FI56521C - Foerfarande foer separering av hoegren fenol fraon den syrakatalyserande spjaelkningsprodukten av kumenhydroperoxid - Google Patents

Description

I55FH [B] {11)KUULUTUSjULKAISU ......

V&Ta l j u ; UTLÄGGNIncsskiuft bbb2 I

^ (51) KyJk^/Int-CI.· 0 07 C 37/58 SUOMI —FINLAND (21) Ρ«·η*»ΙΙιΛ·ιηυ$ — Pat«ntaiM6knlii| lU0l/72 (22) Hik«mttpllvi — An«eknlngid«| 17.05-72 (23) Alkupllvi —Giltlghatsdag 17.05.72 (41) Tullut Julkiseksi — Bllvft offsntllg 18.11.7 3

Patentti·]» rekisterihallitus .... .,...,,. , . . ,,,. , _ * (44) Nähtäviksi panon Ja kuul.Julkalsun pvm. —

Patent- och registerstyrelsen ' Ansökan utlagd oeh uti.skrtftwi publiund 31.10.79 (32)(33)(31) Pyydetty etuoikeus —Begird prlorltet (71) Mitsui Petrochemical Industries, Ltd., 2-5, 3~chome, Kasumigaseki,

Chiyoda-ku, Tokyo, Japani-Japan(JP) (72) Koichi Enomoto, Hiroshima-ken, Katsuhiko Hashimoto, Chiha-ken,

Takayuki Nakamura, Yamaguchi-ken, Hiroshi Osuo, Chiha-ken,

Tadahiko Nishimura, Chiha-ken, Masatoshi Kodama, Chiha-ken,

Japani-Japan (JP) (7*0 Oy Kolster Ab (5*0 Erittäin puhtaan fenolin eristämismenetelmä happokatalysaattoria käyttäen saadusta kumeenihydroperoksidin pilkkoutumistuotteesta -Förfarande för separering av högren fenol fr&n den syrakatalyserade spjälkningsprodukten av kumenhydroperoxid Tämä keksintö koskee menetelmää erittäin puhtaan fenolin eristämiseksi kumeenihydroperoksidin pilkkoutumistuotteesta, jota on saatu hapetuskatalysaattoria käyttäen. Teollisessa mittakaavassa tapahtuva fenolin valmistus kumeenihydroperoksidia pilkkomalla tunnetaan yleisesti kumeeni-fenoli-menetelmän nimellä. Fenoli, joka on eristetty tislaamalla fenolipitoisesta tuotteesta, jota on valmistettu pilkkomalla kumeenihydroperoksidia hapanta katalysaattoria käyttäen, sisältää erilaisia haitallisia epäpuhtauksia siitä huolimatta, että sen kiinteytymispiste on lähellä teoreettista kiinteytymispistettä. Nämä epäpuhtaudet aiheuttavat toivomattomia värjäytymisvai-keuksia fenolin sulfonointi- tai kloorausprosesseissa, mikä puolestaan rajoittaa myyntiä aloille, joilla vaaditaan laadultaan erittäin puhdasta fenolia. Erittäin puhtaan fenolin eristämiseksi kumeenihydroperoksidista happo-katalysaattoria käyttäen saadusta pilkkoutumistuotteesta on ehdotettu käytettäväksi monia menetelmiä. US-patenttijulkaisussa no 3 169 101, selostetaan menetelmää, jota pidetään eräänä erinomaisena teollisena menetelmänä puhdistetun fenolin talteenottamiseksi suoritettaessa raa'an fenolin uutostislaus käyttämällä polyalkyleeniglykolia tai sen eetteriä, ja ottamalla puhdistettu fenoli talteen uutosseoksesta tornin pohjalta sen jälkeen 56521 2 kun epäpuhtaudet ja reagoimaton raaka-aine on tislattu pois tornin yläpäästä. Kuitenkin jos raakaa fenolia jota on saatu tavanomaisella tislausmenetelmällä kumee-nihydroperoksidin pilkkoutumistuotteesta, käsitellään edellä mainitulla tunnetulla puhdistusmenetelmällä, värjäytymisen aiheuttavia epäpuhtauksia ei voida poistan, täydellisesti ja ne kulkeutuvat puhdistettu! fenolin mukana heikentäen sen laatua, ja lisäksi ne aiheuttavat uutos-puhdistusprosessissa käytetyn polyalkyleeniglykolin tai sn eetterin pilaantumista. Tämän mukaisesti edellä mainitun US-patenttijulkaisun no 3 169 101 mukaista menetelmää käytettäessä prosessi on ajoittain keskeytettävä polyalkyleeniglykolin tai sen eetterin regeneroimiseksi.

DE-hakemusjulkaisussa 1 1*93 971 on esitetty menetelmä epäpuhtauksien poistamiseksi tislaamalla fenolifraktioita siten, että kumeenipitoisuus tislaustorniin syötettävässä seoksessa on vähintään 0,28 paino-osaa yhtä fenolin paino-osaa kohti. Tässä DE-hakemusjulkaisun mukaisessa menetelmässä ei ennen fraktioimista poisteta kumeenihydroperoksidin pilkkomistuotteesta asetonia ja alempana kiehuvia aineosia.

Tunnettuihin menetelmiin liittyvät haitat voidaan välttää keksinnön mukaisella menetelmällä erittäin puhtaan fenolin eristämiseksi happo-katalysaattoria käyttäen saadusta kumeenihydroperoksidin pilkkoutumistuotteesta.

Keksinnön mukaiselle menetelmälle, on tunnusomaista, että i) tislausalueeseen lisätään fraktio, jonka muodostaa happokatalysaattoria käyttäen saatu kumeenihydroperoksidin pilkkoutumistuote, josta on poistettu asetoni ja osat, joiden kiehumispiste on alhaisempi kuin asetonin, ii) mainittu fraktio tislataan 50-U00 mm Hg absoluuttisessa paineessa, jolloin kumeeni- ja vesipitoisuudet pidetään mainitussa tislausalueessa 0,2-1,2 paino-osana yhtä paino-osaa kohden fenolia, ja kumeenia ja vettä sisältävä fraktio eristetään mainitun tislausalueen yläosasta, samalla, kun fenolia sisältävä fraktio otetaan talteen mainitun tislausalueen alaosasta, iii) fenolia sisältävä fraktio johdetaan fenolin puhdistusaineeseen, jossa se uuttotisiataan liuottimen läsnäollessa, jonka keihumispiste on korkeampi kuin fenolin, joka liuotin on polyalkyleeniglykoli tai polyalkyleeniglykolieetteri, ja iv) saadusta, fenolia ja liuosta sisältävästä seosfraktiosta otetaan fenoli talteen tislaamalla.

Tämän keksinnön mukaisella menetelmällä eristetty fenoli on laadultaan parempaa kuin fenolit, jotka on puhdistettu tavanomaisin menetelmin, kuten esimerkiksi fenolit, jotka on puhdistettu vesihöyrytislausmenetelmällä tai US-patenttijulkaisussa no 3 169 101 esitetyllä menetelmällä. Käytettäessä US-patenttijulkaisun no 3 169 101 menetelmää 3 56521 tapahtuu myös huomattavaa polyalkyleeniglykolin pilaantumista, mikä edellyttää polyalkyleeniglykolien regenerointia kerran jokaista kahden viikon jatkuvaa ajoa kohden. Tämän keksinnön mukaisesti ajoa voidaan jatkaa yhtäjaksoisesti yli vuoden ajan tarvitsematta regeneroida polyalkyleeniglykoleja.

Tämän keksinnön menetelmässä lähtöaineena käytettävää happo-katalysaattorin avulla saatua kumeenihydroperoksidin pilkkoutumistuotetta saadaan hapettamalla kumeenia molekyylihapella tavalliseen tapaan, konsentroimalla saatu 20-30-paino-^inen kumeenihydroperoksidiliuos noin 60-90-Paino-$:ksi, ja suorittamalla sitten lohkaisu mainitussa liuottimessa happamen katalysaattorin läsnäollessa, erityisesti rikkihapon läsnäollessa, minkä jälkeen seuraa happamen katalysaattorin neutralointi alkalilla ja lopuksi mainitun vesikerroksen poistaminen. Pilkkoutumistuotetta käsitellään esimerkiksi tislaamalla asetonin ja muiden asetonin kiehumispistettä alemmassa lämpötilassa kiehuvien aineiden poistamiseksi, ja sen jälkeen kun on poistettu, mikäli halutaan, korkealla kiehuvat aineet kuten p-kumyylifenoli tai hartsimaiset aineet, tuotetta käsitellään tislausmenetelmällä, jossa käytetään erikoisolosuhteita. Teolliselta kannalta katsoen on edullista, että fraktiota, josta on poistettu asetoni ja muut aineet, joiden kiehumispiste on alhaisempi kuin asetonin, käsitellään tämän keksinnön mukaisella tislausmenetelmällä. Pilkkoutumistuote, josta on poistettu asetoni ja muut aineet, joiden kiehumispiste on alhaisempi kuin asetonin, sisältää pääasiallisesti fenolia, hiilivetyjä kuten kumeenia, vettä ja korkealla kiehuvia aineita. Tämä fraktio syötetään tislaustorniin kumeenin ja veden pääosan poistamiseksi. Säätämällä kumeenipitoisuus mainitussa tis-laustornissa välille 0,2 - 1,2 paino-osaa, lähinnä välille 0,30 - 0,90 paino-osaa yhtä paino-osaa kohden fenolia, ja vesipitoisuus välille 0,2 - 1,2 paino-osaa, lähinnä välille 0,30 - 0,90 paino-osaa yhtä paino-osaa kohden fenolia, ja suorittamalla tislaus vakuumissa, voidaan poistaa kumeeni ja vesi samoin kuin epäpuhtaudet kuten a-metyylistyreeni ja etyylihentseeni, joiden rakenteet ovat tunnettuja tai aineet, joiden rakenteet ovat tuntemattomia. Eräät näistä epäpuhtauksista ovat vaikeasti poistettavissa jopa polyalkyleeniglykolin avulla suoritetun uutos-tislauksen jälkeenkin, ja ne vaikuttavat haitallisesti puhdistetun fenolin laatuun. Ellei eräitä näistä epäpuhtauksista ole poistettu, polyalkyleeniglykolit myöskin pilaantuvat huomattavasti.

Tämän mukaisesti edellä mainitussatislausprosessissa edellä mainituilla tietyillä kumeeni- ja vesipitoisuuksilla on oleellinen merkitys, eikä epäpuhtauksien poistaminen tehokkaasti ole mahdollista pitoisuuksien ollessa mainittujen rajojen määrittelemän alueen ulkopuolella. Esimerkiksi kumeenipitoi-□uuden ollessa alle 0,2 paino-osaa, jäljelle jää suuria määriä epäpuhtauksia kuten hydroksiasetonia, ja pitoisuuden ollessa suuremman kuin 1,2 paino-osaa, seurauksena on epäpuhtauksien, kuten esimerkiksi butyylibentseenin jääminen suurina määrinä tuotteen joukkoon. Tislausoperaatio on suoritettava vakuumissa.

4 56521 Lähinnä vakuumi on rajoissa 50 - 400 mmHg. Epäpuhtauksien poisto ei ole te» hokasta ellei sitä suoriteta vakuumissa. Mainitun tislausprosessin lämpötilat vaihtelevat riippuen tielaustornin paineesta, Syötettävistä raaka-aineista, kumeeni- ja vesipitoisuuksista, ja tästä johtuen niitä ei voida määritellä yhdenmukaisesti. Mutta lämpötila-alue, joka sallii kumeenin ja veden poistamisen pääasiallisesti täydellisesti tislaustornin yläpäästä ja fenolifraktion talteenoton tornin pohjalta, voidaan valita. Kuitenkin on eräitä epäpuhtauksia, joita ei voida poistaa täydellisesti edes edellä mainittua tislausoperaa-tiota käyttäen, kuten esimerkiksi mesityylioksidi ja metyylibentsofuraani. Nämä epäpuhtaudet voidaan poistaa seuraavassa uutostislauksessa polyalkyleeniglyko-lien avulla. Niin muodoin erittäin korkealaatuisen fenolin valmistusmenetelmä edellyttää toisiinsa liittyvinä tietyissä olosuhteissa suoritettavaa tislaus-prosessia ja uutos-tislausprosessia, joka perustuu polyalkyleeniglykolien käyttöön, kuten tässä keksinnössä.

Tässä menetelmässä käytettävä, polyalkyleeniglykolin käyttöön perustuva uutos-tislaus tunnetaan US—patenttijulkaisun no 3 169 101 perusteella.

Tämän keksinnön menetelmässä käytettävät polyalkyleeniglykoli-liuottimet voivat olla pienimolekyylisiä dialkyleeniglykoleja, pienimolekyylisiä polyalky-leeniglykoleja, tai näiden eettereitä, joiden sulamispisteet ovat korkeammat kuin fenolin. Tyypillisiä esimerkkejä ovat di- tai tri-alkyleeniglykolit tai näiden eetterit, joiden alkyyli- tai alkyleeniglykoliosassa on 2 - 4 hiiliatomia, kuten dietyleeniglykoli, trietyleeniglykoli, dipropyleeniglykoli, diety-leeniglykolietyylieetteri, dietyleeniglykolipropyylieetteri, dietyleeniglyko-libutyylieetteri, dietyleeniglykolimetyylieetteri, ja dietyleeniglykoli, di-etyleeniglykolietyylieetteri, dietyleeniglykolipropyylieetteri ja dietyleeni-glykolibutyylieetteri ovat erityisen suositeltavia. Näitä polyalkyleeniglyko-leja voidaan käyttää kahden tai useamman tällaisen glykolin seoksena. Polyalkyleeniglykolien määrät vahtelevat riippuen raa'an fenolin epäpuhtauksien määrästä ja halutun fenolin laadusta, mutta tavallisesti sen määrä on 0,1 - 3 paino-$, lähinnä 0,3-1 paino-$ yhtä paino-osaa kohden raakaa fenolia. Jos raaka fenoli, joka syötetään polyalkyleeniglykoleja käytettäessä uutos-tis-lausprosessiin, sisältää hartsimaisia aineita, joiden sulamispiste on korkeampi kuin fenolin, polyalkyleeniglykolien käyttöön perustuva puhdistusvaikutus vähenee ja polyalkyleeniglykolien laatu huononee melkoisesti. Näin ollen korkealla sulavat aineet on poistettava fenolifraktiosta ennen kuin tämä johdetaan uutosproseesiin. Korkealla sulavien aineiden poistaminen raakafenolifrak-tiosta voidaan suorittaa tislaamalla fraktio (kumeenihydroperoksidin pilkkou-tumintuoto), josta on poistettu asetoni ja aineet, joiden kiehumispisteet ovat alhaisemmat kuin asetonin, tai poistaminen voidaan suorittaa myös saattamalla edellä mainittu fraktio tislautumaan tiettyjen olosuhteiden vallitessa. Mutta viimemainittua menetelmää käytetään lähinnä teollisessa mittakaavassa.

5 SSS21

Uutos-tislaus-prosessissa fenoli uutetaan polyalkyleeniglykoleihin. Raa-kafenolin sisältämät epäpuhtaudet eivät uutu polyalkyleeniglykoliin, vaan ne eroitetaan systeemistä. Uute harjoitetaan tislaamalla puhdistetuksi fenolina polyalkyleeniglykolifraktioiksi. Talteen otettu polyalkyleeniglykoli palautetaan suoraan takaisin raakafenolin uutos-tislausprosessiin. Tämän keksinnön menetelmässä yli vuoden pituiseksi pidentynyt jatkuva käyttö ei turmele poly-alkyleeniglykoleja. Polyalkyleeniglykolit, mikäli ne ovat turmeltuneet, voidaan regeneroida uudelleen käytettäviksi.

Tämän keksinnön menetelmän mukaisesti puhdistettu fenoli on laadultaan erinomaista ja sitä voidaan käyttää kaikissa sovellutuksissa.

Tämän keksinnön menetelmää selvennetään alla piirrokseen viitaten, joka esittää virtauskaaviona tämän keksinnön menetelmän suoritustapaa.

Seos, joka on saatu pilkkomalla kumeenihydroperoksidia happamella katalysaattorilla, neutraloidaan alkalilla ja öljymäinen kerros, joka on saatu vesikerroksen poistamisen jälkeen, syötetään putkesta 1 asetonin eliminointi-torniin I. Asetonifraktio eroitetaan tornin I yläpäästä putken 2 kautta. Aseto-nifraktio (ei esitetty) johdetaan puhdistetun asetonin valmistamiseksi asetonin puhdistustorniin. Fraktio, joka on saatu sen jälkeen kun on poistettu alhaalla kiehuvat aineet kuten asetoni, syötetään tornin I pohjalta vakuumitis-lau st omiin II putken 3 kautta. Tornin II kumeenipitoisuus säädetään 0,2 - 1,2-paino-osaksi yhtä paino-osaa kohden fenolia ja vesipitoisuus 0,2 - 1,2-paino-osaksi yhtä paino-osaa kohden fenolia. Kumeeni- ja vesipitoisuuksien säätö suoritetaan johtamalla kumeenia ja vettä putkeen 6, tai palauttamalla kiertoon kumeenia ja vettä, jotka ovat tislautuneet pois tornin II yläpäästä. Kumeeni ja vesi otetaan tornin II yläpäästä putken 4 kautta. Pienehkö osa niistä voidaan palauttaa kiertoon putken 5 kautta. Fenolin sisältävä fraktio otetaan tornin II pohjalta putken 7 kautta ja syötetään tislaustorniin III. Aineet, joiden kiehumispisteet ovat korkeammat kuin fenolin poistetaan tornin III pohjalta, ja tornin II yläpäästä saatu raakafenolifraktio johdetaan putken 9 kautta uutos-tislaustorniin IV, jossa käytetään polyalkyleeniglykoleja. Tislaustorni III on sijoitettu vakuumitislaustornin II eteen ja sillä voidaan suorittaa samanlaisia operaatioita. Tornissa IV raakafenolifraktio, joka syötetään putkesta 9 saatetaan vastavirtaperiaatteen mukaisesti kosketuksiin putkesta 14 takaisin palautettavien polyalkyleeniglykolien kanssa ja fenoli uut-tuu polyalkyleeniglykoleihin ja johdetaan tornin IV pohjalta tislaustorniin V putken 12 kautta. Epäpuhtaudet, jotka eivät ole uuttuneet polyalkyleeniglykoleihin, poistetaan tornin yläpäästä tornin ulkopuolelle putken 11 kautta. Fenolin absorboineet polyalkyleeniglykolit syötetään tislaustorniin V putken 12 kautta, ja tislauskäsittelyn jälkeen puhdistettu fenoli voidaan saada talteen tornin yläpäästä. Tornin V pohjalta talteenotetut polyalkyleeniglykolit palautetaan kiertoon uutos-tislaustorniin IV putken 14 kautta. Polyalkyleenit 6 56521 voidaan lisätä putken 10 kautta. Tämän keksinnön menetelmää kuvataan edelleen alla olevien esimerkkien ja vertailuesimerkkien yhteydessä. On selvää, että tämän keksinnön menetelmä on hyvin ylivoimainen tavanomaisiin menetelmiin verrattuna.

Esimerkki 1

Kumeenihydroperoksidiliuos, joka oli saatu hapettamalla kumeenia, hajoi-tettiin rikkihappo-katalysaattorilla ja rikkihappo-katalysaattori neutraloitiin alkalilla, ja vesikerros poistettiin. Sen jälkeen seos (fraktio), josta oli poistettu asetoni ja aineet joiden sulamispiste on alhaisempi kuin asetoni (kokoomus: fenoli 56 paino-$, kumeeni 15 paino-$, vesi 16 paino-$, a-metyyli-styreeni 6 paino-$, asetofenoni 1,5 paino-$, karbinoli 0,5 paino-%, aineet, joiden sulamispisteet ovat korkeita 5*0 paino-$) johdettiin 70-kerroksiseen vakuumitislaustorniin nopeudella JO m^ tuimissa. Säilyttämällä tis-laustornin paine noin 200 mmHg:nä ja säätämällä kiehuvien kumeenin ja veden määriä kumeenipitoisuus pidettiin 0,50 paino-osana yhtä paino-osaa kohden fenolia ja vesipitoisuus 0,60 paino-osana yhtä paino-osaa kohden fenolia. Tornin yläpään lämpötila pidettiin 64°C:ssa ja pohjan lämpötila pidettiin 178°C:ssa, ja vesi, kumeeni ja mukana seuraavat epäpuhtaudet tislattiin pois. Toisaalta fenolifraktiota (kokoomus: fenoli 84 paino-$, kumeeni 0,1 paino-%, a-metyyli-styreeni 3*2 paino-^, aineet, joiden kiehumispiste oli korkea 12,3 paino-$) otettiin talteen nopeudella 20 9? tunnissa vakuumitislausternin pohjalta, ja mainittu fenolifraktio tislattiin korkealla kiehuvien aineiden poistamiseksi. Raakafenolifraktio, josta oli poistettu korkean kiehumispisteen omaavat aineet, syötettiin 54-kerroksisen uutos-tislaustornin keskelle nopeudella 17,5 a^ tunnissa, ja samanaikaisesti kiertävää dietyleemiglyket? lia johdettiin uutos-tislaustornin yläpäästä nopeudella 19*5 tunnissa vastavirtaperiaatetta vastaavan kontaktin aikaansaamiseksi. Uutos-tislaustornin yläpään lämpötila oli 92°C ja tornin pohjalla lämpötila oli 192°C. Epäpuhtaudet kuten α-metyylistyreeni, sykloheksanolia ja ketonit, jotka eivät uuttuneet dietyleeniglykoliin, poistettiin uutos-tislaustornin yläpäästä. Fenolin sisältävä dialkyleeniglykoli poistettiin nopeudella 36 kilolitraa tunnissa uutos-tislaustornin pohjalta ja syötettiin tislaustorniin, ja tislattiin ll6°C:ssa. Puhdistettu fenoli otettiin talteen tornin yläpäästä nopeudella 165 tunnissa. Dietyleeniglykoli otettiin talteen tornin pohjalta ja palautettiin kiertoon uutos-tislaustorniin. Näin saadun puhdistetun fenolin kiinteytymispiste oli 40,85°C, väriarvo (Hazen-luku) 5 tai pienempi, ja sulfonointi-väriarvo 95 $· Määritettäessä fenolin sisältämät tyypilliset epäpuhtaudet kaasukromatograafisesti osoittautui, että läsnä oli 8 ppm ketoneja, 5 ppm tai vähemmän hydroksiasetonia, 5 ppm tai vähemmän a-metyylistyreeniä, 1 ppm tai vähemmän 2-metyylibentsofuraania ja vähemmän kuin 1 ppm mesityyli-oksidia. Työskentelyä jatkettiin yli vuoden ajan, mutta dietyleeniglykolin 56521 laadun heikkenemistä ei havaittu. Fenolin väri (Hazen) saatiin vertaamalla ASTMsssä (American Society for Testing and Materials) spesifioidun standardi-liuoksen väriin, ja sulfonointi-väriarvo saatiin seuraavasti: 20 ml fenoli-reagenssia lämmitettiin 10 minuuttia 45°C:ssa pidetyssä lämpöhauteessa ja lisättiin sekoittaen nopeasti 20 ml väkevää rikkihappoa. Saadun seoksen annettiin olla minuutin ajan huoneen lämpötilassa, minkä jälkeen sitä pidettiin toiset viisi minuuttia vedessä. Saatu reagenssi siirrettiin kooltaan 20 mm:n kyvet-tiin jotta voitaisiin mitata aaltopituutta 552 mp vastaavalla kohdalla valon läpäisyprosentti fotoelektrisellä kolorimetrillä. Arvot on ilmoitettu prosentteina. Suuremmat arvot osoittavat fenolin parempaa laatua.

Esimerkit 2-7, vertailuesimerkit 1-4

Edellä esitetyn esimerkin 1 mukaisessa prosessissa muutettiin vakuumi-tislaustornin kumeeni- ja vesipitoisuuksia taulukossa 1 esitetyllä tavalla, jolloin saatiin puhdistettuja fenoleja. Saatujen fenolien laadut on esitetty taulukossa 1.

8 56521 I Ή β I r'l Ti :rt x >> q β p w [1 rt *h a <i> c P w Ο λ: ·Ή rH CM IP» [— VO <0 CO CM UN r-1

-β 1· Ή !crt β rH IC\ rH CM

P Ά rH > JS

Pr :rt

Pr I

Ο ·Η β Ή :rt crt r*> I ·Η Θ p S>> ο β a Μ H-> M rt Φ β

•H Φ P rt Λ *H

S β C β :rt β rH WN Μ· 1Λ ΙΛ 00 rH O O CM

:rt I Φ β >· Λί CMHrHfA

P CM ,Ο <m d . ö Ö β

:rt I :rt :rt :oJ

<0 I ·Η ' ·Η S 0 Η H Φ rH I β g β s M β >» >» Φ Φ β Φ β φβ ι >,+> α> ,β-πιη ,β ·η un m un ληιλ s νο o un ο β ö ρ ω β :rt β :d β :c\J β O CM Η νν

•H . >,*>,* > M rH

rH I

O ·Η ö ö β ω ·Η :rt :rt φ -M β a a <h o o a a u P Φ β Φ β

:rtV—^ -ÖO ,β Ή UN ,β ·Η UN UN C— VO C- UN NN UN O

nS >»ω :rt β :aJ β rH un «h cm

β φ Pr w β > JS > JS

P ,Μ Pr β >S_r +> rt β ·η rH Φ β β

ap O

β ·η m -p on o ιλ co σ\ nn

•rl M-H Φ rH rH rH rH UN -φ ^ <D

rH W W M CM UN CM CM

O

β I

Φ -H

ΠΗ P

β *

•H O

O > CM NN f~ IA ΙΛ NN 00 ON rH t—

β β ON ON CO CD CO 00 A 'i IA N

O rt «H -rl rH β β :rt CO t>

rH

o O O β β > β :rt :rt •M H « q q p rt β 8 _ a _ rH *rl Φ Φ β Φ β β β N Λ ·Η ΙΑ Λ ·Η IA IA IA IA O UN O UN Ο rt :rt rt :rt β :rt β rH rH nn rH cm

ΓΗ > W > Ä > JS

*P Φ >>H* Φ ω

P ·Η UN LfN

β Ρι O CD CD CO f— t— CD VO UN O Ό •H CO O ·* m «*·*·* ·» *>·>»>·»

•H -H o* O OOO O OOOO

Wa "rt" 'rt· -rt" 'rt' "rt- 'rt- 'rt- "ΜΙ β II O Φ •H ·Η β ·β 0 rt ·Η ,β p Pr rt rt o rt •H rt ΡτΛί ·Η

Pr ► CO rH O O OOO O OrHOO

H ro O l(j rf o C— 'rt' VO VO O NN V£> VO NN rH

CO β I P rt β — m — rv r. ·. rv rv rv *V

Φ β O ,β CO Φ O O O O rH O O O rH O

> CO β Ϊ» o <H

I β 1 rt o φ h rt β Ό

Pr « M ·Η 4J

•h to o rt o rt

G β I Pr,M -H o O OOO O OOOO

ΦβΟ rH CO 'rt- O NN r- t— NN rH C— f- O 10 β rtO rv rv rvrvrv rv rvrvrvrv

Ö -H -rl P rt β O O ι-l O O O rH O O O

β o ri .c; w o « p Pr tN O Ή CM NN M A VO C'— rH CM NN Vt*

HJ I P ·Η I -H

•rl β *rl >} β ϋ rW rH Λί .« rH ,Μ β ·Η β β ·Η β φ rt φ φ rt ο a rt h’ a a ρ μ •Η Ό β rl *rl β vl co Φ (0 ιο Φ (0 . Η ί* Φ M Φ 9 56521

Vertailuesimerkki 5

Esimerkissä 1 mainittua pilkkomistuotetta syötettiin tämän tislaamiseksi 60-kerroksiseen tislaustorniin nopeudella 54»2 kilolitraa tuntia kohden pitämällä tornin yläpään lämpötila 84°C:ssa ja tornin pohjan lämpötila 180°C:ssa* Alhaalla kiehuvat aineet kuten kumeeni, vesi ja asetoni poistettiin tornin yläpäästä. Fenolin sisältävä fraktio, joka oli otettu talteen tornin pohjalta, johdettu seuraavaan tislaustorniin jotta tislaus voitaisiin suorittaa pitämällä lämpötila tornin pohjalla 190°C:ssa. Tornin yläpäästä talteen otettu raakafe-nolifraktio syötettiin dietyleeniglykoli-uutostorniin puhdistuksen suorittamiseksi samalla tavalla kuin esimerkissä 1 on esitetty. Viikon kestäneen jatkuvan käytön jälkeen fenolin kiinteytymispiste oli 40»6°C, väriarvo (Hazen) 5» sulfonointi-väriarvo 77 ja fenoli sisälsi epäpuhtauksina esimerkiksi keto-neja 30 ppm, 20 ppm hydroksiasetonia ja 9 ppm mesityylioksidia. Myöskään puhdistusprosessissa käytetyn dietyleeniglykolin laadun suhteen kahden viikon ajan kestäneen jatkuvan ajon jälkeen ei ilmaantunut heikentymistä, mikä olisi edellyttänyt regenerointia hyvälaatuisen fenolin valmistamiseksi.

Claims (2)

10 Patenttivaatimukset: 66521

1. Menetelmä erittäin puhtaan fenolin eristämiseksi happo-katalysaattoria käyttäen saadusta kumeenihydroperoksidin pilkkoutumistuotteesta, tunnettu siitä, että i) tislausalueeseen lisätään fraktio, jonka muodostaa happokatalysaattoria käyttäen saatu kumeenihydroperoksidin pilkkoutunistuote, josta on poistettu asetoni ja osat, joiden kiehumispiste on alhaisempi kuin asetonin, ii) mainittu fraktio tislataan 50-^00 mm Hg absoluuttisessa paineessa, jolloin kumeeni- ja vesipitoisuudet pidetään mainitussa tislausalueessa 0,2-1,2 paino-osana yhtä paino-osaa kohden fenolia, ja kumeenia ja vettä sisältävä fraktio eristetään mainitun tislausalueen yläosasta samalla, kun fenolia sisältävä fraktio otetaan talteen mainitun tislausalueen alaosasta, iii) fenolia sisältävä fraktio johdetaan fenolin puhdistusaineeseen, jossa se uuttotisiataan liuottimen läsnäollessa, jonka kiehumispiste on korkeampi kuin fenolin, joka liuotin on polyalkyleeniglykoli tai polyalkyleeniglykolieetteri, ja iv) saadusta fenolia ja liuotinta sisältävästä seosfraktiosta otetaan fenoli talteen tislaamalla.

2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kumeeni- ja vesipitoisuudet edellä mainitussa tislausalueessa ii) pidetään 0,3-0,9 paino-osana yhtä paino-osaa kohden fenolia.