FR2841686A1 - Installation for detecting an event of excessive temperature of an electronic component, method for detecting such event, and monolithic component equipped with installation - Google Patents

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    • G01K7/01Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements using semiconducting elements having PN junctions
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    • G01KMEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K3/00Thermometers giving results other than momentary value of temperature
    • G01K3/005Circuits arrangements for indicating a predetermined temperature

Abstract

The installation for a posterior detection of an event of excessive temperature in the course of functioning of an electronic component comprises a temperature element in the form of a diode (D) measuring the temperature and providing a temperature signal (IB), an amplifier stage in the form of a bipolar transistor (T) receiving the temperature signal and delivering an output signal (IC), a registering facility in the form of a fuse (F) receiving the output signal (IC) and, if the measured temperature is higher than a temperature limit, registering a perturbation signal in an irreversible manner. The registering facility (F) possesses a fundamental state and a perturbed state, and in the fundamental state it has a destructible conducting path preferentially of metal or polycrystalline silicon which is destroyed in the case of perturbation, or it comprises a Zener diode, or an insulator preferentially of metal oxide which passes to a conducting state. The amplifier stage comprises a bipolar transistor (T) of type n-p-n whose base circuit comprises the temperature element (D) and whose collector circuit comprises the registering facility (F), or the bipolar transistor (T) is of type n-p-n and the registering facility (F) is branched between the collector and the ground in parallel with the diode, or an output terminal (A) is connected to the collector of bipolar transistor (T) of type n-p-n and a resistor (R) is connected between the collector and the ground. The temperature element is a semiconductor element such as a diode (D) connected in reverse, or a diode branched in direct whose resistance depends on temperature. A monolithic component (claimed) comprises at least one installation (claimed) for detecting an excessive temperature, and at least one other circuit. The installation and at least one other circuit are integrated in a monolithic fashion. The monolithic component comprises three installations with different temperature limits, where the first installation is activated for the measurement of functioning, the second installation is activated independently of the first installation, and the third installation is activated for the final measurement. The third temperature limit is higher than the second temperature limit, and the second and the third installations are activated in common. A method (claimed) for detecting an event of excessive temperature includes the activation of the first installation and, in the case of temperature exceeding the first temperature limit, the registering of the first perturbation signal; and at the end of functioning state verifying at a temperature below the first temperature limit if the perturbation signal is registered in the first facility.

Description

Domaine de l'invention La présente invention concerne une installation deField of the Invention The present invention relates to an installation for

détection pour un composant électronique, et un composant monolithique  detection for an electronic component, and a monolithic component

ayant au moins une installation de détection.  having at least one detection installation.

L'invention concerne également un procédé de détection  The invention also relates to a detection method

d'un événement de température excessive d'un tel composant.  of an excessive temperature event of such a component.

Etat de la technique Les composants électroniques peuvent être détruits par dépassement d'une température de fonctionnement maximale autorisée ou 10 température limite. Même un bref dépassement de la température limite peut détériorer la fiabilité d'un composant de sorte que le composant s'écarte des paramètres spécifiques autorisés pour le fonctionnement. La cause de la défaillance risque le cas échéant de ne pouvoir être mise en relation avec le dépassement antérieur de la température limite. Il ne sera  STATE OF THE ART Electronic components can be destroyed by exceeding a maximum authorized operating temperature or 10 limit temperature. Even a brief overshoot of the limit temperature can deteriorate the reliability of a component so that the component deviates from the specific parameters authorized for operation. The cause of the failure may, if necessary, not be related to the previous exceeding of the limit temperature. He will not

plus possible de déterminer ultérieurement la cause et l'instant de cette défaillance.  no longer possible to determine the cause and time of this failure later.

Pour éviter un dépassement de la température limite, on connaît des installations de détection permettant de mesurer une température de fonctionnement et de la comparer à la température limite. En 20 cas de dépassement de la température limite, on coupe les sources de chaleur dans le composant pour éviter en général la poursuite de l'élévation de température. Une fois le composant refroidi à une température inférieure à la température limite, on pourra de nouveau activer la  To avoid exceeding the limit temperature, detection systems are known which make it possible to measure an operating temperature and compare it with the limit temperature. If the limit temperature is exceeded, the heat sources in the component are cut off in order to generally prevent the temperature rise from continuing. Once the component has cooled to a temperature below the limit temperature, you can activate the

source de chaleur.heat source.

De telles installations de détection ont en général une jonction pn par exemple une diode dont le courant de blocage dépendant exponentiellement de la température est utilisé comme courant de base appliqué à un transistor. Le transistor génère une chute de tension sur sa résistance de collecteur ce qui donne un signal de sortie utilisable pour 30 couper la source de chaleur par le signal de sortie dépendant de la température.  Such detection installations generally have a pn junction, for example a diode, the exponentially dependent blocking current of which is used as the base current applied to a transistor. The transistor generates a voltage drop on its collector resistor which gives an output signal which can be used to cut off the heat source by the temperature-dependent output signal.

Toutefois, dans une telle installation de détection, on ne peut vérifier à posteriori s'il y a eu un dépassement de température et si la température limite a été dépassée. Ainsi en cas de défaut on ne peut ex35 dure un endommagement préalable, antérieur par un événement lié à une  However, in such a detection installation, it cannot be checked a posteriori if there has been a temperature overshoot and if the limit temperature has been exceeded. Thus in the event of a defect, no previous damage, prior to an event linked to an

température excessive.excessive temperature.

Objet de l'invention La présente invention a pour but de remédier à ces inconvénients et concerne à cet effet une installation de détection du type cidessus, caractérisée en ce qu'elle comprend - un élément de température (D) qui mesure une température et fournit un signal de température (IB), - une installation d'amplification (T) qui reçoit le signal de température (UB) et fournit un signal de sortie (Ic), et - une installation d'enregistrement (F) qui reçoit le signal de sortie (Ic) et dans le cas o la température mesurée dépasse une température limite, enregistre de manière non fugitive un signal de perturbation,  OBJECT OF THE INVENTION The object of the present invention is to remedy these drawbacks and to this end relates to a detection installation of the above type, characterized in that it comprises - a temperature element (D) which measures a temperature and provides a temperature signal (IB), - an amplification installation (T) which receives the temperature signal (UB) and provides an output signal (Ic), and - a recording installation (F) which receives the signal output (Ic) and in the case where the measured temperature exceeds a limit temperature, records in a non-fleeting manner a disturbance signal,

l'installation de détection étant à intégration monolithique.  the detection installation being monolithically integrated.

L'invention concerne également un composant caractérisé  The invention also relates to a characterized component

en ce que l'installation de détection et au moins un autre circuit sont inté15 grés de manière monolithique.  in that the detection installation and at least one other circuit are integrated monolithically.

Enfin, l'invention concerne un procédé caractérisé en ce que pendant l'état de fonctionnement du composant monolithique, une première installation de détection est activée et au cas o une première température de fonctionnement du composant monolithique dépasse une première température limite, on enregistre un premier signal de perturbation dans la première installation de mémoire (Fl) de la première installation de détection, et à la fin de l'état de fonctionnement, pour une température inférieure à la première température limite on vérifie si un signal de perturbation est enregistré dans la première installation  Finally, the invention relates to a method characterized in that during the operating state of the monolithic component, a first detection installation is activated and in the event that a first operating temperature of the monolithic component exceeds a first limit temperature, a first disturbance signal in the first memory installation (F1) of the first detection installation, and at the end of the operating state, for a temperature below the first limit temperature, it is checked whether a disturbance signal is recorded in the first installation

d'enregistrement (Fl).record (Fl).

Cette installation et ce procédé selon l'invention offrent visà-vis de l'état de la technique, l'avantage de permettre une détection à posteriori d'un événement de température excessive produit pendant le fonctionnement. Cela peut se faire avantageusement avec des moyens en circuits supplémentaires relativement réduits. De plus, on peut vérifier ou garantir avantageusement l'aptitude au fonctionnement de l'installation de  This installation and this method according to the invention offer, with respect to the state of the art, the advantage of allowing a posteriori detection of an excessive temperature event produced during operation. This can advantageously be done with relatively small additional circuit means. In addition, the suitability for operation of the installation can be verified or advantageously guaranteed.

détection selon l'invention en vérifiant ou en contrôlant d'autres installations de détection utilisées pendant une mesure finale.  detection according to the invention by checking or checking other detection installations used during a final measurement.

L'invention repose sur l'idée de base que dans un intégra35 teur monolithique avec un composant à contrôler et ainsi avec couplage thermique direct des événements de température excessive, pendant le fonctionnement, on pourra non seulement mesurer mais enregistrer dans une installation d'enregistrement (installation de mémoire) non volatil, de préférence de façon irréversible. L'enregistrement non volatil ou fugitif ne permet plus de neutraliser un signal le cas échéant enregistré pendant le fonctionnement. De façon avantageuse, on ne permet ainsi à l'utilisateur du composant aucune application avec laquelle il est possible de remettre à l'état initial, l'état perturbé enregistré. De plus, il peut être prévu de manière avantageuse que l'utilisateur dispose également d'une possibilité pour lire l'installation de mémoire et déterminer par détection s'il y a eu un événement de température excessive. L'enregistrement irréversible selon l'invention concerne des i0 enregistrements qui ne peuvent plus être annulés pendant la poursuite du fonctionnement même lorsqu'on revient en dessous de la température limite. Ces enregistrements ne peuvent plus être neutralisés même dans les applications normales des circuits du composant monolithique. De manière avantageuse, selon une utilisation, aucune application ou pro15 gramme n'est accessible qui permet une détection de l'état de l'installation  The invention is based on the basic idea that in a monolithic integrator with a component to be controlled and thus with direct thermal coupling of excessive temperature events, during operation, it will not only be possible to measure but record in a recording installation (memory installation) non-volatile, preferably irreversibly. Non-volatile or fugitive recording no longer makes it possible to neutralize a signal possibly recorded during operation. Advantageously, the user of the component is thus not allowed any application with which it is possible to reset the recorded disturbed state. In addition, it can be advantageously provided that the user also has a possibility to read the memory installation and determine by detection if there has been an excessive temperature event. The irreversible recording according to the invention relates to 10 recordings which can no longer be canceled during the continuation of the operation even when it returns below the limit temperature. These recordings can no longer be neutralized even in normal applications of the circuits of the monolithic component. Advantageously, according to one use, no application or program is accessible which allows detection of the state of the installation.

d'enregistrement ou du contrôle de l'enregistrement d'un signal perturbateur. Cela garantit une grande sécurité de sorte que lors de l'analyse ultérieure du composant, on pourra avoir une information garantie indiquant si un événement de température excessive a excité pendant le fonctionne20 ment ou non. Comme l'installation de détection selon l'invention est alimentée par les bornes d'alimentation en tension du composant semiconducteur, les événements en dehors des temps de fonctionnement ne modifient pas l'état d'enregistrement de l'installation d'enregistrement.  recording or monitoring the recording of a disturbing signal. This guarantees great safety so that during the subsequent analysis of the component, it will be possible to have guaranteed information indicating whether an excessive temperature event has excited during operation or not. As the detection installation according to the invention is supplied by the voltage supply terminals of the semiconductor component, events outside of the operating times do not modify the recording state of the recording installation.

Comme installation d'enregistrement irréversible d'un état 25 de perturbation, on peut notamment utiliser un fusible c'est-à-dire un élément ayant un chemin conducteur destructible par exemple en métal ou en polysilicium (silicium polycristallin).On peut également utiliser d'autres éléments qui changent d'état de manière irréversible lorsque soumis à une surintensité comme par exemple une diode Zener qui de30 vient conductrice en cas de surintensité (basculement Zener) ou un isolateur métal-oxyde qui en cas de surintensité devient conducteur (basculement de l'oxyde); en général dans ces composants, le métal est fondu en cas de claquage par la tension de sorte qu'après refroidissement,  As an irreversible disturbance recording installation, a fuse can be used, in particular an element having a destructible conductive path, for example made of metal or polysilicon (polycrystalline silicon). other elements which change state irreversibly when subjected to an overcurrent such as for example a Zener diode which de30 becomes conductive in case of overcurrent (Zener switching) or a metal-oxide insulator which in case of overcurrent becomes conductive (switching oxide); in general in these components, the metal is melted in the event of breakdown by the tension so that after cooling,

on aura un chemin conducteur métallique.  we will have a metallic conductive path.

En variante, on peut également enregistrer en principe dans une mémoire fixe programmable (PROM) qui ne peut être effacée par le fonctionnement du composant. On peut utiliser une mémoire PROM avec plusieurs diodes (réseau de diodes) qui lors de la programmation sont  As a variant, it is also possible in principle to record in a programmable fixed memory (PROM) which cannot be erased by the operation of the component. You can use a PROM memory with several diodes (diode network) which during programming are

brlées par l'installation d'amplification de l'installation de détection.  burned by the amplification installation of the detection installation.

Comme élément de température on peut avantageusement utiliser une jonction pn montée dans le sens bloqué par exemple une diode montée dans le sens bloqué et dont le courant de blocage augmente de façon exponentielle avec la température et assure ainsi une sensibilité élevée. Comme installation d'amplification on peut utiliser le collecteur d'un transistor bipolaire avec à la place d'une résistance de collecteur, par exemple l'élément d'enregistrement ou de mémoire qui sera coupé en cas 10 de perturbation pour que la tension de sortie prise sur le collecteur fournisse une information concernant l'état de l'élément d'enregistrement. De plus à la place d'un transistor on peut utiliser un commutateur à seuil par exemple un transistor combiné à d'autres composants. Selon l'invention, on peut utiliser dans le composant de 15 détection, plusieurs installations de détection ayant des fonctions différentes comme par exemple une première installation de détection qui enregistre un premier signal de perturbation en cas de dépassement de la température pendant le fonctionnement, une autre installation de détection qui lors de la mesure finale correcte est activée par le fabricant et en20 registre un second signal de perturbation. En outre, on peut prévoir une troisième installation de détection qui, comme la seconde installation de détection, n'est activée que pour la mesure finale et présente un seuil de sollicitation pour enregistrer un signal perturbateur légèrement au- dessus de la température de mesure finale et qui ne doit être détruit ni pendant le  As a temperature element, it is advantageously possible to use a pn junction mounted in the blocked direction, for example a diode mounted in the blocked direction and whose blocking current increases exponentially with temperature and thus ensures high sensitivity. As an amplification installation, the collector of a bipolar transistor can be used with, instead of a collector resistor, for example the recording or memory element which will be cut in the event of a disturbance so that the voltage of output taken from the collector provides information regarding the state of the recording element. In addition, instead of a transistor, a threshold switch can be used, for example a transistor combined with other components. According to the invention, it is possible to use in the detection component, several detection installations having different functions such as for example a first detection installation which records a first disturbance signal in the event of the temperature being exceeded during operation, a another detection installation which, during the correct final measurement, is activated by the manufacturer and registers a second disturbance signal. In addition, a third detection installation can be provided which, like the second detection installation, is only activated for the final measurement and has a stress threshold for recording a disturbing signal slightly above the final measurement temperature. and which must not be destroyed or during the

fonctionnement ni lors de la mesure finale.  neither during the final measurement.

Les installations de détection supplémentaires du composant monolithique permettent d'assurer que la dispersion systématique des seuils de sollicitation des installations de détection soit suffisamment faible pour garantir la preuve de l'événement de température excessive en 30 fonctionnement et pour que le contrôle final du composant monolithique ou de la puce intégrée a été effectué à une température de mesure finale correcte. En fonction de cela, une pièce surchauffée pendant le fonctionnement, ayant après la mesure finale correcte, un premier signal perturbateur enregistré et un second signal perturbateur enregistré, alors que le  The additional detection installations of the monolithic component make it possible to ensure that the systematic dispersion of the stress thresholds of the detection installations is sufficiently low to guarantee proof of the excessive temperature event during operation and so that the final control of the monolithic component or the integrated chip was carried out at a correct final measurement temperature. Depending on this, a room overheated during operation, having after the correct final measurement, a first recorded disturbance signal and a second recorded disturbance signal, while the

troisième signal perturbateur fera défaut.  third disturbing signal will fail.

A la place d'une jonction pn installée dans le sens bloqué, on peut également prévoir une jonction pn dans le sens passant ou par exemple une résistance dépendant de la température et alors le cas  Instead of a pn junction installed in the blocked direction, one can also provide a pn junction in the passing direction or for example a resistance depending on the temperature and then the case

échéant, du fait de la moindre sensibilité en température on pourra utiliser des installations d'amplification à plusieurs étages.  if necessary, due to the lower temperature sensitivity, it is possible to use amplification installations with several stages.

Dessins La présente invention sera décrite ci-après de manière plus détaillée à l'aide de quelques modes de réalisation représentés dans les dessins annexés dans lesquels: - la figure l est un schéma par blocs d'une installation de détection correspondant à un premier mode de réalisation, - la figure 2 est un schéma par blocs d'une installation de détection d'un autre mode de réalisation, - la figure 3 est un schéma par blocs d'une installation de détection d'un autre mode de réalisation, - la figure 4 est un schéma par blocs d'une installation de détection d'un autre mode de réalisation,  Drawings The present invention will be described below in more detail with the aid of some embodiments represented in the appended drawings in which: FIG. 1 is a block diagram of a detection installation corresponding to a first mode embodiment, - FIG. 2 is a block diagram of a detection installation of another embodiment, - FIG. 3 is a block diagram of a detection installation of another embodiment, - FIG. 4 is a block diagram of a detection installation of another embodiment,

- la figure 5 est un schéma par blocs d'un composant semi-conducteur selon l'invention avec plusieurs installations de détection selon l'invention.  - Figure 5 is a block diagram of a semiconductor component according to the invention with several detection installations according to the invention.

Description de modes de réalisation  Description of embodiments

Selon la figure 1, une installation de détection comprend un 20 transistor T de type npn avec une diode D branchée dans le sens bloqué entre le branchement de la tension de fonctionnement Ub et la base B du transistor T de sorte que l'anode de la diode D est reliée à la base du transistor. L'émetteur du transistor T est relié à la masse G. Entre la tension de fonctionnement Ub et le collecteur K du transistor T on a un fusible F 25 qui lors du dépassement d'un courant limite brle de manière irréversible par la destruction d'un chemin conducteur. Un courant de blocage IB entre la borne de tension de fonctionnement Ub et la base B du transistor T, comme courant de base lB du transistor T défini par le coefficient d'amplification de courant, le courant de collecteur Ic traversant le fusible 30 F. L'intensité IB dépend ici de façon exponentielle de la température. En cas de dépassement d'une température limite, le courant de collecteur Ic dépasse le courant limite du fusible F qui brle. Cet événement de surintensité peut être vérifié par l'inspection optique du fusible F. La figure 2 montre un mode de réalisation avec un transis35 tor T de type pnp qui correspond pour l'essentiel au mode de réalisation de la figure 1 avec échange des bornes reliées à la tension de fonctionnement. Dans ce mode de réalisation, le transistor T est commandé par le courant de blocage de la diode D lorsque la température est suffisamment  According to FIG. 1, a detection installation comprises a transistor T of the npn type with a diode D connected in the blocked direction between the connection of the operating voltage Ub and the base B of the transistor T so that the anode of the diode D is connected to the base of the transistor. The emitter of transistor T is connected to ground G. Between the operating voltage Ub and the collector K of transistor T there is a fuse F 25 which, when a limit current is exceeded, burns irreversibly by destroying a conductive path. A blocking current IB between the operating voltage terminal Ub and the base B of the transistor T, as base current IB of the transistor T defined by the current amplification coefficient, the collector current Ic passing through the fuse 30 F. The intensity IB here depends exponentially on the temperature. If a limit temperature is exceeded, the collector current Ic exceeds the limit current of the blown fuse F. This overcurrent event can be verified by the optical inspection of fuse F. Figure 2 shows an embodiment with a pnp type transis35 tor T which essentially corresponds to the embodiment of figure 1 with terminal exchange related to the operating voltage. In this embodiment, the transistor T is controlled by the blocking current of the diode D when the temperature is sufficiently

élevée et en cas de dépassement d'une température limite, le courant de collecteur Ic traversant le fusible F brle ce fusible F. Dans ce cas également, une vérification optique permet de constater l'événement de surtempérature ou de surintensité.  high and if a limit temperature is exceeded, the collector current Ic passing through fuse F burns this fuse F. In this case also, an optical check makes it possible to note the event of overtemperature or overcurrent.

Les modes de réalisation des figures 3 et 4 représentent d'autres installations de détection par rapport au mode de réalisation des figures l et 2, dans lesquels le collecteur K du transistor T fournit par une borne de sortie A, une tension de sortie Ua. Les bornes de sortie A sont reliées en outre par une résistance ohmique R chaque fois à la borne de 10 tension de fonctionnement non reliée au fusible F. Ainsi, sur la borne de sortie A, en cas de fusible F détruit, on aura une tension définie. Dans l'installation de détection de la figure 3, dans l'état de base représenté avec un fusible F conducteur, la borne A sera à la tension de fonctionnement Ub; si le fusible F est détruit, cette borne sera mise à la masse G par 15 la résistance ohmique R. Dans le mode de réalisation de la figure 4, avec l'extension par rapport à la figure 2, selon l'état fondamental représenté, la borne de sortie A sera mise à la masse par l'intermédiaire du fusible F; comme le montre la figure 3, aux bornes de la résistance ohmique R on aura la tension de fonctionnement Ub. En cas de destruction du fusible F, 20 après un événement de surintensité, la borne de sortie A est reliée à la borne de tension de fonctionnement B par l'intermédiaire de la résistance  The embodiments of FIGS. 3 and 4 represent other detection installations with respect to the embodiment of FIGS. 1 and 2, in which the collector K of the transistor T supplies, by an output terminal A, an output voltage Ua. The output terminals A are also connected by an ohmic resistor R each time to the operating voltage terminal not connected to the fuse F. Thus, on the output terminal A, in the event of a fuse F destroyed, there will be a voltage defined. In the detection installation of FIG. 3, in the basic state shown with a conductive fuse F, the terminal A will be at the operating voltage Ub; if the fuse F is destroyed, this terminal will be earthed G by the ohmic resistance R. In the embodiment of FIG. 4, with the extension with respect to FIG. 2, according to the ground state represented, the output terminal A will be earthed via the fuse F; as shown in Figure 3, across the ohmic resistor R there will be the operating voltage Ub. If fuse F is destroyed, after an overcurrent event, the output terminal A is connected to the operating voltage terminal B via the resistor

R de sorte que l'on aura Ua = Ub.R so that we will have Ua = Ub.

La figure 5 montre une première installation de détection 1, une seconde installation de détection 2 et une troisième installation de 25 détection 3 avec au moins un autre circuit 5 dont l'état de fonctionnement doit être contrôlé vis-à-vis des événements de surintensité; ces circuits sont intégrés dans un composant monolithique 4. La première installation de détection i et l'autre circuit 5 sont alimentés par une tension de fonctionnement Ub commune et ces circuits sont actifs à l'état de fonctionne30 ment. La seconde installation de détection 2 et la troisième installation de détection 3 ne sont pas actives pendant le fonctionnement par exemple elles ne sont pas reliées à la tension de fonctionnement Ub et ce n'est qu'après une mesure supplémentaire qui ne peut être assurée par le circuit 5 ou par les autres circuits du composant 4 que l'on est branché sur 35 la tension de fonctionnement Ub. En cas d'événement de surtempérature pendant le fonctionnement, comme décrit ci-dessus, la diode Dl construit un signal de température en transistor Tl qui enregistre un signal de perturbation si le fusible Fl brle.  FIG. 5 shows a first detection installation 1, a second detection installation 2 and a third detection installation 3 with at least one other circuit 5, the operating state of which must be checked against overcurrent events ; these circuits are integrated into a monolithic component 4. The first detection installation i and the other circuit 5 are supplied by a common operating voltage Ub and these circuits are active in the operating state. The second detection installation 2 and the third detection installation 3 are not active during operation for example they are not connected to the operating voltage Ub and it is only after an additional measurement which cannot be ensured by the circuit 5 or by the other circuits of the component 4 which are connected to the operating voltage Ub. In the event of an overtemperature event during operation, as described above, the diode Dl constructs a temperature signal in transistor Tl which records a disturbance signal if the fuse Fl blows.

Lors de la mesure finale avant la fourniture du composant on active les installations de détection 2 et 3, la première installation de détection 1 étant hors service. La mesure finale est exécutée à une température légèrement supérieure à la température limite de la seconde instal5 lation de détection 2 et légèrement inférieure à la troisième température limite de la troisième installation de détection 3. Si la mesure finale est correcte, on aura enregistré un état de perturbation lié à la destruction du fusible F2 de la seconde installation de détection 2 mais non dans la troisième installation de détection 3. Cela permettra de prouver ultérieure10 ment que la mesure finale a été surfaite à la température prévue et que les points de réponse du fusible de surintensité sont corrects. En variante à  During the final measurement before the component is supplied, the detection installations 2 and 3 are activated, the first detection installation 1 being out of service. The final measurement is carried out at a temperature slightly above the limit temperature of the second detection installation 2 and slightly below the third limit temperature of the third detection installation 3. If the final measurement is correct, a state will have been recorded of disturbance linked to the destruction of fuse F2 of the second detection installation 2 but not in the third detection installation 3. This will later prove that the final measurement has been overrated at the expected temperature and that the response points of the overcurrent fuse are correct. As an alternative to

ce mode de réalisation, en principe pour la seconde et la troisième installation de détection D2, D3, on peut également utiliser une diode commune D comme élément de température.  this embodiment, in principle for the second and the third detection installation D2, D3, it is also possible to use a common diode D as temperature element.

Claims (4)

REVENDICATI ONS ) Installation de détection pour un composant électronique, caractérisée en ce qu'elle comprend - un élément de température (D) qui mesure une température et fournit un signal de température (IB), - une installation d'amplification (T) qui reçoit le signal de température (UB) et fournit un signal de sortie (Ic), et - une installation d'enregistrement (F) qui reçoit le signal de sortie (Ic) et dans le cas o la température mesurée dépasse une température li10 mite, enregistre de manière non fugitive un signal de perturbation, l'installation de détection étant à intégration monolithique. ) Installation de détection selon la revendication 1, caractérisée en ce qu' elle (F) enregistre le signal perturbateur de manière irréversible. ) Installation de détection selon la revendication 2, caractérisée en ce qu' elle (F) présente un état fondamental et un état perturbé et pour enregis20 trer le signal de défaut elle passe de manière irréversible à l'état perturbé. ) Installation de détection selon la revendication 3, caractérisée en ce que l'installation d'enregistrement (F) présente dans son état fondamental, un 25 chemin conducteur destructible de préférence en un métal ou un silicium polycristallin qui sera détruit en cas de perturbation. ) Installation de détection selon la revendication 3, caractérisée en ce qu' à l'état fondamental elle comporte une diode (Zener) ou un isolateur, de préférence un isolateur à oxyde métallique qui, détruit, passe à un état conducteur.CLAIMS ONS) Detection installation for an electronic component, characterized in that it comprises - a temperature element (D) which measures a temperature and provides a temperature signal (IB), - an amplification installation (T) which receives the temperature signal (UB) and provides an output signal (Ic), and - a recording installation (F) which receives the output signal (Ic) and in the case where the measured temperature exceeds a limited temperature , non-fleetingly records a disturbance signal, the detection installation being monolithically integrated. ) Detection installation according to claim 1, characterized in that it (F) records the disturbing signal irreversibly. ) Detection installation according to claim 2, characterized in that it (F) has a ground state and a disturbed state and to record the fault signal it irreversibly changes to the disturbed state. ) Detection installation according to claim 3, characterized in that the recording installation (F) has in its ground state, a conductive path which can be destroyed, preferably in a metal or polycrystalline silicon which will be destroyed in the event of disturbance. ) Detection installation according to claim 3, characterized in that in the fundamental state it comprises a diode (Zener) or an insulator, preferably a metal oxide insulator which, destroyed, goes to a conductive state. 6 ) Installation de détection selon la revendication 1, caractérisée en ce que  6) detection installation according to claim 1, characterized in that l'installation de d'amplification (T) commande le courant de sortie (Ic) traversant l'installation d'enregistrement (F) en fonction du signal de température (IB).  the amplification installation (T) controls the output current (Ic) passing through the recording installation (F) as a function of the temperature signal (IB). ) Installation de détection selon la revendication 6 caractérisée en ce que l'installation d'amplification comporte un transistor bipolaire (T) dont le circuit de base est relié à l'élément de température (D) et dont le circuit de collecteur comporte l'installation d'enregistrement (F). 8 ) Installation de détection selon la revendication 7, caractérisée en ce que l'installation d'enregistrement (F) est prévue entre le collecteur (K) du  ) Detection installation according to claim 6 characterized in that the amplification installation comprises a bipolar transistor (T) whose basic circuit is connected to the temperature element (D) and whose collector circuit comprises recording installation (F). 8) detection installation according to claim 7, characterized in that the recording installation (F) is provided between the collector (K) of the transistor bipolaire (T) et une borne de tension de fonctionnement (Ub, G) .  bipolar transistor (T) and an operating voltage terminal (Ub, G). ) Installation de détection selon la revendication 8, caractérisée en ce que le transistor bipolaire (T) est un transistor npn, l'installation 15 d'enregistrement (F) est installée entre la borne positive de tension de  ) Detection installation according to claim 8, characterized in that the bipolar transistor (T) is an npn transistor, the recording installation (F) is installed between the positive voltage terminal of fonctionnement (Ub) et le collecteur (K), et l'émetteur (E) du transistor bipolaire est relié à la masse.  operation (Ub) and the collector (K), and the emitter (E) of the bipolar transistor is connected to ground. ) Installation de détection selon la revendication 8, caractérisée en ce que le transistor bipolaire est un transistor pnp (T), l'installation d'enregistrement (F) est branchée entre le collecteur (K) et la borne de   ) Detection installation according to claim 8, characterized in that the bipolar transistor is a pnp transistor (T), the recording installation (F) is connected between the collector (K) and the terminal of masse (G), et l'émetteur (E) du transistor bipolaire (T) est relié à une borne positive de la tension de fonctionnement (Ub).  ground (G), and the emitter (E) of the bipolar transistor (T) is connected to a positive terminal of the operating voltage (Ub). ) Installation de détection selon l'une quelconque des revendications 8 à 10,  ) Detection installation according to any one of claims 8 to 10, caractérisée en ce qu' une borne de sortie (A) est reliée au collecteur du transistor bipolaire (T)  characterized in that an output terminal (A) is connected to the collector of the bipolar transistor (T) pour lire une tension de sortie (Ua).  to read an output voltage (Ua). ) Installation de détection selon l'une quelconque des revendications 8 à il,  ) Detection installation according to any one of claims 8 to 11, caractérisée par une résistance ohmique (R) entre le collecteur (K) du transistor bipolaire  characterized by an ohmic resistance (R) between the collector (K) of the bipolar transistor (T) et la borne de tension de fonctionnement (Ub, G) non reliée à l'installation d'enregistrement (F).  (T) and the operating voltage terminal (Ub, G) not connected to the recording installation (F). 13 ) Installation de détection selon la revendication 1, caractérisée en ce que l'élément de température est un élément semi-conducteur notamment une  13) detection installation according to claim 1, characterized in that the temperature element is a semiconductor element including a diode (D), montée dans le sens bloquant.  diode (D), mounted in the blocking direction. ) Installation de détection selon la revendication 1, caractérisée en ce que  ) Detection installation according to claim 1, characterized in that l'élément de température est un semi-conducteur branché dans le sens passant notamment une diode ou une résistance dépendant de la tempé10 rature.  the temperature element is a semiconductor connected in the passing direction, in particular a diode or a resistance depending on the temperature. ) Composant monolithique ayant au moins une installation de détection selon l'une quelconque des revendications 1 à 14 et au moins un autre circuit,   ) Monolithic component having at least one detection installation according to any one of claims 1 to 14 and at least one other circuit, caractérisé en ce que l'installation de détection et au moins un autre circuit sont intégrés de  characterized in that the detection installation and at least one other circuit are integrated manière monolithique.monolithic way. ) Composant monolithique selon la revendication 15, caractérisé en ce qu' il comporte au moins une première installation de détection (D1) susceptible d'être activée par la borne de branchement de tension (Ub, G), avec une première température limite et une première installation d'enregistrement  ) Monolithic component according to claim 15, characterized in that it comprises at least a first detection installation (D1) capable of being activated by the voltage connection terminal (Ub, G), with a first limit temperature and a first recording installation (Fl) pour une mesure de fonctionnement, et une seconde installation de 25 détection (D2) avec une seconde température limite et une seconde installation d'enregistrement (F2) pour une mesure finale, la seconde installation de détection (D2) étant activée indépendamment de la première installation de détection (Dl) de préférence seulement en dehors de la mesure de fonctionnement et/ou non par l'autre circuit.  (F1) for an operating measurement, and a second detection installation (D2) with a second limit temperature and a second recording installation (F2) for a final measurement, the second detection installation (D2) being activated independently of the first detection installation (Dl) preferably only outside of the operating measurement and / or not by the other circuit. 17 ) Composant monolithique selon la revendication 16, caractérisé par une troisième installation de détection (D3) avec une troisième température limite et une troisième installation d'enregistrement (F3) pour la me35 sure finale,  17) Monolithic component according to claim 16, characterized by a third detection installation (D3) with a third limit temperature and a third recording installation (F3) for the final measurement, la troisième température limite étant supérieure à la seconde température limite et la seconde et la troisième installation de détection étant activées en commun.  the third temperature limit being higher than the second temperature limit and the second and the third detection installation being activated jointly. ) Procédé de détection d'événement de surtempérature d'un composant monolithique selon l'une quelconque des revendications 15 à 17,  ) Method for detecting an overtemperature event of a monolithic component according to any one of claims 15 to 17, caractérisé en ce que pendant l'état de fonctionnement du composant monolithique (4), une  characterized in that during the operating state of the monolithic component (4), a première installation de détection selon l'une quelconque des revendications 1 à 14 est activée et au cas o une première température de fonctionnement du composant monolithique (4) dépasse une première température limite, on enregistre un premier signal de perturbation dans la première installation de mémoire (FI) de la première installation de dé10 tection, et  first detection installation according to any one of claims 1 to 14 is activated and in the event that a first operating temperature of the monolithic component (4) exceeds a first limit temperature, a first disturbance signal is recorded in the first memory installation (FI) of the first detection facility, and à la fin de l'état de fonctionnement, pour une température inférieure à la première température limite on vérifie si un signal de perturbation est enregistré dans la première installation d'enregistrement (Fl).  at the end of the operating state, for a temperature below the first limit temperature, it is checked whether a disturbance signal is recorded in the first recording installation (Fl). 19 ) Procédé selon la revendication 18, caractérisé en ce qu'  19) Method according to claim 18, characterized in that on vérifie un composant monolithique selon l'une quelconque des revendications 16 ou 17 et avant la mise en oeuvre du composant monolithique, on effectue une mesure finale, la première installation de détection n'étant 20 pas activée et la seconde installation de détection (2) étant activée, et de préférence également la troisième installation de détection (3) est activée et  a monolithic component is checked according to any one of claims 16 or 17 and before the implementation of the monolithic component, a final measurement is carried out, the first detection installation not being activated and the second detection installation (2 ) being activated, and preferably also the third detection installation (3) is activated and on effectue une mesure finale de température au-dessus de la seconde température limite et de préférence en dessous de la troisième température limite, et au cours d'une étape de contrôle suivante, on vérifie si la seconde installation de mémoire (F2) et le cas échéant également la troisième installation  a final temperature measurement is carried out above the second limit temperature and preferably below the third limit temperature, and during a following control step, it is checked whether the second memory installation (F2) and the if applicable also the third installation de mémoire (F3) contiennent un signal de perturbation.  memory (F3) contain a disturbance signal.
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