ES2329659T3 - Recubrimiento de superficie de aleacion de plomo para rejillas positivas de bateria de plomo-acido y procedimiento de uso. - Google Patents
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Abstract
Una rejilla positiva con recubrimiento (20) para una batería de plomo ácido (52), que comprende: una banda de aleación de plomo o plomo forjado (22) que tiene una primera superficie; y un recubrimiento de aleación de plomo fundido (24) dispuesto en dicha primera superficie, estando dicho recubrimiento de aleación de plomo fundido seleccionado entre el grupo que consiste en aleaciones binarias de plomoestaño que tienen un contenido de estaño de al menos el 0,1% pero no más del 3% y un contenido de plomo residual, aleaciones ternarias de plomo-calcio-estaño que tienen un contenido de calcio de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%; un contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más del 3%, y un contenido de plomo residual, aleaciones cuaternarias de plomo-calcio-estaño-plata que tienen un contenido de calcio de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%; un contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más del 3%; un contenido de plata de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%; y un contenido de plomo residual, aleaciones ternarias de plomo-bario-estaño que tienen un contenido de bario de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%; un contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más del 3%; y un contenido de plomo residual, aleaciones cuaternarias de plomo-bario-estaño-plata que tienen un contenido de bario de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%; un contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más del 3%; un contenido de plata de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%, y un contenido de plomo residual, y aleaciones cuaternarias de plomo-calcio-estaño-bario que tienen un contenido de calcio de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%; un contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más del 3%; un contenido de bario de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%, y un contenido de plomo residual.
Description
Recubrimiento de superficie de aleación de plomo
para rejillas positivas de batería de plomo-ácido y procedimientos
de uso.
Esta solicitud se refiere en general a rejillas
positivas para baterías de plomo ácido. Más específicamente, esta
solicitud se refiere a recubrimientos de aleación de plomo para las
rejillas positivas de baterías de plomo ácido y procedimientos de
uso de dichos recubrimientos.
Las baterías de plomo ácido son estructuras
multicelda, conteniendo cada celda una placa positiva o electrodo,
una placa negativa o electrodo y un electrolito. Cada placa consiste
en una rejilla de metal expandido que tiene una capa de material
activo electroquímicamente formado en el mismo.
La estructura de la placa positiva, es decir, la
estructura de rejilla y el material de rejilla, afecta a la vida y a
la eficiencia de generación de corriente de la batería. La rejilla
se expande desde una banda de aleación de plomo o plomo. Por
ejemplo, las patentes de EE.UU. nº 3.853.626 y 3.945.097 para
Daniels y col. describen procedimientos y equipo ilustrativos para
fabricar dichas rejillas expandidas y se incorporan en la presente
memoria descriptiva como referencia en su totalidad.
El material activo se aplica a la rejilla
después de la expansión. El material activo sobre placa positivas es
normalmente dióxido de plomo (PbO_{2}), mientras que el material
activo en las placas negativas es normalmente esponja de plomo.
Normalmente, se aplica un precursor al dióxido de plomo a la rejilla
para fabricar la placa positiva. A continuación el precursor se
oxida electroquímicamente para formar dióxido de plomo.
La placa positiva afecta a la vida y la
eficiencia de generación de corriente de la batería ya que están
sujetas a ciclos intensos entre reacciones de oxidación y
desoxidación del material activo. Así, las rejillas de placa
positivas no sólo proporcionan soporte estructural para el material
activo, sino que también reúnen la corriente (energía) desde el
material activo y transmiten la corriente a lengüetas que se
extienden desde la rejilla.
Los ciclos de las placas positivas conducen a
corrosión entre la interfaz del material activo y el material de
rejilla subyacente, conocido como capa de corrosión. Además, las
placas positivas se expanden y se contraen durante los ciclos. La
combinación de expansión, contracción, reacciones de oxidación y
reacciones de desoxidación limita la vida de la placa positiva,
especialmente a temperaturas elevadas. En referencia a la fig. 1, se
ilustra una placa de batería positiva 10 de la técnica anterior.
Después de exposición de la placa de batería 10 a los ciclos
descritos anteriormente, los materiales activos 12, en forma de
dióxido de plomo 14, se exfolian o se separan del material de
rejilla 16. Los ciclos causan la formación de grietas por tensión 18
en el material activo 12 que producen una pérdida de conductividad
entre la rejilla 16 y el material activo 12.
Las propiedades superficiales del material de
rejilla 16 son a menudo opuestas a las propiedades en volumen
necesarias en la rejilla. Normalmente, los procedimientos y
materiales que fortalecen las propiedades en volumen del material de
rejilla 16 (por ejemplo, materiales forjados) dañan las propiedades
superficiales y llevan a rupturas en la conductividad. De modo
inverso, los procedimientos y materiales que proporcionan
propiedades superficiales de resistencia a pérdidas de conductividad
debido a grietas (por ejemplo, materiales fundidos) proporcionan una
fuerza pequeña o nula a la rejilla.
Las pérdidas de conductividad se han reducido a
través del uso de recubrimientos con base de antimonio. Sin embargo,
el antimonio puede causar problemas en el rendimiento de la batería.
Por ejemplo durante los ciclos de la batería, el antimonio se
gasifica y requiere aireación de la batería. Las baterías aireadas
tienen una alta pérdida de agua y, así, normalmente no son baterías
sin mantenimiento.
Se proporciona un recubrimiento de aleación de
plomo para una rejilla positiva de una batería de plomo ácido según
la reivindicación 1. El recubrimiento de aleación de plomo incluye
un contenido de estaño de al menos aproximadamente el 0,1%, pero no
más de aproximadamente el 3%; y un contenido de plomo residual. El
recubrimiento de aleación de plomo incluye opcionalmente un
contenido de calcio de al menos aproximadamente el 0,01%, pero no
más de aproximadamente el 0,1%, con o sin un contenido de plata de
al menos aproximadamente el 0,01%, pero no más de aproximadamente el
0,1%. Alternativamente, el recubrimiento de aleación de plomo
incluye opcionalmente un contenido de bario de al menos
aproximadamente el 0,01%, pero no más de aproximadamente el 0,1%,
con o sin un contenido de plata de al menos aproximadamente el
0,01%, pero no más de aproximadamente el 0,1%.
Se proporciona una rejilla positiva con
recubrimiento para una batería de plomo ácido. La rejilla positiva
con recubrimiento incluye una banda de aleación de plomo o plomo
forjado y un recubrimiento de aleación de plomo fundido. La banda
tiene una primera superficie con el recubrimiento dispuesto en la
misma. El recubrimiento de aleación de plomo fundido se selecciona
entre el grupo que consiste en aleaciones binarias de
plomo-estaño, aleaciones ternarias de
plomo-calcio-estaño, aleaciones
cuaternarias de
plomo-calcio-estaño-plata,
aleaciones ternarias de
plomo-bario-estaño y aleaciones
cuaternarias de
plomo-bario-estaño-plata.
Además, la banda tiene una estructura de granos alargada lineal
paralela a la primera superficie, y el recubrimiento de aleación de
plomo fundido tiene una estructura de granos aleatoria. La
estructura de granos alargada lineal proporciona resistencia
mecánica a la banda, mientras que la estructura de granos aleatoria
mitiga pérdidas de conductividad causadas por grietas en la rejilla
positiva con recubrimiento.
Se proporciona un procedimiento de recubrimiento
de una rejilla de batería positiva para una batería de plomo ácido
según la reivindicación 10. El procedimiento incluye proporcionar
una primera capa y una segunda capa a un procedimiento de
recubrimiento de superficie, y recubrir una superficie de la primera
capa con la segunda capa para formar una banda con recubrimiento. La
primera capa es un material de aleación de plomo o plomo forjado. La
segunda capa es un material de aleación de plomo fundido
seleccionado entre el grupo que consiste en aleaciones binarias de
plomo-estaño, aleaciones ternarias de
plomo-calcio-estaño, aleaciones
cuaternarias de
plomo-calcio-estaño-plata,
aleaciones ternarias de
plomo-bario-estaño, aleaciones
cuaternarias de
plomo-bario-estaño-plata
y aleaciones cuaternarias de
plomo-calcio-estaño-bario.
Las características y ventajas descritas
anteriormente y otras de la presente invención serán apreciadas y
comprendidas por los expertos en la materia a partir de la siguiente
descripción detallada, dibujos y reivindicaciones adjuntas.
\vskip1.000000\baselineskip
La fig. 1 es una representación gráfica de
pérdida de conductividad de una placa de batería positiva;
la fig. 2 muestra la microestructura de una
forma de realización ilustrativa de una rejilla positiva con
recubrimiento;
la fig. 3 es una representación gráfica del
mantenimiento de conductividad por la rejilla positiva con
recubrimiento de la fig. 2;
la fig. 4 es una vista esquemática de una forma
de realización ilustrativa de un procedimiento para fabricar una
rejilla positiva con recubrimiento; y
la fig. 5 es una vista esquemática de una forma
de realización ilustrativa de una batería que tiene la rejilla
positiva con recubrimiento de la fig. 2.
\vskip1.000000\baselineskip
En referencia ahora a las fig. 2 y 3, se ilustra
una rejilla positiva con recubrimiento 20 por medio de una sección
transversal de la microestructura de la rejilla positiva con
recubrimiento en una placa de batería positiva 21. Aquí, la rejilla
20 incluye una banda 22 y un fino recubrimiento 24 dispuesto en
cualquier lado de la banda. Mientras la rejilla positiva con
recubrimiento 20 se describe como incluyendo un fino recubrimiento
24 en los dos lados de la banda 22, se considera dentro del ámbito
de la invención que el recubrimiento esté sólo en un lado de la
banda.
La banda 22 es una aleación de plomo o plomo
forjado que proporciona rigidez estructural a la rejilla 20 por lo
que tiene una estructura de granos alargada lineal 26 orientada a lo
largo de la longitud de la rejilla (por ejemplo, en la página). El
recubrimiento 24 es una aleación de plomo o plomo fundido que mitiga
pérdidas de conductividad debidas a grietas proporcionando una
estructura de grano redundante aleatoria 30 y promueve la adhesión a
un material de batería activo 28. La estructura de granos aleatoria
30 contiene una distribución uniforme de estructura de grano
orientada aleatoriamente, granos de columnas y estructura de grano
dendrítico entrelazada. Preferentemente, la composición de la
aleación de plomo o plomo forjado de la banda 22 es diferente de la
composición de la aleación de plomo o plomo fundido del
recubrimiento 24.
Según se expone anteriormente, el uso de la
rejilla 20 causará la formación de grietas 32 en la superficie de la
rejilla a través del material activo 28. Los granos de la rejilla 20
(por ejemplo, granos alargados lineales 26 y granos aleatorios 30)
conducen corriente eléctrica entre la rejilla y el material activo
28. Sin embargo, la estructura de granos aleatoria 30 de
recubrimiento 24 proporciona una conductividad aumentada entre la
rejilla 20 y los materiales activos de la batería 28 en presencia de
grietas 32. Es decir, las grietas 32 no rompen la red redundante
aleatoria de granos conductores 30 en el recubrimiento 24 según se
ilustra en la fig. 3. Así, las grietas 32 que se propagan para
aliviar la tensión en la rejilla 20 formada a partir de los ciclos
de la rejilla, no afectan a la conductividad entre la rejilla y los
materiales activos 28. En consecuencia, la estructura de granos
alargada lineal 26 en la banda 22 proporciona resistencia mecánica,
mientras que la estructura de granos redundante aleatoria 30 en el
recubrimiento 24 mitiga las pérdidas de conductividad causadas por
las grietas 32.
Según se describe anteriormente, se dispone de
equipo de producción para producir rejillas metálicas expandidas.
Dicho equipo de producción expande una banda de material a lo largo
de un único eje longitudinal. Así, la rejilla 20 permite el uso de
equipo de producción eléctrica, sin ninguna modificación importante,
para expandir la rejilla como estructura de granos redundantes
aleatorios 30 del recubrimiento 24 que no es suficiente para
interferir con dicha expansión. Por ejemplo, en una forma de
realización preferida el recubrimiento 24 tiene un grosor de
aproximadamente 50 micrómetros a aproximadamente 500 micrómetros.
Naturalmente, se contempla el recubrimiento 24 que tiene un grosor
de menos de 50 micrómetros y más de 500 micrómetros.
En referencia ahora a la fig. 4, se ilustra una
forma de realización ilustrativa de un procedimiento de
recubrimiento de superficie 34 para fabricar la rejilla 20. El
recubrimiento 24 tiene un punto de fusión cercano al punto de fusión
de la banda 22. Así, el procedimiento de recubrimiento de superficie
34 se selecciona de manera que no se funda la totalidad de la banda
22, sin embargo es aceptable una fusión mínima en la interfaz de la
banda y el recubrimiento 24. Es decir, es aceptable la fusión de
banda 22 suficiente para incrementar la unión entre la banda y el
recubrimiento 24 sin provocar que la banda forjada recristalice.
Así, con fines de claridad, el recubrimiento 24 se ilustra como
formado en la banda 22 por un procedimiento de recubrimiento de
soldadura 36. Sin embargo, otros procedimientos de recubrimiento de
superficies 34 para formar el recubrimiento 24 en la banda 22, en
los que la temperatura de fusión del recubrimiento y la de la banda
son aproximadamente iguales y en los que la estructura de grano del
recubrimiento y la banda no está afectada, están dentro del ámbito
de la invención. Por ejemplo, el recubrimiento 24 formado en la
banda 22 por un procedimiento de reflujo de llama, pulverización
térmica, recubrimiento de tambor/rodillo y similares están dentro
del ámbito de la invención.
Se proporcionan una capa continua 38 de banda 22
y una capa continua 40 de recubrimiento 24 para el procedimiento de
recubrimiento de soldadura 36. El procedimiento de recubrimiento de
soldadura 36 proporciona una cantidad suficiente de calor para
fundir la capa continua 40 de recubrimiento 24 en la capa continua
38 de banda 22. Puede producirse una pequeña cantidad de fusión de
la banda 22 en la interfaz de las capas 38 y 40, sin embargo el
calor proporcionado por el procedimiento de recubrimiento de
soldadura 36 no es suficiente para recristalizar la capa continua 38
de la banda 22. Es decir, el recubrimiento 24 se suelda en la banda
22 en una forma continua para formar una banda con recubrimiento
42.
La banda con recubrimiento 42 está adaptada para
procesarse adicionalmente en la rejilla 20 y/o la placa de batería
positiva 21. Por ejemplo, la banda con recubrimiento 42 puede
suministrarse en una máquina de expansión 44 para la expansión de la
banda con recubrimiento en la rejilla 20. El recubrimiento 24 en la
rejilla 20 se forma sólo en la superficie de banda 22, y, así, la
expansión de banda con recubrimiento 42 por máquina de expansión 44
proporciona a la rejilla el recubrimiento sólo en la superficie de
la rejilla y no en ningún vacío causado por la expansión. Además, la
rejilla 20 puede suministrarse en un procedimiento de aplicación de
material activo 46 para aplicación de materiales activos a la
rejilla 20.
En una forma de realización alternativa y según
se ilustra por líneas de puntos en la fig. 4, la banda con
recubrimiento 42 se suministra en un procedimiento de presión 48
antes de ser suministrada a la máquina de expansión 44. El
procedimiento de presión 48 proporciona presión suficiente para
hacer que algunos átomos de recubrimiento 24 se muevan en la banda
22 para una adhesión aumentada entre el recubrimiento y la banda.
Sin embargo, el procedimiento de presión 48 no proporciona
suficiente presión a la banda con recubrimiento 42 para reorientar
la red redundante aleatoria de granos conductores 30 en el
recubrimiento 24 a lo largo de la dirección de enrollamiento (por
ejemplo, a lo largo de la estructura de granos alargada lineal
26).
En otra forma de realización alternativa y según
se ilustra por líneas de puntos en la fig. 4, la rejilla 20 se
suministra en el procedimiento de tratamiento de superficie 50 antes
de suministrarse al procedimiento de aplicación del material activo
46. El procedimiento de tratamiento de superficie 50 proporciona una
superficie rugosa a la rejilla 20 antes de la aplicación de material
activo 28. El procedimiento de tratamiento de superficie 50 como,
pero no limitado a, estriado y desbastado de superficie ayuda en la
adhesión de material activo 28 a la rejilla 20. El procedimiento de
tratamiento de superficie 50 es suficiente para un recubrimiento
rugoso 24 sin interferir con la conductividad aumentada
proporcionada por la estructura de granos aleatoria 30 del
recubrimiento 24. Es decir, el procedimiento de tratamiento de
superficie 50 no penetra preferentemente el recubrimiento 24 en la
banda 22. Debe observarse que el procedimiento de tratamiento de
superficie 50 se ilustra por medio de ejemplo después de la máquina
de expansión 44, sin embargo el procedimiento de tratamiento de
superficie 50 antes de la máquina de expansión se considera dentro
del ámbito de la invención.
En referencia ahora a la fig. 5, se ilustra una
forma de realización ilustrativa de una batería de plomo ácido 52
que tiene rejilla 20. La batería 52 es una estructura multiceldas
conteniendo cada celda 54 una placa positiva 21, una placa negativa
56 y un electrolito 58. En el ejemplo de la fig. 5, el electrolito
58 se proporciona en separadores porosos 60. Debe reconocerse que el
electrolito 58 proporcionado en forma líquida, forma de gel y/o
forma sólida se considera dentro del ámbito de la invención. La
batería 52 se ilustra como teniendo dos celdas 54, sin embargo las
baterías que incluyen más o menos celdas se consideran dentro del
ámbito de la invención. La placa positiva 21 incluye material activo
28, mientras que la placa negativa 56 incluye material activo
62.
El recubrimiento 24 es una aleación de plomo sin
antimonio. Así, la batería 52 es una batería sin mantenimiento, es
decir, la batería no necesita aireación. Más específicamente, en una
primera forma de realización ilustrativa el recubrimiento 24 es una
aleación binaria de plomo-estaño. Preferentemente,
la aleación binaria de plomo-estaño tiene un
contenido de estaño de al menos aproximadamente el 0,1%, pero no más
de aproximadamente el 3%. Por ejemplo, en una forma de realización
preferida el recubrimiento 24 es una aleación binaria de
plomo-estaño que tiene un contenido de estaño de
aproximadamente el 1,5%.
En una segunda forma de realización ilustrativa
el recubrimiento 24 es una aleación ternaria de plomo. La aleación
ternaria es una aleación ternaria de
plomo-calcio-estaño que tiene un
contenido de estaño de al menos aproximadamente el 0,1%, pero no más
de aproximadamente el 3%, y un contenido de calcio de al menos
aproximadamente el 0,01%, pero no más de aproximadamente el 0,1%.
Por ejemplo, en una forma de realización preferida el recubrimiento
24 es una aleación ternaria de
plomo-calcio-estaño que tiene un
contenido de estaño de aproximadamente el 1,5%, y un contenido de
calcio de aproximadamente el 0,7%.
Alternativamente, la aleación ternaria es una
aleación ternaria de
plomo-bario-estaño que tiene un
contenido de estaño de al menos aproximadamente el 0,1%, pero no más
de aproximadamente el 3%, y un contenido de bario de al menos
aproximadamente el 0,01%, pero no más de aproximadamente el 0,1%.
Por ejemplo, en una forma de realización preferida el recubrimiento
24 es una aleación ternaria de
plomo-bario-estaño que tiene un
contenido de estaño de aproximadamente el 1,5%, y un contenido de
bario de aproximadamente el 0,05%.
En una tercera forma de realización ilustrativa
el recubrimiento 24 es una aleación cuaternaria. La aleación
cuaternaria es una aleación cuaternaria de
plomo-calcio-estaño-plata
que tiene un contenido de estaño de al menos aproximadamente el
0,1%, pero no más de aproximadamente el 3%, un contenido de calcio
de al menos aproximadamente el 0,01%, pero no más del 0,1%, y un
contenido de plata de al menos aproximadamente el 0,01%, pero no más
de aproximadamente el 0,1%. Por ejemplo, en una forma de realización
preferida el recubrimiento 24 es una aleación cuaternaria de
plomo-calcio-estaño-plata
que tiene un contenido de estaño de aproximadamente el 1,5%, un
contenido de calcio de aproximadamente el 0,07%, y un contenido de
plata de aproximadamente el 0,05%.
Alternativamente, la aleación cuaternaria es una
aleación cuaternaria de
plomo-bario-estaño-plata
que tiene un contenido de estaño de al menos aproximadamente el
0,1%, pero no más de aproximadamente el 3%, un contenido de bario de
al menos aproximadamente el 0,01%, pero no más del 0,1%, y un
contenido de plata de al menos aproximadamente el 0,01%, pero no más
de aproximadamente el 0,1%. Por ejemplo, en una forma de realización
preferida el recubrimiento 24 es una aleación cuaternaria de
plomo-bario-estaño-plata
que tiene un contenido de estaño de aproximadamente el 1,5%, un
contenido de bario de aproximadamente el 0,05%, y un contenido de
plata de aproximadamente el 0,05%.
Alternativamente, la aleación cuaternaria es una
aleación cuaternaria de
plomo-calcio-estaño-bario
que tiene un contenido de estaño de al menos aproximadamente el
0,1%, pero no más de aproximadamente el 3%, un contenido de calcio
de al menos aproximadamente el 0,01%, pero no más del 0,1%, y un
contenido de bario de al menos aproximadamente el 0,01%, pero no más
de aproximadamente el 0,1%. Por ejemplo, en una forma de realización
preferida el recubrimiento 24 es una aleación cuaternaria de
plomo-calcio-estaño-bario
que tiene un contenido de estaño de aproximadamente el 1,5%, un
contenido de calcio de aproximadamente el 0,07%, y un contenido de
bario de aproximadamente el 0,05%.
Aunque la invención se ha descrito con
referencia a una o más formas de realización ilustrativas, los
expertos en la materia entenderán que pueden realizarse diversos
cambios y pueden sustituirse por equivalentes los elementos de la
misma sin apartarse del ámbito de la invención. Además, pueden
realizarse muchas modificaciones para adaptar una situación o
material en particular a las enseñanzas de la invención sin
apartarse del ámbito esencial de la misma. Por tanto, se pretende
que la invención no se limite a la forma de realización particular
desvelada como el mejor modo contemplado para realizar esta
invención, sino que la invención incluirá todas las formas de
realización que se encuadren dentro del ámbito de las
reivindicaciones adjuntas.
\vskip1.000000\baselineskip
Esta lista de referencias citadas por el
solicitante se ofrece únicamente para comodidad del lector. No forma
parte del documento de patente europeo. Aun cuando se ha puesto el
máximo esmero en la compilación de las referencias, no pueden
excluirse errores u omisiones y la EPO declina toda responsabilidad
a este respecto.
- \bullet US-3.853.626-A [0003]
- \bullet US-3.945.097-A, Daniels [0003]
Claims (15)
1. Una rejilla positiva con recubrimiento (20)
para una batería de plomo ácido (52), que comprende:
una banda de aleación de plomo o plomo forjado
(22) que tiene una primera superficie; y
un recubrimiento de aleación de plomo fundido
(24) dispuesto en dicha primera superficie, estando dicho
recubrimiento de aleación de plomo fundido seleccionado entre el
grupo que consiste en aleaciones binarias de
plomo-estaño que tienen un contenido de estaño de al
menos el 0,1% pero no más del 3% y un contenido de plomo residual,
aleaciones ternarias de
plomo-calcio-estaño que tienen un
contenido de calcio de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%; un
contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más del 3%, y un
contenido de plomo residual, aleaciones cuaternarias de
plomo-calcio-estaño-plata
que tienen un contenido de calcio de al menos el 0,01%, pero no más
del 0,1%; un contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más
del 3%; un contenido de plata de al menos el 0,01%, pero no más del
0,1%; y un contenido de plomo residual, aleaciones ternarias de
plomo-bario-estaño que tienen un
contenido de bario de al menos el 0,01%, pero no más del 0,1%; un
contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más del 3%; y un
contenido de plomo residual, aleaciones cuaternarias de
plomo-bario-estaño-plata
que tienen un contenido de bario de al menos el 0,01%, pero no más
del 0,1%; un contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más
del 3%; un contenido de plata de al menos el 0,01%, pero no más del
0,1%, y un contenido de plomo residual, y aleaciones cuaternarias de
plomo-calcio-estaño-bario
que tienen un contenido de calcio de al menos el 0,01%, pero no más
del 0,1%; un contenido de estaño de al menos el 0,1%, pero no más
del 3%; un contenido de bario de al menos el 0,01%, pero no más del
0,1%, y un contenido de plomo residual.
2. La rejilla positiva con recubrimiento de la
reivindicación 1, en la que dicha banda tiene una estructura de
granos alargada lineal (26) paralela a dicha superficie, y dicho
recubrimiento de aleación de plomo fundido tiene una estructura de
granos aleatoria (30), proporcionando dicha estructura de granos
alargada lineal resistencia mecánica a dicha banda y mitigando dicha
estructura de granos aleatoria pérdidas de conductividad causadas
por grietas que pueden formarse en la rejilla positiva con
recubrimiento.
3. La rejilla positiva con recubrimiento de la
reivindicación 2, que comprende además:
una superficie rugosa (50) en dicho
recubrimiento de aleación de plomo fundido opuesta a dicha primera
superficie para promover la adhesión entre dicho recubrimiento de
aleación de plomo fundido y un material de batería activo (28).
4. La rejilla positiva con recubrimiento de la
reivindicación 1, en la que dicho recubrimiento de aleación de plomo
fundido tiene un grosor de aproximadamente 50 micrómetros a
aproximadamente 500 micrómetros.
5. La rejilla positiva con recubrimiento de la
reivindicación 1, en la que dicho recubrimiento de aleación de plomo
fundido es una aleación binaria de plomo-estaño en
la que el contenido de estaño es del 1,5%.
6. La rejilla positiva con recubrimiento de la
reivindicación 1, en la que el recubrimiento de aleación de plomo
fundido es una aleación ternaria de
plomo-calcio-estaño en la que dicho
contenido de estaño es del 1,5% y dicho contenido de calcio es del
0,07%.
7. La rejilla positiva con recubrimiento de la
reivindicación 1, en la que dicho recubrimiento de aleación de plomo
fundido es una aleación cuaternaria de
plomo-calcio-estaño-plata
en la que dicho contenido de estaño del 1,5%, dicho contenido de
calcio es del 0,07% y dicho contenido de plata es del 0,05%.
8. La rejilla positiva con recubrimiento de la
reivindicación 1, en la que dicho recubrimiento de aleación de plomo
fundido es una aleación ternaria de
plomo-bario-estaño, en la que dicho
contenido de estaño es del 1,5% y dicho contenido de bario es del
0,05%.
9. La rejilla positiva con recubrimiento de la
reivindicación 1, en la que dicho recubrimiento de aleación de plomo
fundido es una aleación cuaternaria de
plomo-bario-estaño-plata,
en la que dicho contenido de estaño es del 1,5%, dicho contenido de
bario es del 0,05% y dicho contenido de plata es del 0,05%.
10. Un procedimiento de recubrimiento de una
rejilla de batería positiva (20) para una batería de plomo ácido
(52), que comprende:
proporcionar una primera capa (38) a un
procedimiento de recubrimiento de superficie (34), siendo dicha
primera capa un material de aleación de plomo o plomo forjado;
proporcionar una segunda capa (40) a dicho
procedimiento de recubrimiento de superficie, siendo dicha segunda
capa un material de aleación de plomo fundido; y
recubrir una superficie de dicha primera capa
con dicha segunda capa para formar una banda con recubrimiento (42),
seleccionándose dicho material de aleación de plomo fundido entre el
grupo que consiste en aleaciones binarias de
plomo-estaño, aleaciones ternarias de
plomo-calcio-estaño, aleaciones
cuaternarias de
plomo-calcio-estaño-plata,
aleaciones ternarias de
plomo-bario-estaño; y aleaciones
cuaternarias de
plomo-bario-estaño-plata
según se define en una de las reivindicaciones 1 a 9.
11. El procedimiento de la reivindicación 10, en
el que dicho procedimiento de recubrimiento de superficie se
selecciona entre el grupo que consiste en procedimientos de
recubrimiento de soldadura, procedimientos de reflujo de llama,
pulverización térmica y procedimientos de recubrimiento por
tambor/rodillo.
12. El procedimiento de la reivindicación 10, en
el que dicho procedimiento de recubrimiento de superficie
proporciona calor para fundir dicha segunda capa en dicha primera
capa, siendo dicho calor insuficiente para recristalizar dicho
material de aleación de plomo o plomo forjado de dicha primera
capa.
13. El procedimiento de la reivindicación 12,
que comprende además:
suministro de dicha banda con recubrimiento a un
procedimiento de presión (48) para incrementar la adhesión entre
dicha primera capa y dicha segunda capa.
14. El procedimiento de la reivindicación 13, en
el que dicho procedimiento de presión no reorienta una estructura de
granos aleatoria de dicha segunda capa.
15. Una rejilla positiva con recubrimiento
obtenible con un procedimiento según una cualquiera de las
reivindicaciones 10 a 14.
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