FI981802A - Tunnfilms-elektroluminiscens-anordning och förfarande för framställning därav - Google Patents

Tunnfilms-elektroluminiscens-anordning och förfarande för framställning därav Download PDF

Info

Publication number
FI981802A
FI981802A FI981802A FI981802A FI981802A FI 981802 A FI981802 A FI 981802A FI 981802 A FI981802 A FI 981802A FI 981802 A FI981802 A FI 981802A FI 981802 A FI981802 A FI 981802A
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
making
thin film
film electroluminescence
electroluminescence apparatus
thin
Prior art date
Application number
FI981802A
Other languages
English (en)
Finnish (fi)
Other versions
FI981802A0 (sv
FI105643B (sv
Inventor
Gitte Haerkoenen
Kari Haerkoenen
Arto Pakkala
Tuomas Pitkaenen
Original Assignee
Planar Systems Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Planar Systems Oy filed Critical Planar Systems Oy
Priority to FI981802A priority Critical patent/FI105643B/sv
Publication of FI981802A0 publication Critical patent/FI981802A0/sv
Priority to JP11233749A priority patent/JP2000068072A/ja
Priority to DE1999139658 priority patent/DE19939658A1/de
Publication of FI981802A publication Critical patent/FI981802A/sv
Application granted granted Critical
Publication of FI105643B publication Critical patent/FI105643B/sv

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
    • H05B33/145Arrangements of the electroluminescent material
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/22Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
FI981802A 1998-08-21 1998-08-21 Tunnfilms-elektroluminiscens-anordning och förfarande för framställning därav FI105643B (sv)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI981802A FI105643B (sv) 1998-08-21 1998-08-21 Tunnfilms-elektroluminiscens-anordning och förfarande för framställning därav
JP11233749A JP2000068072A (ja) 1998-08-21 1999-08-20 薄膜エレクトロルミネッセンスデバイスとその製造方法
DE1999139658 DE19939658A1 (de) 1998-08-21 1999-08-20 Elektrolumineszente Dünnfilmvorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI981802A FI105643B (sv) 1998-08-21 1998-08-21 Tunnfilms-elektroluminiscens-anordning och förfarande för framställning därav
FI981802 1998-08-21

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI981802A0 FI981802A0 (sv) 1998-08-21
FI981802A true FI981802A (sv) 2000-02-22
FI105643B FI105643B (sv) 2000-09-15

Family

ID=8552342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI981802A FI105643B (sv) 1998-08-21 1998-08-21 Tunnfilms-elektroluminiscens-anordning och förfarande för framställning därav

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2000068072A (sv)
DE (1) DE19939658A1 (sv)
FI (1) FI105643B (sv)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6620723B1 (en) 2000-06-27 2003-09-16 Applied Materials, Inc. Formation of boride barrier layers using chemisorption techniques
US7732327B2 (en) 2000-06-28 2010-06-08 Applied Materials, Inc. Vapor deposition of tungsten materials
US7405158B2 (en) 2000-06-28 2008-07-29 Applied Materials, Inc. Methods for depositing tungsten layers employing atomic layer deposition techniques
US6551929B1 (en) 2000-06-28 2003-04-22 Applied Materials, Inc. Bifurcated deposition process for depositing refractory metal layers employing atomic layer deposition and chemical vapor deposition techniques
US7964505B2 (en) 2005-01-19 2011-06-21 Applied Materials, Inc. Atomic layer deposition of tungsten materials
US6765178B2 (en) 2000-12-29 2004-07-20 Applied Materials, Inc. Chamber for uniform substrate heating
US6825447B2 (en) 2000-12-29 2004-11-30 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for uniform substrate heating and contaminate collection
US6951804B2 (en) 2001-02-02 2005-10-04 Applied Materials, Inc. Formation of a tantalum-nitride layer
US6660126B2 (en) 2001-03-02 2003-12-09 Applied Materials, Inc. Lid assembly for a processing system to facilitate sequential deposition techniques
US6878206B2 (en) 2001-07-16 2005-04-12 Applied Materials, Inc. Lid assembly for a processing system to facilitate sequential deposition techniques
US6734020B2 (en) 2001-03-07 2004-05-11 Applied Materials, Inc. Valve control system for atomic layer deposition chamber
US7211144B2 (en) 2001-07-13 2007-05-01 Applied Materials, Inc. Pulsed nucleation deposition of tungsten layers
US7780785B2 (en) 2001-10-26 2010-08-24 Applied Materials, Inc. Gas delivery apparatus for atomic layer deposition
US6916398B2 (en) 2001-10-26 2005-07-12 Applied Materials, Inc. Gas delivery apparatus and method for atomic layer deposition
US6729824B2 (en) 2001-12-14 2004-05-04 Applied Materials, Inc. Dual robot processing system
US6620670B2 (en) 2002-01-18 2003-09-16 Applied Materials, Inc. Process conditions and precursors for atomic layer deposition (ALD) of AL2O3
US6911391B2 (en) 2002-01-26 2005-06-28 Applied Materials, Inc. Integration of titanium and titanium nitride layers
US6998014B2 (en) 2002-01-26 2006-02-14 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for plasma assisted deposition
US6827978B2 (en) 2002-02-11 2004-12-07 Applied Materials, Inc. Deposition of tungsten films
US6833161B2 (en) 2002-02-26 2004-12-21 Applied Materials, Inc. Cyclical deposition of tungsten nitride for metal oxide gate electrode
US6720027B2 (en) 2002-04-08 2004-04-13 Applied Materials, Inc. Cyclical deposition of a variable content titanium silicon nitride layer
US7279432B2 (en) 2002-04-16 2007-10-09 Applied Materials, Inc. System and method for forming an integrated barrier layer
JP2006511045A (ja) * 2002-12-20 2006-03-30 アイファイアー・テクノロジー・コープ 厚膜誘電性エレクトロルミネッセンスディスプレイ用のバリア層

Also Published As

Publication number Publication date
FI981802A0 (sv) 1998-08-21
JP2000068072A (ja) 2000-03-03
FI105643B (sv) 2000-09-15
DE19939658A1 (de) 2000-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI981802A (sv) Tunnfilms-elektroluminiscens-anordning och förfarande för framställning därav
FI19992797A (sv) Anordning för framställning av tunnfilmer
FI945610A (sv) Anordning för framställning av tunnfilmer
FI981853A0 (sv) Förfarande och anordning för eliminering av en bakgrundsstörning
FI981127A0 (sv) Förfarande och anordning för ljudstyrning
FI980339A (sv) Förfarande och anordning för chiffrering av informationsöverföring
FI20001272A (sv) Förfarande och apparatur för dataöverföring
FI20002702A0 (sv) Förfarande och anordning för överföring av information
FI19992192A (sv) Förfarande och anordning för framställning av ändlösa fanerskivor
FI981502A0 (sv) Förfarande och anordning för härdning av glasskivor
FI982271A (sv) Förfarande och anordning för åstadkommande av rullgrupp
FI981122A (sv) Förfarande och anordning för matning av ämnen
FI982293A0 (sv) Förfarande och anordning för impulstorkning
FI990532A0 (sv) Förfarande och anordning för framställning av plattdelar
FI944122A0 (sv) Förfarande och anordning för att utföra såning
FI103824B1 (sv) Anordning och förfarande för bearbetning av snösartad material
FI20001828A (sv) Förfarande och anordning för avkylning av material
FI951194A0 (sv) Förfarande och anordning för skjutövning
FI981600A0 (sv) Förfarande och anordning för framställning av papper
FI982836A0 (sv) Förfarande och anordning för belysning av ett objekt
FI991258A (sv) Förfarande och anordning för teleanslutning
FI991041A0 (sv) Film- och schablonplaceringsförfarande och anordning för genomförfarande av förfarandet
SE9501126D0 (sv) Förfarande och anordning för kylning
SE0102601D0 (sv) Anordning och förfarande för hantering av returflaskor
FI982116A0 (sv) Anordning och förfarande för styckbehandling

Legal Events

Date Code Title Description
PC Transfer of assignment of patent

Owner name: BENEQ OY

MA Patent expired