ES2280085T3 - Procedimiento para la sintesis en fase solida de compuestos de aldehidos, cetonas y acido hidroxamico. - Google Patents
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Abstract
PROCEDIMIENTOS PARA LA SINTESIS EN FASE SOLIDA DE ALDEHIDOS, CETONAS, OXIMAS, AMINAS Y COMPUESTOS DE ACIDO HIDROXAMICO. SE DESCRIBEN TAMBIEN CIERTOS COMPUESTOS A BASE DE RESINA DE HIDROXALAMINO POLIMERO UTILES EN ESTOS PROCEDIMIENTOS.
Description
Procedimiento para la síntesis en fase sólida de
compuestos de aldehídos, cetonas y ácido hidroxámico.
Esta invención se refiere a procedimientos para
la síntesis en fase sólida de aldehídos, cetonas y compuestos de
ácido hidroxámico y a compuestos poliméricos de resina de
hidroxilamina útiles para ellos.
Las técnicas sintéticas en fase sólida, en las
que un reactivo se inmoviliza sobre un material polimérico que es
inerte a los reactivos y condiciones de reacción empleadas, además
de ser insoluble en el medio usado, son importantes herramientas
para preparar amidas, péptidos y ácidos hidroxámicos. Se puede
encontrar un resumen de las muchas técnicas para la síntesis de
péptidos en fase sólida en J.M. Stewart and J.D. Young, Solid Phase
Peptide Synthesis, 2^{nd} Ed., Pierce Chemical Co. (Chicago, IL,
1984); J. Meienhofer, Hormonal Proteins and Peptides, vol. 2, p.
46, Academic Press (New York), 1973; y E. Atherton and R.C.
Sheppard, Solid Phase Peptide Synthesis: A Practical Approach, IRL
Press en Oxford University Press (Oxford, 1989). Para el uso de
metodología de fase sólida en la preparación de moléculas no
péptidos véase Leznoff, C.C., Acc. Chem. Res., 11,
327-333 (1978).
Varios reactivos poliméricos han encontrado uso
sintético en transformaciones de grupo funcional simple. Véase A.
Akelah and D.C. Sherrington, Application of Functionalized Polymers
in Organic Synthesis, Chem Rev., 81 557-587 (1981)
and W.T. Ford and E.C. Blossey, Polymer Supported Reagents, Polymer
supported Catalyst, and Polymer Supported Coupling Reactions, in
Preparative Chemistry using Supported Reagents, Pierre Laszlo, ed.,
Academic Press Inc., 193-212 (1987). Para el uso de
reactivos poliméricos en reacciones de oxidación véase J.M.J.
Frechet et al., J. Org. Chem., 43 2618 (1978) and G. Gainelli
et al., J. Am. Chem. Soc., 98, 6737 (1976). Para el uso de
reactivos poliméricos en reacciones de halogenación véase J.M.J.
Frechet et al., J. Macromol. Sci. Chem.,
A-11, 507 (1977) y D.C. Sherrington et al.,
Eur. Polym J., 13, 73 (1977). Para el uso de reactivos poliméricos
en reacciones de epoxidación véase J.M.J. Frechet et al.,
Macromolecules, 8, 130 (1975) and C.R. Harrison et al., J.
Chem. Soc. Chem. Commun., 1009 (1974). Para el uso de reactivos
poliméricos en reacciones de acilación véase M.B. Shambhu et
al., Tet. Lett., 1627 (1973) and M.B. Shambhu et al., J.
Chem. Soc. Chem. Commun., 619 (1974). Para el uso de reactivos
poliméricos en reacciones de Wittig véase S.V. MacKinley et
al., J. Chem. Soc. Chem. Commun., 134 (1972).
Los reactivos poliméricos también han encontrado
amplio uso en síntesis combinatoria y para preparar librerías
combinatorias. Véase F. Balkenhohl et al., Angew. Chem. Int.
Ed. Engl., 35, 2288-2337 (1996) and L.A. Thompson
et al., Chem. Rev., 96, 555-600 (1996).
Un reactivo polimérico tiene la ventaja de
facilidad de separación de reactivos o productos de bajo peso
molecular por filtración o precipitación selectiva. El reactivo
polimérico se puede usar también en exceso para efectuar reacciones
rápidas y cuantitativas tal como en el caso de acilaciones, o se
puede usar un gran exceso de reactivos para llevar el equilibrio de
la reacción hacia la formación de producto para proporcionar una
conversión a producto esencialmente cuantitativa, como se ve en la
síntesis de péptidos en fase sólida. Una ventaja adicional de los
reactivos y catalizadores soportados es el hecho de que son
reciclables y de que se prestan fácilmente a procedimientos
automatizados. Además, los análogos soportados de reactivos olorosos
o tóxicos son más seguros de usar.
La publicación de solicitud PCT no. WO96/26223
describe la síntesis de compuestos de ácido hidroxámico usando un
substrato de hidroxilamina de fase sólida.
Prasad et al. describen un compuesto de
resina de
O-metilhidroxilamina-poliestireno en
J. Steroid Biochem., 18, 257-261 (1983).
Esta invención se refiere a un procedimiento
para la preparación de un compuesto de cetona de fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
en la que R_{c} y R_{a} son
independientemente alifático o aromático, que
comprende
\newpage
(a) hacer reaccionar un compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico N-alquilado de
fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que
es un soporte sólido, L está ausente o es un
grupo de unión y R_{b} es alifático o arilo con un reactivo
organometálico de fórmula R_{c}M en la que R_{c} es un anión
alifático o arilo y M es un catión metálico; y
(b) liberar el compuesto de cetona de la
resina.
En otro aspecto, esta invención se refiere a un
procedimiento para la preparación de un compuesto de aldehído de
fórmula R_{a}CHO en la que R_{a} es como se define
anteriormente, que comprende
(a) hacer reaccionar un compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico N-alquilado de
fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que
L y R_{a} y R_{b} se definen
anteriormente;
con un agente reductor; y
(b) liberar el compuesto de aldehído de la
resina.
En otro aspecto, esta invención se refiere a un
procedimiento para la preparación de un compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico N-alquilado de
fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que
L y R_{a} y R_{b} se definen anteriormente,
que comprende
\newpage
(a) copular un compuesto de ácido carboxílico de
fórmula R_{a}CO_{2}H con un compuesto polimérico de resina de
hidroxilamina de fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
para formar un compuesto polimérico
de resina de ácido
hidroxámico.
\vskip1.000000\baselineskip
(b) hacer reaccionar un compuesto
polimérico de resina de ácido hidroxámico con un agente de
alquilación de fórmula R_{b}LG en el que LG es un grupo
saliente.
En otro aspecto, esta invención se refiere a un
procedimiento para la preparación de un compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico N-alquilado de
fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que
L y R_{a} y R_{b} se definen anteriormente,
que comprende
(a) hacer reaccionar un compuesto polimérico de
resina de hidroxilamina N-protegida de fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
en la que P es un grupo protector
de amina, con un agente de alquilación de fórmula R_{b}LG en la
que LG se define anteriormente, para formar un compuesto polimérico
de resina de hidroxilamina N-alquilada
N-protegida de
fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
\newpage
(b) retirar el grupo protector de
amina para formar un compuesto polimérico de resina de hidroxilamina
N-alquilada de
fórmula
(c) copular el compuesto polimérico
de resina de hidroxilamina N-alquilada con un
compuesto de ácido carboxílico de fórmula
R_{a}CO_{2}H.
Tal como se usan anteriormente, y a lo largo de
la descripción de la invención, los siguientes términos, a menos
que se indique de otro modo, se entenderá que tienen los siguientes
significados.
"Soporte sólido" quiere decir un substrato
sólido que es inerte a los reactivos y condiciones de reacción
descritas aquí, además de ser substancialmente insoluble en el medio
usado. Los soportes sólidos representativos incluyen substratos
inorgánicos tales como kieselguhr, gel de sílice, y vidrio de poro
controlado; polímeros orgánicos que incluyen poliestireno,
incluyendo 1-2%
copoliestireno-divinilbenceno (forma de gel) y
20-40% de
copoliestireno-divinilbenceno (forma macroporosa),
polipropileno, polietilenglicol, poliacrilamida, celulosa, y
similares; y composiciones de composite inorgánicas/poliméricas
tales como poliacrilamida soportada dentro de una matriz de
partículas de kieselguhr. Véase J.M. Stewart and J.D. Young, Solid
Phase Peptide Synthesis, 2^{nd} Ed., Pierce Chemical Co.
(Chicago, IL, 1984).
Además, el "soporte sólido" incluye un
soporte sólido como se describe anteriormente que está unido a un
segundo soporte inerte tal como las agujas descritas en Technical
Manual, Multipin^{TM} SPOC, Chiron Technologies (1995) y
referencias en él que comprende una cabeza basada en polietileno o
polipropileno separable injertada con un copolímero de metacrilato
aminofuncionalizado y un tronco inerte.
Además, el "soporte sólido" incluye
soportes poliméricos tales como los soportes de polietilenglicol
descritos por Janda et al., Proc. Natl. Acad. Sci. USA, 92,
6419-6423 (1995) y S. Brenner, WO 95/16918, que son
solubles en muchos disolventes pero se pueden precipitar por la
adición de un disolvente precipitante.
"Compuesto polimérico de resina de
hidroxilamina" quiere decir un soporte sólido como se define
anteriormente que está modificado químicamente como es conocido en
la técnica para incorporar una pluralidad de grupos hidroxilamina
(-ONH_{2}) o hidroxilamina protegida (-ONHP). Los grupos
hidroxilamina o hidroxilamina protegida están convalentemente
unidos directamente al soporte sólido o unidos al soporte sólido por
enlaces covalentes por medio de un grupo de unión. Los compuestos
poliméricos de resina de hidroxilamina según el aspecto del
procedimiento de esta invención se designan aquí como
en la
que
es un soporte sólido como se define aquí, L está
ausente o es un grupo de unión y P es un grupo protector de
amina.
"Grupo de unión" y "enlace" quiere
decir un grupo por medio del cual la funcionalidad amino o
aminometilo puede estar covalentemente unida al soporte sólido. El
grupo de unión es generalmente inerte a los reactivos y condiciones
de reacción descritas aquí.
"Grupo protector de amina" quiere decir un
grupo fácilmente retirable que se sabe en la técnica que protege al
grupo amino de reacciones indeseables durante los procedimientos
sintéticos y que es selectivamente retirable. El uso de grupos
protectores de amino es bien conocido en la técnica para proteger de
reacciones indeseables durante un procedimiento sintético y se
conocen muchos de tales grupos protectores, cf, por ejemplo, T.H.
Greene and P.G.M Wuts, Protective Groups in Organic Synthesis,
2^{nd} edition, John Wiley & Sons, New York (1991),
incorporado aquí como referencia. Los grupos protectores de amina
representativos incluyen formilo, acetilo, cloroacetilo,
tricloroacetilo, o-nitrofenilacetilo,
o-nitrofenoxiacetilo, trifluoroacetilo,
acetoacetilo, 4-clorobutirilo, isobutirilo,
o-nitrocinamoilo, picolinoilo, acilisotiocianato,
aminocaproilo, benzoilo, metoxicarbonilo,
9-fluorenilmetoxicarbonilo (Fmoc),
2,2,2-trifluoroetoxicarbonilo,
2-trimetilsililetoxicarbonilo (Teoc),
viniloxicarbonilo, aliloxicarbonilo,
t-butiloxicarbonilo (BOC),
1,1-dimetilpropiniloxicarbonilo, benciloxicarbonilo
(Cbz), p-nitrobenciloxicarbonilo,
2,4-diclorobenciloxicarbonilo, aliloxicarbonilo
(Aloc), 2-(p-bifenil)isopropiloxicarbonilo
(Bpoc), adamantiloxicarbonilo (Adoc),
2-(3,5-dimetoxifenil)propil-2-oxicarbonilo
(Ddz), t-butilo (t-Bu),
p-metoxibenciloxicarbonilo (Moz),
p-nitrobenciloxicarbonilo
(4-NO_{2}-Z),
2-(fenilsulfonil)etoxicarbonilo,
2,4-dimetoxibenciloxicarbonilo,
o-nitrobenciloxicarbonilo,
1-(2-oxo-1,2-difeniletil)metiloxicarbonilo,
(1,3-ditiona-2-il)metoxicarbonilo
(Dmoc), piridiletilo (Pyroc),
4-nitrofenilaliloxicarbonilo (Noc),
2-nitro-4,5-dimetoxibenciloxicarbonilo,
dimetil-t-butil-sililo,
o-nitrobencilsulfonilo (o-Nbs),
p-nitrobencilsulfonilo (p-Nbs),
2-nitro-4-trifluorometilbencenosulfonilo,
y similares.
"Aminoácido natural" quiere decir un
compuesto de ácido carboxílico que tiene un grupo amino \alpha
respecto al grupo carboxilato, es decir, un compuesto de fórmula
H_{2}N-CHR-CO_{2}H en la que R
es alifático o aromático como se define aquí. Los aminoácidos
preferidos tienen una estequiometría L en el carbono \alpha. Los
aminoácidos naturales más preferidos son los llamados
\alpha-aminoácidos naturales, es decir, alanina,
valina, leucina, isoleucina, prolina, fenilalanina, triftófano,
metionina, glicina, serina, treonina, cisteína, tirosina,
asparagina, glutamina, ácido aspártico, ácido glutámico, lisina,
arginina e histidina.
"Péptido" y "polipéptido" quiere decir
un polímero en el que los monómeros son restos de aminoácido natural
o no natural unidos conjuntamente por medio de enlaces amida. La
expresión "columna vertebral de péptido" quiere decir la serie
de enlaces amida por medio de los cuales están unidos los restos de
aminoácido. La expresión "resto de aminoácido" quiere decir
las unidades individuales de aminoácido incorporadas en los péptidos
o polipéptidos.
"Aminoácido no natural" quiere decir un
compuesto de ácido carboxílico que tiene un grupo amino en él en una
posición distinta de en \alpha con respecto al grupo carboxilato.
Los aminoácidos no naturales representativos incluyen
\beta-alanina y ácido
\gamma-aminobutírico.
"Alifático" quiere decir un compuesto o
radical que no contiene un anillo aromático. Los grupos alifáticos
representativos incluyen alquilo, alquenilo, alquinilo,
cicloalquilo, cicloalquenilo y similares.
"Aromático" quiere decir un compuesto o
radical que contiene por lo menos un anillo aromático. La expresión
"anillo aromático" incluye anillos tanto de arilo como de
heteroarilo como se define aquí. Los grupos aromáticos
representativos incluyen arilo, arilalquenilo, arilalquilo,
arilalquinilo, bencilo, heteroarilo, heteroarilalquenilo,
heteroarilalquilo, heteroarilalquinilo, y similares.
"Bioisóstero de ácido" quiere decir un
grupo que tiene similaridades químicas y físicas que producen
propiedades biológicas ampliamente similares (véase, Lipinski,
Annual Reports in Medicinal Chemistry, 1986, 21, p. 283.
"Bioisosterism In Drug Design"; Yun, Hwahak Sekye, 1993, 33, p.
576-579; "Application of Bioisosterism To New
Drug Design", Zhao, Huaxue Tongbao, 1995, p.
34-38. "Bioisosteric Replacement And Development
Of Lead Compouns In Drug Design"; Graham, Theochem, 1995, 343,
p. 105-109. "Theoretical Studies Applied To Drug
Design: ab initio Electronic Distributions In Bioisosteres").
Los ejemplos de bioisósteros de ácido apropiados incluyen:
-C(=O)-NH-OH,
-C(=O)-CH_{2}OH,
-C(=O)-CH_{2}SH,
-C(=O)-NH-CN, sulfo, fosfono,
alquilsulfonilcarbamoilo, tetrazolilo, arilsulfonilcarbamoilo,
heteroarilsulfonilcarbamoilo, N-metoxicarbamoilo,
3-hidroxi-3-ciclobuteno-1,2-diona,
3,5-dioxo-1,2,4-oxadiazolidinilo
o fenoles heterocíclicos tales como
3-hidroxiisoxazolilo y
3-hidroxi-1-metilpirazolilo.
"Acilo" quiere decir un grupo
H-CO- o alquil-CO- en el que el
grupo alquilo es como se define aquí. Los acilos preferidos
contienen un alquilo inferior. Los grupos acilo ejemplares incluyen
formilo, acetilo, propanoilo, 2-metilpropanoilo,
butanoilo y palmitoilo.
"Acilamino" es un grupo
acil-NH- en el que acilo es como se define aquí.
"Alquenilo" quiere decir un grupo
hidrocarbonado alifático que contiene un doble enlace
carbono-carbono y que puede ser lineal o ramificado
que tiene de alrededor de 2 a alrededor de 15 átomos de carbono en
el cadena. Los grupos alquenilo preferidos tienen de 2 a alrededor
de 12 átomos de carbono en la cadena; y más preferentemente de
alrededor de 2 a alrededor de 4 átomos de carbono en la cadena.
Ramificado quiere decir que uno o más grupos alquilo inferior tales
como metilo, etilo o propilo están unidos a una cadena de alquenilo
lineal. "Alquenilo inferior" quiere decir de alrededor de 2 a
alrededor de 4 átomos de carbono en la cadena que puede ser lineal
o ramificada. El grupo alquenilo puede estar substituido con uno o
más halo o cicloalquilo. Los grupos alquenilo ejemplares incluyen
etenilo, propenilo, n-butenilo,
i-butenilo,
3-metilbut-2-enilo,
n-pentenilo, heptenilo, octenilo,
ciclohexilbutenilo y decenilo.
"Alcoxi" quiere decir un grupo
alquil-O- en el que el grupo alquilo es como se
define aquí. Los grupos alcoxi ejemplares incluyen metoxi, etoxi,
n-propoxi, i-propoxi,
n-butoxi y heptoxi.
\newpage
"Alcoxialquilo" quiere decir un grupo
alquil-O-alquil- en el que los
grupos alquilo son independientemente como se define aquí. Los
grupos alcoxialquilo ejemplares incluyen metoxietilo, etoximetilo,
n-butoximetilo y ciclopentilmetiloxietilo.
"Alcoxicarbonilo" quiere decir un grupo
alquil-O-CO- en el que el grupo
alquilo es como se define aquí. Los grupos alcoxicarbonilo
ejemplares incluyen metoxi- y etoxi-carbonilo.
"Alquilo" quiere decir un grupo
hidrocarbonado alifático que puede ser lineal o ramificado que tiene
de alrededor de 1 a alrededor de 15 átomos de carbono en la cadena.
Los grupos alquilo preferidos tiene de 1 a alrededor de 12 átomos
de carbono en la cadena. Ramificado quiere decir que uno o más
grupos alquilo inferior tales como metilo, etilo o propilo están
unidos a una cadena alquilo lineal. "Alquilo inferior" quiere
decir de alrededor de 1 a alrededor de 4 átomos de carbono en la
cadena que puede ser lineal o ramificada. El grupo alquilo puede
estar substituido con uno o más halo, cicloalquilo o cicloalquenilo.
Los grupos alquilo ejemplares incluyen metilo, fluorometilo,
difluorometilo, trifluorometilo, ciclopropilmetilo,
ciclopentilmetilo, etilo, n-propilo,
i-propilo, n-butilo,
t-butilo, n-pentilo,
3-pentilo, heptilo, octilo, nonilo, decilo y
dodecilo. Los grupos alquilo preferidos para R^{9} incluyen
metilo, fluorometilo, difluorometilo, trifluorometilo, y etilo.
"Alquilsulfinilo" quiere decir un grupo
alquil-SO- en el que el grupo alquilo es como se
define anteriormente. Los grupos preferidos son aquellos en los que
el grupo alquilo es alquilo inferior.
"Alquilsulfonilo" quiere decir un grupo
alquil-SO_{2}- en el que el grupo alquilo es como
se define anteriormente. Los grupos preferidos son aquellos en los
que el grupo alquilo es alquilo inferior.
"Alquiltio" quiere decir un grupo
alquil-S- en el que el grupo alquilo es como se
describe previamente. Los grupos alquiltio ejemplares incluyen
metiltio, etiltio, i-propiltio y hetptiltio.
"Alquinilo" quiere decir un grupo
hidrocarbonado alifático que contiene un triple enlace
carbono-carbono y que puede ser lineal o ramificado
que tiene de alrededor de 2 a alrededor de 15 átomos de carbono en
la cadena. Los grupos alquinilo preferidos tienen de 2 a alrededor
de 12 átomos de carbono en la cadena; y más preferentemente de
alrededor de 2 a alrededor de 4 átomos de carbono en la cadena.
Ramificado quiere decir que uno o más grupos alquilo inferior tales
como metilo, etilo o propilo están unidos a una cadena de alquenilo
lineal. Los grupos alquinilo ejemplares incluyen etinilo,
propinilo, n-butinilo, i-butinilo,
3-metilbut-2-inilo,
y n-pentinilo.
"Aroilo" quiere decir un grupo
aril-CO- en el que el grupo arilo es como se define
aquí. Los grupos ejemplares incluyen benzoilo y 1- y
2-naftoilo.
"Aroilamino" es un grupo
aroil-NH- en el que aroil es como se define
aquí.
"Arilo" como grupo o parte de un grupo
denota un resto carbocíclico aromático monocíclico o multicíclico
opcionalmente substituido de alrededor de 6 a alrededor de 10
átomos de carbono. Los arilo ejemplares incluyen fenilo o naftilo,
o fenilo o naftilo substituido con uno o más grupos arilo
substituyentes que pueden ser iguales o diferentes, en los que
"substituyente de grupo arilo" incluye acilo, acilamino,
alcoxi, alcoxicarbonilo, alquilo, alquilsulfinilo, alquilsulfonilo,
alquiltio, aroilo, aroilamino, arilo, arilalcoxi,
arilalcoxicarbonilo, arilalquilo, arilalquiltio, ariloxi,
ariloxicarbonilo, arilsulfinilo, arilsulfonilo, ariltio, carboxi,
ciano, halo, heteroarilo, heteroarilalquilo, heteroarilamino,
heteroariloxi, hidrógeno, hidroxi, hidroxialquilo, nitro,
Y^{1}Y^{2}N-, Y^{1}Y^{2}NCO-, Y^{1}Y^{2}NSO_{2}-, en
las que Y^{1} e Y^{2} son independientemente hidrógeno,
alquilo, arilalquilo, y arilo, o Y^{1} e Y^{2} tomados
conjuntamente con el átomo de N por medio del que están unidos
Y^{1} e Y^{2} forman un heterociclilo de 4-7
miembros que opcionalmente contiene un heteroátomo adicional
seleccionado de O, S, NH o NR^{13}. Los grupos arilo
substituyentes preferidos incluyen acilo, acilamino,
alcoxicarbonilo, alquilo, alquiltio, aroilo, ciano, halo, hidrógeno,
hidroxi, nitro, Y^{1}Y^{2}N-, Y^{1}Y^{2}NCO- o
Y^{1}Y^{2}NSO_{2}-, en las que Y^{1} e Y^{2} son
independientemente hidrógeno y alquilo.
"Arilalquenilo" quiere decir un grupo
aril-alquenil- en el que el arilo y alquenilo son
como se describe previamente. Los alrilalquenilos preferidos
contienen un resto alquenilo inferior. Los grupos arilalquenilo
ejemplares incluyen estirilo y fenilalilo.
"Arilalquilo" quiere decir un grupo
aril-alquil- en el que el arilo y alquilo son como
se describe previamente. Los arilalquilos preferidos contienen un
resto alquilo inferior. Los grupos arilalquilo ejemplares incluyen
bencilo, 2-fenetilo y naftalenometilo.
"Arilalquiloxi" quiere decir un grupo
arilalquil-O- en el que el grupo arilalquilo es como
se describe previamente. Los grupos arilalquiloxi ejemplares
incluyen benciloxi y 1- o 2-naftalenometoxi.
"Arilalquiloxialquenilo" quiere decir un
grupo arilalquilo-O-alquenilo en el
que los grupos arilalquilo y alquenilo son como se describe
previamente. Un grupo arilalquiloxialquenilo ejemplar es
3-benciloxialilo.
"Arilalquiloxialquilo" quiere decir un
grupo arilalquil-O-alquilo en el que
los grupos arilalquilo y alquilo son como se describe previamente.
Un grupo arilalquiloxialquilo ejemplar es benciloxietilo.
"Arilalcoxicarbonilo" quiere decir un grupo
arilalquil-O-CO-. un grupo
arilalcoxicarbonilo ejemplar es benciloxicarbonilo.
"Arilalquiltio" quiere decir un grupo
arilalquil-S- en el que el grupo arilalquilo es como
se describe previamente. Un grupo arilalquiltio ejemplar es
benciltio.
"Arilalquinilo" quiere decir un grupo
aril-alquinil- en el que aril y alquinil son como se
describe previamente. Los arilalquinilos preferidos contienen un
resto alquinilo inferior. Un grupo arilalquinilo ejemplar es
fenilacetinilo.
"Ariloxi" quiere decir un grupo
aril-O- en el que el grupo arilo es como se describe
previamente. Los grupos ariloxi ejemplares incluyen fenoxi y
naftoxi.
"Ariloxialquenilo" quiere decir un grupo
aril-O-alquenil- en el que los
grupos arilo y alquenilo son como se describe previamente. Un grupo
ariloxialquenilo ejemplar es fenoxialilo.
"Ariloxialquilo" quiere decir un grupo
aril-O-alquilo en el que los grupos
arilo o alquilo son como se describe previamente. Un grupo
ariloxialquilo ejemplar es fenoxipropilo.
"Ariloxicarbonilo" quiere decir un grupo
aril-O-CO- en el que el grupo arilo
es como se describe previamente. Los grupos ariloxicarbonilo
ejemplares incluyen fenoxi- y naftoxi-carbonilo.
"Arilsulfinilo" quiere decir un grupo
aril-SO- en el que el grupo arilo es como se
describe previamente.
"Arilsulfonilo" quiere decir un grupo
aril-SO_{2}- en el que el grupo arilo es como se
describe previamente.
"Ariltio" quiere decir un grupo
aril-S- en el que el grupo arilo es como se describe
previamente. Los grupos ariltio ejemplares incluyen feniltio y
naftiltio.
"Amina
(N-carbamoil)ciclica" quiere decir un
sistema de anillo de cicloalquilo de 5 a 7 miembros en el que uno
de los átomos de carbono del anillo está reemplazado por el grupo
N-C(=O)-NH_{2}. Una amina
(N-carbamoil)cíclica ejemplar es
N-carbamoilpiperidinilo.
"Bencilo" quiere decir un grupo
fenil-CH_{2}- en el que el anillo fenilo está sin
substituir o substituido con uno o más substituyentes
independientemente seleccionados de alquilo, alcoxi, halógeno y
haloalquilo.
"Cicloalquenilo" quiere decir un sistema de
anillo monocíclico o multicíclico no aromático que contiene un
doble enlace carbono-carbono y tiene de alrededor de
3 a alrededor de 10 átomos de carbono. Los anillos de
cicloalquenilo monocíclico preferidos incluyen ciclopentenilo,
ciclohexenilo o cicloheptenilo; es más preferido ciclopentenilo. Un
anillo de cicloalquenilo multicíclico preferido es norbornenilo. El
grupo cicloalquenilo puede estar substituido con uno o más halo,
metileno (H_{2}C=) o alquilo.
"Cicloalquilo" quiere decir un sistema de
anillo mono- o multi-cíclico no aromático de
alrededor de 3 a alrededor de 10 átomos de carbono. Los anillos de
cicloalquilo monocíclico ejemplares incluyen ciclopropilo,
ciclopentilo, ciclohexilo y cicloheptilo. Los anillos de
cicloalquilo monocíclico preferidos para R^{18} incluyen
ciclopentilo y ciclohexilo. Un anillo de cicloalquilo monocíclico
preferido para R^{19} es ciclopropilo. Los anillos de
cicloalquilo multicíclico ejemplares incluyen perhidronaftilo,
adamant(1- o 2-)ilo y norbornilo y grupos espirobicíclico,
por ejemplo
espiro[4,4]non-2-ilo.
El grupo cicloalquilo puede estar substituido con uno o más grupos
halo, metileno (H_{2}C=) o alquilo. Los anillos cicloalquilo
monocíclico preferidos para R^{18} incluyen ciclopentilo y
ciclohexilo. Los grupos cicloalquilo preferidos para R^{19}
incluyen ciclopropilo.
"Cicloalquiloxi" quiere decir un grupo
cicloalquil-O- en el que el grupo cicloalquilo es
como se describe previamente. Los grupos cicloalquiloxi ejemplares
incluyen ciclopentiloxi y ciclohexiloxi.
"Ciclocarbamoilalquilo" quiere decir un
compuesto de fórmula
en la que el grupo ciclocarbamoilo
consiste en el resto de anillo oxooxazaheterociclilo, y el grupo
alquilo es como se describe previamente. El resto alquilo puede
estar unido al carbamoilo por medio de un átomo de carbono o del
átomo de nitrógeno del resto carbamoilo. Un grupo
ciclocarbamoilalquilo ejemplar es
N-oxazolidinilpropilo.
"Cicloimidilo" quiere decir un compuesto de
fórmula
en la que el grupo imida consiste
en el resto de anillo de oxodiazaheterociclilo, y el grupo alquilo
es como se describe previamente. El resto alquilo puede estar unido
al carbamoilo por medio de un átomo de carbono o átomo de nitrógeno
del resto carbamoilo. Un grupo imidaalquilo ejemplar es
N-ftalimidapropilo.
"Halo" y "halógeno" quieren decir
fluoro, cloro, bromo o yodo. Son preferidos fluoro, cloro o bromo y
son más preferidos fluoro o cloro.
"Haloalquilo" quiere decir un grupo alquilo
como se define aquí substituido con uno o más átomos de halógeno.
Los grupos haloalquilo representativos incluyen clorometilo,
bromoetilo, trifluorometilo y similares.
"Heteroaroilo" quiere decir un grupo
heteroaril-CO- en el que grupo heteroarilo es como
se define aquí. Un grupo heteroaroilo ejemplar es
piridilcarbonilo.
"Heteroarilo" como grupo o parte de un
grupo denota un sistema de anillo hidrocarbonado monocíclico o
multicíclico aromático opcionalmente substituido de alrededor de 5
a alrededor de 10 átomos en el que uno o más de los miembros del
anillo es/son un(os) elemento/elementos distinto(s) de
carbono, por ejemplo, nitrógeno, oxígeno o azufre. El
"heteroarilo" puede también estar substituido con uno o más
substituyentes de grupo arilo. Los ejemplos de grupos heteroarilo
opcionalmente substituidos apropiados incluyen los grupos furilo,
isoxazolilo, isoquinolilo, isotiazolilo,
1,2,3-oxadiazol, 1,2,4-oxadiazol,
1,2,5-oxadiazol, 1,3,4-oxadiazol,
pirazinilo, piridazinilo, piridilo, pirimidinilo, quinolinilo,
1,3,4-tiadiazolilo, tiazolilo, tienilo, y 1,2,3- y
1,2,4-triazolilo, opcionalmente substituidos con
uno o más grupos arilo substituyentes como se define
anteriormente.
Cuando R^{18} o R^{19} contienen un grupo
heteroarilo opcionalmente substituido este puede representar
particularmente un grupo "azaheteroarilo" opcionalmente
substituido (en el que el término "azaheteroarilo" quiere
decir un grupo heteroarilo de alrededor de 5 a alrededor de 10
miembros en el anillo en el que uno o más de los miembros del
anillo es/son nitrógeno).
Los substituyentes opcionales para el grupo
heteroarilo dentro de R^{18} o R^{19} incluyen, por ejemplo,
átomos de halógeno y grupos alquilo, arilo, arilalquilo, hidroxi,
oxo, hidroxialquilo, haloalquilo (por ejemplo, trifluorometilo),
alcoxi, haloalcoxi (por ejemplo, trifluorometoxi), ariloxi y
arilalquiloxi. Los grupos heteroarilo preferidos dentro de R^{18}
incluyen tienilo, tiazolilo, piridilo,
1,2,4-oxadiazol o 1,3,4-oxadiazol
opcionalmente substituidos. Un grupo heteroarilo preferido dentro
de R^{19} es piridilo opcionalmente substituido.
"Heteroarilalquenilo" quiere decir un grupo
heteroaril-alquenil- en el que heteroarilo y
alquenilo son como se describe previamente. Los
heteroarilalquenilos preferidos contienen un resto alquenilo
inferior. Un grupo heteroarilalquenilo ejemplar es
4-piridilvinilo.
"Heteroarilalquilo" quiere decir un grupo
heteroaril-alquil- en el que heteroarilo y alquilo
son como se describe previamente. Los heteroarilalquilos preferidos
contienen un resto alquilo inferior. Un grupo heteroarilalquilo
ejemplar es 4-piridilmetilo.
"Heteroarilalquiloxi" quiere decir un grupo
heteroarilalquil-O- en el que el grupo
heteroarilalquilo es como se describe previamente. Un grupo
heteroarilalquiloxi ejemplar es
4-piridilmetiloxi.
"Heteroarilalquiloxialquenilo" quiere decir
un grupo
heteroarilalquil-O-alquenilo en el
que los grupos heteroarilalquilo y alquenilo son como se describe
previamente. Un grupo heteroarilalquiloxialquenilo ejemplar es
4-piridilmetiloxialilo.
"Heteroarilalquiloxialquilo" quiere decir
un grupo heteroarilalquil-O-alquilo
en el que los grupos heteroarilalquilo y alquilo son como se
describe previamente. Un grupo heteroarilalquiloxialquilo ejemplar
es 4-piridilmetiloxietilo.
"Heteroarilalquinilo" quiere decir un grupo
heteroaril-alquinil- en el que heteroarilo y
alquinilo son como se describe previamente. Los
heteroarilalquinilos preferidos contienen un resto alquinilo
inferior. Un grupo heteroarilalquinilo ejemplar es
4-piridiletinilo.
"Heterociclilo" quiere decir un sistema de
anillo monocíclico o multicíclico de alrededor de 4 a alrededor de
10 miembros en el que uno o más de los átomos en el sistema de
anillo es un elemento distinto de carbono escogido entre nitrógeno,
oxígeno o azufre. El heterociclilo puede estar opcionalmente
substituido con uno o más grupos alquilo substituyentes. Los restos
heterociclilo ejemplares incluyen quinuclidina,
pentametilenosulfuro, tetrahidropiranilo, tetrahidrotiofenilo,
pirrolidinilo, piperidinilo o tetrahidrofuranilo.
"Heterociclilalquilo" quiere decir un grupo
heterociclil-alquil- en el que heterociclilo y
alquilo son como se describe previamente. Los heterociclilalquilos
preferidos contienen un resto alquilo inferior. Un grupo
heteroarilalquilo ejemplar es tetrahidropiranilmetilo.
"Heterociclilalquiloxialquilo" quiere decir
un grupo
heterociclil-alquil-O-alquil-
en el que los grupos heterociclilo y alquilo independientemente son
como se describe previamente. Un grupo heteroarilalquilo ejemplar es
tetrahidropiranil-metiloximetilo.
"Hidroxialquilo" quiere decir un grupo
OH-alquil- en el que el alquilo es como se define
previamente. Los hidroxialquilo preferidos contienen alquilo
inferior. Los grupos hidroxialquilo ejemplares incluyen
hidroximetilo y 2-hidroxietilo.
"Bicicloarilo parcialmente saturado" quiere
decir un grupo en el que un grupo arilo y cicloalquilo se condensan
conjuntamente para formar una estructura bicíclica. Los grupos
arilalquilo ejemplares incluyen indanilo y tetrahidronaftilo,
especialmente indanilo.
Un procedimiento para la preparación de
aldehídos y cetonas según esta invención se describe en el Esquema
1 en el que R_{a} y R_{b} independientemente representan
cualquier grupo alifático o aromático susceptible a los disolventes
y reactivos utilizados en los procedimientos descritos aquí. Los
grupos R_{a} y R_{b} pueden estar substituidos adicionalmente y
pueden contener grupos funcionales apropiados para transformaciones
químicas adicionales mientras están unidos a la resina de
hidroxilamina. Se entiende que cuando estos grupos funcionales
poseen reactividad de tal modo que podrían potencialmente interferir
con las reacciones descritas a continuación, tales grupos
funcionales se deben proteger apropiadamente. Para un tratado
exhaustivo sobre la protección y desprotección de grupos
funcionales comunes véase T.H. Greene and P.G.M. Wuts, Protective
Groups in Organic Synthesis, 2^{nd} Edition, John Wiley &
Sons, New York (1991), incorporado aquí como referencia. R_{c}
representa cualquier grupo alifático o aromático susceptible de uso
como reactivo organometálico.
Esquema
1
Según el Esquema 1 precedente, un compuesto
polimérico de resina de hidroxilamina 1 se copula con un derivado
de ácido carboxílico de fórmula R_{a}CO_{2}H para formar el
compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico 2. La reacción
de copulación se realiza en presencia de un agente de activación
como es conocido en la técnica de la síntesis de péptidos. Los
agentes de activación representativos incluyen cloroformiato de
isopropilo, diisopropilcarbodiimida (DIC),
1-(3-dimetilaminopropil)-3-etilcarbodiimida
(EDC), 1-hidroxibenzotriazol (HOBT), cloruro de
bis(2-oxo-3-oxazolidinil)fosfónico
(BOP-Cl), hexafluorofosfato de
benzotriazol-1-iloxi-tris((dimetilamino)fosfonio
(BOP), hexafluorofosfato de
benzotriazol-1-iloxi-tris-pirrolidino-fosfonio
(PyBROP), hexafluorofosfato de
bromo-tris-pirrolidino-fosfonio
(PyBOP), tetrafluoroborato de
2-(1H-benzotriazol-1-il)-1,1,3,3-tetrametiluronio
(TBTU), hexafluoroborato de
2-(1H-benzotriazol-1-il)-1,1,3,3-tetrametiluronio
(HBTU), tetrafluoroborato de
2-[2-oxo-1-(2H)-piridil]-1,1,3,3-bispentametilenouronio
(TOPPipU), N,N'-diciclohexilcarbodiimida (DCC), y
similares. Los disolventes apropiados para la reacción de copulación
incluyen diclorometano, DMF, DMSO, THF, y similares. Los tiempos de
copulación varían de alrededor de 2 a alrededor de 24 horas,
dependiendo de la resina y el derivado de ácido carboxílico que se
van a copular, agente de activación, disolvente y temperatura. La
copulación se realiza a de alrededor de -10ºC a alrededor de 50ºC,
preferentemente a alrededor de temperatura ambiente.
La reacción de copulación se realiza
preferentemente a temperatura ambiente en DMF usando hidrocloruro de
1-(3-dimetilaminopropil)-3-etilcarbodiimida
durante alrededor de 12 horas.
El compuesto polimérico de resina de ácido
hidroxámico 2 se alquila a continuación con un agente de alquilación
de fórmula R_{b}LG, en la que LG es un grupo saliente en
presencia de una base no nucleófila tal como
1,8-diazabiciclo[4.5.0]undec-7-eno
(DBU) en un disolvente orgánico inerte tal como tolueno para formar
el compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado 3. El agente de alquilación RbLB se
puede añadir en una cantidad equimolar hasta un exceso de alrededor
de 25 equivalentes molares. Es preferido alrededor de 15
equivalentes molares. La base no nucleófila se puede añadir en una
cantidad equimolar hasta un exceso de alrededor de 10 equivalente
molares. Es preferido alrededor de 5 equivalentes molares. El grupo
saliente LG es cualquier grupo susceptible de desplazamiento
nucleófilo por el átomo de nitrógeno del compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico 2 en las condiciones de reacción
descritas anteriormente. Un grupo saliente preferido es halógeno.
Una muestra del compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado 3 se puede someter a acidolisis para
escindir el ácido hidroxámico substituido para confirmar que la
reacción avanza satisfactoriamente.
La reacción del compuesto polimérico de resina
de ácido hidroxámico N-alquilado 3 con un reactivo
organometálico de fórmula R_{c}M en la que R_{c} es un anión
alifático o aromático y M es un catión metálico, seguida de
hidrólisis ácida proporciona la cetona 4. Los reactivos
organometálicos preferidos son reactivos de organolitio de fórmula
R_{c}Li y reactivos de Grignard de fórmula R_{c}MgX en la que X
es halógeno. En una preparación preferida de cetonas según este
aspecto de la invención, el compuesto polimérico de resina de ácido
hidroxámico N-alquilado 3 se trata con R_{c}MgX
en éter dietílico a temperatura ambiente durante alrededor de 18
horas, y la mezcla de reacción se enfría rápidamente a continuación
por adición de HCl acuoso o KHSO_{4} acuoso para liberar la
cetona 4.
Se preparan aldehídos por tratamiento del
compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado 3 con un agente reductor hidruro,
seguido de hidrólisis ácida como se muestra en el Esquema 1
anterior. Los agentes reductores hidruro representativos incluyen
LiAlH_{4}, (iso-Bu)_{2}AlH,
LiAlH(O-t-Bu)_{3},
LiAlH_{4}-EtOH, LiAlH_{4}-MeOH,
y similares. Los agentes reductores preferidos son LiAlH_{4} y
LiAlH_{4}-MeOH. La hidrólisis ácida se realiza
preferentemente en KHSO_{4} acuoso.
Como se muestra en el Esquema 1, el compuesto
polilmérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado 3 es una amida del tipo de Weinreb útil
para la síntesis de aldehídos y cetonas (S. Nahm and S. Weinreb,
Tet. Lett. 1981, 22, 3815-3818). Este compuesto
polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado tiene ventajas sobre los ejemplos
previos de resina unida a amidas del tipo de Weinreb (J.A. Fehrentz,
M. Paris, A. Heitz, J. Velek, C.F. Liu, F. Winternitz, and J.
Martinez. Tet. Lett. 1995, 36, 7871-7874. b) T. Q.
Dinh and R.W. Armstrong, Tet. Lett., 1996, 37,
1161-1164) en que se puede
N-alquilar con grupos lipófilos voluminosos tales
como benzoilo, benzoilo substituido, naftilo o cualquier grupo
alquilo necesario para optimizar la reacción en la fase sólida. El
resto de
N-bencil-O-metilpiliestirenilo,
por ejemplo, es bien apropiado para formar un intermedio quelado
metálico estable. Se cree que el grupo bencilo lipófilo ayuda a
proteger el quelato ayudando a su estabilidad.
Un procedimiento preferido para la preparación
de aldehídos y cetonas se describe en el Esquema 2. En el Esquema
2, "P" designa un grupo protector de amina como se define
aquí.
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(Esquema pasa a página
siguiente)
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Esquema
2
Como se muestra en el Esquema 2 anterior, el
compuesto polimérico de resina de hidroxilamina se protege con un
grupo protector de amina para formar el compuesto polimérico de
resina de hidroxilamina N-protegida 6. El compuesto
polimérico de resina de hidroxilamina N-protegida 6
se alquila a continuación como se describe en el Esquema 1 anterior
para formar el compuesto polimérico de resina de hidroxilamina
N-protegida N-alquilada 7. La
retirada del grupo protector de amina proporciona el compuesto
polimérico de resina de hidroxilamina
mono-N-alquilada 8. La copulación de
8 con un compuesto de ácido carboxílico de fórmula R_{a}CO_{2}H
como se describe anteriormente proporciona el compuesto polimérico
de resina de ácido hidroxámico N-alquilado 3, que
se convierte a la cetona 4 o aldehído 5 como se describe en el
Esquema 1 anterior.
Los grupos protectores de amina preferidos
incluyen aliloxicarbonilo (Aloc), benciloxicarbonilo (Cbz),
p-metoxibenciloxicarbonilo (Moz),
p-nitrobenciloxicarbonilo
(4-NO_{2}-Z),
trimetilsililestoxicarbonilo (Teoc),
2,4-dimetoxibenciloxicarbonilo, u
o-nitrobenciloxicarbonilo,
o-nitrobencilsulfonilo (o-Nbs),
p-nitrobencilsulfonilo (p-Nbs), y
2-nitro-4-trifluorometilbencenosulfonilo.
El grupo protector de amina más preferido es
aliloxicarbonilo.
Los compuestos poliméricos de resina de
hidroxilamina N-protegida incluyen
Resina de
N-aliloxicarbonil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%
divinilbenceno),
resina de
N-aliloxicarbonil-4-[4-(O-metilhidroxilamina)-3-metoxifenoxi]-(N-4-metilbencidril)butiramida-copoli
(estireno-1% divinilbenceno),
(estireno-1% divinilbenceno),
resina de
N-aliloxicarbonil-4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-fenoximetil-copoli(estireno-1%
divinilbenceno,
resina de
N-aliloxicarbonil-4-[4-(1-aminoxietil)-2-metoxi-5-nitrofenoxi]-(N-4-metilbencidril)butiramida-copoli
(estireno-1% divinilbenceno),
(estireno-1% divinilbenceno),
resina de
N-aliloxicarbonil-O-hidroxilamina-2'-clorotritil-copoliestireno-1%
divinilbenceno,
resina de
N-aliloxicarbonil-O-hidroxilamina-tritil-copoliestireno-1%
divinilbenceno,
resina de
N-aliloxicarbonil-5-(4-O-metilhidroxilamina-3,5-dimetoxifenoxi-ácido
valérico-copoliestireno-1%
divinilbenceno,
resina de
N-aliloxicarbonil-4-O-metilhidroxilamina-3-metoxifenoxi-copoliestireno-1%
divinilbenceno,
resina de
N-aliloxicarbonil-4-(O-metilhidroxilamina)-2,3,5,6-tetrafluorofenoximetil-copoli(estireno-1%-divinil-
benceno,
benceno,
resina de
N-aliloxicarbonil-4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-2,3,5,6-tetrafluorofenoximetil-copoli
(estireno-1%-divinilbenceno y
(estireno-1%-divinilbenceno y
resina de
N-aliloxicarbonil-3-hidroxi-xanthidrolamina-copoliestireno-1%-divinilbenceno.
El compuesto polimérico de resina de
hidroxilamina N-protegida más preferido es resina de
N-aliloxicarbonil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divninilbenceno).
Cuando el compuesto de ácido carboxílico
R_{a}CO_{2}H representa un aminoácido o péptido natural o no
natural, los procedimientos descritos en los Esquemas 1 y 2
anteriores presentan una ruta fácil para la hasta este momento
difícil ruta para obtener compuestos de aldehído de aminoácido o
péptido.
La preparación del compuesto polimérico de
resina de hidroxilamina 1 se describe en el Esquema 8.
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Esquema
8
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Según el Esquema 8 precedente, un compuesto
polimérico de resina hidroxi 30 se convierte en el compuesto
polimérico de N-hidroxilftalimidoresina 36 por
copulación con N-hidroxiftalimida en condiciones de
Mitsunobu (Mitsunobu O., Synthesis 1981, 1) por conversión del
grupo hidroxi a un grupo saliente tal como mesilato seguido de
desplazamiento nucleófilo, o por reacción del compuesto polimérico
de resina hidroxi con N-hidroxiftalimida en
presencia de un ácido tal como ácido bencenosulfónico. La retirada
del grupo ftalimido proporciona el compuesto polimérico de resina
de hidroxilamina 1.
Por ejemplo, cuando 30 es resina de
4-(hidroximetil)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(resina de Wang), la N-hidroxiftalimida se copula
con la resina en presencia de diisopropilazodicarboxilato y
trifenilfosfina en DMF. La protección de ftalimido se retira por
metilaminolisis en THF a 40ºC. La reacción es completa en alrededor
de 2 horas. El uso de metilamina para escindir la protección de
ftalimida ofrece una ventaja significativa sobre el procedimiento
de hidrazinolisis comúnmente usado (Wolf et al., Can. J.
Chem. 48, 3572 (1970)).
Cuando se utiliza resina de
4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinil-
benceno) (resina Rink), 1 se prepara preferentemente por reacción del compuesto polimérico de resina hidroxi con N-hidroxi-ftalimida en DMF en presencia de ácido bencenosulfónico catalítico para formar el compuesto polimérico de resina de N-hidroxiftalimido 36. El grupo protector de ftalimido se retira a continuación por reacción con hidrato de hidrazina en terc-butanol a alrededor de 60ºC para dar el correspondiente compuesto polimérico de resina de hidroxilamina.
benceno) (resina Rink), 1 se prepara preferentemente por reacción del compuesto polimérico de resina hidroxi con N-hidroxi-ftalimida en DMF en presencia de ácido bencenosulfónico catalítico para formar el compuesto polimérico de resina de N-hidroxiftalimido 36. El grupo protector de ftalimido se retira a continuación por reacción con hidrato de hidrazina en terc-butanol a alrededor de 60ºC para dar el correspondiente compuesto polimérico de resina de hidroxilamina.
Una ruta alternativa para la resina polimérica
de hidroxilamina N-protegida 6 se describe en el
Esquema 9.
\newpage
Esquema
9
Según el Esquema 9 precedente, un compuesto
polimérico de resina hidroxi 30 se copula con un compuesto de
hidroxilamina N,N-diprotegido 37, en el que P y P'
son grupos protectores de amina como se describe en el Esquema 8
anterior para formar el compuesto polimérico de resina de
hidroxilamina N,N-diprotegida 38. El grupo
protector de amina P' se retira selectivamente a continuación para
formar el compuesto polimérico de resina de hidroxilamina
N-protegida 6.
En una realización preferida de la síntesis
descrita en el Esquema 9, P es bencilo y P' es aliloxicarbonilo. La
retirada selectiva del grupo protector aliloxicarbonilo se efectúa
por tratamiento con
tetraquis(trifenilfosfina)paladio(0).
El compuesto de hidroxilamina
N,N-diprotegido 37 se prepara por introducción
secuencial de los grupos protectores P y P' en un compuesto de
hidroxilamina O-protegido de fórmula
H_{2}NOP^{2} en la que P^{2} es un grupo protector de
hidroxi. Un grupo protector de hidroxi preferido es alquilo. Los
grupos protectores de amino P y P' se introducen a continuación
usando reactivos y condiciones de reacción bien conocidas en la
técnica de síntesis orgánica. Por ejemplo, la reacción de
O-terc-butilhidroxilamina con
aliloxicloroformiato da como resultado la formación de
N-aliloxicarbonil-O-terc-butilhidroxilamina,
que se hace reaccionar a continuación con bromuro de bencilo para
formar
N-bencil-N-alliloxicarbonil-O-terc-butilhidroxilamina.
El tratamiento de
N-bencil-N-aliloxicarbonil-O-terc-butilhidroxilamina
con ácido trifluoroacético da
N-bencil-N-aliloxicarbonilhidroxilamina.
Los compuestos poliméricos de resina de
hidroxilamina preferidos tienen fórmula I en la L es un grupo de
unión.
Los grupos L de unión preferidos tienen la
fórmula
en la
que
A está ausente o es un grupo de fórmula
-X^{1}-Z- en la que
X^{1} es -CHR- o
-CHR-Y-CO-(CH_{2})_{n}-
en la que R es H, alquilo, fenilo, o fenilo substituido con H,
alquilo, alcoxi, halógeno, nitrilo o -NO_{2},
Y es -O- o -NH-,
n es un número entero de 1 a 6, y
Z es -O- o -NH-;
R^{1}, R^{1n}, R^{2} y R^{2n} son
independientemente -H, alquilo, alcoxi, halógeno, nitrilo o
-NO_{2}; y
R^{3} y R^{4} son independientemente -H,
alquilo, fenilo, o fenilo substituido con uno o más substituyentes
seleccionados de alquilo, alcoxi, halógeno, nitrilo y
-NO_{2}-;
o uno de R^{1} y R^{2} tomados conjuntamente
con uno de R^{3} y R^{4} y los átomos de carbono a los que
están unidos definen un grupo de unión de fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que
R^{1'} es -H, alquilo, alcoxi, halógeno,
nitrilo o -NO_{2}; y
R^{6}, R^{7} y R^{8} se seleccionan
independientemente de H, alquilo, alcoxi, halógeno, nitrilo o
-NO_{2}.
Los compuestos poliméricos de resina de
hidroxilamina preferidos representativos incluyen resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno),
designada aquí como
\vskip1.000000\baselineskip
Resina de
4-[4-(O-metilhidroxilamina)-3-metoxifenoxi]-(N-4-metilbencidril)-butiramida-copoli(estireno-1%-di-
vinilbenceno), designada aquí como
vinilbenceno), designada aquí como
\vskip1.000000\baselineskip
Resina de
4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno),
designada aquí como
Resina de
4-[4-(1-aminooxietil)-2-metoxi-5-nitrofenoxi]-(N-4-metilbencidril)-butiramida-copoli(estireno-1%-di-
vinilbenceno), designada aquí como
vinilbenceno), designada aquí como
\vskip1.000000\baselineskip
Resina de
O-hidroxilamina-2'-clorotritil-copoliestireno-1%-divinilbenceno,
designada aquí como
Resina de
O-hidroxilamina-tritil-copoliestireno-1%-divinilbenceno,
designada aquí como
\vskip1.000000\baselineskip
Resina de
5-(4-O-metilhidroxilamina-3,5-dimetoxifenoxi)-ácido
valérico-copoliestireno-1%-divinilbenceno,
designada aquí como
Resina de
4-O-metilhidroxilamina-3-metoxifenoxi-copoliestireno-1%-divinilbenceno,
designada aquí como
\vskip1.000000\baselineskip
\newpage
Resina de
3-hidroxi-xanthidroxilamina-copoliestireno-1%-divinilbenceno,
designada aquí como
Resina de
4-(O-metilhidroxilamina)-2,3,5,6-tetrafluorofenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
designada aquí como
Resina de
4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-2,3,5,6-tetrafluorofenoximetil-copoli(estireno-1%-divi-
nilbenceno) designada aquí como
nilbenceno) designada aquí como
Los compuestos poliméricos de resina de
hidroxilamina más preferidos son
Resina de
4-(O-metilhidroxilamina)-2,3,5,6-tetrafluorofenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno,
resina de
4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-2,3,5,6-tetrafluorofenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno),
resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno),
y resina de
4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno).
El uso de Rink (H. Rink, Tet. Lett., 28,
3787-3790, 1987) tiene la ventaja de ser escindida
en acidolisis suave durante cortos periodos de tiempo (es decir,
10% de TFA en DCM durante 10-15 minutos). Sin
embargo, debido al coste de la resina es deseable sintetizar la
resina funcional correspondiente sobre el soporte sólido de Wang
((a) S.S. Wang, J. Am. Chem. Soc., (1973), 95, 1328. b) G. Lu, S.
Mojsov, J.P. Tam, and R.B. Merrifield, J. Org. Chem., (1981), 46,
3433).
El manejo del tretrafluorofenilfenilo es
especialmente útil ya que se presta a la rápida cuantificación de
la carga de resina y el control de las reacciones realizadas sobre
la resina usando RMN del flúor.
Los métodos descritos aquí son también útiles
para la preparación de aldehídos, cetonas y ácidos hidroxámicos de
péptidos. En general, este método implica copular el grupo carboxilo
de un primer aminoácido apropiadamente N-protegido
con la resina para formar el compuesto polimérico de resina de ácido
hidroxámico de amino N-protegido. El grupo
protector de N del aminoácido se retira a continuación y el
compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico de aminoácido
sin proteger se copula con un segundo aminoácido
N-protegido apropiadamente. Este procedimiento se
repite a continuación hasta que los restos de aminoácido deseado se
han incorporado al péptido.
Alternativamente, se preparan péptidos que
comprenden múltiples aminoácidos copulando una subunidad de péptido
apropiadamente N-protegido que comprende dos o más
aminoácidos para formar el compuesto polimérico de resina de ácido
hidroxámico de péptido N-protegido. El grupo
protector de N de aminoácido se retira a continuación y el
compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico de péptido sin
proteger se copula con un segundo aminoácido o péptido
apropiadamente N-protegido. De este modo, además de
la adición secuencial de subunidades de aminoácido individuales
descrita anteriormente, se puede preparar un polipéptido por
copulación de subunidades de péptido.
Una vez que los deseados aminoácidos se han
incorporado al péptido, el compuesto polimérico de ácido hidroxámico
de péptido se hace reaccionar con un reactivo organometálico
seguido de hidrólisis ácida para formar el compuesto de cetona de
péptido; se escinde reductoramente para formar el compuesto de
aldehído de péptido; o se escinde con ácido para formar el
compuesto de ácido hidroxámico de péptido. Cualquier grupo protector
restante se puede retirar previa o subsecuentemente a la escisión
del péptido de la resina.
Los grupos protectores de N apropiados para su
uso en la síntesis de péptidos como se describe aquí deben tener
las propiedades de ser estables en las condiciones de copulación al
compuesto polimérico de resina de hidroxilamina siendo fácilmente
retirables sin destrucción de la cadena de péptido creciente o
racemización de cualquiera de los centros quirales contenidos en
él. Los grupos protectores apropiados son
9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc),
t-butoxicarbonilo (Boc), benciloxicarbonilo (Cbz),
bifenilisopropiloxicarbonilo, t-amiloxicarbonilo,
isoborniloxicarbonilo,
(a,a)dimetil-3,5-dimetoxibenciloxicarbonilo,
o-nitrofenilsulfenilo,
2-ciano-t-butoxicarbonilo,
y similares.
Adicionalmente, esta resina es útil para
construir colecciones de librerías combinatorias de aldehídos o
cetonas o colecciones de aldehídos o cetonas como reactivos en
síntesis de librerías combinatorias, por ejemplo, reactivos para la
condensación de 4 componentes de Ugi (Ivar Ugi, in Isonitrile
Chemistry, 1971, p 145, Academic Press). La resina unida a
hidroxilamina se puede usar no solo para transformaciones de un solo
grupo funcional, sino también para síntesis en fase sólida de
múltiples etapas para generar librerías combinatorias.
La resina funcionalizada de esta invención es
también útil para la síntesis paralela de una multiplicidad de
diferentes productos finales de aldehído o cetona como se describe
para los compuestos de cetona en los Esquemas 12a y 12b. En los
Esquemas 12a y 12b, R_{b} y R_{c} son como se define
anteriormente, n es un número entero que representa el número total
de diferentes productos de aldehído o cetona que se van a preparar.
R_{a1}-R_{an} representa, independientemente, un
grupo alifático o aromático como se define aquí.
Esquema
12a
La síntesis paralela de una multiplicidad de
compuesto de cetona usando una multiplicidad de compuestos de ácido
carboxílico R_{a1}CO_{2}H-R_{an}CO_{2}H y un
único compuesto organometálico R_{c}MgX se muestra en el Esquema
12 a. Según el Esquema 12a, el compuesto de resina de hidroxilamina
N-alquilada 8, preparado como se describe en el
Esquema 2, se divide en n porciones. Cada porción de resina se
copula a continuación con un compuesto de ácido carboxílico
diferente para dar n porciones de compuesto polimérico de resina de
ácido hidroxámico N-alquilado. Cada porción de
compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado se hace reaccionar a continuación con
un reactivo de Grignard de fórmula R_{c}X y se somete a hidrólisis
ácida para dar n porciones de cetona derivada de un único reactivo
organometálico.
\newpage
Esquema
12b
\vskip1.000000\baselineskip
La síntesis paralela de n compuestos de cetona
diferentes derivados de un único compuesto de ácido carboxílico
R_{a}CO_{2}H y n diferentes compuestos organometálicos de
R_{c1}MgBr a R_{cn}MgBr se describe en el Esquema 12b anterior.
Según el Esquema 12b, el compuesto polimérico de resina de
hidroxilamina N-alquilada se copula con un ácido
carboxílico de fórmula R_{a}CO_{2}H. El compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico N-alquilado resultante
se divide a continuación en n porciones, y cada porción de compuesto
polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado se hace reaccionar a continuación con un
diferente reactivo de Grignard
R_{c1}-R_{cn}MgBr y se somete a hidrólisis ácida
para dar n diferentes compuestos de cetona derivados de un único
compuesto de ácido carboxílico.
Las resinas funcionalizadas de esta invención
son también útiles para construir una librería combinatoria de
cetonas como se ilustra para la librería de cetonas derivada de 4
compuestos de ácido carboxílico y 4 reactivos de Grignard como se
describe en el Esquema 13.
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Esquema
13
\newpage
Esquema 13
(continuación)
Según el Esquema 13 precedente, el compuesto
polimérico de resina de hidroxilamina N-alquilada 8
se divide en 4 porciones, y cada porción se copula con un compuesto
de ácido carboxílico diferente para preparar 4 compuestos
poliméricos de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado diferentes. Las 4 porciones de compuesto
polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado se mezclan a continuación conjuntamente
para formar una única porción que a continuación se divide en 4
porciones de compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado, en las que cada porción contiene
aproximadamente cantidades iguales de cada compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico N-alquilado individual.
Cada una de las cuatro porciones se hace reaccionar a continuación
con un reactivo de Grignard diferente
R_{c1}-R_{c4}MgBr y se somete a hidrólisis ácida
para dar 4 porciones de compuesto de cetona, cada una de las cuales
contiene 4 compuestos que representan los productos de reacción de
cada uno de los 4 compuestos poliméricos de resina de ácido
hidroxámico N-alquilado diferentes con un único
reactivo de Grignard. De esta manera se puede construir rápidamente
una librería combinatoria que contiene una multiplicidad de
compuestos de cetona.
De una manera similar, se puede reunir una
librería combinatoria de péptidos repitiendo la secuencia de
división-recombinación para cada bloque componente
de aminoácido o péptido.
Se hincha resina Rink ácida (1 g; 0,63 mmol) en
DMF (10 ml) durante 15 minutos a temperatura ambiente. Se añade
N-hidroxiftalimida (514 mg; 3,15 mmol) a la
suspensión de resina seguida de ácido bencenosulfónico (19 mg; 0,13
mmol). La mezcla se agita por medio de un agitador mecánico y se
calienta a 50ºC durante cinco horas. La mezcla se enfría a
continuación a temperatura ambiente y se agita durante unas 12 horas
adicionales, después de lo cual la resina se filtra y lava
extensamente con DMF (5x 25 ml); DMF:H_{2}O (70:30; 5x25 ml); THF
(10x25 ml); y éter dietílico (10x25 ml). La resina se seca a
continuación durante la noche a alto vacío a 40ºC. El espectro de
IR muestra una absorbancia de carbonilo a 1733 cm^{-1} que
corresponde a la banda de tensión del carbonilo de ftalimido.
Análisis elemental: calculado: 028% de N. Encontrado: 0,26% de N.
Carga = 0,18 mmol/g.
La resina se hincha en 20 ml de
terc-butanol durante diez minutos. Se añade hidrato
de hidrazina (10 ml) a la mezcla y la reacción se calienta a 60ºC
con agitación mecánica durante 12 horas. Después de lo cual la
reacción se enfría a temperatura ambiente. La resina se filtra y
lava extensamente con DMF (10x25 ml), THF (10x25 ml), y éter
dietílico (10x25 ml), a continuación se seca a alto vacío a 40ºC
durante la noche. El espectro de IR de la resina III mostró la
pérdida de la banda de tensión del carbonilo a 1733 cm^{-1} que
está presente en el material de partida. Análisis elemental: % de N
encontrado = 0,43; 0,42 (correspondiente a un nivel de carga de 0,3
mmol/g).
Resina de
4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(200 mg) se hincha en DMF (3 ml). A esta suspensión se añade ácido
3-(4-metoxifenilsulfonil)propionico (610 mg;
2,5 mmol) e hidrocloruro de
1-(3-dimetilaminopropil)-3-etilcarbodiimida
(EDCl; 477 mg; 2,5 mmol) a temperatura ambiente. La mezcla de
reacción se agita a temperatura ambiente usando un agitador de
vórtice durante 12 h, después de lo cual la resina se filtra y lava
extensamente con DMF:H_{2}O (80:20; 5x5 ml), DMF (5x5 ml), THF
(5x5 ml), y éter dietílico (5x5 ml). La resina IV se seca a alto
vacío a 40ºC durante 12 horas. El espectro de IR muestra una
absorbancia del carbonilo a 1675 cm^{-1} que corresponde al
hidroxamato unido.
Resina de
N-[3-((4-metoxifenil)sulfonil)prop-1-ilcarbonil]4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-fenoxi-
metil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno) (200 mg) seca, preparada como en el Ejemplo 2, se hincha en 3 ml de cloruro de metileno durante 10 minutos. Se añade ácido trifluoroacético (TFA; 0,3 ml) a la mezcla gota a gota a temperatura ambiente y la mezcla resultante se somete a vórtice durante 30 minutos. La resina se volvió azul oscura por la adición del TFA. La mezcla se filtró a continuación y se lavó con dos porciones de 5 ml de cloruro de metileno. El filtrado se evapora por evaporación rotatoria para dar 20 mg de producto en bruto. Un barrido de LC/MS de la mezcla de reacción en bruto mostró que esta contenía más de 75% del área del producto deseado, ácido 3-(4-metoxifenilsulfonil)propionico presente en 6% del área. ^{1}H RMN (MeOH-d_{4}) \delta 2,45 (t, 2H); 3,45 (t, 2H); 3,90 (s, 3H), 7,15 (d, 2H); 7,85 (d, 2H).
metil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno) (200 mg) seca, preparada como en el Ejemplo 2, se hincha en 3 ml de cloruro de metileno durante 10 minutos. Se añade ácido trifluoroacético (TFA; 0,3 ml) a la mezcla gota a gota a temperatura ambiente y la mezcla resultante se somete a vórtice durante 30 minutos. La resina se volvió azul oscura por la adición del TFA. La mezcla se filtró a continuación y se lavó con dos porciones de 5 ml de cloruro de metileno. El filtrado se evapora por evaporación rotatoria para dar 20 mg de producto en bruto. Un barrido de LC/MS de la mezcla de reacción en bruto mostró que esta contenía más de 75% del área del producto deseado, ácido 3-(4-metoxifenilsulfonil)propionico presente en 6% del área. ^{1}H RMN (MeOH-d_{4}) \delta 2,45 (t, 2H); 3,45 (t, 2H); 3,90 (s, 3H), 7,15 (d, 2H); 7,85 (d, 2H).
Un reactor de 1 l con camisa y con una válvula
en el fondo y agitador en la parte superior (Catálogo Ace Nº 8090)
se carga con resina de Wang (18,35 g, 20 meq) y tetrahidrofurano
anhidro (THF, 450 ml). Esta mezcla se agita suavemente durante
alrededor de 15 minutos, a continuación se retira tanto disolvente
como es posible a través de un tubo provisto de un de vidrio poroso
sinterizado vía aspiración a vacío. Se añade THF de nueva
aportación, seguido de trifenilfosfina (15,74 g, 60 mmol) y
N-hidroxiftalimida (16,31 g, 100 mmol). La mezcla
resultante se agita y enfría a -5-0ºC. Se añade
lentamente azodicarboxilato de diisopropilo (11,8 ml, 60 mmol) para
mantener la temperatura a <5ºC. Cuando la adición es completa, la
mezcla agitada se deja calentar lentamente hasta temperatura
ambiente y se agita durante la noche. Se retiran tantos líquidos de
reacción como es posible por aspiración a través del tubo de
inmersión como anteriormente. La resina se lava cargando
N,N-dimetilformamida (DMF, 200 ml), agitando la
mezcla durante 3-5 minutos, y retirando a
continuación por aspiración tanto como es posible de la disolución
de lavado. Similarmente, la resina se lava secuencialmente con una
porción adicional de DMF y porciones de metanol (dos veces), THF
(dos veces), y metanol (una vez). Se puede retirar una porción de
la resina para análisis: IR 1734 cm^{-1} (C=O).
A la resina restante en el reactor se añade THF
(400 ml) y 200 ml de una disolución acuosa al 40% de metilamina
(2,31 mol). Esta mezcla de reacción se agita suavemente a 40ºC
durante 2 horas, a continuación se enfría a temperatura ambiente
(la mezcla se puede mantener durante la noche a esta temperatura).
Se retira tanto del líquido de reacción como es posible por
aspiración, y la resina se lava con el conjunto de disolventes como
anteriormente. A continuación del lavado de metanol final, se usa
metanol adicional para lavar la resina del fondo del reactor y
aislarla por filtración. La resina filtrada se seca a 40ºC a vacío.
Rendimiento 18-18,5 g de resina: carga de amina
1,02 meq/g (basada en la valoración potenciométrica de una
suspensión de THF con ácido p-toluenosulfónico); IR
(microscopía) 3316 cm^{-1} (w, -NH_{2}). Análisis encontrado C,
87,07%; H, 7,77%; N, 1,58%, que corresponde a 1,13 átomos de
nitrógeno/g de resina.
Se carga una muestra de 200 mg de la resina seca
(ca. 0,2 mmol) en un reactor de resina de 5 o 10 ml (un cilindro de
jeringa de polipropileno provisto de polipropileno sinterizado). La
resina se hincha durante alrededor de 15 minutos en DMF seco y a
continuación se añaden 115 mg de hidrocloruro de
1-(3-dimetilaminopropil)-3-etilcarbodiimida
(EDCl, 0,6 mmol). A esta mezcla se añade a continuación ácido
4-nitrofenilacético (115 mg, 0,6 mmol). El reactor
se cierra y la mezcla se agita lentamente durante la noche (se usa
un aparato de lecho oscilante). Los líquidos de reacción se retiran
por filtración a vacío (el reactor de resina se inserta a través de
un pequeño adaptador de matraz de vacío de caucho), y la resina se
lava por medio de varias porciones pequeñas (2-3 ml)
de los siguientes disolventes:
DMF (4-5 porciones), MeOH o DMF
ac. al 50% (3-4 porciones), THF (3-4
porciones) y MeOH (2-3 porciones). La resina (aún
en el reactor de jeringa) se seca durante por lo menos 4 horas a
vacío a 40ºC.
A esta resina seca se añaden 2 ml de
diclorometano seguido de 2 ml de ácido trifluoroacético (TFA).
Adicionalmente, se añaden 20 ml de agua (se cree que reduce la
formación de "anhídrido" del producto de ácido hidroxámico).
La mezcla se deja reaccionar durante alrededor de 1 h, y los
líquidos de reacción se drenan a un recolector pesado. La resina se
lava con porciones de 1-21 ml de diclorometano
seguido por porciones de 1-21 ml de tolueno. Los
filtrados combinados se concentran hasta alrededor de 2 ml a 30ºC,
se añaden 2 ml adicionales de tolueno, y la disolución resultante
se concentra a sequedad a vacío (evaporador rotatorio seguido de
horno de vacío a 30ºC; adviértase que el calentamiento en presencia
de TFA promueve la formación de la impureza "anhídrido"). El
residuo se pesa y analiza para ver el % en peso de pureza (HPLC,
usando el ácido carboxílico como factor de respuesta estándar).
Resultados típicos para ácido
4-nitrofeniletanohidroxámico: 29-30
mg de sólidos a 60-70% de pureza,
90-97% de pureza de A (261 nm); ^{1}H RMN
(CD_{3}OD) \delta 8,13 (d, 2H), 7,25 (d, 2H); 4,85 (s ancho,
OH, NH), 3,55 (s, 2H). ^{13}C RMN \delta 169,4, 144,3, 131,3,
124,6, 40,2. Esto refleja un rendimiento carga/unión química de
50-55% de resina a 1 meq/g.
\newpage
Resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
seca (2 g, 1,5 mmol, preparada como en el Ejemplo 4, se deja
hinchar en DMF (8 ml) durante 10 minutos y a continuación se trata
con ácido 4-fenilbutírico y EDC (0,86 g, 4,5 mmol).
La mezcla se agita durante 24 horas y se filtra. La resina se lava
con DMF, DMF/H_{2}O, DMF, THF y Et_{2}O y se seca a vacío a 40ºC
para dar resina de
N-4-fenilbut-1-oil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(2,2 g). IR: C=O 1670 cm^{-1}. Análisis elemental: calculado; N,
1,05%. Encontrado: N, 1,07%.
Resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
seca (4 g, 3 mmol) seca, preparada como en el Ejemplo 4, se deja
hinchar en DMF (32 ml) durante 10 minutos, a continuación se trata
con ácido
4-bromo-3-metilbenzoico
y EDC (1,725 g, 9 mmol). La mezcla se agita durante 24 horas y se
filtra. La resina se lava con DMF, DMF/H_{2}O, DMF, THF y
Et_{2}O y se seca a vacío a 40ºC para dar resina de
N-(4-bromo-3-metilbenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(4,5 g). IR: C=O 1677,5 cm^{-1}. Análisis elemental: calculado:
Br, 5,2%; N, 1,05%. Encontrado: Br, 5,3%; N, 0,91%.
Resina de
N-(4-bromo-3-metilbenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno),
preparada como en el Ejemplo 6, se suspende en 50%
TFA/CH_{2}Cl_{2} durante 2 horas. La resina se filtra y lava
tres veces con CH_{2}Cl_{2} para dar
N-hidroxi-4-bromo-3-metilbenzamida.
LC MS: m/z 230/232 (Br) [M+H]^{+}. Area = 78%; ^{1}H RMN
(300 MHz, CDCl_{3}) \delta 2,42 (s, 3H); 7,4 (d ancho, J=7,89,
1H); 7,58 (d ancho, J=7,89 1H), 7,62 (s ancho, 1H).
Resina de
N-4-fenilbut-1-oil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(1,64 g,
1,095 mmol), preparada como en el Ejemplo 5, se suspende en tolueno (26 ml) durante 10 minutos. Se añade DBU (0,83 ml; 5,5 mmol) y la mezcla se agita durante 2 horas en un agitador de muñeca. Se añade bromuro de bromobencilo (4,1 g, 16,425 mmol) y la mezcla de reacción se agita vigorosamente durante 4 días. La resina se filtra y lava con DMF, DMF/H_{2}O, DMF, THF y Et_{2}O y se seca a vacío a 40ºC para dar resina de N-4-bromobencil-N-4-fenilbut-1-ilcarbonil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno) (1,4 g), IR C=O 1668 cm^{-1}. Análisis elemental: calculado: Br, 5,3%; N, 0,94%. Encontrado: Br, 5,4%; N, 0,85%.
1,095 mmol), preparada como en el Ejemplo 5, se suspende en tolueno (26 ml) durante 10 minutos. Se añade DBU (0,83 ml; 5,5 mmol) y la mezcla se agita durante 2 horas en un agitador de muñeca. Se añade bromuro de bromobencilo (4,1 g, 16,425 mmol) y la mezcla de reacción se agita vigorosamente durante 4 días. La resina se filtra y lava con DMF, DMF/H_{2}O, DMF, THF y Et_{2}O y se seca a vacío a 40ºC para dar resina de N-4-bromobencil-N-4-fenilbut-1-ilcarbonil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno) (1,4 g), IR C=O 1668 cm^{-1}. Análisis elemental: calculado: Br, 5,3%; N, 0,94%. Encontrado: Br, 5,4%; N, 0,85%.
Se suspende resina de
N-4-bromobencil-N-4-fenilbut-1-oil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(0,2 g, 0,6 mmol/g 0,12 mmol) en éter dietílico durante 10 minutos
y a continuación se enfría a 5ºC en un agitador orbital. La
suspensión se trata con LiAlH_{3}OMe (0,46 M en éter dietílico,
0,22 ml, 0,1 mmol) y se agita durante 30 minutos a esta
temperatura. La mezcla de reacción se enfría rápidamente por adición
de HCl 2M (ac.) y se somete a vórtice durante 30 minutos. Se añade
tartrato de sodio y potasio y la mezcla se somete a vórtice durante
unos 10 minutos adicionales. Se añade sulfato de sodio y la mezcla
se filtra a través de un tapón de gel de sílice, lavando
completamente con diclorometano. El filtrado se concentra para dar
4-fenilbutiraldehído. CG; Area = 91%; ^{1}H RMN
(CDCl_{3}) \delta 9,75 (1H, s), 7,05-7,30 (5H,
m), 2,58-2,68 (2H, m), 2,41-2,50
(2H, t), 1,91-2,02 (2H, m); MS(EI): m/z = 149
[M+H]^{+}.
Resina de
N-4-bromobencil-N-4-fenilbut-1-oil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinil-
benceno) (0,15 g, aproximadamente 0,75 mmol/g 0,11 mmol) se suspende en éter dietílico y se trata con disolución 1M de bromuro de etilmagnesio en tetrahidrofurano (0,34 ml, 0,34 mmol). La mezcla de reacción se agita durante 18 horas, y a continuación se enfría rápidamente por adición de HCl 2M (ac.) (se obtiene aproximadamente pH 3). La mezcla se agita durante 30 minutos. Se añade sulfato de sodio y la mezcla se filtra a través de un tapón de gel de sílice, se lava completamente con diclorometano y se concentra para dar 6-fenilhexan-3-ona. CG MS (EI) Area = 97,1%, m/z 176,2 (M)^{+}; MS (EI-LRP) m/z 176 (M)^{+}; RMN (300 MHz, CDCl_{3}) \delta 1,02 (t, 3H), 1,9 (m, 2H), 2,4 (m, 4H), 2,6 (m, 2H), 7,2-7,3 (m, 5H).
benceno) (0,15 g, aproximadamente 0,75 mmol/g 0,11 mmol) se suspende en éter dietílico y se trata con disolución 1M de bromuro de etilmagnesio en tetrahidrofurano (0,34 ml, 0,34 mmol). La mezcla de reacción se agita durante 18 horas, y a continuación se enfría rápidamente por adición de HCl 2M (ac.) (se obtiene aproximadamente pH 3). La mezcla se agita durante 30 minutos. Se añade sulfato de sodio y la mezcla se filtra a través de un tapón de gel de sílice, se lava completamente con diclorometano y se concentra para dar 6-fenilhexan-3-ona. CG MS (EI) Area = 97,1%, m/z 176,2 (M)^{+}; MS (EI-LRP) m/z 176 (M)^{+}; RMN (300 MHz, CDCl_{3}) \delta 1,02 (t, 3H), 1,9 (m, 2H), 2,4 (m, 4H), 2,6 (m, 2H), 7,2-7,3 (m, 5H).
Resina de
N-(4-bromo-3-metilbenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(2,8 g, 2,1 mmol) preparada como en el Ejemplo 6, se suspende en
tolueno (27 ml) y la mezcla se agita durante 10 minutos. Se añade
DBU (1,6 g, 10,5 mmol) y la mezcla se agita durante 2 horas en un
agitador de muñeca. Se añade bromuro de clorobencilo (6,47 g, 31,5
mmol) y la mezcla de reacción se agita vigorosamente durante 3
días. La resina se filtra y lava con DMF, DMF/H_{2}O, DMF, THF y
Et_{2}O y se seca a vacío a 40ºC para dar resina de
N-4-clorobencil-N-(4-bromo-3-metilbenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(3 g). IR C=O 1644 cm^{-1}; Análisis elemental: calculado; Br,
4,2%; Cl, 1,9%; N, 0,8%. Encontrado: Br, 3,8%; Cl, 2,0%; N,
0,9%.
Resina de
N-4-clorobencil-N-(4-bromo-3-metilbenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
preparada como en el Ejemplo 11 se suspende en 50%
TFA/CH_{2}Cl_{2} durante 2 horas. La resina se filtra y se lava
tres veces con CH_{2}Cl_{2} para dar
N-(4-clorobencil)-N-hidroxi-3-metil-4-bromobenzamida.
LC MS (H-ISP) m/z 354/356 (Cl/Br)
[M+H]^{+}. Area 64%; ^{1}H RMN (300 MHz, CDCl_{3})
\delta 2,3 (s ancho, 3H), 4,65 (s ancho, 2H),
7,2-7,6 (m, 7H).
Resina de
N-4-clorobencil-N-(4-bromo-3-metilbenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(0,2 g, 0,5 mmol/g 0,1 mmol) preparado como en el Ejemplo 11, se
suspende en éter dietílico durante 10 minutos y a continuación se
enfría a 5ºC en un agitador orbital. La suspensión se trata con
LiAlH_{3}OMe (0,46 M en éter dietílico, 0,2 ml, 0,092 mmol) y se
agita durante 30 minutos a esta temperatura. La mezcla de reacción
se enfría rápidamente por adición de HCl acuoso 2M y se somete a
vórtice durante 30 minutos. Se añade tartrato de sodio y potasio y
la mezcla se somete a vórtice durante unos 10 minutos adicionales.
Se añade sulfato de sodio y la mezcla se filtra a través de un
tapón de gel de sílice, lavando completamente con diclorometano. El
filtrado se concentra para dar
4-bromo-3-metilbenzaldehído.
CG MS: EI Area = 99,5%, m/z 179/199 (Br)[M]^{+}; ^{1}H
RMN (CDCl_{3}) \delta 9,94 (1H, s), 7,70 (2H, d), 7,52 (1H, d),
2,45 (3H, s); MS(EI): m/z = 199 [M+H^{+}].
Resina de
N-4-clorobencil-N-(4-bromo-3-metilbenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(0,23 g, 0,5 mmol/g 0,115 mmol) preparada como en el Ejemplo 11, se
suspende en éter dietílico (1 ml) y se trata con bromuro de
etilmagnesio (1,0M en THF, 0,23 ml, 0,23 mmol). La mezcla de
reacción se agita durante 18 horas, y a continuación se enfría
rápidamente por adición de HCl acuoso 2M (se obtiene aproximadamente
pH 3). La mezcla se agita durante 30 minutos. Se añade sulfato de
sodio y la mezcla se filtra a través de un tapón de gel de sílice,
lavando completamente con diclorometano. El residuo se concentra
para dar
1-(4-bromo-3-metilfenil)propan-1-ona.
CG Area = 78,7%; MS(EI) m/z 226
Br[M^{+}-H]; RMN (300 MHz, CDCl_{3})
\delta 1,22 (t, J=7,89, 3H), 2,96 (q, J=7,89, 2H), 7,6 (s ancho,
2H), 7,8 (s, 1H).
Se hincha resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(105 mg, 0,08 mmol) en diclorometano (DCM) (2 ml) durante 10
minutos. Se añaden trimetilortoformiato (1 ml) y
3-bromo-benzaldehído (500 mg, 2,7
mmol; 34 equiv.) a la resina y la mezcla se agita durante la noche.
La suspensión se filtra a continuación, se lava con diclorometano
(5 ml), DMF (5 ml x3), H_{2}O (5 ml x 4), THF (5 ml x 10, y
Et_{2}O (5 ml x 10). La resina se seca a vacío a 40ºC durante 12
horas. IR banda de tensión de la oxima 1602 cm^{-1}. Análisis
elemental: calculado: Br, 5,52%; N, 1,04%. Encontrado: Br, 5,76%; N,
1,08%.
Se deja hinchar resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copol(estireno-1%-divinilbenceno)
(1 g, 0,73
mmol) en DMF durante 10 minutos y a continuación se trata con ácido 3-(4-metoxifenil)propionico (0,658 g, 3,65 mmol) y DIC (0,46 g, 3,65 mmol). La mezcla se agita durante 24 horas, a continuación se filtra y el residuo se lava con DMF, DMF/H_{2}O, DMF, THF y Et_{2}O, y se seca a vacío a 40ºC para dar resina de N-3-(4-metoxifenil)propan-1-oil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno). IR: C=O 1698 cm^{-1}. Análisis elemental: calculado: N, 1,02%. Encontrado: N, 1,21%.
mmol) en DMF durante 10 minutos y a continuación se trata con ácido 3-(4-metoxifenil)propionico (0,658 g, 3,65 mmol) y DIC (0,46 g, 3,65 mmol). La mezcla se agita durante 24 horas, a continuación se filtra y el residuo se lava con DMF, DMF/H_{2}O, DMF, THF y Et_{2}O, y se seca a vacío a 40ºC para dar resina de N-3-(4-metoxifenil)propan-1-oil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno). IR: C=O 1698 cm^{-1}. Análisis elemental: calculado: N, 1,02%. Encontrado: N, 1,21%.
Se prepara
N-hidroxi-3-(4-metoxifenil)propionamida
por reacción de resina de
N-3-(4-metoxifenil)propan-1-oil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
con TFA usando el procedimiento del Ejemplo 7. ^{1}H RMN 300 MHz
(CDCl_{3}, CD_{3}OD) \delta 2,25 (t, 2H), 2,78 (t, 2H), 3,68
(s, 3H), 6,72 (d, 2H), 7,04 (d, 2H).
La resina del título se prepara usando el método
del Ejemplo 16, excepto substituyendo el ácido
3-(4-metoxifenil)propionico por ácido
4-bromofenilacético. IR. C=O 1713,9 cm^{-1}.
Análisis elemental: calculado: Br, 5,8%; N, 1,02%. Encontrado: Br,
8,29%; N, 0,97%, 0,96%.
EDS: Cuentas netas de rayos X
La resina del título se prepara usando el método
del Ejemplo 16, excepto substituyendo el ácido
3-(4-metoxifenil)propionico por ácido
4-bromocinámico. IR, C=O 1671 cm^{-1} (ancha).
Análisis elemental: calculado: Br, 5,8%; N, 1,02%. Encontrado: Br,
4,45%, 4,54%.
EDS: Cuentas netas de rayos X
Se prepara
N-hidroxi-4-bromocinamida
tratando resina de
N-4-bromocinamoilo-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
con TFA usando el procedimiento del Ejemplo 7. LC MS
(H-ISP) m/z 241/243 Br[M^{+}], Area = 84%;.
^{1}H RMN 300 MHz (CDCl_{3}, CD_{3}OD) \delta 3,23 (s, 1H),
6,35 (d, J=15,8), 7,3 (d, J=7,9), 7,4 (d, J=7,9), 7,6 (d,
J=15,8).
La resina del título se prepara usando el método
del Ejemplo 16, excepto substituyendo el ácido
3-(4-metoxifenil)propiónico por ácido
4-clorobenzoico. IR, C=O 1678 cm^{-1}. Análisis
elemental: calculado: Cl, 2,66%; N, 1,05%. Encontrado: Cl, 2,39%; N,
1,02%.
Se prepara
N-hidroxi-4-clorobenzamida
tratando resina de
N-(4-clorobenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
con TFA usando el procedimiento del Ejemplo 7. LC MS
(H-ISP) m/z 172, 174 (Cl)[M+H]^{+}, Area =
96%; ^{1}H RMN (300 MHz, DMSO-d_{6}) \delta
7,48 (d, J=9,42, 2H), 7,69 (d, J=9,42, 2H), 8,9-9,2
(ancho, 1H), 11,28 (s, 1H).
Resina de
N-(4-clorobenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(0,1 g,
0,075 mmol, 0,75 mmol/g) se suspende en tolueno (2 ml) y se enfría hasta 5ºC. La mezcla se trata con yoduro de metilo (1,5 mmol, 0,21 g, 93 \mul) seguido de DBU (0,22 ml, 0,228 g, 1,5 mmol). La mezcla de reacción se coloca en un agitador de vórtice y se deja calentar hasta temperatura ambiente. En unos pocos minutos se forma un copioso precipitado blanco y la mezcla se diluye adicionalmente con tolueno (2 ml). Se continua la agitación de la mezcla de reacción durante 18 horas. La resina de N-metil-N-(4-clorobenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinlbenceno) se filtra y lava con DMF, DMF/H_{2}O, DMF, THF, Et_{2}O y se seca a vacío a 40ºC.
0,075 mmol, 0,75 mmol/g) se suspende en tolueno (2 ml) y se enfría hasta 5ºC. La mezcla se trata con yoduro de metilo (1,5 mmol, 0,21 g, 93 \mul) seguido de DBU (0,22 ml, 0,228 g, 1,5 mmol). La mezcla de reacción se coloca en un agitador de vórtice y se deja calentar hasta temperatura ambiente. En unos pocos minutos se forma un copioso precipitado blanco y la mezcla se diluye adicionalmente con tolueno (2 ml). Se continua la agitación de la mezcla de reacción durante 18 horas. La resina de N-metil-N-(4-clorobenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinlbenceno) se filtra y lava con DMF, DMF/H_{2}O, DMF, THF, Et_{2}O y se seca a vacío a 40ºC.
Se suspende resina de
N-metil-N-(4-clorobenzoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divi-
nilbenceno) en éter dietílico (0,7 ml) y se trata con bromuro de etilmagnesio (1,0M en THF, 0,225 ml, 0,225 mmol). La mezcla de reacción se agita durante 18 horas en un agitador manual y a continuación se enfría rápidamente por adición de HCl al 5% en etanol. La agitación se mantiene durante unos 30 minutos adicionales y la mezcla se filtra a continuación a través de un pequeño tapón de sílice para retirar el material inorgánico. El filtrado se concentra para dar 1-(4-clorofenil)propan-1-ona. MS (EI-LRP) m/z 168/170 Cl[M^{+}], 169/171 Cl[M+H]^{+}; ^{1}H RMN (300 MHz, CDCl_{3}) \delta 1,22 (t, 3H), 2,98 (q, 2H), 7,42 (d, 2H), 7,9 (d, 2H).
nilbenceno) en éter dietílico (0,7 ml) y se trata con bromuro de etilmagnesio (1,0M en THF, 0,225 ml, 0,225 mmol). La mezcla de reacción se agita durante 18 horas en un agitador manual y a continuación se enfría rápidamente por adición de HCl al 5% en etanol. La agitación se mantiene durante unos 30 minutos adicionales y la mezcla se filtra a continuación a través de un pequeño tapón de sílice para retirar el material inorgánico. El filtrado se concentra para dar 1-(4-clorofenil)propan-1-ona. MS (EI-LRP) m/z 168/170 Cl[M^{+}], 169/171 Cl[M+H]^{+}; ^{1}H RMN (300 MHz, CDCl_{3}) \delta 1,22 (t, 3H), 2,98 (q, 2H), 7,42 (d, 2H), 7,9 (d, 2H).
Se prepara resina de
N-[3-((4-metoxifenil)sulfonil)propan-1-oilcarbonil]-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
usando el método del Ejemplo 16, excepto substituyendo el ácido
3-(4-metoxifenil)propiónico añadido por ácido
3-(4-metoxifenilsulfonil)propionico. IR, C=O
1691 cm^{-1} (ancho). Análisis elemental: calculado: N, 1,02%; S,
2,34%. Encontrado: N, 1,03%; S, 2,5%.
Se prepara
N-hidroxi-3-(4-metoxifenilsulfonil)propionamida
tratando resina de
N-[3-((4-metoxifenil)sulfonil)propan-1-oilcarbonil]-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
con TFA usando el procedimiento del Ejemplo 7. ^{1}H RMN (300
MHz, DMDO-d_{6}) \delta 2,25 (t, 2H), 3,42 (t,
2H), 3,85 (s, 3H), 7,13 (d, 2H), 7,79 (d, 2H); LC MS (Pulverización
iónica) m/z 259 [M^{+}]; Area = 44%.
Se suspende resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(2 g, 2 mmol) en 15 ml de diclorometano y se agita en un agitador
de muñeca durante 10 minutos y se añaden 284 mg (383 \mul, 2,2
mmol) de diisopropiletilamina. La mezcla se agita durante 30
minutos. Se añade cloroformiato de alilo (265 mg, 233 \mul, 2,2
mmol) y la mezcla se agita durante la noche. La resina de
N-aliloxicarbonil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
se lava con 15 ml de diclorometano, THF (x 3) y diclorometano (x 3)
y se seca a vacío.
La resina de
N-aliloxicarbonil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
preparada en el Ejemplo 27 se suspende en 15 ml de tolueno. Se
añaden DBU (1,522 g, 1,5 ml, 10 mmol) y bromuro de
4-bromobencilo (2,5 g, 10 mmol) y la mezcla se
agita durante 70 horas. La resina de
N-4-bromobencil-N-aliloxicarbonil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
se lava con 15 ml de DMF (x 3), THF (x 3) y diclorometano (x 3) y
se seca a vacío.
Resina de
N-4-bromobencil,
N-aliloxicarbonil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinil-
benceno), preparada como en el Ejemplo 28, se hincha en 6 ml de THF, 6 ml de DMSO, 3 ml de HCl 0,5N. Se añade Pd(Ph_{3}P)_{4} (347 mg, 15% en peso) y la mezcla se agita durante 5 minutos. Se añade morfolina (4,3 ml) y la mezcla se agita durante la noche. Los reactivos se separan por drenado y la resina de N-4-bromobencil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno) se lava con DMF (x 2), THF (x 2), diclorometano (x 2), diisopropiletilamina al 0,5% en diclorometano (x 3), dietilditiocarbamato de sodio al 0,5% en DMF (x 3), DMF (x 3), THF (x 3) y diclorometano (x 3) y se seca a vacío durante la noche.
benceno), preparada como en el Ejemplo 28, se hincha en 6 ml de THF, 6 ml de DMSO, 3 ml de HCl 0,5N. Se añade Pd(Ph_{3}P)_{4} (347 mg, 15% en peso) y la mezcla se agita durante 5 minutos. Se añade morfolina (4,3 ml) y la mezcla se agita durante la noche. Los reactivos se separan por drenado y la resina de N-4-bromobencil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno) se lava con DMF (x 2), THF (x 2), diclorometano (x 2), diisopropiletilamina al 0,5% en diclorometano (x 3), dietilditiocarbamato de sodio al 0,5% en DMF (x 3), DMF (x 3), THF (x 3) y diclorometano (x 3) y se seca a vacío durante la noche.
Resina de
N-4-bromobencil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(1,17 g, 1 mmol), preparada como en el Ejemplo 29, se suspende en
15 ml de DMF. Se añaden ácido
indol-2-carboxílico (483 mg, 3
mmol) y 575,1 mg (3 mmol) de hidrocloruro de
1-(3-dimetilaminopropil)-3-dietilcarbodiimida
y la mezcla se agita durante 16 horas. La resina de
N-(indol-2-ilcarbonil)-N-4-bromobencil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
se drena y lava con 15 ml de DMF (x 3), THF/20% H_{2}O (x 3), THF
(x 3) y diclorometano (x 3) y se seca a vacío.
Resina de
N-(indol-2-ilcarbonil)-N-4-bromobencil-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divi-
nilbenceno) seca se hincha en 12 ml de THF, se agita y enfría a 0ºC durante 30 minutos. Se añade LiAlH_{4} (0,62 ml, 3 eq.) y la mezcla se agita a 0ºC durante 30 minutos. Se añade disolución saturada de KHSO_{4} (0,5 ml) y 0,3 ml de disolución de tartrato de sodio y potasio y la mezcla se agita durante 30 minutos mientras se calienta a temperatura ambiente. Se seca el exceso de H_{2}O añadiendo Na_{2}SO_{4} seco y agitando durante 15 minutos más. La mezcla se filtra a baja presión de nitrógeno y se lava 3 veces más con 8 ml de diclorometano seguido de filtración. El filtrado se seca con Na_{2}SO_{4} y se filtra dos veces a través de un lecho corto (2,54 cm) de gel de sílice 60 para cromatografía en columna (tamaño de partícula 0,040-0,063 mm) y el disolvente se retira a vacío para dar indol-2-carboxialdehido. ^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 9,84 (1H, s), 9,22 (1H, s ancho), 7,75 (1H, d), 7,14-7,48 (4H, m); MS (EI): m/z = 146 [M+H^{+}].
nilbenceno) seca se hincha en 12 ml de THF, se agita y enfría a 0ºC durante 30 minutos. Se añade LiAlH_{4} (0,62 ml, 3 eq.) y la mezcla se agita a 0ºC durante 30 minutos. Se añade disolución saturada de KHSO_{4} (0,5 ml) y 0,3 ml de disolución de tartrato de sodio y potasio y la mezcla se agita durante 30 minutos mientras se calienta a temperatura ambiente. Se seca el exceso de H_{2}O añadiendo Na_{2}SO_{4} seco y agitando durante 15 minutos más. La mezcla se filtra a baja presión de nitrógeno y se lava 3 veces más con 8 ml de diclorometano seguido de filtración. El filtrado se seca con Na_{2}SO_{4} y se filtra dos veces a través de un lecho corto (2,54 cm) de gel de sílice 60 para cromatografía en columna (tamaño de partícula 0,040-0,063 mm) y el disolvente se retira a vacío para dar indol-2-carboxialdehido. ^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 9,84 (1H, s), 9,22 (1H, s ancho), 7,75 (1H, d), 7,14-7,48 (4H, m); MS (EI): m/z = 146 [M+H^{+}].
El compuesto deseado se prepara según el método
de los Ejemplos 30 y 31, excepto substituyendo el
indol-2-carboxaldehido por
N-(terc-butoxicarbonil)fenilalanina.
Se lava la resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
(1 g, 1 mmol) con DMF (15 ml), a continuación se suspende en 15 ml
de DMF y 624,6 mg (3 mmol, x 3 en exceso) de ácido
3,4-dimetoxicinámico y se añaden 575,1 mg (3 mmol,
x 3 en exceso) de hidrocloruro de
1-(3-dimetilaminopropil)-3-etilcarbodiimida
y la mezcla se agita durante 16 horas. La resina se drena y lava
con 15 ml de DMF (x 1), THF/20% H_{2}O (x 3), THF (x 3),
diclorometano (x 3) y se seca a vacío durante la noche.
La resina de
N-(3,4-dimetoxicinamoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
seca se agita en 15 ml de tolueno durante 10 minutos, a
continuación se añaden 0,9 ml (6 mmol, x 6 en exceso) de DBU y la
mezcla se agita durante 2 horas. Se añade bromuro de
p-bromobencilo (1,5 g, 6 mmol, x 6 exceso) y la
mezcla se agita durante 3 días. La resina se seca durante la noche a
vacío.
Se hincha resina de
N-4-bromobencil-N-(3,4-dimetoxicinamoil)-4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
en 12 ml de THF seco, se agita y enfría a 0ºC durante 30 minutos.
Se añade LiAlH_{4} en THF (0,5 ml, 2 equivalentes) y la mezcla se
agita a 0ºC durante 30 minutos. Se añaden disolución acuosa saturada
de KHSO_{4} (0,5 ml) y disolución de tartrato de sodio y potasio
(0,3 ml) y la mezcla se agita durante 30 minutos mientras se
calienta a temperatura ambiente. El exceso de H_{2}O se seca
añadiendo Na_{2}SO_{4} seco y agitando durante 15 minutos. La
mezcla se filtra a baja presión de nitrógeno, se lava 3 veces con 8
ml de diclorometano y se filtra. El filtrado se seca adicionalmente
con Na_{2}SO_{4} y se filtra a través de un lecho corto (2,54
cm) de gel de sílice 60 para cromatografía en columna (tamaño de
partícula 0,040-0,063 mm) y se retira el disolvente
a vacío para dar 3,4-dimetoxicinamaldehido. ^{1}H
RMN (CDCl_{3}) \delta 9,65 (1H, d), 7,40 (1H, d), 7,12 (1H, d),
7,06 (1H, s), 6,87 (1H, d), 6,60 (1H, dd), 3,90 (6H, s); MS (EI);
m/z = 193 [M-H^{+}].
Ejemplos
36-43
Los compuestos de los Ejemplos
36-43 se preparan del material de partida de ácido
carboxílico deseado usando los procedimientos de los Ejemplos
33-35.
Ejemplo
36
^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 9,88 (1H, s),
7,52-7,58 (1H, d), 7,11-7,38 (7H,
m), 6,81 (1H, t); MS (EI): m/z = 198 [M+H^{+}].
\newpage
Ejemplo
37
^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 10,18 (1H, s),
7,83 (1H, d), 7,14-7,52 (8H, m), 3,30 (2H, t), 2,87
(2H, t); MS (EI): m/z = 211 [M+H^{+}].
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
38
^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 10,17 (1H, s),
8,27 (1H, d), 8,18 (1H, d), 7,78 (1H, t), 7,62 (1H, t), 7,38 (1H,
s), 4,12 (3H, s); MS (EI): m/z = 188 [M+H^{+}].
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
39
^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 9,98 (1H, s),
7,97 (1H, s), 7,86 (1H, d), 7,62 (1H, d), 7,48 (1H, t), 2,21 (3H,
s); MS (EI): m/z = 164 [M+H^{+}].
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
40
^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 10,02 (1H, s),
7,92 (2H, d), 7,72 (2H, d), 7,53 (2H, d), 7,26 (2H, d), 2,65 (2H,
t), 1,68 (2H,dt), 0,95 (3H, t); MS (EI): m/z = 225 [M+H^{+}].
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
41
^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 10,26 (1H, s),
9,38 (1H, s), 8,64 (1H, s), 8,20 (1H, d), 7,98 (1H, t), 7,89 (1H,
t), 7,65 (1H, t); MS (EI): m/z = 158 [M+H^{+}].
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
42
^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 9,80 (1H, s),
7,60-7,74 (3H, m), 5,92 (2H, s), 2,88 (2H, t), 2,74
(2H, t); MS (EI): m/z = 179 [M+H^{+}].
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
43
^{1}H RMN (CDCl_{3}) \delta 10,58 (1H, s),
9,00 (1H, d), 8,19-8,30 (4H, m), 7,82 (1H, t), 7,70
(1H, t), 7,47-7,59 (3H, m); MS (EI): m/z = 234
[M+H^{+}].
\vskip1.000000\baselineskip
Se hincha resina Merrifield (2 mmol/g, 600 mg,
1,2 mmol) en DMF anhidro (20 ml). Se añaden ácido
2,3,5,6-tetrafluoro-4-hidroxibenzoico
hidrato (2,28 g, 10 mmol) y carbonato de cesio (3,26 g, 10 mmol) y
la mezcla de reacción se calienta a 85ºC durante 12 horas con
agitación suave. La mezcla de reacción se filtra y la resina de
4-carboxi-2,3,5,6-tetrafluorofenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno)
se lava con DMF (x 5), DMF acuosa al 20% (x 5), THF (x 5) y
diclorometano y se seca durante la noche a vacío. IR (microscopio,
cm^{-1}): 1640 (C=O); ^{19}F RMN (nanosonda) -144,4 ppm, -160,2
ppm.
Las medidas de energía dispersiva de rayos X se
realizan con un microscopio electrónico de barrido Electroscan
provisto de un detector digital PGT. Las bolitas se montan en
matrices de aluminio y se ensayan sin un revestimiento conductor.
Las cuentas netas de rayos X se dan después de la corrección del
fondo. No se hacen correcciones para el número atómico,
fluorescencia o absorción.
Claims (15)
1. Un procedimiento para la preparación de un
compuesto de cetona de fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
en la que R_{c} y R_{a} son
independientemente alifático o
aromático
que comprende
(a) hacer reaccionar un compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico N-alquilado de
fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que
es un soporte sólido, L está ausente o es un
grupo de unión y R_{a} y R_{b} son independientemente alifático
o arilo,
con un reactivo organometálico de fórmula
R_{c}M en la que R_{c} es un anión alifático o arilo y M es un
catión metálico; y
(b) liberar el compuesto de cetona de la
resina.
2. Un procedimiento para la preparación de un
compuesto de aldehído de fórmula R_{a}CHO en la que R_{a} es
alifático o arilo,
que comprende
(a) hacer reaccionar un compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico N-alquilado de
fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que
es un soporte sólido, L está ausente o es un
grupo de unión y R_{a} y R_{b} son independientemente alifático
o arilo;
con un agente reductor; y
(b) liberar el compuesto de aldehído de la
resina.
\newpage
3. Un procedimiento para la preparación de un
compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado de fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que
es un soporte sólido, L está ausente o es un
grupo de unión y R_{a} y R_{b} son independientemente alifático
o arilo;
que comprende
(a) copular un compuesto de ácido carboxílico de
fórmula R_{a}CO_{2}H con un compuesto polimérico de resina de
hidroxilamina de fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
para formar un compuesto polimérico de resina de
ácido hidroxámico.
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
(b) hacer reaccionar el compuesto polimérico de
resina de ácido hidroxámico con un agente de alquilación de fórmula
R_{b}LG en la que LG es un grupo saliente.
4. Un procedimiento para la preparación de un
compuesto polimérico de resina de ácido hidroxámico
N-alquilado de fórmula
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que
es un soporte sólido, L está ausente o es un
grupo de unión y R_{a} y R_{b} son independientemente alifático
o arilo;
que comprende
\newpage
(a) hacer reaccionar un compuesto polimérico de
resina de hidroxilamina N-protegida de fórmula
en la que P es un grupo protector
de amina, con un agente de alquilación de fórmula R_{b}LG en la
que LG es un grupo saliente, para formar un compuesto polimérico de
resina de hidroxilamina N-alquilada
N-protegida de
fórmula
(b) retirar el grupo protector de
amina para formar un compuesto polimérico de resina de hidroxilamina
N-alquilada de
fórmula
(c) copular el compuesto polimérico de resina de
hidroxilamina N-alquilada con un compuesto de ácido
carboxílico de fórmula R_{a}CO_{2}H.
5. El procedimiento de la reivindicación 4, en
el que el compuesto polimérico de resina de hidroxilamina
N-protegida se selecciona del grupo que consiste
en
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\newpage
en las
que
es un soporte sólido.
6. El procedimiento de la reivindicación 1, en
el que M es Li o MgX en la que X es Br o Cl.
7. El procedimiento de la reivindicación 2, en
el que el agente de reducción es un agente de reducción hidruro.
8. El procedimiento de una cualquiera de las
reivindicaciones 1-4, en el que L es un grupo de
unión.
9. El procedimiento de la reivindicación 8, en
el que L es un grupo de unión de la fórmula
en la
que
A está ausente o es un grupo de fórmula
-X^{1}-Z- en la que
X^{1} es -CHR- o
-CHR-Y-CO-(CH_{2})_{n}-
en la que R es H, alquilo, fenilo, o fenilo substituido con -H,
alquilo, alcoxi, halógeno, nitrilo o -NO_{2},
Y es -O- o -NH-,
n es un número entero de 1 a 6, y
Z es -O- o -NH-;
R^{1}, R^{1a}, R^{2} y R^{2a} son
independientemente -H, alquilo, alcoxi, halógeno, nitrilo o
-NO_{2}; y
R^{3} y R^{4} son independientemente -H,
alquilo, fenilo, o fenilo substituido con uno o más substituyentes
seleccionados de alquilo, alcoxi, halógeno, nitrilo y -NO_{2}.
o uno de R^{1} y R^{2} tomado conjuntamente
con uno de R^{3} y R^{4} y los átomos de carbono a los que están
unidos definen un grupo de unión de fórmula
en la
que
R^{1'} es -H, alquilo, alcoxi, halógeno,
nitrilo o -NO_{2}; y
R^{6}, R^{7} y R^{8} se seleccionan
independientemente de -H, alquilo, alcoxi, halógeno, nitrilo o
-NO_{2}.
10. El procedimiento de una cualquiera de las
reivindicaciones 1-4, en el que R_{b} es alquilo,
bencilo o bencilo substituido.
11. El procedimiento de la reivindicación 3, en
el que el compuesto polimérico de resina de hidroxilamina es
Resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%
divinilbenceno),
resina de
4-[4-(O-metilhidroxilamina)-3-metoxifenoxi]-(N-4-metilbencidril)butiramida-copoli(estireno-1%
divinilbenceno),
resina de
4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-fenoximetil-copoli(estireno-1%
divinilbenceno),
resina de
4-[4-(1-aminoxietil)-2-metoxi-5-nitrofenoxi]-(N-4-metilbencidril)butiramida-copoli(estireno-1%
divinilbenceno),
resina de
O-hidroxilamina-2'-clorotritil-copoliestireno-1%
divinilbenceno,
resina de
O-hidroxilamina-tritil-copoliestireno-1%
divinilbenceno,
resina de
5-(4-O-metilhidroxilamina-3,5-dimetoxifenoxi-ácido
valérico-copoliestireno-1%
divinilbenceno,
resina de
4-(O-metilhidroxilamina)-2,3,5,6-tetrafluorofenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno),
resina de
4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-2,3,5,6-tetrafluorofenoximetil-copoli(estireno-1%-divinil-
benceno,
benceno,
resina de
4-O-metilhidroxilamina-3-metoxifenoxi-copoliestireno-1%-divinilbenceno,
o
resina de
3-hidroxi-xanthidrolamina-copoliestireno-1%-divinilbenceno.
12. El procedimiento de la reivindicación 3, en
el que el compuesto polimérico de resina de hidroxilamina es
Resina de
4-(O-metilhidroxilamina)fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno),
o resina de
4-(2',4'-dimetoxifenil-O-metilhidroxilamina)-fenoximetil-copoli(estireno-1%-divinilbenceno.
13. El procedimiento de la reivindicación 4, en
el que P es aliloxicarbonilo, benciloxicarbonilo,
p-metoxibenciloxicarbonilo,
p-nitrobenciloxicarbonilo,
trimetilsililetoxicarbonilo,
2,4-dimetoxibenciloxicarbonilo,
o-nitrobenciloxicarbonilo,
o-nitrobencilsulfonilo,
p-nitrobencilsulfonilo, y
2-nitro-4-trifluorometilbencenosulfonilo.
14. El procedimiento de la reivindicación 13, en
el que P es aliloxicarbonilo.
15. Un compuesto polimérico de resina de
hidroxilamina N-protegida según la reivindicación 5
que es
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