FR2523357B1 - Matrice d'elements a memoire integres, a double couche de silicium polycristallin de haute resistivite et procede de fabrication - Google Patents
Matrice d'elements a memoire integres, a double couche de silicium polycristallin de haute resistivite et procede de fabricationInfo
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- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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FR8204342A FR2523357B1 (fr) | 1982-03-15 | 1982-03-15 | Matrice d'elements a memoire integres, a double couche de silicium polycristallin de haute resistivite et procede de fabrication |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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FR2523357A1 FR2523357A1 (fr) | 1983-09-16 |
FR2523357B1 true FR2523357B1 (fr) | 1988-03-04 |
Family
ID=9272008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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FR8204342A Expired FR2523357B1 (fr) | 1982-03-15 | 1982-03-15 | Matrice d'elements a memoire integres, a double couche de silicium polycristallin de haute resistivite et procede de fabrication |
Country Status (1)
Country | Link |
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Families Citing this family (2)
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FR2836751A1 (fr) | 2002-02-11 | 2003-09-05 | St Microelectronics Sa | Cellule memoire a programmation unique non destructrice |
Family Cites Families (3)
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---|---|---|---|---|
JPS5267532A (en) * | 1975-12-03 | 1977-06-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Semiconductor memory unit |
US4203123A (en) * | 1977-12-12 | 1980-05-13 | Burroughs Corporation | Thin film memory device employing amorphous semiconductor materials |
EP0065916B1 (fr) * | 1981-05-15 | 1988-10-12 | Fairchild Semiconductor Corporation | Cellule de mémoire à diodes Schottky et à résistances en silicium polycristallin |
-
1982
- 1982-03-15 FR FR8204342A patent/FR2523357B1/fr not_active Expired
Also Published As
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