FR2702266A1 - Procédé et installation de fourniture de gaz à un poste d'utilisation sur un site utilisateur. - Google Patents
Procédé et installation de fourniture de gaz à un poste d'utilisation sur un site utilisateur. Download PDFInfo
- Publication number
- FR2702266A1 FR2702266A1 FR9302452A FR9302452A FR2702266A1 FR 2702266 A1 FR2702266 A1 FR 2702266A1 FR 9302452 A FR9302452 A FR 9302452A FR 9302452 A FR9302452 A FR 9302452A FR 2702266 A1 FR2702266 A1 FR 2702266A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- gas
- building
- source
- active gas
- user
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000009434 installation Methods 0.000 title claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 206010034962 Photopsia Diseases 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 229910000065 phosphene Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005315 distribution function Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
- F17D1/00—Pipe-line systems
- F17D1/02—Pipe-line systems for gases or vapours
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
- F17C13/12—Arrangements or mounting of devices for preventing or minimising the effect of explosion ; Other safety measures
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2221/00—Handled fluid, in particular type of fluid
- F17C2221/01—Pure fluids
- F17C2221/014—Nitrogen
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2221/00—Handled fluid, in particular type of fluid
- F17C2221/05—Ultrapure fluid
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2223/00—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel
- F17C2223/01—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by the phase
- F17C2223/0107—Single phase
- F17C2223/0123—Single phase gaseous, e.g. CNG, GNC
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2223/00—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel
- F17C2223/01—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by the phase
- F17C2223/0146—Two-phase
- F17C2223/0153—Liquefied gas, e.g. LPG, GPL
- F17C2223/0161—Liquefied gas, e.g. LPG, GPL cryogenic, e.g. LNG, GNL, PLNG
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2223/00—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel
- F17C2223/03—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by the pressure level
- F17C2223/036—Very high pressure (>80 bar)
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2260/00—Purposes of gas storage and gas handling
- F17C2260/03—Dealing with losses
- F17C2260/035—Dealing with losses of fluid
- F17C2260/038—Detecting leaked fluid
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2265/00—Effects achieved by gas storage or gas handling
- F17C2265/01—Purifying the fluid
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2265/00—Effects achieved by gas storage or gas handling
- F17C2265/02—Mixing fluids
- F17C2265/025—Mixing fluids different fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2270/00—Applications
- F17C2270/05—Applications for industrial use
- F17C2270/0518—Semiconductors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
A distance du bâtiment (A) renfermant le poste utilisateur (Pi ), est aménagé un bâtiment de sécurité (B) renfermant au moins une source (2; 7; 10) de gaz actif, par exemple un appareil (2) de production in situ de ce gaz actif, avantageusement associée à un appareil de purification (4), pour fournir le gaz actif, éventuellement mélangé de façon contrôlée (en 6) avec un gaz vecteur provenant d'une source propre (1), via une canalisation de sûreté à haute propreté (C), au poste d'utilisation (Pi ). Application notamment à la fabrication de composants électroniques.
Description
La présente invention concerne un procédé de fourniture d'au moins un gaz
actif pur à au moins un poste d'utilisation dans un premier bâtiment d'un site utilisateur, en particulier pour la fourniture de gaz spéciaux dits de spécialité ("speciality gases") dans les industries de fabrication de composants électroniques,
d'écrans à cristaux liquides "LCD" ou de cellules photo-électriques.
Les gaz actifs spéciaux, ou gaz spéciaux pour l'électronique (ESG), sont des gaz en général dangereux, du fait de leur toxicité et/ou de leur inflammabilité, et doivent, pour les applications envisagées, présenter une haute pureté, c'est-à-dire être exempts d'impuretés polluantes ou contaminantes Il en est de même pour les gaz non qualifiés d'actifs, typiquement neutres, utilisés comme gaz vecteurs de quantités dosées de gaz actif pur ou comme gaz de purge des postes d'utilisation ou des équipements associés Les gaz actifs couvrent une large palette, comprenant notamment les silanes, les diboranes, l'arsine, la phosphène, l'ammoniac, des agents corrosifs, notamment des acides, des fluorures et des chlorures, les gaz vecteurs ou de purge comprenant essentiellement l'azote, l'hydrogène et l'hélium. Actuellement, les gaz spéciaux sont conditionnés, purs ou en mélange avec un gaz vecteur pur, dans des bouteilles spécialement traitées de tailles diverses et sous des pressions élevées également diverses Ces bouteilles sont actuellement aménagées, dans le bâtiment du poste d'utilisation, dans des armoires de gaz spéciaux équipées de systèmes de sécurité et de systèmes de purge pour éviter la contamination des gaz spéciaux à haute pureté au moment du changement de bouteilles Ces systèmes actuels présentent des très nombreux inconvénients Ainsi, la taille limitée des bouteilles impose des changements fréquents dans les armoires de gaz spéciaux qui, outre les problèmes de substitution et de manipulation malaisées des bouteilles, imposent à l'utilisateur de disposer, aux alentours du bâtiment, de zones de stockage de bouteilles pleines de réserve et de bouteilles vides en attente de leur retour chez le fournisseur, qui, comme les armoires de gaz spéciaux, occupent un espace non négligeable sur le site de l'utilisateur, d'autant que ce dernier dispose en général de toute une gamme de bouteilles contenant divers gaz spéciaux purs ou en mélange D'autre part, ces bouteilles contenant des gaz à haute pression (pouvant atteindre 150 x 105 Pa), les armoires de gaz spéciaux doivent, en sus de leur fonction de distribution, comporter des dispositifs de dépressurisation de ces gaz pour les ramener à des pressions basses exploitables dans les postes d'utilisation, généralement de l'ordre de 4 ou 5 x 105 Pa ou moins Enfin, le changement fréquent des bouteilles impose de vérifier régulièrement la 1 o qualité du gaz (pureté et/ou taux de mélange) qui peut varier en fonction des lots de bouteilles, de l'état intérieur de ces dernières
et de l'état de leur robinet.
La présente invention a pour objet de proposer un procédé simplifié de fourniture de gaz éliminant la plupart des inconvénients sus- mentionnés et octroyant à l'utilisateur une souplesse et une
sécurité d'emploi accrues.
Pour ce faire, selon une caractéristique de l'invention, le procédé comprend les étapes d'aménager, sur le site utilisateur, un deuxième bâtiment de sécurité à distance du premier bâtiment, d'aménager au moins une source du gaz actif dans ce deuxième bâtiment et de transférer, par au moins une canalisation de sûreté à haute propreté, le gaz, à une pression basse, typiquement inférieure à x 105 Pa, au poste d'utilisation. Selon d'autres caractéristiques de l'invention le gaz est purifié dans le deuxième bâtiment avant son transfert à la canalisation; le gaz pur est élaboré, éventuellement purifié in situ dans le deuxième bâtiment, sa pureté et/ou son taux de mélange avec
un gaz vecteur étant également analysé dans le deuxième bâtiment.
Comme on le comprendra, le procédé selon l'invention permet de supprimer les problèmes sus-mentionnés dûs au changement de bouteilles, notamment les problèmes de manipulation, d'interversion des bouteilles et les risques de contamination au moment du changement de ces bouteilles dans les armoires de gaz spéciaux, de réduire les coûts d'exploitation pour l'utilisateur et d'éviter les risques
d'accidents inhérents aux bouteilles de gaz sous haute pression.
La présente invention a également pour objet une installation de fourniture de gaz pour la mise en oeuvre d'un tel procédé, comprenant un deuxième bâtiment de sécurité disposé à distance du premier bâtiment renfermant le poste d'utilisation et renfermant au moins une source dudit gaz actif, et au moins une canalisation de sûreté à haute propreté reliant la source au poste
d'utilisation dans le premier bâtiment.
D'autres caractéristiques et avantages de la présente
invention ressortiront de la description suivante, donnée à titre
illustratif mais nullement limitatif, faite en relation avec le dessin annexé, sur lequel: la figure unique représente schématiquement une implantation sur un site utilisateur d'une installation de fourniture
de gaz spéciaux selon l'invention.
Sur la figure unique, on a représenté un premier bâtiment A renfermant au moins un local LI, L 2, présentant une classe de propreté élevée et dans lequel est disposé au moins un poste d'utilisation Pi, par exemple une machine de dépôt de couche mince sur une tranche de
matériau semi-conducteur.
Selon l'invention, à distance du bâtiment A, est érigé un bâtiment de sécurité B, pourvu des installations de sécurité requises (locaux clos anti-déflagrants avec conditionnement et contrôle d'atmosphère et détection de fuites) comportant une série de pièces isolées les unes des autres R Dans l'exemple représenté, le bâtiment B, à proximité duquel est érigée une unité cryogénique 1 de production d'azote de haute pureté, du type dit HPN ou à réservoir d'azote liquide et évaporateur, classiquement utilisé pour alimenter en gaz neutre les postes d'utilisation Pi, comporte une première section R 1 avec, dans une pièce Ril, un appareil 2 de génération in situ de phosphine (qui est un dopant pour le silicium) produisant en sortie de la phosphène impure, à une moyenne pression, qui peut être analysée par un analyseur 3 et qui est adressée à un dispositif de purification 4 La phosphène purifiée, analysée par un analyseur 5, est adressée à un dispositif de mélange in situ 6 recevant également un flux d'azote pur à moyenne pression en provenance de l'unité 1 et fournissant en sortie un mélange contrôlé prédéterminé d'azote et de
faibles quantités de phosphine analysé en continu par un analyseur 5 '.
Dans une autre section R 2 du bâtiment B, une première pièce R 21 renferme des bouteilles ou, avantageusement, deux cadres ("bundles") 7 contenant chacun plusieurs bouteilles de monosilane sous pression, un des cadres fournissant, après détente à une pression de l'ordre de 10 x 105 Pa, le monosilane, qui peut être analysé par un analyseur 8, à un dispositif de mélange in situ 9 recevant également un flux d'azote pur en provenance de l'unité 1 pour fournir en sortie un mélange contrôlé prédéterminé d'azote et de faibles quantités de silane analysé en continu par un analyseur 8 ' Dans une première pièce R 31 d'une autre section R 3 est disposé un réservoir 10 ou appareil de génération in situ d'un acide, typiquement de l'acide chlorhydrique, de l'acide bromhydrique ou de l'acide fluorhydrique, qui est adressé à moyenne pression à un dispositif de purification 11 disposé dans une pièce adjacente R 32 et qui fournit, typiquement en deux sorties, un
acide gazeux à haute pureté analysé par un analyseur 12.
Comme on le voit sur la figure, les différentes sorties de gaz du bâtiment de sécurité B sont reliées à un ou plusieurs des postes d'utilisation Pl dans le bâtiment A par des canalisations respectives C comportant chacune une tubulure centrale de transfert de haute qualité, à surface intérieure traitée, par exemple électropolie, disposée dans une gaine de sécurité G dans laquelle circule un gaz neutre, par exemple de l'azote, analysé en continu pour détecter d'éventuelles fuites du gaz actif à pression basse dans la tubulure centrale. Comme on le voit également sur la figure unique, par sécurité, en cas de disfonctionnement momentané ou de panne d'un dispositif de mélange, tel que 6 et 9, on adjoint, à la section correspondante, au moins une bouteille 13, 14 contenant un mélange préconditionné correspondant à celui normalement disponible en sortie du dispositif de mélange 6, 9 et connectable à la canalisation correspondante C. Quoique la présente invention ait été décrite en relation avec des exemples particuliers, elle ne s'en trouve pas limitée pour autant mais est au contraire susceptible de modifications et de
variantes qui apparaîtront à l'homme de l'art.
Claims (8)
1 Procédé de fourniture d'au moins un gaz actif pur à au moins un poste d'utilisation (P) dans un premier bâtiment (A) d'un site utilisateur, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes d'aménager, sur le site utilisateur, un deuxième bâtiment de sécurité (B) à distance du premier bâtiment (A), d'aménager au moins une source ( 2; 7; 10) dudit gaz dans le deuxième bâtiment (B), et de transférer, par au moins une canalisation de sureté à haute propreté
(C), le gaz, à une pression basse, au poste d'utilisation (P).
2 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte l'étape de purifier ( 4; 11) le gaz dans le deuxième bâtiment
(B) avant transfert à la canalisation (C).
3 Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce qu'il comporte l'étape d'élaborer in situ ( 2, 4; 10, 11) le gaz pur dans le
deuxième bâtiment (B).
4 Procédé selon l'une des revendications précédentes,
caractérisé en ce qu'il comporte les étapes d'aménager, au voisinage du deuxième bâtiment (B), au moins une source de gaz vecteur ( 1) et de mélanger de façon contrôlée ( 6; 9), dans le deuxième bâtiment (B), le gaz actif pur au gaz vecteur avant transfert du mélange à la
canalisation (C).
Procédé selon l'une des revendications précédentes,
caractérisé en ce qu'il comporte l'étape d'analyser ( 3; 5, 5 '; 8, 8 '; 12), dans le deuxième bâtiment (B), la pureté et/ou le taux de mélange du gaz actif et/ou d'un mélange de gaz-contenant le gaz actif,
avant transfert à la canalisation (C).
6 Installation de fourniture d'au moins un gaz actif pur à au moins un poste d'utilisation (Pi) dans un premier bâtiment (A) d'un site utilisateur, caractérisée en ce qu'elle comprend un deuxième bâtiment de sécurité (B) disposé à distance du premier bâtiment (A) et renfermant au moins une source ( 2; 7; 10) dudit gaz actif, et au moins une canalisation de sûreté à haute propreté (C) reliant la
source de gaz au poste d'utilisation (Pi).
7 Installation selon la revendication 6, caractérisée en ce que le deuxième bâtiment (B) renferme un dispositif ( 4; 11) de purification du gaz actif interposé entre la source ( 2; 10) et la
canalisation (C).
8 Installation selon la revendication 7, caractérisée en ce que la source de gaz est une unité ( 2; 10) de génération in situ
dudit gaz.
9 Installation selon la revendication 7 ou la revendication 8, caractérisée en ce qu'elle comporte en outre au moins une source de gaz vecteur ( 1) et en ce que le deuxième bâtiment (B) renferme, en amont de la canalisation (C), un dispositif ( 6; 9) de mélange de gaz relié à la source de gaz actif ( 2; 7) et à la source de gaz vecteur ( 1) pour fournir à la canalisation (C) un mélange contrôlé desdits
gaz.
Installation selon la revendication 9, caractérisée en ce qu'elle comporte, dans le deuxième bâtiment (B), au moins un réservoir additionnel ( 13; 14) dudit mélange de gaz connectable à la
canalisation (C).
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9302452A FR2702266B1 (fr) | 1993-03-03 | 1993-03-03 | Procédé et installation de fourniture de gaz à un poste d'utilisation sur un site utilisateur. |
| US08/202,497 US5433921A (en) | 1993-03-03 | 1994-02-28 | Process for supplying gas to a utilization station at a utilization site |
| EP94400436A EP0614039A1 (fr) | 1993-03-03 | 1994-03-02 | Procédé et installation de fourniture de gaz à un poste d'utilisation sur un site utilisateur |
| JP6032468A JPH06341600A (ja) | 1993-03-03 | 1994-03-02 | 使用現場での使用部署にガスを供給する方法及び設備 |
| CN94102297.8A CN1101969A (zh) | 1993-03-03 | 1994-03-02 | 给公用工程区的公用工程站供气的方法和设备 |
| US08/400,569 US5571487A (en) | 1993-03-03 | 1995-03-08 | Installation for supplying fluid to a utilization station at the utilization site |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9302452A FR2702266B1 (fr) | 1993-03-03 | 1993-03-03 | Procédé et installation de fourniture de gaz à un poste d'utilisation sur un site utilisateur. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2702266A1 true FR2702266A1 (fr) | 1994-09-09 |
| FR2702266B1 FR2702266B1 (fr) | 1995-04-28 |
Family
ID=9444612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR9302452A Expired - Fee Related FR2702266B1 (fr) | 1993-03-03 | 1993-03-03 | Procédé et installation de fourniture de gaz à un poste d'utilisation sur un site utilisateur. |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5433921A (fr) |
| EP (1) | EP0614039A1 (fr) |
| JP (1) | JPH06341600A (fr) |
| CN (1) | CN1101969A (fr) |
| FR (1) | FR2702266B1 (fr) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8068607B2 (en) * | 2007-07-31 | 2011-11-29 | Ricoh Company, Limited | Information processing apparatus and information processing method |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5881300A (ja) * | 1981-11-09 | 1983-05-16 | Daido Sanso Kk | 超高純度ガス輸送方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2837513B2 (ja) * | 1989-06-16 | 1998-12-16 | 三井化学株式会社 | 自動分析方法および装置 |
-
1993
- 1993-03-03 FR FR9302452A patent/FR2702266B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-02-28 US US08/202,497 patent/US5433921A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-02 CN CN94102297.8A patent/CN1101969A/zh active Pending
- 1994-03-02 JP JP6032468A patent/JPH06341600A/ja active Pending
- 1994-03-02 EP EP94400436A patent/EP0614039A1/fr not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-03-08 US US08/400,569 patent/US5571487A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5881300A (ja) * | 1981-11-09 | 1983-05-16 | Daido Sanso Kk | 超高純度ガス輸送方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 7, no. 179 (M - 234)<1324> 9 August 1983 (1983-08-09) * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06341600A (ja) | 1994-12-13 |
| US5433921A (en) | 1995-07-18 |
| CN1101969A (zh) | 1995-04-26 |
| US5571487A (en) | 1996-11-05 |
| FR2702266B1 (fr) | 1995-04-28 |
| EP0614039A1 (fr) | 1994-09-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6911065B2 (en) | Method and system for supplying high purity fluid | |
| US4869301A (en) | Cylinder cabinet piping system | |
| KR100879152B1 (ko) | 유체 저장 용기 내에 위치하고 그 안에서 조정될 수 있는조절기를 포함하는 가스 저장 및 분배 시스템 | |
| US4917136A (en) | Process gas supply piping system | |
| EP1409766B1 (fr) | Systeme d'administration d'un produit chimique ultra pur | |
| US5427625A (en) | Method for cleaning heat treatment processing apparatus | |
| CN102162092B (zh) | 恒定浓度蒸发的方法以及使用该方法的设备 | |
| US20020046775A1 (en) | Gas panel | |
| WO1999022165A1 (fr) | Ecran a plasma | |
| EP1523587B1 (fr) | Dispositif et procede de production de fluor | |
| US5591273A (en) | Process for distributing ultra high purity gases with minimized contamination and particulates | |
| US4549889A (en) | Refining process of reactive gas for forming semiconductor layer | |
| FR2702266A1 (fr) | Procédé et installation de fourniture de gaz à un poste d'utilisation sur un site utilisateur. | |
| WO2006083363A2 (fr) | Stockage et distribution de pentaborane(9) | |
| CN212776821U (zh) | 一种特殊气体全自动不间断供气设备 | |
| US6177134B1 (en) | Process and plant for the production of a gaseous mixture containing a carrier gas an oxidizing gas and a silane | |
| JPH0526324B2 (fr) | ||
| EP0452493A1 (fr) | Dispositif d'alimentation en gaz de traitement | |
| JP2532313B2 (ja) | 高圧容器 | |
| FR2683890A1 (fr) | Installation de distribution d'azote a tres haute purete et procede de mise en óoeuvre. | |
| Pozzetti | Epitaxial growth facilities, equipment, and supplies | |
| KR100191471B1 (ko) | 반도체 저압화학기상증착설비의 가스공급장치 | |
| JP2654466B2 (ja) | 反応性気体充填方法 | |
| JPH05335259A (ja) | 反応性気体が充填された高圧容器およびその作製方法 | |
| Collis et al. | Heteroepitaxial growth of 3-5 semiconductor compounds by metal-organic chemical vapor deposition for device applications |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ST | Notification of lapse |