FI118430B - Menetelmä massan valkaisussa ja massan valkaisulaitteisto - Google Patents

Description

118430

Menetelmä massan valkaisussa ja massan valkaisulaitteisto

Keksintö kohdistuu menetelmään massan valkaisussa, joka on oheisen patenttivaatimuksen 1 johdanto-osassa esitettyä tyyppiä. Keksintö koh-5 distuu myös massan valkaisulaitteistoon, joka on oheisen patenttivaatimuksen 9 johdanto-osassa esitettyä tyyppiä.

Kasvisperäistä, yleisimmin puuperäistä, selluloosakuituja sisältävää massaa valkaistaan kemikaaleilla tavoitteena nostaa massan vaaleutta, 10 jotta massa täyttäisi ne vaatimukset, joita kuituraaka-aineelle asetetaan tiettyjen paperi- ja kartonkilaatujen tai muiden kuitutuotteiden valmistuksessa.

Valkaistava massa voi olla tuotettu puuraaka-aineesta monella tavalla, 15 mutta tavallisimmin valmistukseen liittyy mekaaninen käsittely. Mekaanisissa massoissa, joista voidaan esimerkkinä mainita hioke ja hierre, on ligniiniä, jonka aiheuttamaa väriä pääasiassa valkaisussa poistetaan. Keksintö ei ole kuitenkaan rajoittunut ainoastaan mekaanisten massojen valkaisuun, vaan sitä voidaan käyttää myös puhtaasti kemial-20 lisesti saatujen kuitumassojen valkaisuun.

Valkaisumenetelmä, johon keksintö kohdistuu, on peroksidivalkaisu. Peroksidivalkaisulla erityisesti mekaanisten massojen käsittelyssä on se etu, että se valkaisee ligniinipitoisia kulumassoja säilyttäen samalla :V: 25 ligniinin, jos valkaisuolosuhteet ovat suhteellisen lievät (35-55°C), eli :1·1: saanto on hyvä (G.A. Smook, Handbook for Pulp and Paper Technolo- .···. gists, 6. painos, TAPPI 1989; ss. 167-168). Peroksidivalkaisulla tarkoi- tetaan valkaisua aineella, joka muodostaa perhydroksyyli-ioneja. Tällai- • · ..... siä aineita on vetyperoksidi, mutta myös muut peroksiyhdisteet voivat **··’ 30 tulla kysymykseen, kuten natriumperoksidi ja natriumperkarbonaatti.

m ' 1 Yleisenä ongelmana massan valkaisussa on prosessin säätäminen niin, että päästään haluttuun vaaleuteen. Valkaisutulos määritetään massanäytteestä suoritettavin mittauksin, jonka avulla valkaisukemi- .1··! 35 kaalin annostus saadaan oikeaksi.

• · M1 * • · • « • · · ♦ » • · · » · · • » 118430 2

Esimerkiksi eurooppalaisessa patentissa 287626 on esitetty tällainen massan vaaleuden mittaamiseen perustuva säätömenetelmä, jossa käytetään hyväksi kaksivaiheista valkaisua siten, että ensimmäisestä vaiheesta saadun massan vaaleutta käytetään toisen vaiheen säätöön.

5

On tunnettua käyttää suurta massan sakeutta (n. 30-40 %) peroksidi-valkaisussa. Erilaisia peroksidivalkaisuprosesseja suuressa sakeudes-sa on selostettu mm. US-patenteissa 4,938,842 ja 5,525,195.

10 Massan valkaisu suhteellisen matalassa sakeudessa (8-18%) ja yli 100°C lämpötilassa vetyperoksidilla on tunnettu kemialliselle massalle käytettynä julkaisusta WO-96/01920. Tämä järjestelmä vaatii paineen ylläpidon valkaisussa.

15 Eräs tunnettu mekaanisen massan (hiokkeen ja hierteen) jatkuvatoimisessa peroksidivalkaisussa käytettävä ohjaus- ja säätösysteemi perustuu massan vaaleuden ja massan sisältämän jäännösperoksidin mittaamiseen 10 minuutin viiveen jälkeen (G.V. Lippert; Pulp & Paper Canada 94 (1993), 4, s.40-44) ennen valkaisutornia otetusta näytteestä.

20 Valkaisun peroksidiannosta ohjataan tämän tiedon perusteella. Muut kemikaalit suhteutetaan peroksidiannostukseen tietyn matemaattisen kaavan avulla. Tätä säätöjärjestelmää, vaikka se on installoituna kaikkiin valkaisulaitoksiin, ei yleensä käytetä. Peroksidiannostusta sääde-tään nykyisin manuaalisesti perustuen valkaisutornin jälkeiseen ja/tai :V: 25 10 minuutin viiveen jälkeisen vaaleuden mittaamiseen.

·· · • · · • · • · ·*’*: Keksinnön tarkoituksena on esittää uusi tapa seurata tai säätää mas- san valkaisuprosessia, jota esim. yhdistettynä näytteenottoon valkai- .···. suun menevästä tai valkaisun läpikäyneestä massasta voidaan käyttää • * *’* 30 valkaisuprosessin parempaan seuraamiseen. Keksinnön tarkoituksena , on myös menetelmä, jolla saadaan reaaliaikaisesti tietoa prosessin ti- lasta ja jolla voidaan toteuttaa tarvittaessa takaisinkytketty säätö.

* · • « ·

Keksinnön tarkoituksena on myös menetelmä, jossa erityisesti mekaa- • ♦ .·**. 35 nisen massan (hioke, hierre) peroksidivalkaisussa voidaan maksimoida ,"* valkaisun tehokkuus säätämällä ja ohjaamalla valkaisutulokseen vaikut- • * •\ " tavien perhydroksyyli-ionien määrää. Keksintöä voidaan soveltaa myös • * * • # * • · 118430 3 muihin ainakin osaksi mekaanisiin massoihin, kuten kemimekaanisiin massoihin.

Näiden tavoitteiden toteuttamiseksi keksinnön mukaiselle menetelmälle 5 on pääasiassa tunnusomaista se, mikä on esitetty oheisen patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosassa. On havaittu, että valkaisuprosessin lämpötila ja/tai hiilimonoksidipitoisuus, joka voidaan mitata esimerkiksi prosessiin (prosessialueeseen, jossa valkaisukemikaalit ja massa ovat sekoittuneina toisiinsa) välittömästi yhteydessä olevasta tilasta, korreloi 10 valkaisuprosessin muuttujien kanssa. Tämän johdosta mittaamalla lämpötila ja/tai hiilimonoksidipitoisuus voidaan saada jatkuvasti tai haluttaessa tietyin väliajoin tietoa valkaisuprosessin tilasta. Lämpötilan ja/tai hiilimonoksidipitoisuuden mittaus tapahtuu suoraan prosessista, joko prosessialueeseen välittömästi yhteydessä olevasta tilasta (kaasu-15 tilavuudesta) tai lämpötilan tapauksessa myös itse prosessialueesta (nestetilavuudesta), ja mittaus voidaan yhdistää näin prosessiautomaatioon valkaisuprosessin säätämiseksi. Prosessialueeseen yhteydessä olevasta tilasta voidaan pitoisuudet mitata johtamalla kaasua tästä tilavuudesta mittauslaitteeseen. Voidaan mitata esim. valkaisuprosessista 20 tulevan hönkäkaasun lämpötila ja/tai hiilimonoksidipitoisuus. Lämpötila voidaan mitata myös suoraan kaasutilavuudesta lämpötila-anturilla.

Lämpötilan ja/tai hiilimonoksidipitoisuuden mittaustuloksen perusteella säädetään edullisesti prosesslalueen alkali/peroksidi-suhdetta.

25 • * :*·*: Keksintöä selostetaan seuraavassa lähemmin viittaamalla oheiseen pii- • * ·*··. rustukseen, joissa ·*« • » .···. kuva 1 esittää kaaviomaisesti valkaisuprosessia ja sen säätöä kek- 30 sinnön mukaisesti, ja . kuvat 2-9 kuvaavat prosessin muutosten vaikutusta hönkäkaasun ) / lämpötilaan ja hiilimonoksidipitoisuuteen.

• · * »**

Kuvassa 1 on esitetty jatkuvatoiminen valkaisutorni T, jonka yläosaan » » .···. 35 johdetaan valkaistavaa massaa (nuoli M) ja valkaisukemikaaleja (nuoli .[** C). Kaavion ei ole tarkoitus olla yksityiskohtainen kuvaus valkaisulait- : teistosta, ja esimerkiksi massan ja valkaisukemikaalien sekoitusta toi- • ♦ · • ·« • · 118430 4 siinsa ennen valkaisutornia ei ole esitetty. Kaavion tarkoituksena on enemmänkin havainnollistaa säätöperiaatetta. Valkaisutornin (T) alaosasta otetaan ulos valkaistua massaa (nuoli B) järjestelyin, jotka ovat alalla tunnettuja ja joita ei tämän vuoksi ole kuvattu tarkemmin. Val-5 kaistu massa johdetaan jatkokäsittelyyn.

Valkaisussa tavoitteena on nostaa massan vaaleutta. Maksimivaaleus saadaan, kun peroksidivalkaisussa peroksidi muodostaa perhydroksyy-li-ioneja oheisen reaktion mukaan (esimerkkinä vetyperoksidi): 10 H202 + OH' <-> H20 + OOH*

Perhydroksyyli-ionien määrää lisätään käyttämällä alkalia, käytännössä NaOH-liuosta. Alkali/peroksidisuhteella voidaan hallita perhydroksyyli-15 ionien määrää. Kuitenkin peroksidivalkaisussa voi tapahtua peroksidin hajoamista oheisen reaktion mukaan: H202 h 2 H20 + 02 20 Reaktio on hyvin eksoterminen ja tapahtuu helposti katalyyttien läsnäollessa, esimerkiksi massassa olevat metallit katalysoivat hajoamisreak-tiota. Peroksidin hajoaminen alentaa valkaisutehokkuutta ja lisää val-kaisukemikaalien kulutusta.

·«· • · ·♦·· 25 Peroksidivalkaisu tehdään useimmiten korkeassa sakeudessa • · ·*·*: 30-40 %, jotta peroksidi reagoi mahdollisimman tehokkaasti mekaani- • · ;*·*. sen massan värillisten ligniiniryhmien kanssa. Valkaisureaktorina käy- tetään sakeamassavalkaisutornia T, jossa pidetään tiettyä viivettä.

• » « · **’* 30 Valkaisutornin T yläosassa prosessialueen (toisiinsa sekoittuneet . massa ja valkaisukemikaalit) yläpuolella tietyn suuruisessa tilavuudes- sa on tietty lämpötila, jota mitataan lämpötila-anturilla S ja sen sisältä-mässä kaasujen seoksessa on tietty hiilimonoksidipitoisuus, jota mita-taan hiilimonoksidianturilla V (lämpötila ja hiilimonoksidipitoisuus kor- • · . **. 35 reloivat em. tilan happipitoisuuden kanssa). Lämpötila-anturista S ja hii- .**·* limonoksidianturista V saadut tiedot käsitellään tietojenkäsittely-yksi- kössä U ja tietojen avulla säädetään valkaisutorniin T tulevassa vai- • · · • * * * * 118430 5 kaisukemikaalien C virtauksessa alkalin ja/tai peroksidin määrää tai niiden suhdetta.

Katkoviivoilla on kuvassa 1 kuvattu mahdollisuutta johtaa valkaisutornin 5 yläosasta kaasuvirtaus, jonka koostumus vastaa yläosan tilavuuden koostumusta, kaasukomponenttien pitoisuuden mittaukseen mittalaitteeseen A, joka voi olla kaasuanalysaattori. Tässä mittalaitteessa voidaan analysoida hiilimonoksidin lisäksi valkaisutornin yläosan muitakin kaasukomponentteja, kuten happea ja hiilidioksidia.

10

Valkaisutornin T yläosasta mitatun lämpötilan ja/tai hiilimonoksidipitoisuuden perusteella ohjataan valkaisuliuoksen alkali/peroksidisuhdetta muuttamalla joko alkalin tai peroksidin määrää valkaisukemikaalien C syötössä ohjaamalla näitä aineita annostelevia laitteita. Lämpötila ja/tai 15 hiilimonoksidipitoisuus valkaistavan massan yläpuolella olevassa tilassa kertoo selvästi valkaisun senhetkisen tehokkuuden. Lämpötila ja/tai hiilimonoksidipitoisuus voidaan mitata valkaisutornin yläosan kaasutila-vuudesta tai tornista ulostulevasta hönkäkaasuvirrasta. Mittaustekniikan kannalta on edullista mitata ainakin hiilimonoksidipitoisuus virtauksesta, 20 joka johdetaan pois kaasutilavuudesta, esim. juuri hönkäkaasuvirrasta. Tällöin käytettävä mittauslaite toimii eräänlaisena kaasuanalysaattorina, ja sillä voidaan mitata muidenkin kaasujen pitoisuuksia niille sopivilla !y; menetelmillä. Lämpötila voidaan mitata samasta virtauksesta. Lämpö- tila voidaan kuitenkin mitata mahdollisimman läheltä prosessia, eli \.l 25 suoraan kaasutilavuudesta siihen sijoitetulla anturilla S.

• l

Jos alkalia on liikaa, peroksidien hajoaminen hapeksi ja vedeksi on voimakkaampaa, ja valkaisutornin hönkäkaasun lämpötila ja hiilimonoksidipitoisuus on korkea. Mitatulle lämpötilalle ja/tai hiilimonoksi-!.:’·· 30 dipitoisuudelle voidaan antaa asetusarvoksi esim. joku maksimiarvo.

Jos lämpötila ja/tai hiilimonoksidipitoisuus nousee tämän maksimiarvon yli, aletaan säätää alkalin ja peroksidin suhdetta. Jos syötetyn peroksi-! din määrä halutaan pitää esim. loppuvaaleuden määräämässä vakio- arvossa, säädetään alkalin määrää.

««« 35 *:·*! Maksimoimalla peroksidivalkaisussa lämpötilan ja/tai hiilimonoksidi- pitoisuuden mittauksesta saadun tiedon avulla perhydroksyyli-ionien 118430 6 ja/tai minimoimalla peroksidin hajoamisreaktiossa syntyvien 02-mole-kyylien määrä voidaan parantaa mekaanisen massan valkaisutehok-kuutta ja varmistaa valkaisun onnistuminen myös häiriötilanteissa. Menetelmä mahdollistaa myös tehokkaamman kontrollin valkaisulle, esim.

5 jos massasuspension metallipitoisuudessa tapahtuu muutoksia, koska metallit katalysoivat peroksidin hajoamista hapeksi. Epätoivottu peroksidin hajoamisreaktio näkyy valkaisutornin yläosasta mitatun lämpötilan ja hiilimonoksidipitoisuuden tai sieltä tulevasta hönkäkaasuvirrasta mitatun lämpötilan ja hiilimonoksidipitoisuuden kohonneena arvona. Val-10 vonta voidaan järjestää ilman automaattista takaisinkytkettyä säätöä esim. niin, että tällainen odottamaton lämpötilan ja/tai hiilimonoksidi-pitoisuuden nousu (esim. tietyn raja-arvon yläpuolelle) antaa automaattisesti hälytyksen, joka kertoo, että valkaisuprosessissa on häiriö, jolloin voidaan ryhtyä toimenpiteisiin asian korjaamiseksi.

15

Keksintöä koskevissa kokeissa on todettu alkali/peroksidisuhteen muuttumisen vaikuttavan valkaisutornin hönkäkaasujen lämpötilaan ja hiilimonoksidipitoisuuteen, ja tätä on havainnollistettu kuvissa 2-5. Hiilimonoksidipitoisuus mitattiin kaasuvirtaukseen liitetyllä kaasuanaly-20 saattorilla IR-menetelmällä. Tulosten mukaan alkalisuhteen nostaminen nosti lämpötilaa ja hiilimonoksidipitoisuutta ja päinvastoin. Kuvassa 2 on alkalisuhteen noston 0,55:stä 0,9:ään vaikutus hönkäkaasuvirrasta mitattuun lämpötilaan vaakasuoralla aika-asteikolla, ja kuvassa 3 sama vaikutus hönkäkaasuvirran hiilimonoksidipitoisuuteen. Muutoshetkeä on •V: 25 merkitty pystyviivalla. Kuvissa 4 ja 5 on esitetty vaikutukset samoihin suureisiin, kun alkalisuhde laskettiin 0,7:stä 0,55:een. Kuvien 2-5 esit-.···. tämissä kokeissa vetyperoksidin määrä oli 3 %. Kuvassa 6 on esitetty .!!!: peroksidiannoksen nosto 3 %:sta 4 %:iin vakioalkalisuhteella 0,62, jol- ..... loin tornin yläosassa olevan kaasun lämpötila nousi vain hieman (en- ****’ 30 simmäinen pystyviiva). Samassa kuvassa 6 on myös esitetty alkalisuh- . teen nosto 0,62:sta 0,7:ään peroksidiannoksella 4 % (toinen pystyviiva), *|**: mikä näkyy selvästi lämpötilan nousuna. Kuvassa 7 on kuvassa 6 esi- \..! tettyjen, samassa järjestyksessä tehtyjen muutosten vaikutus hiili- .·..· monoksidipitoisuuteen. Voidaan havaita, että hiilimonoksidipitoisuus · ,···. 35 muuttuu samoin kuin lämpötila kuvassa 6. Kuvassa 8 on esitetty perok- sidiannoksen pienentäminen 4 %:sta 3 %:iin ja samalla tehty muutos ί *” alkalisuhteessa 0,62:sta 0,7:ään, jolloin alkalisuhteen kasvun aiheutta- • t * • ·· • · 118430 7 ma lämpötilan nousu on suurempi kuin peroksidiannoksen pienentämisen aiheuttama lämpötilan lasku. Kuvassa 9 on esitetty hiilimonoksidi-pitoisuudessa tapahtunut muutos peroksidiannosta pienennettäessä 4 %:sta 3 %:iin ja samalla muutettaessa alkalisuhdetta 0,62:sta 0,7:ään. 5 Havaitaan, että peroksidiannoksen pienentämisen vaikutus alentavasti hiilimonoksidi-pitoisuuteen on suurempi kuin suuremman alkalisuhteen hiilimonoksidipitoisuutta kasvattava vaikutus.

Keksinnössä voidaan käyttää sekä lämpötilan mittausta että hiilimonok-10 sidin mittausta tai vain toista niistä. Kun käytetään kummankin muuttujan mittauksia prosessista, saadaan enemmän mittaustietoja, joilla valkaisuprosessin tilaa voidaan seurata, esimerkiksi kuvat 8 ja 9 osoittavat, että lämpötila ja hiilimonoksidipitoisuus muuttuvat eri tavalla, kun kahta prosessin tulosuuretta (alkalisuhde ja peroksidiannos) muutetaan 15 samalla kertaa.

Keksintöä voidaan soveltaa myös matalammissa sakeuksissa tapahtuviin valkaisuprosesseihin, joissa käytetään peroksidia. Näissä sakeuksissa, joissa prosessialueella on paljon vettä, voitaisiin mitata lämpötila 20 myös suoraan vedestä, koska peroksidin hajoamisen aiheuttama lämpötilan muutos käyttäytyy samalla tavalla valkaisuprosessin muutoksissa kuin lämpötilan muutos ilmassa.

« • · · • · *··« :Y: Lisäksi keksinnössä on mahdollista käyttää happipitoisuuden mittausta "·*: 25 valkaisutornin yläosan kaasutilavuudesta, valkaisutornista tulevasta .··*. kaasuvirtauksesta tai, matalammissa sakeuksissa, myös suoraan ve- destä prosessialueella, kuten on esitetty aikaisemmassa, tämän hake- • · .... muksen tekemishetkellä salaisessa suomalaisessa patentti-hakemuk- '*'* sessa 20001058. Happipitoisuus voidaan mitata esim. samalla mit- . 30 tauslaitteella A (kaasuanalysaattorilla) kuin hiilimonoksidipitoisuus.

I.," Happipitoisuuden mittauksessa saadut tiedot voidaan yhdistää samasta prosessista suoritettujen lämpötila- ja/tai CO-pitoisuusmittaustietoihin, * ja näin saadaan enemmän tietoja prosessin tilasta.

• · • * · • m » a ./* 35 Edellä mainittujen muuttujien mittauksessa voidaan soveltaa sinänsä tunnettuja mittausperiaatteita. Lämpötila-antureita tunnetaan lukuisia. Hiilimonoksidianturissa voidaan käyttää häkävaroittimista tunnettuja pe- 118430 8 riaatteita. Säiliön kaasutilavuudesta ulos tulevaan kaasuvirtaukseen yhdistetyssä kaasuanalysaattorissa voidaan soveltaa kaasuanalysaat-toreista tunnettuja periaatteita eri kaasujen pitoisuuksien määrittämiseksi.

5 • · 1 • · • · « · • · • · « • · · • 1 ♦ ♦ 1 * · · • · • · • 1 1 » » • · «·» • · • ·1 • « • · • · · • · ··· • « • · · * * · • » · * · · • · • » · • · * · ··· * φ • · • 1 · · * · 1 • ·1 • ·

Claims (15)

118430

1. Menetelmä massan valkaisussa, jossa selluloosapitoista kuitumas-5 saa valkaistaan saattamalla se kosketukseen prosessialueella peroksi- din kanssa ja prosessista saatujen mittaustulosten avulla säädetään valkaisuprosessia, tunnettu siitä, että prosessialueen sisältävässä säiliössä olevasta kaasutilavuudesta, kuten valkaisutornin yläosasta, tai säiliöstä ulos tulevasta virtauksesta, kuten valkaisutornin hönkäkaasu-10 virtauksesta mitataan lämpötila ja/tai hiilimonoksidipitoisuus ja tästä mittauksesta saatujen tulosten avulla seurataan prosessia.

2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että lämpötila mitataan suoraan kaasutilavuudesta siihen sijoitetulla anturilla 15 (S) ja hiilimonoksidipitoisuus mitataan ulos tulevasta virtauksesta, kuten hönkäkaasuvirtauksesta.

. 3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, ·;; että mittaustulosten avulla säädetään prosessia, kuten prosessialueen ;:Y 20 alkali/peroksidi-suhdetta. • · • · • * • · ·

4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että al- *·"·: kalin ja peroksidin määristä toinen pidetään vakiona ja toista muutetaan :***: suhteen säätämisessä. ··« 25

: 5. Patenttivaatimuksen 3 tai 4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, .···! että lämpötilaa ja/tai hiilimonoksidipitoisuutta tarkkaillaan väliajoin tai jatkuvasti suoritettavalla mittauksella, ja prosessia säädetään auto-: maattisesti tulosten perusteella. :30

6. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnet- "··. tu siitä, että lämpötilalle ja/tai hiilimonoksidipitoisuudelle on määritelty • · asetusarvo, ja tämän avulla toteutetaan prosessin takaisinkytketty säätö. 35 118430

7. Patenttivaatimuksen 6 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että lämpötilan ja/tai hiilimonoksidipitoisuuden asetusarvo on määrätty maksimiarvo, ja säätö suoritetaan, kun tämä maksimiarvo ylittyy.

8. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnet tu siitä, että prosessi on sakeamassavalkaisu, jossa massan sakeus reaktioalueella on vähintään 25 %, edullisesti vähintään 30 %.

9. Massan valkaisulaitteisto, jossa on säiliö (T), jossa on massan (M) ja 10 peroksidia sisältävien valkaisukemikaalien (C) syöttö ja valkaistun massan (B) poisto, tunnettu siitä, että laitteisto käsittää lämpötilan mittauslaitteen ja/tai hiilimonoksidin mittauslaitteen, joka on järjestetty mittaamaan vastaavasti lämpötilaa ja/tai hiilimonoksidipitoisuutta säiliön (T) kaasutilavuudesta tai säiliöstä tulevasta kaasuvirtauksesta. 15

10. Patenttivaatimuksen 9 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että hiilimonoksidin mittauslaite on säiliöstä (T) ulostulevaan kaasuvirtauk- . seen, kuten hönkäkaasuvirtaukseen yhdistetty mittauslaite (A), kuten ·.··; kaasuanalysaattori. :.v 20

• · # : 11. Patenttivaatimuksen 9 tai 10 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, • · · että siinä on myös mittauslaite, joka on järjestetty mittaamaan muun *:·*: kaasukomponentin kuin hiilimonoksidin pitoisuutta säiliön (T) kaasutilavuudesta tai säiliöstä tulevasta kaasuvirtauksesta, erityisesti 25 hapen pitoisuutta. » · • · f

• ♦♦ .···' 12. Patenttivaatimuksen 11 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että *'* kaasuvirtaukseen, kuten hönkäkaasuvirtaukseen yhdistetty mittauslaite : V (A), kuten kaasuanalysaattori, on järjestetty mittaamaan hiilimonoksidin :30 lisäksi ainakin yhtä muuta kaasukomponenttia, erityisesti happea.

*·* !···. 13. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen 9-12 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että lämpötilan mittauslaite ja/tai hiilimonoksidin mittauslaite on yhdistetty tietojenkäsittely-yksikköön (U), joka on yhdistetty 35 säätimeen prosessin automaattiseksi säätämiseksi. 118430

14. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen 9-13 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että laitteisto käsittää sekä lämpötilan mittauslaitteen että hiilimonoksidin mittauslaitteen.

15. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen 9-14 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että lämpötilan mittauslaite on säiliön (T) kaasutilavuuteen sijoitettu lämpötila-anturi (S). t 9 ·1 2 3·· • 1 * · · • « • 1 ·· « « · • · • · ·1· * · • · »Il *···' • · • •f • · * · ··· • · • · • »· • · ··· • · « ••t ·· · • I « * · • » • •f » I • · *♦· & t 1«· • 1·· ·· m 2 • · 3 118430