JP2000026842A - Antistatic agent - Google Patents

Antistatic agent

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JP2000026842A
JP2000026842A JP10199293A JP19929398A JP2000026842A JP 2000026842 A JP2000026842 A JP 2000026842A JP 10199293 A JP10199293 A JP 10199293A JP 19929398 A JP19929398 A JP 19929398A JP 2000026842 A JP2000026842 A JP 2000026842A
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JP
Japan
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polymer
meth
antistatic agent
monomer
component
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JP10199293A
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Japanese (ja)
Inventor
Norihiro Kaiya
法博 海谷
Motohiro Mitani
元宏 三谷
Hirobumi Irie
博文 入江
Norio Nakabayashi
宣男 中林
Kazuhiko Ishihara
一彦 石原
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NOF Corp
Original Assignee
NOF Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an antistatic agent which has an excellent compatibility with base materials by using a polymer having a specific group in its side chain. SOLUTION: A polymer having a group of formula I in its side chain is used as an antistatic agent. In the formula, R1, R2 and R3 are each H or a 1-4C alkyl; and (n) is 2-4. The antistatic agent may comprise 1-99 wt.% of (A) a polymer having a group of formula I and 1-99 wt.% of (B) another polymer. The polymer A should contain 100-1 mol.% of a structural unit based on a monomer having a group of formula I in its side chain and 0-99 mol.% of a structural unit based on another monomer. The number average molecular weight of the polymer A is preferably 1,000-1,000,000. The monomer having a group of formula I in its side chain is preferably 2- methacryloyloxyethyl-2'-(triethylanmmonio)ethylphosphate. The agent is used for various polymer materials by impregnation or coating.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、当該帯電防止剤
を、種々の高分子素材に含浸もしくは塗布することによ
り高分子表面の電気抵抗を減少させ、静電気の蓄積を抑
え、帯電防止性能に優れた高分子フィルムもしくは繊維
などの高分子成形体を得ることを目的とする。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antistatic agent which is impregnated or coated on various polymer materials to reduce the electric resistance of the polymer surface, suppress the accumulation of static electricity, and have excellent antistatic performance. To obtain a polymer molded article such as a polymer film or fiber.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリエチレンやポリプロピレンのような
プラスチックは絶縁抵抗性が高く、静電気を帯びやすい
ため、その加工工程中、静電気障害を生じる、あるいは
微粉末を引きつけるため不良原因となる。特に、高速に
流れるプラスチックフィルムや成型品等は摩擦により帯
電しやすく、静電気を嫌うコンピューター関連機器のプ
ラスチック部品や包装材料関係の用途においては、この
表面の静電気蓄積による問題は、ごみの付着のみならず
品質を劣化させる原因となり無視できない。しかし、上
記の問題は梅雨時における高湿度の場合や表面抵抗率が
1012Ω/cm2以下の場合においては静電気の帯電等が起
こりにくいことは公知である。また、高分子繊維等にお
いては上述のような静電気の帯電により繊維製品である
衣類等のまとわりつきが問題となっている。
2. Description of the Related Art Plastics such as polyethylene and polypropylene have a high insulation resistance and are easily charged with static electricity, which may cause static electricity damage during the processing step or cause fine powder to be attracted. In particular, plastic films and molded products that flow at high speed are easily charged by friction, and in applications related to plastic parts of computer-related equipment and packaging materials that dislike static electricity, the problem due to the accumulation of static electricity on the surface is that if only dust adheres, It cannot be ignored because it causes quality deterioration. However, it is known that the above-mentioned problem is unlikely to occur due to static electricity or the like when the humidity is high during the rainy season or when the surface resistivity is 10 12 Ω / cm 2 or less. Further, in the case of polymer fibers and the like, there is a problem in that clothing such as clothing, which is a textile product, is clinged due to the electrostatic charge as described above.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的
は、基材に対する親和性に優れた帯電防止剤を提供する
ことにある。また、本発明の第2の目的は、該帯電防止
剤を処理してなる物品を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is a first object of the present invention to provide an antistatic agent having an excellent affinity for a substrate. A second object of the present invention is to provide an article obtained by treating the antistatic agent.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題点に鑑み、鋭意検討した結果、特定の基を有する重合
体が優れた帯電防止効果を発揮することを見出し、本発
明を完成した。即ち、本発明は次の(1)〜(4)であ
る。 (1)下記一般式[1]
Means for Solving the Problems In view of the above problems, the present inventors have conducted intensive studies, and as a result, have found that a polymer having a specific group exerts an excellent antistatic effect, and have achieved the present invention. completed. That is, the present invention includes the following (1) to (4). (1) The following general formula [1]

【化4】 (式中、R1、R2、R3およびnは、同一又は異なる基
であって、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、n
は2〜4の整数を示す。)で表わされる基を側鎖に有す
る重合体Aからなる帯電防止剤。 (2)A成分として、下記一般式[1]
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and n are the same or different groups, and each is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n
Represents an integer of 2 to 4. An antistatic agent comprising the polymer A having a group represented by the formula (1) in the side chain. (2) As the component A, the following general formula [1]

【化5】 (式中、R1、R2、R3およびnは、同一又は異なる基
であって、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、n
は2〜4の整数を示す。)で表わされる基を側鎖に有す
る重合体A、1〜99重量%とB成分として、他の重合
体B、99〜1重量%とを含む高分子組成物からなる
(1)記載の帯電防止剤。 (3)A成分として、下記一般式[2]
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and n are the same or different groups, and each is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n
Represents an integer of 2 to 4. (1) The charge according to (1), comprising a polymer composition containing 1 to 99% by weight of a polymer A having a group represented by the side chain in the side chain and 99 to 1% by weight of another polymer B as a component B. Inhibitor. (3) As the component A, the following general formula [2]

【化6】 (式中、R1、R2、R3、nおよびR4は、同一又は異な
る基であって、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル
基、nは2〜4の整数を示す。また、R4は、水素原子
又はメチル基を示す。)で表わされる単量体、(a1成
分)100〜1モル%、他の単量体(a2成分)0〜9
9モル%とを含む単量体混合物を重合してなる重合体
(A)、1〜99重量%と、B成分として、他の重合体
B、99〜1重量%を含む高分子混合物からなる帯電防
止剤である。 (4)前記の(1)〜(3)のいずれかの1つに記載の
帯電防止剤を処理してなる物品である。
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , n and R 4 are the same or different groups, each being a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is an integer of 2 to 4. , R 4 is a monomer represented by a hydrogen atom or a methyl group.), (a1 component) 100 to mol%, the other monomer (a2 component) 0-9
A polymer (A) obtained by polymerizing a monomer mixture containing 9 mol% and 1 to 99% by weight, and a polymer mixture containing another polymer B and 99 to 1% by weight as a B component. It is an antistatic agent. (4) An article obtained by treating the antistatic agent according to any one of the above (1) to (3).

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明に用いる一般式[1]で表
わされる基を側鎖に有する重合体の帯電防止剤は、下記
一般式[1]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polymer antistatic agent having a group represented by the general formula [1] in the side chain used in the present invention is represented by the following general formula [1]

【化7】 (式中、R1、R2、R3およびnは、同一又は異なる基
であって、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、n
は2〜4の整数を示す。)で表される基を重合体の側鎖
に有していればよい。ここで、R1、R2及びR3は、同
一でも又は異なる基であってもよく、水素原子又は炭素
数1〜4のアルキル基であり、nは2〜4の整数であ
る。R1、R2及びR3の炭素数が5以上の場合は、原料
が入手しにくいため、好ましくない。また、nが1若し
くは5以上の整数の場合は、合成が困難であり好ましく
ない。
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and n are the same or different groups, and each is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n
Represents an integer of 2 to 4. ) May be present in the side chain of the polymer. Here, R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is an integer of 2 to 4. When the carbon number of R 1 , R 2 and R 3 is 5 or more, it is not preferable because raw materials are difficult to obtain. When n is 1 or an integer of 5 or more, synthesis is difficult, which is not preferable.

【0006】また、本発明の帯電防止剤は、A成分とし
て、前記の一般式[1]で表される基を側鎖に有する重
合体Aを、1〜99重量%と、B成分として、他の重合
体Bを1〜99重量%含んでもよい。
Further, the antistatic agent of the present invention comprises, as an A component, 1 to 99% by weight of a polymer A having a group represented by the above general formula [1] in a side chain; It may contain 1 to 99% by weight of another polymer B.

【0007】またさらに、本発明の帯電防止剤は、A成
分として、下記一般式[2]
Further, the antistatic agent of the present invention comprises, as an A component, the following general formula [2]:

【化8】 (式中、R1、R2、R3、R4およびnは、同一又は異な
る基であって、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル
基、nは2〜4の整数を示し、また、R4は、水素原子
又はメチル基を示す。)で表わされる単量体、(a1成
分)100〜1モル%、と他の単量体(a2成分)0〜
99モル%とを含む単量体混合物を重合してなる重合体
(A)を得ることができ、前記の重合体(A)、1〜9
9重量%と、B成分として、他の重合体(B)、99〜
1重量%を含む高分子混合物からなる帯電防止剤であ
る。
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and n are the same or different groups, and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; n represents an integer of 2 to 4; , R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group), (a1 component) 100 to 1 mol%, and another monomer (a2 component) 0 to
A polymer (A) obtained by polymerizing a monomer mixture containing 99 mol% of the polymer (A) can be obtained.
9% by weight, and as the B component, another polymer (B), 99 to
An antistatic agent comprising a polymer mixture containing 1% by weight.

【0008】さらに、本発明は、前記の帯電防止剤で処
理してなる物品である。
Further, the present invention is an article obtained by treating with the above-mentioned antistatic agent.

【0009】本発明に用いる重合体Aは、前記の一般式
[1]で表わされる基を側鎖に有するような単量体(具
体的には、例えば一般式[2]に示されるような単量
体)に基づく構成単位を100〜1モル%、より好まし
くは100〜10%、更に好ましくは90〜30モル%
と、a2成分として、その他の単量体に基づく構成単位
を0〜99モル%、より好ましくは0〜90モル%、さ
らに好ましくは10〜70モル%を含んでいれば良く、
通常、a1成分とa2成分とを含む単量体混合物をラジカ
ル重合して得られる。
The polymer A used in the present invention is a monomer having a group represented by the general formula [1] in the side chain (specifically, for example, a monomer represented by the general formula [2] 100 to 1 mol%, more preferably 100 to 10%, even more preferably 90 to 30 mol%
And, as the a2 component, 0 to 99 mol%, more preferably 0 to 90 mol%, and still more preferably 10 to 70 mol%, of a structural unit based on another monomer,
Usually, it is obtained by radical polymerization of a monomer mixture containing the a1 component and the a2 component.

【0010】本発明に用いられるa1成分の単量体とし
ては、前記の一般式[1]で表わされる基を側鎖に有す
るような単量体が用いられ、例えば、分子中に重合性の
二重結合と前記の一般式[1]で表される基を有してい
るような単量体が好ましく用いられる。該単量体として
は、具体的には例えば、2−(メタ)アクリロイルオキ
シエチル−2’−(トリメチルアンモニオ)エチルホス
フェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル−
2’−(トリメチルアンモニオ)エチルホスフェート、
4−(メタ)アクリロイルオキシブチル−2’−(トリ
メチルアンモニオ)エチルホスフェート、5−(メタ)
アクリロイルオキシペンチル−2’−(トリメチルアン
モニオ)エチルホスフェート、2−(メタ)アクリロイ
ルオキシエチル−2’−(トリエチルアンモニオ)エチ
ルホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロ
ピル−2’−(トリエチルアンモニオ)エチルホスフェ
ート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチル−2’−
(トリエチルアンモニオ)エチルホスフェート、5−
(メタ)アクリロイルオキシペンチル−2’−(トリエ
チルアンモニオ)エチルホスフェート、2−(メタ)ア
クリロイルオキシエチル−2’−(トリプロピルアンモ
ニオ)エチルホスフェート、3−(メタ)アクリロイル
オキシプロピル−2’−(トリプロピルアンモニオ)エ
チルホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブ
チル−2’−(トリプロピルアンモニオ)エチルホスフ
ェート、5−(メタ)アクリロイルオキシペンチル−
2’−(トリプロピルアンモニオ)エチルホスフェー
ト、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2’−
(トリブチルアンモニオ)エチルホスフェート、3−
(メタ)アクリロイルオキシプロピル−2’−(トリブ
チルアンモニオ)エチルホスフェート、4−(メタ)ア
クリロイルオキシブチル−2’−(トリプロピルアンモ
ニオ)エチルホスフェート、5−(メタ)アクリロイル
オキシペンチル−2’−(トリブチルアンモニオ)エチ
ルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチ
ル−3’−(トリメチルアンモニオ)プロピルホスフェ
ート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−4’−
(トリメチルアンモニオ)ブチルエチルホスフェート、
2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−3’−(トリ
エチルアンモニオ)プロピルホスフェート、2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチル−4’−(トリエチルア
ンモニオ)ブチルホスフェート、2−(メタ)アクリロ
イルオキシエチル−3’−(トリプロピルアンモニオ)
プロピルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキ
シエチル−4’−(トリプロピルアンモニオ)ブチルホ
スフェート等をあげられ、さらに、2−(メタ)アクリ
ロイルオキシエチル−3’−(トリブチルアンモニオ)
プロピルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキ
シエチル−4’−(トリブチルアンモニオ)ブチルホス
フェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル−
3’−(トリメチルアンモニオ)プロピルホスフェー
ト、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル−4’−
(トリメチルアンモニオ)ブチルホスフェート、3−
(メタ)アクリロイルオキシプロピル−3’−(トリエ
チルアンモニオ)プロピルホスフェート、3−(メタ)
アクリロイルオキシプロピル−4’−(トリエチルアン
モニオ)ブチルホスフェート、3−(メタ)アクリロイ
ルオキシプロピル−3’−(トリプロピルアンモニオ)
プロピルホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキ
シプロピル−4’−(トリプロピルアンモニオ)ブチル
ホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピ
ル−3’−(トリブチルアンモニオ)プロピルホスフェ
ート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル−4’
−(トリブチルアンモニオ)ブチルホスフェート、4−
(メタ)アクリロイルオキシブチル−3’−(トリメチ
ルアンモニオ)プロピルホスフェート、4−(メタ)ア
クリロイルオキシブチル−4’−(トリメチルアンモニ
オ)ブチルホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオ
キシブチル−3’−(トリエチルアンモニオ)プロピル
エチルホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシ
ブチル−4’−(トリエチルアンモニオ)ブチルホスフ
ェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチル−3’
−(トリプロピルアンモニオ)プロピルホスフェート、
4−(メタ)アクリロイルオキシブチル−4’−(トリ
プロピルアンモニオ)ブチルホスフェート、4−(メ
タ)アクリロイルオキシブチル−3’−(トリブチルア
ンモニオ)プロピルホスフェート、4−(メタ)アクリ
ロイルオキシブチル−4’−(トリブチルアンモニオ)
ブチルホスフェートが挙げられる。さらには、一般式
[1]で示される基が1〜2個エステル化されたマレイ
ン酸、フマル酸、イタコン酸の単量体の誘導体等を挙げ
ることができる。
As the monomer of the a1 component used in the present invention, a monomer having a group represented by the above general formula [1] in a side chain is used. A monomer having a double bond and a group represented by the general formula [1] is preferably used. Specific examples of the monomer include 2- (meth) acryloyloxyethyl-2 ′-(trimethylammonio) ethyl phosphate and 3- (meth) acryloyloxypropyl-
2 ′-(trimethylammonio) ethyl phosphate,
4- (meth) acryloyloxybutyl-2 ′-(trimethylammonio) ethyl phosphate, 5- (meth)
Acryloyloxypentyl-2 '-(trimethylammonio) ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2'-(triethylammonio) ethylphosphate, 3- (meth) acryloyloxypropyl-2 '-(triethylammonium E) Ethyl phosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl-2′-
(Triethylammonio) ethyl phosphate, 5-
(Meth) acryloyloxypentyl-2 '-(triethylammonio) ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2'-(tripropylammonio) ethylphosphate, 3- (meth) acryloyloxypropyl-2 ' -(Tripropylammonio) ethyl phosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl-2 ′-(tripropylammonio) ethylphosphate, 5- (meth) acryloyloxypentyl-
2 ′-(tripropylammonio) ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2′-
(Tributylammonio) ethyl phosphate, 3-
(Meth) acryloyloxypropyl-2 '-(tributylammonio) ethyl phosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl-2'-(tripropylammonio) ethylphosphate, 5- (meth) acryloyloxypentyl-2 ' -(Tributylammonio) ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-3 ′-(trimethylammonio) propyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-4′-
(Trimethylammonio) butylethyl phosphate,
2- (meth) acryloyloxyethyl-3 ′-(triethylammonio) propyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-4 ′-(triethylammonio) butyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-3 '-(Tripropylammonio)
Propyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-4 ′-(tripropylammonio) butyl phosphate, and the like. Further, 2- (meth) acryloyloxyethyl-3 ′-(tributylammonio)
Propyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-4 ′-(tributylammonio) butyl phosphate, 3- (meth) acryloyloxypropyl-
3 '-(trimethylammonio) propyl phosphate, 3- (meth) acryloyloxypropyl-4'-
(Trimethylammonio) butyl phosphate, 3-
(Meth) acryloyloxypropyl-3 ′-(triethylammonio) propyl phosphate, 3- (meth)
Acryloyloxypropyl-4 ′-(triethylammonio) butyl phosphate, 3- (meth) acryloyloxypropyl-3 ′-(tripropylammonio)
Propyl phosphate, 3- (meth) acryloyloxypropyl-4 ′-(tripropylammonio) butyl phosphate, 3- (meth) acryloyloxypropyl-3 ′-(tributylammonio) propyl phosphate, 3- (meth) acryloyl Oxypropyl-4 '
-(Tributylammonio) butyl phosphate, 4-
(Meth) acryloyloxybutyl-3 '-(trimethylammonio) propyl phosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl-4'-(trimethylammonio) butylphosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl-3'- (Triethylammonio) propylethyl phosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl-4 ′-(triethylammonio) butylphosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl-3 ′
-(Tripropylammonio) propyl phosphate,
4- (meth) acryloyloxybutyl-4 '-(tripropylammonio) butylphosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl-3'-(tributylammonio) propylphosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl- 4 '-(tributylammonio)
Butyl phosphate. Furthermore, there may be mentioned maleic acid, fumaric acid, and derivatives of itaconic acid monomers in which one or two groups represented by the general formula [1] are esterified.

【0011】とくに入手性等の点から、一般式[2]Particularly, from the viewpoint of availability, etc., the general formula [2]

【化9】 (式中、R1、R2及びR3は、同一又は異なる基であっ
て、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、nは2〜
4の整数を示す、また、R4は、水素原子又はメチル基
を示す。)で示される2−メタクリロイルオキシエチル
−2’−(トリエチルアンモニオ)エチルホスフェート
(以下、MPCと略す)がa1成分として好ましく挙げ
られる。
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 and R 3 are the same or different groups, and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
4 represents an integer, and R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group. 2-)-acryloyloxyethyl-2 ′-(triethylammonio) ethyl phosphate (hereinafter abbreviated as MPC) represented by the following formula (1):

【0012】重合体Aは、前記の一般式[1]で示され
る基を側鎖に有する単量体を100〜1モル%と、その
他の単量体であるa2成分とを0〜99モル%を含む単
量体混合物をラジカル重合して得られる。本発明に用い
られるa2成分の単量体(「他の単量体」とも呼称)と
しては、a1成分と重合可能な単量体が用いられ、好ま
しくは分子構造中に二重結合を有するような単量体が用
いられる。より具体的には、例えば、メチル(メタ)ア
クリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル
(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)ア
クリレート、n−ドデシル(メタ)アクリレート、シク
ロヘキシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)
アクリレート;3−{(メタ)アクリロイルオキシプロ
ピル}トリメトキシシラン、3−{(メタ)アクリロイ
ルオキシプロピル}トリエトキシシラン、3−{(メ
タ)アクリロイルオキシプロピル}トリプロピルオキシ
シラン等のシリル基含有(メタ)アクリレート;2−
(ペルフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレー
ト、2−(ペルフルオロオクチル)エチル(メタ)アク
リレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル
(メタ)アクリレート、1H,1H,7H−ドデカフル
オロヘプチル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリ
フルオロ−1−トリフルオロメチルエチル(メタ)アク
リレート等のフッ素系(メタ)アクリレート;2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール
モノ(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アク
リレート;(メタ)アクリル酸アミド、N,N−ジメチ
ル(メタ)アクリル酸アミド等のアミド系単量体;(メ
タ)アクリル酸を挙げることができる。
The polymer A contains 100 to 1 mol% of a monomer having a group represented by the above general formula [1] in a side chain and 0 to 99 mol of an a2 component as another monomer. % Of the monomer mixture obtained by radical polymerization. As the monomer of the a2 component (also referred to as “other monomer”) used in the present invention, a monomer that can be polymerized with the a1 component is used, and preferably has a double bond in the molecular structure. A suitable monomer is used. More specifically, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-dodecyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and the like Of alkyl (meth)
Acrylates containing silyl groups such as 3-{(meth) acryloyloxypropyl} trimethoxysilane, 3-{(meth) acryloyloxypropyl} triethoxysilane, 3-{(meth) acryloyloxypropyl} tripropyloxysilane ( Meth) acrylate; 2-
(Perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, Fluorine (meth) acrylate such as 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono ( Hydroxyl-containing (meth) acrylates such as (meth) acrylate and polypropylene glycol mono (meth) acrylate; amide monomers such as (meth) acrylamide and N, N-dimethyl (meth) acrylamide; (meth) acryl Raise the acid Rukoto can.

【0013】さらにa2成分の「他の単量体」として、
例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチ
レン等の置換もしくは無置換のスチレン系単量体;エチ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエ
ーテル系単量体;酢酸ビニル等のビニルエステル系単量
体;トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシ
ラン等のビニルシラン系単量体;エチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等の置
換もしくは無置換の炭化水素系単量体;ジエチルフマレ
ート、ジエチルマレエート等の二塩基酸エステル系単量
体;N−ビニルピロリドンを挙げることができる。これ
らの単量体のうち、より好ましくは、水酸基含有(メ
タ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、ス
チレン系単量体、ビニルシラン系単量体が挙げられる。
Further, as the “other monomer” of the component a2,
For example, substituted or unsubstituted styrene monomers such as styrene, methyl styrene, chloromethyl styrene, etc .; vinyl ether monomers such as ethyl vinyl ether and butyl vinyl ether; vinyl ester monomers such as vinyl acetate; trimethoxy vinyl silane Silane-based monomers such as ethylene, triethoxyvinylsilane, etc .; substituted or unsubstituted hydrocarbon-based monomers such as ethylene, propylene, isobutylene, vinyl chloride, and vinylidene chloride; dibasic acid esters such as diethyl fumarate and diethyl maleate N-vinylpyrrolidone; Of these monomers, more preferred are a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, an alkyl (meth) acrylate, a styrene monomer, and a vinylsilane monomer.

【0014】本発明に用いる前記一般式[1]で表わさ
れる基を側鎖に有する重合体Aの重合方法としては、通
常のラジカル重合でよく、特に好ましくは溶液重合法に
より30〜90℃の重合温度で重合を行うことができ
る。この場合、使用される溶媒としては、例えば、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール
や水、あるいはこれらの混合溶媒が挙げられる。ラジカ
ル重合開始剤としては、通常使用されるものでよく、具
体的には、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスバレ
ロニトリル、過酸化ラウロイル、過酸化ベンゾイル、t
−ブチルペルオキシネオデカノエート、t−ブチルペル
オキシピバレートなどの油溶性のもの、コハク酸ジアシ
ルペルオキシド、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウ
ム、過酸化水素などの水溶性のものが挙げられる。ラジ
カル重合開始剤は、全単量体原料の0.01〜10重量
%の割合で使用される。
The method for polymerizing the polymer A having a group represented by the general formula [1] in the side chain used in the present invention may be a conventional radical polymerization, and particularly preferably a solution polymerization method at 30 to 90 ° C. The polymerization can be carried out at the polymerization temperature. In this case, examples of the solvent used include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, water, and a mixed solvent thereof. As the radical polymerization initiator, those usually used may be used. Specifically, azobisisobutylnitrile, azobisvaleronitrile, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, t
Oil-soluble ones such as -butylperoxyneodecanoate and t-butylperoxypivalate; and water-soluble ones such as diacyl peroxide succinate, ammonium persulfate, potassium persulfate and hydrogen peroxide. The radical polymerization initiator is used at a ratio of 0.01 to 10% by weight of the total monomer raw materials.

【0015】本発明に用いる前記一般式[1]で表わさ
れる基を側鎖に有する重合体Aは、一般式[1]で示さ
れる基を有する単量体に基づく構成単位を、100〜1
モル%、好ましくは100〜10モル%、さらに好まし
くは、100〜50モル%含有する。1モル%未満の場
合には帯電防止効果を十分発揮させることができなくな
るので好ましくない。
The polymer A having a group represented by the general formula [1] in the side chain used in the present invention contains 100 to 1 structural units based on a monomer having a group represented by the general formula [1].
Mol%, preferably 100 to 10 mol%, more preferably 100 to 50 mol%. If the amount is less than 1 mol%, it is not preferable because the antistatic effect cannot be sufficiently exhibited.

【0016】本発明に用いる前記一般式[1]で表わさ
れる基を側鎖に有する重合体Aの分子量としては、数平
均分子量として、1,000〜1,000,000が好
ましく挙げられる。分子量が1,000より小さいと、
水に溶解しやすくなり長期の帯電防止効果を発揮するの
が困難になるので好ましくなく、分子量が1,000,
000より大きいものは製造が困難である。
The molecular weight of the polymer A having a group represented by the general formula [1] in the side chain used in the present invention is preferably from 1,000 to 1,000,000 as a number average molecular weight. If the molecular weight is less than 1,000,
It is not preferable because it is easily dissolved in water and it is difficult to exhibit a long-term antistatic effect.
Those larger than 000 are difficult to manufacture.

【0017】また、本発明のA成分の他に、B成分とし
て用いられる重合体Bとしては、たとえば重合性重合体
も用いられ、その場合、重合体Aと共重合可能な二重結
を有するような重合体が好ましく用いられる。また、単
に配合することを目的に、一般的な高分子が用いられる
こともある。より具体的には、例えば、スチレン、α−
メチルスチレン、スチレンスルホン酸ソーダ、(メタ)ア
クリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メ
タ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレー
ト、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキ
シル(メタ)アクリレート、3−{(メタ)アクリロイ
ルオキシプロピル}トリメトキシシラン、3−{(メ
タ)アクリロイルオキシプロピル}トリエトキシシラ
ン、3−{(メタ)アクリロイルオキシプロピル}トリ
プロピルオキシシラン、2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリ
レート、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)ア
クリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ
メチル(メタ)アクリルアミド、ビニルアセテート、ジ
メチルフマレート、ジエチルフマレート、ジ−n−ブチ
ルフマレート、ジ−n−ブチルマレート、ジエチルイタ
コネート、N−ビニルピロリドン、シアノ(メタ)アク
リレート、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビ
ニルシラン、ビニルクロライド、ビニリデンクロライド
等の単官能の重合体、ポリスルホン、セグメント化ポリ
ウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリエチレン、ABS樹脂、ポリメチルペンテ
ン、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、ポリジメ
チルシロキサン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリアリルスルホン、ポリエー
テルイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ナイ
ロン、ナイロン−ABS樹脂、ポリスルホン−熱可塑性
ポリエステル共重合体等の高分子重合体が挙げられる。
これらの重合体Bの分子量は、特に限定されないが、基
材への密着性、水や溶媒への溶解性等の点から1,00
0〜1,000,000が好ましく挙げられる。B成分
としては、これらの他の重合体Bを1種または2種以上
を併用して用いることができる。
In addition to the component A of the present invention, as the polymer B used as the component B, for example, a polymerizable polymer is also used. In this case, the polymer B has a double bond copolymerizable with the polymer A. Such polymers are preferably used. In addition, a general polymer may be used for the purpose of simply blending. More specifically, for example, styrene, α-
Methyl styrene, sodium styrene sulfonate, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 3- {(Meth) acryloyloxypropyl} trimethoxysilane, 3-{(meth) acryloyloxypropyl} triethoxysilane, 3-{(meth) acryloyloxypropyl} tripropyloxysilane, 2-hydroxyethyl (meth)
Acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, vinyl acetate, dimethyl fumarate, diethyl fumarate, di-n- Monofunctional polymers such as butyl fumarate, di-n-butyl malate, diethyl itaconate, N-vinylpyrrolidone, cyano (meth) acrylate, trimethoxyvinylsilane, triethoxyvinylsilane, vinyl chloride, vinylidene chloride, polysulfone, segmentation Polyurethane, polyvinyl chloride, polypropylene, polystyrene, polyethylene, ABS resin, polymethylpentene, styrene-butadiene block copolymer, polydimethylsiloxane, Ethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, poly-allyl sulfones, polyether imide, polycarbonate, polyacetal, nylon, nylon -ABS resins, polysulfone - high molecular weight polymers of the thermoplastic polyester copolymer, and the like.
Although the molecular weight of the polymer B is not particularly limited, it is preferably 1,000 in terms of adhesion to a substrate, solubility in water and a solvent, and the like.
0 to 1,000,000 are preferred. As the B component, these other polymers B can be used alone or in combination of two or more.

【0018】前記の重合体Aと重合体Bを配合する良溶
媒としては、具体的には、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、水、塩化メチレン、クロロ
ホルムおよびこれらの混合溶媒が挙げられる。これらの
溶媒の使用量は、重合体AとBの合計量に対して、2倍
〜1,000,000倍(重量)である。2倍より少な
いと溶媒に溶け難くなるので好ましくなく、1,00
0,000倍より多いと溶媒を除去するのに時間を要す
るので好ましくない。
Examples of the good solvent for blending the polymer A and the polymer B include, for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, water, Examples include methylene chloride, chloroform and a mixed solvent thereof. The use amount of these solvents is 2 to 1,000,000 times (weight) with respect to the total amount of the polymers A and B. If the amount is less than 2 times, it is difficult to dissolve in a solvent, so that it is
If it is more than 000 times, it takes time to remove the solvent, which is not preferable.

【0019】本発明の帯電防止剤中の、重合体Aと重合
体Bは、単に混合して配合されて高分子混合物としてい
るだけでも、また共重合させて単一の高分子を形成させ
高分子組成物としていても、どちらでもよく、それらを
含んでなる帯電防止剤であれば、本発明の帯電防止剤の
範疇に含まれうる。
The polymer A and the polymer B in the antistatic agent of the present invention may be simply mixed and blended to form a polymer mixture, or they may be copolymerized to form a single polymer to form a high polymer. The molecular composition may be either or both, and any antistatic agent containing them may be included in the category of the antistatic agent of the present invention.

【0020】本発明において、帯電防止剤で処理してな
る物品とは、例えば、本発明の帯電防止剤を、高分子素
材に含浸もしくは塗布することによりなる物品である。
In the present invention, the article treated with an antistatic agent is, for example, an article obtained by impregnating or coating a polymer material with the antistatic agent of the present invention.

【0021】本発明の帯電防止剤は、帯電防止効果を発
現させる基材表面に塗布して使用することができる。塗
布の方法としては、はけ塗り法、ロールコート法、バー
コーター法、スプレー法、スピンコート法、ディップコ
ート法などの既存の方法を使用することができる。
The antistatic agent of the present invention can be used by coating it on the surface of a substrate exhibiting an antistatic effect. As a coating method, an existing method such as a brush coating method, a roll coating method, a bar coater method, a spray method, a spin coating method, and a dip coating method can be used.

【0022】前記塗布を行う際、前記の重合体Aを単独
で溶解させるか、あるいは重合体Aと重合体Bを溶媒に
溶解させた後塗布するのが好ましい。この場合の良溶媒
としては、具体的には、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、水、塩化メチレン、クロロ
ホルムおよびこれらの混合溶媒が挙げられる。これらの
溶媒のうち特に好ましくは、アルコール系溶媒である。
これらの溶媒の使用量は、帯電防止剤量に対して、2倍
〜1,000,000倍(重量)である。2倍より少な
いと溶媒に溶け難くなるので好ましくなく、1,00
0,000倍より多いと溶媒を除去するのに時間を要す
るので好ましくない。重合体の溶媒溶液を塗布した後
は、自然乾燥、強制乾燥などの乾燥によって物品の基材
表面に帯電防止性の皮膜を形成することができる。
When performing the coating, it is preferable to dissolve the polymer A alone or to dissolve the polymer A and the polymer B in a solvent before coating. Specific examples of the good solvent in this case include, for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, water, methylene chloride, chloroform and a mixed solvent thereof. . Of these solvents, alcohol solvents are particularly preferred.
The amount of these solvents used is 2 to 1,000,000 times (weight) the amount of the antistatic agent. If the amount is less than 2 times, it is difficult to dissolve in a solvent, so that it is
If it is more than 000 times, it takes time to remove the solvent, which is not preferable. After applying the solvent solution of the polymer, an antistatic film can be formed on the substrate surface of the article by drying such as natural drying or forced drying.

【0023】本発明の帯電防止剤を表面に処理する適用
可能な物品の基材としては、制電障害を生じ易いプラス
チック等を例示することができる。その形状は、レン
ズ、フィルム、シート、繊維等のどんな形状でも可能で
ある。さらに前記基材に塗膜、プラスチックコート膜、
シランカップリング、フッ素コーティング等の特殊な被
膜を施されたものにも適用することができる。本発明に
より、当該帯電防止剤を、種々の高分子素材に含浸もし
くは塗布することにより高分子表面の電気抵抗を減少さ
せ、静電気の蓄積を抑え、帯電防止性能に優れた高分子
フィルムもしくは繊維などの高分子成形体を得ることが
できる。
As a substrate of an article to which the surface of the antistatic agent of the present invention can be applied, a plastic or the like which easily causes an antistatic failure can be exemplified. The shape can be any shape such as a lens, film, sheet, fiber, and the like. Furthermore, a coating film, a plastic coat film,
The present invention can be applied to those provided with a special coating such as silane coupling and fluorine coating. According to the present invention, by impregnating or applying the antistatic agent to various polymer materials, the electric resistance of the polymer surface is reduced, the accumulation of static electricity is suppressed, and a polymer film or fiber excellent in antistatic performance is used. Can be obtained.

【0024】[0024]

【実施例】以下、実施例にもとづいて本発明をさらに詳
細に説明する。 合成例1;<MPC/BMA=50/50重合体> a1として、2−(メタクリロイルオキシ)エチル−
2’−(トリメチルアンモニオ)エチルホスフェート
(以下MPCと略す)14.8g(50ミリモル)とa
2として、ブチルメタクリレート(以下BMAと略す)
7.1g(50ミリモル)をガラス製重合管に秤量し、
重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.82
gを加え、エタノール100mlに溶解した。溶液中に
アルゴンガスを5分間吹き込んだ後、重合管を熔封し6
0℃で6時間重合反応を行った。反応終了後、反応混合
物をエーテル中に滴下し、沈殿した共重合体をろ別し、
未反応の単量体を除去した後減圧乾燥し、MPC−BM
A共重合体を得た。得られた共重合体は、リン定量によ
り、共重合体中のMPCの組成比を求めた。さらにゲル
パーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により
標準ポリスチレンを用いて分子量を求めた。分析結果を
下記に示した。 収率65% モル比率MPC/BMA=49/51 重量平均分子量14.6×104
The present invention will be described below in more detail with reference to examples. Synthesis Example 1; <MPC / BMA = 50/50 polymer> As a1, 2- (methacryloyloxy) ethyl-
14.8 g (50 mmol) of 2 '-(trimethylammonio) ethyl phosphate (hereinafter abbreviated as MPC) and a
As 2, butyl methacrylate (hereinafter abbreviated as BMA)
7.1 g (50 mmol) was weighed into a glass polymerization tube,
Azobisisobutyronitrile 0.82 as a polymerization initiator
g was added and dissolved in 100 ml of ethanol. After bubbling argon gas into the solution for 5 minutes, the polymerization tube was sealed and sealed.
The polymerization reaction was performed at 0 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was dropped into ether, and the precipitated copolymer was filtered off.
After removing unreacted monomers, the residue was dried under reduced pressure.
A copolymer was obtained. For the obtained copolymer, the composition ratio of MPC in the copolymer was determined by phosphorus determination. Further, the molecular weight was determined by gel permeation chromatography (GPC) using standard polystyrene. The analysis results are shown below. Yield 65% Molar ratio MPC / BMA = 49/51 Weight average molecular weight 14.6 × 10 4

【0025】合成例2;<MPC/BMA=70/30
重合体> 合成例1で用いたBMAの量を7.1g(50ミリモ
ル)から3.04g(21ミリモル)に変更し、さらに
反応時間を6時間から2時間へ変更した以外は合成例1
と同様に反応を行い、MPC−BMA共重合体を得た。
分析結果を下記に示した。 収率62% モル比率MPC/BMA=71/29 重量平均分子量13.1×104
Synthesis Example 2 <MPC / BMA = 70/30
Polymer> Synthesis Example 1 except that the amount of BMA used in Synthesis Example 1 was changed from 7.1 g (50 mmol) to 3.04 g (21 mmol), and the reaction time was further changed from 6 hours to 2 hours.
The reaction was carried out in the same manner as described above to obtain an MPC-BMA copolymer.
The analysis results are shown below. Yield 62% Molar ratio MPC / BMA = 71/29 Weight average molecular weight 13.1 × 10 4

【0026】合成例3;<MPC/BMA=80/20
重合体> 合成例1で用いたBMAの量を7.1g(50ミリモ
ル)から1.78g(13ミリモル)に変更し、さらに
反応時間を6時間から1時間へ変更した以外は合成例1
と同様に反応を行い、MPC−BMA共重合体を得た。
分析結果を下記に示した。 収率57% モル比率MPC/BMA=81/19 重量平均分子量16.4×104
Synthesis Example 3; <MPC / BMA = 80/20
Polymer> Synthesis Example 1 except that the amount of BMA used in Synthesis Example 1 was changed from 7.1 g (50 mmol) to 1.78 g (13 mmol), and the reaction time was further changed from 6 hours to 1 hour.
The reaction was carried out in the same manner as described above to obtain an MPC-BMA copolymer.
The analysis results are shown below. Yield 57% Molar ratio MPC / BMA = 81/19 Weight average molecular weight 16.4 × 10 4

【0027】合成例4;<MPC/DMA=50/50
重合体> a2成分として、合成例1の単量体のBMA7.1g
(50ミリモル)の代わりにn−ドデシルメタククリレ
ート(以下DMAと略す)12.7g(50ミリモル)
を用いて、反応時間5時間に代えた以外は、合成例1と
同様に重合反応を行いMPC−DMAの共重合体を得
た。分析結果を下記に示した。 収率50% モル比率MPC/DMA=52/48 重量平均分子量12.5×104
Synthesis Example 4; <MPC / DMA = 50/50
Polymer> 7.1 g of BMA of the monomer of Synthesis Example 1 as a2 component
12.7 g (50 mmol) of n-dodecyl methacrylate (hereinafter abbreviated as DMA) instead of (50 mmol)
The polymerization reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the reaction time was changed to 5 hours to obtain a copolymer of MPC-DMA. The analysis results are shown below. Yield 50% Molar ratio MPC / DMA = 52/48 Weight average molecular weight 12.5 × 10 4

【0028】合成例5;<MPC/St=70/30重
合体> 合成例1のa2の単量体BMA7.1g(50ミリモ
ル)の代わりにスチレン(以下Stと略す)を2.2g
(21ミリモル)用い、反応時間14時間にした以外
は、合成例1と同様に重合反応を行いMPC−Stの共
重合体を得た。分析結果を下記に示した。 収率45% モル比率MPC/St=69/31 重量平均分子量10.3×104 これらの結果を表1に示した。
Synthesis Example 5: <MPC / St = 70/30 Polymer> 2.2 g of styrene (hereinafter abbreviated as St) in place of 7.1 g (50 mmol) of monomer BMA of a2 in Synthesis Example 1
(21 mmol) and a polymerization reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the reaction time was changed to 14 hours, to obtain a copolymer of MPC-St. The analysis results are shown below. Yield 45% Molar ratio MPC / St = 69/31 Weight average molecular weight 10.3 × 10 4 The results are shown in Table 1.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】実施例1 合成例1で合成したMPC−BMA共重合体(50/5
0)をエタノールで希釈し、MPC−BMA共重合体の
濃度を0.1重量%に調整した。ポリメチルメタクリレ
ート板(10cm×10cm×5mm)の片面にMPC−BMA共
重合体溶液を0.1mmのギャップを有するドクターブレ
イドを用い塗工した後、自然乾燥によりエタノールを蒸
発させた。次に試料片を70℃で6時間乾燥させた。 <帯電防止性の評価試験方法>前記の方法で処理された
試料片を25℃、60%RHに3時間放置後、デジタル超絶縁
計DSM-8103(東亜電波工業株式会社製)を用い、印加電
圧100V(JIS K6911に準拠)で、表面抵抗を測定した。
その結果を表2に示した。
Example 1 The MPC-BMA copolymer synthesized in Synthesis Example 1 (50/5
0) was diluted with ethanol to adjust the concentration of the MPC-BMA copolymer to 0.1% by weight. After applying an MPC-BMA copolymer solution to one surface of a polymethyl methacrylate plate (10 cm × 10 cm × 5 mm) using a doctor blade having a gap of 0.1 mm, ethanol was evaporated by natural drying. Next, the sample pieces were dried at 70 ° C. for 6 hours. <Evaluation test method of antistatic property> After the sample piece treated by the above method was left at 25 ° C. and 60% RH for 3 hours, the sample was applied using a digital super insulation meter DSM-8103 (manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.) The surface resistance was measured at a voltage of 100 V (based on JIS K6911).
The results are shown in Table 2.

【0031】実施例2 実施例1で用いたMPC−BMA共重合体(50/5
0)の代わりに合成例2で合成したMPC−BMA共重
合体(70/30)を用いた以外は実施例1と同様に処
理を行った後、処理面の表面抵抗を測定した。その結果
を表2に併せて示した。
Example 2 The MPC-BMA copolymer (50/5) used in Example 1
After the treatment was performed in the same manner as in Example 1 except that the MPC-BMA copolymer (70/30) synthesized in Synthesis Example 2 was used instead of (0), the surface resistance of the treated surface was measured. The results are shown in Table 2.

【0032】実施例3 実施例1で用いたMPC−BMA共重合体(50/5
0)の代わりに合成例3で合成したMPC−BMA共重
合体(80/20)を用いた以外は実施例1と同様に処
理を行った後、処理面の表面抵抗を測定した。その結果
を表2に併せて示した。
Example 3 The MPC-BMA copolymer (50/5) used in Example 1 was used.
After treating in the same manner as in Example 1 except that MPC-BMA copolymer (80/20) synthesized in Synthesis Example 3 was used instead of 0), the surface resistance of the treated surface was measured. The results are shown in Table 2.

【0033】実施例4 実施例1で用いたMPC−BMA共重合体(50/5
0)の代わりに合成例4で合成したMPC−DMA共重
合体(50/50)を用いた以外は実施例1と同様に処
理を行った後、処理面の表面抵抗を測定した。その結果
を表2に併せて示した。
Example 4 The MPC-BMA copolymer (50/5) used in Example 1
After the treatment was performed in the same manner as in Example 1 except that the MPC-DMA copolymer (50/50) synthesized in Synthesis Example 4 was used instead of (0), the surface resistance of the treated surface was measured. The results are shown in Table 2.

【0034】実施例5 実施例1で用いたMPC−BMA共重合体(50/5
0)の代わりに合成例5で合成したMPC−St共重合
体(70/30)を用いた以外は実施例1と同様に処理
を行った後、処理面の表面抵抗を測定した。その結果を
表2に併せて示した。
Example 5 The MPC-BMA copolymer used in Example 1 (50/5
After the treatment was performed in the same manner as in Example 1 except that MPC-St copolymer (70/30) synthesized in Synthesis Example 5 was used instead of (0), the surface resistance of the treated surface was measured. The results are shown in Table 2.

【0035】比較例1 実施例1の処理したポリメチルメタクリレート板の代わ
りに未処理のポリメチルメタクリレート板を用いて同様
に表面抵抗を測定した。その結果を表1に示した。
Comparative Example 1 An untreated polymethyl methacrylate plate was used in place of the treated polymethyl methacrylate plate of Example 1, and the surface resistance was measured in the same manner. The results are shown in Table 1.

【0036】実施例6および比較例2 合成例1で合成したMPC− BMA共重合体(50/
50)をエタノールで希釈しMPC− BMA共重合体
(50/50)の濃度を10重量%に調整し、処理液と
して用いた。ポリエーテルスルホン(10cm×10cm×0.15
mm)フィルムを、上記方法にて調整した処理液中に浸せ
き、引き上げ後、エタノールを自然乾燥により除去した
後70℃で6時間乾燥させた。処理前後の試料片の表面
抵抗を前記の<帯電防止性の評価試験方法1>と同様に
して評価した。その結果を表3に示した。
Example 6 and Comparative Example 2 The MPC-BMA copolymer synthesized in Synthesis Example 1 (50 /
50) was diluted with ethanol to adjust the concentration of the MPC-BMA copolymer (50/50) to 10% by weight, and used as a treatment liquid. Polyether sulfone (10cm × 10cm × 0.15
mm) The film was immersed in the treatment solution prepared by the above method, pulled up, and after removing ethanol by natural drying, the film was dried at 70 ° C. for 6 hours. The surface resistance of the sample before and after the treatment was evaluated in the same manner as in <Evaluation Test Method 1 for Antistatic Property> described above. Table 3 shows the results.

【0037】実施例7および比較例3 合成例2で合成したMPC− BMA共重合体(70/
30)をエタノールで希釈しMPC− BMA共重合体
(70/30)の濃度を5重量%に調整し、処理液とし
て用いた。ポリエチレンテレフタレート(10cm×10cm×
0.1mm)フィルムを、実施例6と同様な処理を施した。
処理前後の試料片の表面抵抗を前記の<帯電防止性の評
価試験方法1>と同様にして評価した。その結果を表3
に示した。
Example 7 and Comparative Example 3 The MPC-BMA copolymer synthesized in Synthesis Example 2 (70 /
30) was diluted with ethanol to adjust the concentration of the MPC-BMA copolymer (70/30) to 5% by weight, and used as a treatment liquid. Polyethylene terephthalate (10cm × 10cm ×
0.1 mm) The film was treated in the same manner as in Example 6.
The surface resistance of the sample before and after the treatment was evaluated in the same manner as in <Evaluation Test Method 1 for Antistatic Property> described above. Table 3 shows the results.
It was shown to.

【0038】実施例8および比較例4 合成例3で合成したMPC− BMA共重合体(80/
20)を水で希釈しMPC− BMA共重合体(80/
20)の濃度を5重量%に調整し、処理液として用い
た。ナイロンメッシュ(10cm×10cm、150メッシュ)
を、実施例6と同様な処理を施した。処理前後の試料片
の表面抵抗を前記の<帯電防止性の評価試験方法1>と
同様にして評価した。その結果を表3に示した。
Example 8 and Comparative Example 4 The MPC-BMA copolymer synthesized in Synthesis Example 3 (80 /
20) was diluted with water, and the MPC-BMA copolymer (80 /
The concentration of 20) was adjusted to 5% by weight and used as a processing solution. Nylon mesh (10cm x 10cm, 150 mesh)
Was subjected to the same treatment as in Example 6. The surface resistance of the sample before and after the treatment was evaluated in the same manner as in <Evaluation Test Method 1 for Antistatic Property> described above. Table 3 shows the results.

【0039】以上の結果から、本発明の実施例1〜5
は、比較例1と比べると、PMMA板上で顕著な帯電防
止効果を示していることが明らかである。また本発明の
実施例6〜8は、比較例2〜4と比べると、種々の基板
上で顕著な帯電防止効果を示していることが明らかであ
る。
From the above results, Examples 1 to 5 of the present invention
Clearly shows a remarkable antistatic effect on the PMMA plate as compared with Comparative Example 1. Further, it is apparent that Examples 6 to 8 of the present invention show a remarkable antistatic effect on various substrates as compared with Comparative Examples 2 to 4.

【0040】[0040]

【表2】 [Table 2]

【0041】[0041]

【表3】 [Table 3]

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明の帯電防止剤は、一般式[1]で
表わされる側鎖を有する単量体に起因する優れた保水性
を有している。また、本発明ではa2成分の他の単量体
の種類および組成割合を選択することにより基材との密
着性を制御することができる。さらに本発明の帯電防止
剤では、B成分の他の重合体Bを選択することにより基
材との密着性を制御することができる。したがって本発
明の帯電防止剤は耐久性に優れ、帯電防止効果を長期間
維持することができる。
The antistatic agent of the present invention has excellent water retention due to the monomer having a side chain represented by the general formula [1]. In the present invention, the adhesion to the substrate can be controlled by selecting the type and composition ratio of the other monomer of the a2 component. Furthermore, in the antistatic agent of the present invention, the adhesion to the substrate can be controlled by selecting another polymer B of the B component. Therefore, the antistatic agent of the present invention has excellent durability and can maintain the antistatic effect for a long time.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 入江 博文 茨城県つくば市春日2−17−14 (72)発明者 中林 宣男 千葉県松戸市小金原5−6−20 (72)発明者 石原 一彦 東京都小平市上水本町3−16−37 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hirofumi Irie 2-17-14 Kasuga, Tsukuba, Ibaraki Prefecture (72) Inventor Nobuo Nakabayashi 5-6-20 Koganehara, Matsudo City, Chiba Prefecture (72) Inventor Kazuhiko Ishihara 3-16-37, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記一般式[1] 【化1】 (式中、R1、R2及びR3は、同一又は異なる基であっ
て、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、nは2〜
4の整数を示す。)で表わされる基を側鎖に有する重合
体Aからなる帯電防止剤。
1. A compound represented by the following general formula [1] (Wherein, R 1 , R 2 and R 3 are the same or different groups, and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
Indicates an integer of 4. An antistatic agent comprising the polymer A having a group represented by the formula (1) in the side chain.
【請求項2】A成分として、下記一般式[1] 【化2】 (式中、R1、R2及びR3は、同一又は異なる基であっ
て、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、nは2〜
4の整数を示す。)で表わされる基を側鎖に有する重合
体Aを1〜99重量%とB成分として、他の重合体B、
99〜1重量%を含んでなる帯電防止剤。
2. A compound represented by the following general formula [1]: (Wherein, R 1 , R 2 and R 3 are the same or different groups, and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
Indicates an integer of 4. 1) to 99% by weight of a polymer A having a group represented by a side chain as a B component, and another polymer B;
An antistatic agent comprising 99 to 1% by weight.
【請求項3】A成分として、下記一般式[2] 【化3】 (式中、R1、R2及びR3は、同一又は異なる基であっ
て、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、nは2〜
4の整数を示し、また、R4は、水素原子又はメチル基
を示す。)で表わされる単量体(a1成分)100〜1
モル%と、他の単量体(a2成分)0〜99モル%とを
重合してなる重合体A1〜99重量%と、B成分として
他の重合体Bを99〜1重量%含んでなる帯電防止剤。
3. A component represented by the following general formula [2]: (Wherein, R 1 , R 2 and R 3 are the same or different groups, and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
4 represents an integer, and R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group. (A1 component) 100-1
Mol%, a polymer A1 to 99% by weight obtained by polymerizing 0 to 99% by mol of another monomer (a2 component), and 99 to 1% by weight of another polymer B as a B component. Antistatic agent.
【請求項4】請求項1に記載の帯電防止剤で処理してな
る物品。
4. An article treated with the antistatic agent according to claim 1.
【請求項5】請求項2に記載の帯電防止剤で処理してな
る物品。
5. An article treated with the antistatic agent according to claim 2.
【請求項6】請求項3に記載の帯電防止剤で処理してな
る物品。
6. An article treated with the antistatic agent according to claim 3.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002348779A (en) * 2001-05-31 2002-12-04 Nof Corp Treating agent for fiber, method for treating, and treated fiber
JP2002348778A (en) * 2001-05-31 2002-12-04 Nof Corp Fiber treating agent, method for treating, and treated fiber

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998004341A1 (en) * 1996-07-31 1998-02-05 Nof Corporation Solubilizers, emulsifiers and dispersants
JPH10109029A (en) * 1996-07-31 1998-04-28 Nof Corp Solubilizer, emulsifier and dispersing agent
JPH10152533A (en) * 1996-11-22 1998-06-09 Nof Corp Hydrophilic resin and medical material
JPH10176021A (en) * 1996-12-17 1998-06-30 Nof Corp Hydrophilic resin and medical material
JPH11217588A (en) * 1998-02-04 1999-08-10 Nof Corp Detergent and detergent composition
JPH11322857A (en) * 1998-05-08 1999-11-26 Nof Corp Electrostatically coupled polymer composite material and its production
WO1999063956A1 (en) * 1998-06-09 1999-12-16 Nof Corporation Cosmetic preparation composition and cosmetic hair preparation composition
JP2000026249A (en) * 1998-07-14 2000-01-25 Nof Corp Detergent composition for hair

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998004341A1 (en) * 1996-07-31 1998-02-05 Nof Corporation Solubilizers, emulsifiers and dispersants
JPH10109029A (en) * 1996-07-31 1998-04-28 Nof Corp Solubilizer, emulsifier and dispersing agent
JPH10152533A (en) * 1996-11-22 1998-06-09 Nof Corp Hydrophilic resin and medical material
JPH10176021A (en) * 1996-12-17 1998-06-30 Nof Corp Hydrophilic resin and medical material
JPH11217588A (en) * 1998-02-04 1999-08-10 Nof Corp Detergent and detergent composition
JPH11322857A (en) * 1998-05-08 1999-11-26 Nof Corp Electrostatically coupled polymer composite material and its production
WO1999063956A1 (en) * 1998-06-09 1999-12-16 Nof Corporation Cosmetic preparation composition and cosmetic hair preparation composition
JP2000026249A (en) * 1998-07-14 2000-01-25 Nof Corp Detergent composition for hair

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002348779A (en) * 2001-05-31 2002-12-04 Nof Corp Treating agent for fiber, method for treating, and treated fiber
JP2002348778A (en) * 2001-05-31 2002-12-04 Nof Corp Fiber treating agent, method for treating, and treated fiber
JP4694719B2 (en) * 2001-05-31 2011-06-08 日油株式会社 Antifouling and washing resistance imparting agents and compositions for fibers
JP4723117B2 (en) * 2001-05-31 2011-07-13 日油株式会社 Antifouling and washing resistance imparting agents and compositions for fibers

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