FR2932598A1

FR2932598A1 - Electronic display device e.g. monochrome organic LED device, for forming luminous badge, has continuous active region defined by non-ablated part of proximal electrode, where part extends continuously for electrical power supply of region

Info

Publication number: FR2932598A1
Application number: FR0803308A
Authority: FR
Inventors: Christophe Prat
Original assignee: Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Current assignee: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Priority date: 2008-06-13
Filing date: 2008-06-13
Publication date: 2009-12-18

Abstract

The device (1') has an electrical contact zone (5) connected to an emission zone (4). An electroluminescent unit incorporates an organic material based light emitting structure between distal and proximal electrodes. A non emitting deactivated region is formed by laser ablation of the proximal electrode covered by a protection layer. A remaining part of the emission zone has a continuous active light emitting region defined by a non-ablated part (13) of the proximal electrode. The part extends continuously for electrical power supply of the region activated by the contact zone. An independent claim is also included for a method for fabricating an electronic display device.

Description

DISPOSITIF D'AFFICHAGE ELECTRONIQUE ET SON PROCEDE DE FABRICATION. ELECTRONIC DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR.

La présente invention concerne un dispositif d'affichage électronique notamment utilisable pour constituer un badge lumineux, et son procédé de fabrication. L'invention s'applique en particulier à un dispositif émetteur de lumière de type à diodes électroluminescentes organiques ( OLED pour organic light-emitting diode ) monochrome ou polychrome à zones de couleurs. The present invention relates to an electronic display device particularly useful for constituting a light badge, and its manufacturing method. The invention applies in particular to a light emitting device of the organic light-emitting diode type (OLED) type monochrome or polychrome color zones.

De manière connue, les dispositifs émissifs à diodes électroluminescentes organiques comprennent : - une zone d'émission lumineuse formée par une structure émettrice de lumière qui comprend au moins un film organique et qui est intercalée entre deux électrodes inférieure et supérieure dont l'une au moins est transparente ou semi-transparente à la lumière émise, et - une zone de contact électrique, qui est en général agencée de manière adjacente à cette zone d'émission et qui comprend au moins une zone de contact avec l'électrode inférieure et une zone de contact avec l'électrode supérieure, chaque zone pouvant être constituée physiquement d'une pluralité de connexions afin de minimiser les résistances d'accès. Ces dispositifs sont usuellement protégés de l'humidité et de l'oxygène de l'air ambiant par une plaque de protection par exemple en verre, ou bien par une ou plusieurs couches d'encapsulation assemblées sur la zone d'émission. Pour l'obtention de motifs lumineux prédéterminés sur des dispositifs OLED , on procède usuellement à une structuration préalable de l'électrode inférieure au moyen d'un masque de photolithographie avant d'y déposer la structure émettrice à film organique, du fait qu'une telle structure ne peut pas supporter sans dommages un traitement par photolithographie. Un inconvénient de ces dispositifs OLED connus réside dans la nécessité de fabriquer autant de masques de photolithographie que de motifs souhaités en vue de la structuration de cette électrode inférieure, ce 30 qui génère un coût global de fabrication relativement élevé pour l'obtention d'un nombre donné de dispositifs à motifs variés. Un autre inconvénient est que la structuration a lieu pendant la réalisation du dispositif émissif. Un but de la présente invention est de proposer un dispositif d'affichage électronique permettant notamment de remédier à ces inconvénients, ce dispositif comprenant un substrat revêtu sur l'une au moins de ses faces d'une unité électroluminescente, laquelle comprend une zone d'émission à base de matériaux organiques et une zone de contact électrique connectée à cette zone d'émission, cette unité incorporant une structure émettrice de lumière intercalée entre deux électrodes respectivement proximale et distale vis-à-vis de la face externe de la zone d'émission, laquelle comprend au moins une région désactivée non émettrice de lumière formée par ablation laser locale d'au moins l'électrode proximale. A cet effet, un dispositif selon l'invention est tel que le reste de la zone d'émission est constitué d'une région active continue émettrice de lumière définie par la partie non ablatée de l'électrode proximale, laquelle s'étend continûment pour l'alimentation électrique de cette région active par la zone de contact. Avantageusement, la ou chaque unité électroluminescente de ce dispositif d'affichage selon l'invention peut être monochrome ou bien polychrome à zones distinctes émettant respectivement différentes couleurs. Par région active continue au sens de la présente description, on entend une région optiquement active qui est formée d'un seul tenant (i.e. en un seul morceau) autour et/ou à l'intérieur de la ou chaque région désactivée, optiquement inactive du fait de cette ablation. En particulier, cette région active peut être formée de plusieurs régions géométriquement connexes, en ce sens qu'elles communiquent entre elles. On notera que l'ablation laser a déjà été proposée dans le domaine des écrans OLED , par exemple dans le document US-B- 7 332 263 qui présente un dispositif d'affichage OLED de type matriciel, plus spécifiquement à matrice passive. Dans ce document, la zone d'émission est pixellisée par ablation laser de sorte que les portions non ablatées (i.e. optiquement actives) forment les pixels de la matrice, c'est-à-dire des plots électriquement indépendants séparés les uns des autres par une portion ablatée (i.e. optiquement désactivée) ne comportant plus ni l'électrode supérieure, ni la partie de la structure émettrice sous-jacente, ni l'électrode inférieure. Il s'agit donc uniquement dans ce document d'individualiser les pixels de la matrice et non pas, comme dans la présente invention, de se servir des zones ablatées pour réaliser un ou des motif(s), ce qui nécessite de maintenir une zone active continue. In a known manner, the emitting devices with organic light-emitting diodes comprise: a light emission zone formed by a light-emitting structure which comprises at least one organic film and which is interposed between two lower and upper electrodes of which at least one is transparent or semi-transparent to the light emitted, and - an electrical contact zone, which is generally arranged adjacent to this emission zone and which comprises at least one contact zone with the lower electrode and a zone contacting the upper electrode, each zone being able to consist physically of a plurality of connections in order to minimize the access resistances. These devices are usually protected from the humidity and oxygen of the ambient air by a protective plate, for example glass, or by one or more encapsulation layers assembled on the emission zone. In order to obtain predetermined light patterns on OLED devices, the lower electrode is usually preliminarily structured by means of a photolithography mask before depositing the organic film emitting structure therein, since such a structure can not withstand without damage a photolithography treatment. A disadvantage of these known OLED devices lies in the need to manufacture as many photolithography masks as desired patterns for the structuring of this lower electrode, which generates a relatively high overall manufacturing cost for obtaining a given number of different patterned devices. Another disadvantage is that the structuring takes place during the production of the emissive device. An object of the present invention is to propose an electronic display device which makes it possible in particular to remedy these drawbacks, this device comprising a substrate coated on at least one of its faces with a light-emitting unit, which comprises a light-emitting zone. emission based on organic materials and an electrical contact zone connected to this emission zone, this unit incorporating a light-emitting structure interposed between two electrodes respectively proximal and distal vis-à-vis the outer face of the zone d emission, which comprises at least one non-light-emitting deactivated region formed by local laser ablation of at least the proximal electrode. For this purpose, a device according to the invention is such that the remainder of the emission zone consists of a continuous light-emitting active region defined by the non-ablated portion of the proximal electrode, which extends continuously for the power supply of this active region by the contact zone. Advantageously, the or each electroluminescent unit of this display device according to the invention can be monochrome or polychrome with distinct areas emitting respectively different colors. Continuous active region within the meaning of the present description means an optically active region which is formed integrally (ie in one piece) around and / or inside the or each deactivated, optically inactive region of the made of this ablation. In particular, this active region may be formed of several geometrically related regions, in that they communicate with each other. It will be noted that laser ablation has already been proposed in the field of OLED screens, for example in US Pat. No. 7,332,263, which presents a matrix-type OLED display device, more specifically a passive matrix device. In this document, the emission zone is pixellated by laser ablation so that the non-ablated (ie optically active) portions form the pixels of the matrix, that is to say electrically independent pads separated from each other by a portion ablated (ie optically deactivated) no longer comprising either the upper electrode, the part of the underlying emitting structure, or the lower electrode. It is therefore only in this document to individualize the pixels of the matrix and not, as in the present invention, to use the ablated zones to achieve one or more pattern (s), which requires maintaining a zone active continues.

Selon une autre caractéristique de l'invention, ladite ou chaque région désactivée est avantageusement formée par ablation laser de ladite électrode proximale et optionnellement de ladite structure émettrice, par exemple au moyen d'un rayonnement laser à excimères émis de préférence dans le domaine ultraviolet. According to another characteristic of the invention, said or each deactivated region is advantageously formed by laser ablation of said proximal electrode and optionally of said emitting structure, for example by means of an excimer laser radiation emitted preferably in the ultraviolet range.

On notera que cette ablation laser permet ainsi de former de manière précise, reproductible et à moindre coût les motifs prédéterminés souhaités dans la zone d'émission de l'unité électroluminescente, tout en remédiant à l'inconvénient précité d'avoir à utiliser un masque de photolithographie dédié à chaque motif à préformer par structuration de l'électrode inférieure (i.e. distale). Selon une autre caractéristique de l'invention, la ou chaque région désactivée, sensiblement noire, peut former en relation avec la région active des motifs divers et variés sans limitation aucune, tels qu'une inscription et/ou un dessin, ces motifs étant visibles par contraste lumineux entre ces deux régions. On notera que ce contraste lumineux obtenu par l'ablation selon l'invention de l'électrode proximale et de la structure émettrice permet de former de manière relativement simple une infinité de motifs sur la zone d'émission de l'unité électroluminescente, sans avoir à utiliser un masque de photolithographie conçu à cet effet. It will be noted that this laser ablation thus makes it possible to accurately, reproducibly and cheaply form the desired predetermined patterns in the emission zone of the electroluminescent unit, while overcoming the aforementioned disadvantage of having to use a mask. photolithography dedicated to each pattern to preform by structuring the lower electrode (ie distal). According to another characteristic of the invention, the or each deactivated region, substantially black, may form, in relation to the active region, various and diverse patterns without any limitation, such as an inscription and / or a drawing, these patterns being visible by bright contrast between these two regions. It will be noted that this luminous contrast obtained by the ablation according to the invention of the proximal electrode and of the emitting structure makes it possible to form in a relatively simple manner an infinity of patterns on the emission zone of the electroluminescent unit, without having to use a photolithography mask designed for this purpose.

Selon une autre caractéristique de l'invention, ce dispositif d'affichage comporte en outre avantageusement au moins une couche de protection qui recouvre ladite électrode proximale. Cette couche est réalisée en un matériau inorganique sensiblement transparent à la lumière émise par l'unité électroluminescente, et elle est avantageusement déposée par une technique de dépôt de couche atomique ( ALD ) d'un composé inorganique choisi dans le groupe constitué par les oxydes d'aluminium, les oxydes de silicium, les oxydes de zinc et les nitrures de silicium. De préférence, la couche ainsi déposée présente une épaisseur comprise entre 25 nm et 50 nm. Ces matériaux présentent l'avantage d'assurer par ailleurs un confinement optique pour le rayonnement laser UV, ce qui facilite l'ablation et permet si besoin de réduire la puissance du laser. Cette technique ALD est dite conformante , du fait qu'elle permet à la couche ainsi déposée de présenter une densité élevée et une perméabilité très réduite et d'épouser au plus près les microreliefs ou nanoreliefs de la surface qu'elle recouvre. Cette technique peut être mise en oeuvre à basse température et ne saurait être confondue avec une méthode de dépôt chimique en phase vapeur ( CVD pour Chemical Vapor Deposition en anglais) ou d'évaporation, méthodes non conformantes . Selon un mode préférentiel de réalisation de l'invention, la ou l'une au moins de ces couche(s) de protection ainsi déposée(s) recouvre en outre le fond de la ou chaque région désactivée, cette couche pouvant alors former une encapsulation étanche de l'unité électroluminescente qui permet d'assurer une barrière efficace non seulement à l'humidité et à l'oxygène extérieurs, mais encore à la pénétration de poussières ou d'autres particules susceptible d'altérer le fonctionnement du dispositif en y provoquant par exemple des courts-circuits. En variante, le dispositif d'affichage selon l'invention peut également être protégé par une plaque formant capot de protection qui est collée sur l'unité électroluminescente et qui peut être réalisée en tout matériau transparent à la lumière émise, tel que le verre ou une matière plastique. According to another characteristic of the invention, this display device also advantageously comprises at least one protective layer which covers said proximal electrode. This layer is made of an inorganic material substantially transparent to the light emitted by the electroluminescent unit, and it is advantageously deposited by an atomic layer deposition (ALD) technique of an inorganic compound selected from the group consisting of aluminum, silicon oxides, zinc oxides and silicon nitrides. Preferably, the layer thus deposited has a thickness of between 25 nm and 50 nm. These materials have the advantage of also ensuring optical confinement for UV laser radiation, which facilitates ablation and allows if necessary to reduce the power of the laser. This ALD technique is said conformant, because it allows the layer thus deposited to have a high density and very low permeability and marry as close to the microreliefs or nanoreliefs of the surface it covers. This technique can be implemented at low temperature and can not be confused with a chemical vapor deposition (CVD) method or evaporation, non-conforming methods. According to a preferred embodiment of the invention, the at least one of these protective layer (s) thus deposited (s) further covers the bottom of the or each deactivated region, this layer can then form an encapsulation the electroluminescent unit which provides an effective barrier not only to the external moisture and oxygen, but also to the penetration of dust or other particles that could impair the operation of the device by causing for example short circuits. Alternatively, the display device according to the invention can also be protected by a protective cover plate which is glued to the electroluminescent unit and which can be made of any material transparent to the emitted light, such as glass or a plastic material.

Selon un premier exemple de réalisation de l'invention, la ou chaque région désactivée est inscrite en creux sur la zone d'émission, la région active définie par ladite électrode proximale s'étendant alors continûment sur tout le reste de la zone d'émission. Dans ce cas, l'un au moins des motifs formés par la ou chaque région désactivée peut se refermer sur lui-même par exemple à la manière d'une boucle, mais en présentant au moins une discontinuité prévue pour faire communiquer l'intérieur de ce motif avec le reste de la région active, de sorte à assurer la continuité de celle-ci. Selon un second exemple de réalisation de l'invention, la ou chaque région désactivée forme un environnement en creux pour la région active en formant ces motifs de manière continue à la manière d'un négatif. Dans ce cas, les motifs formés par la région active peuvent communiquent tous entre eux par une pluralité de canaux actifs dérivés qui partent respectivement de ces motifs et rejoignent tous un même canal actif collecteur formé en un bord de la zone d'émission et connecté à ladite zone de contact électrique. Avantageusement, ces motifs peuvent former en totalité ou en partie une inscription de caractères alphanumériques qui font du dispositif d'affichage selon l'invention un badge lumineux, par exemple de surface comprise entre 20 cm2 et 200 cm2. Un procédé de fabrication selon l'invention d'un dispositif d'affichage tel que défini ci-dessus comprend les étapes suivantes : a) on ablate sélectivement par un rayonnement laser par exemple à excimères émis de préférence dans le domaine ultraviolet, en la ou chaque région à désactiver de forme prédéterminée, au moins ladite électrode proximale recouverte de cette couche de protection, de telle manière que la ou chaque région désactivée obtenue forme des motifs donnés, en relation avec le reste de la zone d'émission qui est constitué de la région active continue, ces motifs étant visibles par contraste lumineux entre ces deux régions, puis b) on nettoie la zone d'émission ainsi traitée, de préférence par soufflage. According to a first exemplary embodiment of the invention, the or each deactivated region is inscribed in the emission zone, the active region defined by said proximal electrode then continuously extending over the rest of the emission zone. . In this case, at least one of the patterns formed by the or each deactivated region may close on itself for example in the manner of a loop, but with at least one discontinuity intended to communicate the interior of the this pattern with the rest of the active region, so as to ensure the continuity of it. According to a second embodiment of the invention, the or each deactivated region forms a hollow environment for the active region by forming these patterns continuously in the manner of a negative. In this case, the patterns formed by the active region may all communicate with each other by a plurality of active derived channels which respectively depart from these patterns and all join a same active collector channel formed in one edge of the transmission area and connected to said electrical contact area. Advantageously, these patterns may form in whole or in part an alphanumeric character inscription which make the display device according to the invention a light badge, for example with a surface area of between 20 cm 2 and 200 cm 2. A manufacturing method according to the invention of a display device as defined above comprises the following steps: a) selectively ablated by laser radiation, for example with excimers emitted preferably in the ultraviolet range, in the each region to be deactivated of predetermined shape, at least said proximal electrode covered with this protective layer, such that the or each deactivated region obtained forms given patterns, in relation to the rest of the emission zone which consists of the active region continues, these patterns being visible by light contrast between these two regions, then b) the emission zone thus treated is cleaned, preferably by blowing.

Avantageusement et antérieurement à l'étape a) précitée, l'on peut déposer sur ladite électrode proximale, de préférence par une technique de dépôt de couche atomique ( ALD ), au moins une couche de protection telle que décrite précédemment et qui est conçue pour faciliter l'ablation laser 5 mise en oeuvre à l'étape a). Dans ce cas et postérieurement à l'étape b) précitée, l'on peut avantageusement déposer sur la région active recouverte de ladite couche de protection et sur le fond de la ou chaque région désactivée, une autre couche de protection analogue à la précédente pour la formation d'une encapsulation 10 étanche de l'unité électroluminescente. D'une manière générale, on notera qu'il est ainsi possible de fabriquer des dalles électroluminescentes formant chacune une multitude de dispositifs OLED structurés différemment pour l'obtention d'autant de motifs distincts, par exemple en vue de la fabrication de badges lumineux à la 15 demande. On notera également que la présente invention n'est pas limitée à la fabrication de badges lumineux, mais peut également trouver des applications pour l'éclairage de grandes surfaces intérieures ou extérieures de bâtiments, incluant des revêtements de sols lumineux. 20 D'autres avantages, caractéristiques et détails de l'invention ressortiront du complément de description qui va suivre en référence à des dessins annexés, donnés uniquement à titre d'exemples et dans lesquels : la figure 1 est une vue schématique de dessus de l'unité électroluminescente d'un dispositif d'affichage selon l'invention montrant sa 25 zone d'émission lumineuse et sa zone de contact électrique, avant désactivation sélective de cette zone d'émission par ablation laser localisée, la figure 2 est une vue partielle en coupe transversale de la zone d'émission du dispositif de la figure 1 montrant le dépôt d'une couche de protection sur l'électrode supérieure du dispositif, préalablement à cette 30 ablation laser, la figure 3 est une vue partielle en coupe transversale de la zone d'émission du dispositif de la figure 2 après cette ablation laser localisée, montrant la formation d'une région désactivée dans cette zone d'émission, la figure 4 est une vue partielle en coupe transversale de la zone d'émission du dispositif de la figure 3 selon une variante de l'invention, après dépôt d'une couche supplémentaire de protection à la fois sur l'électrode supérieure restante et sur chaque région désactivée, la figure 5 est une vue schématique partielle, éclatée et en perspective de la zone d'émission d'un dispositif selon l'invention 10 correspondant à la figure 3 ou 4, montrant la formation d'un motif constitué de la lettre A selon un premier exemple de réalisation de l'invention, la figure 6 est une vue de dessus de l'unité électroluminescente d'un dispositif selon l'invention en référence à la figure 1, après formation d'un motif constitué des deux lettres A et B espacées entre 15 elles selon ce premier exemple de réalisation de l'invention, et la figure 7 est une vue de dessus de l'unité électroluminescente d'un dispositif selon l'invention, également en référence à la figure 1, après formation d'un motif constitué des deux lettres A et B reliées entre elles, selon un second exemple de réalisation de l'invention. 20 Le dispositif d'affichage électronique 1, 1', 1" selon l'invention illustré aux exemples des figures 5 à 7 est de type OLED à émission monochrome. Ce dispositif comprend de manière connue, en référence aux figures 2 à 5, un substrat (non visible) typiquement en silicium ou en un autre matériau, comme le verre ou le plastique, revêtu d'une unité 25 électroluminescente 3, 3' (voir figures 3 et 4) qui comprend une zone d'émission 4 (voir figure 1) et une zone de contact électrique 5 extérieure à la zone 4. La zone de contact 5 est par exemple formée d'un alignement de contacts ou connecteurs électriques pour l'établissement d'une 30 différence de potentiel entre des électrodes 6 et 7 de l'unité 3, 3'. Dans cet exemple d'unité OLED 3, 3', une structure émettrice 8 de lumière monochrome de type à film organique (monocouche ou multicouches) est intercalée entre les deux électrodes inférieure 6 et supérieure 7 du dispositif 1, qui peuvent servir respectivement d'anode et de cathode et dont l'une au moins (typiquement l'électrode 6) est transparente à la lumière émise afin de faire rayonner la lumière émise vers l'extérieur du dispositif 1. Cette structure émettrice 8 est conçue pour transférer les électrons et les trous qui proviennent des électrodes 6 et 7 et qui sont recombinés pour générer des excitons et donc l'émission de lumière. En variante, ce dispositif pourrait être non pas monochrome mais à zones de couleurs, c'est-à-dire comporter des zones avec des empilements organiques 8 localement distincts de façon à générer pour chaque zone une émission de couleur différente. Comme illustré à la figure 2, pour former un ou des motifs prédéterminés sur la zone d'émission 4, on peut commencer par déposer sur l'électrode supérieure 7 une couche de protection 9 inorganique, avantageusement par une technique de dépôt ALD , de manière que cette couche 9 présente une épaisseur très réduite, de préférence comprise entre 25 nm et 50 nm pour limiter les pertes (bien entendu, la couche 9 n'est pas représentée à l'échelle à la figure 2 vis-à-vis des électrodes 6 et 7 et de la structure émettrice 8 pour des raisons de clarté). Il serait cependant possible de déposer cette couche de protection 9 par d'autres techniques, notamment par dépôt chimique en phase vapeur ( CVD ). Cette couche 9 est avantageusement à base d'un matériau diélectrique inorganique sensiblement transparent à la lumière émise par la structure 8 et qui est de préférence constitué d'un oxyde d'aluminium de formule AI203, d'un oxyde de silicium de formule SiO2, d'un oxyde de zinc de formule ZnO ou d'un nitrure de silicium de formule SiXNY. Cette couche 9 présente notamment une densité élevée et une perméabilité très réduite à l'humidité ambiante. Ces matériaux présentent par ailleurs l'avantage d'assurer par ailleurs un confinement optique pour le rayonnement laser UV, ce qui facilite l'ablation et permet si besoin de réduire la puissance du laser. Comme illustré à la figure 3 et dans l'exemple correspondant de la figure 5, on procède ensuite à une ablation laser localisée de la couche de protection 9 et d'au moins l'électrode supérieure 7 pour la formation d'une ou de plusieurs régions RD localisées de géométrie(s) prédéterminée(s) qui sont optiquement désactivées du fait de cette ablation, et d'une région optiquement active RA qui n'est pas visée par cette ablation. On utilise à cet effet un rayonnement laser à excimères de préférence émis dans le domaine ultraviolet. Comme illustré dans l'exemple de la figure 3, cette ablation peut entraîner simultanément l'ablation de tout ou partie de la structure émettrice 8 sous jacente, voire de l'électrode inférieure 6. A titre d'exemple, pour une unité électroluminescente 3, 3' comportant une structure émettrice 8 de 100 nm d'épaisseur, une électrode supérieure 7 d'argent de 15 nm d'épaisseur et une électrode inférieure 6 d'AISi, on pourra utiliser un laser à excimères dont l'intensité est de l'ordre de 50 à 500 mJ/cm2. On notera que le dépôt de la couche de protection 9 avant l'ablation est facultatif, servant essentiellement à protéger le dispositif de toute contamination. L'ablation pourrait en effet être réalisée in situ après ce dépôt, au travers d'un hublot par exemple. De manière optionnelle et comme illustré à la figure 4, on peut avantageusement déposer une nouvelle couche extérieure de protection 9' sur toute la face externe de l'unité électroluminescente 3' pour que cette couche 9' recouvre, d'une part, la région active non ablatée RA de l'électrode supérieure 7 recouverte de la couche de protection 9 et, d'autre part, le fond de la ou de chaque région désactivée RD par ablation qui est formé par l'électrode inférieure 6 dans cet exemple. Cette couche extérieure 9' est de préférence réalisée en un matériau identique à celui de la couche 9 et est avantageusement déposée par la même technique ALD . On peut ainsi obtenir via ces deux couches de protection 9 et 9' une encapsulation étanche à l'oxygène et à l'humidité ambiants, ainsi qu'aux poussières et diverses particules pouvant altérer le fonctionnement ultérieur de l'unité 3'. Advantageously and prior to step a), it is possible to deposit on said proximal electrode, preferably by an atomic layer deposition (ALD) technique, at least one protective layer as described above and which is designed to facilitate the laser ablation 5 implemented in step a). In this case and after the aforementioned step b), it is advantageous to deposit on the active region covered with said protective layer and on the bottom of the or each deactivated region, another protective layer similar to the previous one for forming a sealed encapsulation of the electroluminescent unit. In general, it will be noted that it is thus possible to manufacture electroluminescent slabs each forming a multitude of differently structured OLED devices to obtain as many distinct patterns, for example in view of the manufacture of optical badges. the request. Note also that the present invention is not limited to the manufacture of badges, but can also find applications for lighting large indoor or outdoor surfaces of buildings, including bright floor coverings. Other advantages, features and details of the invention will emerge from the additional description which follows with reference to the accompanying drawings, given solely by way of example and in which: FIG. 1 is a diagrammatic view from above of FIG. electroluminescent unit of a display device according to the invention showing its light emission zone and its electrical contact zone, before selective deactivation of this emission zone by localized laser ablation, FIG. 2 is a partial view in cross-section of the emission zone of the device of FIG. 1 showing the deposition of a protective layer on the upper electrode of the device, prior to this laser ablation, FIG. 3 is a partial view in cross-section of FIG. the emission zone of the device of FIG. 2 after this localized laser ablation, showing the formation of a deactivated region in this emission zone, FIG. a partial cross-sectional view of the emission zone of the device of FIG. 3 according to a variant of the invention, after deposition of an additional protective layer on both the remaining upper electrode and on each deactivated region, FIG. 5 is a fragmentary diagrammatic view, exploded and in perspective of the emission zone of a device according to the invention corresponding to FIG. 3 or 4, showing the formation of a pattern consisting of the letter A according to a first embodiment of the invention, Figure 6 is a top view of the electroluminescent unit of a device according to the invention with reference to Figure 1, after formation of a pattern consisting of two letters A and B spaced between them according to this first embodiment of the invention, and Figure 7 is a top view of the electroluminescent unit of a device according to the invention, also with reference to Figure 1, after formation of u n pattern consisting of two letters A and B connected together, according to a second embodiment of the invention. The electronic display device 1, 1 ', 1 "according to the invention illustrated in the examples of FIGS. 5 to 7 is of the OLED type with monochrome transmission.This device comprises, in a manner known per se, with reference to FIGS. substrate (not visible) typically of silicon or of another material, such as glass or plastic, coated with a light-emitting unit 3, 3 '(see FIGS. 3 and 4) which comprises an emission zone 4 (see FIG. 1) and an electrical contact zone 5 outside the zone 4. The contact zone 5 is for example formed by an alignment of electrical contacts or connectors for establishing a potential difference between electrodes 6 and 7 In this exemplary OLED unit 3, 3 ', a monochrome light emitting structure 8 of organic film type (monolayer or multilayer) is interposed between the two lower and upper electrodes 6 and 7. device 1, which can serve respe and at least one of which (typically the electrode 6) is transparent to the light emitted in order to radiate the light emitted to the outside of the device 1. This emitting structure 8 is designed to transfer the electrons and the holes which come from the electrodes 6 and 7 and which are recombined to generate excitons and thus the emission of light. As a variant, this device could be not monochrome but with color zones, that is to say include zones with locally separate organic stacks 8 so as to generate for each zone a different color emission. As illustrated in FIG. 2, to form one or more predetermined patterns on the emission zone 4, it is possible to first deposit on the upper electrode 7 an inorganic protective layer 9, advantageously by an ALD deposition technique, so as to that this layer 9 has a very small thickness, preferably between 25 nm and 50 nm to limit losses (of course, the layer 9 is not shown in scale in Figure 2 with respect to the electrodes 6 and 7 and the transmitting structure 8 for the sake of clarity). It would, however, be possible to deposit this protective layer 9 by other techniques, in particular by chemical vapor deposition (CVD). This layer 9 is advantageously based on an inorganic dielectric material substantially transparent to the light emitted by the structure 8 and which is preferably composed of an aluminum oxide of formula AI203, a silicon oxide of formula SiO2, a zinc oxide of formula ZnO or of a silicon nitride of formula SiXNY. This layer 9 has in particular a high density and a very low permeability to ambient humidity. These materials also have the advantage of also ensuring optical confinement for UV laser radiation, which facilitates ablation and allows if necessary to reduce the power of the laser. As illustrated in FIG. 3 and in the corresponding example of FIG. 5, localized laser ablation of the protective layer 9 and at least the upper electrode 7 is then carried out for the formation of one or more localized RD regions of predetermined geometry (s) which are optically deactivated as a result of this ablation, and an optically active region RA which is not targeted by this ablation. For this purpose, an excimer laser radiation preferably emitted in the ultraviolet range is used. As illustrated in the example of FIG. 3, this ablation can simultaneously lead to the ablation of all or part of the underlying emitting structure 8 or even of the lower electrode 6. By way of example, for an electroluminescent unit 3 3 'having a transmitting structure 8 of 100 nm thick, a silver upper electrode 7 of 15 nm in thickness and a lower electrode 6 of AISi, it is possible to use an excimer laser whose intensity is the order of 50 to 500 mJ / cm2. It will be noted that the deposition of the protective layer 9 before the ablation is optional, serving essentially to protect the device from any contamination. The ablation could indeed be performed in situ after this deposit, through a porthole, for example. Optionally and as illustrated in FIG. 4, it is advantageous to deposit a new outer protective layer 9 'on the entire outer face of the electroluminescent unit 3' so that this layer 9 'covers, on the one hand, the region active non ablated RA of the upper electrode 7 covered with the protective layer 9 and, secondly, the bottom of the or each deactivated region RD by ablation which is formed by the lower electrode 6 in this example. This outer layer 9 'is preferably made of a material identical to that of the layer 9 and is advantageously deposited by the same technique ALD. It is thus possible to obtain, via these two protective layers 9 and 9 ', an encapsulation impervious to oxygen and to ambient humidity, as well as to dust and various particles that can alter the subsequent operation of the unit 3'.

En variante, la protection de l'unité 3' pourrait être obtenue au moyen d'un capot, par exemple de verre, que l'on vient coller sur celle-ci. 2932598 io Dans l'exemple de la figure 5 qui se borne à illustrer la formation, à titre de motif, d'une unique lettre A, on forme par l'ablation laser sélective précitée en relation avec la figure 3 une seule région désactivée 10 formée en creux par les deux jambages du A et par sa barre transversale, de 5 telle manière que cette barre laisse un interstice 12 avec l'un de ces jambages pour que la partie non ablatée 13 de l'électrode supérieure 7 comprise entre les jambages et la barre communique avec toute la partie restante 14 de cette électrode 7. Ainsi, cette ablation laser forme une région optiquement active 12, 13, 14 qui est continue autour de la région optiquement inactive 10, ce qui 10 revient à dire qu'il n'existe pas de portion de l'électrode 7 qui soit électriquement isolée par cette ablation laser. La figure 6 reprend le motif d'ablation 10 de la figure 5 en forme de lettre A en y ajoutant à la suite et de manière espacée la lettre B formant une autre région optiquement inactive 10'. Comme précédemment, on 15 a veillé dans cet exemple à ménager un interstice 15a, 15b pour chacune des deux boucles à former pour obtenir cette lettre B, de manière à faire communiquer l'intérieur 16, 17 de chaque boucle avec toute la partie restante 14 de l'électrode 7 demeurée intacte (incluant notamment la partie 13 interne à la lettre A).Alternatively, the protection of the unit 3 'could be obtained by means of a cover, for example glass, which is sticked on it. In the example of FIG. 5, which merely illustrates the formation, as a pattern, of a single letter A, a single deactivated region is formed by the aforementioned selective laser ablation in relation to FIG. formed by the two legs of the A and its transverse bar, in such a way that this bar leaves a gap 12 with one of these legs so that the non-ablated portion 13 of the upper electrode 7 between the jambs and the bar communicates with all the remaining portion 14 of this electrode 7. Thus, this laser ablation forms an optically active region 12, 13, 14 which is continuous around the optically inactive region 10, which is to say that it there is no portion of the electrode 7 which is electrically isolated by this laser ablation. FIG. 6 shows the ablation pattern 10 of FIG. 5 in the form of a letter A by adding thereafter and spaced apart the letter B forming another optically inactive region 10 '. As before, care was taken in this example to provide a gap 15a, 15b for each of the two loops to be formed to obtain this letter B, so as to communicate the interior 16, 17 of each loop with all the remaining portion 14 electrode 7 remained intact (including in particular the portion 13 internal to the letter A).

20 On comprend que dans ce premier exemple de l'invention commun aux figures 5 et 6, la région désactivée formée par l'ablation de chaque lettre A, B est inscrite en creux sur la zone d'émission 4 et est visible du fait de sa couleur noire contrastant avec la couleur émise par la région active, définie par la partie intacte 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17 de l'électrode 7 25 s'étendant continûment autour de ces régions noires A et B. La figure 7 illustre un second exemple de réalisation de l'invention où, à l'inverse du précédent, ce sont les motifs 10" et 10ùrespectivement formés dans cet exemple par les lettres A et B qui demeurent intacts après l'ablation laser, laquelle concerne donc l'environnement 14' 30 destiné à former ces motifs à la manière d'un négatif photographique. Plus précisément, on ablate dans ce cas, d'une part, l'espace noir interne à la lettre A (dépourvue d'interstice) et les deux espaces noirs respectivement internes 2932598 Il aux deux boucles de la lettre B (également dépourvues d'interstices) et, d'autre part, tout l'espace entourant ces lettres A et B et des canaux de liaison 18a, 18b et 19 qui sont formés en négatif, en plus des lettres A et B, sur une surface réduite de l'électrode 7 laissée intacte et qui débouchent sur la zone 5 de contact 5 de l'unité électroluminescente 3. Comme visible à la figure 7, l'ablation laser réalisée dans ce second exemple est telle que demeurent intacts sur l'électrode 7 les canaux de liaison 18a, 18b et 19 qui relient entre elles les lettres A et B, également intactes, et qui comprennent : 10 - deux courts canaux dérivés 18a et 18b qui partent respectivement de zones inférieures des lettres A et B en communiquant avec ces dernières, et - un même canal collecteur 19 dans lequel débouchent par exemple à angle droit les canaux 18a et 18b et qui est formé en un bord 15 inférieur de la zone d'émission 4 à la manière d'un soulignement des lettres A et B, ce canal 19 communiquant avec la zone de contact 5 pour assurer la connexion électrique et donc la seule illumination des lettres A et B et de ces canaux 18a, 18b et 19. On comprend que dans ce second exemple, sont visibles 20 dans la couleur d'émission choisie les motifs A et B ainsi que les canaux de liaison 18a, 18b et 19, par contraste avec la couleur noire caractérisant les espaces internes et externes à ces motifs et ceux entourant ces canaux. On notera d'une manière générale que les exemples de réalisation de motifs selon les figures 5 à 7 ont été choisis pour illustrer le plus 25 simplement possible la manière d'obtenir des lettres visibles par contraste lumineux sur la face d'émission d'une unité électroluminescente, et que l'invention ne se limite pas à de tels motifs alphabétiques mais englobe tous motifs alphanumériques ou non, tels que des dessins pouvant présenter une infinité de formes, pouvant être obtenus : 30 - en ablatant ces seuls motifs pour les faire apparaître en noir sur un fond coloré constituant ladite région active continue, ou 5 - en ablatant tout ce qui n'est pas destiné à former ces motifs et les canaux les reliant électriquement entre eux et à la zone de contact, pour que ces motifs et ces canaux formés par défaut constituent ensemble ladite région active continue et apparaissent en couleur sur le fond noir ablaté. Quant aux dimensions des zones d'émission ainsi obtenues, elles peuvent varier dans une large mesure, étant par exemple de l'ordre de 100 cm2 pour des badges lumineux. It will be understood that in this first example of the invention common to FIGS. 5 and 6, the deactivated region formed by the ablation of each letter A, B is inscribed on the emission zone 4 and is visible due to its black color contrasting with the color emitted by the active region, defined by the intact portion 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17 of the electrode 7 extending continuously around these black regions A and B. FIG. 7 illustrates a second exemplary embodiment of the invention in which, unlike the previous example, the units 10 '' and 10 '' respectively formed in this example by the letters A and B remain intact after laser ablation, which Thus, the environment 14 'intended to form these patterns in the manner of a photographic negative is more precisely ablate in this case, on the one hand, the black space internal to the letter A (devoid of gaps. ) and the two black spaces respectively internal 2932598 It to both loops of the letter B (also voidless) and, secondly, all the space surrounding these letters A and B and connecting channels 18a, 18b and 19 which are formed in negative, in addition to the letters A and B, on a reduced surface of the electrode 7 left intact and which lead to the contact zone 5 of the electroluminescent unit 3. As can be seen in FIG. 7, the laser ablation performed in this second example is such that remain intact on the electrode 7 the connecting channels 18a, 18b and 19 which interconnect the letters A and B, also intact, and which comprise: - two short derivative channels 18a and 18b which respectively start from lower areas of the letters A and B by communicating with the latter, and - a same collector channel 19 in which for example open at right angles the channels 18a and 18b and which is formed at a lower edge of the emission zone 4 in the manner of an underlining of the letters A and B, this anal 19 communicating with the contact zone 5 to ensure the electrical connection and therefore the only illumination of the letters A and B and these channels 18a, 18b and 19. It is understood that in this second example, are visible 20 in the color of emission selected patterns A and B and the connecting channels 18a, 18b and 19, in contrast to the black color characterizing the internal and external spaces to these patterns and those surrounding these channels. It will generally be noted that the exemplary embodiments of patterns according to FIGS. 5 to 7 have been chosen to illustrate as simply as possible the manner of obtaining letters visible by luminous contrast on the emission face of a electroluminescent unit, and that the invention is not limited to such alphabetic patterns but encompasses all alphanumeric or non-alphanumeric patterns, such as drawings that can have an infinity of shapes, obtainable by: - by ablating these patterns alone to make them appear in black on a colored background constituting said continuous active region, or 5 - by ablating all that is not intended to form these patterns and the channels connecting them electrically to each other and to the contact zone, so that these patterns and these default formed channels together constitute said continuous active region and appear in color on the ablated black background. As for the dimensions of the emission zones thus obtained, they can vary to a large extent, being for example of the order of 100 cm 2 for light badges.

Claims

CLAIMS1) An electronic display device (1, 1 ', 1 ") comprising a substrate coated on at least one of its faces with a light-emitting unit (3, 3'), which comprises an emission zone (4 ) and an electrical contact zone (5) connected to this emission zone, this unit incorporating a light-emitting structure (8) based on organic materials interposed between two respectively proximal (7) and distal (6) electrodes. with respect to the outer face of the emission zone, which comprises at least one non-light-emitting deactivated region (RD, 10, 10 ', 14') formed by local laser ablation of at least the proximal electrode, characterized in that the remainder of the emission zone consists of a continuous active region (RA, 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17, 10 ", 10w, 18a, 18b, 19) transmitting light defined by the non-ablated portion of the proximal electrode, which extends continuously for the power supply of this active region by the contact zone.

2) Display device (1, 1 ', 1 ") according to claim 1, characterized in that the or each electroluminescent unit (3, 3') is monochrome or polychrome with distinct areas emitting respectively different colors.

3) A display device (1, 1 ', 1 ") according to claim 1 or 2, characterized in that said or each deactivated region (RD, 10, 10', 14 ') is formed by laser ablation of said proximal electrode (7) and said emitting structure (8).

4) Display device (1, 1 ', 1 ") according to one of the preceding claims, characterized in that it further comprises at least one protective layer (9, 9') which covers said proximal electrode (7 ).

5) Display device (1, 1 ', 1 ") according to claim 4, characterized in that said or at least one of said layer (s) of protection (9') further covers the bottom of said or each deactivated region (RD), this layer forming a sealed encapsulation for the electroluminescent unit (3 ').

6) display device (1, 1 ', 1 ") according to claim 4 or 5, characterized in that said or each protective layer (9, 9') is deposited by an atomic layer deposition technique (ALD) ) an inorganic compound selected from the group consisting of aluminum oxides, silicon oxides, zinc oxides and silicon nitrides, this protective layer preferably having a thickness between 25 nm and 50 nm.

7) Display device (1, 1 ', 1 ") according to one of the preceding claims, characterized in that said or each deactivated region (RD, 10, 10', 14 '), substantially black, forms in relation to said active region (RA, 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17, 10 ", 10", 18a, 18b, 19) patterns, such as an inscription and / or a drawing, which are visible by bright contrast between these two regions.

8) A display device (1, 1 ') according to claim 7, characterized in that said or each deactivated region (10, 10') is inscribed on the emission zone (4), said active region ( 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17) defined by said proximal electrode (7) extending continuously over the remainder of the emission zone.

9) A display device (1, 1 ') according to claim 8, characterized in that at least one of said patterns formed by said or each deactivated region (10, 10') closes on itself for example in the manner of a loop, having at least one discontinuity (12, 15a, 15b) provided to communicate the interior of this pattern with the rest of said active region (14).

10) Display device (1 ") according to claim 7, characterized in that said or each deactivated region (14 ') forms a hollow environment for said active region (10", 10 "', 18a, 18b, 19) forming said patterns continuously in the manner of a negative.

11) Display device (1 ") according to claim 10, characterized in that said patterns formed by said active region (10", 10 ', 18a, 18b, 19) all communicate with each other by a plurality of active channels derivatives (18a and 18b) which respectively depart from these patterns and which all join a same active collecting channel (19) formed at an edge of the emission zone (4) and connected to said electrical contact zone (5). 15

12) A display device (1, 1 ', 1 ") according to one of claims 7 to 11, characterized in that said patterns (10, 10', 10", 10 "', 18a, 18b, 19) comprise a alphanumeric characters (10, 10 ', 10 ", 10w) which make this device a light badge, for example with a surface area of between 20 cm 2 and 200 cm 2.

13) A method of manufacturing a device (1, 1 ', 1 ") according to one of the preceding claims, comprising the following steps: a) selectively ablate by laser radiation preferably excimer emitted in the ultraviolet range, in the or each region to be deactivated of predetermined shape, at least said proximal electrode, such that the or each deactivated region obtained (RD, 10, 10 ', 14') forms given patterns, such as an inscription and / or a drawing, in relation to the remainder of the emission zone (4) which consists of said continuous active region (RA, 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17, 10 ", 10w, 18a, 18b, 19), these patterns being visible by light contrast between these two regions, thenb) the emission zone thus treated is cleaned, preferably by blowing.

14) The method according to claim 13, characterized in that prior to step a), at least one layer of layer is deposited on said proximal electrode (7), preferably by an atomic layer deposition (ALD) technique. protection (9).

15) Method according to claim 14, characterized in that subsequent to step b), is deposited on the active region (RA) covered with said protective layer (9) and on the bottom of the or each deactivated region (RD), another protective layer (9 ') similar to the previous one for forming a sealed encapsulation of the electroluminescent unit (3').

16) Method according to one of claims 13 to 15, characterized in that said or each protective layer (9, 9 ') is based on an inorganic compound selected from the group consisting of aluminum oxides, silicon, zinc and silicon nitrides, this protective layer preferably having a thickness between 25 nm and 50 nm.