FI121761B - Menetelmä ja järjestelmä yksiliitosnanolämpötilamittaria varten - Google Patents
Menetelmä ja järjestelmä yksiliitosnanolämpötilamittaria varten Download PDFInfo
- Publication number
- FI121761B FI121761B FI20080442A FI20080442A FI121761B FI 121761 B FI121761 B FI 121761B FI 20080442 A FI20080442 A FI 20080442A FI 20080442 A FI20080442 A FI 20080442A FI 121761 B FI121761 B FI 121761B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- transition
- transitions
- thermometry
- tunnel
- conductance
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K15/00—Testing or calibrating of thermometers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
Claims (4)
1. Menetelmä yksiliitoslämpömittaria varten, tunnettu siitä, että: - Määritetään liitoksen konduktanssi nelipistemittauksella 5 tunnelointiliitoksen ympäristössä; - Määritetään lämpötila saaduista mittausarvoista; - Määritetään teoreettisten laskelmien avulla saatujen ja mitattujen arvojen välinen poikkeama; sekä - Eliminoidaan kontrolloimattomat virheet. 10
2. Laite yksiliitoslämpömittaria varten, tunnettu siitä, että mittausrakenne koostuu tunnelointiliitosketjuista, jotka on kytketty yksittäiseen nelipistekytkennässä olevaan tunnelointiliitokseen.
3. Vaatimuksen 2 mukainen laite, tunnettu siitä, että tunnelointiliitosketjut muodostavat nelipistegeometrian.
4. Vaatimuksen 2 tai 3 mukainen laite, tunnettu siitä, että nelipistekytkennän keskiosa muodostuu yksittäisestä tunnelointiliitoksesta ja on sulautettu 20 ketjuihin.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20080442A FI121761B (fi) | 2008-07-18 | 2008-07-18 | Menetelmä ja järjestelmä yksiliitosnanolämpötilamittaria varten |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20080442A FI121761B (fi) | 2008-07-18 | 2008-07-18 | Menetelmä ja järjestelmä yksiliitosnanolämpötilamittaria varten |
FI20080442 | 2008-07-18 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI20080442A0 FI20080442A0 (fi) | 2008-07-18 |
FI20080442A FI20080442A (fi) | 2010-01-19 |
FI121761B true FI121761B (fi) | 2011-03-31 |
Family
ID=39677558
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI20080442A FI121761B (fi) | 2008-07-18 | 2008-07-18 | Menetelmä ja järjestelmä yksiliitosnanolämpötilamittaria varten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
FI (1) | FI121761B (fi) |
-
2008
- 2008-07-18 FI FI20080442A patent/FI121761B/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI20080442A (fi) | 2010-01-19 |
FI20080442A0 (fi) | 2008-07-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Nicol et al. | Direct measurement of the superconducting energy gap | |
EP3362769B1 (en) | Thin film based thermal reference source | |
US11131700B2 (en) | Position correction method and a system for position correction in relation to four probe resistance measurements | |
EP4303540A1 (en) | Laser programming and writingwriting apparatus and method for magneto-resistive device | |
Meschke et al. | Accurate Coulomb blockade thermometry up to 60 kelvin | |
Zhang et al. | Life-time degradation of STT-MRAM by self-heating effect with TDDB model | |
FI121761B (fi) | Menetelmä ja järjestelmä yksiliitosnanolämpötilamittaria varten | |
Wang et al. | Failure mechanism investigation and endurance improvement in Te-rich Ge–Te based ovonic threshold switching selectors | |
CN109671645A (zh) | 用于制造半导体器件的工艺控制方法和工艺控制系统 | |
Liu et al. | The preliminary exploration on change mechanism of Seebeck coefficient for NiCr/NiSi thin film thermocouple with different thickness | |
WO2007112408A2 (en) | Atom probe data and associated systems and methods | |
Das et al. | Mechanisms of material removal and mass transport in focused ion beam nanopore formation | |
KR102189495B1 (ko) | 나노소재의 무전극 전자이동도 측정장치, 나노소재의 무전극 정공이동도 측정장치, 나노소재의 무전극 전자이동도 측정방법 및 나노소재의 무전극 정공이동도 측정방법 | |
Yang et al. | Laser deposited high temperature thin film sensors for gas turbines | |
US20070235322A1 (en) | Method for real-time monitoring the fabrication of magnetic memory units | |
Citirik et al. | Residual stress modeling of density modulated silicon thin films using finite element analysis | |
Johnson et al. | High-throughput nanogap formation using single ramp feedback control | |
Whig et al. | Enabling STT-MRAM in high volume manufacturing for LLC applications | |
Choi et al. | Effects of Y Dopant on Lattice Distortion and Electrical Properties of In3SbTe2 Phase‐Change Material | |
Lin et al. | 10 MA cm− 2 current density in nanoscale conductive bridge threshold switching selector via densely localized cation sources | |
Larson et al. | Scanning MWCNT‐nanopipette and probe microscopy: Li patterning and transport studies | |
JP3801309B2 (ja) | Cbトンネル効果に基づく温度計 | |
Grigore et al. | Tungsten coatings for application in WEST project | |
Koester | Analytical and experimental studies of thermionically emitting electrodes in contact with dense, seeded plasmas | |
JP4963403B2 (ja) | 結晶化率の測定方法および測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FG | Patent granted |
Ref document number: 121761 Country of ref document: FI |
|
MM | Patent lapsed |