FR2466096A1 - Source d'electrons avec un fil profile - Google Patents

Source d'electrons avec un fil profile Download PDF

Info

Publication number
FR2466096A1
FR2466096A1 FR8019846A FR8019846A FR2466096A1 FR 2466096 A1 FR2466096 A1 FR 2466096A1 FR 8019846 A FR8019846 A FR 8019846A FR 8019846 A FR8019846 A FR 8019846A FR 2466096 A1 FR2466096 A1 FR 2466096A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
wire
electron beam
section
cross
diaphragm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
FR8019846A
Other languages
English (en)
Other versions
FR2466096B1 (fr
Inventor
Heico Jan Frima
Jan Bart Le Poole
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of FR2466096A1 publication Critical patent/FR2466096A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of FR2466096B1 publication Critical patent/FR2466096B1/fr
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/06Electron sources; Electron guns
    • H01J37/075Electron guns using thermionic emission from cathodes heated by particle bombardment or by irradiation, e.g. by laser

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

APPAREIL A FAISCEAU D'ELECTRONS AVEC UNE SOURCE D'ELECTRONS 1 COMPORTANT D'UNE PART UN FIL METALLIQUE 2 QUI EST DEPLACABLE SUIVANT LA DIRECTION LONGITUDINALE ET QUI DOIT ETRE CHAUFFE LOCALEMENT PAR UN FAISCEAU D'ENERGIE 21 ET D'AUTRE PART UN DIAPHRAGME 6, 7 QUI EST PLACE PRES DU FIL, PORTE UN POTENTIEL POSITIF PAR RAPPORT A CELUI DU FIL ET SERT A LIMITER LA SECTION TRANSVERSALE DU FAISCEAU D'ELECTRONS 11. CONFORMEMENT A L'INVENTION, L'APPAREIL EST COMPLETE PAR DES MOYENS POUR REDUIRE LA DISPERSION DIRECTIONNELLE DANS UN FAISCEAU D'ELECTRONS 11 A EMETTRE PAR LE FIL METALLIQUE 2. APPLICATION: MICROCIRCUITS.

Description

-1- "l Appareil à faisceau d'électrons L'invention concerne un appareil à
faisceau d'électrons avec une source d'électrons comportant d'une part un fil métallique qui est déplaçable suivant la direction
longitudinale et qui doit être chauffé localement par un fais-
ceau d'énergie, et d'autre part, un diaphragme qui est placé près du fil, porte un potentiel positif par rapport à celui du fil et sert à limiter la section transversale du faisceau d'électrons. Un tel appareil à faisceau d'électrons est connu du brevet américain NO 3.745.342 a A l'intérieur d'un appareil décrit dans ledit brevet américain, on utilise en guise de cathode de cet appareil un fil métallique qui est chauffé par
un faisceau d'électrons ou par un faisceau de laser. Pour don-
ner à la source une durée de vie suffisamment longue, ledit fil métallique est déplacé suivant la direction longitudinale
en cours du fonctionnement de l'appareil.
Lorsqu'il s'agit d'un fil à faible section trans-
versale circulaire, un courant d'électrons qui sort d'un tel fil métallique formant une ligne très étroite est sujet à une
dispersion relativement grande dans la direction de sortie.
Etant donné qu'une lentille qui, ensuite, doit encore traiter le faisceau d'électrons est affectée d'aberration sphérique relativement prononcée par rapport à l'épaisseur de ligne, la réalisation d'un spot d'impact dont la dimension est faible
dans au moins une seule direction, exige l'emploi d'un diaphra-
gme qui limite la section transversale du faisceau. En consé-
quence de ladite dispersion relativement prononcée, un tel dia-
phragme ne laissera déjà passer rapidement qu'une trop faible partie du courant de faisceau,ce qui évidemment est défavorable sous plusieurs points de vue. Dans l'appareil connu à faisceau
d'électrons, afin de donner à la source une durée de vie rai-
sonnablement admi-ib"let il est nécessaire d'imposer des res-
trictions à la qualité du spot d'impact que l'on désire réali-
ser, ce qui,dans ce cas, veut dire, des restrictions à la den-
sité de courant maximale ainsi qu'à la dimension minimale du-
dit spot.
Or l'invention a pour but de procurer un appareil A faisceau électrique dans lequel les restrictions en question sont diminuées notablement en importance, de sorte que
tout en conservant une durée de vie admissible de la sour-
ce, il est possible de réaliser un spot d'impact dont la qualité est meilleure. A cet effet, l'appareil à faisceau
d'électrons du genre mentionné dans le préambule estremer-
quable en ce que l'appareil est complété par des moyens pour réduire la dispersion directionnelle dans un faisceau
d'électrons à émettre par le fil métallique.
Pour réduire dans le faisceau d'électrons la dis-
persion en question, il est possible d'établir dans le voi-
sinage du fil métallique un champ focaltmtinaise.Aceteffet par l'application d'un champ électrique, le f.lpet être moetéen
deux plaques qui, en principe, sont parallèlesetentreJlespel-
les règne une différence de potentiel élevée, lepotmtiedela
première plaque par exemple étant fortement négatif par rap-
port à celui du fil, et le potentiel de la deuxième plaque, munie d'une ouverture de passage, étant fortement positif par rapport à celui du fil. Toutefois, on a constaté ques dans ce cas, les différences de potentiel acquièrent des
valeurs non pratiques qui gênent le fonctionnement conve-
nable. Par l'emploi d'un champ magnétique quadripolaire ré-
gulateur, il est possible de contrecarrer ledit inconvénient
mais cette solution exige le positionnement extrêmement pré-
cis du fil dans le champ magnétique, ce qui détériore la
stabilité de fonctionnement de la sources Dans les deux so-
lutions citées ci-dessus, l'effet de lentille intense, qui est indispensable près de la cathode, constitue également
un facteur défavorable.
Suivant un mode de réaLi31on prfrentiel d'un appareil à faisceau d'électrons conforme à l'invention, la section transversale du fil est te] le que déjà, lors de l'émission la dispersion directiconneale dans e fbisceau d'électns à émettre est moinsgrande.Danscecas, on a été amnené à constater qu'un fil métalique en formede bande, disponible dans le commerce, n'occupe pas une position stable lors d la chauffe locale intense, ce qui a comme conséquence que la position et la forme de la surface émissive peuvent varier de façon non contr8lée par rapport au diaphragme limitant la section tnsrsale du fmdsceau. De pls, l'intensi de champ qui, près
2466 96
de la surface, est nécessaire pour " aspirer" les électrons émis devient relativement petite, on sait également que pour une surface donnée dans un espace de champ, l'intensité de champ dépend fortement du ray"n de courbure de la surface. On a trouvé pour le fil métallique une conception intéressante si, en prenant comme base un fil métallique à section transversale
circulaire, l'on aplatit la surface périphérique du fil à. l'en-
droit o aura lieu l'émission des électrons. On y parvient,par
exemple, par le laminage d'un fil à section transversale circu-
lairte En choisissant adéquatement le taux d'aplatissement;
il est possible de trouver un compromis intéressant entre l'in-
tensité de champ à la surface et la dispersion directionnelle rédisuelle. A cet égard, une; forme en ellipse pour laquelle le rapport entre le grand axe et le petit axe est compris entre
environ 1,5 et 2,5 s'est avérée convenable pour une configura-
tion de source telle que celle décrite dans ledit brevet améri-
cain N 3745.342.
La description suivante, en regard du dessin an-
nexé, le tout donné à titre d'exemple, fera bien comprendre
comment l'invention peut être réalisée.
La figure 1 illustre un mode de réalisation préfé-
rentiel d'un appareil de traitement par faisceau d'électrons; La figure 2 illustre la réalisation d'une source
d'électrons à utiliser dans l'appareil selon la figure 1.
La figure 3 illustre par des coupes transversales
quelques possibilités de réalisation de fils cathodiques desti-
nés à une telle source d'électrons.
L'appareil exerçant sa fonction par faisceau d'électrons et répondant à la figure 1 comporte une source d'électrons 1 avec une cathode en fil 2, une douille anodique
3, une deuxième anode 4, et une lentille-condenseur5. L'appa-
reil comporte également un premier diaphragme 6 qui, pour mieux expliquer la situation, est dessiné également en vue en plan, et un deuxième diaphragme 7 dont la figure 1 montre
également la vue en plan.Sous l'influence d'un système opto-
électrique 8 à effet de lentille, l'image du premier diaphra-
gme peut être reproduite sur le deuxième diaphragme. De plus, ladite image peut être déplacée, à l'aide du dispositif de déviation de faisceau 9 dans le plan du deuxième diaphragme pour faire coïncider ae la sorte le centre du faisceau et le centre de l'ouverture de diaphragme. A l'aide d'une lentille
collimateur 12, l'image de la partie 10 appartenant au fais-
ceau d'électrons 11 et que laisse passer le deuxième diaphra-
gme peut être reproduite de façon très réduite sur une surface 13 d'un objet à travailler 14. Pour travailler la surface 13,
un système de déviation de faisceau 15 est déplaçable par-des-
sus ladite surface suivant une configuration quelconque. Le premier diaphragme 6 a par exemple la forme d'un rectangle
dont les deux c8tés 16 limitent la dimension de faisceau.
L'image de ce diaphragme 6 est reproduite sur le deuxième diaphragme 7, dans ce cas rectangulaire également. Les côtés 17 de ce deuxième diaphragme 7 également limitent la dimension
de faisceau de sorte qu'après-être influencé par les deux dia-
phragmes, le faisceau est limité à une ouverture de passage réglable 19 qui est formée par les c8tés 17 du diaphragme 7
et par une image 18 du diaphragme 6. Or, la fonction de la'sou.
ce d'électrons est de réaliser dans le faisceau en question une intensité de courant élevée; La cathode 2 est formée ici par un fil métallique dont au moins une face périphérique est aplatie et qui, sur la figure 1, doit être considéré comme étant perpendiculaire au plan du dessin. A travers une ouverture 20, ce fil métallique 2sest irradié latéralement par un faisceau d'électrons 21, engen dré par une source 22 et orienté à l'aide d'une bobine 23. De
cette façon, le fil est chauffé localement et porté ainsi.à-
une température de, par exemple, 3400- C dans le cas d'un fil en tungstène à l'égard duquel on respecte habituellement une
température d'émission égale à environ 2800 C.
La figure 2 est une vue en perspective schémati-
que de la source d'électrons préférentielle 1 répondant à la
figure 1. Soumis à l'influence d'une force de traction agis-
sant suivant la direction longitudinale et maintenant rectili-
gne le fil, en toutes circonstances. Ce fil métallique 2 passe entre une bobine 25 avec un guide 26, et une bobine 27 avec un guide 28.Autour du fil métallique se trouvent deux blocs d'appui 29 et 30 dont chacun comporte une gorge en V, 31, 32
et qui assurent le guidage longitudinal correct du fil métal-
lique 2. Des faces de butée dans les blocs d'appui 29 et 30, adaptées de préférence au profil du fil, empochaent la rotation du fil entre les blocs, de sorte que la partie aplatie du fil reste toujours orientée de façon correcte Vers une ouverture
de passage 24 de la douille anodique 3. De preference le con-
tact thermique entre les blocs d'appui et le fil métallique est bon, lesdits blocs d'appui étant réalises en un métal à bonne conductibilité thermique, par exemple l'argent. Entre
les blocs d'appui, le fil est entouré de l'anode 3 qui affec-
te lafoeme d'un cylindre creux dont le diamètre interne est compris par exemple entre 0,5 mm et 2 mma et dont 1-épaisseur deparli35est comprise entre par exemple 0,2 mm et 0,5 mm, ledit cylindre creux formant corps avec les blocs d'appuis. Il est
possible d'adapter la dimension de l'ouverture 24 aux dimen-
sions de la source électronique dans la direction longitudi-
nale, ladite ouverture 24 mesurant par exemple 50 microns x
500 microns. Au cours du fonctionnement de l'appareil, en pré-
sence d'un potentiel zéro du fil métallique 2, le potentiel de l'anode 3 est compris par exemple entre + 300 Volts et +
700 Volts.
Bien que l'invention ait été décrite en référen-
ce à un appareil à faisceau d'électrons pour microcircuits, et soit également très intéressante pour cette application, le domaine d'application de l'invention est beaucoup plus étendu
et englobe par exemple aussi les appareils à faisceau d'élec-
trons pour l'usinage des matériaux, par exemple pour le forage
d'ouvertures ou de configurationsexactement définies.
Au besoin, à l'intérieur d'un tel appareil, la longueur et la largeur du spot peuvent être adaptées à une
première dimension d'une structure à enregistrer, ce qui si-
gnifie un gain de temps appréciable pour le travail. La lon-
gueur et la largeur du spot peuvent être déterminées par un dispositif opto électronique tel que celui décrit en référence à la figure 1. Il est dans ce cas possible de former néanmoins
à l'aide d'ane ouverture cUlae 24, un spotd'impact caré ou oblong.
La figure 3 montre le profil de quelques fils ca-
thodiques. La figure 3a montre un profil 40 en forme d'ellipse, le rapport entre le grand axe et le petit axe étant dans ce cas égal à% 1,5. Une surface émissive 41 se
trouve centralement sur la partie la plus plane de l'ellip-
se, tandis que pour sa chauffe, le fil est soumis a l'influ-
ence du rayonnement par exemple dans une face Elliptique aussi, indiquée par 42. Le profil 43 sur la figure 3 b montre une face élliptique 44 servant de surface émistive, la surface
située en regard indiquée par 45 étant maintenue circulaire.
Quant à la figure 3 c, il s'agit d'un profil 46 dans lequel une partie émissive 47 présente une partie plane. Dans ce cas, la surface 48 située en regard, peut avoir soit la même forme
que la surface émissive, soit être élliptique ou circulaire.
Chacun de ces trois profils peut s'obtenir par laminage d'un fil qui, à l'origine, a une section transversale circulaire, les différences entre la partie émissive et la partie située en regard pouvant être obtenues par le choix adéquat de la dureté et/ou de la forme des surfaces, des galets de laminage à utiliser. Il est ainsi possible de réaliser une surface émissive concave, bien que, pour bon nombre d'applications,
une telle surface, convienne moins à cause des erreurs de fais-
ceau relativement prononcées. Sur la figure 3 d, on a illustré une section transversale 49 du fil pour laquelle on est parti d'un ruban rectangulaire. De plus, une surface émissive 50 peut être arrondie dans une certaine mesure, tandis qu'une
surface située en regard et indiquée par 51 peut être mainte-
nue parfaitement rectiligne et constituer ainsi pour le fil
une face d'orientation très-utile.
-7-

Claims (6)

- REVENDICATIONS -
1. Appareil à faisceau d'électrons,avec une source d'électrons (1) comportant d'une part un fil métallique (2) qui est déplagable suivant la direction longitudinale et qui doit être chauffé localement par un faisceau d'énergie (21), et d'autre part un diaphragme (6, 7) qui est placé près du fil, porte un potentiel positif par rapport à celui
du fil et sert à limiter la section transversale du fais-
ceau d'électrons, caractérisé en ce que cet appareil est
complété par des moyens pour réduire la dispersion direc-
tionnelle dans un faisceau d'électrons (11) à émettre par
le fil métallique (2).
2. Appareil selon la revendication 1, caractérisé en
ce que les moyens prévus pour réduire la dispersion direc-
tionnelle sont formés par un champ magnétique ou électro-
statique qui est très focalisant dans au moins une direc-
tion.
3. Appareil selon la revendication 1, caractérisé en ce que le fil métallique présente un profil qui, dans une direction transversale à la direction longitudinale du fil, réduit la dispersion directionnelle dans le faisceau à émettre.
4. Appareil selon la revendication 3, caractérisé en ce que le fil affecte en principe une section transversale elliptique, le rapport entre le grand axe et le petit axe
étant compris entre environ 1,5 et 2,5.
5. Appareil selon la revendication 3, caractérisé en ce que, du côté d'émission, la section transversale du fil
est aplatie.
6. Appareil selon l'une quelconque des revendications
précédentes, caractérisé en ce que le fil de cathode est réalisé en matériau laminable à haut point de fusion et à tension de vapeur relativement basse dans le voisinage du
point de fusion.
FR8019846A 1979-09-19 1980-09-15 Source d'electrons avec un fil profile Granted FR2466096A1 (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7906958A NL7906958A (nl) 1979-09-19 1979-09-19 Metaaldraadkathode voor elektronenstraalapparaat.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FR2466096A1 true FR2466096A1 (fr) 1981-03-27
FR2466096B1 FR2466096B1 (fr) 1984-12-14

Family

ID=19833868

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR8019846A Granted FR2466096A1 (fr) 1979-09-19 1980-09-15 Source d'electrons avec un fil profile

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4419561A (fr)
JP (1) JPS5652856A (fr)
BR (1) BR8008838A (fr)
CA (1) CA1151320A (fr)
DE (1) DE3034598C2 (fr)
FR (1) FR2466096A1 (fr)
GB (1) GB2059149B (fr)
IT (1) IT1141056B (fr)
NL (1) NL7906958A (fr)
SE (1) SE437585B (fr)
WO (1) WO1981000929A1 (fr)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8302275A (nl) * 1983-06-28 1985-01-16 Philips Nv Electronenstraalapparaat met metaaldraadbron.
CN86105432A (zh) * 1985-09-27 1987-05-27 美国电话电报公司 带电粒子束曝光

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR985831A (fr) * 1948-05-10 1951-07-24 Bbc Brown Boveri & Cie Dispositif pour la production de rayons corpusculaires faiblement divergents
FR2119692A5 (fr) * 1970-12-23 1972-08-04 Philips Nv
US3878424A (en) * 1972-07-20 1975-04-15 Jeol Ltd Electron beam generating source
US4151422A (en) * 1977-06-30 1979-04-24 Rikagaku Kenkyusho Electron beam exposure method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3466487A (en) * 1967-06-16 1969-09-09 United Aircraft Corp Device for moving a beam of charged particles
JPS5357760A (en) * 1976-11-04 1978-05-25 Fujitsu Ltd Electron beam exposure apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR985831A (fr) * 1948-05-10 1951-07-24 Bbc Brown Boveri & Cie Dispositif pour la production de rayons corpusculaires faiblement divergents
FR2119692A5 (fr) * 1970-12-23 1972-08-04 Philips Nv
US3878424A (en) * 1972-07-20 1975-04-15 Jeol Ltd Electron beam generating source
US4151422A (en) * 1977-06-30 1979-04-24 Rikagaku Kenkyusho Electron beam exposure method

Also Published As

Publication number Publication date
US4419561A (en) 1983-12-06
IT8024696A0 (it) 1980-09-16
IT1141056B (it) 1986-10-01
WO1981000929A1 (fr) 1981-04-02
GB2059149A (en) 1981-04-15
SE8006463L (sv) 1981-03-20
GB2059149B (en) 1984-01-18
NL7906958A (nl) 1981-03-23
CA1151320A (fr) 1983-08-02
BR8008838A (pt) 1981-06-30
JPS5652856A (en) 1981-05-12
FR2466096B1 (fr) 1984-12-14
SE437585B (sv) 1985-03-04
DE3034598C2 (de) 1985-05-15
JPS6329782B2 (fr) 1988-06-15
DE3034598A1 (de) 1981-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4475027A (en) Optical beam homogenizer
US4841617A (en) Method for producing heat exchanger tubes
US3796905A (en) Cathode-ray tube having prism-shaped fibre optics faceplate
US6539035B1 (en) Laser transmission system
US5534103A (en) Method for bonding of a ceramic body and a metallic body
FR2466096A1 (fr) Source d'electrons avec un fil profile
FR2598825A1 (fr) Procede de systeme de visualisation optique stereoscopique et application a une machine de soudage par faisceaux d'electrons.
EP0349386A1 (fr) Tube à rayons X à foyer variable auto-adapté à la charge
EP0526371A1 (fr) Procédé de découpe profonde par faisceau laser d'un matériau recouvrant un substrat et dispositifs pour sa mise en oeuvre
JPH11214113A (ja) 端子部材に電線を溶接するためのレーザ溶接方法
US3805019A (en) Energy distribution system
DE2161027C3 (de) Elektronenstrahlerzeuger mit einer durch einen Energiestrahl zu erhitzenden Kathode
FR2468204A1 (fr) Dispositif de reproduction d'images colorees pour recepteur de television en couleur
FR2534067A1 (fr) Multiplicateur d'electrons a galette de microcanaux et application dudit multiplicateur aux dispositifs detecteurs de radiations ou particules
JPH0146979B2 (fr)
FR2792773A1 (fr) Source ionique pour spectrometre de masse a temps de vol analysant des echantillons gazeux
US3076086A (en) Resistance welding apparatus
CN111902903B (zh) 用于辐射源的靶及其产生方法和辐射源及其用途
FR2623939A1 (fr) Canons a electrons pour tube a rayonnement cathodique
US4961202A (en) Single line laser and method
DE387901C (de) Einrichtung zur Erzeugung sehr hoher Temperaturen
EP0208575A1 (fr) Procédé d'identification d'un corps de boîte métallique et dispositif mettant en oeuvre un tel procédé
KR930004333Y1 (ko) 레이저 용접장치
EP3966545A1 (fr) Dispositif de support pour échantillon et système de chauffage d'un échantillon à l'aide d'un tel dispositif de support
US2108801A (en) Method and apparatus for recording and reproducing sound-on-film

Legal Events

Date Code Title Description
ST Notification of lapse