JP2000000771A - Polishing sheet and manufacture thereof - Google Patents

Polishing sheet and manufacture thereof

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JP2000000771A JP16684898A JP16684898A JP2000000771A JP 2000000771 A JP2000000771 A JP 2000000771A JP 16684898 A JP16684898 A JP 16684898A JP 16684898 A JP16684898 A JP 16684898A JP 2000000771 A JP2000000771 A JP 2000000771A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polishing sheet for wet polishing to perform precise polishing without unnecessarily flawing the surface of a work even when there is unevenness in the grain size of using polishing particle particles, and prevent freeing of polishing particles from a polishing layer during polishing. SOLUTION: A polishing sheet comprises a substrate sheet 11 having a number of recessed parts 12 formed in a surface; and a polishing layer 15 formed that slurry prepared by mixing together polishing particles 14 and 14' and a binder adhesive is evenly applied on the surface of the substrate sheet 11 and dried. A binder adhesive 13 in a dry state during wet polishing is brought into contact with cooling liquid and softened to indicate flexibility and forms a flexible binder. The polishing particles 14 and 14' are held by the flexible binder.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する分野】本発明は、金属、ガラス、鉱物、
セラミックス、プラスチック、木材、等の研磨、特に、
光ファイバーの端面、レンズや磁気ディスク、精密機械
部品の表面、等の精密な湿式研磨に用いる研磨シートに
関する。
The present invention relates to metals, glass, minerals,
Polishing of ceramics, plastics, wood, etc., especially
The present invention relates to a polishing sheet used for precise wet polishing of an end face of an optical fiber, a lens, a magnetic disk, a surface of a precision machine component, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明の解決しようとする課題】一般
に、表面に研磨粒子を配設した研磨シートを用いた湿式
研磨は、研磨シートを被研磨物の表面に押し付け、冷却
液を供給しつつ研磨シートと被研磨物とを相対的に移動
させることによって行われる。
2. Description of the Related Art Generally, in wet polishing using a polishing sheet having abrasive particles disposed on the surface thereof, polishing is performed by pressing the polishing sheet against the surface of the object to be polished and supplying a cooling liquid. This is performed by relatively moving the sheet and the object to be polished.

【0003】このような湿式研磨に用いる従来の研磨シ
ートには、酸化アルミニウム等の研磨粒子とポリエステ
ル系樹脂等のバインダー接着剤とを混合したスラリーを
プラスチックシート、不織布、等の可撓性の基板シート
の表面に均一に塗布し乾燥させて基板シートの表面に研
磨層を形成したものがある(例えば、特開昭53-68490号
を参照)。また、研磨粒子をバインダー接着剤にて可撓
性の基板シートの表面に固着させて基板シートの表面に
研磨層を形成したものもある(例えば、特開昭62-28177
号を参照)。
A conventional polishing sheet used for such wet polishing includes a slurry in which abrasive particles such as aluminum oxide and a binder adhesive such as a polyester resin are mixed with a flexible substrate such as a plastic sheet or a nonwoven fabric. There is a substrate in which a polishing layer is formed on the surface of a substrate sheet by uniformly coating and drying the surface of the sheet (see, for example, JP-A-53-68490). Further, there is also a type in which abrasive particles are fixed to the surface of a flexible substrate sheet with a binder adhesive to form a polishing layer on the surface of the substrate sheet (see, for example, JP-A-62-28177).
No.).

【0004】これら従来の研磨シートでは、研磨層中の
研磨粒子は、乾燥状態にあるバインダー接着剤によって
強固に固定されている。
[0004] In these conventional polishing sheets, the abrasive particles in the polishing layer are firmly fixed by a binder adhesive in a dry state.

【0005】すなわち、研磨粒子の粒径にバラツキがあ
ると、比較的粒径の大きい研磨粒子が、異常に突出して
研磨層に強固に固定され、湿式研磨の際に、被研磨物の
表面に不要の傷を付けてしまう。
[0005] That is, if there is a variation in the particle size of the abrasive particles, the abrasive particles having a relatively large particle size protrude abnormally and are firmly fixed to the polishing layer. Unnecessary scratches will be made.

【0006】このため、研磨粒子の精密な分級が行われ
ているが、現状においては、研磨粒子の精密な分級を行
っても、例えば、粒径0.5〜5.0μm程度の研磨粒子を分
級しても粒径1μmを中心に0.5μm〜2.0μm程度の粒径の
分布幅があり(例えば、特開平9-206627号を参照)、使
用する研磨粒子の粒径にバラツキが生じる。
For this reason, fine classification of abrasive particles is performed. However, at present, even if fine classification of abrasive particles is performed, for example, abrasive particles having a particle size of about 0.5 to 5.0 μm are classified. Also, there is a distribution width of the particle diameter of about 0.5 μm to 2.0 μm centering on the particle diameter of 1 μm (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-206627), and the particle diameter of the abrasive particles used varies.

【0007】このことから、上述の従来の研磨シートで
は、使用する研磨粒子の粒径にバラツキがあるので、異
常に突出した研磨粒子が研磨層に強固に固定され、研磨
の際に、被研磨物の表面に不要の傷を付けてしまうこと
は避けられない、という問題がある。
For this reason, in the above-mentioned conventional polishing sheet, since the particle size of the abrasive particles used varies, the abnormally protruding abrasive particles are firmly fixed to the polishing layer, and the polished particles are polished during polishing. There is a problem that it is inevitable that unnecessary scratches are made on the surface of an object.

【0008】その他の従来の研磨シートには、研磨粒子
と水溶性樹脂との混合物を可撓性の基板シートの表面に
均一に塗布し乾燥させて基板シートの表面に研磨層を形
成したものがある(例えば、特開平5-228845号を参
照)。
[0008] Other conventional polishing sheets include those in which a mixture of abrasive particles and a water-soluble resin is uniformly applied to the surface of a flexible substrate sheet and dried to form a polishing layer on the surface of the substrate sheet. (For example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-228845).

【0009】この研磨シートでは、研磨粒子は、水溶性
樹脂の乾燥物に仮保持されており、湿式研磨の際に、冷
却液により水溶性樹脂の乾燥物が溶解して研磨粒子が遊
離し、このように遊離した研磨粒子により被研磨物の表
面が研磨される。しかし、このように遊離した研磨粒子
による研磨では、被研磨物の縁部付近の研磨の際に、遊
離した研磨粒子が縁部を研磨し、縁部に不要の丸み、つ
まり縁弛れを形成してしまい、精密な研磨が行えない、
という問題がある。
In this polishing sheet, the abrasive particles are temporarily held in a dried product of the water-soluble resin, and in wet polishing, the dried product of the water-soluble resin is dissolved by the cooling liquid to release the abrasive particles. The surface of the object to be polished is polished by the abrasive particles thus liberated. However, in the polishing using such loose abrasive particles, the loose abrasive particles polish the edge when polishing near the edge of the object to be polished, and unnecessary roundness, that is, loose edge is formed on the edge. And cannot perform precise polishing.
There is a problem.

【0010】したがって、本発明の課題は、使用する研
磨粒子の粒径にバラツキがあっても、被研磨物の表面に
不要の傷を付けることなく精密な研磨が行え、研磨中に
研磨層から研磨粒子が遊離しない、湿式研磨のための研
磨シートを提供することである。
[0010] Therefore, an object of the present invention is to perform precise polishing without causing unnecessary scratches on the surface of the object to be polished, even if the particle size of the abrasive particles used varies, and the polishing layer is removed during polishing. An object of the present invention is to provide an abrasive sheet for wet polishing, in which abrasive particles are not released.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の研磨シートは、
表面に多数の凹部を有する基板シートと、この基板シー
トの表面に研磨粒子とバインダー接着剤とを混合したス
ラリーを均一に塗布し乾燥させて形成した研磨層とから
構成される。
The polishing sheet of the present invention comprises:
It comprises a substrate sheet having a large number of concave portions on its surface, and a polishing layer formed by uniformly applying a slurry of a mixture of abrasive particles and a binder adhesive on the surface of the substrate sheet and drying it.

【0012】上記の課題を解決するため、本発明の研磨
シートは、湿式研磨中、乾燥状態にあるバインダー接着
剤が、冷却液に接触して軟化し柔軟性を示し、柔軟なバ
インダーとなり、研磨粒子は、この柔軟なバインダーに
よって保持される。
In order to solve the above-mentioned problems, the polishing sheet of the present invention is characterized in that during wet polishing, a binder adhesive in a dry state softens upon contact with a cooling liquid and exhibits flexibility, and becomes a flexible binder. Particles are held by this flexible binder.

【0013】ここで、柔軟なバインダーは、湿式研磨中
に、研磨粒子を強固に固定するものでも、研磨粒子を遊
離させてしまうものでもなく、以下で説明するように、
湿式研磨中、研磨粒子を研磨層中に保持するものであ
る。
Here, the soft binder does not firmly fix the abrasive particles during wet polishing or does not release the abrasive particles, and as described below,
During wet polishing, the abrasive particles are retained in the polishing layer.

【0014】すなわち、湿式研磨中、研磨層の表面にあ
る研磨粒子が被研磨物の表面に押し付けられ、被研磨物
と相対的に移動する。このとき、研磨層の表面にある研
磨粒子、特に研磨層の表面から異常に突出した研磨粒子
が、上述のように冷却液により軟化した柔軟なバインダ
ーの中に押し倒され、押し込まれて、周囲にある研磨粒
子の突出量と同程度となり、また、被研磨物に引きずら
れて研磨層から遊離することがない。
That is, during wet polishing, the abrasive particles on the surface of the polishing layer are pressed against the surface of the object to be polished and move relatively to the object to be polished. At this time, the abrasive particles on the surface of the polishing layer, particularly the abrasive particles that abnormally protrude from the surface of the polishing layer, are pushed down into the soft binder softened by the cooling liquid as described above, and are pushed into the surroundings. It is almost the same as the projection amount of certain abrasive particles, and is not separated from the polishing layer by being dragged by the object to be polished.

【0015】また、研磨層の表面から異常に突出した研
磨粒子の粒径が顕著に大きい場合、例えば、研磨粒子の
粒径が研磨層の厚さと同程度である場合であっても、基
板シートの表面には多数の凹部があるため、このような
研磨粒子は、その下方部分が基板シートの表面の凹部に
引っかかり、被研磨物との相対的な移動により基板シー
トの凹部に関して回転し、柔軟なバインダーの中に押し
倒され、押し込まれて、周囲にある研磨粒子の突出量と
同程度となり、また、被研磨物に引きずられて研磨層か
ら遊離することがない。
Further, even when the particle size of the abrasive particles which abnormally protrude from the surface of the polishing layer is remarkably large, for example, when the particle size of the abrasive particles is substantially the same as the thickness of the polishing layer, the substrate sheet is Since there are many recesses on the surface of the substrate sheet, the lower portion of such abrasive particles is caught by the recesses on the surface of the substrate sheet, and rotates relative to the recesses on the substrate sheet due to relative movement with the object to be polished. It is pushed down into a suitable binder and pushed in, and the amount becomes equal to the amount of projection of surrounding abrasive particles, and is not dragged by the object to be polished and released from the polishing layer.

【0016】上述のように、柔軟なバインダーは、湿式
研磨中、研磨層の表面にある研磨粒子(特に、研磨層の
表面から異常に突出した研磨粒子)を遊離することなく
柔軟なバインダーの中に押し倒し、押し込んで、周囲に
ある研磨粒子の突出量と同程度となるように保持するも
のであり、研磨粒子がこのように柔軟なバインダーに保
持されるので、湿式研磨中、被研磨物の表面が研磨層の
表面にある研磨粒子によって均一に押し付けられる。
[0016] As described above, the soft binder forms the soft binder without releasing abrasive particles on the surface of the polishing layer (particularly, abrasive particles that abnormally protrude from the surface of the polishing layer) during wet polishing. The abrasive particles are held down to the same extent as the protruding amount of the surrounding abrasive particles, and the abrasive particles are held in such a flexible binder. The surface is pressed uniformly by the abrasive particles on the surface of the polishing layer.

【0017】バインダー接着剤には、カルボキシメチル
セルロースナトリウム塩、親水性アクリル樹脂、親水性
ポリエステル樹脂、又はこれら混合物が使用される。
As the binder adhesive, carboxymethylcellulose sodium salt, hydrophilic acrylic resin, hydrophilic polyester resin, or a mixture thereof is used.

【0018】基板シートには、表面に多数の凹部を形成
したプラスチックシート、表面に気泡空隙からなる多数
の凹部を形成した発泡ポリウレタンのシート、又は表面
に多数の凹部を有する不織布のシートが使用される。
As the substrate sheet, a plastic sheet having a large number of concave portions formed on the surface thereof, a foamed polyurethane sheet having a large number of concave portions formed of cell voids on the surface, or a nonwoven sheet having a large number of concave portions formed on the surface is used. You.

【0019】上記の本発明の研磨シートは、上記の基板
シートの表面に、上記のバインダー接着剤と研磨粒子と
を混合したスラリーを均一に塗布し乾燥させて、基板シ
ートの表面に研磨層を形成することによって製造され
る。
The above-mentioned polishing sheet of the present invention is obtained by uniformly applying a slurry obtained by mixing the above-mentioned binder adhesive and abrasive particles on the surface of the above-mentioned substrate sheet and drying it, thereby forming a polishing layer on the surface of the substrate sheet. Manufactured by forming.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】図1に示すように、本発明の研磨
シート10は、表面に多数の凹部12を有する基板シート11
と、この基板シート11の表面に、研磨粒子14とバインダ
ー接着剤とを混合したスラリーを均一に塗布し乾燥させ
て形成した研磨層15とから構成される(図中、比較的粒
径の大きい研磨粒子を符号14′で示し、乾燥状態にある
バインダー接着剤を符号13で示す)。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As shown in FIG. 1, a polishing sheet 10 of the present invention comprises a substrate sheet 11 having a large number of recesses 12 on its surface.
And a polishing layer 15 formed by uniformly applying and drying a slurry in which abrasive particles 14 and a binder adhesive are mixed on the surface of the substrate sheet 11 (in the figure, a relatively large particle size). The abrasive particles are denoted by reference numeral 14 'and the binder adhesive in the dry state is denoted by reference numeral 13).

【0021】図1に示す研磨シート10は、研磨粒子14と
バインダー接着剤と水(及び、若干のアルコールやケト
ン類を加えてもよい)とを混合撹拌してスラリーとし、
このスラリーを基板シート11の表面に均一に塗布し、乾
燥させることによって製造される。ここで、スラリー
は、キスロール塗工法、グラビア塗工法といった既知の
塗工法にて基板シート11の表面に塗布することができ
る。
The polishing sheet 10 shown in FIG. 1 is prepared by mixing and stirring abrasive particles 14, a binder adhesive, and water (and optionally adding a small amount of alcohol or ketones) to form a slurry.
The slurry is manufactured by uniformly applying the slurry on the surface of the substrate sheet 11 and drying. Here, the slurry can be applied to the surface of the substrate sheet 11 by a known coating method such as a kiss roll coating method or a gravure coating method.

【0022】バインダー接着剤には、カルボキシメチル
セルロースナトリウム塩、親水性アクリル樹脂、親水性
ポリエステル樹脂、又はこれら混合物が使用される。こ
れら材料には、乾燥状態にあるバインダー接着剤13に冷
却液が接触すると、軟化して柔軟性を示し、柔軟なバイ
ンダーとなる性質がある。
As the binder adhesive, sodium carboxymethylcellulose, a hydrophilic acrylic resin, a hydrophilic polyester resin, or a mixture thereof is used. These materials have a property of softening and exhibiting flexibility when a cooling liquid comes into contact with the binder adhesive 13 in a dry state, thereby forming a flexible binder.

【0023】基板シート11には、表面に多数の凹部を形
成したポリエステル、ポリエチレンナフタレート、等の
プラスチックシートが使用され得る。このような凹部
は、圧縮空気等により硬質の結晶粒子をプラスチックシ
ートの表面に衝突させる(サンドブラスト)によって形
成することができる。また、基板シート11として、内部
に多数の気泡空隙を有するシート状の発泡ウレタンの表
面を薄く削いで、表面に気泡空隙からなる多数の凹部を
形成した発泡ポリウレタンのシート、又は表面に多数の
凹部を有する不織布のシートを使用してもよい。このよ
うな基板シート11の厚さは、数μm〜100μm程度が好適
であるが、研磨シートの用途の応じて適宜に選定でき
る。
As the substrate sheet 11, a plastic sheet made of polyester, polyethylene naphthalate, or the like having a large number of concave portions formed on the surface can be used. Such a concave portion can be formed by causing hard crystal particles to collide with the surface of the plastic sheet with compressed air or the like (sandblasting). Further, as the substrate sheet 11, a sheet of foamed polyurethane in which a surface of a sheet-shaped urethane foam having a large number of cell voids inside is thinly shaved to form a large number of concave portions formed of cell voids on the surface, or a large number of concave portions on the surface. May be used. The thickness of such a substrate sheet 11 is preferably about several μm to 100 μm, but can be appropriately selected according to the use of the polishing sheet.

【0024】研磨粒子13には、平均粒径0.004μm〜20μ
mの、ダイヤモンド、酸化アルミニウム、酸化鉄、二酸
化珪素、シリコンカーバイド、酸化クロム、酸化セリウ
ム、等の既知の研磨粒子が使用できる。研磨粒子13の材
質及び粒径は、研磨シートの用途の応じて適宜に選定で
きる。
The abrasive particles 13 have an average particle size of 0.004 μm to 20 μm.
Known abrasive particles such as diamond, aluminum oxide, iron oxide, silicon dioxide, silicon carbide, chromium oxide, cerium oxide, etc. can be used. The material and particle size of the abrasive particles 13 can be appropriately selected according to the use of the abrasive sheet.

【0025】図1に示す本発明の研磨シート10を用いた
湿式研磨は、例えば、図2又は3に示す湿式研磨用装置
30、30′を使用して行うことができる。
In the wet polishing using the polishing sheet 10 of the present invention shown in FIG. 1, for example, the wet polishing apparatus shown in FIG.
It can be done using 30, 30 '.

【0026】図2に示す湿式研磨用装置30を使用した湿
式研磨は、研磨シート10をテープ状に裁断して研磨テー
プ10′を製作し、この研磨テープ10′をローラー32を介
してディスク状の被研磨物20の表面に押し付けた状態
で、研磨テープ10′を矢印Tの方向に走行させ、被研磨
物20を矢印Rの方向に回転させつつ、ノズル31から冷却
液を供給して行う。
In the wet polishing using the wet polishing apparatus 30 shown in FIG. 2, the polishing sheet 10 is cut into a tape to produce a polishing tape 10 ', and this polishing tape 10' is disc-shaped via a roller 32. The polishing liquid is supplied from the nozzle 31 while the polishing tape 10 ′ is running in the direction of the arrow T in a state where the polishing tape 10 ′ is pressed against the surface of the polishing target 20, and the polishing target 20 is rotated in the direction of the arrow R. .

【0027】また、図3に示す湿式研磨用装置30′を使
用した湿式研磨は、研磨シート10をディスク状に裁断し
て研磨パッド10″を製作し、この研磨パッド10″を回転
盤33上に貼り付け、この回転盤33上の研磨パッド10″に
柱状の被研磨物20′の端面を押しつけた状態で、回転盤
33を矢印Sの方向に回転させつつ、ノズル31から冷却液
を供給して行う。
In the wet polishing using the wet polishing apparatus 30 'shown in FIG. 3, the polishing sheet 10 is cut into a disk to produce a polishing pad 10 ", and the polishing pad 10" is placed on the turntable 33. Then, the end face of the columnar object to be polished 20 ′ is pressed against the polishing pad 10 ″ on the turntable 33, and
The cooling liquid is supplied from the nozzle 31 while rotating the nozzle 33 in the direction of the arrow S.

【0028】図2又は3に示すような装置30、30′を使
用した湿式研磨中、冷却液に接触した図1に示す研磨シ
ート10の研磨層15中の乾燥状態にあるバインダー接着剤
13が軟化して柔軟性を示し、柔軟なバインダーとなる。
During wet polishing using the apparatus 30, 30 'as shown in FIG. 2 or 3, the dry binder adhesive in the polishing layer 15 of the polishing sheet 10 shown in FIG.
13 softens and shows flexibility, and becomes a flexible binder.

【0029】使用される研磨粒子14の粒径にはバラツキ
があることから、図1に示すように、研磨層15中に、異
常に突出した研磨粒子14′があり得る。
Since there is a variation in the particle size of the abrasive particles 14 used, as shown in FIG. 1, the abrasive particles 14 ′ may protrude abnormally in the polishing layer 15.

【0030】異常に突出した研磨粒子14′は、被研磨物
20の表面に押し付けられ、被研磨物20、20′と相対的に
移動すると、乾燥状態にあったバインダー接着剤13が冷
却水により柔軟なバインダーとなっていることから、研
磨粒子14′の下方部分が、基板シート11の凹部12に引っ
かかり、基板シート11の凹部12の付近で、柔軟なバイン
ダーの中に押し倒され、押し込まれて、周囲の研磨粒子
の突出量と同程度になり、また、被研磨物20、20′に引
きずられて研磨層15から遊離することない。これによ
り、被研磨物20、20′の表面は、研磨層15の表面にある
研磨粒子14、14′によって均一に押し付けられる。
The abnormally protruding abrasive particles 14 '
When pressed against the surface of 20 and moved relatively to the polished objects 20 and 20 ', the binder adhesive 13 which was in a dry state becomes a soft binder by cooling water, so that it is below the abrasive particles 14'. The portion is caught in the concave portion 12 of the substrate sheet 11, is pushed down into a flexible binder in the vicinity of the concave portion 12 of the substrate sheet 11, is pushed in, becomes approximately the same as the protrusion amount of the surrounding abrasive particles, It is not separated from the polishing layer 15 by being dragged by the objects to be polished 20, 20 '. As a result, the surfaces of the objects to be polished 20, 20 'are pressed uniformly by the abrasive particles 14, 14' on the surface of the polishing layer 15.

【0031】[0031]

【実施例】[実施例1] 本発明の研磨シートを製造
し、磁気ハードディスクの表面を研磨した。
EXAMPLES Example 1 A polishing sheet of the present invention was manufactured, and the surface of a magnetic hard disk was polished.

【0032】実施例1の本発明の研磨シートの製造に使
用したバインダー接着剤は、カルボキシメチルセルロー
スナトリウム塩と、親水性ポリエステル樹脂とを6:4の
重量比で混合したものである。このバインダー接着剤
と、研磨粒子と、水とを3:2:95の重量比で混合、撹拌
してスラリーを製造した。研磨粒子には平均粒径3μmの
酸化アルミニウムを使用した。次に、表面部分を削い
で、表面に多数の凹部を形成した厚さ16μmの発泡ウレ
タン製のシートの表面に、上記のスラリーをキスロール
塗工法にて均一に塗布し乾燥させて、本発明の研磨シー
トを製造した。
The binder adhesive used in the production of the polishing sheet of the present invention in Example 1 is a mixture of sodium carboxymethylcellulose and a hydrophilic polyester resin in a weight ratio of 6: 4. The binder adhesive, the abrasive particles, and water were mixed and stirred at a weight ratio of 3: 2: 95 to produce a slurry. Aluminum oxide having an average particle size of 3 μm was used as the abrasive particles. Next, by shaving the surface portion, on the surface of a 16 μm thick urethane foam sheet having a large number of recesses formed on the surface, the above slurry was uniformly applied by a kiss roll coating method and dried, and the present invention An abrasive sheet was manufactured.

【0033】このようにして製造した研磨シートをテー
プ状に裁断して研磨テープを製作し、図2に示す装置を
使用してNi-Pメッキを施したアルミニウム製の磁気ハー
ドディスクの表面の湿式研磨を行った。
The polishing sheet thus manufactured is cut into a tape to produce a polishing tape, and wet polishing of the surface of the Ni-P plated aluminum magnetic hard disk is performed using the apparatus shown in FIG. Was done.

【0034】この湿式研磨は、磁気ハードディスクの表
面に研磨テープを押し付けた状態で、研磨テープを走行
させつつ、磁気ハードディスクを回転させ、冷却液を供
給して行った。
The wet polishing was performed by rotating the magnetic hard disk and supplying the cooling liquid while running the polishing tape while the polishing tape was pressed against the surface of the magnetic hard disk.

【0035】その結果、不要な傷のない均一な磁気ハー
ドディスク表面が得られた。
As a result, a uniform magnetic hard disk surface without unnecessary scratches was obtained.

【0036】[実施例2] 本発明の研磨シートを製造
し、柱状ガラスの端面を研磨した。実施例2の本発明の
研磨シートでは、表面にサンドブラスト(圧縮空気で硬
質結晶粒子を吹き付けて基板シートの表面に多数の凹部
を形成する)にて多数の凹部を形成した厚さ100μmのポ
リエステル製の基板シートを使用した。バインダー接着
剤には、カルボキシメチルセルロースナトリウム塩が使
用され、バインダー接着剤と、研磨粒子と、水とを2:
2:96の重量比で混合、撹拌してスラリーを製造した。
研磨粒子には平均粒径0.005μmの二酸化珪素を使用し
た。次に、このスラリーを上記の基板シートの表面に均
一に塗布し乾燥させて本発明の研磨シートを製造した。
Example 2 A polishing sheet of the present invention was manufactured, and the end face of the columnar glass was polished. The abrasive sheet of the present invention of Example 2 was made of 100 μm thick polyester having a large number of concave portions formed by sandblasting on the surface (hard crystal particles were sprayed with compressed air to form a large number of concave portions on the surface of the substrate sheet). Substrate sheet was used. Carboxymethylcellulose sodium salt is used as the binder adhesive, and the binder adhesive, abrasive particles, and water are used in two parts:
A slurry was produced by mixing and stirring at a weight ratio of 2:96.
Silicon dioxide having an average particle size of 0.005 μm was used as the abrasive particles. Next, this slurry was uniformly applied to the surface of the above-mentioned substrate sheet and dried to produce a polishing sheet of the present invention.

【0037】このようにして製造した研磨シートをディ
スク状に裁断して研磨パッドを製作し、図3に示す装置
を使用して柱状ガラスの端面の湿式研磨を行った。
The polishing sheet thus manufactured was cut into a disk to produce a polishing pad, and the end face of the columnar glass was wet-polished using the apparatus shown in FIG.

【0038】この湿式研磨は、回転盤上に貼り付けた研
磨パッドに柱状ガラスの端面を押し付け、回転盤を回転
させつつ、冷却液を供給して行った。
The wet polishing was performed by pressing the end face of the columnar glass against a polishing pad stuck on a rotating disk and supplying a cooling liquid while rotating the rotating disk.

【0039】その結果、柱状ガラスの端面の縁部に縁弛
れを生じることなく不要な傷のない均一なガラス表面が
得られた。
As a result, a uniform glass surface without unnecessary flaws was obtained without causing edge loosening at the edge of the end face of the columnar glass.

【0040】[0040]

【発明の効果】本発明の研磨シートが、以上のように構
成されるので、研磨層中の研磨粒子の粒径にバラツキが
あっても、研磨層中の異常に突出した研磨粒子が柔軟な
バインダーの中に押し倒され、押し込まれることで、研
磨層の表面にある研磨粒子が、遊離することなく、周囲
にある研磨粒子の突出量と同程度となり、研磨層の表面
にある研磨粒子によって被研磨物の表面が均一に押し付
けられるので、被研磨物の表面に不要の傷を付けること
なく精密な研磨を行うことができる、という効果を奏す
る。
As described above, the abrasive sheet of the present invention is constructed as described above, so that even if the particle size of the abrasive particles in the polishing layer varies, the abnormally protruding abrasive particles in the polishing layer are soft. By being pushed down into the binder and pushed in, the abrasive particles on the surface of the polishing layer are not separated and are almost the same as the protrusion amount of the surrounding abrasive particles, and are covered by the abrasive particles on the surface of the polishing layer. Since the surface of the object to be polished is pressed uniformly, there is an effect that precise polishing can be performed without causing unnecessary scratches on the surface of the object to be polished.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明の研磨シートの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a polishing sheet of the present invention.

【図2】図2は、湿式研磨用の装置の略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of an apparatus for wet polishing.

【図3】図3は、他の湿式研磨用の装置の略図である。FIG. 3 is a schematic diagram of another apparatus for wet polishing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ・・・ 本発明の研磨シート 10′・・・ 研磨テープ 10″・・・ 研磨パッド 11 ・・・ 基板シート 12 ・・・ 凹部 13 ・・・ バインダー接着剤の乾燥物 14 ・・・ 研磨粒子 14′・・・ 比較的粒径の大きい研磨粒子 15 ・・・ 研磨層 20、20′・・・ 被研磨物 30、30′・・・ 湿式研磨用装置 31 ・・・ 冷却液供給用のノズル 32 ・・・ ローラー 33 ・・・ 回転盤 R ・・・ ディスク状被研磨物の回転方向 S ・・・ 回転盤の回転方向 T ・・・ テープ状の研磨シートの走行方向 10: polishing sheet of the present invention 10 ': polishing tape 10 ": polishing pad 11: substrate sheet 12: recess 13: dried binder adhesive 14: abrasive particles 14 ': abrasive particles having a relatively large particle size 15: polishing layer 20, 20': object to be polished 30, 30 ': apparatus for wet polishing 31: nozzle for cooling liquid supply 32 ・ ・ ・ Roller 33 ・ ・ ・ Rotating disk R ・ ・ ・ Rotation direction of disk-shaped polishing object S ・ ・ ・ Rotation direction of rotating disk T ・ ・ ・ Running direction of tape-shaped polishing sheet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斎藤 満 東京都昭島市武蔵野三丁目4番1号 日本 ミクロコーティング株式会社内 Fターム(参考) 3C063 AA03 AB07 BC03 BC09 BG01 BG03 CC16 EE01 EE02 FF30 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Mitsuru Saito 3-4-1 Musashino, Akishima-shi, Tokyo Japan Micro Coating Co., Ltd. F-term (reference) 3C063 AA03 AB07 BC03 BC09 BG01 BG03 CC16 EE01 EE02 FF30

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に多数の凹部を有する基板シート
と、研磨粒子とバインダー接着剤とを混合したスラリー
を前記基板シートの前記表面に均一に塗布し乾燥させて
形成した研磨層とから成り、 湿式研磨中、乾燥状態にある前記バインダー接着剤が、
冷却液に接触して軟化し柔軟性を示し、柔軟なバインダ
ーとなり、前記研磨粒子が、前記柔軟なバインダーによ
って保持される、研磨シート。
1. A substrate sheet having a large number of concave portions on its surface, and a polishing layer formed by uniformly applying a slurry obtained by mixing abrasive particles and a binder adhesive on the surface of the substrate sheet and drying the slurry, During wet polishing, the binder adhesive in a dry state,
A polishing sheet which softens when exposed to a cooling liquid, exhibits flexibility, becomes a flexible binder, and the abrasive particles are held by the flexible binder.
【請求項2】 前記バインダー接着剤が、カルボキシメ
チルセルロースナトリウム塩、親水性アクリル樹脂、親
水性ポリエステル樹脂、又はこれら混合物である、請求
項1に記載の研磨シート。
2. The polishing sheet according to claim 1, wherein the binder adhesive is carboxymethylcellulose sodium salt, a hydrophilic acrylic resin, a hydrophilic polyester resin, or a mixture thereof.
【請求項3】 前記基板シートが、表面に多数の凹部を
形成したプラスチックシート、表面に気泡空隙からなる
多数の凹部を形成した発泡ポリウレタンのシート、又は
表面に多数の凹部を有する不織布のシートである、請求
項1又は2に記載の研磨シート。
3. The substrate sheet may be a plastic sheet having a large number of recesses formed on the surface, a foamed polyurethane sheet having a large number of recesses formed of cell voids on the surface, or a non-woven fabric sheet having a large number of recesses on the surface. The polishing sheet according to claim 1, wherein the polishing sheet is provided.
【請求項4】 表面に多数の凹部を有する基板シートの
前記表面に、研磨粒子とバインダー接着剤とを混合した
スラリーを均一に塗布し乾燥させて研磨層を形成する工
程を含み、 湿式研磨中、乾燥状態にある前記バインダー接着剤が、
冷却液に接触して軟化し柔軟性を示し、柔軟なバインダ
ーとなり、前記研磨粒子が、前記柔軟なバインダーによ
って保持される、研磨シートの製造方法。
4. A step of forming a polishing layer by uniformly applying a slurry obtained by mixing abrasive particles and a binder adhesive on the surface of the substrate sheet having a large number of concave portions on the surface and drying the slurry, The binder adhesive in a dry state,
A method for producing a polishing sheet, wherein the polishing sheet softens when contacting a cooling liquid, exhibits flexibility, becomes a flexible binder, and the abrasive particles are held by the flexible binder.
【請求項5】 前記バインダー接着剤が、カルボキシメ
チルセルロースナトリウム塩、親水性アクリル樹脂、親
水性ポリエステル樹脂、又はこれら混合物である、請求
項4に記載の研磨シートの製造方法。
5. The method for producing a polishing sheet according to claim 4, wherein the binder adhesive is carboxymethyl cellulose sodium salt, a hydrophilic acrylic resin, a hydrophilic polyester resin, or a mixture thereof.
【請求項6】 前記基板シートが、表面に多数の凹部を
形成したプラスチックシート、表面に気泡空隙からなる
多数の凹部を形成した発泡ポリウレタンのシート、又は
表面に多数の凹部を有する不織布のシートである、請求
項4又は5に記載の研磨シートの製造方法。
6. The substrate sheet may be a plastic sheet having a large number of recesses formed on a surface thereof, a foamed polyurethane sheet having a large number of recesses formed of cell voids on a surface thereof, or a non-woven fabric sheet having a large number of recesses formed on a surface. The method for producing a polishing sheet according to claim 4.
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