IT1264852B1 - Sistema di trattamento con plasma - Google Patents

Sistema di trattamento con plasma

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IT1264852B1
IT1264852B1 ITMI931321A IT1264852B1 IT 1264852 B1 IT1264852 B1 IT 1264852B1 IT MI931321 A ITMI931321 A IT MI931321A IT 1264852 B1 IT1264852 B1 IT 1264852B1
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IT
Italy
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plasma processing
circular polarisation
cvd
sputtering
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Takashi Kinoshita
Toshihisa Nozawa
Tetsuya Nishizuka
Original Assignee
Kobe Seiko Sho Pure Nota Come
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Abstract

Un sistema di trattamento con plasma, in cui le microonde vengono introdotte all'interno di una camera a vuoto nella quale è presente un campo magnetico, mentre particelle caricate, generate dal plasma, da un sistema ECR vengono emesse verso una sostanza che debba essere trattata. In questo sistema, la distribuzione della densità di potenza nella propagazione delle microonde attraverso una guida d'onda, viene equalizzata in modo appropriato. Pertanto, le microonde vengono emesse da una finestra per il trasferimento delle microonde, nella camera a vuoto. Questo rende possibile l'equalizzazione della distribuzione delle particelle di plasma in un'area ECR e consente quindi, ad esempio, un trattamento di attacco di elevata qualità. Le microonde vengono trasformate da onde polarizzate linearmente ad onde polarizzate circolarmente. Variando l'angolo di un elemento di trasformazione disposto nel convertitore di onde polarizzate circolarmente, è possibile regolare il fattore di riflessione delle microonde riflesse dal plasma.
IT001321 1992-06-19 1993-06-18 Sistema di trattamento con plasma IT1264852B1 (it)

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JP4345803A JPH06196412A (ja) 1992-12-25 1992-12-25 プラズマ処理装置

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ITMI931321A0 ITMI931321A0 (it) 1993-06-18
ITMI931321A1 ITMI931321A1 (it) 1994-12-18
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