FR2979070A1

FR2979070A1 - Procede de fabrication de couches de polissage chimico-mecanique

Info

Publication number: FR2979070A1
Application number: FR1257818A
Authority: FR
Inventors: Kathleen Mchugh; James T Murnane; George H Mcclain; Durron A Hutt; Robert A Brady; Christopher A Young; Jeffrey B Miller
Original assignee: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc; Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Current assignee: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc; Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Priority date: 2011-08-16
Filing date: 2012-08-16
Publication date: 2013-02-22
Anticipated expiration: 2032-08-16
Also published as: US8444727B2; JP2013039663A; DE102012015942A1; CN102950550A; TWI593510B; JP5900227B2; KR20130020588A; FR2979070B1; CN102950550B; KR101950040B1; TW201318769A; US20130042536A1

Abstract

Un procédé de fabrication de couches de polissage pour l'utilisation dans les tampons de polissage chimico-mécanique est produit, dans lequel la formation de défauts de densité dans les couches de polissage est réduite au maximum. Pour préparer une couche de polissage, on introduit un mélange thermodurcissable dans la cavité (20) d'un moule ayant une zone de type trou de tore (40) et une zone de type tore (50), par une buse dont l'orifice se déplace par rapport à la base du moule, selon une phase initiale dans laquelle l'orifice est dans la zone de type trou de tore, une phase de transmission dans laquelle l'orifice passe à la zone de type tore et une phase restante dans laquelle l'orifice est dans la zone de type tore.

Description

[0001] La présente invention concerne de manière générale le domaine de la fabrication des couches de polissage. En particulier, la présente invention concerne un procédé de fabrication de couches de polissage pour l'utilisation clans les tampons de polissage chimico-mécanique. [0002] Dans la fabrication des circuits intégrés et autres dispositifs électroniques, plusieurs couches de matériaux conducteurs, semi-conducteurs et diélectriques sont déposées sur la surface des tranches de semi-conducteur ou éliminées de celles-ci. Les fines couches de matériaux conducteurs, semi-conducteurs et diélectriques peuvent être déposées par un certain nombre de techniques de dépôt. Les techniques de dépôt courantes utilisées dans le traitement de modem comprennent le dépôt physique en phase vapeur (DPV), également connu sous le nom de pulvérisation, dépôt chimique en phase vapeur (DCV), dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (DCVAP) et revêtement électrochimique (REC). [0003] Au fur et à mesure que les couches de matériaux sont successivement déposées et éliminées, la surface supérieure de la tranche devient non plane. Puisque le traitement (par exemple, métallisation) ultérieur du semi-conducteur nécessite que la tranche ait une surface plane, la tranche doit être aplanie. La planarisation est utile pour éliminer la topographie superficielle et les défauts superficiels indésirables, tels que les surfaces rugueuses, les matériaux agglomérés, les détériorations du réseau cristallin, les rayures et les couches ou les matériaux contaminés. [0004] La planarisation chimico-mécanique, ou polissage chimico-mécanique (PCM), est une technique courante utilisée pour aplanir les substrats, tels que les tranches de semi-conducteur. Dans le PCM conventionnel, une tranche est montée sur un assemblage de support et placée en contact avec un tampon de polissage dans un appareil de PCM. L'assemblage de support applique une [pression réglable sur la tranche, en la comprimant contre le tampon de polissage. Le tampon se déplace exemple, en rotation) par rapport à la tranche sous l'effet d'une force d'entraînement c,,terne. Pendant le même temps, une composition chimique (« pâte ») ou une autre solution de polissage est placée entre la tranche et le tampon de polissage. Ainsi, la surface de la tranche est polie et aplanie par l'action chimique et mécanique de la surface du tampon et de la pâte. [0005] Reinhardt et al., brevet U.S. N° 5 578 362, décrit un exemple de tampon de polissage connu. Le tampon de polissage de Reinhardt comprend une matrice 5 polymère dans laquelle sont dispersées des rnïcrospheres. En général, les microsphdres sont homogénéisées et mélangées avec un matériau polymère Ilquide et transférées dans un moule en vue du durcissement. Les règles de l'art consistent à réduire au maximum les perturbations affectant le contenu de la cavité du moule lors du procédé de transfert. Pour atteindre ce résultat, la position de l'orifice de 10 buse par lequel le matériau durcissable est ajouté à la cavité du moule est habituellement maintenue en position centrale par rapport à la section transversale de la cavité du moule et aussi stationnaire que possible par rapport à la surface supérieure du matériau durcissable au fur et à mesure qu'il s'accumule dans la cavité du moule. Par conséquent, la position de l'orifice de buse ne se déplace 15 habituellement que dans une seule dimension afin de maintenir une élévation définie au-dessus de la surface supérieure du matériau durcissable présent dans la cavité du moule pendant tout le procédé de transfert. L'article moulé est alors découpé en tranches pour former des couches de polissage. Malheureusement, les couches de polissage formées de cette manière peuvent présenter des défauts indésirables (par 20 exemple, défauts de densité). [0006] Les défauts de densité se manifestent sous la forme de variations de la densité apparente du matériau constituant la couche de polissage. Autrement dit, des zones ayant une concentration inférieure en charge (par exemple, microsphères dans les couches de polissage de Reinhardt). Les défauts de densité sont 25 indésirables parce que l'on pense qu'ils peuvent entraîner des variations de la performance de polissage imprévisibles, et éventuellement nuisibles, d'une couche de polissage à l'autre et au sein d'une même couche de polissage au cours de sa durée de vie utile. [0007] Néanmoins, il existe un besoin persistant en procédés améliorés de 30 fabrication de couches de polissage pour tampons de polissage chimico-mécanique, dans lesquels la formation de défauts de densité indésirables sont davantage réduits ou éliminés. [0008] La présente invention propose un procédé de préparation d'une couche de polissage pour tampon de polissage chimico-mécanique, comprenant : la fourniture d'un moule, comportant une base de moule et une paroi périphérique, dans lequel la base du moule et la paroi périphérique définissent la cavité du moule, dans lequel la base du moule est orientée sur un plan x-y, dans lequel la cavité du moule comporte un axe central, C , qui est perpendiculaire au plan x-y, et dans lequel la cavité du moule comporte une zone de type trou de tore et une zone de type tore ; la fourniture d'un matériau prépolymère liquide ; la fourniture d'une pluralité de microéléments ; la fourniture d'une buse, comportant un orifice de buse ; la combinaison du matériau prépolymère liquide avec la pluralité de microéléments pour former un mélange durcissable ; l'introduction du mélange durcissable par l'orifice de buse dans la cavité du moule pendant une période d'alimentation, PA, la période d'alimentation PA étant divisée en trois différentes phases identifiées comme étant la phase initiale, la phase de transition et la phase restante ; dans lequel l'orifice de buse a une position et dans lequel la position de l'orifice de buse se déplace par rapport à la base du moule le long de l'axe central de la cavité du moule, Caxe, au cours de la période d'alimentation, PA, afin de maintenir la position de l'orifice de buse au-dessus de la surface supérieure du mélange durcissable situé dans la cavité du moule au fur et à mesure que le mélange durcissable s'accumule dans la cavité du moule ; dans lequel la position de l'orifice de buse se situe dans la zone de type trou de tore pendant toute la phase initiale ; dans lequel la position de l'orifice de buse passe de la zone de type trou de tore à la zone de type tore au cours de la phase de transition ; dans lequel la position de l'orifice de buse se situe dans la zone de type tore au cours de la phase restante ; le durcissement du mélange durcissable situé dans la cavité du moule sous la forme d'une galette ; et l'obtention de la couche de polissage à partir de la galette. [0009] La présente invention propose également un procédé de préparation d'une couche de polissage pour tampon de polissage chimico-mécanique, comprenant : la fourniture d'un moule, comportant une base de moule et une paroi périphérique, dans lequel la base du moule et la paroi périphérique définissent la cavité du moule, dans lequel la hase du moule est orientée sur un plan x-y, dans lequel la cavité du moule comporte un axe. central, qui est perpendiculaire au plan -y, et dans lequel la cavité du moule comporte une zone de type trou de tore et une zone de type tore ; la fourniture d'un matériau prépolymère liquide ; la fourniture d'une pluralité de microéléments ; la fourniture d'une buse, comportant un orifice de buse ; la combinaison du matériau prépolymère liquide avec la pluralité de microéléments pour former un mélange durcissable ; l'introduction du mélange durcissable par l'orifice de buse dans la cavité du moule pendant une période d'alimentation, PA, la période d'alimentation PA étant divisée en trois différentes phases identifiées comme étant la phase initiale, la phase de transition et la phase restante ; dans lequel l'orifice de buse a une position et dans lequel la position de l'orifice de buse se déplace par rapport à la base du moule le long de l'axe central de la cavité du moule, Cj', au cours de la période d'alimentation, PA, afin de maintenir la position de l'orifice de buse au-dessus de la surface supérieure du mélange durcissable situé dans la cavité du moule au fur et à mesure que le mélange durcissable s'accumule dans la cavité du moule ; dans lequel la position de l'orifice de buse se situe dans la zone de type trou de tore pendant toute la phase initiale ; dans lequel la position de l'orifice de buse passe de la zone de type trou de tore à la zone de type tore au cours de la phase de transition ; dans lequel la position de l'orifice de buse se situe dans la zone de type tore au cours de la phase restante ; le durcissement du mélange durcissable situé dans la cavité du moule sous la forme d'une galette ; et l'obtention de la couche de polissage à partir de la galette ; dans lequel la cavité du moule est sensiblement une zone de forme cylindrique droite présentant une section transversale substantiellement circulaire, Cx-sect ; dans lequel la cavité du moule a un axe de symétrie, Cx-symi qui coïncide avec l'axe central de la cavité du moule, G,. ; dans lequel la zone de forme cylindrique droite a une surface en coupe transversale, C. .., définie comme suit C où r représente le rayon moyen de la surface en coupe transversale de la cavité du moule, C. , projetée sur le plan x-y ; dans lequel la zone de type trou de tore est une zone de forme cylindrique droite à l'intérieur de la cavité du moule qui projette une section transversale circulaire, DH.... sur le plan x-y et qui a un axe de symétrie, DH ; dans lequel le trou de tore a une surface en coupe transversale, H ., définie comme suit DH> rirDi4.) où rDH représente e rayon de la section transversale circulaire de la zone de type trou de tore DH, dans lequel la zone de type tore est une zone de forme toroïdale à l'intérieur de la cavité du moule qui projette une section transversale annulaire, D. sur le plan x-y et qui comporte un axe de symétrie de la zone de type tore D ; dans lequel la section transversale annulaire, D. -,n une surface en coupe transversale, D, ., définie comme suit : D. . riRD. où RD représente le grand rayon de la section transversale annulaire de la zone de type tore D. - ; où rD représente le petit rayon de la section transversale annulaire de la zone de type tore ; où r 2 rDH ; où RD > rD ; où RD < rc ; dans lequel C'._ sym, DHaxe et D', sont chacun perpendiculaires au plan x-y. Avantageusement, le mélange durcissable est introduit dans la cavité du moule à une vitesse essentiellement constante au cours de la période d'alimentation, PA, avec une vitesse moyenne d'introduction, VImoy, de 0,015 à 2 kg/s. Avantageusement, rD = rDH ; où rD vaut de 5 à 25 mm ; où RD vaut de 20 à 100 mm ; où rc vaut de 20 à 100 cm. Avantageusement, la galette produite à l'aide du procédé de la présente invention présente moins de défauts de densité qu'une autre galette produite à l'aide du même procédé mis à part que pendant la période d'alimentation, PA, la position de l'orifice de buse ne se déplace que dans une seule dimension le long de l'axe central de la cavité du moule, Caxe. BREVE DESCRIPTION DES DESSINS [0010] La Figure 1 est une représentation d'une vue en perspective de dessus/latérale d'un moule ayant une cavité de moule présentant une section transversale substantiellement circulaire. [0011] La Figure 2 est une représentation d'une vue en perspective de dessus/latérale d'un moule ayant une cavité de moule présentant une section transversale substantiellement circulaire illustrant une zone de type trou de tore et une zone de type tore à l'intérieur de la cavité du moule. [0012] La Figure 3 est une représentation d'une vue en plan de dessus de la zone de type trou de tore et de la zone de tore illustrées sur la Figure 2. [0013] La Figure 4A est une représentation d'une vue en perspective de dessus/latérale de la cavité d'un moule présentant une section transversale substantiellement circulaire avec une buse disposée à l'intérieur de la cavité du moule, la cavité du moule étant partiellement remplie d'un mélange durcissable. [0014] La Figure 4B est une représentation d'une vue latérale en élévation de la cavité du moule illustrée sur la Figure 4A. [0015 La Figure 5A est une représentation d'une vue en perspective de dessus/latérale de la cavité d'un moule présentant une section transversale substantiellement circulaire avec une zone de type trou de tore et une zone de type tore et illustrant plusieurs exemples de trajectoires de la phase initiale et de la phase de transition. [0016] La Figure 5B est une représentation d'une vue latérale en élévation de la cavité du moule illustrée sur la Figure 5A. [0017] La Figure 5C est une représentation d'une vue en plan de dessus de la cavité du moule illustrée sur la Figure 5A illustrant les projections sur le plan x-y des trajectoires de la phase initiale et de la phase de transition illustrées sur la Figure 5A. [0018] La Figure 6A est une représentation d'une vue en perspective de dessus/latérale de la cavité d'un moule présentant une section transversale substantiellement circulaire avec une zone de type trou de tore et une zone de type tore et illustrant un exemple de trajectoire de la phase restante. [0019] La Figure 6B est une représentation d'une vue latérale en élévation de la cavité du moule illustrée sur la Figure 6A. [0020] La Figure 6C est une représentation d'une vue en plan de dessus de la cavité du moule illustrée sur la Figure 6A illustrant la projection sur le plan x-y de la trajectoire de la phase restante illustrée sur la Figure 6A. [0021] La Figure 7A est une représentation dune vue en plan d'un orifice de buse, dans lequel l'orifice de buse est circulaire. [0022] La Figure 7B est une représentation d'une vue en plan d'un orifice de buse, dans lequel l'orifice de buse est non circulaire.

DESCRIPTION DETAILLEE [0023] On a découvert avec surprise que dans la fabrication des couches de polissage pour tampons de polissage chimico-mécanique, le mouvement de la position de l'orifice de buse par lequel un mélange durcissable est introduit dans la cavité d'un moule en trois dimensions aussi bien le long d'un axe central qu'autour d'un axe centrai, C,.., de la cavité du moule pendant l'introduction du mélange durcissable dans la cavité du moule réduit significativement l'apparition de défauts de densité dans les couches de polissage produites par rapport à celles produites par un procédé identique dans lequel la position de l'orifice de buse ne se déplace que dans une seule dimension le long de l'axe central de la cavité du moule, C [0024] Le terme « période d'alimentation ou PA » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la période (en secondes) pendant laquelle le matériau durcissable est introduit dans la cavité du moule en commençant au moment où le matériau durcissable commence à être introduit dans la cavité du moule jusqu'au moment où la quantité finale du matériau durcissable est introduite dans la cavité du moule. [0025] Le terme « vitesse d'introduction ou VI » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne le débit massique (en kg/s) auquel le matériau durcissable est introduit dans la cavité du moule au cours de la période d'alimentation, PA, (en secondes). [0026] Le terme « point de départ de la phase initiale ou PDpi » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la position de l'orifice de buse au début de la phase initiale de la période d'alimentation, qui coïncide avec le début de la période d'alimentation. [0027] Le terme « point final de la phase initiale ou PFpi » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la position de l'orifice de buse à la fin de la phase initiale de la période d'alimentation, qui précède immédiatement le début de la phase de transition de la période d'alimentation. [0028] Le terme « trajectoire de la phase initiale » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la trajectoire du mouvement (le cas échéant) de la position de l'orifice de buse au COUrS de la phase initiale de la période d'alimentation du point de départ de la phase initiale, PDpi, au point final de la phase initiale, PF [0029] Le terme « point de départ de la phase de transition ou PDp-r tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la position de l'orifice de buse au début de la phase de transition de la période d'alimentation. Le point de départ de la phase de transition, PD.,7, et le point final de la phase initiale, PF;, sont situés à la même position. [0030] Le terme « point(s) de transition de la phase de transition ou PTPT » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la ou les positions de l'orifice de buse au cours de la phase de transition de la période d'alimentation au niveau de laquelle (desquelles) la direction du mouvement de la position de l'orifice de buse par rapport à l'axe central de la cavité du moule, change (à savoir, la direction du mouvement dans les dimensions x et y). [0031] Le terme « point final de la phase de transition ou PFpl- » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la première position de l'orifice de buse à l'intérieur de la zone de type tore de la cavité d'un moule au niveau de laquelle la direction du mouvement de la position de l'orifice de buse par rapport à l'axe central de la cavité du moule, Caxe, change. Le point final de la phase de transition, PFp-r, est également la position de l'orifice de buse à la fin de la phase de transition de la période d'alimentation, qui précède immédiatement la phase restante de la période d'alimentation. [0032] Le terme « trajectoire de la phase de transition » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la trajectoire suivie par la position de l'orifice de buse au cours de la phase de transition de la période d'alimentation du point de départ de la phase de transition, PD., au point final de la phase de transition, PFK. [0033] Le terme « point de départ de la phase restante ou PDPR » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la position de l'orifice de buse au début de la phase restante de la période d'alimentation. Le point de départ de la phase restante, P 5, et le point final de la phase de transition, PFrr, sont situés à la même position. [0034] Le terme « points de transition de la phase restante ou PTPR » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne les positions de l'orifice de buse au cours de la phase restante de la période d'alimentation au niveau desquelles la direction du mouvement de la position de l'orifice de buse par rapport à l'axe central de la cavité du moule, C'... change. [0035] Le terme « point final de la phase restante ou PFPR tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la position de l'orifice de buse à la fin de la phase restante de la période d'alimentation, qui coïncide avec la fin de la période d'alimentation. [0036] Le terme « trajectoire de la phase restante » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne la trajectoire suivie par la position de l'orifice de buse au cours de la phase restante de la période d'alimentation du point de départ de la phase restante, PDPR, au point final de la phase restante, PFPR. [0037] Le terme « poly(uréthane) » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées recouvre (a) les polyuréthanes issus de la réaction des (i) isocyanates et des (ii) polyols (notamment les diols) ; et (b) le poly(uréthane) issu de la réaction des (i) isocyanates avec des (ii) polyols (notamment les diols) et (iii) de l'eau, des amines ou une combinaison d'eau et d'amines. [0038] Le terme « essentiellement constant » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées en référence à la vitesse d'introduction du mélange durcissable au cours de la période d'alimentation signifie que les expressions suivantes sont toutes deux satisfaites VI,' S (1,1 * VIm VI.. (0,9 V dans lesquelles VI représente le débit massique maximal (en kg/s) auquel le matériau durcissable est introduit dans la cavité du moule au cours de la période d'alimentation ; dans lesquelles VI:. représente le débit massique minimal (en kg/s) auquel le matériau durcissable est introduit dans la cavité du moule au cours de la période d'alimentation ; et dans lesquelles VI.. , représente la masse totale (en kg) du matériau durcissable introduit dans la cavité du moule au cours de la période d'alimentation divisée par la longueur de la période d'alimentation (en secondes). [0039] Le terme « temps de gélification » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées en référence à un mélange durcissable désigne le temps total de durcissement pour ce mélange tel que déterminé en utilisant un procédé d'essai standard conforme à la norme ASTM D3795-00a (réapprouvée en 2006) (Procédé d'essai standard pour le flux thermique, le durcissement et les propriétés C01.77,0Ortef77ef7tak2S des matériaux thermodurcissables versatiles par rhéomètre rotatif). [0040] Le terme « section transversale substantiellement circulaire » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées en référence à la cavité d'un moule (20) signifie que le rayon le plus long, rc, de la cavité du moule (20) projetée sur le plan x-y (30) de l'axe central de la cavité du moule, C',, (22) à une limite interne verticale (18) d'une paroi périphérique (15) est 20 % plus long que le rayon le plus court, rc, de la cavité du moule (20) projetée sur le plan x-y (30) de l'axe central de la cavité du moule, Caxe, (22) à la limite interne verticale (18). (Voir la Figure 1). [0041] Le terme « cavité du moule » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne le volume défini par la limite interne horizontale (14) de la base d'un moule (12) et la limite interne verticale (18) de la paroi périphérique (15). (Voir la Figures 1-2). [0042] Le terme « substantiellement perpendiculaire » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées en référence à un premier élément (par exemple, une limite interne horizontale ; une limite interne verticale) par rapport à un deuxième élément (par exemple, un axe, un plan x-y) signifie que le premier élément fait un angle de 80 à 100° avec le deuxième élément. [0043] Le terme « essentiellement perpendiculaire » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées en référence à un premier élément (par exemple, une limite interne horizontale ; une limite interne verticale) par rapport à un deuxième élément (par exemple, un axe, un plan x-y) signifie que le premier élément fait un angle de 85 à 95' avec le deuxième élément. [0044] Le terme « défaut de densité » tel qu'utilisé ici et dans les revendications annexées désigne une zone d'une couche de polissage ayant une concentration de charge significativement réduite par rapport au reste de la couche de polissage. Les défauts de densité sont détectables à l'oeil nu en plaçant la couche de polissage sur une table lumineuse, les défauts de densité se manifestant sous la forme de zones ayant une transparence sensiblement supérieure au reste de la couche de polissage. [0045] Le terme « rayon de l'orifice de buse ou ro-i- utilisé ici et dans les revendications annexées en référence à un orifice de buse désigne le rayon, re - du plus petit cercle, PPC, pouvant complètement occlure l'orifice de buse. À savoir, roT À des fins d'illustration, voir les Figures 7A et 7B. La Figure 7A est une représentation d'une vue en plan d'un orifice de buse (62a) complètement occlus par un plus petit cercle, PPC, (63a) ayant un rayon, rppc, (64a) ; dans lequel l'orifice de buse est circulaire. La Figure 7B est une représentation d'une vue en plan d'un orifice de buse (62b) complètement occlus par un plus petit cercle, PPC, (63b) ayant un rayon, rPPC, (64b) ; dans lequel l'orifice de buse est non circulaire. De préférence, roT vaut 5 à 13 mm. Plus préférablement roT vaut 8 à 10 mm. [0046] La base de moule (12) du moule (10) utilisé dans le procédé de la présente invention définit une limite interne horizontale (14) de la cavité du moule (20). (Voir, par exemple, les Figures 1-2). De préférence, la limite interne horizontale (14) de la cavité du moule (20) est plane. Plus préférablement, la limite interne horizontale (14) de la cavité du moule (20) est plane et est substantiellement perpendiculaire à l'axe central de la cavité du moule, Caxe. De manière préférée entre toutes, la limite interne horizontale (14) de la cavité du moule (20) est plane et est essentiellement perpendiculaire à l'axe central de la cavité du moule, Caxe. [0047] La paroi périphérique (15) du moule (10) utilisé dans le procédé de la présente invention définit une limite interne verticale (18) de la cavité du moule (20). (Voir, par exemple, les Figures 1-2). De préférence, la paroi périphérique définit une limite interne verticale (18) de la cavité du moule (20) qui est substantiellement perpendiculaire au plan x-y (30). Plus préférablement, la paroi périphérique définit une limite interne verticale (18) de la cavité du moule (20) qui est essentiellement perpendiculaire au plan >:-.y (30). [0048] La cavité du moule (20) comporte un axe centrai C (22) qui coïncide avec l'axe des z et qui coupe la limite interne horizontale (14) de la hase du moule (12) a un point central (21). De préférence, iC point central (21) est situé au centre géométrique de la section transversale, C:,. (24) de la cavité du moule (20) projetée sur le plan x-y (30). (Voir, par exemple, les Figures 1-3). [0049] La section transversale de la cavité du moule, C. -' projetée sur le plan x-y peut être toute forme bidimensionnelle régulière ou irrégulière. De préférence, la section transversale de la cavité du moule, C. est choisie parmi un polygone et une ellipse. Plus préférablement, la section transversale de la cavité du moule, C. est une section transversale substantiellement circulaire ayant un rayon moyen, rc (de préférence, où rc- vaut de 20 à 100 cm ; plus préférablement, où rci vaut de 25 à 65 cm ; de manière préférée entre toutes, où rc vaut de 40 à 60 cm). De manière préférée entre toutes, la cavité du moule ressemble à une zone de forme cylindrique droite présentant une section transversale substantiellement circulaire, C. ; dans lequel la cavité du moule a un axe de symétrie, C. qui coïncide avec l'axe central de la cavité du moule, C, ; dans lequel la zone de forme cylindrique droite a une surface en coupe transversale, Cx-surface définie comme suit : -x-surface = nrc 5 , 1 C où rc représente le rayon moyen de la surface en coupe transversale de la cavité du moule, Cx-surface, projetée sur le plan x-y ; et où rc vaut de 20 à 100 cm (plus préférablement de 25 à 65 cm ; de manière préférée entre toutes de 40 à 60 cm). [0050] La cavité du moule (20) comporte une zone de type trou de tore (40) et 20 une zone de type tore (50). (Voir, par exemple, les Figures 2-3). [0051] De préférence, la zone de type trou de tore (40) de la cavité du moule (20) est une zone de forme cylindrique droite à l'intérieur de la cavité du moule (20) qui projette une section transversale circulaire, (44) sur le plan x-y (30) et qui comporte un axe de symétrie de zone de type trou de tore, (42) ; dans 25 laquelle D . coïncide avec l'axe central de la cavité du moule, C.,, et l'axe des z. (Voir, par exemple, les Figures 2-3). La section transversale circulaire, D . (44) de la zone de type trou de tore (40) a une surface en coupe transversale, D , définie comme suit 2 DH x-surface 111DH / 30 où r. représente le rayon (46) de la section transversale circulaire de la zone de type trou de tore D , (44), De préférence, où rDH roi plus préférablement, où rDH vaut de 5 à 25 mm ; de manière préférée entre toutes, où rDH vaut de 8 à 15 mm). [0052] De préférence, la zone de type tore (50) de la cavité du moule (20) est une zone de forme toroïdale à l'intérieur de la cavité du moule (20) qui projette une section transversale annulaire, D. (54) sur le plan x-y (30) et qui comporte un axe de symétrie de la zone de type tore (52) ; dans laquelle D coïncide avec l'axe central de la cavité du moule, Ci. et l'axe des z. (Voir, par exemple, les Figures 2-3). La section transversale annulaire, D. ( 4) de la zone de type tore (50) a une surface en coupe transversale, D, ., définie comme suit 10 Dx-surface = 211111 - D2 où RD représente le grand rayon (56) de la section transversale annulaire de la zone de type tore D, ., ; où rD représente le petit rayon (58) de la section transversale annulaire de la zone de type tore Dx.H.,ct ; où rD rDH ; où RD > r© ; et où RD < rc. De préférence, où rD rDH et où rD vaut de 5 à 25 mm. Plus préférablement, où rD rDH 15 et où rD vaut de 8 à 15 mm. De préférence, où ro rDH ; où r0 > rD ; et où r0 (K * rc), où K vaut de 0,01 à 0,2 (plus préférablement, où K vaut de 0,014 à 0,1 ; de manière préférée entre toutes, où K vaut de 0,04 à 0,086). Plus préférablement, où rD rDH ; où RD > rD ; et où rD vaut de 20 à 100 mm (plus préférablement, où RD vaut de 20 à 80 mm ; de manière préférée entre toutes, où RD vaut de 25 à 50 mm). 20 [0053] La longueur de la période d'alimentation, PA, en secondes peut varier significativement. Par exemple, la longueur de la période d'alimentation, PA, dépend de la taille de la cavité du moule, de la vitesse moyenne d'introduction, VImoy, et des propriétés du mélange durcissable (par exemple, temps de gélification). De préférence, la période d'alimentation, PA, est de 60 à 900 secondes (plus 25 préférablement de 60 à 600 secondes, de manière préférée entre toutes de 120 à 360 secondes). Typiquement, la période d'alimentation, PA, est contrainte par le temps de gélification présenté par le mélange durcissable. De préférence, la période d'alimentation, PA, est inférieure ou égaie au temps de gélification présenté par le mélange durcissable introduit dans la cavité du moule. Plus préférablement, la 30 période d'alimentation, PA, est inférieure au temps de gélification présenté par le mélange durcissable. [0054] La vitesse d'introduction, VI, (en kg/s) peut varier au cours de la période d'alimentation, PA. Par exemple, la vitesse d'introduction, VI, peut être intermittente. Ainsi, la vitesse d'introduction, VI, peut momentanément chuter à zéro à un ou plusieurs moments de la période d'alimentation. De préférence, le mélange durcissable est introduit dans la cavité du moule à une vitesse essentiellement constante au cours de la période d'alimentation. Plus préférablement, le mélange durcissable est introduit dans la cavité du moule à une vitesse essentiellement constante au cours de la période d'alimentation, PA, avec une vitesse moyenne d'introduction, VI.. de 0,015 à 2 kg/s (plus préférablement de 0,0 à 1 kg/s ; de manière préférée entre toutes de 0,08 à 0,4 kg/s). [0055] La période d'alimentation, PA, se divise en trois différentes phases identifiées comme étant la phase initiale, la phase de transition et la phase restante. Le début de la phase initiale correspond au début de la période d'alimentation, PA. La fin de la phase initiale précède immédiatement le début de la phase de transition.

La fin de la phase de transition précède immédiatement le début de la phase restante. La fin de la phase restante correspond à la fin de la période d'alimentation, PA. [0056] La buse se déplace ou se transforme (par exemple, télescopes) au cours de la période d'alimentation, PA, de manière à ce que la position de l'orifice de buse se déplace dans les trois dimensions. La buse (60) se déplace ou se transforme (par exemple, télescopes) au cours de la période d'alimentation, PA, de manière à ce que la position de l'orifice de buse (62) se déplace par rapport à la base du moule (112) le long de l'axe central de la cavité du moule, C , (122) au cours de la période d'alimentation, PA, afin de maintenir la position de l'orifice de buse (62) au-dessus de la surface supérieure (72) du mélange durcissable (70) au fur et à mesure que le mélange durcissable (70) s'accumule dans la cavité du moule (120). (Voir les Figures 4A et 4B). De préférence, la position de l'orifice de buse (62) se déplace par rapport à la base du moule (112) le long de l'axe centrai de la cavité du moule, (122) au cours de la per-iode d'alimentation, PA, afin de maintenir la position de I rifice de buse (62) à une certaine élévation (65) au-dessus de la surface supérieure (72) du mélange durcissable (70) au fur et à mesure que le mélange durcissable (70) s'accumule dans la cavité du moule (120) ; l'élévation étant non nulle et inférieure ou égale à 30 mm (plus préférablement, non nulle et inférieure ou égale à 20 mm ; de manière préférée entre toutes, de 5 à 10 mm). (Voir la Figure 4B). La position de l'orifice de buse peut momentanément arrêter son mouvement le long de l'axe central de la cavité du moule, (à savoir, son mouvement dans la dimension z) au cours de la période d'alimentation. De préférence, la position de l'orifice de buse s'arrête momentanément dans son déplacement par rapport à l'axe central de la cavité du moule, C,,., à chaque point de transition de la phase de transition, PTpr, (le cas échéant) et à chaque point de transition de la phase restante, PTpR (à savoir, la position de l'orifice de buse s'arrête momentanément de se déplacer dans la dimension z). [0057] La position de l'orifice de buse se situe dans la zone de type trou de tore de la cavité du moule pendant toute la phase initiale de la période d'alimentation (à savoir, pendant la durée de la phase initiale). La position de l'orifice de buse peut rester stationnaire pendant toute la phase initiale, le point de départ de la phase initiale, PDpi, et le point final de la phase initiale, PFpl, étant la même position (à savoir, PDpi = PFpi). De préférence, lorsque PDpi = PFK, la phase initiale, dont la durée est non nulle, dure au plus 90 secondes (plus préférablement au plus 60 secondes ; de manière préférée entre toutes de 5 à 30 secondes). De manière préférée entre toutes, la position de l'orifice de buse reste stationnaire depuis le début de la phase initiale de la période d'alimentation jusqu'à ce que la surface supérieure du mélange durcissable situé dans la cavité du moule commence à s'élever, moment auquel la phase de transition commence ; le point de départ de la phase initiale, PDp, (80) et le point final de la phase initiale, PFpi, (81a) (lequel point coïncide avec le point de départ de la phase de transition, PD?.F, (82a)) étant la même position à l'intérieur de la zone de type trou de tore (140) de la cavité du moule (220) le long de l'axe central de la cavité du moule, (222). De préférence, la zone de type trou de tore (140) étant un cylindre droit à base circulaire; et l'axe de symétrie du trou de tore, DH ,.., (142) coïncidant avec l'axe central de la cavite du moule, C (222) et des z. (Voir les Figures 5A-5C).

La position de l'orifice de buse peut se déplacer au cours de la phase initiale, le point de départ de la phase initiale, P , étant différent du point final de la phase initiale, PFr1 (à savoir, PDpi PF ). De préférence, lorsque PD..., PF; la phase initiale, dont la durée est non nulle, dure au plus (PA-10,02) secondes ; PA étant la période d'alimentation en secondes. Plus préférablement, lorsque PD,7 - PFpi ; la phase initiale, dont la durée est non nulle, dure au plus (PA-30) secondes ; PA étant la période d'alimentation en secondes. De manière préférée entre toutes, lorsque la surface supérieure du matériau durcissable présent dans la cavité du moule (220) s'élève au cours de la phase initiale de la période d'alimentation, L position de l'orifice de buse se déplace de préférence à l'intérieur de la zone de type trou de tore (140) de la cavité du moule (220) le long de l'axe central de la cavité du moule, (222) du point de départ de la phase initiale, PD1, (80) au point final de la phase initiale, PFK, (81b) (lequel point coïncide avec le point de départ de la phase de transition, Ppm-, (821))) afin de maintenir la position de l'orifice de buse à une certaine élévation au-dessus de la surface supérieure du matériau durcissable au fur et à mesure qu'il s'accumule dans la cavité du moule (220) pendant toute la phase initiale de la période d'alimentation. (Voir les Figures 5A-5C). [0058] La position de l'orifice de buse se déplace d'un point à l'intérieur de la zone de type trou de tore de la cavité du moule à un point à l'intérieur de la zone de type tore au cours de la phase de transition de la période d'alimentation. De préférence, la phase de transition dure de 0,02 à 30 secondes (plus préférablement, de 0,2 à 5 secondes ; de manière préférée entre toutes, de 0,6 à 2 secondes). De préférence, la position de l'orifice de buse se déplace par rapport à l'axe central de la cavité du moule, C,xe, au cours de la phase de transition à une vitesse moyenne de 10 à 70 mm/s (plus préférablement de 15 à 35 mm/s, de manière préférée entre toutes de 20 à 30 mm/s). De préférence, le mouvement de la position de l'orifice de buse s'arrêtant momentanément dans son déplacement par rapport à l'axe central de la cavité du moule, (à savoir, s'arrêtant momentanément de se déplacer dans les dimensions x et y) à chaque point de transition de la phase de transition, PT,T, (le cas échéant) et au point final de la phase de transition, PFp.i. De préférence, la position de l'orifice de buse se déplace à vitesse constante par rapport à l'axe central de la cavité du moule, C,,. au cours de la phase de transition du point de départ de la phase de transition, PD- en passant par tout point de transition de la phase de transition, PT:- jusqu'au point final de la phase de transition, PFp,. De préférence, au cours de la phase de transition la position de l'orifice de buse se déplace du point de départ de la phase de transition, PDpr, en passant par une pluralité de points de transition de la phase de transition, PTp-F, jusqu'au point final de la phase de transition, PFp: ; la trajectoire de la phase de transition projetée sur le plan x-y étant proche d'une courbe (la trajectoire de la phase de transition étant plus préférablement proche d'un arrondi en spirale). De manière préférée entre toutes, au cours de la phase de transition la position de l'orifice de buse se déplace directement du point de départ de la phase de transition, PDH-, au point final de la phase de transition, la trajectoire de la phase de transition projetée sur le plan x-y étant une ligne droite. [0059] Les Figures 5A-5C représentent trois différentes trajectoires de la phase de transition dans la cavité d'un moule (220) ayant un axe central, C (222) ; une zone de forme cylindrique droite de type trou de tore (140) comportant un axe de symétrie, DH'e, (142) ; et une zone de forme toroïdale de type tore (150) comportant un axe de symétrie, Daxe, (152) ; l'axe central de la cavité du moule, Caxe, (222), l'axe de symétrie du trou de tore, DHaxe, (142) et l'axe de symétrie du tore, Daxe, (152) coïncidant chacun avec l'axe des z. Une première trajectoire de la phase de transition illustrée sur les Figures 5A-5C commence à un point de départ de la phase de transition, PDPT, (82a) dans la zone de type trou de tore (140) de la cavité d'un moule (220) et passe directement à un point final de la phase de transition, PFPT, (89) dans la zone de type tore (150) de la cavité du moule (220) ; la trajectoire de la phase de transition 83a formant une seule ligne droite (84) par projection sur le plan x-y (130). Une deuxième trajectoire de la phase de transition illustrée sur les Figures 5A-5C commence à un point de départ de la phase de transition, Pni-7, (82b) dans la zone de type trou de tore (140) de la cavité d'un moule (220) et passe directement à un point final de la phase de transition, PEpT, (89) dans la zone de type tore (150) de la cavité du moule (220), la trajectoire de la phase de transition 83b formant par projection une seule ligne droite (84) sur le plan x-y (130). Une troisième trajectoire de la phase de transition illustrée sur les Figures 5A-5C commence à un point de départ de la phase de transition, PDri, (82a) à l'intérieur de la zone de type trou de tore (140) ; passe par un point de transition de la phase de transition, PT::7, (88) à l'intérieur de la zone de type trou de tore (140) puis passe au point final de la phase de transition, )F;.,:, (89) situé à l'intérieur de la zone de type tore (150) ; la trajectoire de la phase de transition (85) formant par projection une paire de lignes reliées entre elles (87) sur le plan x- y (130). Il convient de noter que le point final de la phase de transition, PF (89) correspond au point de départ de la phase restante, P .:., (90) (à savoir, ils sont situés à la même position). [0060] La position de l'orifice de buse se situe dans la zone de type tore au cours de la phase restante de la période d'alimentation (à savoir, la position de l'orifice de buse peut passer par la zone de type trou de tore ou résider dans celle-ci pendant une certaine fraction de la phase restante de le période d'alimentation). De préférence, la position de l'orifice de buse se situe dans la zone de type tore pendant toute la phase restante de la période d'alimentation (à savoir, pendant la durée de la phase restante). De préférence, la phase restante dure 2 10 secondes. Plus préférablement, la phase restante dure de 10 à < (PA-0,2) secondes ; PA représentant la période d'alimentation en secondes. Encore plus préférablement, la phase restante dure de 30 à < (PA-0,2) secondes ; PA représentant la période d'alimentation en secondes. De manière préférée entre toutes, la phase restante dure de 0,66 * PA à < (PA-0,2) secondes ; PA représentant la période d'alimentation en secondes. De préférence, la position de l'orifice de buse se déplace par rapport à l'axe central de la cavité du moule, Caxe, au cours de la phase restante à une vitesse moyenne de 10 à 70 mm/s (plus préférablement 15 à 35 mm/s, de manière préférée entre toutes 20 à 30 mm/s). De préférence, la position de l'orifice de buse peut momentanément s'arrêter dans son déplacement par rapport à l'axe central de la cavité du moule, C, au cours de la phase restante, par exemple à chaque point de transition de la phase restante, PTi,R: (à savoir, la position de l'orifice de buse peut momentanément s'arrêter de se déplacer clans les dimensions x et y). De préférence, la position de l'orifice de buse se déplace à vitesse constante par rapport à l'axe central de la cavité du moule, C, au cours de la phase restante du point de départ de la phase restante, en passant par chacun des points de transition de la phase restante, PT De préférence, au cours de la phase restante la position de l'orifice de buse se déplace à partir du point de départ de la phase restante, en passant par une pluralité de points de transition de la phase restante, P ; la trajectoire de la phase restante formant par projection une série de lignes reliées entre elles sur le plan x-y. De préférence, les points de transition de la phase restante, PT5, sont tous situés à l'intérieur de la zone de type tore de la cavité du moule. De préférence, la série de lignes reliées entre elles projetées sur le plan x-y par la trajectoire de la phase restante est proche soit d'un cercle soit d'une spirale bidimensionnelle à une distance variable de l'axe central de la cavité du moule, C,, De préférence, la série de lignes reliées entre elles projetées sur le plan x-y par la trajectoire de la phase restante est proche d'une spirale bidimensionnelle, les points de transition successifs de la phase restante, PT:;.,;., se projetant sur le plan x-y à une distance croissante ou bien décroissante de l'axe central de la cavité du moule, Caxe.

Plus préférablement, la série de lignes reliées entre elles projetées sur le plan x-y par la trajectoire de la phase restante est proche d'un cercle, les points de transition successifs de la phase restante, PTPR, se projetant sur le plan x-y à une distance égale de l'axe central de la cavité du moule, Caxe, et la série de lignes reliées entre elles projetées sur le plan x-y par la trajectoire de la phase restante représentant un polygone régulier (à savoir, équilatéral et équiangulaire). De préférence, le polygone régulier ayant 5 côtés (plus préférablement 2 8 côtés ; de manière préférée entre toutes 2 10 côtés ; de préférence 100 côtés ; plus préférablement 50 côtés ; de manière préférée entre toutes 20 côtés). De manière préférée entre toutes, la trajectoire de la phase restante étant proche d'une hélice. À savoir, au cours de la phase restante la position de l'orifice de buse continue à se déplacer le long de l'axe central de la cavité du moule, Caxe, afin de maintenir l'élévation souhaitée au-dessus de la surface supérieure du mélange durcissable s'accumulant dans la cavité du moule tandis que la position de l'orifice de buse trace simultanément une trajectoire qui projette un polygone régulier sur le plan x-y (de préférence, le polygone régulier ayant 5 à 100 côtés ; plus préférablement, 5 à 50 côtés ; encore plus préférablement, 8 à 25 côtés ; de manière préférée entre toutes, 8 à 15 côtés). [0061] Les Figures 6A-6C représentent une partie d'une trajectoire de la phase restante (95) préférée qui est proche d'une hélice à l'intérieur de la cavité du moule (220) ayant un axe central, (222) ; une zone de forme cylindrique droite de type trou de tore (140) comportant un axe de symétrie, D1-1,.., (142) ; et une zone de forme toroïdale de type tore (150) comportant un axe de symétrie, (152) l'axe central de la cavité du moule, C. (222), l'axe de symétrie du trou de tore, DH. (142) et l'axe de symétrie du tore, D, (152) coïncidant chacun avec l'axe des z. La trajectoire de la phase restante (95) commence à un point de départ de la phase restante, PDH.,, (90) à l'intérieur de la zone de type tore (150) de la cavité du moule (220) et passe par une pluralité de points de transition de la phase restante, 5PTpk, (92) dans la zone de type tore (150) de la cavité du moule (220) ; tous les points de transition de la phase restante, PT, étant à égale distance de l'axe central de a cavité du moule, C (222) ; et la trajectoire de la phase restante 95 formant par projection sur le plan x-y (130) dix lignes d'égale longueur (97) formant un décaèdre régulier (100). Il convient de noter que le point de départ de 10 la phase restante, PDpR, (90) correspond au point final de la phase de transition, PFpr, (89) (à savoir, ils sont situés à la même position). [0062] Le mélange durcissable comprend de préférence un matériau prépolymère liquide et une pluralité de microéléments, la pluralité de microéléments étant uniformément dispersés dans le matériau prépolymère liquide. 15 [0063] Le matériau prépolymère liquide polymérise (à savoir, durcit) de préférence pour former un matériau choisi parmi le poly(uréthane), la polysulfone, la polyéther sulfone, le nylon, le polyéther, le polyester, le polystyrène, un polymère acrylique, la polyurée, le polyamide, le chlorure de polyvinyle, le fluorure de polyvinyle, le polyéthylène, le polypropylène, le polybutadiène, la polyéthylène-imine, le 20 polyacrylonitrile, l'oxyde de polyéthylène, la polyoléfine, le poly(alkyl)acrylate, le poly(alkyl)méthacrylate, le polyamide, le polyéther-imide, la polycétone, l'époxy, la silicone, un polymère fabriqué à partir d'un monomère d'éthylène-propylène-diène, une protéine, un polysaccharide, un polyacétate et une combinaison d'au moins deux des composés précédents. De préférence, le matériau prépolymère liquide 25 polymérise pour former un matériau comprenant un poly(uréthane). Plus préférablement, le matériau prépolymère liquide polymérise pour former un matériau comprenant un polyuréthane. De manière préférée entre toutes, le matériau prépolymère liquide polymérise (durcit) pour former un polyuréthane. [0064] De préférence, le matériau prepolymère liquide comprend un matériau 30 contenant du polyisocyanate. Plus préférablement, le matériau prépolymère liquide comprend le produit de la réaction d'un polyisocyanate (par exemple, le diisocyanate) et d'un matériau contenant des groupes hydroxyles. [0065] De préférence, le polyisocyanate est choisi parmi le bis-4/4'-cyclohexylisocyanate de méthylène ; le diisocyanate de cyclohexyle ; le diisocyanate d'isophorone ; le diisocyanate d'hexaméthylène ; le propylène-i,2-diisocyanate ; le tétraméthylène-1,4-diisocyanate ; le 1,6-hexaméthylène-diisocyanate ; le dodécane- 1,12-diisocyanate ; le cyclobutane-1,3-diisocyanate ; le cyclohexane-1,3- diisocyanate ; le cyclohexane-1,4-diisocyanate ; le 1-isocyanato-3,3,5-triméthy1-5- isocyanatométhylcyclohexane ; le diisocyanate de méthylcyclohexylène ; le triisocyanate de diisocyanate d'hexaméthylène ; le triisocyanate de diisocyanate de 2,4,4-triméthy1-1,6-hexane ; l'urtdione de diisocyanate d'hexaméthylène ; le diisocyanate d'éthylène ; le diisocyanate de 2,2,4-triméthyihexaméthylène ; le diisocyanate de 2,4,4-tri-méthylhexaméthylène ; le diisocyanate de dicyclohexylméthane ; et leurs combinaisons. De manière préférée entre toutes, le polyisocyanate est aliphatique et comporte moins de 14 pour cent de groupes isocyanate n'ayant pas réagi. [0066] De préférence, le matériau contenant des groupes hydroxyles utilisé dans la présente invention est un polyol. Les exemples de polyols comprennent, par exemple, les polyéther polyols, le polybutadiène à terminaison hydroxy (notamment les dérivés partiellement et entièrement hydrogénés), les polyester polyols, les polycaprolactone polyols, les polycarbonate polyols, et leurs mélanges. [0067] Les polyols préférés comprennent les polyéther polyols. Les exemples de polyéther polyols comprennent le polytétraméthylène éther glycol (« PTMEG »), le polyéthylène propylène glycol, le polyoxypropylène glycol et leurs mélanges. La chaîne hydrocarbonée peut comporter des liaisons saturées ou insaturées et des groupes aromatiques et cycliques substitués ou non substitués. De préférence, le polyol de la présente invention comprend du PTMEG. Les polyester polyols adéquats comprennent, mais sans que ce soit limitatif, le polyéthylène adipate glycol ; le polybutylène adipate glycol ; le polyéthylène propylène adipate glycol ; l'o-phtalate1,6-hexanediol ; le poly(hexaméthylène adipate) glycol ; et leurs mélanges. La chaïne hydrocarbonee peut comporter des liaisons saturées ou i; saturées, ou des groupes aromatiques et cycliques substitués ou non substitués. Les polycaprolactone polyols adéquats comprennent, mais sans que ce soit limitatif, la polycaprolactone initiée par le 1,6-hexanediol ; la polycaprolactone initiée par le diéthylène glycol ; la polycaprolactone initiée par le triméthylol propane ; la polycaprolactone initiée par le néopentyl glycol ; la polycaprolactone initiée par le i,4-butanediol ; la polycaprolactone initiée par le PTMEG ; et leurs mélanges. La chaîne hydrocarbonée peut comporter des liaisons saturées ou insaturées, ou des groupes aromatiques et cycliques substitués ou non substitués. Les polycarbonates adéquats comprennent, niais sans que ce soit limitatif, le polyphtulate carbonate et le poly(hexaméthylène carbonate) glycol. [0068] De préférence, la pluralité de microéléments sont choisis parmi les bulles de gaz piégées, les matériaux polymères à coeur creux (à savoir, microsphères), les matériaux polymères à coeur creux remplis de liquide, les matériaux solubles dans l'eau (par exemple, cyclodextrine) et un matériau en phase insoluble (par exemple, huile minérale). De préférence, la pluralité de microéléments sont des microsphères, tels que des alcools polyvinyliques, de la pectine, de la polyvinylpyrrolidone, de l'hydroxyéthylcellulose, de la méthylcellulose, de l'hydropropylméthylcellulose, de la carboxyméthylcellulose, de l'hydroxypropylcellulose, des acides polyacryliques, des polyacrylamides, des polyéthylène glycols, des polyhydroxyétheracrylites, des amidons, des copolymères à base d'acide maléique, de l'oxyde de polyéthylène, des polyuréthanes, de la cyclodextrine et leurs combinaisons (par exemple, ExpancelTM de Akzo Nobel de Sundsvall, Suède). Les microsphères peuvent être chimiquement modifiées pour changer la solubilité, le gonflement et autres propriétés par ramification, blocage et réticulation, par exemple. De préférence, les microsphères ont un diamètre moyen qui est inférieur à 150 pm, et plus préférablement un diamètre moyen d'au moins 50 pm. De manière préférée entre toutes, les microsphères 48 ont un diamètre moyen qui est inférieur à 15 pm. Il convient de noter que l'on peut faire varier le diamètre moyen des microsphères et que des tailles différentes ou des mélanges de différentes microsphères 48 peuvent être utilisés. Un matériau préféré entre tous pour les microsphères est un copolymère d'acrylonitrile et de chlorure de vinylidène (par exemple, Expancel P.: disponible auprès de Akzo Nobel). [0069] Le matériau prépolymère liquide comprend également, optionnellement, un agent de durcissement (ou de réticulation). Les agents de durcissement préférés comprennent les diamines. Les polydiamines adéquates comprennent à la fois les amines primaires et les amines secondaires. Les polydiamines préférées comprennent, mais sans que ce soit limitatif, la diéthyl toluène diamine (« DE1DA ») la 3,5-diméthylthio-2,4-toluènediamine et ses isomères ; la 3,5- diéthyltoluène-2,4-diamine et ses isomères (par exemple, la 3 -cliéthyltoluène-2,6- diamine) ; le 4,4'-bis-(sec-butylamino)-diphénylmethane ; le 1,4-bis-(sec- butylamino)-benzène ; la 4,4'-méthylène-bis-(2-chloroaniline) ; la 4,4r-méthylènebis-(3-chloro-2,6-diéthylaniline) (« MCDEA ») ; le polytétraméthylèneoxyde-di-paminobenzoate ; le N,N'-dialkyldiarninodiphénylméthane ; la p,p'-méthylène dianiline (« MDA ») ; la m-phénylènediamine (« MPDA ») ; la méthylène-bis-2-chloroaniline (« MBOCA ») la 4,4'-méthylène-bis-(2-chloroaniline) (« MOCA ») ; la 4,4'- méthylène-bis-(2,6-diéthylaniline) (« MDEA ») ; la 4,4'-méthylène-bis-(2,3- dichloroaniline) (« MDCA ») ; le 4,4'-diamino-3,3'-diéthy1-5,5'- diméthyldiphénylméthane, le 2,2',3,3'-tétrachlorodiaminodiphénylméthane ; le triméthylène glycol di-p-aminobenzoate ; et leurs mélanges. De préférence, l'agent de durcissement diaminé est choisi parmi la 3,5-diméthylthio-2,4-toluènediamine et ses isomères. [0070] Les agents de durcissement peuvent également comprendre les diols, les triols, les tétraols et les agents de durcissement à terminaison hydroxy. Les diols, triols, et groupes tétraol adéquats comprennent l'éthylène glycol ; le diéthylène glycol ; le polyéthylène glycol ; le propylène glycol ; le polypropylène glycol ; le polytétraméthylène éther glycol de bas poids moléculaire; le 1,3-bis(2- hydroxyéthoxy)benzène ; le 1,3-bis-[2-(2-hydroxyéthoxy)éthoxy]benzène ; le 1,3- bis-{2-[2-(2-hydroxyéthoxy)éthoxy]éthoxy}benzène ; le 1,4-butanediol ; le 1,5- pentanediol ; le 1 -hexanedïol ; le résorcinol-di-(bêta-hydroxyéthyl)éther ; l'hydroquinone-d -(bêta-hydroxyéthypether ; et leurs mélanges. Les agents de durcissement à terminaison hydroxy préférés comprennent. le 1,3-bis(2- hydroxyéthoxy)benzene ; le 1,3-bis-[2-(2-hydroxyéthoxy)éthoxy]benzène ; le 1,3- bis-{242-(2-hydro.,:yethoxy)éthoxy]ethoxy}benzène ; le 1,4-butanediol ; et leurs mélanges. Les agents de durcissement à terminaison hydrwy et diamines peuvent comprendre un ou [Plusieurs groupes satures, insaturés., aromatiques et cycliques. Par ailleurs, les agents de durcissement à terminaison hydroxy et diamine peuvent comprendre un ou plusieurs groupes halogénés. [0071] De préférence, la galette est découpée en tranches, ou sectionnée de manière similaire, en une pluralité de couches de polissage d'épaisseur souhaitée. [0072] De préférence, le procédé de la présente invention consistant à former une couche de polissage pour tampon de polissage chimico-mécanique, comprend en outre : la production d'un bloc-fenêtre et la mise en place du bloc-fenêtre dans la cavité du moule. Le bloc-fenêtre peut être placé dans la cavité du moule avant ou après que le mélange durcissable est transféré dans la cavité du moule. De préférence, le bloc-fenêtre est placé dans la cavité du moule avant que le mélange durcissable soit transféré dans la cavité du moule. De préférence, le procédé de la présente invention comprend en outre : la fixation du bloc-fenêtre à la base du moule (de préférence à la limite interne horizontale de la base du moule). De préférence, le procédé de la présente invention comprend en outre : la production d'un adhésif pour bloc-fenêtre et la fixation du bloc-fenêtre à la base du moule (de préférence à la limite interne horizontale de la base du moule). On pense que la fixation du bloc-fenêtre à la base du moule réduit la formation de distorsions de la fenêtre (par exemple, fenêtre bombée vers l'extérieur à partir de la couche de polissage) lorsque l'on découpe (par exemple, découpage en tranches) une galette en une pluralité de couches de polissage. [0073] Les formulations de bloc-fenêtre adéquates pour l'utilisation dans les tampons de polissage chimico-mécanique sont bien connues. [0074] De préférence, les galettes produites en utilisant le procédé de la présente invention contiennent moins de défauts de densité que les galettes produites en utilisant le même procédé mis à part que pendant la période d'alimentation, PA, la position de l'orifice de buse ne se déplace que dans une seule dimension le long de l'axe central de la cavité du moule, C (à savoir, afin de maintenir la position de l'orifice de buse a une élévation définie au-dessus de la surface supérieure du matériau durcissable au fur et à mesure qu'il s'accumule dans la cavité du moule). Les galettes produites en utilisant le procédé de la présente invention produisant plus préférablement au moins 50 % de plus (plus préférablement au moins 75 plus ; de manière préférée entre toutes au moins 100 cvb de plus) de couches de polissage sans défauts de densité par galette. La cavité du moule ayant encore plus préférablement une section transversale substantiellement circulaire ayant un rayon moyen, rc ; où ri vaut de 40 à 60 cm ; et la galette produite à l'aide du procédé de la présente invention décrivant une augmentation par un facteur 2 (plus préférablement une augmentation par un facteur 3) du nombre de couches de polissage sans défauts de densité par rapport au nombre de couches de polissage sans défauts de densité produites par une galette produite à l'aide du mème procédé mis à part que pendant la période d'alimentation, PA, la position de l'orifice de buse ne se déplace que dans une seule dimension le long de l'axe central de la cavité du moule, C.

Claims

REVENDICATIONS1. Procédé de préparation d'une couche de polissage pour tampon de polissage chimico-mécanique, caractérisé en ce qu'il comprend la fourniture d'un moule (10), comportant une base de moule (
2) et une paroi périphérique (15), dans lequel la base du moule et la paroi périphérique définissent la cavité du moule, dans lequel la base du moule est orientée sur un plan x-y, dans lequel la cavité du moule comporte un axe central, (22), qui est perpendiculaire au plan x-y, et dans lequel la cavité du moule (20 ;220) comporte une zone de type trou de tore (40 ;140) et une zone de type tore (50 ;1 0), la fourniture d'un matériau prépolymère liquide ; la fourniture d'une pluralité de microéléments ; la fourniture d'une buse (60), comportant un orifice de buse (62); la combinaison du matériau prépolymère liquide avec la pluralité de microéléments pour former un mélange durcissable ; l'introduction du mélange durcissable par l'orifice de buse (62) dans la cavité du moule (20) pendant une période d'alimentation, PA, la période d'alimentation PA étant divisée en trois différentes phases identifiées comme étant la phase initiale, la phase de transition et la phase restante ; dans lequel l'orifice de buse (62) a une position et dans lequel la position de l'orifice de buse se déplace par rapport à la base du moule le long de l'axe central de la cavité du moule, au cours de la période d'alimentation, PA, afin de maintenir la position de l'orifice de buse au-dessus de la surface supérieure du mélange durcissable situé dans la cavité du moule au fur et à mesure que te mélange durcissable s'accumule dans la cavité du moule ; dans lequel la position de l'orifice de buse se situe dans la zone de type trou de tore pendant toute la phase initiale ; dans lequel la position de l'orifice de buse passe de la zone de type trou tore à la zone de type tore au cours de la phase de transition ; dans lequel la position de l'orifice de buse (62) se situe dans la zone de type tore au cours de la phase restante ;le durcissement du mélange durcissable situé dans la cavité du moule (20 ;220) sous la forme d'une galette ; et, l'obtention de la couche de polissage à partir de la galette. 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel la base du moule (12) définit la limite interne horizontale de la cavité du moule (20 ;220); et dans lequel la limite interne horizontale est plane.
3. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le mouvement de la position de l'orifice de buse (62) s'arrête momentanément dans son déplacement par rapport à l'axe central de la cavité du moule, C au cours de la phase restante.
4. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le mélange durcissable est introduit dans la cavité du moule (20 ;220) à une vitesse essentiellement constante au cours de la période d'alimentation, PA, avec une vitesse moyenne d'introduction, VImoy, de 0,015 à 2 kg/s.
5. Procédé selon la revendication 1, dans lequel la cavité du moule (20 ;220) est symétrique autour de l'axe central de la cavité du moule, Caxe.
6. Procédé selon la revendication 5, dans lequel la cavité du moule (20 ;220) est sensiblement une zone de forme cylindrique droite présentant une section transversale sensiblement circulaire, Cx-sect ; dans lequel la cavité du moule a un axe de symétrie, Cx_sym, qui coïncide avec l'axe central de la cavité du moule, Caxe ; dans lequel la zone de forme cylindrique droite a une surface en coupe transversale, Cx_surface, définie comme suit : Cx-surface = nrC2, où rc représente le rayon moyen de la surface en coupe transversale de la cavité du moule, C, projetée sur le plan x-y ; dans lequel la zone de type trou de tore est une zone de forme cylindrique droite à l'intérieur de la cavité du moule qui projette une section transversale circulaire, DH' sur ïe plan x-y et qui a un axe de symétrie, DH: ; dans lequel le trou de tore a une surface en coupe transversale, DH. . , définie comme suit = , çà n.. représente le rayon de la section transversale circulaire de la zone de type trou de tore dans lequel la zone de type tore est une zone de forme toroïdale à l'intérieur de la cavité du moule qui projette une section transversaleannulaire, D sur le plan -y et qui comporte un axe de symétrie de la zone de type tore D ; dnn enuel la section transversale annulaire, D. T: une surrace en cou De trnnsversr définie comme suit Où z.oft- e grand rayon de la section nsversal, de r représente e petit rayon de la urztion transversale annulaire e zone de tyne oie D ; r:; cLins loque chacun , de DH ..et de D .est perpendicubire au plan
7. Procédé selon le revendication 6, où R:: où K vaut de 0,01 à 10 0,2.
8. Procédé selon la revendication 6, où rD = rDH ; où rû vaut de 5 à 25 mm ; où RD vaut de 20 à 100 mm ; où ru vaut de 20 à 100 cm.
9. Procédé selon l'une quelconques des revendications 1 à 8, dans lequel l'obtention de la couche de polissage à partir de la galette comprend 15 le découpage en tranches de la galette en une pluralité de couches de polissage.
10. Procédé selon la revendication 9, dans lequel la galette produite à l'aide du procédé de la présente invention présente moins de défauts de densité qu'une autre galette produite à l'aide du même procédé mis à part que pendant la période 20 d'alimentation, PA, la position de l'orifice de buse ne se déplace que dans une seule dimension le long de l'axe central de la cavité du moule, Caxe.