ES2644868T3 - Method for the production of tinplate and product produced with it - Google Patents
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Description
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DESCRIPCIONDESCRIPTION
Metodo para la produccion de hojalata y producto producido con elloMethod for the production of tinplate and product produced with it
La invencion se relaciona con un metodo para formar una capa de pasivacion sobre un artfculo que tiene al menos una superficie estanada que tiene una excelente resistencia a la tincion con azufre y a un artfculo producido por dicho metodo.The invention relates to a method for forming a passivation layer on an article that has at least one flattened surface that has excellent resistance to sulfur staining and an article produced by said method.
El estano se usa para proteger la base de acero contra la corrosion tanto externamente (condiciones aerobicas) como internamente cuando esta en contacto con alimentos (anaerobicos). Bajo las condiciones anaerobicas esperadas dentro de una lata de alimento procesado simple internamente, el estano se comportara normalmente como anodo de sacrificio, que se disuelve muy lentamente mientras protege la base de acero de la corrosion, y crea un ambiente reductor en la lata. Es este mecanismo que ha permitido a la lata de hojalata lisa mantener su larga historia y trayectoria probada de proporcionar alimentos saludables en una base de ano redondo y almacenamiento seguro durante largos penodos de tiempo.Tin is used to protect the steel base against corrosion both externally (aerobic conditions) and internally when in contact with food (anaerobic). Under the expected anaerobic conditions within a can of internally processed simple food, the tin will normally behave as a sacrificial anode, which dissolves very slowly while protecting the steel base from corrosion, and creates a reducing environment in the can. It is this mechanism that has allowed the smooth tin can to maintain its long history and proven track record of providing healthy food on a round anus base and secure storage for long periods of time.
Algunos alimentos, especialmente carne rica en protemas y pescado y, en menor medida, vegetales (por ejemplo guisantes, frijoles, mafz, etc.) contienen compuestos de azufre naturales. Estos pueden reaccionar con una superficie lisa de la hojalata para dar una tincion purpura-negra del sulfuro de estano. Aunque la mancha es inofensiva, puede servir para cambiar la pasivacion de la superficie de la hojalata, lo que, a su vez, podna alterar la rata de absorcion de estano. Aunque un aumento general en la pasivacion es mas probable que disminuya la absorcion de estano, las areas localizadas de tincion pueden tener un efecto perjudicial, especialmente si esta presente tambien un acelerador de la corrosion, tal como el oxfgeno. El grado de tincion con sulfuro tambien esta influenciado por el pH, el tiempo del procedimiento, y la temperatura y la presencia de ciertos cationes.Some foods, especially meat rich in protein and fish and, to a lesser extent, vegetables (for example peas, beans, corn, etc.) contain natural sulfur compounds. These can react with a smooth surface of the tin to give a purple-black stain of the tin sulfide. Although the stain is harmless, it can be used to change the passivation of the tin surface, which, in turn, could alter the rate of tin absorption. Although a general increase in passivation is more likely to decrease tin absorption, localized areas of staining can have a detrimental effect, especially if a corrosion accelerator, such as oxygen, is also present. The degree of sulfide staining is also influenced by the pH, the time of the procedure, and the temperature and the presence of certain cations.
La pasivacion se refiere al tratamiento qrnmico aplicado despues de la deposicion de estano que estabiliza las caractensticas superficiales de la hojalata mediante el control de la formacion y crecimiento del oxido de estano. Los tratamientos de pasivacion pueden ser electroqmmicos o qmmicos. Los tratamientos electroqmmicos implican el uso de una corriente electrica externa. En la actualidad, los tratamientos de dicromato catodico (CDC) se aplican generalmente. Un tratamiento de CDC es un tratamiento de pasivacion electroqmmica. Los cromatos estan basados en cromo hexavalente y actualmente se consideran sustancias peligrosas potencialmente daninas para el medio ambiente y un riesgo en terminos de seguridad del trabajador. En consecuencia, se estan realizando intensos esfuerzos de investigacion para desarrollar tratamientos de pasivacion libres de cromo hexavalente, tambien denotados como tratamientos de pasivacion libre de Cr(VI).Passivation refers to the chemical treatment applied after the deposition of tin which stabilizes the surface characteristics of the tin by controlling the formation and growth of tin oxide. Passivation treatments can be electrochemical or chemical. Electrochemical treatments involve the use of an external electric current. At present, cathode dichromate (CDC) treatments are generally applied. A CDC treatment is an electrochemical passivation treatment. The chromates are based on hexavalent chromium and are currently considered hazardous substances potentially harmful to the environment and a risk in terms of worker safety. Consequently, intensive research efforts are underway to develop passivation treatments free of hexavalent chromium, also denoted as Cr (VI) free passivation treatments.
Los desarrollos recientes de los tratamientos de pasivacion libre de Cr(VI) han dado lugar a una atencion renovada para combatir la tincion con sulfuro debido a que estas nuevas alternativas desarrolladas para los tratamientos de dicromato catodico luchan para ofrecer el mismo rendimiento en terminos de resistencia a la tincion con sulfuros.Recent developments in Cr (VI) free passivation treatments have resulted in renewed attention to combat sulfide staining because these new alternatives developed for cathode dichromate treatments struggle to offer the same performance in terms of resistance to staining with sulfides.
El metodo mas comun para mejorar la resistencia a la tincion con sulfuro de hojalata pasivada libre de Cr(VI) es aumentar el espesor de la propia capa de pasivacion (por ejemplo, usando condiciones de procedimiento que conducen a pelfculas humedas aplicadas mas gruesas, o usando soluciones de tratamiento mas concentradas, o empleando un tiempo de tratamiento mas largo, etc.). Esto conduce a propiedades de barrera mejoradas, suprimiendo asf la formacion de manchas de sulfuro. Sin embargo, las capas de pasivacion son mecanicamente debiles y el riesgo de fallo cohesivo dentro de la capa de pasivacion aumenta con el espesor. El fallo cohesivo de la capa de pasivacion (en particular durante la deformacion pesada que se encuentra en, por ejemplo, fabricacion de latas) conduce a la perdida de adherencia y delaminacion de recubrimientos organicos que se aplican sobre la capa de pasivacion.The most common method to improve resistance to staining with Cr (VI) free passivated tin sulphide is to increase the thickness of the passivation layer itself (for example, using procedural conditions that lead to thicker applied wet films, or using more concentrated treatment solutions, or using a longer treatment time, etc.). This leads to improved barrier properties, thus suppressing the formation of sulfur stains. However, the passivation layers are mechanically weak and the risk of cohesive failure within the passivation layer increases with thickness. The cohesive failure of the passivation layer (in particular during the heavy deformation found in, for example, manufacture of cans) leads to the loss of adhesion and delamination of organic coatings that are applied on the passivation layer.
El documento WO2012097926 divulga un metodo para pasivar electroltticamente la hojalata mediante polarizacion anodica en un electrolito acuoso alcalino que comprende un silicato soluble en agua de composicion M2O.nSiO2, en el que M es un ion de metal alcalino o un ion de amonio cuaternario y n es un numero natural entre 0.8 y 7.WO2012097926 discloses a method for electrically passivating the tin by anodic polarization in an alkaline aqueous electrolyte comprising a water soluble silicate of composition M2O.nSiO2, in which M is an alkali metal ion or a quaternary ammonium ion and n is a natural number between 0.8 and 7.
El documento US3616307 divulga un metodo de anodizacion de un artfculo ferroso recubierto con estano sometiendo el artfculo como anodo a una electrolisis en un electrolito acuoso que comprende una solucion de fosfato en la que el radical fosfato esta presente en una cantidad entre 2 y 90 g/l y un hipofosfito en cuyo radical hipofosfito esta presente en una cantidad entre 0.5 y 50 g/l a una densidad de corriente de 8 a 100 asf (86 a 1076 A/m2). La capa de oxido de estano tiene que estar recubierta adicionalmente con una fina pelfcula de agente de liberacion y cocida a 450 °F (232 °C) durante 2 horas para curar el agente de liberacion y estabilizar la pelfcula de oxido.US3616307 discloses a method of anodizing a ferrous article coated with tin by subjecting the article as an anode to an electrolysis in an aqueous electrolyte comprising a phosphate solution in which the phosphate radical is present in an amount between 2 and 90 g / Ly and a hypophosphite in whose radical hypophosphite is present in an amount between 0.5 and 50 g / l at a current density of 8 to 100 asf (86 to 1076 A / m2). The tin oxide layer must be additionally coated with a thin film of release agent and cooked at 450 ° F (232 ° C) for 2 hours to cure the release agent and stabilize the oxide film.
El documento US 2010/181201 divulga un electrolito para pasivar el acero estanado que consiste en una mezcla de acidos hidroxilo organicos y acidos organicos de fenol. El objetivo de la invencion es proporcionar un metodo para mejorar la resistencia a la tincion con sulfuro de la hojalata que ha sido pasivada usando sistemas de pasivacion libres de Cr(VI).US 2010/181201 discloses an electrolyte to passivate stained steel consisting of a mixture of organic hydroxyl acids and organic phenol acids. The aim of the invention is to provide a method for improving the tincture resistance with sulfide of the tin which has been passivated using Cr (VI) free passivation systems.
Otro objetivo de la invencion es proporcionar un metodo para mejorar la resistencia a la tincion con sulfuro de hojalata que ha sido pasivada que usa sistemas de pasivacion libres de Cr(VI) que pueden ser integrados en lmeas de estanado electrolfticas existentes.Another object of the invention is to provide a method for improving tincture resistance with tin sulphide that has been passivated using Cr (VI) free passivation systems that can be integrated into existing electrolytic standaline lines.
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Aun otro objetivo mas de la invencion es proporcionar un artfculo estanado que tiene una excelente resistencia a la tincion con sulfuro que sea al menos similar a la de un tratamiento de pasivacion de dicromato catodico.Yet another objective of the invention is to provide a standalone article that has excellent resistance to sulfide staining that is at least similar to that of a cathode dichromate passivation treatment.
Uno o mas de los objetivos de la invencion se alcanzan por un metodo de acuerdo con la reivindicacion 1. En las reivindicaciones dependientes se proporcionan realizaciones preferidas.One or more of the objects of the invention are achieved by a method according to claim 1. Preferred embodiments are provided in the dependent claims.
La invencion resuelve el problema de la pobre resistencia a la tincion con sulfuro de la hojalata sometiendo la hojalata a un tratamiento anodico en un electrolito acuoso adecuado que se lleva a cabo dentro de ciertos lfmites del tiempo de tratamiento, densidad de corriente y carga total pasada, con el fin de ser efectivo en lograr la resistencia a la tincion de azufre requerida. Una capa muy fina de oxido de estano sobre la superficie de la hojalata esta formada por el tratamiento anodico electroqmmico. Esta capa de oxido de estano proporciona la mejora de la resistencia a la tincion con sulfuro y junto con el posterior tratamiento de pasivacion qmmica libre de Cr(VI) proporciona una hojalata que entrega el mismo, o un mejor rendimiento que la conocida hojalata tratada con CDC.The invention solves the problem of poor tincture resistance with tin sulphide by subjecting the tin to an anodic treatment in a suitable aqueous electrolyte which is carried out within certain limits of the treatment time, current density and past total charge , in order to be effective in achieving the required sulfur staining resistance. A very thin layer of tin oxide on the surface of the tin is formed by the electrochemical anodic treatment. This layer of tin oxide provides the improvement of resistance to staining with sulphide and together with the subsequent chemical free passivation treatment of Cr (VI) provides a tin that delivers the same, or better performance than the known tin treated with CDC
Un elemento esencial de la invencion es el espesor de la capa de oxido de estano (D), que se expresa en Coulomb/m2 y representa la carga total necesaria para reducir la capa a estano metalico. El espesor de la capa de oxido de estano esta relacionado con el tiempo de tratamiento anodico (t) y la densidad de corriente (A) por D = E x A x t, donde E es la eficiencia de la reaccion electroqmmica, y en la que D es al menos 30 C/m2. La eficiencia representa, por lo tanto, la proporcion del espesor D de la capa de oxido producida a la densidad de carga aplicada (A x t), y puede estimarse representando D como una funcion de (A x t). Inicialmente, en valores de carga anodica pasados por debajo de 50 C/m2, la curva es mas o menos lineal, pero con el aumento de la carga anodica pasada, la eficiencia E disminuye lo que conduce a una velocidad de crecimiento mas lenta de la capa de oxido de estano, y por lo tanto un incremento mas lento en D. Si D <30 C/m2, entonces la capa de oxido de estano es demasiado fina y no es efectiva para conseguir la resistencia deseada de tincion con sulfuro. Por lo tanto, se requiere un espesor mmimo de 30 C/m2.An essential element of the invention is the thickness of the layer of tin oxide (D), which is expressed in Coulomb / m2 and represents the total load necessary to reduce the layer to metallic tin. The thickness of the tin oxide layer is related to the anodic treatment time (t) and the current density (A) by D = E x A xt, where E is the efficiency of the electrochemical reaction, and in which D is at least 30 C / m2. The efficiency therefore represents the proportion of the thickness D of the oxide layer produced at the applied charge density (A x t), and can be estimated by representing D as a function of (A x t). Initially, at values of anodic load passed below 50 C / m2, the curve is more or less linear, but with the increase in past anodic load, efficiency E decreases which leads to a slower growth rate of layer of tin oxide, and therefore a slower increase in D. If D <30 C / m2, then the layer of tin oxide is too thin and is not effective to achieve the desired sulfide staining resistance. Therefore, a minimum thickness of 30 C / m2 is required.
El espesor de la capa de oxido de estano se determina usando un metodo coulometrico. La capa de oxido de estano se reduce mediante una corriente catodica pequena controlada en una solucion al 0.1% de acido bromfndrico (HBr) que se libera del oxfgeno frotando con nitrogeno. El progreso de la reduccion del oxido se controla monitoreando el potencial de reduccion, y la carga pasada (A*t) para la reduccion completa sirve como una medida del espesor de la capa de oxido de estano. Para el ensayo, se usa una celda de electrolisis cilmdrica que tiene una abertura circular de aprox. 4 cm de diametro en un extremo. El otro extremo de la celula contiene un contraelectrodo de platino y un electrodo de referencia Ag/AgCl. El especimen de prueba cubre la abertura, que se sella usando un anillo en O para hacer una conexion a prueba de agua de area bien definida (13.69 cm2 en este caso), y se aprieta en su lugar usando un cilindro de presion de aire. La celda se conecta a la solucion electrolftica mediante un tubo flexible de modo que pueda llenarse y vaciarse bajo atmosfera de nitrogeno. Se aplica a la muestra una densidad de corriente catodica de -0.40 A/m2 que usa un potenciostato-galvanostato, y se mide el potencial hasta que se completa la reduccion. En la Fig. 1 se muestra una curva de tiempo potencial tfpica, a partir de la cual se determina el espesor de la capa de oxido de estano en base al punto de inflexion de la cafda potencial en el instante ti. El espesor D de la capa de oxido de estano, expresado en C/m2, se obtiene a partir de D [C/m2] = ti [s] * 0,4 [A/m2].The thickness of the tin oxide layer is determined using a coulometric method. The tin oxide layer is reduced by a small cathode current controlled in a 0.1% solution of bromfndric acid (HBr) that is released from oxygen by rubbing with nitrogen. The progress of the oxide reduction is monitored by monitoring the reduction potential, and the past charge (A * t) for the complete reduction serves as a measure of the thickness of the tin oxide layer. For the test, a cylindrical electrolysis cell having a circular opening of approx. 4 cm in diameter at one end. The other end of the cell contains a platinum counter electrode and an Ag / AgCl reference electrode. The test specimen covers the opening, which is sealed using an O-ring to make a waterproof connection of a well-defined area (13.69 cm2 in this case), and is tightened in place using an air pressure cylinder. The cell is connected to the electrolytic solution by a flexible tube so that it can be filled and emptied under a nitrogen atmosphere. A cathode current density of -0.40 A / m2 using a potentiostat-galvanostat is applied to the sample, and the potential is measured until the reduction is completed. A typical potential time curve is shown in Fig. 1, from which the thickness of the tin oxide layer is determined based on the inflection point of the potential coffee at the instant ti. The thickness D of the tin oxide layer, expressed in C / m2, is obtained from D [C / m2] = ti [s] * 0.4 [A / m2].
El unico proposito del electrolito es permitir el tratamiento anodico, no depositar especies extranas contenidas en el electrolito sobre la superficie del sustrato. El pH del electrolito puede no ser demasiado bajo, no inferior a pH = 8, de lo contrario la eficiencia de la reaccion electroqmmica se vuelve demasiado baja y entonces el procedimiento no puede ser incorporado en las lmeas de procedimiento de alta productividad existentes. Tambien, el pH del electrolito puede no ser demasiado alto, es decir, no mas alto que pH = 11.5 porque esto causara la disolucion de la capa de estano en el electrolito. Preferiblemente, el pH no es inferior a 8.5. Un valor de pH maximo adecuado es 11 o incluso 10.5.The only purpose of the electrolyte is to allow anodic treatment, not to deposit foreign species contained in the electrolyte on the surface of the substrate. The electrolyte pH may not be too low, not less than pH = 8, otherwise the efficiency of the electrochemical reaction becomes too low and then the process cannot be incorporated into the existing high productivity process lines. Also, the pH of the electrolyte may not be too high, that is, not higher than pH = 11.5 because this will cause the dissolution of the tin layer in the electrolyte. Preferably, the pH is not less than 8.5. A suitable maximum pH value is 11 or even 10.5.
De acuerdo con la invencion, el electrolito comprende cationes monoatomicos del Grupo 1 o 2 de la tabla periodica o cationes poliatomicos, y aniones poliatomicos. Los elementos del Grupo 1 y Grupo 2, de acuerdo con la nueva numeracion IUPAC, comprenden los metales alcalinos y los metales alcalinoterreos. Es importante que el electrolito no contenga aniones halogenos mono-atomicos (Grupo 17) tales como Cl-, F- porque estos aniones evitan que se forme la capa de oxido de estano.According to the invention, the electrolyte comprises monoatomic cations of Group 1 or 2 of the periodic table or polyatomic cations, and polyatomic anions. The elements of Group 1 and Group 2, according to the new IUPAC numbering, comprise alkali metals and alkaline earth metals. It is important that the electrolyte does not contain mono-atomic halogen anions (Group 17) such as Cl-, F- because these anions prevent the tin oxide layer from forming.
Despues del tratamiento anodico, el artfculo se enjuaga opcionalmente y se seca antes de pasarlo a la siguiente etapa, es decir, el tratamiento de pasivacion libre de Cr(VI). La necesidad de enjuagar la hojalata tratada anodicamente depende de la naturaleza exacta del sistema de pasivacion libre de Cr(VI), ciertos sistemas seran mas susceptibles que otros a la contaminacion del electrolito que esta presente en la superficie de la hojalata.After the anodic treatment, the article is optionally rinsed and dried before passing it to the next stage, that is, the Cr (VI) free passivation treatment. The need to rinse the anodically treated tin depends on the exact nature of the Cr (VI) free passivation system, certain systems will be more susceptible than others to the contamination of the electrolyte that is present on the surface of the tin.
Finalmente, el sistema de pasivacion libre de Cr(VI) se aplica a la superficie de hojalata tratada anodicamente mediante tecnicas de aplicacion que son comunes para tales sistemas de pasivacion. Las tecnicas de aplicacion adecuadas incluyen: inmersion, inmersion con rodillos de escurrimiento, aplicacion por atomizacion de rotor, aplicacion de atomizacion de rotor soportada por el uso de un rodillo de alisado, aplicacion por atomizacion, aplicacion por atomizacion de escurrimiento, aplicacion por medio de sistemas de recubrimiento de rodillo, aplicacion por recubrimiento de ranura, recubrimiento de cortina de ranura, etc. Despues del paso de pasivacion, la tira se seca y se pasa para los pasos finales de procesamiento tales como engrase, enrollado, corte, etc.Finally, the Cr (VI) free passivation system is applied to the tin surface treated anodically by application techniques that are common for such passivation systems. Suitable application techniques include: immersion, immersion with runoff rollers, application by rotor atomization, application of rotor atomization supported by the use of a smoothing roller, application by atomization, application by atomization of runoff, application by means of runoff atomization roller coating systems, slot coating application, slot curtain coating, etc. After the passivation step, the strip is dried and passed for the final processing steps such as greasing, rolling, cutting, etc.
El total D tal como se especifica anteriormente se puede conseguir por cualquier combinacion de A y t, pero una combinacion de una densidad de corriente elevada (A> 0.1 A/dm2, preferiblemente A> 1.0 A/dm2) en combinacion conThe total D as specified above can be achieved by any combination of A and t, but a combination of a high current density (A> 0.1 A / dm2, preferably A> 1.0 A / dm2) in combination with
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un tiempo de tratamiento corto (t <1 s) se prefiere en vista de su capacidad de procesamiento en una lmea de estano de alta velocidad. La intercambiabilidad de A y t en el tratamiento anodico, que se demuestra adicionalmente en el Ejemplo 1 y en las Figuras 2 y 3, implica que el procedimiento puede ser operado a tiempos de tratamiento cortos, ajustando la densidad de corriente aplicada en consecuencia. Por lo tanto, el metodo de acuerdo con la invencion se puede emplear en lmeas industriales de estanado que funcionan a velocidades lineales superiores de 300 m/min a velocidades de hasta 1000 m/min. Ademas, el tiempo de tratamiento t se determina no solo por la velocidad v de la lmea sino tambien por la longitud efectiva o la 'longitud del anodo' L de la seccion de tratamiento, de acuerdo con t = L/v, que indica que la ventana de procesamiento puede ser extendida adicionalmente por la eleccion apropiada de la longitud del anodo L. Por ejemplo, para depositar una capa que tenga un espesor de 50 C/m2 (asumiendo E = 1) sobre una lmea que funcione a 600 m/min (10 m/s), se requerira una densidad de corriente A de 1000 A/m2 y una longitud de tratamiento de 0.5 m. Tambien podna hacerse a una densidad de corriente de 100 A/m2 si la longitud del tratamiento es de 5 m. Esta flexibilidad de diseno y proceso es una gran ventaja de este metodo.a short treatment time (t <1 s) is preferred in view of its processing capacity in a high speed tin line. The interchangeability of A and t in the anodic treatment, which is further demonstrated in Example 1 and in Figures 2 and 3, implies that the procedure can be operated at short treatment times, adjusting the current density applied accordingly. Therefore, the method according to the invention can be used in industrial tinning lines operating at linear speeds greater than 300 m / min at speeds of up to 1000 m / min. In addition, the treatment time t is determined not only by the speed v of the line but also by the effective length or the 'length of the anode' L of the treatment section, according to t = L / v, which indicates that the processing window can be further extended by the appropriate choice of the length of anode L. For example, to deposit a layer having a thickness of 50 C / m2 (assuming E = 1) on a line operating at 600 m / min (10 m / s), a current density A of 1000 A / m2 and a treatment length of 0.5 m will be required. It could also be done at a current density of 100 A / m2 if the treatment length is 5 m. This design and process flexibility is a great advantage of this method.
En una realizacion de la invencion, el tratamiento anodico se lleva a cabo en lmea con o inmediatamente despues del tratamiento electrolttico y en el que el tiempo de tratamiento anodico (t) es como maximo 5 segundos, preferiblemente como maximo 2 segundos, mas preferiblemente entre 0.05 segundos y 1.5 segundos. Este intervalo y los intervalos mas preferibles son consistentes con lmeas de procesamiento de alta velocidad. En una realizacion, el tratamiento anodico se realiza en lmea con una lmea de estanado electrolttico industrial y en la que la densidad de corriente durante el tratamiento anodico (A) es al menos 10 A/m2, preferiblemente al menos 50 A/m2 y mas preferiblemente al menos 100 A m2, y/o como maximo 4000 A/m2, preferiblemente como maximo 2000 A/m2 o mas preferiblemente como maximo 1000 A/m2. Este intervalo y los intervalos mas preferibles son consistentes con lmeas de procesamiento de alta velocidad.In one embodiment of the invention, the anodic treatment is carried out in line with or immediately after the electrolytic treatment and in which the anodic treatment time (t) is at most 5 seconds, preferably at most 2 seconds, more preferably between 0.05 seconds and 1.5 seconds. This interval and the most preferable intervals are consistent with high speed processing lines. In one embodiment, the anodic treatment is performed on the line with an industrial electrolytic staining line and in which the current density during the anodic treatment (A) is at least 10 A / m2, preferably at least 50 A / m2 and more preferably at least 100 A m2, and / or at most 4000 A / m2, preferably at most 2000 A / m2 or more preferably at most 1000 A / m2. This interval and the most preferable intervals are consistent with high speed processing lines.
El electrolito que se va a emplear puede ser una solucion acuosa de un acido, una base o una sal. La funcion principal del electrolito es soportar la reaccion electroqmmica prevista por el tratamiento anodico mientras que las especies ionicas presentes en el electrolito no toman parte en la modificacion electroqmmica de la superficie de la hojalata. Aunque hay una libertad considerable en la seleccion de un electrolito adecuado, se deben evitar las siguientes especies ionicas:The electrolyte to be used may be an aqueous solution of an acid, a base or a salt. The main function of the electrolyte is to withstand the electrochemical reaction provided by the anodic treatment while the ionic species present in the electrolyte do not take part in the electrochemical modification of the tin surface. Although there is considerable freedom in the selection of a suitable electrolyte, the following ionic species should be avoided:
• aniones monoatomicos tales como fluoruros, cloruros, bromuros, etc., ya que estos son perjudiciales para formar una capa de oxido de estano adecuada• monoatomic anions such as fluorides, chlorides, bromides, etc., since these are harmful to form a suitable layer of tin oxide
• cationes o que contienen metales de transicion, metales de transicion y metales posteriores a la transicion; tales elementos tipicamente exhiben estados de valencia multiples y por lo tanto pueden participar facilmente en reacciones electroqmmicas, y pueden afectar negativamente a la estabilidad del electrolito formando sales insolubles con los aniones disponibles, o formando oxidos insolubles• cations or containing transition metals, transition metals and post transition metals; Such elements typically exhibit multiple valence states and therefore can easily participate in electrochemical reactions, and can negatively affect the stability of the electrolyte by forming insoluble salts with the available anions, or by forming insoluble oxides.
En base a las consideraciones anteriores, el electrolito preferido contiene cationes del Grupo 1 (por ejemplo Na+, K+) o Grupo 2 (por ejemplo Mg2+, Ca2+) de la Tabla Periodica o cationes poliatomicos (por ejemplo NH4+), y aniones poliatomicos (fosfatos, boratos, sulfatos, carbonatos y similares). Ademas, el anion puede ser la base conjugada de un acido organico (por ejemplo acetatos, citratos). Puesto que es importante que el pH se mantenga dentro de ciertos lfmites, podna usarse una solucion amortiguada. Ademas, el electrolito puede contener otros aditivos qmmicos, tales como tensioactivos, agentes humectantes, agentes antiespumantes, etc. para soportar el tratamiento electroqmmico, siempre que estos aditivos no afecten negativamente a la formacion del oxido de estano.Based on the above considerations, the preferred electrolyte contains cations of Group 1 (for example Na +, K +) or Group 2 (for example Mg2 +, Ca2 +) of the Periodic Table or polyatomic cations (for example NH4 +), and polyatomic anions (phosphates , borates, sulfates, carbonates and the like). In addition, the anion can be the conjugate base of an organic acid (for example acetates, citrates). Since it is important that the pH is maintained within certain limits, a buffered solution may be used. In addition, the electrolyte may contain other chemical additives, such as surfactants, wetting agents, antifoaming agents, etc. to withstand electrochemical treatment, provided that these additives do not adversely affect the formation of tin oxide.
El tratamiento anodico de la superficie estanada convierte la capa externa extrema de la superficie de estano del estano metalico en oxido de estano mediante oxidacion electroqmmica. La capa de oxido de estano producida como tal (dentro de un cierto intervalo de espesor) proporciona una barrera contra la tincion con sulfuro. Sin embargo, la capa de oxido de estano no es suficientemente estable y/o pasiva en sf misma y, durante un almacenamiento prolongado en condiciones ambientales y/o humedas, o durante tratamientos termicos tales como horneado y coccion, continuara creciendo hasta convertirse en una capa de oxido de estano mas gruesa con propiedades indeseables (mala humectabilidad, aspecto amarillento, mala adherencia a la laca).The anodic treatment of the tinned surface converts the outer outer layer of the tin surface of the metal tin into tin oxide by electrochemical oxidation. The tin oxide layer produced as such (within a certain thickness range) provides a barrier against sulfide staining. However, the tin oxide layer is not sufficiently stable and / or passive in itself and, during prolonged storage in environmental and / or humid conditions, or during thermal treatments such as baking and cooking, will continue to grow until it becomes a thicker tin oxide layer with undesirable properties (poor wettability, yellowish appearance, poor lacquer adhesion).
Si consideramos el sistema de pasivacion libre de Cr(VI) por sf mismo, normalmente proporcionara una capa de pasivacion estable que protege la hojalata contra el crecimiento incontrolado de oxidos de estano y ademas proporciona buena adhesion de revestimientos organicos. Sin embargo, la capa de pasivacion libre de Cr(Vl) en casi todos los casos investigados tiene una resistencia pobre frente a la tincion con sulfuro.If we consider the Cr (VI) free passivation system by itself, it will normally provide a stable passivation layer that protects the tin against uncontrolled growth of tin oxides and also provides good adhesion of organic coatings. However, the Cr (Vl) free passivation layer in almost all cases investigated has a poor resistance to sulfide staining.
Mediante la aplicacion de la presente invencion, se logra una combinacion favorable de propiedades. En primer lugar, se aplica una capa de oxido de estano del espesor correcto empleando el tratamiento anodico bajo condiciones de procedimientos adecuadas, y despues la capa de oxido de estano se pasiva y/o se estabiliza contra un crecimiento no controlado adicional, aplicando un sistema de pasivacion libre de Cr(VI) encima de este, mediante el uso de un metodo de aplicacion no electrolttico.Through the application of the present invention, a favorable combination of properties is achieved. First, a layer of tin oxide of the correct thickness is applied using anodic treatment under conditions of suitable procedures, and then the layer of tin oxide is passive and / or stabilized against further uncontrolled growth, applying a system of free passivation of Cr (VI) on top of this, through the use of a non-electrolytic application method.
El tratamiento anodico de la presente invencion debe tener lugar despues del enlatado y/o la fusion por flujo y antes de la aplicacion de un sistema de pasivacion libre de Cr(VI).The anodic treatment of the present invention should take place after canning and / or flow fusion and before the application of a Cr (VI) free passivation system.
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El sistema de pasivacion libre de Cr(VI) antes del cual se aplica el tratamiento anodico debe ser un tratamiento de pasivacion qmmica, preferiblemente un denominado procedimiento sin enjuagado, para la aplicacion de un sistema de pasivacion en seco sin enjuagado. No se espera que el pretratamiento anodico trabaje en combinacion con un sistema de pasivacion libre de Cr(VI) que se aplica por sf mismo electrolfticamente. En particular, no se espera que el pretratamiento anodico funcione en combinacion con un sistema de pasivacion libre de Cr(VI) que se aplica mediante un procedimiento electroqmmico catodico, puesto que tal procedimiento eliminara la capa de tratamiento anodico mediante reduccion electroqmmica.The Cr (VI) free passivation system before which the anodic treatment is applied must be a chemical passivation treatment, preferably a so-called non-rinsed procedure, for the application of a dry passivation system without rinsing. Anodic pretreatment is not expected to work in combination with a Cr (VI) free passivation system that applies itself electrolytically. In particular, the anodic pretreatment is not expected to work in combination with a Cr (VI) free passivation system that is applied by a cathode electrochemical procedure, since such a procedure will eliminate the anodic treatment layer by electrochemical reduction.
Los sistemas de pasivacion libres de Cr(VI) sin enjuague apropiados que se pueden usar en combinacion con el tratamiento anodico de esta invencion son, por ejemplo:Appropriate non-rinse free Cr (VI) passivation systems that can be used in combination with the anodic treatment of this invention are, for example:
- todos los sistemas organicos tales como los acidos organicos (acido oleico, acido abietico);- all organic systems such as organic acids (oleic acid, abietic acid);
- todos los sistemas organicos tales como acrilatos, dispersiones de poliuretano y otros tipos de recubrimientos organicos delgados;- all organic systems such as acrylates, polyurethane dispersions and other types of thin organic coatings;
- agentes de acoplamiento organicos/inorganicos, tales como sistemas de siloxano de un componente y de dos componentes;- organic / inorganic coupling agents, such as single-component and two-component siloxane systems;
- sistemas inorganicos tales como sistemas en base a silicatos;- inorganic systems such as silicate based systems;
- sistemas inorganicos en una matriz organica tales como fluoro-titanatos y zirconio-titanatos en combinacion con una matriz polimerica organica.- inorganic systems in an organic matrix such as fluoro-titanates and zirconium-titanates in combination with an organic polymer matrix.
Otros metodos para aplicar una capa de oxido de estano, y potencialmente para lograr el mismo efecto tecnologico, incluyen oxidacion qmmica por agentes oxidantes fuertes tales como permanganatos o peroxidos y oxidacion termica. El primero no se prefiere porque los agentes oxidantes fuertes son desagradables para los seres humanos y el medio ambiente, y el ultimo metodo resulta muy extenso y puede tomar varios minutos a temperaturas muy altas para conseguir una capa de oxido de estano de espesor adecuado.Other methods for applying a layer of tin oxide, and potentially to achieve the same technological effect, include chemical oxidation by strong oxidizing agents such as permanganates or peroxides and thermal oxidation. The former is not preferred because strong oxidizing agents are unpleasant for humans and the environment, and the latter method is very extensive and can take several minutes at very high temperatures to achieve a layer of tin oxide of suitable thickness.
El tratamiento anodico de la presente invencion es capaz de aplicar la capa de oxido de estano adecuada en una escala de tiempo muy corta (hasta 0.1 s), que usa soluciones qmmicas amigables con el medio ambiente, y con un consumo de energfa muy bajo.The anodic treatment of the present invention is capable of applying the appropriate tin oxide layer on a very short time scale (up to 0.1 s), which uses environmentally friendly chemical solutions, and with very low energy consumption.
Aunque el metodo de acuerdo con la invencion tambien trabaja con un espesor de la capa de oxido de estano de por ejemplo 150 o 200 C/m2, es preferible que el espesor D de la capa de oxido de estano sea como maximo 100 C/m2 Un valor por encima de 100 no es posible conseguir economicamente en el procedimiento de estampado a alta velocidad y tambien conduce a una adhesion reducida de recubrimientos organicos aplicados posteriormente. El intervalo preferido para el espesor D de la capa de oxido de estano es por lo tanto de 30 a 100 C/m2.Although the method according to the invention also works with a thickness of the tin oxide layer of for example 150 or 200 C / m2, it is preferable that the thickness D of the tin oxide layer is at most 100 C / m2 A value above 100 is not possible to achieve economically in the high speed stamping process and also leads to reduced adhesion of organic coatings subsequently applied. The preferred range for thickness D of the tin oxide layer is therefore 30 to 100 C / m2.
Un valor mmimo adecuado de D es 40 C/m2. Un valor maximo adecuado para D desde un punto de vista de eficiencia de procedimiento es 80 C/m2 o incluso 60 C/m2.A suitable minimum value of D is 40 C / m2. A maximum value suitable for D from a procedural efficiency point of view is 80 C / m2 or even 60 C / m2.
En una realizacion preferible, el anion poliatomico en el electrolito es un anion de fosfato, de borato, de sulfato o de carbonato. En una realizacion preferible, el cation en el electrolito es Na+, K+ (Grupo 1) y/o Ca2+ (Grupo 2) y/o poliatomico, por ejemplo NH4+.In a preferred embodiment, the polyatomic anion in the electrolyte is a phosphate, borate, sulfate or carbonate anion. In a preferable embodiment, the cation in the electrolyte is Na +, K + (Group 1) and / or Ca2 + (Group 2) and / or polyatomic, for example NH4 +.
En una realizacion, el artfculo es una tira de acero de empaquetado provista de una capa de estano sobre al menos un lado (para composiciones qmmicas tfpicas, vease, por ejemplo, el documento EN10202-2001 o el documento ASTM 623M). Esta tira se produce de una manera conocida, por ejemplo por laminado en fno y recocido, y opcionalmente laminado por templado de una tira de acero de composicion adecuada, seguido de estanado electrolftico.In one embodiment, the article is a strip of packaging steel provided with a layer of tin on at least one side (for typical chemical compositions, see, for example, document EN10202-2001 or document ASTM 623M). This strip is produced in a known manner, for example by cold rolling and annealing, and optionally rolling by tempering a steel strip of suitable composition, followed by electrolytic plating.
En una realizacion, el artfculo esta provisto ademas de una capa de recubrimiento organico tal como lacas de oro epoxi-fenolicas, lacas blancas de epoxi-anhftdrido, recubrimiento de PVC o vinil organosol, lacas de poliester, recubrimientos de epoxi-amino o epoxiacnlico-amino-acuosos. La excelente adhesion de capas de recubrimiento organico a la hojalata pasivada permite proporcionar este producto como un reemplazo para los sistemas tratados con CDC y posteriormente recubiertos con poftmero, que evita asf el uso de cromatos por completo.In one embodiment, the article is also provided with an organic coating layer such as epoxy-phenolic gold lacquers, white epoxy-anhydrous lacquer, PVC or vinyl organosol coating, polyester lacquers, epoxy-amino or epoxy-technical coatings. amino-aqueous The excellent adhesion of organic coating layers to the passivated tinplate allows this product to be provided as a replacement for systems treated with CDC and subsequently coated with poftmero, thus avoiding the use of chromates completely.
La invencion se explica a continuacion por medio de los siguientes Ejemplos y Figuras no limitativos.The invention is explained below by means of the following Examples and Non-limiting Figures.
Ejemplo 1Example 1
Este Ejemplo describe varios ensayos a escala de laboratorio que tienen como objetivo demostrar el tratamiento anodico que usa diversos electrolitos y condiciones de procedimiento con respecto a la densidad de corriente A y el tiempo de tratamiento t.This Example describes several laboratory scale tests that aim to demonstrate the anodic treatment using various electrolytes and process conditions with respect to the current density A and the treatment time t.
Para todos los resultados experimentales presentados aqm se uso hojalata no pasivada con flujo fundido. El material se produjo en una lrnea de estanado electrolftico industrial (ETL). El peso de recubrimiento de estano aplicado es aproximadamente 2.8 g/m2. Despues de la fusion del flujo, la cantidad de estano libre es aproximadamente 1.9 g/m2 y la cantidad de aleacion FeSn2 es aproximadamente 1.1 g/m2, que corresponde a aproximadamente 0.9 g/m2 de estanoFor all the experimental results presented here, non-passivated tinplate with molten flow was used. The material was produced on an industrial electrolysis line (ETL) line. The applied tin coating weight is approximately 2.8 g / m2. After the fusion of the flow, the amount of free tin is approximately 1.9 g / m2 and the amount of FeSn2 alloy is approximately 1.1 g / m2, which corresponds to approximately 0.9 g / m2 of tin
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en la capa de aleacion. Despues del enlatado y la fusion del flujo, la tira de hojalata se paso sobre el bobinador mientras se pasaba por la seccion de pasivacion de cromato. De este modo, se obtiene hojalata no pasivada sin contaminacion con residuos de cromo.in the alloy layer. After canning and melting the flow, the tin strip was passed over the winder while passing through the passivation section of chromate. In this way, un passivated tin is obtained without contamination with chromium residues.
Se usaron dos electrolitos:Two electrolytes were used:
• Solucion de fosfato, que contiene 3.56 g/l de KH2PO4 y 7.22 g/l de Na2HPO4.2H2O en agua desionizada, pH = 7.1;• Phosphate solution, which contains 3.56 g / l of KH2PO4 and 7.22 g / l of Na2HPO4.2H2O in deionized water, pH = 7.1;
• Solucion de decahidrato de carbonato de sodio, que contiene aprox. 1 g/l de Na2CO3.10H2O en agua desionizada, pH = 10.3.• Solution of sodium carbonate decahydrate, which contains approx. 1 g / l Na2CO3.10H2O in deionized water, pH = 10.3.
Obviamente, mientras que se uso decahidrato de carbonato de sodio en estos experimented, los resultados senan igualmente alcanzables usando carbonato de sodio anhidro o un hidrato de carbonato de sodio con un numero diferente de moleculas de agua de 10, siempre que se obtenga el pH apropiado. Antes del estudio, la capa de oxido de estano "natural" se elimino en un denominado tratamiento de soda catodica. La muestra se ubico en la solucion de carbonato de sodio de pH = 10.3 descrita anteriormente, a una temperatura de solucion de 50°C. La muestra de hojalata se conecto entonces como catodo a un galvanostato, y se aplico una densidad de corriente de - 1.0 A/dm2 durante 1 segundo. La muestra se enjuago entonces con agua desionizada y se uso inmediatamente para el experimento de tratamiento anodico (aplicacion "humedo en humedo").Obviously, while sodium carbonate decahydrate was used in these experiments, the results are equally achievable using anhydrous sodium carbonate or a sodium carbonate hydrate with a different number of water molecules of 10, provided the appropriate pH is obtained. . Before the study, the "natural" tin oxide layer was removed in a so-called cathode soda treatment. The sample was placed in the sodium carbonate solution of pH = 10.3 described above, at a solution temperature of 50 ° C. The tin sample was then connected as a cathode to a galvanostat, and a current density of - 1.0 A / dm2 was applied for 1 second. The sample was then rinsed with deionized water and used immediately for the anodic treatment experiment ("wet to wet" application).
En los experimentos de tratamiento anodico, la muestra de hojalata se coloco en el electrolito a 50°C, y se conecto como anodo a un galvanostato. Se emplearon diversas densidades de corriente (en el intervalo de 0.2 - 1.4 A/dm2) y tiempos de tratamiento (en el intervalo de 0.4 - 9.0 s). Despues del tratamiento, se retiro la muestra del electrolito, se enjuago con agua desionizada y se seco a temperatura ambiente. El espesor de la capa de oxido de estano se determino entonces como se describio anteriormente.In the anodic treatment experiments, the tin sample was placed in the electrolyte at 50 ° C, and connected as an anode to a galvanostat. Various current densities (in the range of 0.2 - 1.4 A / dm2) and treatment times (in the range of 0.4 - 9.0 s) were used. After treatment, the electrolyte sample was removed, rinsed with deionized water and dried at room temperature. The thickness of the tin oxide layer was then determined as described above.
La Figura 1 muestra una curva tfpica del potencial de reduccion (V) como una funcion del tiempo (t) en un experimento de reduccion de oxido de estano.Figure 1 shows a typical reduction potential curve (V) as a function of time (t) in a tin oxide reduction experiment.
La Figura 2 muestra el espesor de la capa de oxido de estano (en C/m2) en funcion de la carga pasada (A*t) en el tratamiento anodico que usa la solucion de fosfato para diferentes densidades de corriente (ver leyenda) y combinaciones de tiempo. La lmea de puntos sirve como una grna para el ojo.Figure 2 shows the thickness of the tin oxide layer (in C / m2) as a function of the past charge (A * t) in the anodic treatment using the phosphate solution for different current densities (see legend) and time combinations The line of dots serves as a grin for the eye.
La Figura 3 muestra el espesor de la capa de oxido de estano (en C/m2) en funcion de la carga pasada (A * t) en el tratamiento anodico que usa la solucion de carbonato de sodio para diferentes densidades de corriente y combinaciones de tiempo. Por ejemplo, una densidad de corriente de 120 A/m2 durante 0.4 segundos produjo el mismo espesor de capa que una densidad de corriente de 60 A/m2 durante 0.8 segundos. Las lmeas discontinuas sirven como grna para el ojo. A partir de las diferentes densidades de corriente (ver leyenda) y las diferencias asociadas en el tiempo de tratamiento es claramente visible que las diferentes combinaciones de tiempo (t) y densidad de corriente (A) resultan en el mismo espesor de capa de estano.Figure 3 shows the thickness of the tin oxide layer (in C / m2) as a function of the past charge (A * t) in the anodic treatment using the sodium carbonate solution for different current densities and combinations of weather. For example, a current density of 120 A / m2 for 0.4 seconds produced the same layer thickness as a current density of 60 A / m2 for 0.8 seconds. The dashed lines serve as a grna for the eye. From the different current densities (see legend) and the associated differences in the treatment time it is clearly visible that the different combinations of time (t) and current density (A) result in the same thickness of the tin layer.
Para un electrolito dado, la cantidad de oxido de estano producida en el tratamiento anodico es una funcion unica de la carga pasada. Para una carga dada, no importa si esto se logro, por ejemplo, por una densidad de corriente baja y un tiempo de tratamiento largo o por una densidad de corriente alta y un tiempo de tratamiento correspondientemente corto. Por lo tanto, el procedimiento de oxidacion de estano puede controlarse muy facilmente sobre la carga total pasada y, en un procedimiento industrial, puede hacerse independiente de por ejemplo la lmea de velocidad. Para el electrolito de carbonato de sodio con pH = 10.3 (Fig. 3), la relacion entre el espesor de la capa de oxido de estano y la carga total pasada muestra dos regfmenes distintos. Cuando la carga pasada es baja, es decir, menor que aprox. 50 C/m2, se observa una empinada relacion lineal. La pendiente de la lmea de regresion en este regimen es de 0.92, que indica que la eficiencia (E) del procedimiento de oxidacion es 92%. Con una carga pasada total superior, es decir, superior a 50 C/m2, el procedimiento de oxidacion todavfa progresa con el aumento de la carga, pero a una rata mucho mas lenta.For a given electrolyte, the amount of tin oxide produced in the anodic treatment is a unique function of the past charge. For a given load, it does not matter if this was achieved, for example, by a low current density and a long treatment time or by a high current density and a correspondingly short treatment time. Therefore, the tin oxidation process can be controlled very easily over the total past load and, in an industrial process, it can be made independent of, for example, the speed line. For the sodium carbonate electrolyte with pH = 10.3 (Fig. 3), the relationship between the thickness of the tin oxide layer and the total past charge shows two different regimes. When the past load is low, that is, less than approx. 50 C / m2, a steep linear relationship is observed. The slope of the regression line in this regime is 0.92, which indicates that the efficiency (E) of the oxidation process is 92%. With a higher total past load, that is, greater than 50 C / m2, the oxidation process still progresses with increasing load, but at a much slower rate.
En el electrolito de fosfato con pH = 7.1 (Fig. 2), tambien se observa una relacion lineal entre el espesor de la capa de oxido de estano y la carga total pasada (independientemente de la densidad de corriente), pero toma mucho mas carga en comparacion con el pH = 10.3 de electrolito de carbonato de sodio para lograr el mismo espesor de la capa de oxido de estano. La pendiente de la lmea de regresion para el electrolito de fosfato corresponde a 0.19, que muestra la eficiencia mucho menor de la reaccion de oxidacion en este caso.In the phosphate electrolyte with pH = 7.1 (Fig. 2), there is also a linear relationship between the thickness of the tin oxide layer and the total past charge (regardless of current density), but it takes much more charge compared with the pH = 10.3 of sodium carbonate electrolyte to achieve the same thickness of the tin oxide layer. The slope of the regression line for the phosphate electrolyte corresponds to 0.19, which shows the much lower efficiency of the oxidation reaction in this case.
En los siguientes Ejemplos, se sometio material de hojalata no pasivado, con flujo fundido, como se ha descrito anteriormente, a diversos tratamientos en una lmea de procedimiento de bobina a bobina. La lmea consta de las siguientes secciones: desenrollador, tanque de tratamiento electroqmmico, tanque de enjuagado, unidad de secado con aire caliente, seccion de aplicacion de atomizacion de escurrimiento, segunda unidad de secado con aire caliente y bobinador. Todos los experimentos se realizaron a una velocidad de lmea de 50 m/min que usa una bobina de hojalata de 300 mm de ancho. En todos los experimentos, el electrolito era la solucion de carbonato de sodio que tema un pH de 10.3 como se ha descrito anteriormente que se mantuvo a 60°C.In the following Examples, un passivated tin material, with molten flow, as described above, was subjected to various treatments in a coil-to-coil process line. The line consists of the following sections: unwinder, electrochemical treatment tank, rinsing tank, drying unit with hot air, draining spray application section, second drying unit with hot air and winding. All experiments were performed at a 50 m / min line speed using a 300 mm wide tin coil. In all experiments, the electrolyte was the sodium carbonate solution that had a pH of 10.3 as described above that was maintained at 60 ° C.
En algunos de los Ejemplos, se aplico un tratamiento de pasivacion libre de Cr(VI) a la hojalata usando una unidad de aplicacion de atomizacion y escurrimiento. La solucion de pasivacion era un producto comercial, denominadoIn some of the Examples, a Cr (VI) free passivation treatment was applied to the tin using an atomization and runoff application unit. The passivation solution was a commercial product, called
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Granodine™ 1456, de Henkel AG & Co. KGaA (Dusseldorf, Alemania) que contema, entre otras cosas, fluoro-titanatos, fluoro-zirconatos y polfmeros organicos. En los experimentos se uso una solucion de pasivacion que contema 150 g/l de Granodine™ 1456 en agua desionizada. La solucion de pasivacion se atomizo sobre un lado de la tira usando un sistema de Atomizacion de Rotor Ahlbrandt IQ-140. La tira se hizo pasar a continuacion a traves de un par de rodillos (no accionados) que consistfa en un rodillo de recubrimiento de acero inoxidable y un rodillo de refuerzo recubierto de poliuretano, en el que se homogeneizo la pelmula humeda aplicada y se separo el Kquido en exceso de la tira. Despues de pasar a traves de los rodillos de escurrimiento, la tira se calento a 70°C usando un calentador inductivo y posteriormente se paso a traves de un secador de aire operado a una temperatura del aire de 90°C.Granodine ™ 1456, from Henkel AG & Co. KGaA (Dusseldorf, Germany) which includes, among other things, fluoro-titanates, fluoro-zirconates and organic polymers. In the experiments a passivation solution containing 150 g / l of Granodine ™ 1456 in deionized water was used. The passivation solution was atomized on one side of the strip using an Ahlbrandt IQ-140 Rotor Atomization system. The strip was then passed through a pair of rollers (not driven) consisting of a stainless steel coating roller and a polyurethane coated reinforcement roller, in which the applied wet film was homogenized and the applied Kquido in excess of the strip. After passing through the runoff rollers, the strip was heated to 70 ° C using an inductive heater and subsequently passed through an air dryer operated at an air temperature of 90 ° C.
Las bobinas de hojalata no pasivadas recien recibidas se pasaron primero a traves de la lmea y se les dio un tratamiento catodico en carbonato de sodio usando el tanque de tratamiento electroqmmico. Esto se hace para eliminar la capa de oxido de estano 'natural' que se ha desarrollado sobre el material de hojalata no pasivado durante el almacenamiento. Se empleo una densidad de corriente catodica total de 1.11 A/dm2 durante 0.72 s, dando una densidad de carga total de 80 C/m2. A continuacion, la bobina tratada se coloco de nuevo sobre el desenrollador y se sometio a los siguientes tratamientos:The newly received univated tinplate coils were first passed through the line and given cathode treatment in sodium carbonate using the electrochemical treatment tank. This is done to remove the 'natural' tin oxide layer that has developed on the unpasivated tin material during storage. A total cathode current density of 1.11 A / dm2 was used for 0.72 s, giving a total load density of 80 C / m2. Next, the treated coil was placed again on the unwinder and subjected to the following treatments:
A (Ejemplo Comparativo 1) - La bobina se paso a traves de la lmea, que incluye el tanque de tratamiento electroqmmico, pero no se aplico corriente. No se aplico tratamiento de pasivacion.A (Comparative Example 1) - The coil was passed through the line, which includes the electrochemical treatment tank, but no current was applied. No passivation treatment was applied.
B (Ejemplo Comparativo 2) - La bobina se paso a traves del tanque de tratamiento electroqmmico, pero no se aplico corriente en el tanque de tratamiento electroqmmico. En la seccion de pasivacion, aprox. se aplicaron 5 ml/m2 de la solucion de pasivacion a la tira. Despues de pasar a traves del conjunto de rodillos de escurrimiemto y unidad de secado, la tira se enrollo. La homogeneidad y el espesor de la capa de pasivacion aplicada se determino usando fluorescencia de rayos X mediante la medicion de la concentracion superficial del elemento Ti.B (Comparative Example 2) - The coil was passed through the electrochemical treatment tank, but no current was applied to the electrochemical treatment tank. In the passivation section, approx. 5 ml / m2 of the passivation solution was applied to the strip. After passing through the set of draining rollers and drying unit, the strip is rolled. The homogeneity and thickness of the passivation layer applied was determined using X-ray fluorescence by measuring the surface concentration of the Ti element.
C (Ejemplo Comparativo 3) - La bobina se paso a traves del tanque de tratamiento electroqmmico, se lleno con la solucion de carbonato de sodio como se describio anteriormente, y se empleo una densidad de corriente anodica de 0.83 A/dm2 durante 0.72 seg, dando una densidad de carga total de 60 C/m2. No se aplico tratamiento de pasivacion.C (Comparative Example 3) - The coil was passed through the electrochemical treatment tank, filled with the sodium carbonate solution as described above, and an anodic current density of 0.83 A / dm2 was used for 0.72 sec, giving a total load density of 60 C / m2. No passivation treatment was applied.
D (Ejemplo de la Invencion 1) - La bobina se paso a traves del tanque de tratamiento electroqmmico, se lleno con la solucion de carbonato de sodio como se ha descrito anteriormente, y se empleo una densidad de corriente anodica de 0.28 A/dm2 durante 0.72 s, dando una densidad de carga total de 20 C/m2. La pasivacion de Granodine 1456 se aplico como se ha descrito anteriormente.D (Example of the Invention 1) - The coil was passed through the electrochemical treatment tank, filled with the sodium carbonate solution as described above, and an anodic current density of 0.28 A / dm2 was used during 0.72 s, giving a total load density of 20 C / m2. The passivation of Granodine 1456 was applied as described above.
E (Ejemplo de la Invencion 2) - Como el Ejemplo de la Invencion 1 pero usando una densidad de corriente anodica de 0.83 A/dm2 durante 0.72 s, dando una densidad de carga total de 60 C/m2.E (Example of Invention 2) - Like the Example of Invention 1 but using an anodic current density of 0.83 A / dm2 for 0.72 s, giving a total load density of 60 C / m2.
F (Ejemplo de Invencion 3) - Como el Ejemplo 1 de Invencion pero usando una densidad de corriente anodica de 1.39 A/dm2 durante 0.72 s, dando una densidad de carga total de 100 C/m2.F (Example of Invention 3) - Like Example 1 of the Invention but using an anodic current density of 1.39 A / dm2 for 0.72 s, giving a total charge density of 100 C / m2.
Las condiciones de los diversos tratamientos se resumen en la Tabla 1.The conditions of the various treatments are summarized in Table 1.
Tabla 1. Condicion de diferentes tratamientos empleados.Table 1. Condition of different treatments used.
- Tratamiento Treatment
- Pretratamiento anodico Densidad de carga 2 anodica (C/m ) D (C/m2) Tratamiento de Pasivacion Espesor de capa de 2 pasivacion (mg Ti/m ) Anodic pretreatment Anodic charge density 2 (C / m) D (C / m2) Passivation Treatment Thickness of 2 passivation layer (mg Ti / m)
- A TO
- Ejemplo comp. 1 No - 28 No - Comp example 1 No - 28 No -
- B B
- Ejemplo comp. 2 No - 27 Si 1.3 Comp example 2 No - 27 Yes 1.3
- C C
- Ejemplo comp. 3 Si 60 54 No - Comp example 3 Yes 60 54 No -
- D D
- Ejemplo inv. 1 Si 20 31 Si 1.4 Example inv. 1 Yes 20 31 Yes 1.4
- E AND
- Ejemplo inv. 2 Si 60 44 Si 1.3 Example inv. 2 Yes 60 44 Yes 1.3
- F F
- Ejemplo inv. 3 Si 100 50 Si 1.3 Example inv. 3 Yes 100 50 Yes 1.3
El rendimiento de varias muestras de hojalata tratadas se ensayo con respecto a tres propiedades que son de suma importancia con respecto al uso final de hojalata, tales como latas de alimentos, extremos de lata, etc.:The yield of several treated tin samples was tested with respect to three properties that are of utmost importance with respect to the final use of tin, such as food cans, can ends, etc .:
• Oxidacion de la superficie de estano en condiciones ambientales• Oxidation of the tin surface under environmental conditions
• Resistencia a la tincion con sulfuro• Resistance to sulfide staining
55
1010
15fifteen
20twenty
2525
3030
3535
4040
• Adhesion de lacas despues de la esterilizacion en medios alimentarios• Adhesion of lacquers after sterilization in food media
Para determinar la rata de oxidacion de la superficie de estano, la cantidad de oxido de estano presente en la superficie tratada se midio directamente despues de preparar las muestras, usando el metodo coulometrico descrito anteriormente. A continuacion, las muestras se almacenaron a temperatura ambiente en aire seco durante 14 semanas, despues de lo cual se determino de nuevo el espesor de la capa de oxido de estano. Si el aumento del espesor de la capa de oxido de estano durante este penodo es de 10 C/m2 o menos, se considera que es adecuada la estabilidad de la capa de oxido de estano.To determine the rate of oxidation of the tin surface, the amount of tin oxide present on the treated surface was measured directly after preparing the samples, using the coulometric method described above. Then, the samples were stored at room temperature in dry air for 14 weeks, after which the thickness of the tin oxide layer was determined again. If the increase in the thickness of the tin oxide layer during this period is 10 C / m2 or less, the stability of the tin oxide layer is considered adequate.
Para determinar la resistencia de la hojalata tratada a la tincion con sulfuro, se sometieron las muestras preparadas a inmersion en una solucion que contema sulfuro. En base a una extensa investigacion dentro de nuestros laboratorios, hemos encontrado que el procedimiento qmmico que conduce a la formacion de manchas de sulfuro en hojalata procede como sigue. El azufre enlazado organicamente, tal como esta presente en por ejemplo protemas, se puede convertir, por ejemplo, por procedimientos de esterilizacion para sulfuros inorganicos, tales como el anion S2-. Los sulfuros inorganicos pueden desestabilizar la superficie del oxido de estano y acelerar la disolucion de los oxidos de estano en los medios alimenticios. Una vez que la capa de oxido de estano se disuelve de la superficie y el estano metalico se expone al medio que contiene sulfuro, puede tener lugar la reaccion qmmica entre el estano y el sulfuro, que conduce a la formacion de sulfuro de estano. Ademas, si la reaccion continua, puede tener lugar una reaccion qmmica entre el sulfuro y el hierro expuesto del sustrato de acero subyacente, que conduce a la formacion de sulfuro de hierro. Los sulfuros de estano y posiblemente los sulfuros de hierro presentes en la superficie de la hojalata se observan como manchas oscuras desagradables conocidas como manchas de sulfuro.To determine the resistance of the tinplate treated to sulfide staining, the prepared samples were subjected to immersion in a solution containing sulfur. Based on extensive research within our laboratories, we have found that the chemical procedure that leads to the formation of tinplate sulfide stains proceeds as follows. Organically bound sulfur, such as is present in, for example, proteins, can be converted, for example, by sterilization procedures for inorganic sulphides, such as the S2- anion. Inorganic sulfides can destabilize the surface of tin oxide and accelerate the dissolution of tin oxides in food media. Once the tin oxide layer dissolves from the surface and the metal tin is exposed to the sulfide-containing medium, the chemical reaction between the tin and the sulfide can take place, which leads to the formation of tin sulfide. In addition, if the reaction continues, a chemical reaction can take place between the sulfide and the exposed iron of the underlying steel substrate, which leads to the formation of iron sulfide. Tin sulphides and possibly iron sulfides present on the surface of the tin are seen as unpleasant dark spots known as sulfide spots.
Nuestro metodo de ensayo para determinar la resistencia a la tincion con sulfuro se basa en la medicion de la rata de disolucion del oxido de estano durante la exposicion a una solucion de sulfuro. Se ha encontrado que la rata de disolucion de los oxidos de estano se correlaciono fuertemente con el desarrollo de tincion con sulfuro en ensayos de la vida real. La ventaja de nuestro metodo es que los resultados se pueden cuantificar facilmente, y ofrece una manera mejor y mas rapida de investigar la tincion con sulfuros en comparacion con la observacion visual mas comunmente usada. Un metodo particularmente conveniente emplea una solucion que contiene 5 g/l de NaOH y 5 g/l de Na2S*3H2O mantenido a 30°C. Se sumerge un especimen de ensayo (sin lacar) en esta solucion durante 6 minutos, y posteriormente se determina el espesor de la capa de oxido de estano usando el metodo de ensayo coulometrico descrito anteriormente. Si el espesor de la capa de oxido de estano despues del ensayo de exposicion antes mencionado es superior a 30 C/m2, la resistencia a la tincion con sulfuro es adecuada.Our test method for determining resistance to sulfide staining is based on the measurement of the tin oxide dissolution rate during exposure to a sulfide solution. It has been found that the rate of dissolution of tin oxides correlated strongly with the development of sulfide staining in real-life assays. The advantage of our method is that the results can be easily quantified, and it offers a better and faster way to investigate sulfide staining compared to the more commonly used visual observation. A particularly convenient method employs a solution containing 5 g / l of NaOH and 5 g / l of Na2S * 3H2O maintained at 30 ° C. A test specimen (without lacquer) is immersed in this solution for 6 minutes, and then the thickness of the tin oxide layer is determined using the coulometric test method described above. If the thickness of the tin oxide layer after the above-mentioned exposure test is greater than 30 C / m2, the resistance to sulfide staining is adequate.
Para determinar el rendimiento de la adherencia de la laca en diversos medios de simulador de alimento, las muestras se lacaron con una laca interna de color blanco para latas de alimentos, de epoxi-anhfdrido. Esta laca es cntica con respecto a la adhesion y muy discriminante en los ensayos de esterilizacion y se usa comunmente en la evaluacion del producto estricto. La laca se aplico a un peso de recubrimiento seco de 10-12 g/m2. Los paneles lacados se esterilizaron a 121°C durante 60 minutos, en los siguientes medios:To determine the performance of lacquer adhesion in various food simulator media, the samples were washed with a white internal lacquer for food cans, epoxy-anhydrous. This lacquer is critical with respect to adhesion and very discriminating in sterilization tests and is commonly used in the evaluation of strict product. The lacquer was applied at a dry coating weight of 10-12 g / m2. The lacquered panels were sterilized at 121 ° C for 60 minutes, in the following media:
1) agua desionizada1) deionized water
2) solucion que contiene 22.5 g/l de acido lactico en agua desionizada2) solution containing 22.5 g / l of lactic acid in deionized water
3) solucion que contiene 18.7 g/l de cloruro de sodio y 30 g/l de acido acetico en agua desionizada3) solution containing 18.7 g / l of sodium chloride and 30 g / l of acetic acid in deionized water
Despues de la esterilizacion, los paneles se dejaron enfriar y secar, despues de lo cual se ensayo inmediatamente la adhesion de la laca en un ensayo denominado de cruce de trama y de cinta de acuerdo con el documento ASTM D3359 - 09e2 " Standard Test Methods for Measuring Adhesion by Tape Test". Este ensayo da una clasificacion enAfter sterilization, the panels were allowed to cool and dry, after which the lacquer adhesion was immediately tested in a so-called weft and ribbon crossover test in accordance with ASTM D3359 - 09e2 "Standard Test Methods for Measuring Adhesion by Tape Test ". This essay gives a classification in
una escala de 0 (adhesion excelente) a 5 (adherencia muy pobre) y se realizo usando cinta adhesiva Scotch No. 610.a scale of 0 (excellent adhesion) to 5 (very poor adhesion) and was done using Scotch No. 610 adhesive tape.
Los resultados de las pruebas de rendimiento descritas anteriormente se dan en las Tablas 2 y 3.The results of the performance tests described above are given in Tables 2 and 3.
Tabla 2. Estabilidad de oxido de estano y resistencia a la tincion con sulfuroTable 2. Statin oxide stability and resistance to sulfide staining
- Tratamiento Treatment
- Espesor de oxido de estano en t = 0 wks (C/m2) Espesor de oxido de estano en t = 14 wks (C/m2) Aumento en espesor (C/m2) Espesor de oxido de estano despues del ensayo de exposicion a sulfuro (C/m2) Thickness of tin oxide at t = 0 wks (C / m2) Thickness of tin oxide at t = 14 wks (C / m2) Increase in thickness (C / m2) Thickness of tin oxide after the sulfide exposure test (C / m2)
- A TO
- Ejemplo comp. 1 28 47 19 (pobre) 20 (pobre) Comp example 1 28 47 19 (poor) 20 (poor)
- B B
- Ejemplo comp. 2 27 25 -2 (bueno) 19 (pobre) Comp example 2 27 25 -2 (good) 19 (poor)
- C C
- Ejemplo comp. 3 54 68 14 (pobre) 59 (bueno) Comp example 3 54 68 14 (poor) 59 (good)
- D D
- Ejemplo inv. 1 31 39 8 (bueno) 38 (bueno) Example inv. 1 31 39 8 (good) 38 (good)
- E AND
- Ejemplo inv. 2 45 47 2 (bueno) 43 (bueno) Example inv. 2 45 47 2 (good) 43 (good)
- F F
- Ejemplo inv. 3 50 57 7 (bueno) 58 (bueno) Example inv. 3 50 57 7 (good) 58 (good)
- Tratamiento Treatment
- Solucion 1 (Agua desionizada) Solucion 2 (Acido lactico) Solucion 3 (Sal y Acido) Solution 1 (Deionized water) Solution 2 (Lactic acid) Solution 3 (Salt and Acid)
- A TO
- Ejemplo comp. 1 5 4 3 Comp example 1 5 4 3
- B B
- Ejemplo comp. 2 1 1 1 Comp example 2 1 1 1
- C C
- Ejemplo comp. 3 5 2 4 Comp example 3 5 2 4
- D D
- Ejemplo inv. 1 1 1 1 Example inv. 1 1 1 1
- E AND
- Ejemplo inv. 2 3 2 1 Example inv. 2 3 2 1
- F F
- Ejemplo inv. 3 1 1 1 Example inv. 3 1 1 1
El Ejemplo comp. Imuestra que ningun tratamiento en toda la superficie de la hojalata conduce a una pobre estabilidad 5 al oxido de estano, a una pobre resistencia a la tincion con sulfuro y a una pobre adhesion de la laca. El Ejemplo comp. 2 muestra que un tratamiento de pasivacion libre de Cr(VI) estabiliza la superficie del oxido de estano, proporciona una excelente adherencia de la laca, pero tiene poca resistencia a la tincion con sulfuro. El Ejemplo comp. 3 muestra que el tratamiento anodico de la presente invencion proporciona una resistencia a la tincion con sulfuro mucho mejor, pero dado que se aplica sin un tratamiento de pasivacion adicional, la capa de oxido de estano no es estable y la 10 adhesion de la laca es pobre.The Comp example It shows that no treatment on the entire surface of the tin leads to poor stability to tin oxide, poor resistance to sulfide staining and poor lacquer adhesion. The Comp example 2 shows that a Cr (VI) free passivation treatment stabilizes the surface of the tin oxide, provides excellent lacquer adhesion, but has low resistance to sulfide staining. The Comp example 3 shows that the anodic treatment of the present invention provides a much better resistance to sulfide staining, but since it is applied without further passivation treatment, the tin oxide layer is not stable and the lacquer adhesion is poor.
Los Ejemplos inv. 1 - 3 muestran que la combinacion de tratamiento anodico en combinacion con un tratamiento de pasivacion libre de Cr(VI) conduce a la combinacion deseada de resistencia a la tincion con sulfuro mejorada, a una capa estable de oxido de estano y a buena adherencia de la laca.Examples inv. 1-3 show that the combination of anodic treatment in combination with a Cr (VI) free passivation treatment leads to the desired combination of improved sulfide staining resistance, a stable layer of tin oxide and good adhesion of the lacquer.
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