ES2229026T3 - Resistencia electrica de baja impedancia y procedimiento para su fabricacion. - Google Patents
Resistencia electrica de baja impedancia y procedimiento para su fabricacion.Info
- Publication number
- ES2229026T3 ES2229026T3 ES02015940T ES02015940T ES2229026T3 ES 2229026 T3 ES2229026 T3 ES 2229026T3 ES 02015940 T ES02015940 T ES 02015940T ES 02015940 T ES02015940 T ES 02015940T ES 2229026 T3 ES2229026 T3 ES 2229026T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- resistance
- metal
- strips
- film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/06—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material including means to minimise changes in resistance with changes in temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C1/00—Details
- H01C1/14—Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors
- H01C1/142—Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors the terminals or tapping points being coated on the resistive element
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/003—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors using lithography, e.g. photolithography
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/28—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals
- H01C17/281—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals by thick film techniques
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/003—Thick film resistors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Details Of Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Networks Using Active Elements (AREA)
- Control Of Electrical Variables (AREA)
Abstract
Resistencia eléctrica de baja impedancia, que comprende una pieza metálica rectangular plana (1'', 11), de una aleación de resistencia eléctrica y de contactos de conexión (4'', 4'''', 14), galvanizados encima de una superficie principal de la pieza metálica en extremos opuestos, en las que las caras exteriores (9) de la pieza metálica (1'', 11) y los contactos de conexión (4'', 4'''', 14) en estos extremos y las caras laterales (8) que limitan perpendicularmente con estas caras exteriores (9) de la pieza metálica (1'') y los contactos de conexión (4'', 4'''', 14) están alineados respectivamente de modo perpendicular al plano de la superficie principal de la pieza metálica (1'', 11).
Description
Resistencia eléctrica de baja impedancia y
procedimiento para su fabricación.
La invención se refiere a una resistencia
eléctrica de baja impedancia y a un procedimiento para su
fabricación según el concepto más amplio de las reivindicaciones
independientes. Especialmente se trata de una resistencia de
precisión de baja impedancia para fines de medición de intensidad
fabricada empleando la técnica de montaje exterior de los
componentes (técnica SMD) o en un modo de construcción tipo
chip.
En un procedimiento conocido a partir del
documento EP 0 841 668 A1 para la fabricación de resistencias de
medida fabricadas con la técnica SMD con unos valores de
resistencia de m\Omega se forma primeramente un laminado a partir
de una chapa de un cobre que sirve como sustrato, de una película de
una aleación de resistencia eléctrica sobre la base de cobre y de
una película adhesiva conductora del calor que se encuentra entre
ellas. Sobre la cara superior libre de la película de aleación se
definen fotolitográficamente unas zonas de contacto de conexión
para las resistencias individuales, se cobrean galvánicamente y se
recubren con níquel. Tras la metalización galvánica se produce la
estructura propiamente dicha de las resistencias y sus contactos de
conexión mediante mordentado. La estructura de la resistencia puede
presentar la forma usual de cuadripolo y/o de meandro. La
individualización de las resistencias puede realizarse con un
equipo de corte por láser o preferentemente mediante la ruptura de
la película adhesiva tras haber extraído completamente por
mordentado en las dos caras las capas metálicas a lo largo de la
línea separadora prevista. Este procedimiento conocido es
relativamente costoso. Pero ante todo es muy difícil poder
conseguir mediante el mordentado necesario hasta ahora resistencias
con valores de resistencia exactamente definidos. Resulta
especialmente dificultoso estructurar mediante mordentado los
contactos de conexión galvanizados encima de la película de
aleación, sin atacar al metal de aleación que se encuentra debajo,
con lo que la precisión se ve perjudicada además por la forma
indefinida de las superficies exteriores de los contactos de
conexión, típica del mordentado, no quedando los contactos de
conexión exactamente perpendiculares a la superficie, sino que
transcurren con una forma más o menos cóncava hasta la superficie de
la aleación.
En otro procedimiento conocido a partir del
documento EP 0 484 756 B1 para la fabricación de resistencias de
medida empleando la técnica de montaje exterior de los componentes
(técnica SMD), los contactos de conexión de una película de
material de resistencia eléctrica estructurada mediante la forma
habitual, pegada sobre un sustrato, tras un estañado realizado
galvánicamente de las zonas de conexión, se aplican sobre la
película empleando el procedimiento de serigrafiado y a
continuación se refunden formando "perlas" compactas. También
en la presente memoria la deseada precisión del valor de la
resistencia sólo se consigue mediante un ajuste posterior. La
individualización de estas resistencias se efectúa, en la práctica,
mediante troquelado, como es habitual también con otros componentes
conocidos comparables.
La invención tiene como objetivo proporcionar un
procedimiento para la fabricación de resistencias de precisión del
tipo considerado, que resulte más simple que los procedimientos
conocidos comparables y especialmente que posibilite la formación
de los contactos de conexión sin mordentado.
Este objetivo se consigue mediante el
procedimiento según la reivindicación 6.
Mediante la invención se proporciona además una
resistencia de baja impedancia con las características de la
reivindicación 1.
En las reivindicaciones independientes se definen
formas de realización particulares de la invención.
Según la invención, con unas pocas etapas simples
del proceso de trabajo, se pueden fabricar resistencias de
precisión de m\Omega, que con tolerancias del valor de la
resistencia de como máximo \pm 5% no requieren ningún ajuste a
posteriori. Ni los contactos de conexión ni las zonas de
aleación deben mordentarse, con lo cual se evitan los
inconvenientes de la estructuración mediante la técnica de
mordentado, a saber, la configuración de los bordes del mordentado
que salen discontinuos y no perpendiculares, lo cual produce grandes
oscilaciones y por tanto una gran dispersión estadística de los
valores de resistencia y una mala reproducibilidad.
Según la invención resulta ventajoso tras la
definición fotolitográfica de las superficies de precipitación, las
capas de contacto de cobre comparativamente gruesas se pueden
precipitar galvánicamente de forma muy precisa, resultando
especialmente importantes la orientación perpendicular respecto a la
superficie principal de la chapa o respecto a una película que
forma la capa de resistencia y la posición de los flancos encarados
a la zona de resistencia activa.
La segunda premisa para la fabricación según la
invención de resistencias de precisión es la consecución de una
anchura definida. Preferentemente, se consigue mediante el corte
con sierra de la capa de resistencia galvanizada.
Mediante el aserrado resulta una precisión y
reproducibilidad de la resistencia bastante superior que con otros
procedimientos de separación tales como el mordentado, el
troquelado y por ejemplo también con la ya de por sí posible
utilización de láser. Además, mediante el aserrado se puede
maximizar la cantidad de resistencias fabricables con una
superficie útil dada.
El procedimiento resulta apropiado, entre otros,
para la fabricación de resistencias de extremadamente baja
impedancia, por ejemplo de aproximadamente 0, 5 m\Omega hasta 5
m\Omega en grandes series de fabricación, pero también pueden
fabricarse resistencias con valores de resistencia aún más bajos o
con valores más altos, por ejemplo de 0, 01 a 50 m\Omega. En una
forma constructiva modificada con películas de material de
resistencia eléctrica especialmente delgadas, el valor de la
resistencia se puede aumentar aún más sin problemas, por ejemplo
hasta 100 m\Omega. Además, las resistencias son flexibles y,
según la carrera admisible deseada, se pueden fabricar de casi
cualquier tamaño grande o pequeño. Puesto que la resistencia
fabricada según la invención se compone esencialmente sólo de metal
y puesto que la capa adhesiva orgánica empleada en los
procedimientos conocidos citados se puede eliminar totalmente, o,
en caso de que exista, no debe disipar calor, presenta la ventaja de
poseer una alta resistencia a la temperatura y una alta capacidad de
soportar carga. En los casos de aplicación típicos para estas
resistencias, es suficiente con disipar el calor de pérdidas por
los contactos de conexión, p.ej en una placa o tarjeta de circuitos
sobre cuya superficie se montan las resistencias empleando la
técnica SMD.
En los ejemplos de realización representados en
el dibujo en se explica con más detalle la invención. En los
dibujos, las figuras representan lo siguiente:
La Figura 1 las diferentes etapas del
procedimiento;
La Figura 2 es una representación esquemática en
perspectiva de una resistencia fabricada según la invención, y
La Figura 3 es una forma constructiva modificada
de la resistencia.
Según la figura 1A), en la primera etapa del
procedimiento, una chapa rectangular desnuda 1 de una aleación
metálica para las resistencias eléctricas se recubre con un una
capa protectora fotosensible 2, que se expone a la luz a través de
un estarcido fotográfico (no representado) de la forma habitual
empleada en la fotolitografía. La chapa 1, en los casos prácticos,
puede presentar una superficie útil de por ejemplo aproximadamente
300 x 400 mm y un espesor entre 0,1 y 1 mm. Se compone
preferentemente de una aleación para resistencias acreditada sobre
la base de cobre, como por ejemplo CuMn12Ni o similar.
En el paso siguiente según la figura 1B) se
forma, de una manera también ya de por sí conocida, la estructura
fotolitográfica de la capa protectora fotosensible 2 mediante
extracción parcial. Esta estructura que sirve como máscara de
protección se compone de múltiples franjas 2' paralelas que se
extienden por toda la longitud o anchura de la superficie superior
de la chapa 1 en el dibujo o por lo menos de la superficie útil,
presentando estas franjas por regla general la misma anchura y las
mismas distancias entre ellas a lo largo de toda la longitud de las
franjas.
Antes, después o simultáneamente a la
estructuración fotolitográfica de la capa fotosensible 2, la cara
inferior de la chapa 1 se cubre con una película de protección 3
que, en la siguiente galvanización impide una metalización de la
cara inferior de la chapa.
La figura 1C) representa la etapa del
procedimiento a continuación de la precipitación galvánica del
cobre sobre las franjas de la chapa que se han dejados libres entre
las franjas 2' de la máscara de estarcido. Las franjas de cobre
precipitadas 4 se prolongan en consecuencia también con la misma
anchura entre ellas y con las mismas distancias entre ellas a lo
largo de toda la longitud de las franjas por toda la anchura o
longitud de la superficie útil de la chapa 1.
En la etapa del procedimiento según la figura 1D)
se retiran las franjas fotosensibles 2' y se reemplazan por barniz
protector. Las franjas de barniz protector 5 se pueden aplicar por
ejemplo manualmente con espátulas o con rasqueta. Estas franjas
impiden una metalización de las zonas de la chapa 1 dispuestas
entre las franjas de cobre 4 en un posterior refuerzo galvánico de
las franjas de cobre y además protegen luego al igual que la
película de protección 3 la superficie de la zona de aleación de la
resistencia acabada.
Según la figura 1E), sobre las franjas de cobre 4
se puede aplicar galvánicamente más cobre para reforzar los
contactos y/o precipitarse otro metal adicional. Mediante la
aplicación de una capa de estaño 6 sobre la superficie del cobre se
protege a ésta contra la oxidación y se facilita la posterior
soldadura de la resistencia sobre una placa de circuitos o
similares. Las franjas 4 con la capa de estaño 6 forman los
contactos de conexión de las resistencias individuales que se han
de fabricar.
Ahora ya pueden individualizarse las resistencias
de precisión debido a que ya están acabadas. Con este fin, la chapa
1 provista de contactos de conexión se corta longitudinalmente
perpendicularmente a la superficie de la chapa en grupos que
transcurren perpendicularmente entre sí de planos de sección. Los
planos de sección de uno de estos dos grupos transcurren
paralelamente a las franjas de cobre 4 y por consiguiente a uno de
los bordes de la chapa 1 por toda la chapa y están situados
respectivamente en el centro de una de las franjas de cobre 4, que
de esta manera se separa en dos partes de franja iguales, a lo
largo de la flecha 7 en la figura 1E) y en la figura F). En la
figura F) se representa como última o penúltima etapa del
procedimiento la resistencia individualizada o una franja que aún
se habrá de cortar a lo largo del segundo grupo de planos de
sección. Los planos de sección del segundo grupo transcurren
paralelamente al otro borde de la chapa también por toda la chapa a
lo largo de los bordes laterales de las resistencias
individuales.
La mejor manera de realizar esta
individualización de las resistencias es mediante aserrado en los
planos de sección individuales. El corte por aserrado presenta la
ventaja de que se pueden garantizar de forma muy precisa las
correspondientes dimensiones deseadas de las resistencias con las
superficies de corte planas exactamente perpendiculares al plano de
la chapa. Las máquinas de corte por aserrado de precisión apropiada
para ello se pueden alinear (referenciar) ópticamente con la chapa
galvanizada y que trabajan con una precisión de \mum son ya de
por sí conocidas y están disponibles comercialmente. Para proceder
al corte por aserrado la chapa se pega convenientemente sobre una
base o sustrato, de cuya capa adhesiva las resistencias
individuales se pueden luego soltar sin problemas.
Convenientemente la chapa galvanizada primero se corta por aserrado
en franjas individuales a lo largo de uno de los dos grupos de
planos de sección, y estas franjas individuales luego, a su vez,
son cortadas por aserrado para formar las resistencias
individuales. Según el tipo de máquina de aserrar también se pueden
aserrar teóricamente varias franjas simultáneamente. A partir de una
chapa con el área aprovechable mencionada anteriormente como
ejemplo de aproximadamente 300 x 400 mm, de la manera aquí
descrita se pueden cortar por aserrado varias decenas de miles de
resistencias.
La resistencia individual surgida tras la última
etapa del procedimiento se representa esquemáticamente (no está a
escala) en la figura 2. La resistencia acabada se compone del trozo
de chapa de aleación rectangular 1', en cuyos extremos opuestos se
aplican encima por galvanizado los contactos de conexión
rectangulares 4' y 4'' con las capas de estaño 6' y 6''. Los
contactos de conexión formados, dado el caso, en varias capas
mediante la precipitación galvánica de cobre son preferentemente
relativamente gruesos, entre otras cosas para garantizar una buena
entrada y salida de la corriente hacia y desde la aleación. Por
ejemplo el espesor del cobre puede estar comprendido entre
aproximadamente 50 y 100 \mum.
Como se puede observar, la resistencia presenta
en dichos extremos opuestos caras exteriores planas 9 de los
contactos de conexión y de la pieza de chapa 1' propiamente dicha,
que están alineadas entre sí con el plano de la chapa de forma
exactamente perpendicular. Lo mismo sucede para las dos caras
exteriores laterales 8 de los contactos de conexión y de la pieza
de chapa 1'. Entre los contactos de conexión se encuentra la capa de
barniz de protección 5', mientras que la superficie de la
resistencia opuesta de los contactos aún puede estar cubierta por
la película de protección 3'.
La resistencia modificada representada en la
figura 3 se distingue de la forma constructiva según la figura 2
sólo en que el lugar de la pieza de chapa 1' relativamente gruesa
cubierta con la película de protección 3' se ha empleado una
película de resistencia 11 considerablemente más delgada que se ha
fijado sobre una en película adhesiva 13 adhesiva por las dos caras
y que sirve como película de protección. La película de material de
resistencia eléctrica 11, cuyo espesor puede ser inferior a 100
\mum por ejemplo hasta 20 \mum, a efectos de la manejabilidad,
es decir para la estabilización mecánica mediante la película de
protección y película adhesiva 13, se ha fijado sobre un sustrato
18, que puede tratarse por ejemplo de una chapa de aluminio de 0,5
mm de espesor.
Los contactos de conexión 14 con las capas de
estaño 16 y la capa de barniz de protección 15 se corresponden con
la forma de realización según la figura 2, y también la
fabricación de la resistencia modificada se efectúa esencialmente
siguiendo el procedimiento descrito con la ayuda de la figura 1 con
la provisión de que en el paso según la figura 1A, en lugar de la
chapa 1 relativamente gruesa se emplee el laminado compuesto por la
película de resistencia delgada 11, la película adhesiva en las dos
caras 13 y el sustrato 18, pudiendo la película adhesiva 13 y el
sustrato 18 reemplazar a la película de protección 3. Los valores
de las resistencias fabricadas de este modo pueden ser típicamente
de 50 o también de 100 m\Omega.
Dado el caso, en lugar del sustrato de aluminio
18 sería posible utilizar una película de resistencia muy delgada
como la película 11 de la figura 3 también mediante un sustrato no
metálico apropiado para la estabilización mecánica de la película,
de tal manera que resulte una resistencia que salvo el trozo de
película más delgada en lugar de un trozo de chapa 1' y el sustrato
no metálico más grueso en lugar de la película de protección 3',
se corresponda con el ejemplo de realización según la figura 2 (o
el ejemplo de realización según la figura 3 en el que la película
adhesiva 13 y el sustrato 18 están reemplazados por una única capa
de sustrato, sobre la que se puede pegar la lámina de material de
resistencia eléctrica 11).
Claims (12)
1. Resistencia eléctrica de baja impedancia, que
comprende una pieza metálica rectangular plana (1', 11), de una
aleación de resistencia eléctrica y de contactos de conexión (4',
4'', 14), galvanizados encima de una superficie principal de la
pieza metálica en extremos opuestos, en las que las caras
exteriores (9) de la pieza metálica (1', 11) y los contactos de
conexión (4', 4'', 14) en estos extremos y las caras laterales (8)
que limitan perpendicularmente con estas caras exteriores (9) de la
pieza metálica (1') y los contactos de conexión (4', 4'', 14) están
alineados respectivamente de modo perpendicular al plano de la
superficie principal de la pieza metálica (1', 11).
2. Resistencia según la reivindicación 1,
caracterizada porque su valor de resistencia está
comprendido entre aproximadamente 0,5 y aproximadamente 5,0
m\Omega.
3. Resistencia según la reivindicación 1 ó 2,
caracterizada porque la pieza metálica es una película (11)
que en su cara opuesta a los contactos de conexión (14) está fijada
a un sustrato (18).
4. Resistencia según la reivindicación 3,
caracterizada porque la película (11) presenta un espesor
inferior a 100 \mum.
5. Resistencia según la reivindicación 3 ó 4,
caracterizada porque su valor de resistencia es superior a
10 m\Omega o preferentemente superior a 50 m\Omega.
6. Procedimiento para la fabricación de
resistencias eléctricas de baja impedancia, en el que sobre las
zonas definidas fotolitográficamente de una aleación de resistencia
metálica en forma de una chapa (1) o de una capa compuesta de una
película (11) se precipita galvánicamente un metal para formar unos
contactos de conexión (4) para múltiples resistencias individuales y
la capa (1,11) provista de los contactos de conexión (4) se divide
en las resistencias individuales, caracterizada por las
etapas siguientes:
- producción fotolitográfica de una máscara de
protección, que se forma mediante múltiples franjas (2') paralelas
con distancia uniforme entre sí que se prolongan sobre una de las
superficies de la capa (1,11);
- galvanización de la capa (1,11) sólo sobre la
superficie que lleva la máscara de protección para la precipitación
del metal del contacto de conexión sobre las franjas de resistencia
dispuestas entre las franjas de máscara (2') paralelas; y
- separación de la capa galvanizada (1,11)
longitudinalmente de modo perpendicular a su superficie y de grupos
de planos de sección que transcurren perpendicularmente entre sí,
de los cuales uno de los planos de sección (7) paralelo a las
franjas de contacto de conexión (4) separa respectivamente una de
las franjas de contacto de conexión, mientras que los otros planos
de sección separan entre sí las resistencias en sus bordes que
transcurren transversalmente a las franjas de los contactos de
conexión (4), aserrándose o cortándose con un láser la capa
galvanizada (1,11) para individualizar las resistencias.
7. Procedimiento según la reivindicación 6,
caracterizado porque antes de proceder a la galvanización de
la cara posterior de la capa (1) se cubre con una película de
protección (3).
8. Procedimiento según cualquiera de las
reivindicaciones 6 ó 7, caracterizado porque tras la
precipitación del metal del contacto de conexión se retiran las
franjas de máscara (2') y en su lugar se aplica un barniz de
protección (5).
9. Procedimiento según cualquiera de las
reivindicaciones 6 a 8, caracterizado porque sobre las
franjas del contacto de conexión (4) se aplica galvánicamente,
antes de la individualización de la resistencias, por lo menos una
capa adicional (6) del mismo metal o de otro metal.
10. Procedimiento según cualquiera de las
reivindicaciones 6 a 9, caracterizado porque una chapa (1) o
una película (11) de una aleación de cobre se metaliza con cobre
para formar las franjas de los contactos de conexión y las franjas
de cobre (4) se estañan.
11. Procedimiento según cualquiera de las
reivindicaciones 6 a 10, caracterizado porque la longitud,
la anchura y el espesor de los trozos de chapa (1') que quedan tras
la individualización de la resistencias y la distancia que queda
entre los contactos de conexión (4', 4'') se dimensionan para unos
valores de resistencia comprendidos entre aproximadamente 0,1 y 5
m\Omega.
12. Procedimiento según cualquiera de las
reivindicaciones 6 a 10, caracterizado porque la máscara de
protección se produce sobre una película con un espesor inferior a
100 \mum que se compone de una aleación de material de
resistencia eléctrica, que es posible manipular mediante la fijación
sobre un sustrato (18) y porque la longitud, anchura y espesor de
los trozos de película (11) que quedan tras la individualización de
las resistencias se dimensionan para unos valores de resistencia
superiores a 10 m\Omega y preferentemente superiores a 50
m\Omega.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001139323 DE10139323C1 (de) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher Widerstände |
DE10139323 | 2001-08-10 | ||
DE10153273 | 2001-10-29 | ||
DE2001153273 DE10153273A1 (de) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher Widerstände |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2229026T3 true ES2229026T3 (es) | 2005-04-16 |
Family
ID=26009922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES02015940T Expired - Lifetime ES2229026T3 (es) | 2001-08-10 | 2002-07-17 | Resistencia electrica de baja impedancia y procedimiento para su fabricacion. |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1283528B1 (es) |
AT (1) | ATE279779T1 (es) |
DE (1) | DE50201270D1 (es) |
ES (1) | ES2229026T3 (es) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10338041B3 (de) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Isabellenhütte Heusler GmbH KG | Elektrischer Widerstand und Verfahren zum Herstellen von Widerständen |
US8242878B2 (en) | 2008-09-05 | 2012-08-14 | Vishay Dale Electronics, Inc. | Resistor and method for making same |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3296574A (en) * | 1962-12-21 | 1967-01-03 | Tassara Luigi | Film resistors with multilayer terminals |
DE3201434A1 (de) * | 1982-01-19 | 1983-09-08 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Elektrisches bauelement in chip-bauweise |
DE3321900C2 (de) * | 1982-06-16 | 1986-01-16 | Nitto Electric Industrial Co., Ltd., Ibaraki, Osaka | Substrat für eine Schaltung mit einer Widerstandsschicht und Verfahren zu dessen Herstellung |
-
2002
- 2002-07-17 DE DE2002501270 patent/DE50201270D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-17 EP EP02015940A patent/EP1283528B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-17 ES ES02015940T patent/ES2229026T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-17 AT AT02015940T patent/ATE279779T1/de active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE279779T1 (de) | 2004-10-15 |
EP1283528A3 (de) | 2003-07-16 |
DE50201270D1 (de) | 2004-11-18 |
EP1283528A2 (de) | 2003-02-12 |
EP1283528B1 (de) | 2004-10-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6476417B2 (ja) | 抵抗器の製造方法 | |
US7782173B2 (en) | Chip resistor | |
ES2329425T3 (es) | Resistor, particularmente un smd resistor, y metodo correspondiente de fabricacion. | |
US9343208B2 (en) | Chip resistor and manufacturing method thereof | |
JP5256544B2 (ja) | 抵抗器 | |
US20190228886A1 (en) | Chip resistor and mounting structure thereof | |
JP2009302494A (ja) | チップ抵抗器およびその製造方法 | |
JP4503122B2 (ja) | 電流検出用低抵抗器及びその製造方法 | |
TWI391974B (zh) | Chip type fuse and manufacturing method thereof | |
US10102948B2 (en) | Chip resistor and method for making the same | |
US10622122B2 (en) | Chip resistor and method for producing same | |
ES2229026T3 (es) | Resistencia electrica de baja impedancia y procedimiento para su fabricacion. | |
US10083779B2 (en) | Chip resistor and mounting structure thereof | |
US20150129108A1 (en) | Resistor and manufacturing method for same | |
JP2020074456A (ja) | 抵抗器 | |
US20190198204A1 (en) | Method for making resistors | |
JPWO2019107188A1 (ja) | 金属板抵抗器およびその製造方法 | |
CN111201604B (zh) | 摄像元件安装基板 | |
US20050046543A1 (en) | Low-impedance electrical resistor and process for the manufacture of such resistor | |
JP4306892B2 (ja) | 回路保護素子の製造方法 | |
JP6923615B2 (ja) | 抵抗器の製造方法 | |
JP7178453B2 (ja) | 抵抗器 | |
JP7194518B2 (ja) | 電子部品、電子部品の製造方法、電子装置 | |
US20220367089A1 (en) | Chip resistor | |
ES2896949T3 (es) | Método para fabricar una pluralidad de unidades de resistencia sobre un sustrato cerámico |