FR2590278A1 - Procede et dispositif de regulation de la quantite d'un metal depose par voie electrolytique sur une bande defilant en continu - Google Patents

Abstract

PROCEDE DE REGULATION DE LA QUANTITE D'UN METAL DEPOSE PAR VOIE ELECTROLYTIQUE SUR UNE BANDE A REVETIR DEFILANT EN CONTINU DANS UNE INSTALLATION DE DEPOT COMPRENANT PLUSIEURS RESERVOIRS REMPLIS D'ELECTROLYTE, LEDIT PROCEDE CONSISTANT A DETERMINER DES COURBES EXPERIMENTALES DU RENDEMENT EN FONCTION DE L'INTENSITE DU COURANT D'ALIMENTATION DE CHAQUE PONT DE L'INSTALLATION, A RECUEILLIR 32 DES INDICATIONS RELATIVES AUX PONTS EN SERVICE OU HORS SERVICE, A ETABLIR LES VALEURS ANALOGIQUES DE L'INTENSITE SUR CHAQUE PONT ET DE L'INTENSITE MAXIMALE DU COURANT SUR L'ENSEMBLE DES PONTS, A MESURER LA VITESSE DE DEFILEMENT DE LA BANDE 37, A ETABLIR DES VALEURS DE CONSIGNE 39 RELATIVES A LA QUANTITE DE METAL A DEPOSER, A MESURER LA QUANTITE GLOBALE DE METAL DEPOSEE A L'AIDE D'UNE JAUGE A BALAYAGE PERIODIQUE, A DETERMINER LES MOYENNES INFERIEURE ET SUPERIEURE DE LA QUANTITE DE METAL MESUREE PAR LA JAUGE A CHAQUE BALAYAGE ET A ETABLIR A PARTIR DES DONNEES PRECITEES UN MODELE DE REGULATION.

Description

La presente invention est relative à la technique du dépôt d'un revêtement

électrolytique sur

une bande métallique défilant en continu et se rap-

porte plus particulierement a la régulation du dépôt de métal a l'aide d'un microprocesseur. Il est connu pour procéder a J'étamage d'une bande de faire passer cette bande successivement dans

plusieurs réservoirs remplis d'électrolyte.

L'étain est fourni à l'installation d'étama-

ge sous la forme de barres posées sur un support de

cuivre faisant office d'anode.

A titre d'exemple, on peut citer une instal-

lation d'étamage comportant douze réservoirs succes-

sifs. A raison de deux supports ou ponts par face de mrital dans chaque bac, il y a en tout vingt quatre

po'rt. pur face.

Le nombre de barres d'étain sur chaque sup-

port est fonction de la largeur de la bande a étamer.

Les barres d'étain qui sont en fait des

électrodes consommables sont montées sur des glissié-

res conductrices, ce qui permet de les remplacer lors-

qu'elles sont usées, de façon continue et sans arrêt

de la ligne.

Dans chaque bac sont places un rouleau infé-

T eur en caoutchouc et un rouleau supérieur chromé

entre lesquels est tendue la bande. Ensemble, ils for-

ment la cathode du réservoir correspondant.

Les ponts sont alimentés sous une tension continue de 24V et reçoivent un courant limité à 4500 A. Le taux d'étain déposé est fonction de la largeur de la bande, de la vitesse de défilement de :a1le-ci et du courant global qui se répartit sur les 2.

différents ponts en service.

L'intensité du courant est donnée par la

relation suivante tirée de la loi de Faraday.

v x 60 x l x E I=à

I =---------------

2,2 x n v = vitesse de ligne en m/mn 1 largeur de la bande en mètres E = taux d'étain en g/m2 n = rendement Dans des installations connues, l'opérateur règle le taux d'étain visé en intervenant directement

sur le courant global (IG). Il doit préalablement af-

ficher la largeur de la bande. Le taux d'étamage est

maintenu constant par régulation du courant à une va-

leur proportionnelle à la vitesse de la ligne. Cepen--

dant, cette régulation ne permet pas d'éviter le sous-

étamage et le sur-étamage lors des états intermédiai-

res (changement de vitesse, changement de taux, coupu-

re ou rajout d'un pont).

En effet, la quantité d'étain déposé est égale à: i = n K Ii/vi, i étant le numéro d'ordre du pont

A l'état stable toutes les vitesses de pas-

sage sous les ponts sont identiques, donc on a =n i =n K Ii/vi = 1/v SK Ii = K/v I global i = i i = 1

A chaque transitoire cependant, cette rela-

tion n'est plus vraie, tous les vi pouvant être diffé-

rents, et donc la quantité d'étain peut différer de

plus de 20Z de la valeur visée.

Dans un passé récent, la mesure du taux

d'étain déposé était effectuée comme suit.

Les opérateurs affichaient a l'aide d'une

table, une référence de courant en fonction du revête-

ment à effectuer. Une mesure était effectuée par con-

trôle destructif. On réaUustait alors le courant. Cet- te mesure prenait entre quelques minutes et trois quarts d'heure et il fallait recommencer plusieurs

fois ces opérations avant d'obtenir un résultat satis-

faisant. Etant donnée l'inertie du système, sur des programmes courts, le réglage était souvent obtenu en fin d'opération. De plus, pour éviter des litiges, on visait dès le départ un taux plus élevé que le taux

nominal. D'o un coût excessif de l'opération d'étama-

ge.

Plus récemment encore, une jauge de mesure

en continu a été installée. Celle-ci permet de re-

transcrire la mesure sous la forme d'un graphe par

l'intermédiaire d'un écran. L'opérateur peut donc cor-

riger immédiatement les erreurs.

Cette jauge fonctionne de la façon suivante.

La mesure est basée sur le principe de la

fluorescence X. La jauge utilise deux sources de cu-

rium 244 d'une période radioactive de 17,6 ans. L'é-

nergie libérée par la source provoque une émission de rayons fluorescents provenant du fer dont une partie est absorbée par l'étain. C'est en déterminant la quantité de rayonnement restante que l'on calcule

l'étain déposé.

Le traitement du signal est le suivant.

- Conversion du signal exponentiel envoyé par les cellules en un signal linéaire proportionnel

au revêtement.

- Calcul de l'écart entre la mesure et le

taux nominal visé.

- Correction possible de la valeur du signal

de plus ou moins 5Z selon le vieillissement des sour-

ces par exemple.

- Enfin, un microcalculateur enregistre les signaux et les transmet a un écran cathodique situé

sur la ligne d'étamage.

La jauge effectue un balayage toutes les 30

secondes environ. Simultanément, apparaissent les pro-

fils transversaux du revêtement, les valeurs moyennes mesurées instantanées et celles du dernier balayage, et le seuil minimal autorisé par les normes en vigueur pour les opérations d'étamage telles qu'EURONORM. A titre de comparaison, le dernier profil enregistré

1 reste sur l'écran.

Avec les techniques connues évoquées plus

haut, on se trouve en présence du problème de la va-

riation du taux d'étain a chaque transitoire de vites-

se. L'invention vise donc à créer un procédé et un dispositif de régulation du dépôt électrolytique

d'un revêtement métallique sur une bande de métal dé-

filant en continu permettant de remédier à ces incon-

vénients en prenant en compte les quantités de métal déposées par chaque pont et en adaptant les réglages

sur la ligne de dépôt en fonction de ces quantités.

Elle a donc pour objet un procédé de régu-

lation de la quantité d'un métal déposée par voie électrolytique sur une bande à revêtir défilant en continu dans une installation de dépôt comportant plusieurs réservoirs remplis d'électrolyte, la bande passant sur un rouleau conducteur formant cathode associé à chaque réservoir et le métal de revêtement étant fourni par des barres dudit métal portées par des ponts conducteurs formant anodes disposés dans chaque réservoir sur une partie du trajet de la bande dans ledit réservoir, caractérisé en ce qu'il consiste a calculer à chaque déplacement de la bande entre deux ponts successifs, le dépôt de métal sur chaque pont en fonction de l'intensité du courant d'alimentation de ce pont, de la vitesse de la bande et du rendement du pont, a suivre séparément chaque longueur de bande

égale a la distance entre deux ponts successifs en cu-

mulant les dépôts de métal successifs, à établir le

bilan du dépôt sous le dernier pont débitant du cou-

rant afin de déterminer l'intensité nécessaire sous ce pont afin de compléter le dépôt de métal, à déterminer

l'intensité globale nécessaire pour obtenir l'intensl-

té désirée sous ce dernier pont. et à chaque acquisi-

tion d'une mesure moyenne sur toute la largeur de la bande, à calculer en tenant compte de la distance de transfert, l'écart entre cette valeur moyenne et une

valeur de consigne préétablie en déterminant un coef-

ficient correcteur des rendements théoriques du dépôt

de métal sous chaque pont.

Suivant une caractéristique particulière de l'invention, le procédé défini ci-dessus comporte en outre les phases consistant a déterminer des courbes expérimentales du rendement en fonction de l'intensité

du courant d'alimentation de chaque pont de l'instal-

lation, à recueillir des indications relatives aux

ponts en service ou hors service, a établir les va-

leurs analogiques de l'intensité sur chaque pont et de l'intensité maximale du courant sur l'ensemble des ponts, a mesurer la vitesse de défilement de la bande, a établir, des valeurs de consigne relatives à la quantité de métal a déposer, à mesurer la quantité

globale de métal déposée à l'aide d'une jauge a ba-

layage périodique, i déterminer les moyennes inférieu-

re et supérieure de la quantité de métal mesurée par la jauge a chaque balayage et à établir i partir des

données précitées un modèle de régulation.

L'invention sera mieux comprise à l'aide de

la description qui va suivre, donnée uniquement à

titre d'exemple et faite en se référant aux dessins annexes, sur lesquels:

- la Fig.1 est une vue schématique en pers-

pective avec arrachement partiel d'un bac d'étamage

entrant dans la construction d'une installation d'&é-

tamage à laquelle est appliquée l'invention; - la Fig.2 est une vue schématique de dessus du bac de la Fig.1;

- la Fig.3 est une vue schématique d'implan-

tation des jauges de mesure du taux d'étain dans une installation à laquelle est appliquée l'invention; - la Fig.4 est un schéma synoptique d'un

circuit de traitement des données relatives au revête-

ment appliqué à la tôle et d'élaboration des coeffi-

cients de correction;

- la Fig.5 est un organigramme des opéra-

tions d'acquisition des données relatives aux taux d'étain déposé; - la Fig.6 est un organigramme de la boucle rapide de commande des opérations de calcul du dépôt d'étain sur chaque pont; - la Fig.7 est un organigramme de commande du retour de jauge; et - la Fig.8 est un ensemble de courbes de

rendement des ponts de l'installation pour divers cou-

rants d'alimentation.

Sur la Fig.1, on a représenté un bac d'éta-

mage entrant dans la construction d'une installation ?

d'étamage a laquelle est appliquée l'invention.

Il convient toutefois de remarquer que l'in-

vention s'applique également à des installation de dé-

pôt électrolytique de revêtements de métaux autres que l'étain tels que le chrome, le cuivre ou autre. Le bac comprend un réservoir 1 contenant de

l'électrolyte non représenté.

Dans le fond du bac est monté à rotation un rouleau 2 sur lequel passe en continu une bande B à revêtir d'une couche d'étain. Le rouleau 2 est réalisé par exemple en caoutchouc. Au-dessus du réservoir 1 est disposé un second rouleau 3, par exemple chromé, en matière conductrice qui assure la tension de la bande et son transfert dans le réservoir 1 à partir d'un réservoir identique non représenté qui, avec d'autres réservoirs de même type, disposés en amont et en aval du réservoir 1, fait partie de l'installation d'étamage. Le rouleau 3 fait office de cathode associée

au résevoir 1.

Un rouleau essoreur (non représenté) plaque

la bande B contre le rouleau 3 afin d'éviter la forma-

tion d'arcs électriques.

La bande 8 passe dans le réservoir 1 entre deux paires de supports 4 et 5 (Fig.2) constitués par des barres de cuivre sur lesquelles sont disposées côte a côte des barres d'étain verticales 6 dont les pieds sont engagés dans un guide 7 en forme de U. Les barres de cuivre 4 et 5 forment des glissières pour les barres d'étain et sont connectées

i une barre 7 correspondante d'amenée de courant.

La bande B défile donc dans deux passages

formés par les barres d'étain 6 portées par leurs sup-

ports correspondants 4 et 5, ménagés respectivement

sur son trajet de descente et de montée dans le réser-

voir 1 rempli d'électrolyte.

Les supports ou ponts 4,5 et les barres d'é-

tain 6 font office d'anode du dispositif.

Le bac ainsi constitué est porté par un bâti

qui supporte également les autres bacs de l'instal-

lation (non représentés).

Une garniture 11 en matière isolante est in-

terposée entre le bâti et la connexion 12 des supports

4,5 a la barre 7 d'amenée de courant.

En aval du denier bac de l'installation est installée, une jauge formée de deux cellules disposées

de la façon représentée i la Fig.3.

A la sortie de l'installation, la bande B sur les deux faces de laquelle vient d'être déposé un revêtement d'étain passe sur un rouleau déflecteur 15 en regard duquel est disposée une première cellule 16

destinée à mesurer le revêtement d'étain d'une pre-

mière face de la boucle B. La cellule 16 comporte une source 17 de curium 244 placée sur un support 18 monté oscillant sur un socle 19 et déplaçable autour de son

axe d'oscillation 20 par un vérin pneumatique 21.

La bande B passe ensuite sur un second rou-

leau déflecteur 22 en regard duquel est disposée une

seconde cellule 23 analogue a la cellule 16 et desti-

née i mesurer le revêtement d'étain de la face opposée de la bande B. Cette cellule comporte elle aussi une source

24 de curium 244 placée sur un support 25 monté oscil-

lant sur un socle 26 et actionné par un vérin pneuma-

tique 27.

Les sorties {non représentées des deux cel-

lules 16 et 23 de la jauge sont connectées à des en-

trées correspondantes du circuit de traitement de la

Fig.4 qui va maintenant être décrit.

Ce circuit comprend un convertisseur analo-

gique-numérique et numérique-analogique 30, par exem-

ple du type ADAC 735 qui comporte, pour une installa-

tion a douze bacs d'étamage quarante huit entrées ana-

logiques 31 relatives aux intensités des courants ap-

pliqués aux supports de tous les bacs, tels que les

ponts 4,5 du bac des Fig.1 et 2.

Le convertisseur 30 comporte en outre deux

entrées analogiques 32 destinées à recevoir des in-

formations de position des cellules 16,23 des jauges et deux entrées analogiques 33 destinées a recevoir des informations relatives aux valeurs moyennes des

dépôts d'étain sur les deux faces de la bande.

Le convertisseur 30 comporte de plus une entrée analogique 34 destinée à recevoir des signaux concernant la largeur de la bande B traitée, deux

entrées analogiques 35 concernant les intensités ma-

ximales inférieure et supérieure et deux sorties ana-

logiques relatives a l'intensité globale inférieure et

supérieure à répartir sur les ponts de l'installation.

Le convertisseur 30 est connectée à un bus à

conducteurs multiples 36.

Le circuit de la Fig.4 comporte en outre un compteur 37 dont l'entrée est connectée à la sortie

d'un générateur d'impulsions de défilement de la ban-

de B (non représenté) et qui est également connecté au

bus 36, un circuit d'interface 38 du type SBC 519 fa-

briqué et vendu par Intel. à trente deux entrées numé-

riques 39 relatives aux valeurs de consigne inférieure et supérieure du taux d'étain à obtenir, trente deux

entrées numériques 40 relatives aux valeurs de consi-

gne commerciales, une entrée 41 de validation du fonc-

tionnement automatique/manuel et une entrée 42 de validation de consigne. Le circuit 38 est également

connecté au bus 36.

Enfin, le circuit de la Fig.4 comporte un microprocesseur 43 du type Intel 8088 par exemple, connecté au bus 36 et destiné a commander les modifications du taux d'étain à déposer dans les divers bacs de l'installation en fonction des informations qu'il reçoit.

Le fonctionnement de l'installation va main-

tenant être décrit en référence à la Fig.4 et aux

organigrammes des Fig.5 à 7.

Une première phase de fonctionnement de

l'installation est la phase d'acquisition des infor-

mations relatives à l'opération en cours.

Le convertisseur 30 reçoit sur ses quarante huit entrées des mesures des intensités sur les ponts

4,5 des douze bacs de l'installation.

Au cours de la phase 50 de l'organigramme de la Fig.5. le convertisseur 30 procède à la lecture des

courants sur chacun des ponts. Ces informations d'in-

tensité sont transmises au microprocesseur 43 qui, au cours de la phase 51, calcule les valeurs des dépôts d'étain sous chaque pont, compte tenu de l'information

de vitesse de défilement de la bande qui lui est four-

nie par le compteur 37, du rendement de chaque pont et de la position de la jauge matérialisant la largeur de la bande, ces deux informations étant délivrées par le

convertisseur 30.

Au cours de la phase 52, le microprocesseur

43 procède au cumul des informations relatives au dé-

pôt en cours avec le dépôt précédent.

Ensuite, comme représenté sur l'organigramme

de la Fig.6, il y a détermination du dernier pont dé-

posant de l'étain. Cette opération est réalisée-au

cours de la phase 53 de l'organigramme de "boucle ra-

pide" de la Fig.6.

L'information relative au dernier pont dépo-

sant de l'étain au cours d'un balayage de la jauge est reçue sur les entrées analogiques 31 du convertisseur 30. Au cours de la phase 54, il y a calcul de la

quantité d'étain à déposer par le dernier pont à par-

tir des informations de consignes de taux d'étain, in-

férieur et supérieur à obtenir introduites par l'opé-

rateur sur les entrées 39 du circuit d'interface 38.

Ensuite, au cours de la phase 55, le microprocesseur 43 calcule l'intensité approximative nécessaire en fonction de l'information de la quantité d'étain à déposer par le dernier pont et des informations de largeur de bande., de la valeur du revêtement mesurée par la jauge et de la vitesse de défilement de la bande, qu'il reçoit par le bus 36, en provenance du

convertisseur 30 et du compteur 37.

Au cours de la phase 56, le microprocesseur

43 calcule le rendement du pont à partir de l'inten-

sité calculée au cours de la phase 55 et ceci à partir

de courbes pré-établies représentées à la Fig.8.

Puis, au cours de la phase 57, le micropro-

cesseur calcule l'intensité nécessaire correspondant

au rendement déterminé au cours de la phase 56, en te-

nant compte de la valeur du revêtement mesuré par la

jauge et de la vitesse de défilement de la bande.

Au cours de la phase 58, il y a interroga-

tion au sujet de l'écart entre l'intensité nécessaire

et l'intensité réellement appliquée au dernier pont.

Si l'écart est faible, il y a envoi au cours de la phase 59 de signaux correspondant à l'intensité

globale calculée qui apparaissent sur les sorties ana-

logiques 36 du convertisseur 30, cette intensité étant

à répartir sur les divers ponts de l'installation.

Enfin, au cours de la phase 60, on provoque

l'avance de la bande d'un pas.

* Si la réponse a l'interrogation de la phase 58 est non, on répète les calculs des phases 56 et 57 sur les données relatives au dépôt d'étain par un pont situé en aval jusqu'i ce que l'écart d'intensité soit faible.

L'organigramme de la Fig.7 est un organi-

gramme de - boucle lente " qui commande les correc-

tions de dérive.

L'acquisition d'une mesure faite au cours de la phase 61 est la lecture de la valeur moyenne de dépôt d'étain faite par le convertisseur 30 de la Fig.4 à chaque fin de balayage de la jauge de la Fig. 3.

Cette phase est suivie d'une phase 62 d'in-

terrogation relative au passage de l'installation en

automatique.

Si la réponse est non, on passe i une phase

d'interrogation 63 relative au démarrage de la ligne.

Si la réponse à cette nouvelle interrogation est non, on procède à une troisième interrogation au cours de la phase 64 en ce qui concerne le changement

de taux d'étain.

En cas de réponse négative. J microproces-

seur 43 procède au cours de la phase 65, au calcul d'un rendement de jauge, c'est i dire du rapport entre

le dépôt d'étain mesuré par la jauge et le dépôt à ob-

tenir. Si les réponses aux trois interrogations précédentes sont oui, on laisse passer un balayage de

la jauge et on procède à de nouvelles interrogations.

Pendant ce temps, la réponse affirmative a l'interrogation relative au passage en automatique

provoque la validation du fonctionnement automatique.

La réponse affirmative a l'interrogation re-

lative au démarrage de ligne commande le générateur

d'impuslions (non représenté) qui est associé au comp-

teur 37 de la Fig.4.

La réponse affirmative a l'interrogation de la phase 64 provoque la validation de la consigne par

l'intermédiaire du circuit d'interface 38.

Le procédé qui vient d'être décrit présente

vis a vis des procédés connus les avantages suivants.

Il permet de prendre en compte tous les transitoires tels que la variation de la vitesse de défilement de la bande. les arrêts ou les mises en

service des ponts.

Il tient compte du rendement de l'électroly-

se sous chaque pont, ce qui permet d'avoir une grande précision dans l'obtention directe du bon étamage à

chaque changement de consigne.

Ceci est particulièrement important dans le

cas de revêtements minces ou lorsque l'intensité maxi-

male des ponts est faible, car on a alors des rende-

ments pouvant être très bas sur les premiers ponts.

Les corrections de courants sont également faibles en valeurs absolues et les interventions de

l'opérateur sont plus précises.

Il permet enfin d'obtenir un faible écart

entre le dépôt d'étain obtenu et la valeur de consi-

gne.

On donne ci-après a titre d'exemple le

déroulement des opérations de régulation du dépôt d'é-

tain dans une installation d'étamage à douze bacs et

vingt quatre ponts.

A) Entrée des données - Vitesse de la ligne - Largeur de la bande - Taux d' étain visé - Courant debité par pont B) Calcul du nombre de Donts théroriaues Il faut tout d'abord savoir qu'à chaque fois

que l'on boucle le programme, la bande a parcouru en-

viron 4 métres. Ceci correspond i un pas de programme

et à la distance séparant le pont N du pont N + 1.

Lors du premier pas N = 1 et à chaque pas on

ajoutera 1 à N. On demandera donc à chaque pas de met-

tre un pont supplémentaire en aval, à l'intensité ma-

ximum possible.

C) Calcul de l'étain déoosé oar pont A chaque pas, on calculera le taux d'étain

théorique déposé sous chaque pont.

Exemole de confiauration

I PAS I PONTS N

I I I 1 2 1 3 1 4! 5 1 6 1 24 1

1-- -I.....---I ----_ -... ---1..---. -- I---- ----I

I 1 4500A I! I I

I 1 I ,5 g/O21 I O ! 11,5g/2, 0! 0! 0 1 I 0! 0! !--I--I-!-I--I-----!.. .1-------!I------l ----I

I 1 4500 A 1 4500 A I I I I I

1 2O10,5 g/m21 1 g/m2 OI0 0 0 o t o0

1-- - --- - -- 1--- - 1-- --1---!----I------ ------I

I I 4500 A I 4500 A I 4500AI I I I I

I 3 10,5 ig/5m21/m21 0 I O/ 0 I i---i--i à.----i--- ---là àààààààIà.. __...... i Afin de simplifier l'exemple, on prendra ici pour principe qu'un pont dépose théoriquement 0,5 g/m2

d'étain sur le métal.

D) Test sur le taux obtenu sous le dernier oont Une fois le calcul de l'étain déposé effec- tué, on regardera le taux obtenu sous le dernier pont mis a l'intensité maximale. Deux cas de traitement

possible suivant que le taux est supérieur ou infé-

rieur à ce que l'on vise. Dans les applications numé-

riques cette intensité maximale est prise a 4500 Ampè-

res. E) Régulation Dour taux suoérieur au taux visé sinon raioût d'un pont Dans le premier cas, on calculera un courant (IC) de régulation que l'on appliquera sur le dernier pont.

En reprenant l'exemple précédent et en sup-

posant que le taux visé (TV) est de 1,8 g/m2, on s'a-

percevra lors du pas 4 que le taux calculé (TC = 2 g/m2) est supérieur au taux visé TV. On calculera alors la correction C.

C = TC - IV

On en déduira le courant 1C nécessaire sur

le pont 4 pour obtenir 1,8 g/m.

Dans le deuxième cas, on ajoutera des ponts

supplémentaires pour arriver au premier cas.

F) Edition des résultats Quand les calculs sont terminés, on envoie

le courant demandé.

Suite de l'exemple précédent (TV = 1,8 g/m2) I --- -- ------1 ---- I ------v O Y1 ol fb-1 I -----1 BI/69T IJ9'tIi"'/6 ShTIz/6 9BTIz'II 'Ti e6 T IZUI6 'OI Iz I VO I VO I VO I 1vLZIV OOP IV oo t IvOO Iot IUI/ 9'T IZW/B agTiz"'/5 e'tIy'6 S9TIZu/6 ç'Tî im/6 T î?zw/5 6oî L i I VO I VO i VO I 1V OOLZ IV oo t i yoo çvOO Iot I IZW/6 8Te'TlI6 9'TIZU'/6 89tIeI/ ç4TI ZW/6 T leMI6 ç<oi 9 j I I VO I VO IVOOLZ IVCOPSI 1V O t IV OMPI o l 1/ 9'I0/ B'IU/ 8'TIzw6 'Ti ZUI/ T liZ/5 f3j L I I VO I VOIVO Zv oo lIv oo tIv OO IVI I ---------i -----àI------ l----- ---I -I I IW/ 8T0 '69IW68I/ T T Ie/i S'oi I I oi o z'613T/ 9TI a'/fi S'TZ TIW/5<0ç I IV ON OLIVOO'DVOO1 VO d I o Z/8TZ/B T W6TIU/ SO

I I I IVOOLZIO5VOV0

8ZZ06SZ

G) Chanaement de pas Une fois le courant envoyé, on passe au pas suivant: P + 1 H) Nouvelles données

On prend en compte les nouvelles données.

I) Mesure iauae d'étain C'est alors qu'intervient la mesure du taux

réellement déposé (M3).

Celui-ci permettra de déterminer le nouveau Rendement 3auge (RJ) qui interviendra dans les calculs

au pas suivant.

R3 - 3/4 (1 -(MJ/TV))

(Le coefficient 3/4 est la pour amortir la

correction du rendement).

La mesure réelle du taux déposé n'intervient

pas à chaque pas mais a chaque balayage de la Jauge.

Claims (5)

REVENDICATIONS

1. Procédé de régulation de la quantité d'un métal déposée par voie électrolytique sur une bande i revêtir défilant en continu dans une installation de dépôt comportant plusieurs réservoirs (1) remplis d'électrolyte, la -bande (B) passant sur un rouleau

conducteur (3) formant cathode associé à chaque réser-

voir et le métal de revêtement étant fourni par des

barres (6) dudit métal portées par des ponts conduc-

teurs (4,5) formant anodes disposés dans chaque réser-

voir sur une partie du trajet de la bande dans ledit réservoir, caractérisé en ce qu'il consiste à calculer (51) à chaque déplacement de la bande entre deux ponts

successifs, le dépôt de métal sur chaque pont en fonc-

tion de l'intensité du courant d'alimentation de ce pont, de la vitesse de la bande et du rendement du pont, à suivre séparément chaque longueur de bande (B) égale à la distance entre deux ponts successifs, en

cumulant les dépôts de métal successifs (52), à éta-

blir le bilan du dépôt sous le dernier pont débitant

du courant (53) afin de déterminer l'intensité néces-

saire (55) sous ce pont afin de compléter le dépôt de métal, à déterminer l'intensité globale nécessaire pour obtenir l'intensité désirée sous ce dernier pont (57). et à chaque acquisition (61) d'une mesure moyenne sur toute la largeur de la bande, A calculer (65) en tenant compte de la distance de transfert, l'écart entre cette valeur moyenne et une valeur de consigne préétablie en déterminant un coefficient correcteur des rendements théoriques du dépôt de métal

sous chaque pont.

- 2. Procédé suivant la revendication 1. ca-

ractérisé en ce qu'il comporte en outre les phases consistant à déterminer des courbes expérimentales du

rendement en fonction de l'intensité du courant d'a-

limentation de chaque pont de l'installation, à re-

cueillir (32) des indications relatives aux ponts en

service ou hors service, à établir les valeurs ana-

logiques de l'intensité sur chaque pont et de l'in- tensité maximale du courant sur l'ensemble des ponts, à mesurer la vitesse de défilement de la bande (37), à établir, des valeurs de consigne (39) relatives à la quantité de métal à déposer, à mesurer la quantité globale de métal déposée à l'aide d'une jauge (16, 23)

à balayage périodique, à déterminer les moyennes infé-

rieure et supérieure de la quantité de métal mesurée par la jauge (16,23) à chaque balayage et à établir a

partir des données précitées un modèle de régulation.

3. Procédé suivant l'une quelconque des re-

vendications 1 et 2, caractérisé en ce que le métal

dont on contrôle le dépôt électrolytique est de l'é-

tain, du chrome ou du cuivre.

4. Procédé suivant l'une quelconque des

revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le dépôt

électrolytique du revêtement de la bande ayant lieu sur les deux faces de celle-ci, la régulation du dépôt

est assurée à partir de données délivrées par une jau-

ge formée de deux cellules (16,23) disposées chacune

d'un côté de la bande (B) à la sortie de l'installa-

tion de dépôt électrolytique.

5. Dispositif destiné à la mise en oeuvre du

procédé suivant l'une quelconque des revendications -

précédentes, caractérisé en ce qu'il comporte un con-

vertisseur analogique-numérique, numérique-analogique

(30) destiné à recevoir des données analogiques rela-

tives à l'intensité des courants d'alimentation des

ponts de l'installation, à la valeur du dépôt de mé-

tal mesuré par la jauge (16,23)/à la position de cel-

le-ci et à la largeur de la bande (8) à revêtir ainsi qu'aux intensités maximales inférieure et supérieure des courants d'alimentation des ponts et à transmettre ces données sous forme numérique à un microprocesseur (43) auquel est également relié un compteur (37) de la

vitesse de défilement de la bande (B) dans l'installa-

tion ainsi qu'un circuit d'interface (38) de transmis-

sion audit micro-processeur de données (39) relatives aux consignes de taux de métal inférieur et supérieur

à obtenir, à la validation de fonctionnement automati-

que-manuel (41) et à la validation des consignes (42).

ledit convertisseur (30) comprenant de plus des sor-

ties analogiques destinées à la transmission, à l'ins-

tallation d'instructions relatives à l'intensité des courants d'alimentation à appliquer aux ponts de l'installation élaborées par le microprocesseur (43)

en fonction des données reçues.