IT1266502B1 - Procedimento per la deposizione di uno strato di polisilicio su dischi di silicio. - Google Patents
Procedimento per la deposizione di uno strato di polisilicio su dischi di silicio.Info
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Abstract
La presente invenzione si riferisce ad un procedimento per controllare la deposizione di poli-silicio su dischetti e simili. Il procedimento è conveniente per l'impiego, per esempio, in un reattore di deposizione da vapore a bassa pressione orizzontale. Si realizza una perfezionata conoscenza dei parametri di procedimento, come la pressione totale, il flusso del gas, la temperatura ed una perfezionata metodologia per controllare le temperature prodotte dal procedimento di riscaldamento impiegato. L'invenzione espone le caratteristiche di deposizione e la perfezionata distribuzione dello spessore del poli-silicio che viene deposto sui dischetti all'interno del forno tramite il procedimento.Figura 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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IT93RM000695A IT1266502B1 (it) | 1993-10-15 | 1993-10-15 | Procedimento per la deposizione di uno strato di polisilicio su dischi di silicio. |
Applications Claiming Priority (1)
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IT93RM000695A IT1266502B1 (it) | 1993-10-15 | 1993-10-15 | Procedimento per la deposizione di uno strato di polisilicio su dischi di silicio. |
Publications (3)
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ITRM930695A0 ITRM930695A0 (it) | 1993-10-15 |
ITRM930695A1 ITRM930695A1 (it) | 1995-04-15 |
IT1266502B1 true IT1266502B1 (it) | 1996-12-30 |
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ID=11402011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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IT93RM000695A IT1266502B1 (it) | 1993-10-15 | 1993-10-15 | Procedimento per la deposizione di uno strato di polisilicio su dischi di silicio. |
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IT (1) | IT1266502B1 (it) |
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1993
- 1993-10-15 IT IT93RM000695A patent/IT1266502B1/it active IP Right Grant
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Publication number | Publication date |
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ITRM930695A0 (it) | 1993-10-15 |
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