FR2799578A1 - Procede de realisation de connexions electriques sur un boitier semi-conducteur et boitier semi-conducteur - Google Patents
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Abstract
Procédé de réalisation de connexions électriques sur un boîtier semi-conducteur contenant une puce de circuits intégrés et présentant une couche extérieure de protection (4) présentant des ouvertures (5) découvrant au moins en partie des zones métalliques de connexion électrique et boîtier semi-conducteur muni de tels connexions. Lesdites ouvertures sont remplies d'une couche métallique de connexion électrique (7) recouvrant au moins leur paroi (5a). Une goutte métallique de soudure (8) est soudée sur ladite couche de connexion et est sans contact avec ladite couche de protection.
Description
<U>Procédé de réalisation de connexions électriques</U> <U>sur un boîtier semi-conducteur et boîtier</U> semi <U>conducteur</U> La présente invention concerne le domaine boîtiers semi conducteurs contenant une puce de circuit intégré et plus particulièrement le domaine de la réalisation de connexions électriques sur des boîtiers semi-conducteurs à goutte ou billes de soudure.
Dans la technique actuelle, les boîtiers semi-conducteurs comprennent couche extérieure de protection en une matière organique constituant un masque, dans laquelle on pratique une multiplicité d'ouvertures afin de découvrir des zones ou plots métalliques connexion électrique, généralement en cuivre, reliées à la puce.
Dans premier cas connu, ces zones de connexion électrique sont complètement découvertes. On les recouvre respectivement d'une première couche métallique d'anti-diffusion, généralement en nickel, d'une seconde couche métallique d'anti-oxydation, généralement en or, et d'une goutte ou bille métallique de soudure, généralement en un alliage à base d'étain, cette goutte n'atteignant pas la paroi desdites ouvertures. Dans cette disposition, il existe un réel problème de fragilité des zones métalliques de connexion qui. peuvent se trouver arrachées du boîtier.
Dans un second cas connu, lesdites zones de connexion électrique sont découvertes uniquement dans leur partie centrale. On les recouvre, jusqu'à la paroi desdites ouvertures, d'une première couche métallique d'anti-diffusion, d'une seconde couche d'anti- oxydation puis d'une goutte métallique de soudure, cette goutte remplissant ladite ouverture et dépassant largement. Dans cette disposition, il se produit une discontinuité de la surface de la goutte métallique de soudure le long du bord de ladite ouverture du fait que la goutte de soudure a tendance à s'étendre sur la surface extérieure de la couche de protection, autour de l'ouverture, de telle sorte qu'il apparaît fréquemment des fissures internes qui fragilisent la goutte de soudure.
La présente invention a pour but d'améliorer la résistance des connexions électriques de boîtier semi-conducteur à gouttes ou billes de soudure.
La présente invention a tout d'abord pour objet un procédé de réalisation de connexions électriques sur un boîtier semi-conducteur contenant une puce de circuits intégrés et présentant une couche extérieure de protection présentant des ouvertures découvrant au moins en partie des zones métalliques de connexion électrique.
Selon l'invention, ce procédé consiste à remplir lesdites ouvertures d'une couche métallique de connexion électrique sous l'effet d'une amenée de courant électrique dans la partie centrale de l'ouverture par une pointe, de telle sorte que ladite couche métallique recouvre au moins la paroi de ladite ouverture, et à souder une goutte métallique de soudure sur ladite couche métallique de connexion électrique, de telle sorte que cette goutte de soudure est au moins partie sans contact avec ladite couche de protection.
Selon l'invention, le procédé consiste de préférence à déposer une couche métallique d'anti-oxydation sur ladite couche métallique connexion électrique, et à souder ladite goutte métallique de soudure sur ladite couche métallique d'anti-oxydation.
La présente invention a également pour objet un boîtier semi conducteur contenant une puce de circuits intégrés.
Selon l'invention, ce boîtier comprend une couche extérieure de protection présentant des ouvertures découvrant au moins en partie des zones métalliques de connexion électrique. Lesdites ouvertures sont remplies d'une couche métallique de connexion électrique recouvrant au moins leur paroi. En outre, une goutte métallique de soudure soudée sur ladite couche de connexion et est au moins en partie sans contact avec ladite couche de protection.
Selon l'invention, la partie centrale de ladite couche connexion électrique est de préférence en creux et l'épaisseur de la partie périphérique de ladite couche est de préférence supérieure à l'épaisseur de ladite couche de protection.
Selon l'invention, les parois des ouvertures de ladite couche de protection sont de préférence divergentes.
Selon l'invention, la partie périphérique desdites zones métalliques de connexion électrique est de préférence engagee sous ladite couche de protection.
Selon l'invention, lesdites zones métalliques de connexion électrique peuvent avantageusement comprendre des branches engagées sous ladite couche de protection.
La présente invention va maintenant être illustrée un exemple de réalisation de connexions électriques sur un boîtier semi conducteur à gouttes ou billes de soudure, décrit en référence au dessin sur lequel - la figure 1 représente une coupe partielle d'un boîtier exempt de connexions électriques extérieures ; - la figure 2 représente une opération de dépôt d'une couche métallique d'anti-diffusion ; - la figure 3 représente le boîtier précité à la fin de l'opération de dépôt montrée sur la figure 2 ; - figure 4 représente le boîtier après dépôt d'une goutte de soudure - la figure 5 représente une variante de réalisation du boîtier précité.
En se reportant à la figure 1, on voit qu'on a représenté un boîtier semi-conducteur 1 qui comprend une multiplicité de zones ou plots métalliques 2, généralement en cuivre, réalisés sur sa surface 3. Cette surface 3 est recouverte d'une couche ou masque de protection 4 en une matière organique, dans laquelle sont réalisées une multiplicité d'ouvertures 5 qui permettent de découvrir la partie centrale 2a de chaque zone 2, la partie périphérique de ces zones 2 restant engagée en-dessous de la couche protectrice 4.
Dans l'exemple représenté, la paroi 5a des ouvertures 5 est en forme de tronc de cône ouvert vers l'extérieur de façon à diverger vers l'extérieur.
En se reportant à la figure 2, on voit qu'on installe dans chacune des ouvertures 5 une pointe 6 d'amenée de courant électrique de telle sorte qu'elle s'étende perpendiculairement à la face 3 et que son extrémité libre 6a vienne dans le milieu de la partie centrale 2a des zones métalliques de connexion 2,, le courant électrique étant repris par l'autre face du boîtier. On effectue alors de façon connue en ' un dépôt catalytique ou électrolytique d'une couche métallique 7, généralement de nickel, sur la partie centrale 2a des zones métalliques de connexion 2, jusqu'à la paroi 5a des ouvertures 5.
En se reportant à la figure 3, on voit qu'en fin d'opération de dépôt, la couche métallique 7 s'étend sur toute la surface de la partie centrale 2a des zones métalliques 2, que la partie périphérique la couche métallique 7 remplit complètement la partie périphérique des ouvertures 5 et est plus épaisse que la couche protectrice 4, telle sorte qu'elle dépasse vers l'extérieur, et que la partie centrale 7b de la couche métallique 7 est en creux.
Ensuite, et de façon habituelle non représentée, on dépose sur chaque couche métallique d'anti-diffusion 7 ainsi obtenue une couche d'anti-oxydation, généralement en or.
En se reportant à la figure 4, on voit qu'ensuite on dépose goutte ou bille de soudure 8, généralement en un alliage à base d'etain sur chaque couche d'anti-oxydation, qui disparaît par diffusion dans goutte 8, de telle sorte que cette goutte de soudure 8 se soude à la couche métallique 7. La goutte de soudure 8 se centre sur la couche métallique 7 et la recouvre jusqu'au voisinage de sa périphérie, sans toufefois entrer en contact avec la couche protectrice 4.
Ainsi, il n'existe pas de discontinuité, ni à la surface la goutte de soudure 8 ni à la périphérie de l'interface entre la goutte de soudure 8 et la couche métallique 7, de telle sorte que les connexions obtenue sont particulièrement résistantes.
Dans une variante, on pourrait effectuer le dépôt de la couche métallique 7 de telle sorte que sa surface serait située à l'extérieur de la surface de la couche de protection 4 et serait sensiblement plate.
En se reportant à la figure 5, on voit que ce qui vient d'être décrit pourrait également être appliqué à un boîtier 9 dont la couche protectrice 10 présenterait des ouvertures 11 découvrant complètement des zones métalliques de connexions électriques 12, leurs périphéries s'étendant au voisinage de la paroi des ouvertures 11. Dans cette variante, les zones ou plots métalliques 12 comprennent en outre des branches radiales 13 dont les extrémités s'étendent en-dessous de la couche protectrice 10. Ainsi, l'arrachement des zones métalliques 12 est rendu plus difficile.
La présente invention se limite pas à l'exemple ci-dessus décrit. D'autres variantes de réalisation sont possibles sans sortir du cadre défini par les revendications annexées.
Claims (7)
1. Procédé de réalisation de connexions électriques un boîtier semi-conducteur contenant une puce de circuits intégrés et présentant une couche extérieure de protection (4) présentant des ouvertures (5) découvrant au moins en partie des zones métalliques de connexion électrique, caractérisé par le fait qu'il consiste à remplir lesdites ouvertures (5) d'une couche métallique de connexion électrique (7) sous l'effet d'une amenée de courant électrique dans la partie centrale de l'ouverture par une pointe (6), de telle sorte que ladite couche métallique recouvre au moins la paroi de ladite ouverture à souder une goutte métallique de soudure (8) sur ladite couche métallique de connexion électrique, de telle sorte que cette goutte de soudure est sans contact avec ladite couche de protection.
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé par fait qu'il consiste à déposer une couche métallique d'anti-oxydation sur ladite couche métallique de connexion électrique, et à souder ladite goutte métallique de soudure sur ladite couche métallique d'anti- oxydation.
3. Boîtier semi-conducteur contenant une puce de circuits integrés, caractérisé par le fait qu'il comprend une couche extérieure de protection (4) présentant des ouvertures (5) découvrant au moins en partie des zones métalliques de connexion électrique (2), que lesdites ouvertures sont remplies d'une couche métallique de connexion électrique (7) recouvrant au moins leur paroi (5a) et qu'une goutte métallique de soudure (8) est soudée sur ladite couche de connexion et est au moins en partie sans contact avec ladite couche de protection.
4. Boîtier selon la revendication 3, caractérisé par le fait la partie centrale (7b) de ladite couche de connexion électrique (7) est en creux et que l'épaisseur de la partie périphérique (7a) de cette couche (7) est supérieure à l'épaisseur de ladite couche de protection (4).
5. Boîtier selon l'une des revendications 3 et 4, caractérisé par le fait que la paroi (5a) des ouvertures (5) de ladite couche de protection (4) est divergente.
6. Boîtier selon luné quelconque des revendications 3 à 5, caractérisé par le fait que partie périphérique desdites zones métalliques de connexion électrique est engagée sous ladite couche de protection.
7. Boîtier selon l'une quelconque des revendications 3 à 5, caractérisé par le fait que lesdites zones métalliques de connexion électrique (12) comprennent branches (13) engagées sous ladite couche de protection (4).
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---|---|---|---|---|
TW583759B (en) * | 2003-03-20 | 2004-04-11 | Advanced Semiconductor Eng | Under bump metallurgy and flip chip |
DE10327882A1 (de) * | 2003-06-19 | 2005-01-27 | Infineon Technologies Ag | Anordnung zur Verbesserung der Zuverlässigkeit von Lötverbindungen an Halbleiterprodukten mit BGA- oder BGA-ähnlichen Komponenten |
US9935038B2 (en) * | 2012-04-11 | 2018-04-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Semiconductor device packages and methods |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63232354A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-28 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH0375394A (ja) * | 1989-08-18 | 1991-03-29 | Fujitsu Ltd | メッキ装置 |
US5331172A (en) * | 1991-02-11 | 1994-07-19 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Ionized metal cluster beam systems and methods |
EP0690504A1 (fr) * | 1994-06-28 | 1996-01-03 | International Business Machines Corporation | Borne à souder et procédé de sa fabrication |
WO1997045871A1 (fr) * | 1996-05-31 | 1997-12-04 | Elcoteq Network Oy | Bosse de contact en etain ou en alliage de soudage pour microcircuits non encapsules, et procede de realisation d'une telle bosse |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5872051A (en) * | 1995-08-02 | 1999-02-16 | International Business Machines Corporation | Process for transferring material to semiconductor chip conductive pads using a transfer substrate |
US6002172A (en) * | 1997-03-12 | 1999-12-14 | International Business Machines Corporation | Substrate structure and method for improving attachment reliability of semiconductor chips and modules |
US5962921A (en) * | 1997-03-31 | 1999-10-05 | Micron Technology, Inc. | Interconnect having recessed contact members with penetrating blades for testing semiconductor dice and packages with contact bumps |
US5851337A (en) * | 1997-06-30 | 1998-12-22 | Caesar Technology Inc. | Method of connecting TEHS on PBGA and modified connecting structure |
US6120885A (en) * | 1997-07-10 | 2000-09-19 | International Business Machines Corporation | Structure, materials, and methods for socketable ball grid |
US6118180A (en) * | 1997-11-03 | 2000-09-12 | Lsi Logic Corporation | Semiconductor die metal layout for flip chip packaging |
US6107109A (en) * | 1997-12-18 | 2000-08-22 | Micron Technology, Inc. | Method for fabricating a semiconductor interconnect with laser machined electrical paths through substrate |
US6337445B1 (en) * | 1998-03-16 | 2002-01-08 | Texas Instruments Incorporated | Composite connection structure and method of manufacturing |
US6324754B1 (en) * | 1998-03-25 | 2001-12-04 | Tessera, Inc. | Method for fabricating microelectronic assemblies |
US6329605B1 (en) * | 1998-03-26 | 2001-12-11 | Tessera, Inc. | Components with conductive solder mask layers |
US6077726A (en) * | 1998-07-30 | 2000-06-20 | Motorola, Inc. | Method and apparatus for stress relief in solder bump formation on a semiconductor device |
US6242932B1 (en) * | 1999-02-19 | 2001-06-05 | Micron Technology, Inc. | Interposer for semiconductor components having contact balls |
US6725536B1 (en) * | 1999-03-10 | 2004-04-27 | Micron Technology, Inc. | Methods for the fabrication of electrical connectors |
US6222280B1 (en) * | 1999-03-22 | 2001-04-24 | Micron Technology, Inc. | Test interconnect for semiconductor components having bumped and planar contacts |
FR2799337B1 (fr) * | 1999-10-05 | 2002-01-11 | St Microelectronics Sa | Procede de realisation de connexions electriques sur la surface d'un boitier semi-conducteur a gouttes de connexion electrique |
-
1999
- 1999-10-08 FR FR9912545A patent/FR2799578B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-10-06 US US09/684,410 patent/US6528407B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63232354A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-28 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH0375394A (ja) * | 1989-08-18 | 1991-03-29 | Fujitsu Ltd | メッキ装置 |
US5331172A (en) * | 1991-02-11 | 1994-07-19 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Ionized metal cluster beam systems and methods |
EP0690504A1 (fr) * | 1994-06-28 | 1996-01-03 | International Business Machines Corporation | Borne à souder et procédé de sa fabrication |
WO1997045871A1 (fr) * | 1996-05-31 | 1997-12-04 | Elcoteq Network Oy | Bosse de contact en etain ou en alliage de soudage pour microcircuits non encapsules, et procede de realisation d'une telle bosse |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 013, no. 031 (E - 707) 24 January 1989 (1989-01-24) * |
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 015, no. 243 (C - 0842) 21 June 1991 (1991-06-21) * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6528407B1 (en) | 2003-03-04 |
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