ES2247219T3 - Procedimiento para la determinacion in situ del espesor de una capa. - Google Patents
Procedimiento para la determinacion in situ del espesor de una capa.Info
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Abstract
Procedimiento para la determinación in situ del espesor de capa durante una alitación de un componente (1), en el que el componente (1) recibe material de revestimiento por difusión, y en el que un sensor (10) cambia debido a la alitación de tal modo que, en consecuencia, se ejerce una influencia sobre una característica eléctrica del sensor (10) está relacionada con el espesor de la capa, y el cambio de la característica eléctrica se utiliza para la determinación del espesor de la capa.
Description
Procedimiento para la determinación in
situ del espesor de una capa.
La invención se refiere a un procedimiento para
la determinación del espesor de una capa.
En los procesos de revestimiento, como por
ejemplo, los procesos de alitación interna (aluminización de
superficies internas), el espesor de la capa se calcula por un
examen metalográfico. Para ello se deposita una muestra de alambre
en el proceso de revestimiento en un lugar representativo de un
componente que va a revestirse, una vez finalizado el proceso de
revestimiento, se extrae la muestra de alambre y, a continuación,
se corta y se examina de manera costosa. Cada proceso de
revestimiento se controla y se documenta mediante muestras de
trabajo simultáneas. Con este método de medición y prueba no es
posible una corrección en tiempo real del proceso de revestimiento
que finaliza de forma no cualificada. Por lo tanto, esta forma de
garantía de la calidad es muy costosa.
El documento
DE-A-3613112 considerado el estado
de la técnica más próximo describe un procedimiento para la
determinación in situ del espesor de la capa, en el que se
reviste un sensor mediante el procedimiento de revestimiento, así
como por el componente a tratar.
En consecuencia, un objetivo de la invención es
mostrar un procedimiento para la determinación del espesor de la
capa que solucione los problemas ilustrados anteriormente.
El objetivo se consigue mediante un procedimiento
según la reivindicación 1, exponiendo un sensor, así como el
componente a tratar al procedimiento de revestimiento y midiendo
una característica eléctrica de este sensor que cambie debido al
procedimiento de revestimiento, de modo que es posible una
determinación in situ del espesor de la capa durante el
procedimiento de revestimiento.
Otras configuraciones ventajosas del
procedimiento se enumeran en las reivindicaciones dependientes.
El procedimiento es adecuado especialmente para
procesos de alitación en los que se aplica aluminio en un
componente (reacondiccionamiento).
Como magnitud eléctrica sencilla que es
representativa de los resultados del revestimiento, se emplea
preferiblemente la resistencia eléctrica.
El sensor es, por ejemplo, una pieza sinterizada,
ya que una pieza sinterizada puede recibir el material de
revestimiento aplicado de un modo representativo (velocidad de
adición y difusión) o también es, por ejemplo, poroso o, por
ejemplo, del material del componente que va a revestirse o de
MCrAlY.
El procedimiento es adecuado especialmente para
procesos de revestimiento en el interior de un componente, ya que
éstos son difícilmente accesibles.
Un ejemplo de realización de la invención se
representa de forma simplificada en los dibujos.
Muestran
la figura 1, un componente con un sensor que se
reviste, empleándose el procedimiento según la invención para la
determinación del espesor de la capa, y
la figura 2, una disposición de medición con un
sensor para el procedimiento según la invención.
La figura 1 muestra un componente 1 hueco que,
por ejemplo, debe revestirse en una superficie 4 interior. Sin
embargo, el procedimiento puede emplearse también para la
determinación in situ del espesor de la capa de superficies
externas.
Sobre la superficie 4 interna se aplica una capa
7 del material M por medio de procedimientos conocidos, como por
ejemplo, procedimientos CVD (Chemical Vapour Deposition),
procedimientos electroquímicos u otros procedimientos de
revestimiento conocidos. Se coloca un sensor 10 en el espacio 19
hueco del componente 1 y, con ello, se reviste de igual forma que el
componente 1 a tratar. La figura 2 muestra el sensor 10 en una
representación aumentada.
El sensor 10 se compone de un material que cambia
una característica eléctrica, como por Ejemplo, la resistencia
eléctrica, la impedancia, la capacidad o similares, debido a una
interacción cualquiera con el material M que forma la capa. El
sensor 10 puede adoptar cualquier forma, es decir, por ejemplo,
puede ser una pieza de alambre o presentar una forma de
plaquita.
El sensor 10 está unido a través de conductos 13
eléctricos con un aparato 16 de medición eléctrico que mide la
magnitud eléctrica que cambia debido al revestimiento del sensor 10
con el material M. Mediante curvas de calibración calculadas en
ensayos preliminares se conoce la dependencia del espesor de la
capa de la magnitud eléctrica.
La invención se emplea particularmente en
procesos de alitación interna en los que se aplica aluminio sobre
una superficie 4 interna de un componente 1 (M = Al). El sensor se
compone en este caso, por ejemplo, del material MCRAlY (M = Fe, Co,
Ni) y cambia con el aluminio que se aplica en un proceso CVD, de
tal modo que la magnitud eléctrica medida cambia de forma
representativa respecto al resultado del revestimiento.
Claims (6)
1. Procedimiento para la determinación in
situ del espesor de capa durante una alitación de un componente
(1), en el que el componente (1) recibe material de revestimiento
por difusión, y en el que un sensor (10) cambia debido a la
alitación de tal modo que,
en consecuencia, se ejerce una influencia sobre
una característica eléctrica del sensor (10) está relacionada con
el espesor de la capa, y el cambio de la característica eléctrica se
utiliza para la determinación del espesor de la capa.
2. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque el sensor (10) se compone de MCrAlY,
siendo M un elemento del grupo hierro, cobalto o níquel.
3. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque la característica eléctrica es la
resistencia eléctrica.
4. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque el sensor (10) es una pieza
sinterizada.
5. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque la alitación es un proceso CVD
(Chemical Vapour Deposition).
6. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque la alitación se emplea para el
revestimiento interno de un componente (1).
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP02010628A EP1361292B1 (de) | 2002-05-10 | 2002-05-10 | Verfahren zur In-situ-Schichtdickenbestimmung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2247219T3 true ES2247219T3 (es) | 2006-03-01 |
Family
ID=29225654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES02010628T Expired - Lifetime ES2247219T3 (es) | 2002-05-10 | 2002-05-10 | Procedimiento para la determinacion in situ del espesor de una capa. |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6936299B2 (es) |
| EP (1) | EP1361292B1 (es) |
| JP (1) | JP2003329406A (es) |
| CN (1) | CN1456704A (es) |
| DE (1) | DE50204021D1 (es) |
| ES (1) | ES2247219T3 (es) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1361292B1 (de) * | 2002-05-10 | 2005-08-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur In-situ-Schichtdickenbestimmung |
| FR2974174B1 (fr) * | 2011-04-18 | 2013-04-26 | Peugeot Citroen Automobiles Sa | Procede pour controler la couche de protection anti-corrosion deposee a l'interieur des corps creux de la caisse d'un vehicule automobile |
| TR202011047A2 (tr) * | 2020-07-13 | 2022-01-21 | Tusaş Türk Havacilik Ve Uzay Sanayi̇i̇ Anoni̇m Şi̇rketi̇ | Bir ölçüm sistemi. |
| CN115652269A (zh) * | 2022-11-07 | 2023-01-31 | 东莞金坤新材料股份有限公司 | 一种磁溅射真空镀膜永磁体的制造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3004149A1 (de) * | 1980-02-05 | 1981-08-13 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur reproduzierbaren herstellung metallischer schichten |
| DE3123427C2 (de) * | 1981-06-12 | 1985-10-24 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Anordnung zum Messen des elektrischen Widerstandes und der Temperatur von durch Aufdampfen oder Aufstäuben auf Substraten abgeschiedenen dünnen, metallischleitenden Schichten während der Schichtherstellung |
| DE3613112A1 (de) * | 1986-04-18 | 1987-10-22 | Grundig Emv | Einrichtung zum messen der magnetischen eigenschaften von durch sputtern oder bedampfen aufgebrachten schichten waehrend des bearbeitungsvorganges |
| DE3881251D1 (de) * | 1987-03-31 | 1993-07-01 | Siemens Ag | Sensor zur messung des stromes oder der spannung von auf einem referenzsubstrat vorhandenen elektrisch leitenden schichten. |
| US4851300A (en) * | 1988-05-09 | 1989-07-25 | United Technologies Corporation | Precoat for improving platinum thin film adhesion |
| US4898746A (en) * | 1988-06-28 | 1990-02-06 | Rca Licensing Corporation | Material deposition process analysis system |
| US5142228A (en) * | 1989-04-24 | 1992-08-25 | Corning Incorporated | Method for statically or dynamically monitoring the thickness of electrically-conductive coatings on optical fibers |
| US5057781A (en) * | 1989-07-31 | 1991-10-15 | At&T Bell Laboratories | Measuring and controlling the thickness of a conductive coating on an optical fiber |
| JPH0456325A (ja) * | 1990-06-26 | 1992-02-24 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
| JP2660467B2 (ja) * | 1992-02-03 | 1997-10-08 | 井前工業株式会社 | 誘導加熱コイルの耐熱絶縁体 |
| US6436246B1 (en) * | 1997-01-27 | 2002-08-20 | Micron Technology, Inc. | Collimated sputter deposition monitor using sheet resistance |
| EP1361292B1 (de) * | 2002-05-10 | 2005-08-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur In-situ-Schichtdickenbestimmung |
-
2002
- 2002-05-10 EP EP02010628A patent/EP1361292B1/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-05-10 ES ES02010628T patent/ES2247219T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-10 DE DE50204021T patent/DE50204021D1/de not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-05-07 JP JP2003128776A patent/JP2003329406A/ja not_active Withdrawn
- 2003-05-09 CN CN03123484A patent/CN1456704A/zh active Pending
- 2003-05-09 US US10/434,165 patent/US6936299B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-05-12 US US11/127,103 patent/US20050229847A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20050229847A1 (en) | 2005-10-20 |
| JP2003329406A (ja) | 2003-11-19 |
| US20030230138A1 (en) | 2003-12-18 |
| DE50204021D1 (de) | 2005-09-29 |
| EP1361292A1 (de) | 2003-11-12 |
| EP1361292B1 (de) | 2005-08-24 |
| US6936299B2 (en) | 2005-08-30 |
| CN1456704A (zh) | 2003-11-19 |
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