ES3056337T3 - Foreign matter removal device for secondary battery notching - Google Patents

Foreign matter removal device for secondary battery notching

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ES3056337T3
ES3056337T3 ES22788310T ES22788310T ES3056337T3 ES 3056337 T3 ES3056337 T3 ES 3056337T3 ES 22788310 T ES22788310 T ES 22788310T ES 22788310 T ES22788310 T ES 22788310T ES 3056337 T3 ES3056337 T3 ES 3056337T3
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Jung Hyun Park
Tae Su Kim
Seo Jun Lee
Hyo Jin Lee
Gil Woo Kim
Hyuk Soo Lee
Byung Hee Lee
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LG Energy Solution Ltd
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Abstract

Un dispositivo de eliminación de materia extraña para entallar una batería secundaria, según una realización de la presente invención, comprende deseablemente: una unidad de confirmación de materia extraña que está provista para capturar, a partir de una trayectoria de transporte de una película de electrodo que ha pasado a través de un proceso de entallado, imágenes de la superficie superior e inferior de un patrón de electrodo entallado, y calcular, sobre la base de las imágenes capturadas, la ubicación de una materia extraña existente en el patrón de electrodo; y una unidad de procesamiento de eliminación de materia extraña que está provista para soplar aire y aplicar presión de vacío a la ubicación de la materia extraña, de acuerdo con la información de ubicación de materia extraña calculada por la unidad de confirmación de materia extraña. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)

Description

[0001] DESCRIPCIÓN
[0002] Dispositivo de eliminación de materia extraña para entallado de batería secundaria
[0003] Campo técnico
[0004] La presente invención se refiere a un dispositivo de eliminación de materia extraña para entallar una batería secundaria, que se refiere a, más particularmente, un dispositivo de eliminación de materia extraña para entallar una batería secundaria capaz de limpiar de manera intensiva una parte donde está presente la materia extraña después de confirmar la posición de la materia extraña unida a una película de electrodo antes de un proceso de eliminación de materia extraña.
[0005] Antecedentes de la técnica
[0006] En general, las baterías secundarias son baterías capaces de suministrar potencia a un circuito externo mediante la conversión de energía química en energía eléctrica y el almacenamiento de electricidad mediante la recepción de potencia externa cuando se descarga para convertir la energía eléctrica en energía química, donde hay diversos tipos, tales como níquel-cadmio, iones de litio, níquel-hidrógeno y polímeros de litio.
[0007] Una batería secundaria de este tipo está fabricada aplicando un material activo a una superficie de un colector de corriente de electrodo para formar un electrodo positivo y un electrodo negativo, e interponiendo un separador entre los mismos para hacer un conjunto de electrodos, que está posteriormente montado en el interior de una lata metálica cilíndrica o poligonal o carcasa de tipo bolsa de lámina laminada de aluminio y, a continuación, inyectando o impregnando principalmente un electrolito líquido en el conjunto de electrodos o usando un electrolito sólido. En este caso, el conjunto de electrodos está fabricado en diversos tamaños según el tamaño y la forma de la carcasa exterior y la capacidad requerida en el campo usado y, para este fin, se requiere un proceso de entallado de cortar los electrodos y el separador constituyendo el conjunto de electrodos con un tamaño predeterminado. En el proceso de entallado de la batería secundaria, se usa un molde o un láser y, en el proceso de entallado, se generan sustancias extrañas en el material activo, sustancias extrañas de Al en el electrodo positivo o sustancias extrañas de Cu en el electrodo negativo durante el proceso de corte del electrodo.
[0008] Algunas de las sustancias extrañas generadas durante el proceso de entallado están unidas al electrodo y provocan fallos de cortocircuito de la batería. Con el fin de evitar esto, convencionalmente, se realiza un proceso de eliminación de materia extraña de eliminar las sustancias extrañas unidas a la placa de electrodo en el proceso de entallado.
[0009] La patente coreana registrada n.º 10-1569798 divulga el contenido de procesar sustancias extrañas unidas a la superficie de la película de electrodo (F) sobre la que se completa el procesamiento de cizalladura después de que se realice el proceso de entallado.
[0010] Como se muestra en la figura 1, se instala una unidad de limpieza (41) de manera móvil hacia arriba y hacia abajo en el lado inferior de un rodillo (43), y elimina sustancias extrañas mientras se adhiere la película de electrodo (F) al rodillo (43). La unidad de limpieza (41) comprende un bloque de limpieza (45), un cepillo (46), un pulverizador de aire (47) y aspirador de succión de materia extraña (48).
[0011] Los bloques de limpieza (45) están instalados de manera móvil hacia arriba y hacia abajo en los lados inferior y superior de un primer rodillo (43) y un segundo rodillo (44), respectivamente. El cepillo (46) está instalado en el extremo superior o extremo inferior del bloque de limpieza (45) para contactar la película de electrodo (F), separando de este modo sustancias extrañas. El pulverizador de aire (47) está instalado en una parte lateral del bloque de limpieza (45) para pulverizar aire hacia el cepillo (46).
[0012] El aspirador de succión de materia extraña (48) está instalado en la posición opuesta del pulverizador de aire (47) en el bloque de limpieza (45) para aspirar la materia extraña separada del cepillo (46) por el pulverizador de aire (47).
[0013] Según la patente coreana registrada n.º 10-1569798, se realiza un proceso de tratamiento de materia extraña de eliminación de sustancias extrañas unidas a la superficie de la película de electrodo (F) sobre la que se completa el procesamiento de cizalladura usando la unidad de limpieza (41) pero, a pesar de este proceso de eliminación de materia extraña, existe el problema de que la materia extraña unida a la película de electrodo (F) no se elimina. Después, la materia extraña unida a la película de electrodo (F) puede provocar fallos de cortocircuito de la batería. El documento JP 2018018681 A divulga un dispositivo de eliminación de materia extraña para entallar una batería secundaria, que comprende: una parte de confirmación de materia extraña dispuesta de modo que en una trayectoria de transporte de una película de electrodo a través de un proceso de entallado, al menos una superficie de la superficie superior y la superficie inferior del patrón de electrodo entallado está fotografiada para cada sección del patrón de electrodo a lo largo de la dirección de anchura del patrón de electrodo, y una posición de una materia extraña presente en el patrón de electrodo está calculada basándose en la imagen fotografiada; y una parte de proceso de eliminación de materia extraña dispuesta, de modo que el aire está pulverizado a toda el área de la sección donde está ubicada la materia extraña, o el aire está pulverizado de manera intensiva a un área predeterminada dentro de toda el área y una presión de vacío está aplicada a la misma según la información de posición de materia extraña calculada por la parte de confirmación de materia extraña.
[0014] El documento KR 20150089803 A divulga un aparato para formar entallado de electrodo de una batería secundaria.
[0015] Divulgación
[0016] Problema técnico
[0017] La presente invención se ha concebido para resolver los problemas anteriores donde un objeto que se pretende resolver es proporcionar un dispositivo de eliminación de materia extraña para entallar una batería secundaria capaz de limpiar de manera intensiva una parte donde está presente la materia extraña después de confirmar la posición de la materia extraña unida a una película de electrodo antes de un proceso de eliminación de materia extraña.
[0018] Solución técnica
[0019] El dispositivo de eliminación de materia extraña para entallar una batería secundaria según la presente invención comprende: una parte de confirmación de materia extraña dispuesta de modo que en una trayectoria de transporte de una película de electrodo a través de un proceso de entallado, las superficies superior e inferior del patrón de electrodo entallado están fotografiadas y una posición de una materia extraña presente en el patrón de electrodo está calculada basándose en la imagen fotografiada; y una parte de proceso de eliminación de materia extraña dispuesta, de modo que el aire está pulverizado a la posición de la materia extraña y una presión de vacío está aplicada a la misma según la información de posición de materia extraña calculada por la parte de confirmación de materia extraña.
[0020] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la parte de confirmación de materia extraña comprenda: una pluralidad de cámaras superiores dispuesta en una línea a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo por encima de la película de electrodo para fotografiar la superficie superior del patrón de electrodo para cada sección; una pluralidad de cámaras inferiores dispuesta en una línea a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo bajo la película de electrodo para fotografiar la superficie inferior del patrón de electrodo para cada sección; y una parte de lectura de imágenes para calcular la posición de la materia extraña basándose en una pluralidad de imágenes de sección superior y una pluralidad de imágenes de sección inferior que tienen información de posición para cada sección a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo. En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la parte de proceso de eliminación de materia extraña esté configurada para pulverizar el aire a cada sección de una superficie de la película de electrodo, pero está provisto que toda el área de la sección se pulverice o solo se pulverice de manera intensiva un área predeterminada dentro de toda el área.
[0021] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la parte de proceso de eliminación de materia extraña comprenda: una parte de soplado de materia extraña para pulverizar aire a la posición de la materia extraña según la información de posición de materia extraña de la parte de proceso de eliminación de materia extraña; y una parte de succión de materia extraña, que está instalada en la trayectoria de transporte de la película de electrodo, para aplicar una presión de vacío a la posición de la materia extraña basándose en la información de posición de materia extraña para aspirar la materia extraña soplada del patrón de electrodo.
[0022] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la parte de soplado de materia extraña comprenda: un cuerpo de soplado provisto de un orificio de inyección de aire que está configurado para pulverizar aire en el mismo en la superficie orientada al patrón de electrodo; y una pluralidad de orificios de aire proporcionados en el cuerpo de soplado, y comunicados con el orificio de inyección de aire, pero dispuestos en una línea a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo, en donde la pluralidad de orificios de aire está asignada para cada sección del patrón de electrodo según el orden de disposición en la dirección de anchura de la película de electrodo.
[0023] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la parte de soplado de materia extraña comprenda además una parte de control de aire, configurada para ajustar la apertura y cierre, pero abre un orificio de aire que coincide con la información de posición de materia extraña, y cierra un orificio de aire que no coincide con la información de posición de materia extraña.
[0024] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la pluralidad de orificios de aire esté dispuesta como pluralidad para cada sección y la parte de control de aire está configurada para ajustar el número de apertura de la pluralidad de orificios de aire asignados para cada sección para ajustar el caudal de aire inyectado a la posición de la materia extraña.
[0025] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la pluralidad de orificios de aire esté provista de al menos tres para cada sección, y la parte de control de aire esté configurada para ajustar el número de apertura de los orificios de aire para ajustar la intensidad de caudal de aire a fuerte/media/débil.
[0026] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que el orificio de inyección de aire sea una abertura mayor que el área del patrón de electrodo.
[0027] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la parte de succión de materia extraña comprenda: un cuerpo de succión provisto de un orificio de succión principal en la superficie orientada hacia el patrón de electrodo; y una pluralidad de orificios de subsucción en el cuerpo de succión, y comunicados con el orificio de succión principal, pero dispuestos en una línea a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo, en donde la pluralidad de orificios de subsucción está asignada para cada sección del patrón de electrodo según el orden de disposición en la dirección de anchura de la película de electrodo.
[0028] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la parte de succión de materia extraña comprenda además una parte de control de presión de vacío, que está configurada para ajustar la apertura y cierre de cada orificio de subsucción, pero abre un orificio de subsucción que coincide con la información de posición de materia extraña, y cierra un orificio de subsucción sin que coincida con la información de posición de materia extraña.
[0029] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la pluralidad de orificios de subsucción se proporcione como pluralidad para cada sección, y la parte de control de presión de vacío ajusta el número de apertura de la pluralidad de orificios de subsucción asignado para cada sección para ajustar la intensidad de la presión de vacío aplicada a la posición de la materia extraña.
[0030] En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que la pluralidad de orificios de subsucción esté provista de al menos tres para cada sección y la parte de control de presión de vacío está configurada para ajustar el número de apertura de los orificios de subsucción para ajustar la intensidad de la presión de vacío a fuerte/media/débil. En un ejemplo de la presente invención, se prefiere que el orificio de succión principal sea una abertura mayor que el área del patrón de electrodo.
[0031] Efectos ventajosos
[0032] La técnica anterior realiza un proceso de eliminación de materia extraña en toda el área de la película de electrodo, mientras que la presente invención confirma una posición de una materia extraña unida a una película de electrodo antes de un proceso de eliminación de materia extraña y, a continuación, limpia de manera intensiva la porción donde está presente la materia extraña, de tal manera que es posible mejorar la eficacia de eliminación de materia extraña en la película de electrodo.
[0033] Descripción de los dibujos
[0034] La figura 1 ilustra esquemáticamente un proceso de eliminación de sustancias extrañas después de un proceso de entallado de una batería secundaria según la técnica anterior.
[0035] La figura 2 ilustra esquemáticamente un diagrama esquemático de un dispositivo de eliminación de materia extraña para entallar una batería secundaria según un ejemplo de la presente invención.
[0036] La figura 3 ilustra esquemáticamente un diagrama de configuración de un dispositivo de eliminación de materia extraña para entallar una batería secundaria según un ejemplo de la presente invención.
[0037] La figura 4 es un diagrama para explicar un estado de disposición de cámaras para fotografiar un patrón de electrodos para cada sección mediante una pluralidad de cámaras según un ejemplo de la presente invención. Las figuras 5 y 6 son diagramas para explicar una parte de soplado de materia extraña en un ejemplo de la presente invención, y
[0038] las figuras 7 y 8 son diagramas para explicar una parte de succión de materia extraña en un ejemplo de la presente invención.
[0039] Las figuras 9 a 12 son diagramas para explicar el estado operativo de una parte de proceso de eliminación de materia extraña cuando se une una materia extraña a un patrón de electrodo.
[0040] Modo para la invención
[0041] A continuación en el presente documento, se describirán dispositivos de eliminación de materia extraña para entallar una batería secundaria según ejemplos preferidos de la presente invención con referencia a los dibujos adjuntos.
[0042] Haciendo referencia a las figuras 2 y 3, el dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria es un dispositivo que comprende una parte de proceso de entallado (110), una parte de confirmación de materia extraña (120) y una parte de proceso de eliminación de materia extraña (130), para fotografiar un patrón de electrodo (P) después de un proceso de entallado para confirmar si está presente cualquier materia extraña en el patrón de electrodo (P) y, a continuación, limpiar de manera intensiva una porción del patrón de electrodo (P) donde está presente la materia extraña.
[0043] La parte de proceso de entallado (110) entalla la película de electrodo que se mueve en una dirección a lo largo de la trayectoria de transporte de película con un patrón de electrodo prestablecido (P). La parte de proceso de entallado (110) está compuesta por un tambor de entallado (111) y una parte de irradiación láser (112), donde la película de electrodo (F1) que pasa a través del tambor de entallado (111) está irradiada con un láser para formar un patrón de electrodo (P) en la película de electrodo. El proceso de entallado de la batería secundaria es una tecnología muy conocida, de tal manera que la descripción detallada de la parte de proceso de entallado (110) se omitirá en el presente documento.
[0044] La parte de confirmación de materia extraña (120) fotografía las superficies superior e inferior del patrón de electrodo (P) en la trayectoria de transporte de la película de electrodo y lee la imagen fotografiada para calcular la posición de la materia extraña presente en el patrón de electrodo. La parte de confirmación de materia extraña (120) comprende una pluralidad de cámaras (121~123, 126~128), y una parte de lectura de imágenes (129). La pluralidad de cámaras (121~123, 126~128) está instalada a fin de permitir fotografiar las superficies superior e inferior del patrón de electrodo (P) que han pasado a través de la parte de proceso de entallado (110) en la trayectoria de transporte de la película de electrodo, respectivamente. En este ejemplo, por motivos de conveniencia de la explicación, según las posiciones de instalación de la pluralidad de cámaras (121~123, 126~128), se dividirán y se denominarán una primera cámara superior (121), una segunda cámara superior (122), una tercera cámara superior (123), una primera cámara inferior (126), una segunda cámara inferior (127) y una tercera cámara inferior (128).
[0045] Haciendo referencia a la figura 4, la primera cámara superior (121) a la tercera cámara superior (123) están dispuestas en una línea a lo largo de la dirección de anchura (W) de la película de electrodo por encima de la película de electrodo (F2) para fotografiar la superficie superior del patrón de electrodo (P) para cada sección (S1, S2, S3). La primera cámara inferior (126) a la tercera cámara inferior (128) están dispuestas en una línea a lo largo de la dirección de anchura (W) de la película de electrodo por debajo de la película de electrodo (F2) para fotografiar la superficie inferior del patrón de electrodo (P) para cada sección (S1, S2, S3).
[0046] El patrón de electrodo (P) está dividido en una pluralidad de secciones (S1, S2, S3) a lo largo de la dirección de anchura (W) de la película de electrodo, donde la pluralidad de secciones es variable según el número de instalación de cámaras. Como se muestra en la figura 4, cuando tres cámaras superiores fotografían la superficie superior del patrón de electrodo (P), la superficie superior del patrón de electrodo (P) se divide en tres secciones. Si las cuatro cámaras superiores fotografían la superficie superior del patrón de electrodo (P), la superficie superior del patrón de electrodo (P) puede dividirse en cuatro secciones.
[0047] La parte de lectura de imágenes (129) lee una pluralidad de imágenes de sección superior y una pluralidad de imágenes de sección inferior fotografiadas para cada sección (S1, S2, S3), y confirma si está presente cualquier materia extraña en el patrón de electrodo (P), seleccionando de este modo la sección de materia extraña donde la materia extraña existe entre la pluralidad de secciones (S1, S2, S3), y confirmando la posición de la materia extraña en la sección de materia extraña.
[0048] En este ejemplo, para la pluralidad de imágenes de sección superior, la superficie superior de la primera sección (S1) fotografiada por la primera cámara superior (121) se denomina una primera imagen de sección superior; la superficie superior de la segunda sección (S2) fotografiada por la segunda cámara superior (122) se denomina una segunda imagen de sección superior; y la superficie superior de la tercera sección (S3) fotografiada por la tercera cámara superior (123) se denomina una tercera imagen de sección superior.
[0049] A continuación, en este ejemplo, para la pluralidad de imágenes de sección inferior, la superficie inferior de la primera sección (S1) fotografiada por la primera cámara inferior (126) se denomina una primera imagen de sección inferior; la superficie inferior de la segunda sección (S2) fotografiada por la segunda cámara inferior (127) se denomina una segunda imagen de sección inferior; y la superficie inferior de la tercera sección (S3) fotografiada por la tercera cámara inferior (128) se denomina una tercera imagen de sección inferior.
[0050] En la parte de lectura de imágenes (129), la información de posición para cada imagen de sección fotografiada por cada cámara se establece según la posición de instalación de la camera y, cuando se lee la imagen, se calcula la información de sección en la que existe la materia extraña, y la información de posición de la materia extraña se calcula basándose en la especificación de la sección de materia extraña. En este ejemplo, la sección donde existe una materia extraña entre la pluralidad de secciones (S1, S2, S3) del patrón de electrodo (P) se denomina una "sección de materia extraña".
[0051] La materia extraña presente en el patrón de electrodo (P) está sometida a limpieza en la parte de proceso de eliminación de materia extraña (130). La parte de proceso de eliminación de materia extraña (130) está instalada en la trayectoria de transporte de la película de electrodo, y pulveriza aire a la sección de materia extraña del patrón de electrodo (P) según la información de posición de materia extraña de la parte de lectura de imágenes (129) y, a continuación, aplica una presión de vacío a la misma, aspirando de este modo la materia extraña en la sección de materia extraña para eliminar la materia extraña del patrón de electrodo (P).
[0052] La parte de proceso de eliminación de materia extraña (130) comprende una parte de soplado de materia extraña (140) y una parte de succión de materia extraña.
[0053] La parte de soplado de materia extraña (140) pulveriza de manera intensiva aire a la sección de materia extraña del patrón de electrodo (P), y sopla la materia extraña en la sección de materia extraña. La parte de soplado de materia extraña (140) está instalada para estar orientada hacia las superficies superior e inferior de la película de electrodo.
[0054] En este ejemplo, por motivos de conveniencia de la explicación, la parte de soplado de materia extraña (140) instalada en la porción superior de la película de electrodo se denomina la parte de soplado superior (140a) y la parte de soplado de materia extraña (140) instalada en la porción inferior de la película de electrodo se denomina la parte de soplado inferior (140b). La parte de soplado superior (140a) y la parte de soplado inferior (140b) tienen la misma estructura y método de funcionamiento excepto solo por las posiciones de instalación distintas entre sí, de tal manera que, con el fin de evitar la repetición de la descripción, se describirá a continuación la parte de soplado superior (140a).
[0055] Haciendo referencia a la figura 5, la parte de soplado superior (140a) comprende un cuerpo de soplado (141a) y una parte de control de aire (144). El cuerpo de soplado (141a) está dotado de un orificio de inyección de aire (142a) y una pluralidad de orificios de aire (143a~143i).
[0056] El orificio de inyección de aire (142a) es una abertura a través de la cual el aire suministrado desde la parte de control de aire (144) está inyectado hacia el patrón de electrodo (P). El orificio de inyección de aire (142a) está proporcionado en la superficie orientada hacia el patrón de electrodo (P). El orificio de inyección de aire (142a) está proporcionado para ser mayor que el área del patrón de electrodo (P).
[0057] La pluralidad de orificios de aire (143a~143i) está dispuesta en una línea a lo largo de la dirección de anchura (W) de la película de electrodo. La pluralidad de orificios de aire (143a~143i) está dispuesta en el cuerpo de soplado (141a) para estar comunicada con el orificio de inyección de aire (142a).
[0058] La pluralidad de orificios de aire (143a~143i) está dispuesta al menos tres para cada sección (S1, S2, S3), de tal manera que la intensidad del aire inyectado para cada sección (S1, S2, S3) a través del número de apertura de orificios de aire puede ajustarse a fuerte/media/débil.
[0059] En este ejemplo, por motivos de conveniencia de la explicación, la pluralidad de orificios de aire de la parte de soplado superior (140a) y la parte de soplado inferior (140b) están divididos y denominados primeros orificios de aire (143a, 143a1) a novenos orificios de aire (143i, 143i1) según el orden de disposición en la dirección de anchura (W) de la película de electrodo.
[0060] Los primeros orificios de aire (143a, 143a1) a los novenos orificios de aire (143i, 143i1) están asignados para cada sección (S1, S2, S3) del patrón de electrodo (P) según el orden de disposición en la dirección de anchura (W) de la película de electrodo. Por ejemplo, cuando el patrón de electrodo (P) está dividido en tres secciones, los primeros orificios de aire (143a, 143a1) a los terceros orificios de aire (143c, 143c1); los cuartos orificios de aire (143d, 143d1) a los sextos orificios de aire (143f, 143f1); y los séptimos orificios de aire (143g, 143g1) a los novenos orificios de aire (143i, 143i1) están asignados como orificios de aire para suministrar aire a la primera sección (S1) del patrón de electrodo (P); la segunda sección (S2) del patrón de electrodo (P); y la tercera sección (S3) del patrón de electrodo (P), respectivamente.
[0061] La parte de control de aire (144) ajusta la apertura y cierre de cada orificio de aire, pero abre un orificio de aire que coincide con la información de posición de materia extraña de la parte de lectura de imágenes (129) y cierra un orificio de aire sin que coincida con la información de posición de materia extraña. La parte de control de aire (144) puede ajustar el caudal de aire inyectado en la sección de materia extraña mediante la apertura y cierre de al menos tres orificios de aire asignados para cada sección (S1, S2, S3).
[0062] El aire introducido a través del orificio de suministro de aire (144j) fluye al cuerpo de soplado (141a) a través del orificio de aire abierto, y está pulverizado en el patrón de electrodo (P) a través del orificio de inyección de aire (142a).
[0063] A través de la apertura y cierre selectivos de la pluralidad de orificios de aire (143a~143i) por la parte de control de aire (144), la presente invención también puede pulverizar aire a toda el área de la sección seleccionada como la sección de materia extraña, pero puede pulverizar de manera intensiva aire a la misma especificando la posición donde existe la materia extraña entre las secciones de materia extraña.
[0064] La parte de succión de materia extraña (150) está instalada en paralelo con la parte de soplado de materia extraña (140). La parte de succión de materia extraña (150) aplica una presión de vacío al patrón de electrodo (P) según la información de posición de materia extraña de la parte de lectura de imágenes (129) y aspira la materia extraña soplada desde el patrón de electrodo (P) por la parte de soplado de materia extraña (140), eliminando de este modo la materia extraña del patrón de electrodo (P).
[0065] La parte de succión de materia extraña (150) está instalada para estar orientada hacia las superficies superior e inferior de la película de electrodo (F2). Por consiguiente, en este ejemplo, por motivos de conveniencia de la explicación, la parte de succión de materia extraña (150) instalada en la porción superior de la película de electrodo se denomina una parte de succión superior (150a), y la parte de succión de materia extraña (150) instalada en la porción inferior de la película de electrodo se denomina una parte de succión inferior (150b). La parte de succión superior (150a) y la parte de succión inferior (150b) tienen la misma estructura y método de funcionamiento excepto por solo las posiciones de instalación distintas entre sí, de tal manera que, con el fin de evitar la repetición de la descripción, se describirá a continuación la parte de succión superior (150a).
[0066] Haciendo referencia a la figura 5, la parte de succión superior (150a) comprende un cuerpo de succión (151a) y una parte de control de presión de vacío (154). El cuerpo de succión (151a) está provisto de un orificio de succión principal (152a) y una pluralidad de orificios de subsucción (153a-153i).
[0067] El orificio de succión principal (152a) es una abertura a través de la cual la presión de vacío suministrada a la parte de control de presión de vacío (154) se suministra hacia el patrón de electrodo (P). El orificio de succión principal (152a) está proporcionado en la superficie orientada hacia el patrón de electrodo (P). El orificio de succión principal (152a) está proporcionado para ser mayor que el área del patrón de electrodo (P).
[0068] La pluralidad de orificios de subsucción (153a~153i) está dispuesta en una línea a lo largo de la dirección de anchura (W) de la película de electrodo. La pluralidad de orificios de subsucción (153a~153i) está dispuesta en el cuerpo de succión (151a) para estar comunicada con el orificio de succión principal (152a). La pluralidad de orificios de subsucción (153a~153i) está dispuesta al menos tres para cada sección (S1, S2, S3), de tal manera que la intensidad de la presión de vacío aplicada a cada sección (S1, S2, S3) a través del número de apertura de orificios de subsucción puede ajustarse a fuerte/media/débil.
[0069] La parte de control de presión de vacío (154) ajusta la apertura y cierre de cada orificio de subsucción, pero abre un orificio de subsucción que coincide con la información de posición de materia extraña de la parte de lectura de imágenes (129) y cierra un orificio de subsucción sin que coincida con la información de posición de materia extraña. La parte de control de presión de vacío (154) puede ajustar la intensidad de la presión de vacío suministrada a la sección de materia extraña mediante la apertura y cierre de al menos tres orificios de subsucción asignados para cada sección (S1, S2, S3).
[0070] La presión de vacío fluye al cuerpo de succión (151a) mediante el orificio de suministro de presión de vacío (154j) y el orificio de subsucción abierto, que está suministrado al patrón de electrodo (P) mediante el orificio de succión principal (152a). La presión de vacío no está aplicada a toda el área del patrón de electrodo (P), pero está aplicada de manera limitada a la porción seleccionada como la sección de materia extraña y/o la posición de materia extraña. Cuando la succión de la materia extraña en el cuerpo de succión (151a) está completa por la presión de vacío, la parte de control de presión de vacío (154) libera la presión de vacío aplicada al orificio de succión principal (152a). En este ejemplo, por motivos de conveniencia de la explicación, la pluralidad de orificios de subsucción de la parte de succión superior (150a) y la parte de succión inferior (150b) están divididos y denominados primeros orificios de succión (153a, 153a1) a novenos orificios de succión (153i, 153i1) según el orden de disposición en la dirección de anchura (W) de la película de electrodo.
[0071] Los primeros orificios de succión (153a, 153a1) a los novenos orificios de succión (153i, 153i1) están asignados para cada sección (S1, S2, S3) del patrón de electrodo (P) según el orden de disposición en la dirección de anchura (W) de la película de electrodo. Por ejemplo, cuando el patrón de electrodo (P) está dividido en tres secciones, los primeros orificios de succión (153a, 153a1) a los terceros orificios de succión (153c, 153c1); los cuartos orificios de succión (153d, 153d1) a los sextos orificios de succión (153f, 153f1); y los séptimos orificios de succión (153g, 153g1) a los novenos orificios de succión (153i, 153i1) están asignados como orificios de subsucción para suministrar una presión de vacío a la primera sección (S1) del patrón de electrodo (P); la segunda sección (S2) del patrón de electrodo (P); y la tercera sección (S3) del patrón de electrodo (P), respectivamente.
[0072] A continuación en el presente documento, cuando una materia extraña está presente en el patrón de electrodo (P), se describirá un proceso de eliminación de la materia extraña con referencia a las figuras 9 a 12.
[0073] En el proceso de eliminación de materia extraña que se va a describir posteriormente, se asume que el patrón de electrodo (P) está fotografiado por una pluralidad de cámaras (121-123, 126-128) según el proceso descrito anteriormente y la posición de la materia extraña presente en el patrón de electrodo (P) se calcula a partir de una pluralidad de imágenes de sección superior y una pluralidad de imágenes de sección inferior como se fotografían. Por ejemplo, como se muestra en las figuras 9 y 10, cuando se unen materias extrañas a la superficie inferior y superficie superior del patrón de electrodo (P), las secciones de materia extraña se calculan como la superficie inferior de la primera sección (S1) del patrón de electrodo (P) y la superficie superior de la segunda sección (S2) por la parte de lectura de imágenes (129).
[0074] Cuando la materia extraña se distribuye sobre toda el área de la superficie inferior de la primera sección (S1), la parte de soplado inferior (140b) abre el primer orificio de aire (143a1) al tercer orificio de aire (143c1) correspondiente a la superficie inferior de la primera sección (S1), y cierra el cuarto orificio de aire (143d1) al noveno orificio de aire (143i1) asignado a las secciones restantes.
[0075] Por consiguiente, el aire fluye al orificio de inyección de aire (142b) a través del primer orificio de aire (143a1) al tercer orificio de aire (143c1), y se pulveriza a la superficie inferior de la primera sección (S1). La materia extraña presente en la superficie inferior de la primera sección (S1) se sopla por el aire y se elimina por la parte de succión inferior (150b).
[0076] Haciendo referencia a la figura 10, la parte de succión inferior (150b) aplica una presión de vacío al intervalo de inyección de aire de la parte de soplado inferior (140b) con el fin de eliminar materias extrañas en la superficie inferior de la primera sección (S1). Específicamente, la parte de succión inferior (150b) abre el primer orificio de succión (153a1) al tercer orificio de succión (153c1) correspondientemente a la superficie inferior de la primera sección (S1), y cierra el cuarto orificio de succión (153d1) al noveno orificio de succión (153i1) asignado a las secciones restantes. Por consiguiente, la presión de vacío fluye al orificio de succión principal (152b) a través del primer orificio de succión (153a1) al tercer orificio de succión (153c1), y está suministrada a la superficie inferior de la primera sección (S1). Las materias extrañas presentes en la superficie inferior de la primera sección (S1) se aspiran en el orificio de succión principal (152b) por la presión de vacío. Cuando se completa la succión de materia extraña, la parte de control de presión de vacío de la parte de succión inferior (150b) libera la aplicación de la presión de vacío a través del primer orificio de succión (153a1) al tercer orificio de succión (153c1).
[0077] Entretanto, como se muestra en la figura 9, cuando la materia extraña existe solo en el centro de la superficie superior de la segunda sección (S2), la parte de soplado superior (140a) abre solo el quinto orificio de aire (143e) para inyectar aire al centro de la segunda sección (S2), y cierra el resto de orificios de aire. Por consiguiente, el aire fluye al orificio de inyección de aire (142a) a través del quinto orificio de aire (143e) de la parte de soplado superior (140a), y se pulveriza sobre la superficie superior de la segunda sección (S2) para soplar la materia extraña. La materia extraña soplada de la superficie superior de la segunda sección (S2) se elimina del patrón de electrodo (P) mediante el funcionamiento de la parte de succión superior (150a).
[0078] La parte de succión superior (150a) abre solo el quinto orificio de succión (153e) y cierra el resto de orificios de subsucción para aplicar la presión de vacío solo al quinto orificio de succión (153e). La presión de vacío se suministra al orificio de succión principal (152a) a través del quinto orificio de succión (153e) para aspirar la materia extraña presente en el centro de la segunda sección (S2). La materia extraña se elimina del patrón de electrodo (P) mientras se aspira en el orificio de succión principal (152a) por la presión de vacío.
[0079] Como otro ejemplo, haciendo referencia a las figuras 11 y 12, cuando las materias extrañas se distribuyen en la segunda sección (S2) y la tercera sección (S3) en la superficie inferior del patrón de electrodo (P), el funcionamiento de la parte de proceso de eliminación de materia extraña (130) se explicará a continuación.
[0080] Como resultado de la lectura de la parte de lectura de imágenes (129), cuando no hay materia extraña en la superficie superior del patrón de electrodo (P), la parte de soplado superior (140a) y la parte de succión superior (150a) no se ponen en funcionamiento.
[0081] Como se muestra en la figura 11, cuando las materias extrañas se distribuyen sobre una porción de la superficie inferior de la segunda sección (S2) y la superficie inferior de la tercera sección (S3), la parte de soplado inferior (140b) abre de manera selectiva solo el sexto orificio de aire (143f1) al octavo orificio de aire (143h1) entre el cuarto orificio de aire (143d1) al noveno orificio de aire (143i1) asignados a la superficie inferior de la segunda sección (S2) y la superficie inferior de la tercera sección (S3) según la información de posición de materia extraña de la parte de lectura de imágenes (129), de tal manera que pueda pulverizar aire solo a las porciones donde las materias extrañas están presentes. Mediante el funcionamiento de la parte de soplado inferior (140b), las materias extrañas sopladas de la superficie inferior de la segunda sección (S2) y la superficie inferior de la tercera sección (S3) se retiran del patrón de electrodo (P) por la parte de succión inferior (150b).
[0082] Haciendo referencia a la figura 12, la parte de succión inferior (150b) abre solo el sexto orificio de succión (153f1) al octavo orificio de succión (153h1), y aplica la presión de vacío al orificio de succión principal (152b), aspirando de este modo las materias extrañas en la superficie inferior de la segunda sección (S2) y la superficie inferior de la tercera sección (S3).
[0083] De la manera anterior, la presente invención puede limpiar de manera intensiva solo porciones donde están presentes las materias extrañas aplicando una presión de vacío solo a las porciones donde están presentes las materias extrañas según la información de posición de materia extraña de la parte de lectura de imágenes (129) para aspirar las materias extrañas.
[0084] Por lo tanto, debe entenderse que los ejemplos descritos anteriormente son ilustrativos en todos los aspectos y no son restrictivos.
[0085] Aplicabilidad industrial
[0086] La presente invención puede mejorar una eficacia de eliminación de materia extraña de una película de electrodo confirmando la posición de la materia extraña unida a la película de electrodo antes de un proceso de eliminación de materia extraña y, a continuación, limpiando de manera intensiva la porción donde existe la materia extraña.

Claims (14)

1. REIVINDICACIONES
1. Un dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria, caracterizado por comprender:
una parte de confirmación de materia extraña dispuesta de modo que, en una trayectoria de transporte de una película de electrodo a través de un proceso de entallado, las superficies superior e inferior del patrón de electrodo entallado son fotografiadas, y una posición de una materia extraña presente en el patrón de electrodo es calculada basándose en la imagen fotografiada; y
una parte de proceso de eliminación de materia extraña (130) dispuesta de modo que el aire es pulverizado hacia la posición de la materia extraña y una presión de vacío es aplicada a la misma según la información de posición de materia extraña calculada por la parte de confirmación de materia extraña.
2. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 1, caracterizado por que la parte de confirmación de materia extraña comprende:
una pluralidad de cámaras superiores (121, 122, 123) dispuestas en una línea a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo por encima de la película de electrodo para fotografiar la superficie superior del patrón de electrodo para cada sección;
una pluralidad de cámaras inferiores (126, 127, 128) dispuestas en una línea a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo por debajo de la película de electrodo para fotografiar la superficie inferior del patrón de electrodo para cada sección; y
una parte de lectura de imágenes (120) para calcular la posición de la materia extraña basándose en una pluralidad de imágenes de sección superior y una pluralidad de imágenes de sección inferior que tienen información de posición para cada sección a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo.
3. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 2, en el que la parte de proceso de eliminación de materia extraña (130) está configurada para pulverizar el aire hacia cada sección de una superficie de la película de electrodo, pero se dispone que toda el área de la sección reciba pulverización o que solo reciba pulverización de manera intensiva un área predeterminada dentro de toda el área.
4. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 1, caracterizado por que la parte de proceso de eliminación de materia extraña (130) comprende: una parte de soplado de materia extraña (140) para pulverizar aire hacia la posición de la materia extraña según la información de posición de materia extraña de la parte de proceso de eliminación de materia extraña (130); y una parte de succión de materia extraña (150), que está instalada en la trayectoria de transporte de la película de electrodo, para aplicar una presión de vacío a la posición de la materia extraña basándose en la información de posición de materia extraña para aspirar la materia extraña soplada del patrón de electrodo.
5. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 4, caracterizado por que la parte de soplado de materia extraña (140) comprende:
un cuerpo de soplado (141a) provisto de un orificio de inyección de aire (142a) que está configurado para pulverizar aire en el mismo en la superficie orientada hacia el patrón de electrodo; y
una pluralidad de orificios de aire (143a-143i) proporcionados en el cuerpo de soplado (141a) y comunicados con el orificio de inyección de aire (142a), pero dispuestos en una línea a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo, en donde
la pluralidad de orificios de aire (143a-143i) está asignada para cada sección del patrón de electrodo según el orden de disposición en la dirección de anchura de la película de electrodo.
6. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 5, caracterizado por que la parte de soplado de materia extraña (140) comprende además una parte de control de aire (144), configurada para ajustar la apertura y cierre, pero para abrir un orificio de aire (143a-143i) que coincide con la información de posición de materia extraña, y para cerrar un orificio de aire (143a-143i) que no coincide con la información de posición de materia extraña.
7. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 6, caracterizado por que la pluralidad de orificios de aire (143a-143i) está dispuesta como pluralidad para cada sección, y la parte de control de aire (144) está configurada para ajustar el número de apertura de la pluralidad de orificios de aire (143a-143i) asignados para cada sección para ajustar el caudal de aire inyectada a la posición de la materia extraña.
8. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 7, caracterizado por que la pluralidad de orificios de aire (143a-143i) está dotada de al menos tres para cada sección, y la parte de control de aire (144) está configurada para ajustar el número de apertura de los orificios de aire (143a-143i) para ajustar la intensidad de caudal de aire a fuerte/media/débil.
9. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 5, caracterizado por que el orificio de inyección de aire (142a) es una abertura mayor que el área del patrón de electrodo.
10. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 4, caracterizado por que la parte de succión de materia extraña (150) comprende:
un cuerpo de succión (151a) provisto de un orificio de succión principal en la superficie orientada hacia el patrón de electrodo; y una pluralidad de orificios de subsucción (153a-153i) dispuesta en el cuerpo de succión (151a), y comunicados con el orificio de succión principal, pero dispuestos en una línea a lo largo de la dirección de anchura de la película de electrodo, en donde
la pluralidad de orificios de subsucción (153a-153i) está asignada para cada sección del patrón de electrodo según el orden de disposición en la dirección de anchura de la película de electrodo.
11. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 10, caracterizado por que la parte de succión de materia extraña (150) comprende además una parte de control de presión de vacío (154), que está configurada para ajustar la apertura y cierre de cada orificio de subsucción (153a-153i), pero para abrir un orificio de subsucción (153a-153i) que coincide con la información de posición de materia extraña, y para cerrar un orificio de subsucción (153a-153i) sin que coincida con la información de posición de materia extraña.
12. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 11, caracterizado por que la pluralidad de orificios de subsucción (153a-153i) está dispuesta como pluralidad para cada sección, y la parte de control de presión de vacío (154) está configurada para ajustar el número de apertura de la pluralidad de orificios de subsucción (153a-153i) asignados para cada sección para ajustar la intensidad de la presión de vacío aplicada a la posición de la materia extraña.
13. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 12, caracterizado por que la pluralidad de orificios de subsucción (153a-153i) está provista de al menos tres para cada sección, y la parte de control de presión de vacío (154) está configurada para ajustar el número de apertura de los orificios de subsucción (153a-153i) para ajustar la intensidad de la presión de vacío a fuerte/media/débil.
14. El dispositivo de eliminación de materia extraña (100) para entallar una batería secundaria según la reivindicación 10, caracterizado por que el orificio de succión principal es una abertura mayor que el área del patrón de electrodo.
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