HUP0104792A2 - Eljárás nikkelhab előállítására és az eljárással előállított nikkelhab - Google Patents

Eljárás nikkelhab előállítására és az eljárással előállított nikkelhab Download PDF

Info

Publication number
HUP0104792A2
HUP0104792A2 HU0104792A HUP0104792A HUP0104792A2 HU P0104792 A2 HUP0104792 A2 HU P0104792A2 HU 0104792 A HU0104792 A HU 0104792A HU P0104792 A HUP0104792 A HU P0104792A HU P0104792 A2 HUP0104792 A2 HU P0104792A2
Authority
HU
Hungary
Prior art keywords
foam
nickel
bath
separation zone
electrolytic
Prior art date
Application number
HU0104792A
Other languages
English (en)
Inventor
Peter Leerkamp
Wilhelmus Aloysius Pruyn
Original Assignee
Stork Screens B.V.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Stork Screens B.V. filed Critical Stork Screens B.V.
Publication of HUP0104792A2 publication Critical patent/HUP0104792A2/hu
Publication of HUP0104792A3 publication Critical patent/HUP0104792A3/hu

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/08Perforated or foraminous objects, e.g. sieves
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/623Porosity of the layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Abstract

A találmány tárgya eljárás nikkelhab előállítására az alábbi műveletilépésekben: - elektromosan vezető felületű hordozóhab előállítása, -nikkel leválasztása a hordozóhabra elektrolizáló fürdőben, - ahordozóhab eltávolítása, azzal jellemezve, hogy - az elektrolitikusleválasztást elektrolizáló fürdőben végzik, egymást követően egyelőleválasztó zónában és egy főleválasztó zónában, - a habra 0,5-19g/m2 nikkelt választanak le, fékező eszközök alkalmazása mellett, anikkel növekedésének legalább az elektrolitikus leválasztásgócképződési fázisában való fékezése céljából, - a főleválasztózónában a nikkelt a kívánt mennyiségben választják le, úgy, hogy azutoljára leválasztott nikkelhab fajlagos tömege 200-400 g/m2 közéesik, miközben az elektrolit áramlásának iránya megfordul, és azelektrolit áramlási iránya változásának frekvenciája a főleválasztózónában 1 mHz-0,1 Hz között van, - a fürdő vezetőképessége 20 °Chőmérsékleten legalább 200 mS/cm. A találmány tárgya továbbá a fentieljárással előállított nikkelhab. Ó

Description

71.772/BT
PCT/NL99/00400 ?Ό1Ο ^^3
S B.G. & K.
Nemükön
Szabadalmi Iroda ^•'Japest, Andrássy át 113, ‘ Ά’!. Fax: 34-24-323
Eljárás nikkel hab előállítására és az eljárással előállított nikkel hab
Stork Screens B.V., Boxmeer, NL
Jelen találmány tárgya elsősorban eljárás nikkel-hab előállítására, amely az alábbi lépésekből áll:
- villamosán vezető felületű hordozó-hab előállítása,
- nikkel leválasztása az hordozó-habra elektrolizáló fürdőben,
- a hordozó-hab eltávolítása.
Ez a módszer már az előző eljárásokból ismeretes.
Az alkalmazott hordozó-hab a gyakorlatban szerves hab-anyag, amilyen például a poliuretán-hab, poliészter-hab polisztirol-hab vagy a polipropilén-hab, azonban szerves szálakból készült szálas anyagok, mint például pamut, gyapjú cellulóz stb., illetve szintetikus szálak ugyancsak használhatók. Az ilyen szerves hab-anyagokat az elektrolitikus bevonás előtt vezetővé kell tenni, ami elérhető például vákuumtechnikai módszerek alkalmazásával, mint gáz diffúzióval, katódporlasztással vagy ionos leválasztással. Ezzel kapcsolatos utalás található az EP 0,151,064 lajstromszámú szabadalmi leírásban. Kémiai fémbevonás ugyancsak lehetséges.
71.772/ΒΠ *2001.03.19.
* * ’ ‘ -* *♦ * < V * * * * '· «w- ,
-2A szerves hab-anyagokon kívül, amelyeket vezetővé kell tenni, lehetséges bármilyen típusú hordozó-hab alkalmazása, amely vezető felülettel rendelkezik, mint amilyenek a vezető műanyag habok vagy amilyenek a fémhabok, például az alumínium hab. Más szavakkal, bármilyen habanyag alkalmas a találmány szerinti hordozóhabként, amennyiben ez a hordozó-hab a fém felvitele után kémiai/fizikai vagy egyéb módszerekkel eltávolítható.
A hordozó-hab eltávolítása lehetséges pirolízissel, vagy valamely oldószer segítségével. Ugyancsak lehetséges a hordozó-hab elgázosítása, illetve elbontása magas hőmérséklet vagy sugárzás hatására.
Mind ez ideig nem sikerült olyan fémhab előállítása, amelynek alacsony a fajlagos tömege (fajsúlya), de mégis nagy a szakítószilárdsága.
A régebbi eljárásoknál nagy szakítószilárdságú fémhabok előállításának céljára rétegelt anyagokat állítottak elő. A fémhab rétegeket rendszerint géz rétegekkel vagy hasonlókkal kombinálták. Ezzel kapcsolatos utalás található az EP 0,392,082 lajstromszámú szabadalmi leírásban, amely ilyen eljárásra vonatkozik.
Jelen találmány egyik tárgya eljárás fémhab előállítására, amelynek viszonylag kicsi a fajlagos tömege és viszonylag nagy a szakítószilárdsága.
Ennek elérése céljából jelen találmány olyan jellegű - a bevezetésben bemutatott - módszert ír le, amelyet a következők jellemeznek:
- az elektrolitikus leválasztást galvanizáló fürdőben, egymást követő előleválasztó zónában és fő-leválasztó zónában hajtják végre;
- az elő-leválasztó zónában a habot 0,5 - 19 g/m2 nikkel réteggel vonják be, fékező eszközök alkalmazása mellett, amelyek fékezik nikkel növekedését, legalább az elektrolitikus leválasztás! folyamat gócképződési szakaszában;
- a fö-leválasztó zónában leválasztják a kívánt mennyiségű nikkelt, úgy, hogy az utoljára leválasztott nikkel-hab fajlagos tömege 200 és 400 g/m2 közé essék, mialatt
71.772/ΘΤ-2*2001.03.19.
-3az elektrolit áramlási-iránya megfordul; az elektrolit áramlási-irány változásának frekvenciája a fö-leválasztó zónában 1 mHz és 0,1 Hz között van;
- a fent leírt galvánfürdö vezetőképessége 20 0 C hőmérsékleten legalább 200 mS/cm.
A találmány szerinti eljárással előállítható nikkel-habnak viszonylag alacsony fajlagos tömege (fajsúlya) ellenére viszonylag nagy a szakítószilárdsága. Az utoljára leválasztott nikkelhab fajlagos tömeg előnyösen 300-350 g/m2.
Meglepő módon azt tapasztaltuk, hogy ha a fém (fém gócok) növekedése szokatlanul lassú, az utoljára leválasztott nikkel-hab szakítószilárdsága - a hordozó-habról való leválasztás után - nagyon nagy. Ezen túlmenően lehetségesnek látszik egy nagyon kedvező, úgynevezett DTR (diameter-thicknes-ratio - átmérö/vastagság arány) érték kiválasztása, például nagyon közel ahhoz az értékhez, amely a fém vastagságnövekedésének a hab vastagságából látható mértéke.
Ennek elérésére a nikkel növekedésének lassítására az elö-leválasztó zónában fékező eszközök használatosak, legalább az elektrolitikus bevonási művelet gócképződési fázisában.
Számos módszer alkalmas fékezést előidéző eszközként, de a következők kiválasztása előnyös: az elő-leválasztó zónában alkalmazott áramsürűség, amely a főleválasztó zónáénak legfeljebb 1/40-ed része lehet, illetve szén tartalmú anyagok alkalmazása a fürdőben.
A széntartalmú anyagok használata további lehetőséget nyújt a kedvező növekedési körülmények kiválasztására, azaz a nikkel kedvező irányban választható le.
A széntartalmú anyagok alkalmazása önmagában ismeretes. Az US 5,584,983 lajstromszámú szabadalmi leírás ismerteti alkalmazásukat a fémbevonat kedvező növekedésének biztosítására.
71.772/BT*3*2001.03.19.
-4Széntartalmú anyagokat előnyösen alkalmaznak másodlagos (másodosztályú?) fényesítő adalékként. Különösen előnyösen a másodlagos fényesítő adalék olefin vagy alkin, főként 1,4-butindiol.
Az elő-leválasztás során előnyösen legalább 0,5 g/m2 nikkelt választunk le. A gyakorlatban legkedvezőbb mintegy 6 g/m2. Fontos, hogy az elő-leválasztás művelete λ folyamán a leválasztott mennyiség ne haladja meg a 19 g/m -t.
Az elő-leválasztó zónában az áramsűrüség a fő-leválasztó zóna áramsürüségének legfeljebb 1/40-ed része és még kedvezőbb módon a fő-leválasztó zónában használt áramsűrüség 1/200-ad része.
Az elő-leválasztó zónában az áramerősség 5 - 150 A lehet, míg a fö-lcválasztó zónában 2000 - 6000 A.
Az elektrolit áramlási sebessége a fürdőben előnyösen 1 - 30 m2/m2/h.
Azt tapasztaltuk, hogy a találmány szerinti fékező eszközök alkalmazásának eredményeként lényegesen több és egyúttal kisebb fém góc keletkezik a fürdőben az úgynevezett gócképződési fázis során. Ugyanakkor a gócok eloszlása is kedvezőbb.
Egyik különleges megvalósítási módnál növeljük a fürdő vezetőképességét.
Azt találtuk, hogy ennek eredményeként még jobb a fémgócok eloszlása a hordozóhabon és még inkább nő a számuk és csökken a méretük.
A fürdő vezetőképessége előnyösen növekszik vezetőképesség-növelő anyag fürdőbe vitele révén. Ilyen vezetőképesség-növelő anyagokra példaként az alábbiak szolgálnak: alkálifém sók, a Na, K, Li, Cs, Rb, Mg és NH4 szulfátjai/szulfamátjai.
Noha a találmány nem határolja be a sebességet, amellyel a hordozó-hab áthalad a fürdőn, a kedvező mozgási sebesség 5-20 m/h között van.
Ámbár a találmány szerinti jelen leírás két leválasztó zónából álló fürdőre utal, ugyanúgy lehetséges két külön fürdő, azaz egy elő-leválasztó fürdő és egy főleválasztó fürdő használata.
71.772/BT4-2001.03.19.
-5Jelen találmány tárgya végül egy nikkelhab, amely a találmány szerinti eljárással állítható elő.
A továbbiakban a találmányt egy példával kívánjuk még részletesebben megvilágítani.
Példa
SÍ jelzésű - a kereskedelemben beszerezhető - különböző fajlagos tömegű nikkelhab fajtákat hasonlítottunk össze S2 jelzésű - a találmány szerinti eljárással előállított - különböző fajlagos tömegű nikkel-hab fajtákkal. Az eredményeket a táblázat mutatja:
TÁBLÁZAT
Fajlagos tömeg (g/m2) Szakítószilárdság (N/mm) SÍ Szakítószilárdság (N/mm) S2
200 0,75 1,50
300 1,45 2,15
340 1,70 2,50
400 2,20 2,85
A felhasznált hab vastagsága 1,6 mm volt, 67 ppi mellett. A találmány szerinti nikkel-hab előállítása az alábbi körülmények mellett történt: a fürdő vezetőképessége 300 mS/cm, az elektrolit áramlási irányának megváltozás! frekvenciája 8 mHz, az elektrolit áramlási sebessége 20 m3/m2/h, a fürdő 1,4-dibutindiol koncentrációja 40 mg/1, az elő-leválasztás poliuretán-habra 15 g/m2 nikkel volt. A leválasztás után a poliuretán-habot pirolízissel eltávolítottuk és a nikkel-habot hőkezeltük.
71.772/BT*5*2001.03.19.
-6A mellékelt ábrák közül az
1. ábra a nikkel gócok szkenning-elektronmikroszkóppal készített fényképét mutatja egy habon, közvetlenül egy - másodlagos fényesítő adalék ként 1,4-butindiolt tartalmazó - elektrolizáló fürdőben végzett leválasztás gócképzödési fázisa után, míg a
2. ábra a nikkel gócok szkenning-elektronmikroszkóppal készített fényképét mutatja egy habon, közvetlenül egy - a régebbi technológiáknak megfelelő, fékező eszközt nem tartalmazó - elektrolizáló fürdőben végzett leválasztás gócképződési fázisa után.
Az 1. ábrán és a 2. ábrán látható fényképek összehasonlítása világosan megmutatja, hogy a találmány szerinti fékező eszköz alkalmazásakor az elektrolizáló fürdőben, a gócképződési fázis folyamán, figyelemreméltóan kisebb és jobb eloszlású nikkel gócok jönnek létre a hordozó-hab felületén.
71.772/8T*6-2001.03.19.

Claims (5)

  1. -7 SZABADALMI IGÉNYPONTOK
    1. Eljárás nikkelhab előállítására az alábbi műveleti lépésekben: elektromosan vezető felületű hordozó-hab előállítása,
    - nikkel leválasztása a hordozó-habra elektrolizáló fürdőben, a hordozó-hab eltávolítása, azzal jellemezve, hogy az elektrolitikus leválasztást elektrolizáló fürdőben végezzük, egymást követően egy elő-leválasztó zónában és egy fö-leválasztó zónában;
    a habra 0,5 -19 g/m2 nikkelt választunk le, fékező eszközök alkalmazása mellett, a nikkel növekedésének legalább az elektrolitikus leválasztás gócképzödési fázisában való fékezése céljából;
    - a fő-leválasztó zónában a nikkelt a kívánt mennyiségben választjuk le, úgy, hogy az utoljára leválasztott nikkel-hab fajlagos tömege 200 - 400 g/m2 közé esik, miközben az elektrolit áramlásának iránya megfordul és az elektrolit áramlási iránya változásának frekvenciája a fö-leválasztó zónában 1 mHz - 0,1 Hz között van;
    - a fürdő vezetőképessége 20 0 C hőmérsékleten legalább 200 mS/cm.
  2. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a fékező eszközt az alábbiak közül választjuk ki:
    - az elő-leválasztó zónában a leválasztáshoz olyan áramsürűség alkalmazása, amely a fő-leválasztó zónáénak legfeljebb 1/40-ed része;
    - szén tartalmú anyagok alkalmazása a fürdőben.
  3. 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a fürdő vezetőképességét növeljük.
    71772/BTV2001.03.19.
  4. 4. A 3. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a fürdő vezetőképességét egy anyaggal növeljük, amely a fürdőbe juttatva megnöveli a vezetőképességet.
  5. 5. Nikkel-hab, amely egy vagy több előző igénypont szerinti eljárással állítható elő.
    A meghatalmazott
    Dr. Bokoc^»á&szabadalmi ügyvivő az S.B.G. & K. Nemzetközi
    Szabadalmi Iroda tagja H-l062 Budapest, Andrássy út 113. Telefon: 34-24-950, Fax: 34-24-323
    71.772/BT8-2001.03.19.
HU0104792A 1998-06-29 1999-06-29 Method for producing a nickel foam and a nickel foam thus obtainable HUP0104792A3 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1009517A NL1009517C2 (nl) 1998-06-29 1998-06-29 Werkwijze voor het vervaardigen van een metaalschuim en aldus verkrijgbaar metaalschuim.
PCT/NL1999/000400 WO2000000673A1 (en) 1998-06-29 1999-06-29 Method for producing a nickel foam and a nickel foam thus obtainable

Publications (2)

Publication Number Publication Date
HUP0104792A2 true HUP0104792A2 (hu) 2002-03-28
HUP0104792A3 HUP0104792A3 (en) 2002-05-28

Family

ID=19767393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
HU0104792A HUP0104792A3 (en) 1998-06-29 1999-06-29 Method for producing a nickel foam and a nickel foam thus obtainable

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20010006151A1 (hu)
EP (1) EP1099011A1 (hu)
JP (1) JP2002519515A (hu)
CN (1) CN1307651A (hu)
AU (1) AU4659599A (hu)
HU (1) HUP0104792A3 (hu)
NL (1) NL1009517C2 (hu)
TW (1) TW515854B (hu)
WO (1) WO2000000673A1 (hu)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10008257A1 (de) 2000-02-23 2001-08-30 Alstom Power Schweiz Ag Baden Verfahren zur Reparatur einer Gasturbinenkomponente
RU2188880C2 (ru) * 2000-05-11 2002-09-10 Открытое акционерное общество "Новосибирский завод химконцентратов" Способ получения металлической пены
US8640960B2 (en) 2011-06-27 2014-02-04 Honeywell International Inc. Optical filter for image and barcode scanning
US8636215B2 (en) 2011-06-27 2014-01-28 Hand Held Products, Inc. Decodable indicia reading terminal with optical filter
US8985459B2 (en) 2011-06-30 2015-03-24 Metrologic Instruments, Inc. Decodable indicia reading terminal with combined illumination
US8978981B2 (en) 2012-06-27 2015-03-17 Honeywell International Inc. Imaging apparatus having imaging lens
CN103147100B (zh) * 2013-04-02 2016-06-01 中南大学 一种混杂多孔金属材料的制备方法
CN103789798A (zh) * 2014-01-08 2014-05-14 菏泽天宇科技开发有限责任公司 一种泡沫镍生产工艺
CN108364805B (zh) * 2018-02-08 2020-01-31 长安大学 一种开孔泡沫镍的制备方法
CN114959347B (zh) * 2022-06-20 2023-09-22 上海电力大学 一种制备泡沫镍复合材料的装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4363705A (en) * 1981-07-16 1982-12-14 Capitol Records, Inc. Passivating and silver removal method
JPS637392A (ja) * 1986-06-25 1988-01-13 Meiko Denshi Kogyo Kk メツキ装置
CN1053932A (zh) * 1990-02-07 1991-08-21 林柏 泡沫金属制作的新方法
NL9200350A (nl) * 1992-02-26 1993-09-16 Stork Screens Bv Werkwijze voor het vervaardigen van een metaalschuim en verkregen metaalschuim.

Also Published As

Publication number Publication date
WO2000000673A1 (en) 2000-01-06
AU4659599A (en) 2000-01-17
NL1009517C2 (nl) 2000-01-04
JP2002519515A (ja) 2002-07-02
EP1099011A1 (en) 2001-05-16
CN1307651A (zh) 2001-08-08
TW515854B (en) 2003-01-01
US20010006151A1 (en) 2001-07-05
HUP0104792A3 (en) 2002-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100832899B1 (ko) 산화물로 코팅된 절삭공구
HUP0104792A2 (hu) Eljárás nikkelhab előállítására és az eljárással előállított nikkelhab
Wu et al. High thermal conductive Cu-diamond composites synthesized by electrodeposition and the critical effects of additives on void-free composites
Shrestha et al. Composite plating of Ni–P–Al2O3 in two steps and its anti-wear performance
Kubelka et al. Influences of WC-Co hard metal substrate pre-treatments with boron and silicon on low pressure diamond deposition
US3853094A (en) Electroless plating apparatus
Bhogal et al. Preparation and properties of electrodeposited Ni-TiO2 composite coating
Vaskelis et al. Structure of electroless silver coatings obtained using cobalt (II) as reducing agent
Harizanov et al. Metal coated alumina powder for metalloceramics
Miyake et al. Chemical vapor deposition of niobium on graphite
Sommer et al. Diamond deposition on copper treated hardmetal substrates
JP2003039212A (ja) 被覆された切削工具
Kanungo et al. Study on morphology of copper deposited onto aluminium by immersion plating from an oxalate bath containing perchloric acid
Ge et al. Study of the structures of pulse plating Zn-Fe deposits
US3903347A (en) Boron filament having a titanium carbide coated substrate
EP0122529B1 (en) A method for surface hardening a ferrous-alloy article and the resulting product
Dulal et al. Electrodeposition of CoWP film: V. Structural and morphological characterisations
Eroglu et al. Design and chemical vapor deposition of graded TiN/TiC coatings
Jansson et al. Initial stages of growth during boron carbide chemical vapor deposition
Ensinger Modification of materials by irradiation of heavy ions with energies from keV to GeV
US3903323A (en) Method for producing boron filament having a titanium carbide coated substrate
Liu et al. Low pressure chemical vapor deposition of niobium coatings on graphite
Pearlstein Electroless Metal Coatings
Young Codeposition of wear-resistant particles with chromium
Weissenbacher et al. HF-CVD of B, C, N containing layers on various substrates by the decomposition of Triethylborazine