JP2000033251A - 混合装置及びそれが装備された燃料ガス流路 - Google Patents

混合装置及びそれが装備された燃料ガス流路

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 流体の混合、特に二つの流体流を混合するた
めの混合装置を提供すること。 【解決手段】 ガス流を半径方向に変向させる少なくと
も一つの変向体、及び第二ガス流を導入するための第一
ノズル装置を混合装置のハウジング内に設備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は流体の混合、特に二
つの流体流を混合するための、転向体を備えた混合装置
に関する。
【０００２】
【発明の一般的説明】異なるガスからなるガス流の流れ
をそらすまたは転向(deflect) させた際に、これらのガ
スが十分に混合されること、特に放射拡散器(radial di
ffuser) が、デンマーク特許第169,823 号及び国際特許
出願(PCT/DK)第9500200 号に記載されるようなガス流の
均一な混合を可能にすることがここに見出された。
【０００３】本発明の混合装置は、例えば螺旋型要素に
よって生ずる強い乱流及び大きな渦流が混合操作に伴う
慣用の静的混合装置を完全にまたは部分的に置き換える
ものである。このような装置は非常に効果的なものとす
ることができるが、しかしこれらは実質的な圧力損失を
導く。
【０００４】本発明の基本的な技術思想は、例えばオフ
ガスのDENOX 触媒処理と静流器(silencer)を組み合わせ
た場合に、静流装置の管路または流路の内の及び／また
はそれに付随する高速な流動速度及び流れの転向を、組
み合わされた静流及び混合操作に利用できるということ
に存ずる。このような管路、流路または付随の流動要素
が実質的な圧力損失を引き起こし得るとしても、全体的
な圧力損失管理がより更に効果的になり得る。更に、全
体的な空間要求がより小さくなり得る。
【０００５】場合によっては、本発明は慣用の混合機及
び別個の静流器の両方を不必要なものとし得る。
【０００６】本発明による混合装置は、オフガスの触媒
作用処理のために反応体ガスあるいは液体もしくは固体
相の反応性粒子の霧がオフガスと混合される場所である
ところのオフガス処理のための触媒作用区画が設けられ
ている、燃料ガスまたは排ガス流路に装備された場合に
特に有用である。別個に設けられた静流及び混合装置を
備える流路と比較すると、このような使用法において、
本混合装置の組み合わされた静流及び混合効果は、上記
流路の全寸法及びガスの圧力低下の程度を有利に低減さ
せる。それゆえ、本発明は更に、反応体ガスの存在下に
おけるオフガスの触媒作用処理のための一つまたはそれ
以上の触媒床を有するオフガス流路であって、更に、触
媒床に導入される前にオフガス及び反応体ガスを静流化
及び混合するための上記のタイプの混合装置を含むオフ
ガス流路を提供する。
【０００７】
【発明の態様】以下においては、本発明の具体的な態様
を、連続に配置された放射拡散器要素を備えた混合装置
を示す添付図の参照の下に更に詳細に説明する。
【０００８】この混合装置は、筒状のハウジング２内
に、軸10に沿って連続に配置された三つの放射拡散器要
素４、６及び８を含む。
【０００９】放射拡散器要素４、６及び８は、それぞ
れ、湾曲したガイドバフル14a 、14b及び14c 並びに湾
曲した停滞バフル(stagnation baffle)16a、16b 及び16
c に接続された筒状の入口末端12a 、12b 及び12ｃから
構成され、上記停滞バフルにより、ガス流に部分的に流
動の停滞が起こり、図中の矢印によって示されるように
ガス流が出口末端18a 、18b 及び18c に放射状に導かれ
る。
【００１０】オフガス流20は、ハウジング２内の入口22
を介して混合装置内に導入されそしてこれを通過して第
一放射拡散器４の入口22に向かう。
【００１１】ガス流の散漫拡散の前に、このガス流は、
管24から導入される反応体ガスと混合される。
【００１２】反応体ガス24は、停滞バフル14a 上に中央
に配置されたノズル26を介してガス流20に導入される。
次いでこの混合ガス流は、ガイドバフル14a と停滞バフ
ル16a の間のコンダクト28を放射状に通過して出口末端
18a に導かれる。更にこの混合ガス流は、順次、拡散器
要素６及び８に導入される。拡散器要素６及び８には、
それぞれ、拡散器４及び６を通過したガス流を集めるた
めの、入口12b 及び12c に接続されたガス収集器30a 及
び30b が装備されている。上記の混合装置を通過するこ
とによって、反応体ガスはオフガス流と十分に混合され
そして混合装置の出口末端32の所で均一なガス流として
排出される。
【００１３】図２は本発明の第二の態様を示すものであ
る。ここでは、この混合装置は、反応体ガスの導入に使
用されるノズル26に加えて第二のノズル流を発生させる
中央転向体11をハウジング２内に含む。この転向体の前
面末端の所で、ガス流の一部(15)は、環状ダクト12へ外
側に放射状に流動させられる。その後、遷移流動要素13
においてこのガス流は内側に転向し、そうしてこのガス
流は管路またはダクト14によりハウジング２を通過し、
そしてこのダクト14において再び全断面を満たすように
なる。流動拡大部16において、今や実質的にまたは完全
に混合された流れが、モノリス31を含むハウジング30中
に進入する。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、筒状のハウジング内に連続に配置され
た三つの放射拡散器要素を含む本発明による混合装置の
一態様を示すものである。
【図２】図２は、ハウジング内に中央転向体を有する本
発明による混合装置の一態様を示すものである。
【記号の説明】
２ ・・・ ハウジング ４、６、８ ・・・ 放射拡散器要素 10 ・・・ ハウジング２内の軸 11 ・・・ 中央転向体 12 ・・・ 環状ダクト 12a 、12b 、12c ・・・ 筒状入口末端 13 ・・・ 遷移流動要素 14 ・・・ ハウジング２の後のダクト 14a 、14b 、14c ・・・ ガイドバフル 15 ・・・ 環状ダクト12に外側に放射状
に流動するガス流 16 ・・・ 流動拡大部 16a 、16b 、16c ・・・ 停滞バフル 18a 、18b 、18c ・・・ 出口末端 20 ・・・ 導入オフガス流 22 ・・・ 入口 24 ・・・ 反応体ガス導入管 26 ・・・ ノズル 28 ・・・ ガイドバフルと停滞バフルと
の間のコンダクト 30 ・・・ モノリスを含むハウジング 30a 、30b ・・・ ガス収集器 31 ・・・ モノリス 32 ・・・ 混合装置の出口末端

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 第一及び第二ガス流を混合するための混
    合装置であって、ハウジング内に、それの中でガス流を
    半径方向に転向させる少なくとも一つの転向体、及び第
    二ガス流を導入するための第一ノズル装置を含む上記混
    合装置。
  2. 【請求項２】 第一ノズル装置が、ハウジングの軸に対
    し実質的に回転対称的に配置されている、請求項１の混
    合装置。
  3. 【請求項３】 転向体が、ガイドバフル及び並置した停
    滞バフルを有する放射拡散器の形である、請求項１の混
    合装置。
  4. 【請求項４】 第一ノズルが拡散器の入口に配置されて
    いる、請求項３の混合装置。
  5. 【請求項５】 第一ノズル装置が停滞バフルの軸上に配
    置されている、請求項３の混合装置。
  6. 【請求項６】 流動方向に流動領域が減少する第二ノズ
    ル部にガス流が進入するように、少なくとも一つの転向
    体が適合されている、請求項１の混合装置。
  7. 【請求項７】 拡散器が管路または流路に接続されてお
    り、この際、この拡散器及び管路または流路が一緒にな
    って上流室及び下流室の両方と通じている、請求項３の
    混合装置。
  8. 【請求項８】 第二ノズルが管路または流路と接続され
    ており、この際、この第二ノズル及び管路または流路が
    一緒になって上流室及び下流室の両方と通じている、請
    求項６の混合装置。
  9. 【請求項９】 ハウジングがオフガス流路の一区画内に
    装備されている、請求項１の混合装置。
  10. 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれか一つの混合装
    置が装備されている、オフガスの触媒作用処理のための
    オフガス流路。
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