JP2000022155A - Thin film transistor circuit - Google Patents

Thin film transistor circuit

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JP2000022155A JP10182236A JP18223698A JP2000022155A JP 2000022155 A JP2000022155 A JP 2000022155A JP 10182236 A JP10182236 A JP 10182236A JP 18223698 A JP18223698 A JP 18223698A JP 2000022155 A JP2000022155 A JP 2000022155A
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thin film
film transistor
circuit
inverter circuit
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Yuji Hayashi
祐司 林
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress generation of hot carriers by connecting a plurality of sets of inverter circuit comprising a load MOS transistor and a drive MOS transistor in parallel thereby reducing the capacity of both MOS transistors. SOLUTION: The drain D of one thin film load MOS transistor Tr1 is connected with the source S of a thin film drive MOS transistor Tr2 to constitute a set of inverter circuit I. A plurality of sets of inverter circuit I are connected in parallel. An input signal is fed to each gate of the inverter circuits I and the connecting lines of the drain D of load MOS transistor Tr1 and the source S of drive MOS transistor Tr2 in each inverter circuit I are connected as the output lines of the entire circuit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜トランジスタ
によってインバータ回路を構成する薄膜トランジスタ回
路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film transistor circuit comprising a thin film transistor to form an inverter circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄膜トランジスタは、ガラス基板上に形
成されたアモルファスシリコンやポリシリコンにMOS
トランジスタを構成したものであり、近年、液晶表示装
置の駆動用などに多く用いられている。
2. Description of the Related Art Thin-film transistors are manufactured by using MOS on amorphous silicon or polysilicon formed on a glass substrate.
A transistor is a transistor that has been widely used in recent years for driving a liquid crystal display device.

【0003】薄膜トランジスタは、通常のMOSトラン
ジスタ(シリコン基板上に形成したもの)と異なり、基
板電位に接地する端子がない構造となっている。図5は
通常のMOSトランジスタの構造を示す模式図である。
このMOSトランジスタでは、P型シリコン基板Sb上
にN+ から成るドレインD、ソースSが形成され、ゲー
ト酸化膜GOXを介してゲートGが形成された構造にな
っている。
[0003] Unlike a normal MOS transistor (formed on a silicon substrate), a thin film transistor has a structure without a terminal grounded to the substrate potential. FIG. 5 is a schematic diagram showing the structure of a normal MOS transistor.
This MOS transistor has a structure in which a drain D and a source S made of N + are formed on a P-type silicon substrate Sb, and a gate G is formed via a gate oxide film GOX.

【0004】また、図6は、通常のMOSトランジスタ
を用いたインバータ回路を示す図である。インバータ回
路では、負荷MOSトランジスタTr1と駆動MOSト
ランジスタTr2とが並列に接続され、両ゲートへ共通
して入力される信号に基づき、電源電圧が反転した状態
で出力される。
FIG. 6 is a diagram showing an inverter circuit using a normal MOS transistor. In the inverter circuit, the load MOS transistor Tr1 and the drive MOS transistor Tr2 are connected in parallel, and output in a state where the power supply voltage is inverted based on a signal commonly input to both gates.

【0005】また、図7は薄膜トランジスタの構造を示
す模式図である。この薄膜トランジスタでは、石英ガラ
ス等のガラス基板GSb上に形成されたポリシリコン膜
TにドレインD、ソースSが形成され、そのドレインD
−ソースS間の領域上にゲート酸化膜GOXを介してゲ
ートGが形成された構造になっている。
FIG. 7 is a schematic diagram showing the structure of a thin film transistor. In this thin film transistor, a drain D and a source S are formed in a polysilicon film T formed on a glass substrate GSb of quartz glass or the like.
In this structure, a gate G is formed on a region between the source S and the gate oxide film GOX via a gate oxide film GOX.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、液晶表
示装置の駆動回路のような高電流を流すインバータ回路
等を上記のような薄膜トランジスタで構成すると、駆動
電流によって発生するホットキャリアを逃がすための基
板電位がないことから、発生したホットキャリアがゲー
ト酸化膜中に注入されてしまう。
However, when an inverter circuit or the like for flowing a high current, such as a drive circuit of a liquid crystal display device, is constituted by the above-mentioned thin film transistor, the substrate potential for releasing hot carriers generated by the drive current is reduced. Due to the lack of the hot carriers, the generated hot carriers are injected into the gate oxide film.

【0007】このため、高電流駆動を続けることでゲー
ト酸化膜中に注入されたキャリアによって薄膜トランジ
スタの閾値電圧を変動させてしまうという問題が生じ
る。この閾値電圧の変動は回路マージンを減少させるこ
とになり、動作安定性の低下を招くことになる。
For this reason, there arises a problem that the threshold voltage of the thin film transistor is changed by the carriers injected into the gate oxide film by continuing the high current driving. This change in the threshold voltage reduces the circuit margin, and causes a decrease in operation stability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解決するために成された薄膜トランジスタ回路であ
る。すなわち、本発明は、薄膜トランジスタから成る1
つの負荷MOSトランジスタと、薄膜トランジスタから
成る1つの駆動MOSトランジスタとが隣接して構成さ
れる1組のインバータ回路が、複数組並列接続されてい
る薄膜トランジスタ回路である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a thin film transistor circuit for solving such a problem. That is, the present invention relates to a 1
A plurality of sets of inverter circuits, each of which includes one load MOS transistor and one driving MOS transistor including a thin film transistor, are adjacently connected to each other.

【0009】このような本発明では、1組のインバータ
回路を複数組並列接続させて薄膜トランジスタ回路を構
成していることから、そのうちの1組のインバータ回路
を構成する1つの負荷MOSトランジスタおよび1つの
駆動MOSトランジスタの容量を小さくすることがで
き、ホットキャリアの発生を抑制できるようになる。
In the present invention, since a plurality of sets of inverter circuits are connected in parallel to form a thin film transistor circuit, one load MOS transistor and one load transistor constituting one set of the inverter circuits are formed. The capacity of the driving MOS transistor can be reduced, and the generation of hot carriers can be suppressed.

【0010】また、本発明の薄膜トランジスタ回路は、
第1のチャネル幅を有する薄膜トランジスタから成る1
つの負荷MOSトランジスタと、この第1のチャネル幅
を有する薄膜トランジスタから成る1つの駆動MOSト
ランジスタとが隣接して構成される第1のインバータ回
路と、第1のチャネル幅よりも短い第2のチャネル幅を
有する薄膜トランジスタから成る1つの負荷MOSトラ
ンジスタと、この第2のチャネル幅を有する薄膜トラン
ジスタから成る1つの駆動MOSトランジスタとが隣接
して構成される第2のインバータ回路とを備えており、
この第1のインバータ回路と第2のインバータ回路とを
並列接続して構成したものである。
Further, the thin film transistor circuit of the present invention comprises:
1 comprising a thin film transistor having a first channel width
A first inverter circuit in which one load MOS transistor and one driving MOS transistor formed of a thin film transistor having the first channel width are adjacent to each other, and a second channel width shorter than the first channel width A load MOS transistor formed of a thin film transistor having the following structure, and a second inverter circuit formed adjacent to one drive MOS transistor formed of the thin film transistor having the second channel width,
The first inverter circuit and the second inverter circuit are connected in parallel.

【0011】このような本発明では、第1のチャネル幅
よりも短い第2のチャネル幅を有する負荷MOSトラン
ジスタおよび駆動MOSトランジスタから成る第2のイ
ンバータ回路が先に駆動し、次段に接続される回路のト
リガーとなる信号を転送し、その後に第1のチャネル幅
を有する負荷MOSトランジスタおよび駆動MOSトラ
ンジスタから成る第1のインバータ回路が駆動するよう
になる。これにより、第1のインバータ回路を構成する
負荷MOSトランジスタおよび駆動MOSトランジスタ
の閾値電圧に変動があり動作遅延が生じても、その動作
前に第2のインバータ回路が動作することから、第1の
インバータ回路における閾値電圧変動を第2のインバー
タ回路で吸収できるようになる。
According to the present invention, the second inverter circuit including the load MOS transistor and the drive MOS transistor having the second channel width shorter than the first channel width is driven first, and is connected to the next stage. After that, a signal serving as a trigger of a circuit is transferred, and then a first inverter circuit including a load MOS transistor having a first channel width and a driving MOS transistor is driven. Thus, even if the threshold voltage of the load MOS transistor and the drive MOS transistor constituting the first inverter circuit fluctuates and an operation delay occurs, the second inverter circuit operates before the operation is delayed. Threshold voltage fluctuations in the inverter circuit can be absorbed by the second inverter circuit.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の薄膜トランジスタ
回路における実施の形態を図に基づいて説明する。図1
は本発明の薄膜トランジスタ回路における第1実施形態
を説明する回路図である。この薄膜トランジスタ回路
は、全体として、入力に対して出力が反転するインバー
タ回路であり、主として液晶表示装置の駆動回路で高電
流を必要とするものに適用される。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a thin film transistor circuit according to the present invention. FIG.
FIG. 1 is a circuit diagram illustrating a first embodiment of a thin film transistor circuit of the present invention. This thin film transistor circuit is an inverter circuit whose output is inverted with respect to the input as a whole, and is mainly applied to a drive circuit of a liquid crystal display device which requires a high current.

【0013】すなわち、第1実施形態における薄膜トラ
ンジスタ回路は、薄膜トランジスタ(TFT)から成る
1つの負荷MOSトランジスタTr1と、同じく薄膜ト
ランジスタから成る駆動MOSトランジスタTr2とが
隣接して1組のインバータ回路Iを構成しているととも
に、このインバータ回路Iを複数組並列接続した構成と
なっている。
That is, in the thin film transistor circuit according to the first embodiment, one load MOS transistor Tr1 composed of a thin film transistor (TFT) and a driving MOS transistor Tr2 also composed of a thin film transistor are adjacent to each other to form a set of inverter circuits I. In addition, a plurality of inverter circuits I are connected in parallel.

【0014】このような第1実施形態では、1組のイン
バータ回路Iを構成するにあたり、負荷MOSトランジ
スタTr1のドレインDと駆動MOSトランジスタTr
2のソースSとが接続され、各インバータ回路Iの各々
のゲートGに入力信号が与えられる。また、各インバー
タ回路Iにおける負荷MOSトランジスタTr1のドレ
インDと駆動MOSトランジスタTr2のソースSとの
接続ラインはつながっており、回路全体の出力ラインと
なっている。
In the first embodiment, the drain D of the load MOS transistor Tr1 and the drive MOS transistor Tr
2 are connected to the source S, and an input signal is supplied to each gate G of each inverter circuit I. The connection line between the drain D of the load MOS transistor Tr1 and the source S of the drive MOS transistor Tr2 in each inverter circuit I is connected, and serves as an output line of the entire circuit.

【0015】つまり、入力信号は各インバータ回路Iの
各々のゲートGに印加され、この入力に基づく出力が負
荷MOSトランジスタTr1と駆動MOSトランジスタ
Tr2との接続ラインから次段の回路(例えば、コンデ
ンサ)へ送られる。このため、薄膜トランジスタ回路全
体としての容量は、各インバータ回路Iの容量を加算し
たものとなる。
That is, an input signal is applied to each gate G of each inverter circuit I, and an output based on this input is output from a connection line between the load MOS transistor Tr1 and the drive MOS transistor Tr2 to a next stage circuit (for example, a capacitor). Sent to Therefore, the capacity of the entire thin film transistor circuit is the sum of the capacity of each inverter circuit I.

【0016】このような構成から成る第1実施形態の薄
膜トランジスタ回路では、例えば大容量のインバータ回
路を構成するにあたり、複数のインバータ回路Iを並列
接続して構成することから、1組のインバータ回路Iす
なわち1つの負荷MOSトランジスタTr1や1つの駆
動MOSトランジスタTr2の容量を小さくすることが
でき、流れる電流の分散化によってホットキャリアの発
生を抑制できるようになる。
In the thin-film transistor circuit of the first embodiment having such a configuration, for example, when a large-capacity inverter circuit is formed, a plurality of inverter circuits I are connected in parallel. That is, the capacity of one load MOS transistor Tr1 and one drive MOS transistor Tr2 can be reduced, and the generation of hot carriers can be suppressed by dispersing the flowing current.

【0017】図2は第1実施形態における薄膜トランジ
スタ回路の配線レイアウトを説明する概略平面図であ
る。このように、1組のインバータ回路を構成する1つ
の負荷MOSトランジスタTr1と1つの駆動MOSト
ランジスタTr2とは、各々のソースS、ゲート、ドレ
インDの並びが一列となるよう配置され、複数組のイン
バータ回路は、このソースS、ゲート、ドレインDの並
びに対して直交する方向に並べられている。
FIG. 2 is a schematic plan view illustrating the wiring layout of the thin film transistor circuit according to the first embodiment. As described above, one load MOS transistor Tr1 and one drive MOS transistor Tr2 forming one set of inverter circuits are arranged so that the source S, the gate, and the drain D are arranged in a line. The inverter circuits are arranged in a direction orthogonal to the arrangement of the source S, the gate, and the drain D.

【0018】特に、第1実施形態では負荷MOSトラン
ジスタTr1および駆動MOSトランジスタTr2とし
てチャネル幅Wの短いものが用いられている。
In particular, in the first embodiment, the load MOS transistor Tr1 and the drive MOS transistor Tr2 having a short channel width W are used.

【0019】また、各負荷MOSトランジスタTr1の
ソースSにはソース電極SPが接続され、電源電圧VDD
が与えられる。さらに、各負荷MOSトランジスタTr
1および各駆動MOSトランジスタTr2には共通のゲ
ート電極GPが配線され、入力ラインとして用いられ
る。また、各負荷MOSトランジスタTr1のドレイン
Dと各駆動MOSトランジスタTr2のソースSとは出
力用電極OPによってつなげられ、出力ラインとして用
いられている。
A source electrode SP is connected to the source S of each load MOS transistor Tr1 so that the power supply voltage VDD
Is given. Further, each load MOS transistor Tr
1 and each drive MOS transistor Tr2, a common gate electrode GP is wired and used as an input line. The drain D of each load MOS transistor Tr1 and the source S of each drive MOS transistor Tr2 are connected by an output electrode OP and used as an output line.

【0020】このようなレイアウトにより、各負荷MO
SトランジスタTr1のソースSは一列に並び、同様に
ゲート、ドレインDも各々一列に並ぶことになる。ま
た、各駆動MOSトランジスタTr2のソースSも一列
に並び、同様にゲート、ドレインDも各々一列に並ぶこ
とになる。
With such a layout, each load MO
The sources S of the S transistor Tr1 are arranged in a line, and similarly, the gate and the drain D are also arranged in a line. Further, the sources S of the respective drive MOS transistors Tr2 are also arranged in a line, and similarly, the gates and the drains D are also arranged in a line.

【0021】つまり、本実施形態では、同じ容量のイン
バータ回路を、チャネル幅の大きな1つの負荷MOSト
ランジスタおよび駆動MOSトランジスタで構成する場
合に比べ、負荷MOSトランジスタおよび駆動MOSト
ランジスタの個数は増加するものの、全体のレイアウト
は変わらない。
That is, in the present embodiment, although the number of load MOS transistors and drive MOS transistors is increased as compared with the case where an inverter circuit having the same capacity is constituted by one load MOS transistor and drive MOS transistor having a large channel width. , The overall layout does not change.

【0022】すなわち、大きなチャネル幅に対応した長
いソースS、ゲート、ドレインDを分割するだけで構成
でき、プロセスを大きく変更することなくマスクを変更
するだけで製造することが可能となる。
In other words, the structure can be realized only by dividing the long source S, gate and drain D corresponding to a large channel width, and it is possible to manufacture the semiconductor device only by changing the mask without greatly changing the process.

【0023】次に、本発明の薄膜トランジスタ回路にお
ける第2実施形態を説明する。図3は第2実施形態にお
ける薄膜トランジスタ回路を説明する回路図である。す
なわち、この薄膜トランジスタ回路は、高電流に対応で
きる薄膜トランジスタから成る負荷MOSトランジスタ
Tr1−1と薄膜トランジスタから成る駆動MOSトラ
ンジスタTr2−1とにより第1のインバータ回路I1
が構成され、負荷MOSトランジスタTr1−1および
駆動MOSトランジスタTr2−1のチャネル幅より短
いチャネル幅を有する負荷MOSトランジスタTr1−
2(薄膜トランジスタ)および駆動MOSトランジスタ
Tr2−2(薄膜トランジスタ)とにより第2のインバ
ータ回路I2が構成され、これら第1のインバータ回路
I1と第2のインバータ回路I2とが並列接続された構
成となっている。
Next, a second embodiment of the thin film transistor circuit of the present invention will be described. FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a thin film transistor circuit according to the second embodiment. That is, this thin film transistor circuit comprises a first inverter circuit I1 comprising a load MOS transistor Tr1-1 comprising a thin film transistor capable of coping with a high current and a driving MOS transistor Tr2-1 comprising a thin film transistor.
And the load MOS transistor Tr1- having a channel width shorter than the channel width of the load MOS transistor Tr1-1 and the drive MOS transistor Tr2-1.
2 (thin film transistor) and the driving MOS transistor Tr2-2 (thin film transistor) constitute a second inverter circuit I2, and the first inverter circuit I1 and the second inverter circuit I2 are connected in parallel. I have.

【0024】このようにチャネル幅の短い薄膜トランジ
スタで構成される第2のインバータ回路I2が、実際の
駆動を行う第1のインバータ回路I1に並列接続される
ことで、第2のインバータ回路I2が先に駆動し、次段
に接続される回路(例えば、コンデンサ)のトリガーと
なる信号を転送できるようになる。
The second inverter circuit I2 constituted by the thin-film transistor having a short channel width is connected in parallel to the first inverter circuit I1 for actually driving, so that the second inverter circuit I2 is first connected. , And a signal that triggers a circuit (for example, a capacitor) connected to the next stage can be transferred.

【0025】図4は、ゲート電圧Vgsをパラメータとし
たドレインーソース電圧Vdsに対するドレイン−ソース
電流Idsの変化を示す図である。この図に示すように、
小さなゲート電圧Vgsであっても、その変化点までは高
いゲート電圧Vgsと同等なドレイン−ソース電流Idsを
得ることができる。
FIG. 4 is a diagram showing a change in the drain-source current Ids with respect to the drain-source voltage Vds using the gate voltage Vgs as a parameter. As shown in this figure,
Even with a small gate voltage Vgs, a drain-source current Ids equivalent to the high gate voltage Vgs can be obtained up to the change point.

【0026】つまり、本実施形態のように小さなゲート
電圧で駆動する第2のインバータ回路I2が先に駆動す
る場合でも、次段の回路(例えば、コンデンサ)に対し
て十分な電流を与えることができる。
That is, even when the second inverter circuit I2 driven by a small gate voltage is driven first as in this embodiment, it is possible to supply a sufficient current to the next-stage circuit (for example, a capacitor). it can.

【0027】このため、高電流に対応できる第1のイン
バータ回路I1の閾値電圧がずれて伝達遅延が発生した
場合でも、先に駆動する第2のインバータ回路I2から
次段の回路のための電位を与えることができるようにな
る。
Therefore, even if the threshold voltage of the first inverter circuit I1 that can cope with a high current is shifted and a transmission delay occurs, the potential of the second inverter circuit I2 driven first and the potential for the next circuit are reduced. Can be given.

【0028】また、第2のインバータ回路I2で対応で
きなくなった際には実際の駆動を行う第1のインバータ
回路I1で高電流を与えることができる。すなわち、高
電流に対応できる第1のインバータ回路I1の閾値電圧
のずれを、チャネル幅の短い薄膜トランジスタから成る
第2のインバータ回路I2で吸収でき、安定した信号供
給を行うことが可能となる。
Further, when the second inverter circuit I2 cannot respond, a high current can be supplied by the first inverter circuit I1 which actually performs the driving. That is, the shift of the threshold voltage of the first inverter circuit I1 that can handle a high current can be absorbed by the second inverter circuit I2 including a thin film transistor with a short channel width, and stable signal supply can be performed.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の薄膜トラ
ンジスタ回路によれば次のような効果がある。すなわ
ち、1組のインバータ回路を複数組並列させることで1
つの薄膜MOSトランジスタにおける容量を小さくで
き、ホットキャリアの発生を抑制して、閾値変動を減少
させることが可能となる。これにより、回路マージンの
減少を抑制でき、安定した動作を得ることが可能とな
る。
As described above, the thin film transistor circuit according to the present invention has the following effects. In other words, by paralleling a plurality of sets of inverter circuits, 1
The capacity of one thin film MOS transistor can be reduced, the generation of hot carriers can be suppressed, and the variation in threshold can be reduced. As a result, a decrease in circuit margin can be suppressed, and a stable operation can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態を説明する回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram illustrating a first embodiment.

【図2】レイアウトを説明する概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view illustrating a layout.

【図3】第2実施形態を説明する回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a second embodiment.

【図4】特性を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating characteristics.

【図5】MOSトランジスタを説明する模式断面図であ
る。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating a MOS transistor.

【図6】インバータ回路を説明する回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram illustrating an inverter circuit.

【図7】薄膜MOSトランジスタを説明する模式断面図
である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view illustrating a thin-film MOS transistor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Tr1…負荷MOSトランジスタ、Tr2…駆動MOS
トランジスタ、I…インバータ回路、GP…ゲート電
極、SP…ソース電極、OP…出力用電極
Tr1 ... Load MOS transistor, Tr2 ... Drive MOS
Transistor, I: inverter circuit, GP: gate electrode, SP: source electrode, OP: output electrode

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 薄膜トランジスタから成る1つの負荷M
OSトランジスタと、薄膜トランジスタから成る1つの
駆動MOSトランジスタとが隣接して構成される1組の
インバータ回路が、複数組並列接続されていることを特
徴とする薄膜トランジスタ回路。
1. One load M comprising a thin film transistor
2. A thin film transistor circuit comprising: a plurality of sets of inverter circuits each including an OS transistor and one driving MOS transistor formed of a thin film transistor adjacent to each other;
【請求項2】 前記負荷MOSトランジスタと前記駆動
MOSトランジスタとは、各々のソース、ゲート、ドレ
インの並びが一列になるよう配置され、前記複数組のイ
ンバータ回路は、前記ソース、ゲート、ドレインの並び
に対して直交する方向に配置されていることを特徴とす
る請求項1記載の薄膜トランジスタ回路。
2. The load MOS transistor and the drive MOS transistor are arranged such that their source, gate, and drain are arranged in a line, and the plurality of sets of inverter circuits are arranged in a row of the source, the gate, and the drain. 2. The thin film transistor circuit according to claim 1, wherein the thin film transistor circuit is arranged in a direction orthogonal to the thin film transistor.
【請求項3】 第1のチャネル幅を有する薄膜トランジ
スタから成る1つの負荷MOSトランジスタと、前記第
1のチャネル幅を有する薄膜トランジスタから成る1つ
の駆動MOSトランジスタとが隣接して構成される第1
のインバータ回路と、 前記第1のチャネル幅よりも短い第2のチャネル幅を有
する薄膜トランジスタから成る1つの負荷MOSトラン
ジスタと、前記第2のチャネル幅を有する薄膜トランジ
スタから成る1つの駆動MOSトランジスタとが隣接し
て構成される第2のインバータ回路とを備えており、 前記第1のインバータ回路と前記第2のインバータ回路
とが並列接続されていることを特徴とする薄膜トランジ
スタ回路。
3. A first load MOS transistor comprising a thin film transistor having a first channel width and a driving MOS transistor comprising a thin film transistor having a first channel width are adjacent to each other.
Inverter circuit, one load MOS transistor including a thin film transistor having a second channel width shorter than the first channel width, and one driving MOS transistor including the thin film transistor having the second channel width are adjacent to each other And a second inverter circuit configured as described above, wherein the first inverter circuit and the second inverter circuit are connected in parallel.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004009361A1 (en) * 2002-07-22 2004-01-29 Fuji Xerox Co., Ltd. Network printing system, network printing device, and network printing method
WO2020151381A1 (en) * 2019-01-23 2020-07-30 Boe Technology Group Co., Ltd. Driving unit, gate driving circuit, array substrate, and display apparatus

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