ES2883375T3 - Dispositivo para la fabricación estable de nanoagregados - Google Patents

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ES2883375T3 ES18382577T ES18382577T ES2883375T3 ES 2883375 T3 ES2883375 T3 ES 2883375T3 ES 18382577 T ES18382577 T ES 18382577T ES 18382577 T ES18382577 T ES 18382577T ES 2883375 T3 ES2883375 T3 ES 2883375T3
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Abstract

Un dispositivo de pulverización catódica por magnetrón para la generación de nanoagregados que comprende: a) una primera cámara (1) dispuesta para la generación de nanoagregados que trabaja bajo condiciones de alto o ultra-alto vacío y que comprende - al menos un magnetrón (3), dicho magnetrón (3) comprendiendo · un blanco (2) que está realizado de cualquier elemento que sea compatible con alto o ultra-alto vacío y cualquier combinación de los mismos, en donde el blanco (2) tiene un diámetro de entre 2,54 cm a 30,48 cm; · una disposición de imanes; y · al menos una primera fuente (4) de gas, dispuesta para suministrar gas de pulverización catódica seleccionado de entre N2, Ar, He, Ne, Kr, Xe, Ra, O2 y cualquier combinación de los mismos; - al menos una fuente (7) de gas secundario dispuesta para suministrar un segundo gas; en donde la primera cámara tiene un primer eje "a" y un segundo eje "b", siendo el primer eje mayor que el segundo eje; dicho dispositivo caracterizado por que el magnetrón (3) es un magnetrón de erosión completa de cara; el segundo gas se selecciona de entre O2, N2, H2O, metanol, aire y cualquier combinación de los mismos; y comprendiendo la disposición de imanes: - un anillo magnético estacionario con polaridad Norte o Sur en la dirección del eje central del anillo magnético; y - un disco magnético rotacional que comprende un área descentrada con polaridad inversa a la polaridad del anillo magnético estacionario; en donde el anillo magnético estacionario es concéntrico con respecto al disco magnético rotacional; y en donde el disco magnético rotacional gira mediante un motor; - dicho anillo magnético estacionario tiene un diámetro de entre 2,54 cm a 30,48 cm; - dicho disco magnético rotacional tiene un diámetro de entre 1,27 cm y 27,94 cm.

Description

DESCRIPCIÓN
Dispositivo para la fabricación estable de nanoagregados
La invención hace referencia a un dispositivo de pulverización catódica por magnetrón para la generación y deposición de nanoagregados y nanopartículas, y más en particular, a un dispositivo de pulverización catódica con magnetrón en donde el magnetrón es un magnetrón de erosión completa de cara. La combinación de un magnetrón de erosión completa de cara con una fuente de agregación de gas permite la generación de un haz de nanoagregados o nanopartículas estable en el tiempo, y produce una mejora del uso de la superficie del blanco en más del 100%. Además, la inyección de gases, aparte del gas de pulverización, aumenta tanto la estabilidad como la velocidad de producción del flujo de nanopartículas. La invención puede incluirse en el campo de la nanotecnología y la nano-síntesis química.
Antecedentes de la técnica
Existe un interés creciente en la generación de nanpartículas (NPs) o nanoagregados, no solamente debido a sus propiedades específicas en relación con su tamaño, sino también debido a que son bloques de construcción prometedores para materiales más complejos en nanotecnología.
La producción de nanoagregados por síntesis en fase gaseosa ha sido desarrollada y ampliamente utilizada en los años 80 y 90 por parte de grupos interesados en el estudio de sus propiedades y su interacción con las superficies. Con la llegada de la nanotecnología, la tecnología de síntesis en fase gaseosa ha evolucionado hacia la fabricación de nanoagregados bien controlados. Todas las variantes de la tecnología se basan en la automatización de un material, seguido de la coalescencia controlada de los átomos que se recolectan en los nanoagregados.
La tecnología de pulverización catódica, especialmente la pulverización catódica por magnetrón plano, es ampliamente utilizada en la generación de nanoagregados y en el proceso de deposición de dichos nanoagregados, debido a la alta velocidad y al amplia área de deposición. Sin embargo, el plasma de descarga del magnetrón no es uniforme, de manera que la utilización total del blanco es únicamente de aproximadamente 10% (para alcanzar 10%, se utilizan ambas caras del blanco ya que cada cara permite el uso únicamente del 5%. Esto significa que el sistema que consiste en un recipiente de vacío o ultra alto vacío, necesita estar expuesto al aire para el volteo del blanco) para la pulverización catódica por magnetrón plano convencional, en general debido a la erosión en forma de ranura estrecha y profunda en el blanco, que se conoce como “racetrack”, que se produce en el blanco como resultado de un campo magnético localizado y a continuación la distribución del plasma sobre la superficie del blanco. Esta erosión se considera una seria desventaja de la pulverización catódica por magnetrón debido a que degrada la vida útil del blanco para la generación de las NPs en fase gaseosa.
En una solicitud de patente europea anterior [EP3006594 A1 (Japan Science & Tech agency; Ayabo Corp)] se divulga un aparato de nanoagregados que comprende, en una cámara de vacío, una fuente (un magnetrón) de pulverización catódica, un primer dispositivo de suministro de gas inerte, un segundo dispositivo de gas inerte, un blanco, una disposición de imanes y un incremento de la longitud del espacio de la cámara que es mayor que el diámetro interno de la celda. Este es un dispositivo común en el que se produce la “racetrack”.
En otra solicitud de patente europea anterior [EP0525295 A1 (LEYBOLD AG)] se divulga una disposición magnética para un dispositivo de magnetrón que comprende un imán anular exterior estacionario y unos imanes con polaridad opuesta en un disco rotatorio, para así conseguir la erosión completa de cara para mejorar la distribución del grosor de la capa sobre los sustratos a ser recubiertos mediante los cátodos convencionales en un cátodo de pulverización por magnetrón, de manera que el objeto de esta patente es tener un magnetrón de tipo FFE de tamaño estándar que evite, por ejemplo, tener más de un magnetrón FFE en la misma cámara de vacío y para el uso de blancos de tamaño estándar.
Además, una solicitud de patente de España anterior [ES2364773 A1 (CSIC)] divulga un magnetrón móvil, una segunda cámara y medios de disposición para mejorar las nanopartículas obtenidas por este magnetrón.
El cambio en el perfil de erosión del blanco es la fuente más común de inestabilidad y es importante afrontar este problema para acceder a una operación prolongada y una producción fiable de nanoagregados.
Por esta razón, el problema de dichos dispositivos de pulverización catódica son las inestabilidades durante tiempos de producción largos que deben ser abordadas para el escalado adicional y la producción en masa de nanoagregados y NPs con esta tecnología. En este sentido, la inyección de gases, aparte del gas de pulverización, aumenta tanto la estabilidad como la velocidad de producción del flujo de nanopartículas durante largos periodos de tiempo.
Resumen de la invención
La presente invención divulga un dispositivo novedoso para la producción de nanoagregados basada en la pulverización catódica por magnetrón, en donde dicho dispositivo comprende al menos un magnetrón de erosión completa de cara (FFE, por sus siglas en inglés). Dicho magnetrón FFE está dispuesto para evitar la aparición de un perfil de erosión localizado o “racetrack” en el blanco. El FFE se introduce en una zona de agregación, típica de las fuentes de agregación de gas. Además, la posibilidad de introducir uno o más de un FFE en una zona de agregación se debe a la miniaturización del FFE lograda en la presente invención.
Las nuevas características de la presente invención se basan en el reemplazo de un magnetrón estándar de 1" (2,54 cm) a 12" (30,48 cm) de diámetro por un magnetrón FFE de 1" (2,54 cm) a 12" (30,48 cm) de diámetro montado en una zona de agregación. El magnetrón puede situarse en diferentes posiciones en la zona de agregación de manera independiente. El magnetrón puede albergar un blanco de la pulverización catódica de cualquier material conductor, semiconductor o aislante que sea compatible con el vacío o el ultra-alto vacío. Los siguientes ejemplos de estos materiales ilustran la invención sin restringir el alcance a los mismos: Au, Ag, Pt, Fe, Co, Cu, C o sus aleaciones como materiales conductores; Si como material semiconductor o SiC como material aislante.
La inyección de gases adicionales, aparte del gas de pulverización catódica, incrementa la estabilidad y la velocidad de producción del flujo de nanopartículas durante los largos periodos de tiempo que permite el uso del FFE.
Las ventajas del dispositivo de la presente invención son:
- el consumo en peso del blanco utilizando un FFE como magnetrón es mayor con respecto al que se presenta mediante la pulverización catódica por magnetrón estándar, donde el volumen del blanco utilizado no es más del 5% (10% si el blanco se utiliza en ambas caras)
- el blanco utilizado en el magnetrón FFE ha sido sometido a la operativa durante más de 12 horas a una potencia media de 90 W sin la necesidad de ser intercambiado.
- la estabilidad del flujo de nanopartículas durante largos periodos de tiempo de trabajo debido a la inyección de gases secundarios mediante el efecto de enfriamiento y el efecto semilla.
Un primer aspecto de la presente invención hace referencia a un dispositivo de pulverización catódica por magnetrón para la generación de nanoagregados de acuerdo con la reivindicación 1.
El término “nanoagregado” hace referencia a cualquier agregado de nanopartículas y/o a cualquier nanopartícula con un tamaño medio de entre 0,5 nm y 1 pm.
El término “blanco” hace referencia a cualquier material conductor, semiconductor o aislante que sea compatible con ultra-alto o alto vacío y que dichos materiales puedan albergarse en un magentrón. Los siguientes ejemplos de estos materiales ilustran la invención sin restringir el alcance a los mismos: Au, Ag, Pt, Fe, Co, Cu, C o sus aleaciones como materiales conductores; Si como material semiconductor o SiC como material aislante. El término “alto vacío o HV” hace referencia, pero no se limita en el presente documento, a cualquier presión caracterizada por presiones entre 10' 7 Pa y 10' 4 Pa.
El término “ultra-alto vacío o UHV” hace referencia pero no se limita en el presente documento, a cualquier presión caracterizada por presiones inferiores a aproximadamente 10' 7 Pa.
El término “gas de enfriamiento o gas que produce un efecto de enfriamiento” hace referencia a cualquier gas que pueda absorber un exceso de energía o de calor. En la presente invención se proporciona uno de los siguientes gases: O2 , N2 , H2O, metanol, aire y cualquier combinación de los mismos.
El término “gas semilla” o gas que produce un efecto semilla” hace referencia a cualquier gas que puede actuar como punto de nucleación para la coalescencia de átomos o iones. En la presente invención se proporciona uno de los siguientes gases: O2 , N2 , H2O, metanol, aire y cualquier combinación de los mismos.
El término “magnetrón de erosión completa de cara o magnetrón FFE” hace referencia a cualquier magnetrón dispuesto para el movimiento de los imanes para barrer el plasma sobre la totalidad de la superficie del blanco, lo que genera una erosión homogénea del blanco. Esto se logra mediante la combinación de un anillo magnético estacionario con un disco magnético rotacional.
La modificación de las dimensiones del magnetrón de erosión completa de cara permite su introducción en recipientes de vacío o ultra-alto vacío con diferentes aberturas y tamaños. En el caso de la reducción del tamaño del magnetrón de erosión completa de cara, se reducen todas las piezas (imanes, materiales cerámicos, tubos de agua, conexiones eléctricas). Estas reducciones en el tamaño de las piezas se realizan mediante un diseño cuidadoso de las piezas, de tal manera que se adapten sus funcionalidades (capacidad de intensidad magnética, enfriamiento, aislamiento y conducción). En particular se requiere un modelado magnético para lograr el campo magnético óptimo en la superficie del blanco para generar el plasma requerido para la generación de nanoagregados.
Por tanto, en una realización preferida del dispositivo de pulverización catódica por magnetrón, el anillo magnético estacionario presenta un diámetro de entre 2" (5,08 cm) y 10" (25,4 cm), y el disco magnético rotacional que tiene la polaridad inversa del anillo magnético estacionario presenta un diámetro de entre 1" (2,54 cm) y 9" (22,86 cm), y en donde el blanco presenta un diámetro de entre 2" (5,08 cm) y 10" (25,4 cm).
En otra realización del dispositivo de pulverización catódica por magnetrón, la primera cámara comprende uno o más de un magnetrón.
En otra realización del dispositivo de pulverización catódica por magnetrón de la presente invención el magnetrón está dispuesto para moverse hacia el eje “a” de la primera cámara.
En otra realización el dispositivo de pulverización catódica por magnetrón de la presente invención además comprende al menos una segunda cámara.
En una realización preferida del dispositivo de pulverización catódica por magnetrón, la segunda cámara de dicho dispositivo de pulverización catódica por magnetrón comprende un medio de deposición o análisis o manipulación de nanoagregados que trabaja bajo alto o ultra-alto vacío. En una realización de mayor preferencia, el sustrato sobre el que se depositan los nanoagregados se selecciona de entre una oblea de Si, rejillas de microscopía electrónica de transmisión, sustratos de grafito, poliméricos, metálicos y semiconductores y cualquier combinación de los mismos, y la segunda cámara está dispuesta para la sustitución del sustrato.
En otra realización del dispositivo de pulverización catódica por magnetrón, la segunda cámara comprende unos medios de análisis de nanoagregados que trabajan bajo alto o ultra-alto vacío. En una realización preferida los medios de análisis se seleccionan de entre un espectrómetro de masas, exposición a infrarrojos, espectroscopia fotoelectrónica por rayos X (XPS), espectroscopia fotoelectrónica ultravioleta (UPS), Espectroscopia electrónica Auger (AES) espectroscopia de dispersión de iones de baja energía (LEIS), espectroscopia de desorción térmica y cualquier combinación de los mismos.
En otra realización del dispositivo de pulverización catódica por magnetrón, la segunda cámara comprende los medios de deposición y los medios de análisis descritos en el presente documento.
En otra realización el dispositivo de pulverización catódica por magnetrón de la presente invención comprende además medios de separación entre la primera y la segunda cámara, y medios de filtrado de los nanoagregados. En una realización de mayor preferencia del dispositivo de pulverización catódica por magnetrón, los medios de separación y filtración se seleccionan de entre un filtro de partículas electromagnético, horno, bobinas deflectoras, lente de enfoque del haz, trampas iónicas, y cualquier combinación de los mismos.
A menos que se defina de otro modo, todos los términos técnicos y científicos utilizados en el presente documento tienen el mismo significado que el que se entiende comúnmente por parte de un experto habitual en la técnica a la que pertenece esta invención. A lo largo de la descripción y las reivindicaciones la palabra “comprende” y sus variaciones no pretenden excluir otras características técnicas, aditivos, componentes o etapas. Objetos, ventajas y características adicionales de la invención resultarán aparentes para los expertos en la técnica después del examen de la descripción o pueden aprenderse mediante práctica de la invención. Los siguientes ejemplos y dibujos se proporcionan a modo de ilustración y no pretenden ser limitativos de la presente invención, la cual se define por las reivindicaciones.
Breve descripción de los dibujos
Fig. 1. Comparación de la corriente de iones, en función del diámetro de las nanopartículas, generados en una fuente de fase gaseosa con un blanco plano y un blanco utilizado con una racetrack formada.
Fig. 2. Imágenes de la superficie de los blancos después de a) 5% de uso en un magnetrón estándar y b) más del 20% de uso en un magnetrón de erosión completa de cara; perfilometría de los blancos utilizados en c) un magnetrón estándar y d) un magnetrón FFE.
Fig.3. Comparación de la profundidad de perfiles representados en la Fig. 2c) y la Fig. 2d).
Fig. 4. Vista esquemática tanto del anillo magnético estacionario como del segundo disco magnético rotacional.
Fig. 5. Se muestra un esquema de un dispositivo de pulverización catódica por magnetrón, que comprende un FFE como magnetrón. (1) Primera cámara, denominada zona de agregación; (2) blanco; (3) magnetrón FFE; (4) entrada de gas; (5) segunda cámara; (6) sustrato; (7) entrada de gas; (8) conexión entre la primera y la segunda cámara. Fig. 6. Imágenes de microscopía de fuerza atómica (AMF, por sus siglas en inglés) de depósito de nanopartículas de Au sobre oblea de Si en a) ausencia y b) presencia de aire. c) y d) Perfiles de la imagen de AFM anterior.
Fig. 7. Los efectos de la adición de vapor de agua y metanol que tuvieron el uso de la combinación de FFE con la fuente de agregación para la fabricación de nanopartículas de oro.
Fig. 8. Comparación de las nanopartículas depositadas en condiciones de ausencia y presencia de metanol durante tiempos de operación cortos y largos.
Fig. 9. Imagen de microscopía electrónica de barrido (SEM) de nanopartículas de Au generadas con un FFE como magnetrón y una adición de metanol.
EJEMPLOS
Ejemplo 1 Evidencias del efecto perjudicial de la formación de “racetrack” y cómo evitarla con el FFE El efecto de la formación de racetrack en la velocidad de síntesis de nanopartículas de oro puede verse en la figura 1. Ambas curvas representan la evolución de la corriente de iones (que es proporcional al número de nanopartículas fabricadas) medida con un filtro de masa cuadripolo en el caso de un blanco nuevo y plano (curva superior), y para un blanco usado en el que la “racetrack” está bien formada (curva inferior). En ambos casos, todos los parámetros de operación se mantuvieron idénticos. Tal como puede observarse claramente, el blanco plano permite la producción de un haz de NPs más intenso que es de casi un orden de magnitud más intenso que para el blanco usado.
Sin embargo, debido al uso de un magnetrón FFE, el desgaste del blanco es mucho más uniforme (Figura 2), evitando la formación de una “racetrack” estrecha (Figura 3). De este modo, se evita la disminución del haz de NP descrita en la figura 1 con la formación de la racetrack, y se logra un uso de mayor duración del blanco.
Ejemplo 2 Efecto de la inclusión de gases adicionales
Se fabricaron nanopartículas de oro utilizando un magnetrón (3) FFE de 2" (5,08 cm) con una disposición de imanes representada en la figura 4. El magnetrón FFE se sitúa en la fuente de agregación de gas (Figura 5), es decir evitando, por lo tanto, la fuerte influencia de la formación de racetracks y su evolución en el tiempo. El blanco es un blanco (2) de oro de 5,08 cm que se encuentra fijado en el cabezal del magnetrón. La potencia aplicada fue de 90 W, el flujo de argón fue de 80 centímetros cúbicos estándar por minuto (sccm) y no se añadió helio mediante la primera fuente (4) de gas en la zona (1) de agregación.
En los estados iniciales se inyecta un segundo gas mediante la fuente (7) de gas secundario. Este segundo gas puede ser cualquier gas que pudiera ayudar en el proceso de fabricación en términos de estabilidad y velocidad de producción. Como ejemplo, la figura 6 presenta una comparación de un depósito de NP de Au fabricadas utilizando los mismos parámetros de trabajo, pero uno en ausencia y otro en presencia de un aporte de aire (0,1 sccm). Resulta evidente que la presencia de aire induce un incremento significativo tanto del tamaño de la NP como del número de NPs depositadas en el mismo tiempo de deposición.
Otros ejemplos se presentan en la figura 7, en la que se utilizan diferentes dosis de vapor de agua y metanol como segundo gas, donde el tamaño medio de nanopartícula se reduce drásticamente de aproximadamente 18 nm a un valor cercano a 8 nm (Figura 7a) con adición de agua. Ha de señalarse que el vapor de agua inyectado representa únicamente el 0,6% de los gases inyectados. A pesar una cantidad tan baja de vapor de agua, las nanopartículas depositadas en la oblea de silicio como sustrato (6) en la cámara (5) de deposición, tienen un tamaño de media que se reduce en un factor de aproximadamente 2.
Mientras que cantidades más elevadas de vapor de agua no modifican sustancialmente el tamaño medio de las nanopartículas, el efecto sobre la velocidad de deposición es muy importante ya que se incrementa en un factor de aproximadamente 15. Estos resultados muestran claramente que la presencia de pequeñas cantidades de moléculas de agua en el dispositivo tiene importantes efectos en la síntesis de nanopartículas de oro y se infiere que tales efectos podrían también ser cruciales en la síntesis de nanopartículas de otros metales. Inversamente, la disminución progresiva de la concentración de moléculas de agua en el vacío residual que tendrá lugar en el tiempo, a medida que las bombas de vacío retiran de forma continua las moléculas de agua del recipiente de vacío, podría explicar la disminución de la velocidad de deposición de NPs en el tiempo observada experimentalmente.
La adición de metanol también tiene un papel crucial en el proceso de fabricación. La evolución de la figura 6b evidencia que se obtiene una mayor velocidad de deposición con la adición de metanol, en comparación con la ausencia de metanol. Sin embargo, existe un máximo a 0,2 sccm y la velocidad de deposición disminuye para dosis más altas.
Ejemplo 3 Comparativa de nanopartículas generadas para un modo operativo a largo plazo de un dispositivo de pulverización catódica por magnetrón que comprende un FFE, con las nanopartículas generadas con un dispositivo de pulverización catódica por magnetrón que comprende un FFE en presencia de un segundo gas.
El efecto de la presencia de un segundo gas para una operación de largo plazo se representa en la figura 8. Para periodos operativos cortos (es decir, 4 min pre-pulverización catódica, imágenes superiores Fig. 8) se observaron velocidades de deposición similares para ambos depósitos, en ausencia (Fig. 8a) y en presencia de 0,1 sccm CH3OH (Fig. 8b) en términos de NPs/pm2 s. La única diferencia significativa es el incremento en el tamaño de la NP en presencia de CH3OH. Sin embargo, para periodos largos de deposición (es decir: 64 min pre-pulverización catódica, imágenes inferiores Fig. 8) existe una diferencia significativa cuando se añade CH3OH. Mientras que en ausencia de CH3OH (Fig. 8c) disminuye la velocidad de producción de NP a un 13% de su valor inicial, la presencia de CH3OH a 0,1 sccm (Fig. 8d) durante la fabricación permite mantener más del 90% de su valor inicial que se muestra en la imagen superior.
Para magnetrones estándar, en los que no es posible una operación de una duración tal como de 60 min, este efecto podría no ser tan importante como en el caso del uso de FFE, que permite un uso a largo plazo, y por lo tanto, este efecto es crucial para una operación de tiempos de larga duración.
Como ejemplo de lo mencionado, la figura 9 presenta imágenes de columnas de nanopartículas que utilizan el FFE y CH3OH a 0,2 sccm. Estas columnas en forma de coral de 600 nm de altura se depositaron a un ángulo de incidencia rasante durante dos horas y media. No existen informes aún de estos tipos de estructuras que utilicen fuentes de agregación de gas de pulverización debido a las limitaciones inherentes en términos de estabilidad y eficiencia en el tiempo que han sido solucionadas con el dispositivo propuesto en el presente documento.

Claims (11)

REIVINDICACIONES
1. Un dispositivo de pulverización catódica por magnetrón para la generación de nanoagregados que comprende: a) una primera cámara (1) dispuesta para la generación de nanoagregados que trabaja bajo condiciones de alto o ultra-alto vacío y que comprende
- al menos un magnetrón (3), dicho magnetrón (3) comprendiendo
• un blanco (2) que está realizado de cualquier elemento que sea compatible con alto o ultra-alto vacío y cualquier combinación de los mismos, en donde el blanco (2) tiene un diámetro de entre 2,54 cm a 30,48 cm;
• una disposición de imanes; y
• al menos una primera fuente (4) de gas, dispuesta para suministrar gas de pulverización catódica seleccionado de entre N2 , Ar, He, Ne, Kr, Xe, Ra, O2 y cualquier combinación de los mismos; - al menos una fuente (7) de gas secundario dispuesta para suministrar un segundo gas; en donde la primera cámara tiene un primer eje “a” y un segundo eje “b”, siendo el primer eje mayor que el segundo eje; dicho dispositivo caracterizado por que el magnetrón (3) es un magnetrón de erosión completa de cara;
el segundo gas se selecciona de entre O2 , N2 , H2O, metanol, aire y cualquier combinación de los mismos; y comprendiendo la disposición de imanes:
- un anillo magnético estacionario con polaridad Norte o Sur en la dirección del eje central del anillo magnético; y
- un disco magnético rotacional que comprende un área descentrada con polaridad inversa a la polaridad del anillo magnético estacionario; en donde el anillo magnético estacionario es concéntrico con respecto al disco magnético rotacional; y en donde el disco magnético rotacional gira mediante un motor;
- dicho anillo magnético estacionario tiene un diámetro de entre 2,54 cm a 30,48 cm;
- dicho disco magnético rotacional tiene un diámetro de entre 1,27 cm y 27,94 cm.
2. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según la reivindicación 1, en donde el anillo magnético estacionario tiene un diámetro de entre 5,08 cm y 25,4 cm, y el disco magnético rotacional tiene un diámetro de entre 2,54 cm y 22,86 cm, y en donde el blanco tiene un diámetro de entre 5,08 cm y 25,4 cm.
3. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 2, en donde la primera cámara (1) comprende más de un magnetrón.
4. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en donde el magnetrón (3) está dispuesto para desplazarse hacia el eje “a” en la primera cámara (1).
5. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, que además comprende al menos una segunda cámara (5).
6. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según la reivindicación 5, en donde la segunda cámara (5) comprende medios (6) de deposición de nanoagregados que trabajan bajo alto o ultra-alto vacío.
7. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según la reivindicación 5, en donde la segunda cámara (5) comprende medios de análisis y manipulación de nanoagregados que trabajan bajo alto o ultra-alto vacío.
8. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según la reivindicación 7, en donde los medios de análisis se seleccionan de entre un espectrómetro de masas, exposición a infrarrojos, espectroscopia fotoelectrónica por rayos X (XPS), espectroscopia fotoelectrónica ultravioleta(UPS), Espectroscopia electrónica Auger (AES), espectroscopia de dispersión de iones de baja energía (LEIS), espectroscopia de desorción térmica y cualquier combinación de los mismos.
9. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según la reivindicación 5, en donde la segunda cámara (5) comprende los medios (6) de deposición según la reivindicación 6 y los medios de análisis y manipulación según las reivindicaciones 7 u 8.
10. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, que además comprende medios de separación entre la primera y la segunda cámara y medios de filtrado de los nanoagregados.
11. El dispositivo de pulverización catódica por magnetrón según la reivindicación 10, en donde los medios de separación y filtrado se seleccionan de entre un filtro de partículas electromagnético, horno, bobinas deflectoras, lente de enfoque del haz, trampas iónicas, y cualquier combinación de los mismos.
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