism 14 is partially reflected by the half mirror 15 and partially transmitted through the half mirror 15 to detect a beam position. 18 is incident. The light detector 18 feeds back information on the position of the incident recording laser light to the position correction mechanism 14. Then, the position correcting mechanism 14 changes the amount of inclination of the first and second position correcting plates 16 and 17 based on the information supplied from the photodetector 18, so that the optical axis of the recording laser light is always correct. Controlled to be in position.

【0063】ハーフミラー15により反射された記録用
レーザ光の光路上には、1/4波長板19と、記録用レ
ーザ光のビーム径を拡大させるビームエキスパンダ20
と、ダイクロイックミラー21と、記録用レーザ光を集
光してレジスト層51上に照射させる対物レンズ22と
が設けられている。
On the optical path of the recording laser light reflected by the half mirror 15, a quarter-wave plate 19 and a beam expander 20 for expanding the beam diameter of the recording laser light are provided.
, A dichroic mirror 21 and an objective lens 22 for condensing a recording laser beam and irradiating the resist layer 51 with the laser beam.

【0064】ハーフミラー15により反射された記録用
レーザ光は、1/4波長板19に入射し、円偏光の光と
される。そして、1/4波長板19により円偏光の光と
された記録用レーザ光は、ビームエキスパンダ20を構
成する第1のレンズ23及び第2のレンズ24に順次入
射し、これら第1のレンズ23及び第2のレンズ24に
より、ビーム径が拡大される。
The recording laser light reflected by the half mirror 15 is incident on the quarter-wave plate 19 and is converted into circularly polarized light. Then, the recording laser light converted into circularly polarized light by the 波長 wavelength plate 19 sequentially enters the first lens 23 and the second lens 24 constituting the beam expander 20, and the first lens The beam diameter is enlarged by the lens 23 and the second lens 24.

【0065】ビームエキスパンダ20によりビーム径が
拡大された記録用レーザ光は、詳細を後述するダイクロ
イックミラー21により光路が曲折されて、レジスト層
51が形成されたガラス基板50の主面に対向するよう
に配設された対物レンズ22に入射する。
The recording laser beam whose beam diameter has been expanded by the beam expander 20 has its optical path bent by a dichroic mirror 21 which will be described in detail later, and faces the main surface of the glass substrate 50 on which the resist layer 51 is formed. To the objective lens 22 arranged as described above.

【0066】対物レンズ22は、合成石英のみの単一の
硝材からなり、その表面に、記録用レーザ光を十分に透
過させるための反射防止コートが施されている。対物レ
ンズ22は、このように表面に反射防止コートが施され
ることにより、記録用レーザ光に対して90%以上の透
過率を有するようになされている。
The objective lens 22 is made of a single glass material made of only synthetic quartz, and its surface is provided with an antireflection coat for sufficiently transmitting the recording laser light. The objective lens 22 is provided with an anti-reflection coating on its surface in this way, so that it has a transmittance of 90% or more with respect to the recording laser light.

【0067】この対物レンズ22に入射した記録用レー
ザ光は、この対物レンズ22により集光され、ガラス基
板50上に形成されたレジスト層51に照射される。
The recording laser light incident on the objective lens 22 is condensed by the objective lens 22 and is irradiated on a resist layer 51 formed on the glass substrate 50.

【0068】レジスト層51が形成されたガラス基板5
0は、高回転精度で回転するエアースピンドル上にチャ
ッキングされている。そして、このエアースピンドルの
回転に伴って、図1中矢印A方向に回転するガラス基板
50上のレジスト層51に記録用レーザ光が照射され
る。
Glass substrate 5 on which resist layer 51 is formed
0 is chucked on an air spindle that rotates with high rotational accuracy. Then, with the rotation of the air spindle, the resist layer 51 on the glass substrate 50 rotating in the direction of arrow A in FIG. 1 is irradiated with the recording laser light.

【0069】このレーザカッティング装置1において、
光源2から1/4波長板19までの光学系は、固定され
た光学定盤上に搭載されており、ビームエキスパンダ2
0、折り返しミラー21及び対物レンズ22は、ガラス
基板50の径方向に移動操作される移動光学テーブル上
に搭載されている。そして、上記光学定盤や移動光学テ
ーブル、エアースピンドル等は、全て設置場所の外部振
動の影響を受けないように、エアー定盤上に搭載されて
いる。
In this laser cutting device 1,
The optical system from the light source 2 to the quarter-wave plate 19 is mounted on a fixed optical base, and the beam expander 2
0, the folding mirror 21 and the objective lens 22 are mounted on a moving optical table that is operated to move in the radial direction of the glass substrate 50. The optical surface plate, the movable optical table, the air spindle, and the like are all mounted on the air surface plate so as not to be affected by external vibration at the installation location.

【0070】そして、レーザカッティング装置1は、記
録レーザ光のON/OFFの切り換えを行いながら、移
動光学テーブル25をガラス基板50の径方向に移動操
作させることにより、記録用レーザ光を、ガラス基板5
0のレジスト層51上に、例えばスパイラル状に走査さ
せ、レジスト層51に、所定のピット、グルーブに対応
した凹凸パターンの潜像をスパイラル状に形成する。
Then, the laser cutting apparatus 1 moves the movable optical table 25 in the radial direction of the glass substrate 50 while switching ON / OFF of the recording laser beam, thereby transmitting the recording laser beam to the glass substrate. 5
For example, a spiral image is formed on the 0 resist layer 51 to form a latent image of a concavo-convex pattern corresponding to predetermined pits and grooves on the resist layer 51 in a spiral shape.

【0071】また、このレーザカッティング装置1は、
ガラス基板50のレジスト層51上に照射された記録用
レーザ光の反射光を、複数の折り返しミラー26,2
7,28、集光レンズ29を介してCCDカメラ30に
より取り込み、レジスト層51上に照射された記録用レ
ーザ光の集光状態をモニターするようにしている。
Further, this laser cutting device 1
The reflected light of the recording laser light applied to the resist layer 51 of the glass substrate 50 is reflected by a plurality of folding mirrors 26 and 2.
7, 28, and are captured by the CCD camera 30 via the condenser lens 29, and the focusing state of the recording laser light irradiated onto the resist layer 51 is monitored.

【0072】また、このレーザカッティング装置1は、
記録用レーザ光をレジスト層51に照射するにあたり、
記録用レーザ光の焦点が常にレジスト層51上に位置す
るように、フォーカス制御を行うように構成されてい
る。このフォーカス制御は、オートフォーカス用光学系
により検出されたフォーカスずれ量に応じて対物レンズ
22をその光軸に沿った方向に移動させることにより行
う。
Further, this laser cutting device 1
When irradiating the resist layer 51 with the recording laser beam,
The focus control is performed so that the focal point of the recording laser beam is always located on the resist layer 51. This focus control is performed by moving the objective lens 22 in a direction along the optical axis according to the amount of focus shift detected by the autofocus optical system.

【0073】オートフォーカス用光学系は、上記移動光
学テーブル上に設けられており、例えば波長が680n
m程度のレーザ光に高周波重畳をかけて、高周波重畳レ
ーザ光として出射するオートフォーカス用光源32と、
このオートフォーカス用光源32から出射される高周波
重畳レーザ光の光路上に配設された補正レンズ33及び
偏光ビームスプリッタ34と、偏光ビームスプリッタ3
4を透過した高周波重畳レーザ光の光路上に配設された
1/4波長板35及び折り返しミラー36と、折り返し
ミラー36により反射された高周波重畳レーザ光の光路
上に配設された上記ダイクロイックミラー21と、対物
レンズ22を介してレジスト層51に照射された高周波
重畳レーザ光の反射光(戻り光)の光路上に配設された
光検出器37とを備えている。
The auto-focusing optical system is provided on the moving optical table, and has a wavelength of 680 nm, for example.
an autofocus light source 32 that superimposes high-frequency laser light on the order of m and emits the high-frequency laser light;
The correction lens 33 and the polarization beam splitter 34 disposed on the optical path of the high-frequency superposed laser light emitted from the autofocus light source 32, and the polarization beam splitter 3
A quarter-wave plate 35 and a return mirror 36 disposed on the optical path of the high-frequency superimposed laser light transmitted through 4, and the dichroic mirror disposed on the optical path of the high-frequency superimposed laser light reflected by the return mirror 36 21 and a photodetector 37 disposed on the optical path of the reflected light (return light) of the high-frequency superimposed laser light applied to the resist layer 51 via the objective lens 22.

【0074】オートフォーカス用光源32は、例えば波
長が680nm程度のレーザ光を発生する半導体レーザ
を備え、この半導体レーザから発生するレーザ光に対し
て高周波重畳パルスを印加し、高周波重畳レーザ光とし
て出射する。このオートフォーカス用光源32は、半導
体レーザから発生するレーザ光に印加する高周波重畳パ
ルスの周波数が200〜600MHzの範囲に設定さ
れ、また、半導体レーザから発生するレーザ光に印加す
る高周波重畳パルスのデューティ比が1〜50%の範囲
に設定されていることが望ましい。オートフォーカス用
光源32は、半導体レーザから発生するレーザ光に印加
する高周波重畳パルスの周波数及びデューティ比が以上
のように設定されることにより、適切な高周波重畳レー
ザ光を出射することができる。
The autofocus light source 32 includes, for example, a semiconductor laser that generates a laser beam having a wavelength of about 680 nm, applies a high-frequency superimposed pulse to the laser beam generated from the semiconductor laser, and emits it as a high-frequency superposed laser beam. I do. In the autofocus light source 32, the frequency of the high-frequency superimposed pulse applied to the laser light generated from the semiconductor laser is set in the range of 200 to 600 MHz, and the duty of the high-frequency superimposed pulse applied to the laser light generated from the semiconductor laser is set. It is desirable that the ratio be set in the range of 1 to 50%. The autofocus light source 32 can emit an appropriate high-frequency superimposed laser light by setting the frequency and the duty ratio of the high-frequency superimposed pulse applied to the laser light generated from the semiconductor laser as described above.

【0075】オートフォーカス用光源32から出射され
た高周波重畳レーザ光は、補正レンズ33を構成する第
1のレンズ38及び第2のレンズ39を順次透過する。
高周波重畳レーザ光は、この補正レンズ33を構成する
第1及び第2のレンズ38,39を透過することによ
り、色収差が補正される。すなわち、高周波重畳レーザ
光は、上述した記録用レーザ光に比べて波長が長いため
に、記録用レーザ光と同一の対物レンズ22を介してレ
ジスト層51に照射されると、色収差が生じて焦点距離
が記録用レーザ光の焦点距離と異なることになる。した
がって、この色収差を補正しなければ、適切なフォーカ
スずれ量を検出することが困難となる。そこで、レーザ
カッティング装置1のオートフォーカス用光学系におい
ては、オートフォーカス用光源32から出射される高周
波重畳レーザ光の光路上に補正レンズ33を配設し、色
収差を補正するようにしている。
The high-frequency superimposed laser light emitted from the autofocus light source 32 sequentially passes through the first lens 38 and the second lens 39 constituting the correction lens 33.
Chromatic aberration is corrected by transmitting the high-frequency superimposed laser light through the first and second lenses 38 and 39 constituting the correction lens 33. That is, since the high-frequency superimposed laser light has a longer wavelength than the above-described recording laser light, when it is applied to the resist layer 51 through the same objective lens 22 as the recording laser light, chromatic aberration occurs and focus The distance is different from the focal length of the recording laser light. Therefore, unless this chromatic aberration is corrected, it is difficult to detect an appropriate amount of defocus. Therefore, in the optical system for autofocus of the laser cutting device 1, a correction lens 33 is disposed on the optical path of the high frequency superimposed laser beam emitted from the autofocus light source 32 to correct chromatic aberration.

【0076】補正レンズ33により色収差が補正された
高周波重畳レーザ光は、偏光ビームスプリッタ34を透
過し、1/4波長板35を透過して、折り返しミラー3
6に向かう。
The high-frequency superposed laser light whose chromatic aberration has been corrected by the correction lens 33 passes through the polarizing beam splitter 34, passes through the 1 / wavelength plate 35, and
Go to 6.

【0077】これら偏光ビームスプリッタ34及び1/
4波長板35は、高周波重畳レーザ光をp偏光として対
物レンズ22に入射させ、対物レンズ22を介してレジ
スト層51に照射された高周波重畳レーザ光の戻り光を
s偏光として光検出器37により効率的に検出するため
に設けられているものである。
The polarization beam splitters 34 and 1 /
The four-wavelength plate 35 causes the high-frequency superimposed laser light to enter the objective lens 22 as p-polarized light, and the return light of the high-frequency superposed laser light applied to the resist layer 51 via the objective lens 22 is converted to s-polarized light by the photodetector 37. This is provided for efficient detection.

【0078】折り返しミラー36により反射された高周
波重畳レーザ光は、ダイクロイックミラー21を透過す
る。
The high frequency superimposed laser light reflected by the folding mirror 36 passes through the dichroic mirror 21.

【0079】ダイクロイックミラー21は、入射した光
をその波長に応じて透過又は反射させるものであり、ビ
ームエキスパンダ20を透過した記録用レーザ光の光路
上であって、且つ、折り返しミラー36により反射され
た高周波重畳レーザ光の光路上となる位置に配設されて
いる。そして、このダイクロイックミラー21は、波長
が266nm程度の記録用レーザ光に対してはこれを反
射し、波長が680nm程度の高周波重畳レーザ光に対
してはこれを透過するようになされている。
The dichroic mirror 21 transmits or reflects the incident light according to its wavelength, is on the optical path of the recording laser light transmitted through the beam expander 20, and is reflected by the folding mirror 36. It is disposed at a position on the optical path of the high frequency superimposed laser light. The dichroic mirror 21 reflects recording laser light having a wavelength of about 266 nm, and transmits high frequency superposed laser light having a wavelength of about 680 nm.

【0080】ダイクロイックミラー21を透過した高周
波重畳レーザ光は、対物レンズ22を介してレジスト層
51に照射される。そして、レジスト層51にて反射さ
れた高周波重畳レーザ光(戻り光)が光検出器37に入
射することにより、フォーカスずれ量が検出される。
The high-frequency superimposed laser light transmitted through the dichroic mirror 21 is applied to the resist layer 51 via the objective lens 22. Then, the high-frequency superimposed laser light (return light) reflected by the resist layer 51 is incident on the photodetector 37, whereby the amount of defocus is detected.

【0081】このとき、光検出器37には、レジスト層
51にて反射された戻り光の他に、対物レンズ22によ
り反射された高周波重畳レーザ光が迷光となって入射す
る。すなわち、本発明に係るレーザカッティング装置1
のように、記録用レーザ光として短波長の紫外線レーザ
を用い、オートフォーカス用のレーザ光として波長が6
80nm程度のレーザ光を用いた場合、これらのレーザ
光の波長が大きく異なるために、記録用レーザ光とオー
トフォーカス用のレーザ光の双方に対して十分な透過率
を有する反射防止コートを対物レンズ22に施すことが
困難である。例えば、上述したように、記録用レーザ光
に対して90%以上の透過率となるように反射防止コー
トを施した場合、オートフォーカス用レーザ光に対して
は、60%程度の透過率を確保するのが限界である。そ
して、この対物レンズ22を透過せずに、対物レンズ2
2により反射されたオートフォーカス用レーザ光が、迷
光となって光検出器37に入射してしまう。
At this time, in addition to the return light reflected by the resist layer 51, the high-frequency superimposed laser light reflected by the objective lens 22 enters the photodetector 37 as stray light. That is, the laser cutting device 1 according to the present invention
As described above, an ultraviolet laser having a short wavelength is used as a recording laser beam, and a laser beam having a wavelength of 6
When a laser beam of about 80 nm is used, since the wavelengths of these laser beams are greatly different, an anti-reflection coat having a sufficient transmittance for both the recording laser beam and the autofocus laser beam is used for the objective lens. 22 is difficult to apply. For example, as described above, when an anti-reflection coat is applied so as to have a transmittance of 90% or more with respect to the recording laser light, a transmittance of approximately 60% is secured with respect to the autofocus laser light. That is the limit. Then, without passing through the objective lens 22, the objective lens 2
The laser light for autofocus reflected by the laser beam 2 becomes stray light and enters the photodetector 37.

【0082】ここで、オートフォーカス用レーザ光とし
て高周波重畳をかけないレーザ光を用いた場合、その可
干渉距離が数10cm程度と比較的長いために、対物レ
ンズ22により反射され、迷光となって光検出器37に
入射するオートフォーカス用レーザ光が、レジスト層5
1にて反射され光検出器37に入射する戻り光に作用し
て干渉縞を形成してしまう場合がある。そして、このよ
うに干渉縞が形成される状態でフォーカス制御を行おう
とすると、サーボが頻繁に発振して正常なフォーカス制
御を行うことが困難となる。
Here, when a laser beam not subjected to high-frequency superposition is used as the laser beam for autofocus, its coherent distance is relatively long, about several tens of cm, so that it is reflected by the objective lens 22 and becomes stray light. The laser beam for autofocus incident on the photodetector 37 is
In some cases, interference fringes may be formed by acting on the return light reflected by 1 and entering the photodetector 37. If focus control is to be performed in such a state in which interference fringes are formed, frequent oscillation of the servo makes it difficult to perform normal focus control.

【0083】しかしながら、本発明に係るレーザカッテ
ィング装置1は、オートフォーカス用レーザ光として高
周波重畳をかけたレーザ光を用い、その可干渉距離を極
めて短くしているので、対物レンズ22により反射され
たオートフォーカス用レーザ光が、迷光となって光検出
器37に入射した場合であっても、この対物レンズ22
により反射されたオートフォーカス用レーザ光がレジス
ト層51にて反射された戻り光に干渉することがない。
However, the laser cutting device 1 according to the present invention uses laser light on which high-frequency superposition has been applied as the laser light for autofocus, and its coherence length is extremely short. Even when the laser beam for autofocus enters the photodetector 37 as stray light, the objective lens 22
The laser light for autofocus reflected by the laser beam does not interfere with the return light reflected by the resist layer 51.

【0084】したがって、このレーザカッティング装置
1は、記録用レーザ光として紫外線レーザ等の短波長の
レーザを用いても、正常にフォーカス制御を行うことが
できる。
Therefore, the laser cutting apparatus 1 can perform focus control normally even when a short-wavelength laser such as an ultraviolet laser is used as the recording laser light.

【0085】ところで、このオートフォーカス用光学系
においては、フォーカスずれ量の検出を離軸法と呼ばれ
る方法により行うようにしている。ここで、この離軸法
によりフォーカスずれ量を検出する原理について、図3
を参照して説明する。
In the optical system for autofocus, the amount of defocus is detected by a method called an off-axis method. Here, the principle of detecting the amount of defocus by the off-axis method will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0086】折り返しミラー36により反射され、ダイ
クロイックミラー21を透過した高周波重畳レーザ光
は、対物レンズ22に入射する。このとき、離軸法を用
いたオートフォーカス用光学系においては、この高周波
重畳レーザ光は、対物レンズ22の光軸に対してやや斜
めに入射し、レジスト層51の表面に所定の入射角で斜
めに照射される。したがって、この離軸法を用いたオー
トフォーカス用光学系においては、対物レンズ22とレ
ジスト層51の表面との間の距離が変化すると、高周波
重畳レーザ光のレジスト層51上における照射位置が変
化することになる。そして、レジスト層51にて反射さ
れた戻り光は、レジスト層51上における照射位置に応
じて異なる光路をとることになる。
The high-frequency superimposed laser light reflected by the folding mirror 36 and transmitted through the dichroic mirror 21 enters the objective lens 22. At this time, in the autofocus optical system using the off-axis method, the high-frequency superimposed laser light is incident on the optical axis of the objective lens 22 slightly obliquely, and is incident on the surface of the resist layer 51 at a predetermined incident angle. Irradiated obliquely. Therefore, in the autofocus optical system using the off-axis method, when the distance between the objective lens 22 and the surface of the resist layer 51 changes, the irradiation position of the high-frequency superimposed laser light on the resist layer 51 changes. Will be. The return light reflected by the resist layer 51 takes a different optical path depending on the irradiation position on the resist layer 51.

【0087】例えば、対物レンズ22の位置が変わらな
いと仮定して、レジスト層51の表面が、図3中h1で
示す第1の高さ位置にあるときは、高周波重畳レーザ光
は、レジスト層51の図3中p1で示す第1の照射位置
に照射される。そして、レジスト層51にて反射された
戻り光は、第1の戻り光光路L1を通り、対物レンズ2
2、ダイクロイックミラー21、折り返しミラー36、
1/4波長板35及び偏光ビームスプリッタ34を介し
て光検出器37に入射する。
For example, assuming that the position of the objective lens 22 does not change, when the surface of the resist layer 51 is at the first height position indicated by h1 in FIG. A first irradiation position 51 is indicated by p1 in FIG. Then, the return light reflected by the resist layer 51 passes through the first return light path L1 and passes through the objective lens 2.
2, dichroic mirror 21, folding mirror 36,
The light enters a photodetector 37 via a quarter-wave plate 35 and a polarizing beam splitter 34.

【0088】一方、レジスト層51の表面が、図3中h
2で示す第2の高さ位置にあるときは、高周波重畳レー
ザ光は、レジスト層51の図3中p2で示す第2の照射
位置に照射される。そして、レジスト層51にて反射さ
れた戻り光は、第2の戻り光光路L2を通り、対物レン
ズ22、ダイクロイックミラー21、折り返しミラー3
6、1/4波長板35及び偏光ビームスプリッタ34を
介して光検出器37に入射する。このとき、第2の戻り
光光路L2を通って光検出器37に入射する戻り光の入
射位置は、第1の戻り光光路L1を通って光検出器37
に入射する戻り光の入射位置と異なることになる。
On the other hand, the surface of the resist layer 51 corresponds to h in FIG.
When the laser beam is at the second height position indicated by reference numeral 2, the high-frequency superimposed laser light is applied to the second irradiation position indicated by p2 in FIG. Then, the return light reflected by the resist layer 51 passes through the second return light path L2 and passes through the objective lens 22, the dichroic mirror 21, and the return mirror 3
The light enters a photodetector 37 via a 6, 1/4 wavelength plate 35 and a polarizing beam splitter 34. At this time, the incident position of the return light incident on the photodetector 37 through the second return optical path L2 is determined by the light detector 37 through the first return optical path L1.
Will be different from the incident position of the return light incident on the.

【0089】光検出器37は、例えば受光部が2分割さ
れたフォトディテクタにより構成され、それぞれの受光
部により受光された光量の差から、戻り光の入射位置に
応じた信号を生成する。
The photodetector 37 is constituted by, for example, a photodetector in which a light receiving portion is divided into two, and generates a signal corresponding to the incident position of the return light from the difference in the amount of light received by each light receiving portion.

【0090】以上のように、離軸法を用いたオートフォ
ーカス用光学系においては、ガラス基板50の面振れ等
によりレジスト層51の表面の高さ位置が変化すると、
戻り光が異なる光路を通って、例えば受光部が2分割さ
れたフォトディテクタにより構成された光検出器37の
異なる位置に入射する。そして、この入射位置の違いが
光検出器37により検出され、信号として生成される。
すなわち、この離軸法を用いたオートフォーカス用光学
系においては、ガラス基板50の面振れ等によりレジス
ト層51と対物レンズ22との間の距離が変化して記録
用レーザ光の焦点がレジスト層51上から外れると、高
周波重畳レーザ光の戻り光の光検出器37への入射位置
が変化して、この変化量がフォーカスずれ量として検出
される。
As described above, in the optical system for auto-focusing using the off-axis method, when the height position of the surface of the resist layer 51 changes due to the deflection of the surface of the glass substrate 50, etc.
Return light passes through different optical paths and enters, for example, different positions of a photodetector 37 constituted by a photodetector in which a light receiving section is divided into two. Then, the difference between the incident positions is detected by the photodetector 37 and is generated as a signal.
That is, in the optical system for auto-focusing using the off-axis method, the distance between the resist layer 51 and the objective lens 22 changes due to the surface deflection of the glass substrate 50, and the focus of the recording laser light is shifted to the resist layer. When it deviates from above 51, the incident position of the return light of the high-frequency superimposed laser light on the photodetector 37 changes, and the amount of change is detected as a focus shift amount.

【0091】レーザカッティング装置1は、このオート
フォーカス光学系31により検出されたフォーカスずれ
量に応じて、対物レンズ22を保持する電磁アクチュエ
ータを駆動し、対物レンズ22をその光軸方向に移動さ
せてフォーカス制御を行うようにしている。
The laser cutting device 1 drives an electromagnetic actuator that holds the objective lens 22 in accordance with the amount of defocus detected by the autofocus optical system 31, and moves the objective lens 22 in the direction of its optical axis. Focus control is performed.

【0092】なお、以上は離軸法によりフォーカスずれ
量を検出するオートフォーカス用光学系について説明し
たが、本発明はこの例に限定されるものではなく、例え
ば非点収差法によりフォーカスずれ量を検出するように
してもよい。この場合は、高周波重畳レーザ光を対物レ
ンズ22の光軸に沿ってレジスト層51に照射させると
ともに、その戻り光の光路上にシリンドリカルレンズを
配設して、その戻り光に非点収差を生じさせるようにす
ればよい。
Although the optical system for autofocus which detects the amount of defocus by the off-axis method has been described above, the present invention is not limited to this example. For example, the amount of defocus is determined by the astigmatism method. You may make it detect. In this case, the high-frequency superimposed laser light is applied to the resist layer 51 along the optical axis of the objective lens 22, and a cylindrical lens is arranged on the optical path of the return light to cause astigmatism in the return light. What should be done is.

【0093】以上説明したように、本発明に係るレーザ
カッティング装置1は、オートフォーカス用のレーザ光
として、例えば波長が680nm程度のレーザ光に高周
波重畳をかけた高周波重畳レーザ光を用いるようにして
いるので、対物レンズ22により反射されたオートフォ
ーカス用レーザ光がレジスト層51にて反射された戻り
光に干渉して干渉縞を形成し、正常なフォーカス制御を
阻害するといった不都合を生じさせることがない。
As described above, the laser cutting apparatus 1 according to the present invention uses a high-frequency superimposed laser beam obtained by superimposing a high-frequency laser beam having a wavelength of about 680 nm as a laser beam for autofocusing. Therefore, the laser light for autofocus reflected by the objective lens 22 may interfere with the return light reflected by the resist layer 51 to form interference fringes, thereby causing a problem that normal focus control is obstructed. Absent.

【0094】したがって、このレーザカッティング装置
1は、記録用レーザ光として紫外線レーザ等の短波長の
レーザを用いた場合であっても、適切にフォーカス制御
を行うことができ、微細なパターンの潜像を適切に形成
することができる。
Therefore, the laser cutting apparatus 1 can appropriately perform focus control even when a short-wavelength laser such as an ultraviolet laser is used as a recording laser beam, and can provide a latent image of a fine pattern. Can be appropriately formed.

【0095】また、このレーザカッティング装置1は、
オートフォーカス用光学系として補正レンズ33を備
え、この補正レンズ33によりオートフォーカス用レー
ザ光と記録用レーザ光の波長差によって生ずる色収差を
補正するようにしているので、記録用レーザ光として紫
外線レーザ等の短波長のレーザを用いるために、対物レ
ンズ22に色収差補正する機能を持たせられない場合で
あっても、適切にフォーカス制御を行うことができる。
Further, this laser cutting device 1
A correction lens 33 is provided as an auto-focusing optical system, and the correction lens 33 corrects chromatic aberration caused by a wavelength difference between the auto-focusing laser light and the recording laser light. Therefore, even if the objective lens 22 cannot have a function of correcting chromatic aberration, the focus control can be appropriately performed.

【0096】[0096]

【発明の効果】本発明に係るレーザカッティング装置
は、高周波重畳をかけたレーザ光を基板上に形成された
レジスト層に照射させ、その反射光を検出することによ
り、記録用レーザ光の焦点ずれを検出するようにしてい
るので、このレーザ光の光路上に配された対物レンズに
て反射された光が、レジスト層にて反射された反射光に
作用して干渉縞を形成してしまい、正常なフォーカス制
御を阻害するといった不都合が回避される。
The laser cutting apparatus according to the present invention irradiates a resist layer formed on a substrate with a laser beam subjected to high-frequency superposition and detects the reflected light, thereby defocusing the recording laser beam. Is detected, the light reflected by the objective lens disposed on the optical path of the laser light acts on the reflected light reflected by the resist layer to form interference fringes, Inconvenience such as hindering normal focus control is avoided.

【0097】したがって、このレーザカッティング装置
によれば、記録用レーザ光として、例えば紫外線レーザ
等の波長の短いレーザ光を用いた場合であっても、適切
にフォーカス制御を行って、レジスト層に微細なパター
ンの潜像を適切に形成することができる。
Therefore, according to this laser cutting apparatus, even when a laser beam having a short wavelength, such as an ultraviolet laser, is used as the recording laser beam, the focus control is appropriately performed, and the fineness of the resist layer is reduced. A latent image having a simple pattern can be appropriately formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】レジスト層に所定パターンの潜像を形成する様
子を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a state in which a latent image having a predetermined pattern is formed on a resist layer.

【図2】本発明に係るレーザカッティング装置の概略構
成を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a laser cutting device according to the present invention.

【図3】離軸方式を用いてフォーカス位置ずれを検出す
る原理を説明する模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a principle of detecting a focus position shift using an off-axis method.

【図4】従来のレーザカッティング装置の概略を説明す
る模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram illustrating an outline of a conventional laser cutting device.

【符号の説明】 1 レーザカッティング装置、2 光源、22 対物レ
ンズ、32 オートフォーカス用光源、33 補正レン
ズ、50 ガラス基板、51 レジスト層
[Description of Signs] 1 Laser cutting device, 2 light source, 22 objective lens, 32 autofocus light source, 33 correction lens, 50 glass substrate, 51 resist layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山津 久行 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 古木 基裕 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 竹下 康之 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 大里 潔 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 4E068 AB00 CA11 CB08 CC01 CD13 DB07 5D121 BB21 BB38  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hisayuki Yamazu 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Motohiro Furuki 6-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Yasuyuki Takeshita 6-7-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Kiyoshi Osato 6-35, Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony F term in reference company (reference) 4E068 AB00 CA11 CB08 CC01 CD13 DB07 5D121 BB21 BB38

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成されたレジスト層に記録用
レーザ光を照射して上記レジスト層に潜像を形成するレ
ーザカッティング装置において、 上記記録用レーザ光の焦点を上記レジスト層上に位置さ
せるオートフォーカス機構を備え、 上記オートフォーカス機構は、高周波重畳をかけたレー
ザ光を上記基板上に形成されたレジスト層に照射させ、
その反射光を検出することにより、記録用レーザ光の焦
点ずれを検出することを特徴とするレーザカッティング
装置。
1. A laser cutting apparatus for irradiating a resist layer formed on a substrate with a recording laser beam to form a latent image on the resist layer, wherein a focal point of the recording laser beam is positioned on the resist layer. An auto-focus mechanism for causing the resist layer formed on the substrate to be irradiated with a laser beam subjected to high-frequency superposition,
A laser cutting device for detecting a defocus of a recording laser beam by detecting the reflected light.
【請求項2】 上記記録用レーザ光として、紫外線レー
ザを用いることを特徴とする請求項1記載のレーザカッ
ティング装置。
2. The laser cutting device according to claim 1, wherein an ultraviolet laser is used as the recording laser light.
【請求項3】 上記記録用レーザ光及び上記高周波重畳
をかけたレーザ光を集光する対物レンズを備え、 上記対物レンズが単一の硝材よりなることを特徴とする
請求項1記載のレーザカッティング装置。
3. The laser cutting device according to claim 1, further comprising an objective lens for converging the recording laser light and the high-frequency superimposed laser light, wherein the objective lens is made of a single glass material. apparatus.
【請求項4】 上記オートフォーカス機構は、上記高周
波重畳をかけたレーザ光と上記記録用レーザ光との色収
差を補正する補正レンズを備えることを特徴とする請求
項1記載のレーザカッティング装置。
4. The laser cutting apparatus according to claim 1, wherein the autofocus mechanism includes a correction lens for correcting chromatic aberration between the laser light on which the high-frequency superposition is applied and the recording laser light.
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