JP2000025183A - Aluminum oxide deposited film - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化アルミニウム
蒸着フィルムに関し、更に詳しくは、透明性、酸素ガス
あるいは水蒸気等に対するバリア性等に優れ、更に、ラ
ミネ−ト適性を有し、飲食品、医薬品、化粧品、化学
品、電子部品、その他等の種々の物品を充填包装する包
装材料として有用な酸化アルミニウム蒸着フィルムに関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a deposited film of aluminum oxide, and more particularly to a film having excellent transparency, a barrier property against oxygen gas or water vapor, etc. The present invention relates to a vapor-deposited aluminum oxide film useful as a packaging material for filling and packaging various articles such as cosmetics, chemicals, electronic parts, and others.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、飲食品、医薬品、化粧品、その他
等の種々の物品を充填包装するために、種々の包装用素
材が開発され、提案されている。それらの中で、近年、
酸素ガスあるいは水蒸気等に対するバリア性素材とし
て、プラスチック基材の表面に、酸化ケイ素、酸化アル
ミニウム、酸化マグネシウム、その他等の無機酸化物を
使用し、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−
ティング法等の物理気相成長法（ＰＶＤ法）、あるい
は、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化
学気相成長法等の化学気相成長法（ＣＶＤ法）等を利用
して、その無機酸化物の蒸着膜を形成してなる透明ガス
バリア性フィルムが注目されている。而して、上記の透
明ガスバリア性フィルムにおいては、その酸素ガスある
いは水蒸気等に対するバリア性を更に向上させるため
に、例えば、プラスチック基材の表面に、予め、コロナ
放電処理、グロ−放電処理等の前処理を施すことにより
表面を粗面化したり、あるいは、予め、ウレタン系、エ
ステル系等の蒸着用アンカ−コ−ト剤をコ−ティングし
てアンカ−コ−ト剤層を形成して、プラスチック基材と
蒸着膜との密着性を改善することによりバリア性を向上
させる方法、あるいは、酸化ケイ素の蒸着膜面に過酸化
水素をコ−ティングしてバリア性を向上させる方法等が
提案されている（特開平８−１９７６７５号公報参
照）。また、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜
を形成してなる透明ガスバリア性フィルムにおいては、
酸化アルミニウムを蒸着後に、オフラインで水分等を吸
着させ、次いで、水分を吸着させて温度以上で熱処理す
ることによって、透明性、ガスバリア性等を向上させた
透明ガスバリア性フィルムを製造する方法が提案されて
いる（特許第２６３８７９７号公報参照）。2. Description of the Related Art Conventionally, various packing materials have been developed and proposed for filling and packaging various articles such as food and drink, pharmaceuticals, cosmetics, and others. Among them, in recent years,
As a barrier material against oxygen gas or water vapor, an inorganic oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, or the like is used on the surface of a plastic substrate, and is subjected to vacuum deposition, sputtering, or ion plating.
Physical vapor deposition (PVD), such as the plating method, or chemical vapor deposition (CVD), such as plasma chemical vapor deposition, thermal chemical vapor deposition, and photochemical vapor deposition. Accordingly, a transparent gas barrier film formed by forming a vapor-deposited film of the inorganic oxide has attracted attention. Thus, in the above-mentioned transparent gas barrier film, in order to further improve its barrier property against oxygen gas or water vapor, for example, the surface of a plastic substrate is previously subjected to corona discharge treatment, glow discharge treatment, or the like. The surface is roughened by performing a pre-treatment, or an anchor coating agent layer is formed by coating in advance with an anchor coating agent for vapor deposition such as urethane or ester. A method of improving the barrier property by improving the adhesion between the plastic substrate and the vapor-deposited film, or a method of coating the silicon oxide vapor-deposited film with hydrogen peroxide to improve the barrier property have been proposed. (See Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-197675). Further, in a transparent gas barrier film formed by forming a deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide,
After vapor deposition of aluminum oxide, a method of producing a transparent gas barrier film with improved transparency, gas barrier properties, etc. by adsorbing moisture or the like offline, and then adsorbing moisture and heat-treating at a temperature or higher has been proposed. (See Japanese Patent No. 2638797).
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような透明ガスバリア性フィルムにおいて、酸素ガスバ
リア性、水蒸気バリア性を約２ｃｃ／ｍ2 ／ｄａｙ、あ
るいは、２ｇ／ｍ2 ／ｄａｙ以下のハイバリア性に保持
することは、技術的に極めて困難なことである。上記の
透明ガスバリア性フィルムにおいて、そのバリア性を向
上させるために、上記のように、プラスチック基材の表
面に、予め、前処理を行う方法、あるいは、プラスチッ
ク基材の表面に、予め、アンカ−コ−ト剤層を形成する
方法、更に、酸化ケイ素の蒸着膜面に過酸化水素をコ−
ティングしてバリア性を向上させる方法等も提案されて
いるが、それによる効果は、それなりに期待し得るもの
であるが、未だ、十分に満足し得るハイバリア性を有す
る透明ガスバリア性フィルムを製造することは困難であ
るというのが実状であり、更に、付言すれば、そのよう
な操作を行うこと自体、その製造工程が増えることから
その製造コストを高めるという問題点がある。例えば、
ポリウレタン系の有機系アンカ−コ−ト剤を使用し、予
め、これをプラスチック基材の表面にコ−ティングして
アンカ−コ−ト剤層を形成し、次いで、該アンカ−コ−
ト剤層を介して、無機酸化物の蒸着膜を形成すると、ア
−カ−コ−ト剤層中に含まれる残留溶剤等のために、蒸
着中の真空度が低下し、更には、アンカ−コ−ト剤層自
体が柔らかいために、アンカ−コ−ト剤層表面におい
て、蒸着膜がうまく成長せず、所望どおりの蒸着膜を形
成することが極めて困難であり、その結果、酸素ガスあ
るいは水蒸気等に対するバリア性に優れた透明ガスバリ
ア性フィルムを製造し得ないというのが実状である。な
おまた、上記のような透明ガスバリア性フィルムにおい
て、酸化ケイ素の蒸着膜の場合には、フィルムの色が褐
色を帯びており、透明性が不十分であるという問題点も
ある。また、上記の酸化アルミニウム等の無機酸化物の
蒸着膜を形成してなる透明ガスバリア性フィルムにおい
ては、通常、電子ビ−ム（ＥＢ）加熱方式を用いて、金
属アルミニウムを酸素ガスを導入した雰囲気中で加熱蒸
発させて膜形成を行う反応蒸着法により製造するもので
あるが、このような方法を用いた場合には、得られる透
明ガスバリア性フィルムは、その幅方向における透明
性、ガスバリア性等が不均一になりやすいという問題点
がある。また、上記において、その透明性を向上させる
ために、反応させる酸素ガス量を増加させると、蒸着膜
中に未反応の酸素原子が多数取り込まれることになり、
その結果、蒸着膜の緻密性が減少し、ガスバリア性が著
しく低下するという問題点がある。更に、上記のよう
な、蒸着膜形成後に、その表面に、水分等を吸着させ、
次いで、高温加熱処理するような方法は、前述と同様
に、製造工程が増えることから製造コスト面から問題が
あるものである。そこで本発明は、酸素ガスあるいは水
蒸気等に対するハイバリア性を有し、かつ、透明性に優
れ、更に、印刷加工適性、ラミネ−ト加工適性、製袋加
工適性等の後処理加工適性に優れ、例えば、飲食品、医
薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物
品を充填包装するに有用な透明ガスバリア性フィルムを
提供することである。However, in the above-mentioned transparent gas barrier film, the oxygen gas barrier property and the water vapor barrier property are reduced to about 2 cc / m 2 / day or a high barrier property of 2 g / m 2 / day or less. Holding is technically very difficult. In the above-mentioned transparent gas barrier film, in order to improve the barrier property, a method of performing a pre-treatment on the surface of the plastic substrate in advance, or an anchor on the surface of the plastic substrate in advance, as described above. A method for forming a coating agent layer, and further, hydrogen peroxide is coated on the surface of the deposited silicon oxide film.
A method of improving the barrier property by coating is also proposed, but the effect thereof can be expected to some extent, but still, a transparent gas barrier film having a sufficiently satisfactory high barrier property is produced. In practice, it is difficult to carry out such operations, and in addition, there is a problem that performing such an operation itself increases the manufacturing cost because the number of manufacturing steps increases. For example,
A polyurethane-based organic coating agent is used, and is coated on the surface of a plastic substrate in advance to form an anchor coating agent layer.
When an inorganic oxide vapor-deposited film is formed via the coating agent layer, the degree of vacuum during the vapor deposition is reduced due to the residual solvent and the like contained in the arc-coating agent layer. -Since the coating agent layer itself is soft, the deposited film does not grow well on the surface of the anchor coating agent layer, and it is extremely difficult to form a desired deposited film. Or, in reality, it is impossible to produce a transparent gas barrier film having an excellent barrier property against water vapor and the like. In addition, in the above-mentioned transparent gas barrier film, in the case of a vapor-deposited film of silicon oxide, the color of the film is brownish, and there is a problem that the transparency is insufficient. In the case of a transparent gas barrier film formed by forming a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide, usually, an electron beam (EB) heating method is used to convert metallic aluminum into an oxygen gas-introduced atmosphere. It is manufactured by a reactive vapor deposition method in which a film is formed by heating and evaporating in a room. When such a method is used, the obtained transparent gas barrier film has transparency in the width direction, gas barrier properties, and the like. Is likely to be non-uniform. Further, in the above, if the amount of oxygen gas to be reacted is increased in order to improve the transparency, a large number of unreacted oxygen atoms will be taken into the deposited film,
As a result, there is a problem that the denseness of the deposited film is reduced and the gas barrier property is significantly reduced. Further, as described above, after the deposition film is formed, the surface is allowed to adsorb moisture and the like,
Next, the method of performing high-temperature heat treatment has a problem in terms of manufacturing cost because the number of manufacturing steps is increased, as in the case described above. Therefore, the present invention has a high barrier property against oxygen gas or water vapor and the like, and is excellent in transparency, and further excellent in post-processing workability such as printing workability, laminating workability, and bag making workability. Another object of the present invention is to provide a transparent gas barrier film useful for filling and packaging various articles such as foods and drinks, pharmaceuticals, cosmetics, chemicals, electronic components, and others.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な問題点を解決すべく種々研究の結果、プラスチックフ
ィルムの上に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレ−ティング法等の物理気相成長法（ＰＶＤ法）を用
いて、厚さ１００〜２０００Åの酸化アルミニウムの蒸
着膜を設け、更に、その蒸着膜形成直後に、該酸化アル
ミニウムの蒸着膜面に、インラインで酸素ガスを供給
し、該酸素ガスによる処理面を設けて酸化アルミニウム
蒸着フィルムを製造したところ、透明性が向上し、か
つ、酸素ガスあるいは水蒸気等に対するバリア性等に優
れ、更に、ラミネ−ト適性を有し、飲食品、医薬品、化
粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物品を充填
包装する包装材料として有用な酸化アルミニウム蒸着フ
ィルムを製造し得ることを見出して本発明を完成したも
のである。As a result of various studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor has found that a physical vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like is formed on a plastic film. Using a phase growth method (PVD method), a deposited film of aluminum oxide having a thickness of 100 to 2000 mm is provided, and immediately after the deposited film is formed, an oxygen gas is supplied in-line to the deposited film surface of the aluminum oxide. When an aluminum oxide vapor-deposited film was manufactured by providing a surface treated with the oxygen gas, the transparency was improved, the barrier property against oxygen gas or water vapor, etc. was excellent, and the film had laminating aptitude, Aluminum vapor-deposited film useful as a packaging material for filling and packaging various articles such as articles, pharmaceuticals, cosmetics, chemicals, electronic parts, etc. Have found the one in which the present invention has been completed.
【０００５】すなわち、本発明は、プラスチックフィル
ムの上に酸化アルミニウムの蒸着膜を設け、更に、該酸
化アルミニウムの蒸着膜面に、インラインで酸素ガスを
供給し、該酸素ガスによる処理面を設けたことを特徴と
する酸化アルミニウム蒸着フィルムに関するものであ
る。That is, according to the present invention, a deposited film of aluminum oxide is provided on a plastic film, and an oxygen gas is supplied in-line to the surface of the deposited film of aluminum oxide to provide a surface treated with the oxygen gas. The present invention relates to a deposited aluminum oxide film characterized by the above.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に更に
詳しく説明する。まず、本発明にかかる酸化アルミニウ
ム蒸着フィルムの構成について、その一例を例示して図
面を用いて説明すると、図１および図２は、本発明にか
かる酸化アルミニウム蒸着フィルムについてその一二例
の層構成を示す模式的断面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below. First, the structure of the aluminum oxide vapor-deposited film according to the present invention will be described with reference to the drawings by way of an example. FIGS. 1 and 2 show the layer structure of the aluminum oxide vapor-deposited film according to the present invention. FIG.
【０００７】本発明にかかる酸化アルミニウム蒸着フィ
ルム１は、図１に示すように、プラスチックフィルム２
の上に酸化アルミニウムの蒸着膜３を設け、更に、該酸
化アルミニウムの蒸着膜３面に、インラインで酸素ガス
を供給し、該酸素ガスによる処理面４を設けた構成から
なるものである。更に、本発明にかかる酸化アルミニウ
ム蒸着フィルム１ａは、図２に示すように、上記の図１
に示す酸化アルミニウム蒸着フィルム１において、酸化
アルミニウムの蒸着膜３面に、予め、酸素ガスによるプ
ラズマ処理面５、または、酸素ガスとアルゴンガスまた
はヘリウムガスとの混合ガスによるプラズマ処理面５ａ
を設け、更に、上記と同様に、該プラズマ処理面５（５
ａ）を設けた酸化アルミニウムの蒸着膜３面に、インラ
インで酸素ガスを供給し、該酸素ガスによる処理面４を
設けた構成からなるものである。上記の例示は、本発明
にかかる酸化アルミニウム蒸着フィルムについて、その
一二例を例示するものであり、本発明はこれにより限定
されるものでないことは言うまでもないことである。[0007] As shown in FIG. 1, an aluminum oxide deposited film 1 according to the present invention comprises a plastic film 2.
Is provided thereon, and an oxygen gas is supplied in-line to the surface of the aluminum oxide deposited film 3, and a surface 4 treated with the oxygen gas is provided. Further, as shown in FIG. 2, the aluminum oxide vapor-deposited film 1a according to the present invention has
In the aluminum oxide vapor-deposited film 1 shown in FIG. 1, a plasma-treated surface 5 with an oxygen gas or a plasma-treated surface 5a with a mixed gas of an oxygen gas and an argon gas or a helium gas is previously formed on the surface of the aluminum oxide deposited film 3.
And the plasma processing surface 5 (5
An oxygen gas is supplied in-line to the surface of the deposited aluminum oxide film 3 provided with a), and a surface 4 treated with the oxygen gas is provided. The above examples illustrate one or two examples of the aluminum oxide vapor-deposited film according to the present invention, and it is needless to say that the present invention is not limited thereto.
【０００８】次に、上記の本発明において、本発明にか
かる酸化アルミニウム蒸着フィルムを構成するプラスチ
ックフィルムとしては、無色透明な各種の樹脂のフィル
ムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例
えば、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオ
レフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−トあるいは
ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、ポ
リアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢
酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル系
樹脂、アセタ−ル系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィ
ルムないしシ−トを使用することができる。上記の樹脂
のフィルムないしシ−トとしては、単層、あるいは、２
層以上の共押し出し法で製膜したもの、または、一軸方
向あるいは二軸方向に延伸されているもの等を使用する
ことができ、更に、その厚さとしては、酸化アルミニウ
ム蒸着フィルムの製造時の安定性等から、約５〜１００
μｍ位、好ましくは、９〜５０μｍ位が望ましい。な
お、本発明において、用途に応じて、例えば、帯電防止
剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、充填剤、その他等の
所望の添加剤を、その透明性に影響しない範囲内で任意
に添加し、それらを含有する樹脂のフィルムないしシ−
ト等も使用することができる。Next, in the present invention, as the plastic film constituting the aluminum oxide deposited film according to the present invention, various colorless and transparent resin films or sheets can be used. Are, for example, polyolefin resins such as polyethylene or polypropylene, polyester resins such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, polyamide resins, polycarbonate resins, polystyrene resins, and polyvinyl alcohol. Films or sheets of various resins such as a series resin, a saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, a polyacrylonitrile resin, an acetal resin, and others can be used. The above resin film or sheet may be a single layer or 2
One or more layers formed by co-extrusion, or one stretched in a uniaxial or biaxial direction can be used. About 5 to 100 for stability
μm, preferably about 9 to 50 μm. In the present invention, depending on the application, for example, desired additives such as an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a lubricant, a filler, and the like are arbitrarily added within a range not affecting the transparency. And a resin film or sheet containing them.
Can also be used.
【０００９】次に、本発明において、本発明にかかる酸
化アルミニウム蒸着フィルムを構成する酸化アルミニウ
ムの蒸着膜としては、透明性に優れ、非結晶性の酸化ア
ルミニウムの蒸着膜が好ましく、具体的には、式ＡｌＯ
X （ただし、式中、Ｘは、１〜１．５の数を表す。）で
表される酸化アルミニウムの蒸着膜を使用することがで
きる。また、本発明において、上記の酸化アルミニウム
の蒸着膜の膜厚としては、５０〜３０００Å位、より好
ましくは、１００〜２０００Å位が望ましく、而して、
上記において、３０００Å、更には、２０００Åより厚
くなると、その膜の可撓性が低下し、膜にクラック等が
発生し易くなるので好ましくなく、また、５０Å、更に
は、１００Å未満であると、そのバリア性等の効果を奏
することが困難になることから好ましくないものであ
る。而して、本発明において、上記の酸化アルミニウム
の蒸着膜は、具体的には、例えば、アルミニウム等の金
属、あるいは、酸化アルミニウム等の金属酸化物等を使
用し、酸素ガス等を供給しながら、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長
法（物理気相成長法、Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）によって、酸化ア
ルミニウムの蒸着膜を形成し、これを使用することがで
きる。上記において、蒸着原料の加熱方式としては、例
えば、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）方式、高周波誘導加
熱方式、抵抗加熱方式等を用いられる。Next, in the present invention, the deposited aluminum oxide film constituting the deposited aluminum oxide film according to the present invention is preferably an amorphous aluminum oxide deposited film having excellent transparency, and specifically, , The formula AlO
A deposited film of aluminum oxide represented by X (where X represents a number of 1 to 1.5) can be used. In the present invention, the thickness of the aluminum oxide vapor-deposited film is preferably about 50 to 3000 °, more preferably about 100 to 2000 °.
In the above description, if the thickness is more than 3000 ° or even 2000 °, the flexibility of the film is reduced and cracks or the like are easily generated in the film, which is not preferable. This is not preferable because it is difficult to exhibit effects such as barrier properties. Thus, in the present invention, the deposited film of aluminum oxide is, for example, a metal such as aluminum, or a metal oxide such as aluminum oxide, etc., while supplying oxygen gas or the like. , Vacuum vapor deposition, sputtering, ion plating and other physical vapor deposition methods (physical vapor deposition method, physical vapor deposition method)
A deposition film of aluminum oxide is formed by a deposition method (PVD method) and can be used. In the above, for example, an electron beam (EB) method, a high-frequency induction heating method, a resistance heating method, or the like is used as a method for heating the deposition material.
【００１０】次に、本発明において、上記のような酸化
アルミニウムの蒸着膜を形成する方法について具体的に
説明すると、図３は、本発明にかかる酸化アルミニウム
の蒸着膜の製造法についてその一例を例示する巻き取り
式真空蒸着装置の概略的構成図である。本発明におい
て、具体的には、図３に示すように、まず、巻き取り式
真空蒸着装置１１の真空チャンバ−１２の中で、巻き出
しロ−ル１３からプラスチックフィルム２を繰り出し、
更に、該プラスチックフィルム２をガイドロ−ル１４、
１５を介して、冷却したコ−ティングドラム１６に案内
する。而して、本発明においては、上記でプラスチック
フィルム２を冷却したコ−ティングドラム１６の上に案
内した後、該プラスチックフィルム２の面に、蒸着源１
７として、アルミニウム（金属）あるいは酸化アルミニ
ウム等を使用し、これらをるつぼ１８の中に入れ、該る
つぼ１８中で熱せられたアルミニウム（金属）、あるい
は、酸化アルミニウムを蒸発させ、その際に、酸素吹き
出し口１９より酸素ガス等を噴出させながら、マスク２
０、２０を介して酸化アルミニウムの蒸着膜を成膜化
し、次いで、該酸化アルミニウムの蒸着膜を形成したプ
ラスチックフィルム２を、ガイドロ−ル１４´、１５´
を介して、巻き取りロ−ル２１に巻き取って、本発明に
かかる酸化アルミニウムの蒸着膜を製造することができ
るものである。上記の例示は、その製造法の一例であ
り、本発明は、この例示により限定されるものではな
い。Next, in the present invention, a method for forming the above-described aluminum oxide vapor-deposited film will be specifically described. FIG. 3 shows an example of a method for producing an aluminum oxide vapor-deposited film according to the present invention. It is a schematic structure figure of an example winding type vacuum evaporation system. In the present invention, specifically, as shown in FIG. 3, first, the plastic film 2 is unwound from the unwinding roll 13 in the vacuum chamber 12 of the winding type vacuum evaporation apparatus 11,
Further, the plastic film 2 is transferred to a guide roll 14,
It is guided to a cooled coating drum 16 via 15. Thus, in the present invention, after the plastic film 2 is guided on the cooled coating drum 16, the evaporation source 1 is placed on the surface of the plastic film 2.
As 7, aluminum (metal) or aluminum oxide is used, and these are put into a crucible 18, and aluminum (metal) or aluminum oxide heated in the crucible 18 is evaporated. While blowing oxygen gas or the like from the outlet 19, the mask 2
Then, a plastic film 2 having the aluminum oxide vapor-deposited film formed thereon is formed on guide rolls 14 'and 15'.
Then, the film can be wound around a winding roll 21 to produce a deposited film of aluminum oxide according to the present invention. The above example is an example of the manufacturing method, and the present invention is not limited by this example.
【００１１】次に、本発明において、上記のような酸化
アルミニウムの蒸着膜面に、インラインで酸素ガスを供
給し、該酸素ガスによる処理面を形成する方法について
説明すると、かかる酸素ガスによる処理面は、上記の図
３に示すように、ガイドロ−ル１４′と巻き取りロ−ル
２１との間に酸素ガス供給パイプ２２を配置し、ここ
で、酸化アルミニウムの蒸着膜を設けた直後のプラスチ
ックフィルム２の該酸化アルミニウムの蒸着膜表面に、
上記の酸素ガス供給パイプ２２を利用して、該酸素ガス
供給パイプ２２からインラインで酸素ガスを供給して該
酸素ガスによる処理を行って、上記のプラスチックフィ
ルム２の酸化アルミニウムの蒸着膜表面に、酸素ガスに
よる処理面を形成することができるものである。勿論、
本発明においては、酸素ガスを供給して酸素ガスによる
処理を行った後酸化アルミニウムの蒸着膜を有するプラ
スチックフィルムを巻き取りロ−ルで巻き取り、その巻
き取り面内に酸素ガスを内包し、これにより、プラスク
ックフィルム上の酸化アルミニウムの蒸着膜を経時的に
酸素ガスにより処理して、該酸素ガスによる処理面を形
成することもできるものである。本発明において、上記
のように酸素ガスによる処理面を設けることにより、酸
化アルミニウムの蒸着膜を有するプラスチックフィルム
が巻き取られた時に、該プラスチックフィルムとプラス
チックフィルムとの間に、酸素ガスが挿入され、蒸着後
のエ−ジングによって、酸化アルミニウムの蒸着膜と挿
入された酸素ガスとが反応し、透明性が向上する等の作
用効果を奏するものである。上記において、酸素ガスの
供給方式としては、具体的には、例えば、酸化アルミニ
ウムの蒸着膜を有するプラスチックフィルムを巻き取る
直前に、酸化アルミニウムの蒸着膜面側に、ガス供給パ
イプ等から酸素ガスを吹き付ける方式等により行うこと
ができる。また、上記において、酸素ガスの供給量とし
ては、例えば、５００〜３０００ｃｃ／ｍｉｎ位が好ま
しいものである。Next, in the present invention, a method of supplying an oxygen gas in-line to the above-described aluminum oxide vapor-deposited film surface to form a surface treated with the oxygen gas will be described. As shown in FIG. 3, an oxygen gas supply pipe 22 is disposed between a guide roll 14 'and a take-up roll 21. Here, a plastic immediately after an aluminum oxide deposition film is provided. On the surface of the deposited film of the aluminum oxide of the film 2,
Using the oxygen gas supply pipe 22, the oxygen gas is supplied in-line from the oxygen gas supply pipe 22 to perform the treatment with the oxygen gas, and the surface of the plastic film 2 on which the aluminum oxide is deposited, The surface to be treated with oxygen gas can be formed. Of course,
In the present invention, a plastic film having a vapor-deposited film of aluminum oxide is taken up by a take-up roll after oxygen gas is supplied and the treatment with the oxygen gas is carried out, and the oxygen gas is included in the take-up surface. This makes it possible to form an aluminum oxide-deposited film on the plastic film with oxygen gas over time to form a surface treated with the oxygen gas. In the present invention, by providing the surface treated with oxygen gas as described above, when a plastic film having a deposited film of aluminum oxide is wound up, oxygen gas is inserted between the plastic film and the plastic film. By the aging after the vapor deposition, the vapor-deposited film of aluminum oxide reacts with the inserted oxygen gas, and has an effect of improving the transparency. In the above, as a supply method of the oxygen gas, specifically, for example, immediately before winding up a plastic film having a vapor-deposited film of aluminum oxide, on the vapor-deposited film surface side of aluminum oxide, oxygen gas is supplied from a gas supply pipe or the like. It can be performed by a spraying method or the like. In the above description, the supply amount of the oxygen gas is preferably, for example, about 500 to 3000 cc / min.
【００１２】次にまた、本発明において、上記のような
酸化アルミニウムの蒸着膜面に、インラインで予め、酸
素ガスによるプラズマ処理面、または、酸素ガスとアル
ゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスによるプラズ
マ処理面を設ける方法について説明すると、かかるプラ
ズマ処理面は、上記と同様に、上記の図３に示すよう
に、冷却したコ−ティングドラム１６とガイドロ−ル１
５′との間に酸素プラズマ処理ユニット２３を配置し、
ここで、酸化アルミニウムの蒸着膜を設けた直後のプラ
スチックフィルム２の該酸化アルミニウムの蒸着膜表面
に、上記の酸素プラズマ処理ユニット２３を利用して、
該酸素プラズマ処理ユニット２３から酸素ガスプラズ
マ、または、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスプラ
ズマを発生させてプラズマ処理を行って、上記のプラス
クックフィルム２の酸化アルミニウムの蒸着膜の表面
に、プラズマ処理面を形成することができるものであ
る。Further, in the present invention, a plasma-treated surface with an oxygen gas or a plasma with a mixed gas of an oxygen gas and an argon gas or a helium gas is previously formed on the surface of the aluminum oxide vapor-deposited film as described above. The method of providing the processing surface will be described. The plasma processing surface is formed by cooling the coating drum 16 and the guide roll 1 as shown in FIG.
5 ′, an oxygen plasma processing unit 23 is disposed,
Here, the oxygen plasma processing unit 23 is used on the surface of the aluminum oxide deposited film of the plastic film 2 immediately after the aluminum oxide deposited film is provided.
Oxygen gas plasma or a mixed gas plasma of oxygen gas and argon gas is generated from the oxygen plasma processing unit 23 to perform a plasma treatment, and the plasma treatment is performed on the surface of the above-described plastic film 2 on which the aluminum oxide is deposited. The processing surface can be formed.
【００１３】上記のプラズマ処理面の形成法について更
に詳しく述べると、該プラズマ処理面は、気体をア−ク
放電により電離させることにより生じるプラズマガスを
利用して表面改質を行なうプラズマ表面処理法等を利用
してプラズマ処理面を形成することができるものであ
る。すなわは、本発明においては、酸素ガス、窒素ガ
ス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の無機ガスをプラズ
マガスとして使用する方法でプラズマ処理を行って、プ
ラズマ処理面を形成することができる。而して、本発明
において、プラズマ放電処理の際に、酸素ガス、また
は、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスを使用してプ
ラズマ処理を行なうことが好ましく、このようなプラズ
マ処理により、より低い電圧でプラズマ処理を行なうこ
とが可能である。ところで、本発明において、上記のプ
ラズマ処理としては、酸素ガスとアルゴンガスとの混合
ガスを使用してプラズマ処理を行うことが最も望まし
く、また、そのプラズマ処理は、プラスチックフィルム
の表面に酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後にイ
ンラインで行うことが望ましいものである。本発明にお
いて、上記のように、プラスチックフィルムの表面に、
酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、インライ
ンでプラズマ処理を行うことにより、蒸着された直後の
酸化アルミニウムの蒸着膜とプラズマ化した化学的に活
性な酸素とが反応し、より緻密な酸化アルミニウムの蒸
着膜を形成可能とし、優れたガスバリア性を有する酸化
アルミニウムの蒸着膜を有するプラスチックフィルムを
製造することができるものである。更に、上記のように
活性酸素が挿入されることにより、酸化アマミニムウの
蒸着膜を構成するアルミニウムの酸化が促進され、酸化
アルミニウムの蒸着膜の透明性が向上するという作用効
果を奏するものである。The method for forming the plasma-treated surface will be described in more detail. The plasma-treated surface is subjected to surface modification using a plasma gas generated by ionizing a gas by arc discharge. The plasma processing surface can be formed by utilizing the method described above. That is, in the present invention, the plasma processing surface can be formed by performing plasma processing by a method using an inorganic gas such as an oxygen gas, a nitrogen gas, an argon gas, and a helium gas as a plasma gas. Therefore, in the present invention, it is preferable to perform the plasma treatment using an oxygen gas or a mixed gas of an oxygen gas and an argon gas during the plasma discharge treatment. It is possible to perform plasma processing with a voltage. By the way, in the present invention, as the above-mentioned plasma treatment, it is most preferable to perform a plasma treatment using a mixed gas of oxygen gas and argon gas, and the plasma treatment is performed by coating aluminum oxide on the surface of the plastic film. It is desirable to perform the process in-line immediately after forming the deposited film. In the present invention, as described above, on the surface of the plastic film,
Immediately after forming the aluminum oxide vapor deposition film, plasma treatment is performed in-line, so that the aluminum oxide vapor deposition film immediately after vapor deposition reacts with the chemically activated oxygen to form a denser aluminum oxide. It is possible to produce a plastic film having an aluminum oxide deposited film having excellent gas barrier properties. Further, by inserting active oxygen as described above, the oxidation of aluminum constituting the deposited film of oxidized amaminium oxide is promoted, and the effect of improving the transparency of the deposited film of aluminum oxide is exhibited.
【００１４】また、上記のプラズマ処理において、プラ
ズマ処理条件としては、プラズマ出力、ガスの種類、ガ
スの供給量、および、処理時間等を挙げることができ
る。本発明において、プラズマ処理としては、具体的に
は、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混
合ガスを使用することが望ましく、そして、その酸素ガ
スとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスのガ
ス圧としては、１×１０-1〜１×１０-10 Ｔｏｒｒ位、
より好ましくは、１×１０-4〜１×１０-8Ｔｏｒｒ位が
望ましく、また、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウ
ムガスとの比率としては、分圧比で酸素ガス：アルゴン
ガスまたはヘリウムガス＝１００：０〜３０：７０位、
より好ましくは、９０：１０〜７０：３０位が望まし
く、更に、そのプラズマ出力としては、０．５〜３０ｋ
Ｗ位、より好ましくは、１〜１５ｋＷ位が望ましく、更
にまた、その処理速度としては、５０〜８００ｍ／ｍｉ
ｎ位、より好ましくは、２００〜６００ｍ／ｍｉｎ位が
望ましい。上記の酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウ
ムガスとの分圧比において、アルゴンガスまたはヘリウ
ムガス分圧が高くなると、プラズマで活性化される酸素
分子が少なくなり、アルゴンガスまたはヘリウムガスが
還元性ガスとして作用する傾向にあることがら好ましく
ないものである。また、上記のプラズマ出力が、０．５
ｋＷ未満、更には、１ｋＷ未満の場合には、酸素ガスの
活性化が低下し、高活性の酸素原子が生成しにくいこと
から好ましくなく、また、３０ｋＷを越えると、更に
は、１５ｋＷを越えると、プラズマ出力が高すぎるの
で、酸化アルミニウム蒸着フィルムの劣化、物性が低下
等の問題を引き起こすことから好ましくないものであ
る。更に、上記の処理速度が、５０ｍ／ｍｉｎ未満、更
には、２００ｍ／ｍｉｎ未満であると、酸素プラズマ量
が少なく、また、８００ｍ／ｍｉｎを越えると、更に
は、６００ｍ／ｍｉｎを越えると、酸化アルミニウム蒸
着フィルムのバリア性が低下して好ましくないものであ
る。なお、本発明において、プラズマ処理において、プ
ラズマを発生させる方法としては、例えば、直流グロ−
放電、高周波（Ａｕｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ：Ａ
Ｆ、Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ：ＲＦ）放電、マ
イクロ波放電等の３通りの装置を利用して行うことがで
きる。而して、本発明においては、通常は、１３．５６
ＭＨｚの高周波（ＡＦ）放電装置を利用して行うことが
できる。In the above-described plasma processing, the plasma processing conditions include plasma output, gas type, gas supply amount, processing time, and the like. In the present invention, as the plasma treatment, specifically, it is desirable to use a mixed gas of oxygen gas and argon gas or helium gas, and a gas mixture of oxygen gas and argon gas or helium gas. The pressure is about 1 × 10 −1 to 1 × 10 −10 Torr,
More preferably, about 1 × 10 −4 to 1 × 10 −8 Torr is desirable, and the ratio of oxygen gas to argon gas or helium gas is oxygen gas: argon gas or helium gas = 100: 0-30: 70th place,
More preferably, it is about 90:10 to 70:30, and the plasma output is 0.5 to 30 k.
W position, more preferably 1 to 15 kW, and the processing speed is 50 to 800 m / mi.
The n-position, more preferably, the 200-600 m / min position is desirable. In the above partial pressure ratio of oxygen gas and argon gas or helium gas, when the partial pressure of argon gas or helium gas increases, the number of oxygen molecules activated by plasma decreases, and argon gas or helium gas acts as a reducing gas. It is not preferable that the tendency is to occur. Further, when the plasma output is 0.5
If it is less than kW, and further less than 1 kW, the activation of oxygen gas is reduced, and it is not preferable because highly active oxygen atoms are not easily generated. If it exceeds 30 kW, furthermore, if it exceeds 15 kW, Further, since the plasma output is too high, it is not preferable because problems such as deterioration of the aluminum oxide vapor-deposited film and deterioration of physical properties are caused. Further, when the processing speed is less than 50 m / min, and more preferably less than 200 m / min, the amount of oxygen plasma is small. This is undesirable because the barrier properties of the aluminum vapor-deposited film are reduced. In the present invention, in the plasma processing, a method for generating plasma includes, for example, a DC glow.
Discharge, high frequency (Audio Frequency: A
F, Radio Frequency (RF) discharge, microwave discharge, and the like. Therefore, in the present invention, 13.56 is usually used.
It can be performed using a high frequency (AF) discharge device of MHz.
【００１５】上記のようにして製造した本発明にかかる
酸化アルミニウム蒸着フィルムは、例えば、樹脂のフィ
ルム、紙基材、金属素材、合成紙、セロハン、その他等
の包装用容器を構成する包装用素材等と任意に組み合わ
せて、ラミネ−トして種々の積層体を製造し、種々の物
品を充填包装する適した包装材料を製造可能とするもの
である。上記の樹脂のフィルムとしては、具体的には、
例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高
密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アク
リル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメ
タクリル酸共重合体、酸変性ポリオレフィン系樹脂、メ
チルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデ
ン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ
（メタ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン
共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェ
ン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル
系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、
ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリ
アセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ
−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トか
ら任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μｍから３００μｍ位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。ま
た、上記において、紙基材としては、例えば、強サイズ
性の晒または未晒の紙基材、あるいは純白ロ−ル紙、ク
ラフト紙、板紙、加工紙等の紙基材、その他等を使用す
ることができる。上記において、紙層を構成する紙基材
としては、坪量約８０〜６００ｇ／ｍ2位のもの、好ま
しくは、坪量約１００〜４５０ｇ／ｍ2 位のものを使用
することが望ましい。また、上記にといて、金属素材と
しては、例えば、アルミニウム箔、あるいは、アルミニ
ウム蒸着膜を有する樹脂のフィルム等を使用することが
できる。The aluminum oxide vapor-deposited film according to the present invention produced as described above is, for example, a resin material, a paper base material, a metal material, synthetic paper, cellophane, etc. Arbitrarily in combination with the above-described method, and can be laminated to produce various laminates, so that a suitable packaging material for filling and packaging various articles can be produced. As the above resin film, specifically,
For example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, Ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, acid-modified polyolefin resin, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer Polymer, poly (meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin ,polyamide Resin, polycarbonate - Bonnet - Doo-based resin,
Films or sheets of known resins such as polyvinyl alcohol-based resins, saponified ethylene-vinyl acetate copolymers, fluorine-based resins, diene-based resins, polyacetal-based resins, polyurethane-based resins, nitrocellulose, etc. -Can be arbitrarily selected and used. In the present invention, the above-mentioned film or sheet can be used in any of unstretched and uniaxially or biaxially stretched. The thickness is arbitrary,
It can be used by selecting from a range of several μm to about 300 μm. Further, in the present invention, the film or sheet may be any film such as an extruded film, an inflation film, or a coating film. Further, in the above, as the paper substrate, for example, a paper substrate such as a strongly sized bleached or unbleached paper, a paper substrate such as pure white roll paper, kraft paper, paperboard, or processed paper, or the like is used. can do. In the above, as the paper base material constituting the paper layer, it is desirable to use a base material having a basis weight of about 80 to 600 g / m 2 , preferably a base weight of about 100 to 450 g / m 2 . In the above description, as the metal material, for example, an aluminum foil, a resin film having an aluminum vapor-deposited film, or the like can be used.
【００１６】次に、上記の本発明において、上記のよう
な材料を使用して積層体を製造する方法について説明す
ると、かかる方法としては、通常の包装材料をラミネ−
トする方法、例えば、ウエットラミネ−ション法、ドラ
イラミネ−ション法、無溶剤型ドライラミネ−ション
法、押し出しラミネ−ション法、Ｔダイ押し出し成形
法、共押し出しラミネ−ション法、インフレ−ション
法、共押し出しインフレ−ション法、その他等で行うこ
とができる。而して、本発明においては、上記の積層を
行う際に、必要ならば、例えば、コロナ処理、オゾン処
理、フレ−ム処理、その他等の前処理をフィルムに施す
ことができ、また、例えば、ポリエステル系、イソシア
ネ−ト系（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系、ポリ
ブタジェン系、有機チタン系等のアンカ−コ−ティング
剤、あるいはポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエ
ステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロ−ス
系、その他等のラミネ−ト用接着剤等の公知のアンカ−
コ−ト剤、接着剤等を使用することができる。Next, a method of manufacturing a laminate using the above-mentioned materials in the present invention will be described. As the method, a usual packaging material is laminated.
For example, a wet lamination method, a dry lamination method, a solventless dry lamination method, an extrusion lamination method, a T-die extrusion molding method, a co-extrusion lamination method, an inflation method, It can be performed by an extrusion inflation method or the like. Thus, in the present invention, when performing the above-mentioned lamination, if necessary, for example, a pre-treatment such as a corona treatment, an ozone treatment, a framing treatment, or the like can be performed on the film. Anchor coating agents such as polyester, isocyanate (urethane), polyethyleneimine, polybutadiene, and organic titanium, or polyurethane, polyacryl, polyester, epoxy, and polyvinyl acetate And known adhesives such as adhesives for laminates such as cellulose, cellulose, etc.
Coating agents, adhesives and the like can be used.
【００１７】次に、本発明において、上記のような積層
体を使用して製袋ないし製函する方法について説明する
と、例えば、包装用容器がプラスチックフィルム等から
なる軟包装袋の場合、上記のような方法で製造した積層
体を使用し、その内層のヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対
向させて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね
合わせ、更にその周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部
を設けて袋体を構成することができる。而して、その製
袋方法としては、上記の積層体を、その内層の面を対向
させて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、
更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二
方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ
−ル型、合掌貼りシ−ル型（ピロ−シ−ル型）、ひだ付
シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ
−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかか
る種々の形態の包装用容器を製造することができる。そ
の他、例えば、自立性包装袋（スタンディングパウチ）
等も製造することが可能であり、更に、本発明において
は、上記の積層材を使用してチュ−ブ容器等も製造する
ことができる。上記において、ヒ−トシ−ルの方法とし
ては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルト
シ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−
ル等の公知の方法で行うことができる。なお、本発明に
おいては、上記のような包装用容器には、例えば、ワン
ピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等の注出
口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付けること
ができる。Next, in the present invention, a method for producing a bag or a box using the above-mentioned laminate will be described. For example, when the packaging container is a flexible packaging bag made of a plastic film or the like, Using the laminated body manufactured by such a method, the heat-sealing resin layer of the inner layer is opposed to the laminated body, and the heat-sealing resin layer is folded, or the two sheets are overlapped, and the peripheral end portion is further folded. A bag can be formed by providing a seal portion by heat sealing. Thus, as a bag making method, the above-mentioned laminate is folded with its inner layer facing the surface, or two of them are overlapped,
Further, the peripheral edge of the outer periphery is formed, for example, by a side seal type, a two-way seal type, a three-way seal type, a four-side seal type, an envelope-attached seal type, and a gasket-attached seal type ( According to the present invention, a heat seal is formed according to a heat seal form such as a (pyrro-seale type), a pleated seal type, a flat bottom seal type, a square bottom seal type, and the like. Various forms of packaging containers can be manufactured. Others, for example, self-supporting packaging bags (standing pouches)
And the like can be manufactured, and in the present invention, a tube container and the like can be manufactured using the above-mentioned laminated material. In the above, as a method of heat sealing, for example, a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, an ultrasonic seal,
Can be performed by a known method such as In the present invention, a spout such as a one-piece type, a two-piece type, etc., or a zipper for opening and closing can be arbitrarily attached to the packaging container as described above.
【００１８】次にまた、包装用容器として、紙基材を含
む液体充填用紙容器の場合、例えば、積層材として、紙
基材を積層した積層材を製造し、これから所望の紙容器
を製造するブランク板を製造し、しかる後該ブランク板
を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、ブ
リックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトップ
タイプの液体用紙容器等を製造することができる。ま
た、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等の
いずれのものでも製造することができる。Next, in the case of a liquid-filled paper container containing a paper substrate as a packaging container, for example, a laminated material in which a paper substrate is laminated is produced as a laminated material, and a desired paper container is produced therefrom. A blank plate is manufactured, and thereafter, a body, a bottom, a head and the like are manufactured using the blank plate to manufacture, for example, a liquid paper container of a brick type, a flat type or a gable-top type. be able to. Moreover, the shape can be manufactured by any of a rectangular container, a circular or other cylindrical paper can, and the like.
【００１９】本発明において、上記のようにして製造し
た包装用容器は、透明性、酸素ガス、水蒸気等に対する
ガスバリア性、耐衝撃性等に優れ、更に、ラミネ−ト加
工、印刷加工、製袋ないし製函加工等の後加工適性を有
し、また、バリア性膜としての蒸着薄膜の剥離を防止
し、かつ、その熱的クラックの発生を阻止し、その劣化
を防止して、バリア性膜として優れた耐性を発揮し、例
えば、飲食品、医薬品、洗剤、シャンプ−、オイル、歯
磨き、接着剤、粘着剤等の化学品ないし化粧品、その他
等の種々の物品の充填包装適性、保存適性等に優れてい
るものである。In the present invention, the packaging container produced as described above is excellent in transparency, gas barrier properties against oxygen gas, water vapor and the like, impact resistance, and the like, and is further subjected to laminating, printing and bag making. Or having post-processing suitability such as box making, preventing the deposition thin film as a barrier film from peeling off, preventing the occurrence of thermal cracks, preventing its deterioration, Demonstrates excellent resistance, for example, filling and packaging suitability of various articles such as food and drink, pharmaceuticals, detergents, shampoos, oils, toothpastes, adhesives, adhesives, etc. What is excellent.
【００２０】[0020]
【実施例】次に実施例を挙げて更に具体的に本発明を説
明する。 実施例１ 巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、厚さ１２μｍの２
軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを基材と
し、その片面に、アルミニウムを蒸着源に用いてエレク
トロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反応真空蒸着法に
より、膜厚２００Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成
し、次いで、該酸化アルミニウムの蒸着膜形成直後に、
インラインで酸素ガス供給パイプを用いて（図３参
照）、酸化アルミニウムの蒸着膜面に２０００ｃｃ／ｍ
ｉｎの割合で酸素ガスを供給して酸素分子を吸着させ
て、本発明にかかる酸化アルミニウム蒸着フィルムを製
造した。Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. Example 1 A roll-to-roll vacuum evaporation apparatus was used.
An axially stretched polyethylene terephthalate film is used as a base material, and a 200-mm-thick aluminum oxide vapor-deposited film is formed on one surface of the substrate by a reactive vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method using aluminum as a vapor deposition source. Then, immediately after forming the deposited film of the aluminum oxide,
Using an oxygen gas supply pipe in-line (see FIG. 3), 2000 cc / m
An oxygen gas was supplied at a ratio of in to adsorb oxygen molecules to produce an aluminum oxide deposited film according to the present invention.
【００２１】実施例２ 上記の実施例１と同様に、巻き取り式の真空蒸着装置を
使用し、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを基材とし、その片面に、アルミニウム
を蒸着源に用いてエレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式
による反応真空蒸着法により、膜厚２００Åの酸化アル
ミニウムの蒸着膜を形成し、次いで、該酸化アルミニウ
ムの蒸着膜形成直後に、該酸化アルミニウムの蒸着膜表
面に、インラインでグロ−放電プラズマ発生装置を用い
て、プラズマ出力１５００Ｗ、酸素（Ｏ2 ）：アルゴン
（Ａｒ）＝９：１からなる混合ガスを使用し、その混合
ガス圧２×１０-4Ｔｏｒｒ、処理速度６００ｍｍ／ｍｉ
ｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行い（図３
参照）、しかる後、プラズマ処理直後の酸化アルミニウ
ムの蒸着膜面に、インラインで酸素ガス供給パイプを用
いて（図３参照）、酸化アルミニウムの蒸着膜面に２０
００ｃｃ／ｍｉｎの割合で酸素ガスを供給して酸素分子
を吸着させて、本発明にかかる酸化アルミニウム蒸着フ
ィルムを製造した。Example 2 In the same manner as in Example 1 above, using a roll-up type vacuum evaporation apparatus, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as a base material, and aluminum was evaporated on one side thereof. A 200 .mu.m-thick aluminum oxide deposited film is formed by a reactive vacuum deposition method using an electron beam (EB) heating method as a source, and immediately after the aluminum oxide deposited film is formed, the aluminum oxide is deposited. On the film surface, using a glow-discharge plasma generator in-line, a mixed gas consisting of a plasma output of 1500 W, oxygen (O 2 ): argon (Ar) = 9: 1, and a mixed gas pressure of 2 × 10 − 4 Torr, processing speed 600mm / mi
n to perform an oxygen / argon mixed gas plasma treatment (FIG. 3).
After that, the surface of the aluminum oxide vapor deposition film immediately after the plasma treatment was applied inline using an oxygen gas supply pipe (see FIG. 3) to the aluminum oxide vapor deposition film surface.
Oxygen gas was supplied at a rate of 00 cc / min to adsorb oxygen molecules to produce an aluminum oxide deposited film according to the present invention.
【００２２】比較例１ 巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、厚さ１２μｍの２
軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを基材と
し、その片面に、アルミニウムを蒸着源に用いてエレク
トロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反応真空蒸着法に
より、膜厚２００Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成
して、酸化アルミニウム蒸着フィルムを製造した（イン
ラインで酸素ガス処理なし）。COMPARATIVE EXAMPLE 1 A roll-up type vacuum evaporation apparatus was used.
An axially stretched polyethylene terephthalate film is used as a base material, and a 200-mm-thick aluminum oxide vapor-deposited film is formed on one surface of the substrate by a reactive vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method using aluminum as a vapor deposition source. Then, an aluminum oxide vapor-deposited film was produced (without oxygen gas treatment in-line).
【００２３】比較例２ 巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、厚さ１２μｍの２
軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを基材と
し、その片面に、アルミニウムを蒸着源に用いてエレク
トロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反応真空蒸着法に
より、膜厚２００Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成
して、酸化アルミニウム蒸着フィルムを製造した。な
お、上記の酸化アルミニウムの蒸着膜を形成する際に、
透明性を高めるために、酸素吹き出し口（図３参照）よ
り酸素ガス量を上記の実施例１と比べて１．５倍量の酸
素カズを噴出させながら、マスクを介して酸化アルミニ
ウムの蒸着膜を成膜化した（蒸着時の酸素ガス導入量を
多くして透明性を向上させた）。COMPARATIVE EXAMPLE 2 A roll-up type vacuum evaporation apparatus was used,
An axially stretched polyethylene terephthalate film is used as a base material, and a 200-mm-thick aluminum oxide vapor-deposited film is formed on one surface of the substrate by a reactive vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method using aluminum as a vapor deposition source. Thus, an aluminum oxide vapor-deposited film was manufactured. In forming the above aluminum oxide deposited film,
In order to enhance the transparency, a vapor deposition film of aluminum oxide is passed through a mask while the amount of oxygen gas is ejected from the oxygen outlet (see FIG. 3) by 1.5 times the amount of oxygen gas as compared with the first embodiment. Was formed into a film (transparency was improved by increasing the amount of oxygen gas introduced during vapor deposition).
【００２４】実験例 上記の実施例１〜２、および、比較例１〜２で製造した
各酸化アルミニウム蒸着フィルムを使用し、下記に示す
評価項目について試験を行い、そのデ−タを測定した。 （１）．酸素透過度の測定 上記で製造した各酸化アルミニウム蒸着フィルムを使用
し、温度２５℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコ
ン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、オクストラン
（ＯＸＴＲＡＮ ２／２０）〕を使用して測定した。 （２）．水蒸気透過度の測定 上記で製造した各酸化アルミニウム蒸着フィルムを使用
し、温度３７．８℃、湿度１００％ＲＨの条件で、米
国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パ−
マトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ ３／３１）〕を使用し
て測定した。 （３）．透明性の測定 上記で製造した各酸化アルミニウム蒸着フィルムを使用
し、全光線透過率をＪＩＳ Ｋ−７６１３の方法を用い
て測定した。なお、上記の試験は、酸化アルミニウム蒸
着フィルムについて、その幅方向の均一性を調べるため
に、幅方向に対し、計６点からサンプリングし、その全
てのサンプルニツイテ上記の評価項目を測定した。上記
の測定結果について、下記の表１、および、表２に示
す。Experimental Examples Using the aluminum oxide vapor-deposited films produced in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, tests were performed for the following evaluation items, and the data was measured. (1). Measurement of Oxygen Permeability Using each of the aluminum oxide vapor-deposited films produced above, at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 90% RH, a measuring device manufactured by MOCON, USA, [model name, OXTRAN 2 / 20)]. (2). Measurement of Water Vapor Permeability Using each of the aluminum oxide vapor-deposited films produced above, at a temperature of 37.8 ° C. and a humidity of 100% RH, a measuring machine manufactured by MOCON, USA [model name, part
Metran (PERMATRAN 3/31)]. (3). Measurement of Transparency Using each of the aluminum oxide vapor-deposited films produced above, the total light transmittance was measured by the method of JIS K-7613. In the above test, in order to examine the uniformity in the width direction of the aluminum oxide vapor-deposited film, sampling was performed from a total of six points in the width direction, and all the above-mentioned evaluation items were measured. The above measurement results are shown in Tables 1 and 2 below.
【００２５】[0025]
【表１】 酸素透過度、および、水蒸気透過度の測定結
果 [Table 1] Measurement results of oxygen permeability and water vapor permeability
【００２６】[0026]
【表２】 透明性の測定結果 [Table 2] Measurement results of transparency
【００２７】上記の結果より明らかなように、実施例１
〜２のものは、比較例１〜２のものに比べて、酸素透過
度、水蒸気透過度、および、透明性のいずれにおいても
優れており、更に、その幅方向において、不均一性は、
認められなかった。As is clear from the above results, Example 1
-2 are superior in both oxygen permeability, water vapor permeability, and transparency as compared with those of Comparative Examples 1 and 2, and further, in the width direction, non-uniformity is
I was not able to admit.
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明
は、プラスチックフィルムの上に、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長
法（ＰＶＤ法）を用いて、厚さ１００〜２０００Åの酸
化アルミニウムの蒸着膜を設け、更に、その蒸着膜形成
直後に、該酸化アルミニウムの蒸着膜面に、インライン
で酸素ガスを供給し、該酸素ガスによる処理面を設けて
酸化アルミニウム蒸着フィルムを製造して、透明性が向
上し、かつ、酸素ガスあるいは水蒸気等に対するバリア
性等に優れ、更に、ラミネ−ト適性を有し、飲食品、医
薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物
品を充填包装する包装材料として有用な酸化アルミニウ
ム蒸着フィルムを製造し得ることができるというもので
ある。As is apparent from the above description, the present invention uses a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, or an ion plating method on a plastic film. An aluminum oxide vapor-deposited film having a thickness of 100 to 2,000 mm is provided, and immediately after the vapor-deposited film is formed, an oxygen gas is supplied in-line to the aluminum oxide vapor-deposited film surface, and a surface treated with the oxygen gas is provided. Manufacture aluminum vapor-deposited films, improve transparency, and have excellent barrier properties against oxygen gas or water vapor, etc., and have laminating suitability, food and drink, pharmaceuticals, cosmetics, chemicals, electronic parts In addition, it is possible to produce an aluminum oxide vapor-deposited film useful as a packaging material for filling and packaging various other articles.
【図１】本発明にかかる酸化アルミニウム蒸着フィルム
についてその一例の層構成を示す模式的断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a layer configuration of an example of an aluminum oxide vapor-deposited film according to the present invention.
【図２】本発明にかかる酸化アルミニウム蒸着フィルム
についてその一例の層構成を示す模式的断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing a layer configuration of an example of an aluminum oxide vapor-deposited film according to the present invention.
【図３】本発明にかかる酸化アルミニウムの蒸着膜の形
成法についてその一例を例示する巻き取り式真空蒸着装
置の概略的構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a take-up type vacuum deposition apparatus illustrating an example of a method of forming a deposited film of aluminum oxide according to the present invention.
１ 酸化アルミニウム蒸着フィルム １ａ 酸化アルミニウム蒸着フィルム ２ プラスチックフィルム ３ 酸化アルミニウムの蒸着膜 ４ 酸素ガスによる処理面 ５ プラズマ処理面 ５ａ プラズマ処理面 １１ 巻き取り式真空蒸着装置 １２ 真空チャンバ− １３ 巻き出しロ−ル １４、１５ ガイドロ−ル １４´、１５´ ガイドロ−ル １６ 冷却したコ−ティングドラム １７ 蒸着源 １８ るつぼ １９ 酸素吹き出し口 ２０ マスク ２１ 巻き取りロ−ル ２２ 酸素ガス供給パイプ ２３ 酸素プラズマ処理用ユニット REFERENCE SIGNS LIST 1 Aluminum oxide deposited film 1a Aluminum oxide deposited film 2 Plastic film 3 Aluminum oxide deposited film 4 Surface treated with oxygen gas 5 Plasma treated surface 5a Plasma treated surface 11 Rewind vacuum deposition device 12 Vacuum chamber 13 Unwinding roll 14, 15 Guide roll 14 ', 15' Guide roll 16 Cooled coating drum 17 Evaporation source 18 Crucible 19 Oxygen outlet 20 Mask 21 Take-up roll 22 Oxygen gas supply pipe 23 Oxygen plasma processing unit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3E086 AA23 AD01 BA04 BA13 BA14 BA15 BA33 BA40 BB01 BB22 BB51 BB62 CA01 CA11 CA28 CA29 CA31 4F073 AA17 BA24 BB01 CA01 CA62 CA65 DA01 4F100 AA19B AK01A AK42 BA02 EH66B EJ01B EJ38 EJ60B EJ61B GB15 JD03 JD04 JL01 JN01 4K029 AA11 BA44 CA01 CA02 DB03 DB05 EA05 GA02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3E086 AA23 AD01 BA04 BA13 BA14 BA15 BA33 BA40 BB01 BB22 BB51 BB62 CA01 CA11 CA28 CA29 CA31 4F073 AA17 BA24 BB01 CA01 CA62 CA65 DA01 4F100 AA19B AK01A AK42 BA02 EHBEJB EJB EJ JD04 JL01 JN01 4K029 AA11 BA44 CA01 CA02 DB03 DB05 EA05 GA02
Claims (2)
ニウムの蒸着膜を設け、更に、該酸化アルミニウムの蒸
着膜面に、インラインで酸素ガスを供給し、該酸素ガス
による処理面を設けたことを特徴とする酸化アルミニウ
ム蒸着フィルム。An aluminum oxide vapor deposition film is provided on a plastic film, and an oxygen gas is supplied in-line to the aluminum oxide vapor deposition film surface, and a surface treated with the oxygen gas is provided. Aluminum oxide deposited film.
酸素ガスによるプラズマ処理面、または、酸素ガスとア
ルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスによるプラ
ズマ処理面を設けたことを特徴とする上記の請求項１に
記載する酸化アルミニウム蒸着フィルム。2. A method according to claim 1, further comprising the step of:
The aluminum oxide vapor-deposited film according to claim 1, wherein a plasma-treated surface with an oxygen gas or a plasma-treated surface with a mixed gas of an oxygen gas and an argon gas or a helium gas is provided.
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