JP2000018499A - 液化ガス貯蔵設備 - Google Patents
液化ガス貯蔵設備Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 水分含有率の低い液化ガスを送液できるよう
な液化ガス貯蔵設備を提供する。 【解決手段】 本液化ガス貯蔵設備４０は、液化ガス貯
槽１２と、外部から液化ガスを液化ガス貯槽に充填する
充填管１４と、加圧用蒸発器１６と、液化ガス貯槽から
液化ガスを外部に送液する送液管１８とを有する。液化
ガス貯槽は、液化ガスを収容する内槽２０と、内槽との
間に断熱機能を有する真空領域２２を形成する外槽２４
とを有する。充填管は、連結端部２６から液化ガス貯槽
まで延在し、内槽の底部近傍まで伸びている。加圧用蒸
発器１６は、温水により液化ガスを加熱して蒸発させる
蒸発器であって、内槽内の液化ガスの一部を蒸発させて
ガスとし、内槽内のガス圧力を上昇させ、ガス圧により
液化ガスを送液管を経由して外部に送液する。送液管
は、上部から内槽を貫通して、内槽の底部近傍まで下降
している。フィルタ４２が、充填管と液化ガス貯槽との
接続位置より上流位置で充填管に設けてある。
な液化ガス貯蔵設備を提供する。 【解決手段】 本液化ガス貯蔵設備４０は、液化ガス貯
槽１２と、外部から液化ガスを液化ガス貯槽に充填する
充填管１４と、加圧用蒸発器１６と、液化ガス貯槽から
液化ガスを外部に送液する送液管１８とを有する。液化
ガス貯槽は、液化ガスを収容する内槽２０と、内槽との
間に断熱機能を有する真空領域２２を形成する外槽２４
とを有する。充填管は、連結端部２６から液化ガス貯槽
まで延在し、内槽の底部近傍まで伸びている。加圧用蒸
発器１６は、温水により液化ガスを加熱して蒸発させる
蒸発器であって、内槽内の液化ガスの一部を蒸発させて
ガスとし、内槽内のガス圧力を上昇させ、ガス圧により
液化ガスを送液管を経由して外部に送液する。送液管
は、上部から内槽を貫通して、内槽の底部近傍まで下降
している。フィルタ４２が、充填管と液化ガス貯槽との
接続位置より上流位置で充填管に設けてある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液化ガス貯蔵設備
に関し、更に詳細には水分含有率の低い液化ガスを送液
できるようにした半導体装置の製造工場の付帯設備とし
て最適な液化ガス貯蔵設備にに関するものである。
に関し、更に詳細には水分含有率の低い液化ガスを送液
できるようにした半導体装置の製造工場の付帯設備とし
て最適な液化ガス貯蔵設備にに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工場では、半導体装置
を製造するに際し、多数のプロセス工程で、キャリアガ
ス、或いは反応ガスとして、種々のガス、例えば、窒素
ガス、酸素ガス、塩素ガス、炭化水素ガス等のガスを使
用している。これらのガスを気体の状態で貯蔵するとす
れば、大きなガスタンクを必要とするので、通常、必要
なガスを極低温に深冷して液化させて得た液化ガスを外
部から搬入し、液化ガス貯蔵設備に貯蔵している。そし
て、ガスを使用する際に、その液化ガスを液化ガス貯蔵
設備から気化器に送液し、そこで気化させてガスとした
後、半導体装置製造工場の必要場所に供給している。
を製造するに際し、多数のプロセス工程で、キャリアガ
ス、或いは反応ガスとして、種々のガス、例えば、窒素
ガス、酸素ガス、塩素ガス、炭化水素ガス等のガスを使
用している。これらのガスを気体の状態で貯蔵するとす
れば、大きなガスタンクを必要とするので、通常、必要
なガスを極低温に深冷して液化させて得た液化ガスを外
部から搬入し、液化ガス貯蔵設備に貯蔵している。そし
て、ガスを使用する際に、その液化ガスを液化ガス貯蔵
設備から気化器に送液し、そこで気化させてガスとした
後、半導体装置製造工場の必要場所に供給している。
【０００３】ここで、図６を参照して、従来の液化ガス
貯蔵設備の構成を説明する。図６は、従来の液化ガス貯
蔵設備の構成を示すフローシートである。液化ガス貯蔵
設備１０は、図６に示すように、液化ガスを貯蔵する液
化ガス貯槽１２と、タンクローリ車等により外部から搬
入されて来た液化ガスを液化ガス貯槽１２に充填する充
填管１４と、加圧用蒸発器１６と、液化ガス貯槽１２か
ら液化ガスを外部の気化器（図示せず）に送液する送液
管１８とから構成されている。
貯蔵設備の構成を説明する。図６は、従来の液化ガス貯
蔵設備の構成を示すフローシートである。液化ガス貯蔵
設備１０は、図６に示すように、液化ガスを貯蔵する液
化ガス貯槽１２と、タンクローリ車等により外部から搬
入されて来た液化ガスを液化ガス貯槽１２に充填する充
填管１４と、加圧用蒸発器１６と、液化ガス貯槽１２か
ら液化ガスを外部の気化器（図示せず）に送液する送液
管１８とから構成されている。
【０００４】液化ガス貯槽１２は、液化ガスを収容する
密閉型の内槽２０と、内槽２０の外側を離隔して取り囲
み、内槽２０との間に真空領域２２を形成する密閉型の
外槽２４とから構成され、真空領域２２は、断熱機能を
果たす真空空間であって、外槽２４の外側から内槽２０
に収容された液化ガスに熱が進入して液化ガスの温度を
上昇させ、液化ガスが蒸発するのを抑制している。充填
管１４は、タンクローリ車との連結端部２６から液化ガ
ス貯槽１２まで延在し、次いで外槽２４の底部から外槽
２４の槽壁、真空領域２２及び内槽２０の槽壁を貫通し
て、内槽２０の底部近傍まで伸びている。
密閉型の内槽２０と、内槽２０の外側を離隔して取り囲
み、内槽２０との間に真空領域２２を形成する密閉型の
外槽２４とから構成され、真空領域２２は、断熱機能を
果たす真空空間であって、外槽２４の外側から内槽２０
に収容された液化ガスに熱が進入して液化ガスの温度を
上昇させ、液化ガスが蒸発するのを抑制している。充填
管１４は、タンクローリ車との連結端部２６から液化ガ
ス貯槽１２まで延在し、次いで外槽２４の底部から外槽
２４の槽壁、真空領域２２及び内槽２０の槽壁を貫通し
て、内槽２０の底部近傍まで伸びている。
【０００５】加圧用蒸発器１６は、温水等の熱媒体によ
り液化ガスを加熱して蒸発させる蒸発器であって、液化
ガス貯槽１２から液化ガスを外部の気化器に送液する
際、内槽２０内の液化ガスの一部を蒸発させてガスと
し、それにより内槽２０内のガス圧を上昇させ、ガス圧
により液化ガスを送液管１８を経由して気化器に送液す
るために設けてある。液化ガスは、内槽２０の底部から
液化ガス管２８を通って加圧用蒸発器１６に流入し、そ
こで蒸発、気化する。気化したガスは、ガス管３０を通
って液化ガス液面上に存在するガス層に内槽２０の上部
から流入する。加圧用蒸発器１６は、内槽２０内の液面
Ｌより低い位置に設けられ、内槽２０の底部から液面Ｌ
までの液化ガスの液柱と、内槽２０から液化ガス管２８
を経て加圧用蒸発器１６までの液化ガスの液柱及び加圧
用蒸発器１６からガス管３０を得て内槽２０に入るガス
のガス柱の和との圧力差から、開閉弁３２を開放する
と、液化ガスは、自然に、加圧用蒸発器１６に入り、蒸
発して内槽２０に入る。
り液化ガスを加熱して蒸発させる蒸発器であって、液化
ガス貯槽１２から液化ガスを外部の気化器に送液する
際、内槽２０内の液化ガスの一部を蒸発させてガスと
し、それにより内槽２０内のガス圧を上昇させ、ガス圧
により液化ガスを送液管１８を経由して気化器に送液す
るために設けてある。液化ガスは、内槽２０の底部から
液化ガス管２８を通って加圧用蒸発器１６に流入し、そ
こで蒸発、気化する。気化したガスは、ガス管３０を通
って液化ガス液面上に存在するガス層に内槽２０の上部
から流入する。加圧用蒸発器１６は、内槽２０内の液面
Ｌより低い位置に設けられ、内槽２０の底部から液面Ｌ
までの液化ガスの液柱と、内槽２０から液化ガス管２８
を経て加圧用蒸発器１６までの液化ガスの液柱及び加圧
用蒸発器１６からガス管３０を得て内槽２０に入るガス
のガス柱の和との圧力差から、開閉弁３２を開放する
と、液化ガスは、自然に、加圧用蒸発器１６に入り、蒸
発して内槽２０に入る。
【０００６】送液管１８は、外槽２４の底部を貫通し、
上方に向けて真空領域２２を延在し、上部から内槽２０
の槽壁を貫通して内槽２０の底部近傍まで下降してい
る。加圧用蒸発器１６により内槽２０内のガス層のガス
圧力が上昇すると、そのガス圧力に押圧されて、液化ガ
スは送液管１８を通って外部の気化器に送液される。
尚、充填管１４及び送液管１８には必要に応じて開閉弁
３４、３６が設けてある。
上方に向けて真空領域２２を延在し、上部から内槽２０
の槽壁を貫通して内槽２０の底部近傍まで下降してい
る。加圧用蒸発器１６により内槽２０内のガス層のガス
圧力が上昇すると、そのガス圧力に押圧されて、液化ガ
スは送液管１８を通って外部の気化器に送液される。
尚、充填管１４及び送液管１８には必要に応じて開閉弁
３４、３６が設けてある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体装置
の製造工程では、良好な特性の半導体装置を製造するた
めには、不純物の濃度が極めて低い、換言すれば、高い
純度のガスが必要とされている。しかし、上述した液化
ガス貯蔵設備で貯蔵したガスを使用した場合、水分（Ｈ
2 Ｏ）の含有率が高く、プロセス工程で必要な所望の高
純度のガスを得ることができなかったり、或いは通常マ
イナス１８０℃程度の液化ガスの露点が上昇し、例えば
マイナス１５０℃程度に上昇するために、液化ガスを使
用するプロセスで支障が生じるという問題があった。
の製造工程では、良好な特性の半導体装置を製造するた
めには、不純物の濃度が極めて低い、換言すれば、高い
純度のガスが必要とされている。しかし、上述した液化
ガス貯蔵設備で貯蔵したガスを使用した場合、水分（Ｈ
2 Ｏ）の含有率が高く、プロセス工程で必要な所望の高
純度のガスを得ることができなかったり、或いは通常マ
イナス１８０℃程度の液化ガスの露点が上昇し、例えば
マイナス１５０℃程度に上昇するために、液化ガスを使
用するプロセスで支障が生じるという問題があった。
【０００８】そこで、本発明の目的は、水分含有率の低
い液化ガスを送液できるような液化ガス貯蔵設備を提供
することである。
い液化ガスを送液できるような液化ガス貯蔵設備を提供
することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、従来の液化
ガス貯蔵設備から外部に送液される液化ガスの水分含有
率が高い原因を調べたところ、液化ガスを外部から搬入
し、液化ガス貯蔵設備に充填する時に、水分が混入する
ことを突き止めた。通常、液化ガスの製造工場では、ガ
スを深冷する際、ガス中の水分をモレキュラーシーブ等
の吸着剤により水分を十分に除去しているので、液化ガ
ス中の水分は、液化ガスの製造工場で液化ガスをタンク
ローリ車に充填する際、或いはタンクローリ車から液化
ガスを液化ガス貯蔵設備に充填する際に、大気中の水分
が液化ガスに混入したものと思われる。また、液化ガス
に混入した水分（Ｈ2 Ｏ）は、瞬時的に、液化ガスと同
じ極低温に冷却されて氷結し、極めて微細な氷粒子にな
り、液化ガス貯槽内で液化ガス表層中に浮遊しているこ
とを突き止めた。そこで、本発明者は、第１には微細な
氷粒子をフィルタで捕捉すること、また第２には氷粒子
を浮遊させた液化ガス表層をオーバーフローさせること
を着想し、実験を重ねて本発明を完成するに到った。
ガス貯蔵設備から外部に送液される液化ガスの水分含有
率が高い原因を調べたところ、液化ガスを外部から搬入
し、液化ガス貯蔵設備に充填する時に、水分が混入する
ことを突き止めた。通常、液化ガスの製造工場では、ガ
スを深冷する際、ガス中の水分をモレキュラーシーブ等
の吸着剤により水分を十分に除去しているので、液化ガ
ス中の水分は、液化ガスの製造工場で液化ガスをタンク
ローリ車に充填する際、或いはタンクローリ車から液化
ガスを液化ガス貯蔵設備に充填する際に、大気中の水分
が液化ガスに混入したものと思われる。また、液化ガス
に混入した水分（Ｈ2 Ｏ）は、瞬時的に、液化ガスと同
じ極低温に冷却されて氷結し、極めて微細な氷粒子にな
り、液化ガス貯槽内で液化ガス表層中に浮遊しているこ
とを突き止めた。そこで、本発明者は、第１には微細な
氷粒子をフィルタで捕捉すること、また第２には氷粒子
を浮遊させた液化ガス表層をオーバーフローさせること
を着想し、実験を重ねて本発明を完成するに到った。
【００１０】上記目的を達成するために、本発明に係る
液化ガス貯蔵設備（以下、第１の発明と言う）は、液化
ガスを貯蔵する液化ガス貯槽と、液化ガス貯槽内に先端
の開口部を突出させ、外部から搬入されて来た液化ガス
を液化ガス貯槽に充填する充填管と、基端の開口部を液
化ガス貯槽内の液化ガス層に浸漬させるように液化ガス
貯槽内に延在して、液化ガス貯槽から液化ガスを外部に
送液する送液管とを備える液化ガス貯蔵設備において、
氷粒子を捕捉するフィルタが、充填管と液化ガス貯槽と
の接続位置より上流位置の充填管、充填管の先端の開口
部、及び送液管の基端の開口部の少なくとも一か所に設
けてあることを特徴としている。
液化ガス貯蔵設備（以下、第１の発明と言う）は、液化
ガスを貯蔵する液化ガス貯槽と、液化ガス貯槽内に先端
の開口部を突出させ、外部から搬入されて来た液化ガス
を液化ガス貯槽に充填する充填管と、基端の開口部を液
化ガス貯槽内の液化ガス層に浸漬させるように液化ガス
貯槽内に延在して、液化ガス貯槽から液化ガスを外部に
送液する送液管とを備える液化ガス貯蔵設備において、
氷粒子を捕捉するフィルタが、充填管と液化ガス貯槽と
の接続位置より上流位置の充填管、充填管の先端の開口
部、及び送液管の基端の開口部の少なくとも一か所に設
けてあることを特徴としている。
【００１１】本発明で、液化ガスとは、酸素ガス、窒素
ガス、炭化水素ガス等のガス（気体）を極低温に深冷し
て液化させたものを言う。本発明では、フィルタを特定
した箇所の一か所のみに設けてもよく、複数の箇所に設
けてもよく、全部の箇所に設けてもよい。本発明の好適
な実施態様では、液化ガス貯槽が、液化ガスを貯蔵する
密閉型内槽と、内槽を外側から離隔して取り囲み、内槽
との間に真空領域を区画する密閉型外槽とから構成さ
れ、充填管は、外槽の槽壁、真空領域及び内槽の槽壁を
貫通して内槽の底部近傍まで伸び、送液管は、外槽の槽
壁及び真空領域を貫通し、更に上部から内槽の槽壁を貫
通して内槽の底部近傍まで下降している。更に好適な実
施態様では、液化ガスを送液するために、内槽内を加圧
する加圧用蒸発器が液化ガス貯槽の外に設けてある。
ガス、炭化水素ガス等のガス（気体）を極低温に深冷し
て液化させたものを言う。本発明では、フィルタを特定
した箇所の一か所のみに設けてもよく、複数の箇所に設
けてもよく、全部の箇所に設けてもよい。本発明の好適
な実施態様では、液化ガス貯槽が、液化ガスを貯蔵する
密閉型内槽と、内槽を外側から離隔して取り囲み、内槽
との間に真空領域を区画する密閉型外槽とから構成さ
れ、充填管は、外槽の槽壁、真空領域及び内槽の槽壁を
貫通して内槽の底部近傍まで伸び、送液管は、外槽の槽
壁及び真空領域を貫通し、更に上部から内槽の槽壁を貫
通して内槽の底部近傍まで下降している。更に好適な実
施態様では、液化ガスを送液するために、内槽内を加圧
する加圧用蒸発器が液化ガス貯槽の外に設けてある。
【００１２】また、本発明に係る更に別の液化ガス貯蔵
設備（以下、第２の発明と言う）は、液化ガスを貯蔵す
る液化ガス貯槽と、液化ガス貯槽内に先端の開口部を突
出させ、外部から搬入されて来た液化ガスを液化ガス貯
槽に充填する充填管と、基端の開口部を液化ガス貯槽内
の液化ガス層に浸漬させるように液化ガス貯槽内に延在
して、液化ガス貯槽から液化ガスを外部に送液する送液
管とを備える液化ガス貯蔵設備において、液化ガス貯槽
が、液化ガスを貯蔵する上部開放型内槽と、内槽を外側
から離隔して取り囲み、内槽との間に液化ガスの液溜め
を形成する密閉型中間槽と、中間槽を外側から離隔して
取り囲み中間槽との間に真空領域を区画する密閉型外槽
とから構成され、充填管は、外槽の槽壁、真空領域、中
間槽の槽壁、液溜め及び内槽の槽壁を貫通して内槽の底
部近傍まで伸び、送液管は、外槽の槽壁及び真空領域を
貫通し、更に上部から中間槽の槽壁を貫通して内槽の底
部近傍まで下降し、液化ガスを送液するために、内槽内
を加圧する加圧用蒸発器が液化ガス貯槽の外に設けてあ
り、液化ガスを内槽から液溜めにオーバーフローさせる
ようにしたことを特徴としている。
設備（以下、第２の発明と言う）は、液化ガスを貯蔵す
る液化ガス貯槽と、液化ガス貯槽内に先端の開口部を突
出させ、外部から搬入されて来た液化ガスを液化ガス貯
槽に充填する充填管と、基端の開口部を液化ガス貯槽内
の液化ガス層に浸漬させるように液化ガス貯槽内に延在
して、液化ガス貯槽から液化ガスを外部に送液する送液
管とを備える液化ガス貯蔵設備において、液化ガス貯槽
が、液化ガスを貯蔵する上部開放型内槽と、内槽を外側
から離隔して取り囲み、内槽との間に液化ガスの液溜め
を形成する密閉型中間槽と、中間槽を外側から離隔して
取り囲み中間槽との間に真空領域を区画する密閉型外槽
とから構成され、充填管は、外槽の槽壁、真空領域、中
間槽の槽壁、液溜め及び内槽の槽壁を貫通して内槽の底
部近傍まで伸び、送液管は、外槽の槽壁及び真空領域を
貫通し、更に上部から中間槽の槽壁を貫通して内槽の底
部近傍まで下降し、液化ガスを送液するために、内槽内
を加圧する加圧用蒸発器が液化ガス貯槽の外に設けてあ
り、液化ガスを内槽から液溜めにオーバーフローさせる
ようにしたことを特徴としている。
【００１３】本発明で氷粒子を捕捉するために設けるフ
ィルタは、液化ガス中の氷粒子を捕捉することができる
限り、その構成、形状、材質に制約はなく、例えば、焼
結金属製のフィルタエレメント又はメンブレンからなる
フィルタエレメントを有するフィルタを使用できる。焼
結金属の場合には、例えば、ステンレス鋼は種々の良好
な低温特性を有するので、ステンレス鋼の焼結金属を使
うのが好ましい。また、メンブレンの場合には、フッ素
樹脂は低温でも機械的強度が高いので、フッ素樹脂製メ
ンブレンを使用するのが好ましい。
ィルタは、液化ガス中の氷粒子を捕捉することができる
限り、その構成、形状、材質に制約はなく、例えば、焼
結金属製のフィルタエレメント又はメンブレンからなる
フィルタエレメントを有するフィルタを使用できる。焼
結金属の場合には、例えば、ステンレス鋼は種々の良好
な低温特性を有するので、ステンレス鋼の焼結金属を使
うのが好ましい。また、メンブレンの場合には、フッ素
樹脂は低温でも機械的強度が高いので、フッ素樹脂製メ
ンブレンを使用するのが好ましい。
【００１４】本発明では、フィルタを設けることによ
り、或いは随時オーバーフローさせることにより、外部
から液化ガスを液化ガス貯槽に充填する際に、又は液化
ガスを液化ガス貯槽から外部に送液する際に、氷粒子を
液化ガスから除去している。これにより、水分含有率の
低い液化ガスを液化ガス貯蔵設備から外部に送液するこ
とができる。
り、或いは随時オーバーフローさせることにより、外部
から液化ガスを液化ガス貯槽に充填する際に、又は液化
ガスを液化ガス貯槽から外部に送液する際に、氷粒子を
液化ガスから除去している。これにより、水分含有率の
低い液化ガスを液化ガス貯蔵設備から外部に送液するこ
とができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下に、添付図面を参照し、実施
形態例を挙げて本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に
説明する。実施形態例１ 本実施形態例は、第１の発明に係る液化ガス貯蔵設備の
実施形態の一例であって、図１は本実施形態例の液化ガ
ス貯蔵設備の構成を示す模式的フローシートである。本
実施形態例の液化ガス貯蔵設備４０は、図６に示す従来
の液化ガス貯蔵設備１０の構成に加えて、図１に示すよ
うに、充填管１４を流れる液化ガス中の氷粒子を捕捉す
るために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ素樹脂製メ
ンブレンをフィルタエレメントとするフィルタ４２が、
充填管１４と液化ガス貯槽２０との接続位置より上流位
置で充填管１４に設けてある。本実施形態例で使用した
フィルタ５２は、日本ミリポア社製の円筒形の焼結金属
フィルタである。以下の実施形態例で使用したフィルタ
も同様のものである。本実施形態例では、フィルタ４２
を充填管１４に設けて、液化ガス貯槽２０に充填される
液化ガスから氷粒子を予め捕捉、除去しているので、液
化ガス貯蔵設備４０から送液される液化ガスの水分含有
率は、従来の液化ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低
下する。
形態例を挙げて本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に
説明する。実施形態例１ 本実施形態例は、第１の発明に係る液化ガス貯蔵設備の
実施形態の一例であって、図１は本実施形態例の液化ガ
ス貯蔵設備の構成を示す模式的フローシートである。本
実施形態例の液化ガス貯蔵設備４０は、図６に示す従来
の液化ガス貯蔵設備１０の構成に加えて、図１に示すよ
うに、充填管１４を流れる液化ガス中の氷粒子を捕捉す
るために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ素樹脂製メ
ンブレンをフィルタエレメントとするフィルタ４２が、
充填管１４と液化ガス貯槽２０との接続位置より上流位
置で充填管１４に設けてある。本実施形態例で使用した
フィルタ５２は、日本ミリポア社製の円筒形の焼結金属
フィルタである。以下の実施形態例で使用したフィルタ
も同様のものである。本実施形態例では、フィルタ４２
を充填管１４に設けて、液化ガス貯槽２０に充填される
液化ガスから氷粒子を予め捕捉、除去しているので、液
化ガス貯蔵設備４０から送液される液化ガスの水分含有
率は、従来の液化ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低
下する。
【００１６】実施形態例２ 本実施形態例は、第１の発明に係る液化ガス貯蔵設備の
実施形態の別の例であって、図２は本実施形態例の液化
ガス貯蔵設備の構成を示すフローシートである。本実施
形態例の液化ガス貯蔵設備５０は、図６に示す従来の液
化ガス貯蔵設備１０の構成に加えて、図２に示すよう
に、充填管１４を流れる液化ガス中の氷粒子を捕捉する
ために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ素樹脂製メン
ブレンをフィルタエレメントとするフィルタ５２が、充
填管１４の先端の開口部５４に設けてある。本実施形態
例では、フィルタ５２を充填管１４の先端の開口部５４
に設けて、液化ガス貯槽２０に充填される液化ガスから
氷粒子を予め捕捉、除去しているので、液化ガス貯蔵設
備５０から送液される液化ガスの水分含有率は、従来の
液化ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低下する。
実施形態の別の例であって、図２は本実施形態例の液化
ガス貯蔵設備の構成を示すフローシートである。本実施
形態例の液化ガス貯蔵設備５０は、図６に示す従来の液
化ガス貯蔵設備１０の構成に加えて、図２に示すよう
に、充填管１４を流れる液化ガス中の氷粒子を捕捉する
ために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ素樹脂製メン
ブレンをフィルタエレメントとするフィルタ５２が、充
填管１４の先端の開口部５４に設けてある。本実施形態
例では、フィルタ５２を充填管１４の先端の開口部５４
に設けて、液化ガス貯槽２０に充填される液化ガスから
氷粒子を予め捕捉、除去しているので、液化ガス貯蔵設
備５０から送液される液化ガスの水分含有率は、従来の
液化ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低下する。
【００１７】実施形態例３ 本実施形態例は、第１の発明に係る液化ガス貯蔵設備の
実施形態の更に別の例であって、図３は本実施形態例の
液化ガス貯蔵設備の構成を示すフローシートである。本
実施形態例の液化ガス貯蔵設備６０は、図６に示す従来
の液化ガス貯蔵設備１０の構成に加えて、図３に示すよ
うに、送液管１８を介して送液される液化ガス中の氷粒
子を捕捉するために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ
素樹脂製メンブレンをフィルタエレメントとするフィル
タ６２が、送液管１８の基端にあって液化ガス層に浸漬
している開口部６４に設けてある。本実施形態例では、
フィルタ６２を送液管１８の基端の開口部６４に設け
て、液化ガス貯槽２０から送液される液化ガスから氷粒
子を予め捕捉、除去しているので、液化ガス貯蔵設備６
０から送液される液化ガスの水分含有率は、従来の液化
ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低下する。
実施形態の更に別の例であって、図３は本実施形態例の
液化ガス貯蔵設備の構成を示すフローシートである。本
実施形態例の液化ガス貯蔵設備６０は、図６に示す従来
の液化ガス貯蔵設備１０の構成に加えて、図３に示すよ
うに、送液管１８を介して送液される液化ガス中の氷粒
子を捕捉するために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ
素樹脂製メンブレンをフィルタエレメントとするフィル
タ６２が、送液管１８の基端にあって液化ガス層に浸漬
している開口部６４に設けてある。本実施形態例では、
フィルタ６２を送液管１８の基端の開口部６４に設け
て、液化ガス貯槽２０から送液される液化ガスから氷粒
子を予め捕捉、除去しているので、液化ガス貯蔵設備６
０から送液される液化ガスの水分含有率は、従来の液化
ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低下する。
【００１８】上述の実施形態例１から３では、氷粒子を
捕捉するフィルタをそれぞれ特定した一か所に設けてい
るが、必ずしもこれに限らず、実施形態例２と実施形態
例３とを組み合わせて、氷粒子を捕捉するフィルタを充
填管１４の先端の開口部５４及び送液管１８の基端の開
口部６４に設けても良い。これにより、送液される液化
ガスの水分含有率が一層低下する。また、実施形態例１
と実施形態例３とを、更には実施形態例１と実施形態例
２と実施形態例３とを組み合わせることもできる。
捕捉するフィルタをそれぞれ特定した一か所に設けてい
るが、必ずしもこれに限らず、実施形態例２と実施形態
例３とを組み合わせて、氷粒子を捕捉するフィルタを充
填管１４の先端の開口部５４及び送液管１８の基端の開
口部６４に設けても良い。これにより、送液される液化
ガスの水分含有率が一層低下する。また、実施形態例１
と実施形態例３とを、更には実施形態例１と実施形態例
２と実施形態例３とを組み合わせることもできる。
【００１９】実施形態例４ 本実施形態例は、第２の発明に係る液化ガス貯蔵設備の
実施形態の一例であって、図４は本実施形態例の液化ガ
ス貯蔵設備の構成を示す模式的フローシートである。本
実施形態例の液化ガス貯蔵設備７０は、図４に示すよう
に、液化ガス貯槽７２の構成が異なることを除いて、図
６に示す従来の液化ガス貯蔵設備１０と同じ構成を備え
ている。液化ガス貯槽７２は、図４に示すように、液化
ガスを貯蔵する上部開放型内槽７４と、内槽７４を外側
から離隔して取り囲み、内槽７４との間に液化ガス溜８
２を形成する密閉型中間槽７６と、中間槽７６を外側か
ら離隔して取り囲み中間槽７６との間に真空領域７８を
区画する外槽８０とから構成されている。真空領域７８
は、断熱機能を果たす真空空間であって、外槽８０の外
側から中間槽７６を経て内槽２０に収容された液化ガス
に熱が進入して液化ガスの温度を上昇させ、液化ガスが
蒸発するのを抑制している。また、内槽７４と中間槽７
６との間の空間８２は、内槽７４からオーバーフローし
た液化ガスの液溜として機能する。
実施形態の一例であって、図４は本実施形態例の液化ガ
ス貯蔵設備の構成を示す模式的フローシートである。本
実施形態例の液化ガス貯蔵設備７０は、図４に示すよう
に、液化ガス貯槽７２の構成が異なることを除いて、図
６に示す従来の液化ガス貯蔵設備１０と同じ構成を備え
ている。液化ガス貯槽７２は、図４に示すように、液化
ガスを貯蔵する上部開放型内槽７４と、内槽７４を外側
から離隔して取り囲み、内槽７４との間に液化ガス溜８
２を形成する密閉型中間槽７６と、中間槽７６を外側か
ら離隔して取り囲み中間槽７６との間に真空領域７８を
区画する外槽８０とから構成されている。真空領域７８
は、断熱機能を果たす真空空間であって、外槽８０の外
側から中間槽７６を経て内槽２０に収容された液化ガス
に熱が進入して液化ガスの温度を上昇させ、液化ガスが
蒸発するのを抑制している。また、内槽７４と中間槽７
６との間の空間８２は、内槽７４からオーバーフローし
た液化ガスの液溜として機能する。
【００２０】充填管１４は、外槽８０の槽壁、真空領域
７８、中間槽７６の槽壁及び内槽７４の槽壁を貫通して
内槽７４の底部近傍まで伸びている。送液管１８は、外
槽２４の底部を貫通して上方向けて真空領域２２を延在
し、上部から内槽２０の槽壁を貫通して、内槽２０の底
部近傍まで下降している。液化ガス溜８２には、開閉弁
８４を備え、真空領域７８及び外槽８０の外槽を貫通し
て外部に出る排出管８６が接続され、液化ガス溜８２に
溜まった液化ガスを外部に排出するようになっている。
排出管８６から流出させた液化ガスは、フィルタ（図示
せず）を通って液化ガス中の氷粒子が捕捉し、再び充填
管１４を介して内槽７４に再充填される。
７８、中間槽７６の槽壁及び内槽７４の槽壁を貫通して
内槽７４の底部近傍まで伸びている。送液管１８は、外
槽２４の底部を貫通して上方向けて真空領域２２を延在
し、上部から内槽２０の槽壁を貫通して、内槽２０の底
部近傍まで下降している。液化ガス溜８２には、開閉弁
８４を備え、真空領域７８及び外槽８０の外槽を貫通し
て外部に出る排出管８６が接続され、液化ガス溜８２に
溜まった液化ガスを外部に排出するようになっている。
排出管８６から流出させた液化ガスは、フィルタ（図示
せず）を通って液化ガス中の氷粒子が捕捉し、再び充填
管１４を介して内槽７４に再充填される。
【００２１】液化ガス貯蔵設備７０から液化ガスを外部
に送液する際、本実施形態例の液化ガス貯蔵設備７０で
は、氷粒子が液化ガス層の上部表層に浮遊するという性
質を利用して、液化ガス表層を内槽７４から中間槽７６
にオーバーフローさせ、これにより内槽７４内の液化ガ
スの水分含有率を低下させている。よって、本液化ガス
貯蔵設備７０から送液された液化ガスの水分含有率は、
従来の液化ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低下して
いる。
に送液する際、本実施形態例の液化ガス貯蔵設備７０で
は、氷粒子が液化ガス層の上部表層に浮遊するという性
質を利用して、液化ガス表層を内槽７４から中間槽７６
にオーバーフローさせ、これにより内槽７４内の液化ガ
スの水分含有率を低下させている。よって、本液化ガス
貯蔵設備７０から送液された液化ガスの水分含有率は、
従来の液化ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低下して
いる。
【００２２】実施形態例５ 本実施形態例は、第２の発明に係る液化ガス貯蔵設備の
実施形態の別の例であって、図５は本実施形態例の液化
ガス貯蔵設備の構成を示すフローシートである。本実施
形態例の液化ガス貯蔵設備９０は、図５に示すように、
実施形態例４の液化ガス貯蔵設備７０の構成に加えて、
送液管１８を介して送液される液化ガス中の氷粒子を捕
捉するために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ素樹脂
製メンブレンをフィルタエレメントとするフィルタ９２
が、送液管１８の基端にあって液化ガス層に浸漬してい
る開口部９４に設けてある。本実施形態例では、フィル
タ９２を送液管１８の基端の開口部９４に設けて、液化
ガス貯槽７２から送液される液化ガスから氷粒子を予め
捕捉、除去しているので、液化ガス貯蔵設備９０から送
液される液化ガスの水分含有率は、実施形態例４より更
に一層低下する。
実施形態の別の例であって、図５は本実施形態例の液化
ガス貯蔵設備の構成を示すフローシートである。本実施
形態例の液化ガス貯蔵設備９０は、図５に示すように、
実施形態例４の液化ガス貯蔵設備７０の構成に加えて、
送液管１８を介して送液される液化ガス中の氷粒子を捕
捉するために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ素樹脂
製メンブレンをフィルタエレメントとするフィルタ９２
が、送液管１８の基端にあって液化ガス層に浸漬してい
る開口部９４に設けてある。本実施形態例では、フィル
タ９２を送液管１８の基端の開口部９４に設けて、液化
ガス貯槽７２から送液される液化ガスから氷粒子を予め
捕捉、除去しているので、液化ガス貯蔵設備９０から送
液される液化ガスの水分含有率は、実施形態例４より更
に一層低下する。
【００２３】尚、本実施形態例では、送液管１８の基端
の開口部９４に代えて、又は送液管１８の基端の開口部
９４に加えて、充填管１４の途中、充填管１４の先端の
開口部９６、及び気化器（図示せず）までの送液管１８
の途中のいずれか、更にはそれらの２か所以上にフィル
タ９２を設けても良い。
の開口部９４に代えて、又は送液管１８の基端の開口部
９４に加えて、充填管１４の途中、充填管１４の先端の
開口部９６、及び気化器（図示せず）までの送液管１８
の途中のいずれか、更にはそれらの２か所以上にフィル
タ９２を設けても良い。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、充填管及び送液管の少
なくとも一方にフィルタを設けることにより、又は内槽
から液化ガスをオーバーフローさせることにより、従来
の液化ガス貯蔵設備に比べて、水分含有率の低い液化ガ
スを送液できる液化ガス貯蔵設備を実現している。
なくとも一方にフィルタを設けることにより、又は内槽
から液化ガスをオーバーフローさせることにより、従来
の液化ガス貯蔵設備に比べて、水分含有率の低い液化ガ
スを送液できる液化ガス貯蔵設備を実現している。
【図１】実施形態例１の液化ガス貯蔵設備の構成を示す
フローシートである。
フローシートである。
【図２】実施形態例２の液化ガス貯蔵設備の構成を示す
フローシートである。
フローシートである。
【図３】実施形態例３の液化ガス貯蔵設備の構成を示す
フローシートである。
フローシートである。
【図４】実施形態例４の液化ガス貯蔵設備の構成を示す
フローシートである。
フローシートである。
【図５】実施形態例５の液化ガス貯蔵設備の構成を示す
フローシートである。
フローシートである。
【図６】従来の液化ガス貯蔵設備の構成を示すフローシ
ートである。
ートである。
１０ 従来の液化ガス貯蔵設備 １２ 液化ガス貯槽 １４ 充填管 １６ 加圧用蒸発器 １８ 送液管 ２０ 内槽 ２２ 真空領域 ２４ 外槽 ２６ 連結端部 ２８ 液化ガス管 ３０ ガス管 ３２、３４、３６ 開閉弁 ４０ 実施形態例１の液化ガス貯蔵設備 ４２ フィルタ ５０ 実施形態例２の液化ガス貯蔵設備 ５２ フィルタ ５４ 充填管の先端の開口部 ６０ 実施形態例３の液化ガス貯蔵設備 ６２ フィルタ ６４ 送液管の基端の開口部 ７０ 実施形態例４の液化ガス貯蔵設備 ７２ 液化ガス貯槽 ７４ 内槽 ７６ 中間槽 ７８ 真空領域 ８０ 外槽 ８２ 液化ガス溜 ８４ 開閉弁 ８６ 排出管 ９０ 実施形態例５の液化ガス貯蔵設備 ９２ フィルタ ９４ 送液管の基端の開口部 ９６ 充填管の先端の開口部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年８月２４日（１９９９．８．２
４）
４）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体装置
の製造工程では、良好な特性の半導体装置を製造するた
めには、不純物の濃度が極めて低い、換言すれば、高い
純度のガスが必要とされている。しかし、上述した液化
ガス貯蔵設備で貯蔵したガスを使用した場合、水分（Ｈ
2 Ｏ）の含有率が高く、プロセス工程で必要な所望の高
純度のガスを得ることができなかったり、或いは通常マ
イナス７０℃程度の液化ガスの露点が上昇し、例えばマ
イナス５０℃程度に上昇するために、液化ガスを使用す
るプロセスで支障が生じるという問題があった。
の製造工程では、良好な特性の半導体装置を製造するた
めには、不純物の濃度が極めて低い、換言すれば、高い
純度のガスが必要とされている。しかし、上述した液化
ガス貯蔵設備で貯蔵したガスを使用した場合、水分（Ｈ
2 Ｏ）の含有率が高く、プロセス工程で必要な所望の高
純度のガスを得ることができなかったり、或いは通常マ
イナス７０℃程度の液化ガスの露点が上昇し、例えばマ
イナス５０℃程度に上昇するために、液化ガスを使用す
るプロセスで支障が生じるという問題があった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】上記目的を達成するために、本発明に係る
液化ガス貯蔵設備（以下、第１の発明と言う）は、液化
ガスを貯蔵する液化ガス貯槽と、液化ガス貯槽内に先端
の開口部を突出させ、外部から搬入されて来た液化ガス
を液化ガス貯槽に充填する充填管と、基端の開口部を液
化ガス貯槽内の液化ガス層に浸漬させるように液化ガス
貯槽内に延在して、液化ガス貯槽から液化ガスを外部に
送液する送液管とを備える液化ガス貯蔵設備において、
氷粒子を捕捉するフィルタが、充填管と液化ガス貯槽と
の接続位置より上流位置の充填管、及び充填管の先端の
開口部の少なくとも一か所に設けてあることを特徴とし
ている。
液化ガス貯蔵設備（以下、第１の発明と言う）は、液化
ガスを貯蔵する液化ガス貯槽と、液化ガス貯槽内に先端
の開口部を突出させ、外部から搬入されて来た液化ガス
を液化ガス貯槽に充填する充填管と、基端の開口部を液
化ガス貯槽内の液化ガス層に浸漬させるように液化ガス
貯槽内に延在して、液化ガス貯槽から液化ガスを外部に
送液する送液管とを備える液化ガス貯蔵設備において、
氷粒子を捕捉するフィルタが、充填管と液化ガス貯槽と
の接続位置より上流位置の充填管、及び充填管の先端の
開口部の少なくとも一か所に設けてあることを特徴とし
ている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１５】
【発明の実施の形態】以下に、添付図面を参照し、実施
形態例を挙げて本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に
説明する。実施形態例１ 本実施形態例は、第１の発明に係る液化ガス貯蔵設備の
実施形態の一例であって、図１は本実施形態例の液化ガ
ス貯蔵設備の構成を示す模式的フローシートである。本
実施形態例の液化ガス貯蔵設備４０は、図６に示す従来
の液化ガス貯蔵設備１０の構成に加えて、図１に示すよ
うに、充填管１４を流れる液化ガス中の氷粒子を捕捉す
るために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ素樹脂製メ
ンブレンをフィルタエレメントとするフィルタ４２が、
充填管１４と液化ガス貯槽２０との接続位置より上流位
置で充填管１４に設けてある。本実施形態例で使用した
フィルタ４２は、日本ミリポア社製の円筒形の焼結金属
フィルタである。以下の実施形態例で使用したフィルタ
も同様のものである。本実施形態例では、フィルタ４２
を充填管１４に設けて、液化ガス貯槽２０に充填される
液化ガスから氷粒子を予め捕捉、除去しているので、液
化ガス貯蔵設備４０から送液される液化ガスの水分含有
率は、従来の液化ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低
下する。
形態例を挙げて本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に
説明する。実施形態例１ 本実施形態例は、第１の発明に係る液化ガス貯蔵設備の
実施形態の一例であって、図１は本実施形態例の液化ガ
ス貯蔵設備の構成を示す模式的フローシートである。本
実施形態例の液化ガス貯蔵設備４０は、図６に示す従来
の液化ガス貯蔵設備１０の構成に加えて、図１に示すよ
うに、充填管１４を流れる液化ガス中の氷粒子を捕捉す
るために、ステンレス鋼の焼結金属又はフッ素樹脂製メ
ンブレンをフィルタエレメントとするフィルタ４２が、
充填管１４と液化ガス貯槽２０との接続位置より上流位
置で充填管１４に設けてある。本実施形態例で使用した
フィルタ４２は、日本ミリポア社製の円筒形の焼結金属
フィルタである。以下の実施形態例で使用したフィルタ
も同様のものである。本実施形態例では、フィルタ４２
を充填管１４に設けて、液化ガス貯槽２０に充填される
液化ガスから氷粒子を予め捕捉、除去しているので、液
化ガス貯蔵設備４０から送液される液化ガスの水分含有
率は、従来の液化ガス貯蔵設備１０に比べて、大幅に低
下する。
Claims (9)
- 【請求項１】 液化ガスを貯蔵する液化ガス貯槽と、液
化ガス貯槽内に先端の開口部を突出させ、外部から搬入
されて来た液化ガスを液化ガス貯槽に充填する充填管
と、基端の開口部を液化ガス貯槽内の液化ガス層に浸漬
させるように液化ガス貯槽内に延在して、液化ガス貯槽
から液化ガスを外部に送液する送液管とを備える液化ガ
ス貯蔵設備において、 氷粒子を捕捉するフィルタが、充填管と液化ガス貯槽と
の接続位置より上流位置の充填管、充填管の先端の開口
部、及び送液管の基端の開口部の少なくとも一か所に設
けてあることを特徴とする液化ガス貯蔵設備。 - 【請求項２】 液化ガス貯槽が、液化ガスを貯蔵する密
閉型内槽と、内槽を外側から離隔して取り囲み、内槽と
の間に真空領域を区画する密閉型外槽とから構成され、 充填管は、外槽の槽壁、真空領域及び内槽の槽壁を貫通
して内槽の底部近傍まで伸び、 送液管は、外槽の槽壁及び真空領域を貫通し、更に上部
から内槽の槽壁を貫通して内槽の底部近傍まで下降して
いることを特徴とする請求項１に記載の液化ガス貯蔵設
備。 - 【請求項３】 液化ガスを送液するために、内槽内を加
圧する加圧用蒸発器が液化ガス貯槽の外に設けてあるこ
とを特徴とする請求項１又は２に記載の液化ガス貯蔵設
備。 - 【請求項４】 液化ガスを貯蔵する液化ガス貯槽と、液
化ガス貯槽内に先端の開口部を突出させ、外部から搬入
されて来た液化ガスを液化ガス貯槽に充填する充填管
と、基端の開口部を液化ガス貯槽内の液化ガス層に浸漬
させるように液化ガス貯槽内に延在して、液化ガス貯槽
から液化ガスを外部に送液する送液管とを備える液化ガ
ス貯蔵設備において、 液化ガス貯槽が、液化ガスを貯蔵する上部開放型内槽
と、内槽を外側から離隔して取り囲み、内槽との間に液
化ガスの液溜めを形成する密閉型中間槽と、中間槽を外
側から離隔して取り囲み中間槽との間に真空領域を区画
する密閉型外槽とから構成され、 充填管は、外槽の槽壁、真空領域、中間槽の槽壁、液溜
め及び内槽の槽壁を貫通して内槽の底部近傍まで伸び、 送液管は、外槽の槽壁及び真空領域を貫通し、更に上部
から中間槽の槽壁を貫通して内槽の底部近傍まで下降
し、 液化ガスを送液するために、内槽内を加圧する加圧用蒸
発器が液化ガス貯槽の外に設けてあり、 液化ガスを内槽から液溜めにオーバーフローさせるよう
にしたことを特徴とする液化ガス貯蔵設備。 - 【請求項５】 氷粒子を捕捉するフィルタが、充填管と
液化ガス貯槽との接続位置より上流位置の充填管、充填
管の先端の開口部、送液管の基端の開口部、及び送液管
と液化ガス貯槽との接続位置より下流位置の送液管の少
なくとも一か所に設けてあることを特徴とする請求項４
に記載の液化ガス貯蔵設備。 - 【請求項６】 氷粒子を捕捉するフィルタが、焼結金属
製のフィルタエレメントを有することを特徴とする請求
項１から３及び請求項５のうちのいずれか１項に記載の
液化ガス貯蔵設備。 - 【請求項７】 フィルタエレメントがステンレス鋼の焼
結金属で形成されていることを特徴とする請求項６に記
載の液化ガス貯蔵設備。 - 【請求項８】 氷粒子を捕捉するフィルタが、メンブレ
ンからなるフィルタエレメントを有することを特徴とす
る請求項１から３及び請求項５のうちのいずれか１項に
記載の液化ガス貯蔵設備。 - 【請求項９】 フィルタエレメントがフッ素樹脂製メン
ブレンで形成されていることを特徴とする請求項８に記
載の液化ガス貯蔵設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10190156A JP2000018499A (ja) | 1998-07-06 | 1998-07-06 | 液化ガス貯蔵設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10190156A JP2000018499A (ja) | 1998-07-06 | 1998-07-06 | 液化ガス貯蔵設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000018499A true JP2000018499A (ja) | 2000-01-18 |
Family
ID=16253363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10190156A Pending JP2000018499A (ja) | 1998-07-06 | 1998-07-06 | 液化ガス貯蔵設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000018499A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100395596B1 (ko) * | 2000-07-06 | 2003-08-25 | 대성산소 주식회사 | 액체 질소를 냉매로 하는 액체 산소 냉각을 위한 초저온3중 탱크 |
| KR100708523B1 (ko) | 2006-08-08 | 2007-04-16 | 한국가스공사 | Ｌｎｇ 자중을 이용한 무동력 ｌｎｇ 충전 시스템 및충전방법 |
| US7811709B2 (en) | 2002-11-29 | 2010-10-12 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Negative electrode for nonaqueous secondary battery, process of producing the negative electrode, and nonaqueous secondary battery |
| CN102182919A (zh) * | 2011-03-26 | 2011-09-14 | 宁波鲍斯能源装备股份有限公司 | 液化天然气蒸发气体回收再液化的装置与方法 |
| CN109296567A (zh) * | 2018-10-05 | 2019-02-01 | 李晨天 | 受控蒸发式变温变压泵 |
| KR20220155073A (ko) * | 2021-05-14 | 2022-11-22 | 한국조선해양 주식회사 | 증발가스 재액화 시스템 및 선박 |
-
1998
- 1998-07-06 JP JP10190156A patent/JP2000018499A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100395596B1 (ko) * | 2000-07-06 | 2003-08-25 | 대성산소 주식회사 | 액체 질소를 냉매로 하는 액체 산소 냉각을 위한 초저온3중 탱크 |
| US7811709B2 (en) | 2002-11-29 | 2010-10-12 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Negative electrode for nonaqueous secondary battery, process of producing the negative electrode, and nonaqueous secondary battery |
| KR100708523B1 (ko) | 2006-08-08 | 2007-04-16 | 한국가스공사 | Ｌｎｇ 자중을 이용한 무동력 ｌｎｇ 충전 시스템 및충전방법 |
| CN102182919A (zh) * | 2011-03-26 | 2011-09-14 | 宁波鲍斯能源装备股份有限公司 | 液化天然气蒸发气体回收再液化的装置与方法 |
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| KR20220155073A (ko) * | 2021-05-14 | 2022-11-22 | 한국조선해양 주식회사 | 증발가스 재액화 시스템 및 선박 |
| KR102474931B1 (ko) * | 2021-05-14 | 2022-12-06 | 한국조선해양 주식회사 | 증발가스 재액화 시스템 및 선박 |
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