IT202100002966A1 - Copertura per prodotti argentati destinati ad entrare in contatto con alimenti - Google Patents

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IT202100002966A1
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IT
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silicon oxide
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equal
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external surface
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IT102021000002966A
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Franco Fiorenzo Coppo
Francesco Rubbiani
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Sambonet Paderno Ind S P A
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Description

Titolo: ?Copertura per prodotti argentati destinati ad entrare in contatto con alimenti?.
DESCRIZIONE
Campo Tecnico
La presente invenzione si riferisce ad una copertura per prodotti realizzati in argento massiccio o in un?altra lega metallica e successivamente argentati con processo di galvanostegia, in accordo con il preambolo della rivendicazione 1.
Preferibilmente, ma non esclusivamente, i prodotti su cui ? depositata la copertura prevedono il contatto con alimenti, ad esempio, in accordo con Reg. 1935/2004 CE e Reg.
2003/2006 CE.
? oggetto della presente invenzione anche un prodotto destinato ad entrare in contato con alimenti dotato della copertura ed un metodo per il deposito della copertura sui suddetti prodotti.
Stato della Tecnica
? noto da tempo l?impiego dell?argento nella produzione di prodotti che prevedono il contatto con alimenti, come ad esempio stoviglie, posate e articoli per la tavola.
Tuttavia le propriet? chimico-fisiche dell?argento nonch? l?interazione tra i prodotti argentati e gli alimenti causano il rilascio di atomi di argento nell?alimento stesso. Conseguentemente, un consumatore medio, che utilizza tali prodotti, ? destinato ad assumere atomi di argento ingerendo l?alimento in cui sono stati rilasciati gli atomi di argento.
I rivestimenti noti per questa tipologia di prodotti sono destinati a ridurre i fenomeni di ossidazione e/o solforazione senza per? trattenere ed evitare la cessione degli atomi di argento.
Problemi della Tecnica Nota
L?impiego dell?argento come materiale per la produzione di prodotti o per la copertura degli stessi presenta diverse problematiche.
In primo luogo, una superfice argenta esposta all?aria ? soggetta a ossidazione e solforazione combinandosi con solfuri o H2S.
In secondo luogo, tali prodotti presentano un rilascio di atomi di argento negli alimenti con valori superiori a 0,10 mg/kg.
Le coperture note depositate sulla superfice argentata al fine di prevenire i fenomeni di ossidazione e solforazione, oltre a peggiorare l?aspetto estetico del prodotto e la sua resistenza all?usura, non sono in grado n? di ridurre la cessione dell?argento n? di mitigare efficacemente i fenomeni di ossidazione e solforazione.
? da notare che, in accordo con le stime di assunzione di atomi di argento quotidiana, pubblicate ad esempio in Anses (2011) (Ansees (2011): Second French Total Diet Study (TDS 2), Report 1: inorganic contaminants, minerals, persistent organic pollutants, mycotoxins, and phytpestrogens), ? stato definito un valore massimo di cessione di atomi di argento pari a 0,08 mg/kg.
Qualora venga superato tale limite, le coperture ed i prodotti argentati realizzati secondo i procedimenti noti aumentano l?esposizione a rischi per la salute dei consumatori. Scopo dell?Invenzione
Scopo dell?invenzione in oggetto ? quello di realizzare una copertura, un prodotto destinato ad entrare in contatto con alimenti ed un metodo per il deposito della copertura sul prodotto in grado di superare gli inconvenienti della tecnica nota sopra citati.
In particolare, ? scopo della presente invenzione quello di fornire una copertura per prodotti argentati in grado di ridurre il rateo di cessione degli atomi di argenteo dal prodotto e allo stesso tempo di proteggere e preservare il prodotto dall?uso a cui ? destinato.
Ulteriore scopo dell?invenzione ? fornire una copertura in grado di mantenere inalterato l?aspetto (colore e finitura) originale del prodotto su cui ? depositata.
Ulteriore scopo dell?invenzione ? quella di fornire una copertura in grado di mitigare gli effetti di ossidazione e solforazione sul prodotto.
Il compito tecnico precisato e gli scopi specificati sono sostanzialmente raggiunti da una copertura, un prodotto destinato ad entrare in contatto con alimenti ed un metodo per il deposito della copertura comprendenti le caratteristiche tecniche esposte in una o pi? delle unite rivendicazioni.
Vantaggi dell?invenzione
Vantaggiosamente, la copertura, il prodotto ed il metodo per il deposito permettono di ridurre la cessione di argento negli alimenti.
Vantaggiosamente, la copertura, il prodotto ed il metodo per il deposito permettono di ridurre i rischi di salute per un consumatore legati ad una overdose di argento.
Vantaggiosamente, la copertura, il prodotto ed il metodo per il deposito permettono di migliorare le caratteristiche estetiche del prodotto.
Vantaggiosamente, la copertura, il prodotto ed il metodo per il deposito permettono di migliorare le propriet? superficiali del prodotto quali trasparenza e nonch? di mitigare i fenomeni di ossidazione e solforazione.
BREVE DESCRIZIONE DELLE FIGURE
Ulteriori caratteristiche e vantaggi della presente invenzione appariranno maggiormente chiari dalla descrizione indicativa e pertanto non limitativa, di una forma di realizzazione preferita ma non esclusiva di una copertura come illustrato negli uniti disegni:
- la figura 1 mostra una vista schematica in sezione di una copertura depositata sulla superficie esterna di un prodotto secondo una forma realizzativa della presente invenzione;
- la figura 2 mostra una vista schematica in sezione di una copertura depositata sulla superficie esterna di un prodotto secondo una forma realizzativa della presente invenzione.
DESCRIZIONE DETTAGLIATA
Anche qualora non esplicitamente evidenziato, le singole caratteristiche descritte in riferimento alle specifiche realizzazioni dovranno intendersi come accessorie e/o intercambiabili con altre caratteristiche, descritte in riferimento ad altri esempi di realizzazione.
La presente invenzione ha per oggetto una copertura 1 depositabile su una superfice esterna 31 di un prodotto.
Per gli scopi della presente invenzione, la superficie esterna 31 del prodotto comprende atomi di argento.
In particolare, il prodotto pu? essere realizzato in argento massiccio o in una lega metallica in cui la superficie esterna ? in argento o argentata.
Preferibilmente, la superficie esterna 31 presenta una finitura lucida o opaca che la copertura 1 ha lo scopo di mantenere/preservare.
La copertura 1 ? realizzata mediante il deposito di almeno uno strato di ossido di silicio, preferibilmente a varia stechiometria, avente uno spessore compreso tra 180 e 1500 nm sulla superficie esterna 31 del prodotto.
Tale deposito ? realizzato con l?impiego di una macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R, definito come il rapporto tra portata di O2 e precursore liquido, compreso tra 3 e 16, preferibilmente pari a 3, 5, 12 o 16.
? da notare che il precursore comprende silicio e/o suoi composti che insieme all?ossigeno permettono la formazione di uno o pi? strati di ossido di silicio a varia stechiometria.
Per gli scopi della presente invenzione il parametro R ? il rapporto tra la portata di O2 e precursore liquido, ma pu? essere anche essere definito come il rapporto tra la portata di O2 e precursore solido in entrambi i casi i valori sono espressi in sccm (Standard Cubic Centimeter per Minute).
? da notare che il parametro R influisce insieme allo spessore della copertura sia sulla trasparenza della copertura 1 che con la sua adesione sulla superficie esterna 31 del prodotto.
Inoltre, la combinazione del parametro R e dello spessore garantisce le propriet? protettive della copertura 1, descritte dettagliatamente nel seguito.
Vantaggiosamente, l?intervallo di valori del paramento R combinato con lo spessore massimizzano l?adesione della copertura 1 alla superfice esterna 31 mantenendo una trasparenza ed un?estetica ottima del prodotto.
In particolare, la copertura 1 garantisce la visibilit? della finitura superficiale del prodotto mantenendola inalterata.
Preferibilmente, la macchina per il deposito di strati di ossido di silicio impiegata per il deposito della copertura 1 impiega la tecnologia PECVD (Plasma Enhanced Chemical Deposition) che utilizza una o pi? sorgenti a radiofrequenza. Quest?ultime sono configurate per formare composti di ossido di silicio SOx a diverse stechiometrie e per attivare gas di processo.
La copertura 1 cos? ottenuta e depositata con l?impiego della suddetta macchina consente di ottenere un prodotto che ha, vantaggiosamente, un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna 31 inferiore o uguale a 0,1 mg/kg, preferibilmente inferiore o uguale a 0,08 mg/kg.
In altre parole, la copertura 1 definisce un rivestimento sulla superficie esterna 31 che limita la cessione di atomi di argento dalla superficie esterna 31 del prodotto.
Preferibilmente, la copertura 1 ? depositata con la macchina per il deposito di strati di ossido operante a valori di pressione pari o superiori a 2 <? >10<-3 >mbar e valori di potenza di sorgente pari o superiori a 2 kW.
Pi? preferibilmente, i valori di pressione sono compresi tra 2 <? >10<-3 >e 8 <? >10<-3 >mbar ed i valori di potenza della sorgente sono compresi tra 2 e 8 kW.
Ancora pi? preferibilmente, la copertura 1 ? depositata con la macchina per il deposito di strati di ossido operante con flussi di precursore pari ad un intorno di 10 sccm.
Infatti, si ? notato che l?impiego di flussi elevati di precursore evitano una copertura tensionata e dunque pi? resistente alla frattura.
L?impiego delle suddette condizioni operative concorre insieme al parametro R a definire il rateo di deposito della copertura 1 sulla superficie esterna 31.
Nello specifico, si ? verificato che il rateo di deposito ? inversamente proporzionale al valore di pressione, cio? la riduzione della pressione comporta un aumento del reteo di deposito. Allo stesso tempo un aumento del flusso di precursore combinato con un aumento della potenza della sorgente provoca un incremento del rateo di deposito. Questo porta a desumere che non tutto il precursore aggiuntivo concorra ad incrementare proporzionalmente la velocit? di crescita della copertura, ma che esista viceversa un bilancio ottimale tra flusso di precursore e potenza della sorgente, al fine di ottimizzare la velocit? di crescita della copertura.
Per queste ragioni, i parametri a cui opera la macchina permettono di depositare una copertura 1 che migliori la capacit? protettiva nei confronti della superficie esterna 31 e permetta un rateo di rilascio di argento pari o inferiore a 0,1 mg/kg, preferibilmente inferiore o uguale a 0,08 mg/kg.
Per gli scopi della presente descrizione la misurazione del rateo di cessione dell?argento ? stata condotta mediante una prova di attacco chimico per compatibilit? alimentare (Prova 0). Nello specifico ? stato assegnato un valore da 1 a 5 in funzione del rateo di rilascio di argento in accordo con lo schema valutativo seguente.
Schema valutativo per la prova 0
1 Forti aloni iridescenti
2 Aloni iridescenti percettibili
3 Aloni iridescenti percettibili sotto particolari illuminazioni
4 Assenza di aloni su posateria, aloni iridescenti presenti su vasellame
5 Assenza di aloni su qualunque articolo
In particolare, la prova consiste nell?immersione del prodotto su cui ? stata deposita la copertura 1 in soluzioni di attacco acido, riscaldate aduna temperatura di circa 80?C e nella successiva analisi degli elementi dispersi in soluzione.
Ciascun prodotto subisce tre cicli di attacco chimico.
Preferibilmente, la prova per verificare il rateo di rilascio di argento rispetta la procedura normata in accordo con la Risoluzione del Consiglio Europeo (CoE) CM/Res (2013) ?Metalli e leghe utilizzati nei materiali e negli oggetti a contatto con gli alimenti?.
Inoltre, la copertura 1 depositata sulla superficie esterna 31 del prodotto ? stata sottoposta a diverse prove sperimentali e normate al fine di verificare le sue propriet? di protettive.
In particolare, sono state condotte le seguenti prove seguendo standard interni propri della Richiedente:
i) Valutazione estetica (Prova 1);
ii) Ossidazione simulata (Prova 2);
iii) Resistenza all?usura (Prova 3)
iv) Resistenza a lavaggi in lavastoviglie con prodotti di pulizia generici (Prova 4); v) Resistenza a lavaggi in lavastoviglie con prodotti specifici per argento (Prova 5).
Ciascuna prova ha permesso di valutare la copertura depositata assegnando un valore da 1 a 5 in accordo ai seguenti schemi valutativi:
Schema valutativo per la prova 1
1 Forti aloni iridescenti
2 Aloni iridescenti percettibili
3 Aloni iridescenti percettibili sotto particolari illuminazioni
4 Assenza di aloni su posateria, aloni iridescenti presenti su vasellame
5 Assenza di aloni su qualunque articolo
Schema valutativo per la prova 2
1 Ossidazione della superficie (mancanza di protezione)
2 -3 Segni di ossidazione puntiformi in corrispondenza di difetti del rivestimento 4 -5 Assenza di segni di ossidazione
Schema valutativo per la prova 3
1 Danneggiamento analogo a superficie argentata non rivestita
2 Assenza di segni di usura dopo 15 minuti di prova
3 Assenza di segni di usura dopo 1h di prova
4 Assenza di segni di usura dopo 5h di prova
5 Assenza di segni di usura dopo 10h di prova
Schema valutativo per la prova 4
1 Presenza di ampi distacchi del rivestimento
2 Presenza di distacchi localizzati, passanti (perdita propriet? barriera)
3 Presenza di aloni e/o distacchi localizzati, non passanti (mantenimento propriet? barriera)
4 Presenza di aloni minimi rimuovibili
5 Articolo non intaccato da prova
Schema valutativo per la prova 5
1 Presenza di ampi distacchi del rivestimento
2 Presenza di distacchi localizzati, passanti (perdita propriet? barriera)
3 Presenza di aloni e/o distacchi localizzati, non passanti (mantenimento propriet? barriera)
4 Presenza di aloni minimi rimuovibili
5 Articolo non intaccato da prova
Alla luce delle prove condotte ? stato possibile constatare che la copertura 1 presenta una valutazione estetica positiva sia per difetti superficiali che per trasparenza ottenuta.
Inoltre, le prove condotte hanno permesso di verificare la capacit? della copertura 1 a resistere all?ossidazione.
Per quanto riguarda le prove di lavaggio, la copertura ha permesso di ottenere condizioni migliori rispetto al riferimento argentato soprattutto utilizzando prodotti specifici per l?argento.
La prova di resistenza all?usura ha permesso di verificare la capacit? di rivestimento della copertura 1 anche a fenomeni di ?picchiettatura? soprattutto ad alti spessori.
? da notare che il range di spessori e del parametro R permettono anche un efficace adesione della copertura 1 alla superficie esterna garantendo il mantenimento di tutte le suddette propriet?.
Vantaggiosamente, la copertura 1 presenta un?ottima resistenza all?ossidazione Vantaggiosamente, la copertura 1 presenta un?ottima trasparenza.
In altre parole, la copertura 1 esibisce propriet? di barriera mantenendo inalterato l?aspetto dell?utensile e prevenendo la cessione di Ag oltre il valore di 0, 1 mg/kg preferibilmente di 0,08mg/kg.
Giova rilevare che per la copertura avente un singolo strato di ossido di silicio i valori preferiti di R presentano un andamento inversamente proporzionale allo spessore. Nello specifico, i valori di R per spessori inferiori a 500 nm, preferibilmente tra 100 e 200nm, sono scelti da valori compresi tra 10 e 20 preferibilmente tra 11 e 18 ancora pi? preferibilmente tra 10 e 17 e nella condizione massimamente preferita i valori di R sono 12 o 16.
Per quanto riguarda invece i valori di R per spessori pari o superiori a 500 nm sono scelti da valori compresi tra 0 e 9, preferibilmente tra 1 e 7, pi? preferibilmente tra 2 e 6 e nella condizione massimamente preferita i valori di R sono 3 o 5.
In accordo con una forma di realizzativa preferita, la copertura 1 comprende uno strato di ossido di silicio 10 avente uno spessore pari a 1500 nm depositato con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R pari a 3. La copertura cos? ottenuta presenta un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,021 mg/kg e 0,056 mg/kg. Tale risultato ? riportato nella tabella 1.
Tabella 1
In accordo con una forma realizzativa alternativa alla precedente (figura 1), la copertura 1 comprende uno strato di ossido di silicio 10 avente uno spessore pari a 500 nm depositato con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R pari a 3.
La copertura 1 cos? ottenuta presenta un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,005 mg/kg e 0,061 mg/kg. Tali risultati sono riportati nella tabella 2.
Tabella 2
Vantaggiosamente, il parametro R pari 3 ed uno spessore scelto tra 1500 e 500 permette di ottenere un compromesso tra trasparenza e adesione dello strato alla superficie esterna 31.
In accordo con una forma di realizzativa preferita, la copertura 1 comprende uno strato di ossido di silicio 10 avente uno spessore pari a 180 nm depositato con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R pari a 16. La copertura cos? ottenuta presenta un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,0240 mg/kg e 0,0630 mg/kg. Tale risultato ? riportato nella tabella 3.
Tabella 3
In accordo con una forma di realizzativa preferita, la copertura 1 comprende uno strato di ossido di silicio 10 avente uno spessore pari a 210 nm depositato con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R pari a 12. La copertura cos? ottenuta presenta un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,009 mg/kg e 0,0270 mg/kg. Tale risultato ? riportato nella tabella 4.
Tabella 4
In accordo con una forma di realizzativa alternativa alle precedenti (figura 2), la copertura 1 comprende una struttura multistrato 20 depositata sulla superficie esterna 31 mediante l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio.
In particolare, ciascuno strato di ossido di silicio 21 della struttura multistrato 21 ? depositato sequenzialmente uno sopra l?altro. In altre parole, ciascuno strato di ossido di silicio 21 ? sovrapposto al precedente ed il primo strato di ossido di silicio 21 depositato risulta a contatto diretto con la superficie esterna 31.
Preferibilmente, la struttura multistrato 20 comprende un numero di strati di ossido di silicio 21 compreso tra 4 e 28 e presenta uno spessore di struttura multistrato compreso tra 640 e 1000 nm.
In particolare, gli strati di ossido di silicio 21 sono in rapporto di spessore 1:1 preferibilmente in maniera indipendente dal numero di strati e dallo spessore di struttura multistrato 20.
Inoltre, la macchina per il deposito di strati di ossido di silicio ? configurata per variare alternando il parametro R ad ogni strato.
Nel dettaglio, la struttura multistrato 20 ? depositata con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante alternando il parametro R per ogni strato di ossido di silicio 21 depositato.
Preferibilmente, la struttura multistrato comprende un numero di strati di ossido di silicio 21 scelti tra diciotto e venti e presenta uno spessore di struttura multistrato scelto rispettivamente tra 640 e 920 nm.
Giova rilevare che la struttura multistrato 20 presenta una scelta di R e degli spessori degli strati di ossido di silicio data dalla combinazione dei valori di R e di spessori per la copertura monostrato. Nello specifico, la struttura multistrato 21 ? depositata selezionando in maniera alternata il parametro R pari a 3 e pari a 12.
In altre parole, in maniera alternata uno strato di ossido di silicio 21 ? stato depositato con R pari a 3 ed il successivo con R pari a 12.
La copertura 1 comprendente la struttura multistrato 20 cos? ottenuta presenta un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,000 mg/kg e 0,073 mg/kg. Tali risultati sono riportati nella tabella 5.
Tabella 5
Pi? preferibilmente, la struttura multistrato comprende un numero di strati di ossido di silicio 21 pari a 4 e presenta uno spessore di struttura multistrato pari a 980 nm.
Anche in questo caso, la struttura multistrato 21 ? stata depositata utilizzando alternativamente il paramento R pari a 3 ed R pari a 12.
La copertura 1 cos? ottenuta presenta un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,000 mg/kg e 0.021 mg/kg. Tali risultati sono riportati nella tabella 6.
Tabella 6
Vantaggiosamente, la copertura 1 comprendente la struttura multistrato 20 garantisce una buona adesione alla superficie esterna 31 del prodotto, come anche il rapporto 1:1 tra gli spessori degli strati di ossido di silicio 21 della struttura multistrato 20.
Vantaggiosamente, la struttura multistrato pare consentire una migliore mantenimento della capacit? protettiva della copertura.
? riportato, nella seguente tabella 7, uno schema riassuntivo delle campionature A-G in accordo le forme realizzative della presente invenzione.
Lo schema riporta per ogni prova uno valore da 1 a 5 indicativo della propriet? della copertura 1 in accordo con gli schemi valutativi sopra ripotatati.
Tabella 7
? ulteriore oggetto della presente invenzione un prodotto destinato ad entrare in contatto con alimenti.
Tale prodotto presenta una superficie esterna 31 comprendente atomi di argento e una copertura 1 in accordo con la presente invenzione e descritta precedentemente.
Tali prodotti sono realizzati in argento massiccio o leghe metalliche comprendenti un rivestimento di argento o argentato.
In questo modo, la superfice esterna 31, che, in assenza di copertura 1, sarebbe a contatto con l?ambiente esterno come ad esempio un alimento, un piano o un consumatore, comprende atomi di argento.
Nello specifico, il prodotto destinato ad entrare in contatto con alimenti presenta la copertura 1 depositata sulla relativa superficie esterna 31.
Preferibilmente, il prodotto destinato ad entrare in contatto con alimenti comprende stoviglie e/o posate e/o vasellame.
Pi? preferibilmente, il prodotto destinato ad entrare in contatto con alimenti comprende tutti i prodotti il cui uso preveda il contatto con alimenti, ad esempio secondo Reg. 1935/2004 CE e Reg.2003/2006 CE.
? ulteriore oggetto della presente invenzione un metodo per il deposito di una copertura 1 su di una superfice esterna 31 comprendente atomi di argento di un prodotto. Preferibilmente, il metodo per il deposito di una copertura 1 ? impiegato per il rivestimento di prodotti destinato ad entrare in contatto con alimenti.
Il metodo comprende la fase di fornire un o pi? prodotti destinati ad entrare in contatto con alimenti aventi una rispettiva superficie esterna 31 comprendente atomi di argento. Preferibilmente, il metodo prevede una fase preliminare di pretrattamento della superficie esterna 31 al fine di ottimizzare il deposito della copertura 1.
Successivamente, il metodo prevede anche di fornire una macchina per il deposito di strati di ossido di silicio.
Preferibilmente, la macchina per il deposito di strati di ossido di silicio ? configurata per depositare la copertura in accordo con la tecnologia PECVD (Plasma Enhanced Chemical Deposition) cio? mediante l?impiego di una sorgente in radio frequenza.
Forniti i prodotti e la macchina, il metodo comprende la fase di inserire i prodotti all?interno della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio.
Al fine di depositare una copertura 1 avente le caratteristiche chimico meccaniche in accordo alla presente invenzione, il metodo comprende la fase di selezionare un valore del parametro R compreso tra 3 e 16, preferibilmente scelto pari a 3, 5, 12 o 16 sulla macchina per il deposito di strati di ossido di silicio.
Successivamente, il metodo comprende la fase di depositare una copertura avente almeno uno strato di ossido di silicio avente uno spessore compreso tra 180 e 1500 nm sulla superficie esterna 31 del prodotto.
Infine, il metodo comprende la fase di scarico dei prodotti dalla macchina per eventuali successive fasi di trattamento superficiale.
In accordo con la forma di realizzazione preferita in cui la copertura comprende uno strato di ossido di silicio 21, la fase di selezionare un valore del parametro R prevede di selezionare un solo valore preferibilmente 3, mentre la fase di depositare prevede di depositare uno strato di ossido di silicio scelto tra 500 e 1500 nm.
In questo modo ? possibile ottenere la copertura 1 in accordo alla campionatura A o B.
In accordo con la forma di realizzazione preferita in cui la copertura comprende uno strato di ossido di silicio 21, la fase di selezionare un valore del parametro R prevede di selezionare un solo valore preferibilmente 12, mentre la fase di depositare prevede di depositare uno strato di ossido di silicio pari a 180 nm. In questo modo ? possibile ottenere la copertura 1 in accordo alla campionatura C.
In accordo con la forma di realizzazione preferita in cui la copertura comprende uno strato di ossido di silicio 21, la fase di selezionare un valore del parametro R prevede di selezionare un solo valore preferibilmente 16, mentre la fase di depositare prevede di depositare uno strato di ossido di silicio pari a 210 nm. In questo modo ? possibile ottenere la copertura 1 in accordo alla campionatura D.
In accordo con la forma realizzativa preferita in cui la copertura 1 comprende una struttura multistrato 20, la fase di selezione un valore del parametro R prevede di impostare iterativamente la variazione di R per ogni strato di ossido di silicio 21 che verr? depositato. Preferibilmente, la fase di selezione prevede di alternare i valori di R pari a 3 e pari a 12.
Per quanto riguarda la fase di deposito, questa prevede di impostare il numero di strati da depositare, il rapporto di spessore tra gli strati e lo spessore di struttura multistrato da ottenere.
Preferibilmente, il numero di strati ? scelto tra 4, 18 e 20, il rapporto tra gli strati ? scelto pari 1:1 e lo spessore ? scelto rispettivamente tra 980, 920 e 640 nm. In questo modo ? possibile ottenere la copertura 1 in accordo alla campionatura E, F o G.
Preferibilmente, il metodo per il deposito comprende anche una fase di selezione di ulteriori parametri della macchina come ad esempio la pressione, la potenza della sorgente, il flusso del precursore nonch? di definire il rateo di deposito della copertura 1.

Claims (12)

RIVENDICAZIONI
1. Copertura (1) per un prodotto avente una superficie esterna (31) comprendente atomi di argento, la copertura (1) essendo caratterizzata dal fatto di essere realizzata mediante il deposito di almeno uno strato di ossido di silicio (10) avente uno spessore compreso tra 180 e 1500 nm sulla superficie esterna (31) del prodotto con l?impiego di una macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R, definito come il rapporto tra portata di O2 e precursore liquido, compreso tra 3 e 16, detta copertura (1) presentando un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna (31) del prodotto inferiore o uguale a 0,1 mg/kg, preferibilmente pari o inferiore a 0,08 mg/kg.
2. Copertura (1) in accordo con la rivendicazione 1, in cui la copertura (1) comprende uno strato di ossido di silicio (10) avente uno spessore pari a 180 e 1500 nm depositato con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R pari a 3, 5, 12 o 16.
3. Copertura (1) in accordo con la rivendicazione 1 o 2, in cui la copertura (1) comprende uno strato di ossido di silicio (10) avente uno spessore pari a 500 nm depositato con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R pari a 3, detta copertura (1) presentando un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,005 mg/kg e 0,061 mg/kg.
4. Copertura (1) in accordo con la rivendicazione 1 o 2, in cui la copertura (1) comprende uno strato di ossido di silicio (10) avente uno spessore pari a 1500 nm depositato con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R pari a 3, detta copertura (1) presentando un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,021 mg/kg e 0,056 mg/kg
5. Copertura (1) in accordo con la rivendicazione 1 o 2, in cui la copertura (1) comprende uno strato di ossido di silicio (10) avente uno spessore pari a 180 nm depositato con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R pari a 16, detta copertura (1) presentando un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,0240 mg/kg e 0,0630 mg/kg.
6. Copertura (1) in accordo con la rivendicazione 1 o 2, in cui la copertura (1) comprende uno strato di ossido di silicio (10) avente uno spessore pari a 210 nm depositato con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante con un parametro R pari a 12, detta copertura (1) presentando un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,009 mg/kg e 0,0270 mg/kg.
7. Copertura (1) in accordo con la rivendicazione 1, in cui la copertura (1) comprende una struttura multistrato (20), ciascuno strato di ossido di silicio (21) della struttura multistrato (20) essendo depositato sequenzialmente uno sopra l?altro.
8. Copertura (1) in accordo con la rivendicazione 7, in cui la struttura multistrato (20) comprende un numero di strati di ossido di silicio (21) compreso tra 4 e 28 avente ed uno spessore di struttura multistrato compreso tra 640 e 1000nm, gli strati di ossido di silicio (21) essendo in rapporto di spessore 1:1, la struttura multistrato (20) essendo depositata con l?impiego della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio operante alternando il parametro R per ogni strato di ossido di silicio (21) depositato.
9. Copertura (1) in accordo con la rivendicazione 8, in cui la struttura multistrato comprende un numero di strati di ossido di silicio (21) scelti tra 18 e 20 e presenta uno spessore di struttura multistrato ? scelto rispettivamente tra 640 e 920 nm, la struttura multistrato (21) essendo depositata utilizzando alternativamente il paramento R pari a 3 e a 12 per ogni strato di ossido di silicio (21) depositato, detta copertura (1) presentando un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,000 mg/kg e 0,073 mg/kg.
10. Copertura (1) in accordo con la rivendicazione 8 o 9, in cui la struttura multistrato comprende un numero di strati di ossido di silicio (21) pari a 4 e presenta uno spessore di struttura multistrato pari a 980 nm, la struttura multistrato (21) essendo depositata utilizzando alternativamente il paramento R pari a 3 e a 12 per ogni strato di ossido di silicio (21) depositato, detta copertura (1) presentando un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna del prodotto compreso tra 0,000 mg/kg e 0,021 mg/kg.
11. Prodotto destinato ad entrare in contatto con alimenti, detto prodotto avente una superficie esterna (31) comprendente atomi di argento e una copertura (1) in accordo con una qualunque delle rivendicazioni da 1 a 10, caratterizzato dal fatto che detta copertura (1) ? depositata sulla superficie esterna (31) di detto prodotto destinato ad entrare in contatto con alimenti.
12. Metodo per il deposito di una copertura (1) su di una superfice esterna comprendente atomi di argento di un prodotto destinato ad entrare in contatto con alimenti, detta copertura essendo in accordo con una qualunque delle rivendicazioni da 1 a 10, detto metodo comprendente le fasi di:
- fornire un o pi? prodotti destinati ad entrare in contatto con alimenti aventi ciascuno una superficie esterna (31) comprendente atomi di argento;
- fornire una macchina per il deposito di strati di ossido di silicio;
- inserire detti prodotti all?interno della macchina per il deposito di strati di ossido di silicio; detto metodo essendo caratterizzato dal fatto di comprendere le fasi di:
- selezionare un valore del parametro R compreso tra 3 e 16 sulla macchina per il deposito di strati di ossido di silicio;
- depositare una copertura avente almeno uno strato di ossido di silicio avente uno spessore compreso tra 180 e 1500 nm sulla superficie esterna (31) del prodotto, cos? che detta copertura (1) presenti un rateo di cessione di atomi di argento dalla superficie esterna (31) del prodotto inferiore o uguale a 0,1 mg/kg, preferibilmente inferiore o uguale a 0,08 mg/kg.
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