ES2222911T3 - THERMAL LITHOGRAPHIC PLANKS WITHOUT WATER. - Google Patents
THERMAL LITHOGRAPHIC PLANKS WITHOUT WATER.Info
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Abstract
Description
Planchas litográficas térmicas sin agua.Thermal lithographic plates without water.
La invención se refiere a planchas litográficas térmicas sin agua que comprenden capas de polímeros inherentes, que absorben cerca del infrarrojo, para tecnologías de ordenador a plancha y prensa digital-offset. Más especialmente, esta invención se refiere a planchas litográficas térmicas sin agua, en las que pueden formarse imágenes con luz láser cerca del infrarrojo y que no requieren una etapa de tratamiento químico posterior.The invention relates to lithographic plates water-free thermal comprising inherent polymer layers, which absorb near infrared, for computer technologies to plate and digital-offset press. More especially This invention relates to thermal lithographic plates without water, in which images with laser light can be formed near the infrared and that do not require a chemical treatment stage later.
Las planchas litográficas térmicas sin agua son conocidas. Por ejemplo, las patentes de los EE.UU. 5.310.869 y 5.339.737 describen planchas litográficas térmicas sin agua que comprenden una capa que repele la tinta que reviste una capa de formación de imágenes que absorbe cerca del infrarrojo. La capa que repele la tinta es transparente a la radiación y comprende principalmente polímeros de silicona reticulados. La capa de formación de imágenes que absorbe cerca del infrarrojo contiene resinas aglutinantes y materiales que absorben cerca del infrarrojo, tales como negro de carbono y tintes moleculares. Estas planchas litográficas térmicas sin agua requieren altas dosis de energía láser para erosionar la capa que absorbe cerca del infrarrojo y debilitar la adhesión de la capa de polímero de silicona reticulado que repele la tinta. Además, la zona expuesta de la plancha debe eliminarse durante una etapa de tratamiento químico adicional para llegar a dar una zona imagen.Thermal lithographic plates without water are known. For example, US patents. 5,310,869 and 5,339,737 describe thermal lithographic plates without water that they comprise a layer that repels the ink that covers a layer of Imaging that absorbs near the infrared. The layer that repels ink is transparent to radiation and comprises mainly crosslinked silicone polymers. The layer of Imaging that absorbs near the infrared contains binder resins and materials that absorb near the infrared, such as carbon black and molecular dyes. These thermal lithographic plates without water require high doses of laser energy to erode the absorbing layer near the infrared and weaken the adhesion of the polymer layer of cross-linked silicone that repels ink. In addition, the exposed area of the iron must be removed during a chemical treatment stage additional to get to give an image area.
La patente de los EE.UU. 5.379.698 también describe planchas litográficas térmicas sin agua, que comprenden polímeros de silicona reticulados que repelen la tinta, que recubren una delgada película metálica o de óxido metálico de titanio depositada sobre un sustrato como una capa de formación de imágenes por láser. En una tecnología similar, la patente de los EE.UU. 5.487.338 enseña a usar una capa reflectante en el infrarrojo situada por debajo de la capa que absorbe cerca del infrarrojo. La fabricación de tales planchas litográficas requiere deposición a vacío de los metales correspondientes. Por tanto, es muy cara.U.S. Pat. 5,379,698 also describes thermal lithographic plates without water, which include crosslinked silicone polymers that repel ink, which they cover a thin metal or metal oxide film of titanium deposited on a substrate as a formation layer of laser imaging In a similar technology, the patent of the USA 5,487,338 teaches how to use a reflective layer on the infrared located below the absorbing layer near the infrared. The manufacture of such lithographic plates requires vacuum deposition of the corresponding metals. Therefore it is very expensive
Los documentos WO9831550, WO9700175 y WO9401280 también describen planchas litográficas térmicas sin agua, que comprenden una capa de polímeros de silicona reticulados que repelen la tinta, que recubre una capa de formación de imágenes que absorbe cerca del infrarrojo que contiene resinas aglutinantes y finas películas de metal, colorantes o pigmentos que absorben cerca del infrarrojo. De nuevo tal impresión litográfica térmica sin agua requiere altas dosis de energía láser para la formación de imágenes.WO9831550, WO9700175 and WO9401280 they also describe thermal lithographic plates without water, which they comprise a layer of crosslinked silicone polymers that repel the ink, which covers a layer of imaging that absorbs near the infrared that contains binder resins and fine metal films, dyes or pigments that absorb nearby of the infrared. Again such thermal lithographic printing without water requires high doses of laser energy for the formation of images.
El documento WO9706956 también describe planchas litográficas térmicas sin agua, que comprenden una capa que absorbe cerca del infrarrojo que contiene resinas aglutinantes y colorantes o pigmentos de absorción cerca del infrarrojo, y una capa hidrófoba transparente que recubre que contiene materiales poliméricos fluorados solubles en disolventes fluorados. Al exponerse a radiación láser cerca del infrarrojo, la zona expuesta se erosiona y acepta la tinta, mientras que la zona no expuesta todavía repele la tinta. Un inconveniente de tales planchas es que la zona no expuesta es sensible a la manipulación y llega a ensuciarse fácilmente en la prensa.WO9706956 also describes plates thermal lithographs without water, comprising a layer that absorbs near the infrared containing binder and coloring resins or absorption pigments near the infrared, and a hydrophobic layer transparent coating that contains polymeric materials fluorinated soluble in fluorinated solvents. When exposed to laser radiation near the infrared, the exposed area erodes and accept the ink, while the unexposed area still repels the ink. A drawback of such plates is that the area does not exposed is sensitive to manipulation and becomes dirty Easily in the press.
El documento EP0764522 también proporciona una plancha litográfica térmica sin agua que contiene una capa que repele la tinta, de polímero de silicona reticulado, transparente, cerca del infrarrojo y una capa de formación de imágenes que absorbe cerca del infrarrojo. La capa que repele la tinta y las capas de formación de imágenes que absorben cerca del infrarrojo contienen funcionalidad reticulada, que forma enlaces reticulados entre capas para aumentar la longitud de la tirada en la prensa. Tal plancha litográfica requiere altas dosis de energía láser para la formación de imágenes y requiere una etapa de tratamiento químico.EP0764522 also provides a thermal lithographic plate without water containing a layer that repel ink, crosslinked silicone polymer, transparent, near the infrared and an imaging layer that absorbs near infrared. The layer that repels the ink and the imaging layers that absorb near the infrared contain crosslinked functionality, which forms crosslinked links between layers to increase the length of the press run. Such Lithographic plate requires high doses of laser energy for the imaging and requires a treatment stage chemical.
El documento WO9911467 también proporciona una plancha litográfica térmica sin agua, que comprende una capa de polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que recubre una capa de formación de imágenes que absorbe cerca del infrarrojo, que contiene resinas de poliuretano y colorantes de absorción cerca del infrarrojo. Aunque tal plancha de impresión muestra una velocidad más rápida de formación de imágenes por láser, es muy sensible a los diferentes reveladores utilizados en la etapa de tratamiento químico final.WO9911467 also provides a thermal lithographic plate without water, comprising a layer of cross-linked silicone polymer that repels ink, which covers an imaging layer that absorbs near the infrared, containing polyurethane resins and absorption dyes nearby of the infrared. Although such printing plate shows a faster speed of laser imaging, it is very sensitive to the different developers used in the stage of final chemical treatment
Por tanto, sigue habiendo una necesidad de una plancha litográfica térmica sin agua que supere los inconvenientes de la técnica anterior.Therefore, there remains a need for a thermal lithographic plate without water that overcomes the inconveniences of the prior art.
El principal objeto es proporcionar composiciones de revestimiento de la plancha litográfica que combinen las ventajas de: planchas de impresión de larga duración, ausencia de separación de fases de los revestimientos que recubren, formulaciones de revestimiento baratas y de fácil fabricación, revestimientos en los que pueden formarse imágenes de manera rápida y precisa con exactitud láser.The main object is to provide compositions of coating of the lithographic plate that combine the Advantages of: long-term printing plates, absence of phase separation of the coatings that cover, cheap and easily manufactured coating formulations, coatings in which images can be formed quickly and accurate with laser accuracy.
Esta invención se refiere a planchas litográficas térmicas sin agua para tecnologías de ordenador a plancha y de prensa digital-offset. Más especialmente, esta invención se refiere a planchas litográficas térmicas que comprenden:This invention relates to lithographic plates thermal water-free for ironed and computer technologies digital offset press More especially, this invention refers to thermal lithographic plates that include:
En términos generales, la presente invención proporciona una plancha litográfica térmica sin agua adecuada para la formación de imágenes por láser cerca del infrarrojo, comprendiendo dicha plancha de impresión:In general terms, the present invention provides a thermal lithographic plate without water suitable for Laser imaging near infrared, said printing plate comprising:
- (i)(i)
- un sustrato de soporte, y (ii) una capa superior de material compuesto que consiste en:a support substrate, and (ii) a top layer of composite material consisting of:
- (a)(to)
- una capa que potencia la adhesión, que absorbe cerca del infrarrojo, aplicada al sustrato de soporte ya layer that enhances adhesion, which absorbs near the infrared, applied to the support substrate and
- (b)(b)
- una capa de polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo.a crosslinked silicone polymer layer that repels ink, which absorbs near infrared.
También se proporcionan revestimientos para obtener la plancha de impresión de la presente invención.Coatings are also provided for Obtain the printing plate of the present invention.
En las planchas litográficas térmicas sin agua de esta invención pueden formarse imágenes con luces láser cerca del infrarrojo que tienen una radiación de entre aproximadamente 780 y aproximadamente 1200 nm. Dependiendo de las dosis de energía láser para la formación de imágenes, las planchas en las que se forman las imágenes pueden no requerir etapa posterior de tratamiento químico.On thermal lithographic plates without water from this invention can be formed with laser lights near the infrared that have a radiation between about 780 and approximately 1200 nm. Depending on the doses of laser energy for the formation of images, the plates in which the images may not require further treatment stage chemical.
Esta invención se refiere a planchas litográficas térmicas sin agua para tecnologías de ordenador a plancha y de prensa digital-offset. Más específicamente, esta invención se refiere a planchas litográficas térmicas sin agua, en las que pueden formarse imágenes con luz láser cerca del infrarrojo que tiene una radiación de entre aproximadamente 780 y aproximadamente 1200 nm. Las planchas litográficas térmicas sin agua de esta invención comprenden (I) un sustrato de soporte, y (II) una capa superior de material compuesto que consiste en un material compuesto inherente, que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, que comprende polímeros inherentes que absorben cerca del infrarrojo.This invention relates to lithographic plates thermal water-free for ironed and computer technologies digital offset press More specifically, this invention refers to thermal lithographic plates without water, in which can be formed with laser light near infrared which has a radiation of between about 780 and approximately 1200 nm. Thermal lithographic plates without water of this invention comprise (I) a support substrate, and (II) a upper layer of composite material consisting of a material inherent compound, which repels ink, which absorbs near the infrared, which comprises inherent polymers that absorb near of the infrared.
El sustrato de soporte de esta invención puede ser cualquier material en lámina, tal como metal, plástico y papel. La superficie del sustrato puede tratarse para potenciar la adhesión mediante técnicas conocidas en la técnica. Por ejemplo, la superficie de la lámina de aluminio puede tratarse mediante técnicas de acabado del metal que incluyen corrugación electroquímica, corrugación química, corrugación mecánica, anodización y similares. La superficie de las láminas de plástico puede modificarse mediante tratamiento corona y grabados químicos.The support substrate of this invention can be any sheet material, such as metal, plastic and paper. The substrate surface can be treated to enhance the adhesion by techniques known in the art. For example, the aluminum sheet surface can be treated by metal finishing techniques that include corrugation electrochemistry, chemical corrugation, mechanical corrugation, anodization and the like. The surface of the plastic sheets can be modified by crown treatment and engravings Chemicals
La capa de material compuesto, que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, de esta invención comprende (a) una capa que potencia la adhesión que absorbe cerca del infrarrojo, que se aplica entre un sustrato de soporte y (b) una capa de polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo.The composite layer, which repels the ink, which absorbs near the infrared, of this invention comprises (a) a layer that enhances adhesion that absorbs nearby infrared, which is applied between a support substrate and (b) a crosslinked silicone polymer layer that repels ink, which absorbs near infrared.
(a) La capa que potencia la adhesión, que absorbe cerca del infrarrojo, comprende principalmente polímero inherente que absorbe cerca del infrarrojo que tiene funcionalidad reactiva, que puede formar enlaces covalentes con la capa de polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo. Los polímeros que potencian la adhesión que absorben cerca del infrarrojo muestran una fuerte banda de absorción entre 780 y 1200 nm. La clase preferida de polímeros que absorben cerca del infrarrojo de esta invención son los polímeros de uretano, que se obtienen de las reacciones de compuestos de alquilo o arilo que contienen grupos funcionales diisocianato con un cromóforo de absorción cerca del infrarrojo que contiene grupos funcionales alcohólicos y ciertos alcoholes terciarios. El poliuretano inherente que absorbe cerca del infrarrojo de esta invención puede representarse según la fórmula I.(a) The layer that enhances adhesion, which absorbs near infrared, it mainly comprises inherent polymer which absorbs near the infrared that has reactive functionality, which can form covalent bonds with the polymer layer of cross-linked silicone that repels ink, which absorbs near the infrared. Polymers that enhance adhesion that absorb near the infrared show a strong absorption band between 780 and 1200 nm. The preferred class of polymers that absorb near of the infrared of this invention are urethane polymers, which are obtained from the reactions of alkyl or aryl compounds that they contain diisocyanate functional groups with a chromophore of near-infrared absorption containing functional groups alcoholics and certain tertiary alcohols. Polyurethane inherent absorbing near the infrared of this invention can represented according to formula I.
Fórmula IFormula I
en la quein the that
- \bullet?
- a y b representan razones molares en las que b puede variar desde 0,1 hasta 0,2 y a puede variar desde 0,9 hasta 0,8.a and b represent molar ratios in which b can vary from 0.1 to 0.2 and a can vary from 0.9 to 0.8.
- \bullet?
- T representa un segmento de repetición transparente cerca del infrarrojo, que puede tener una estructura según las fórmulas II, III, IV y V.T represents a transparent repeat segment near the infrared, which can have a structure according to the formulas II, III, IV and V.
Fórmula IIFormula II
Fórmula IIIFormula III
Fórmula IVFormula IV
Fórmula VFormula V
- \bullet?
- A representa un segmento de repetición que absorbe cerca del infrarrojo, que puede tener una estructura según la fórmula VI.A represents a segment of repetition that absorbs near the infrared, which may have a structure according to formula VI.
Fórmula VIFormula SAW
en la quein the that
- \bullet?
- Z1 y Z2 representan átomos suficientes para formar anillos aromáticos condensados, sustituidos o no sustituidos, tales como fenilo y naftilo.Z1 and Z2 represent enough atoms to form condensed, substituted or unsubstituted aromatic rings, such like phenyl and naphthyl.
- \bullet?
- D1 y D2 representan -O-, -S-, -Se-, -CH = CH, y -C(CH_{3})_{2}-D1 and D2 represent -O-, -S-, -Se-, -CH = CH, and -C (CH 3) 2 -
- \bullet?
- R1 y R2 representan sustitución de alquilo, alquiloxilo, haluro de alquilo, alquil piridina, aliloxilo, viniloxilo, alquiltio, ariltio, aminotiofenol, sulfoalquilo y carboxialquilo.R1 and R2 represent alkyl substitution, alkyloxy, alkyl halide, alkyl pyridine, allyloxy, vinyloxyl, alkylthio, arylthio, aminothiophenol, sulfoalkyl and carboxyalkyl.
- \bullet?
- R3 representa sustitución de hidrógeno, alquilo y arilo.R3 represents replacement of hydrogen, alkyl and aryl
- \bullet?
- X1 representa un contraion aniónico seleccionado de bromuro, cloruro, yoduro, tosilato, triflato, carbonato de trifluorometano, dodecil benzosulfonato y tetrafluoroborato.X1 represents an anionic counterion selected from bromide, chloride, iodide, tosylate, triflate, carbonate trifluoromethane, dodecyl benzosulfonate and tetrafluoroborate
- \bullet?
- n representa 0 y 1.n represents 0 and 1.
- \bullet?
- m varía desde 1 hasta 18.m varies from 1 to 18.
Los polímeros inherentes que absorben cerca del infrarrojo de esta invención muestran una fuerte banda de absorción entre 780 y 1200 nm. Pueden tener temperatura de transición vítrea de entre 110 y 150ºC y temperatura de descomposición de entre 180 y 300ºC.The inherent polymers that absorb near the Infrared of this invention show a strong absorption band between 780 and 1200 nm. They can have glass transition temperature between 110 and 150ºC and decomposition temperature between 180 and 300 ° C
Opcionalmente, la capa que potencia la adhesión, que absorbe cerca del infrarrojo, de esta invención puede contener resinas aglutinantes, que son transparentes a la radiación cerca del infrarrojo. Las resinas aglutinantes preferidas son polímeros que contienen unidades monoméricas derivadas de nitrocelulosa, hidroxialquilcelulosa, estireno, carbonato, amida, uretano, acrilato, alcohol vinílico y éster.Optionally, the layer that enhances adhesion, which absorbs near the infrared, of this invention may contain binder resins, which are transparent to nearby radiation of the infrared. Preferred binder resins are polymers containing monomeric units derived from nitrocellulose, hydroxyalkylcellulose, styrene, carbonate, amide, urethane, acrylate, vinyl alcohol and ester.
Con la exposición a la radiación cerca del infrarrojo entre 780 y 1200 nm, los segmentos de absorción cerca del infrarrojo contenidos en la cadena central polimérica convierten la energía fotoeléctrica en calor, lo que induce la descomposición y la fragmentación térmica de los segmentos transparentes cerca del infrarrojo mediante el mecanismo de escisión descrito por Foley et al. (patente de los EE.UU. 5.156.938) según la fórmula VII.With exposure to near-infrared radiation between 780 and 1200 nm, near-infrared absorption segments contained in the polymer central chain convert photoelectric energy into heat, which induces thermal breakdown and fragmentation of transparent segments near the infrared by the cleavage mechanism described by Foley et al. (U.S. Patent 5,156,938) according to formula VII.
Fórmula VIIFormula VII
(b) La capa que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, de esta invención comprende polímeros de silicona reticulados que tienen unidades de repetición de absorción cerca del infrarrojo. Las unidades de repetición que absorben cerca del infrarrojo forman enlaces covalentes con las redes poliméricas de silicona reticuladas según las fórmulas VIII, IX y X:(b) The layer that repels ink, which absorbs near the infrared, of this invention comprises polymers of crosslinked silicone having repeat absorption units near the infrared. The repeating units that absorb nearby infrared form covalent bonds with polymer networks of crosslinked silicone according to formulas VIII, IX and X:
Fórmula VIIIFormula VIII
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
Fórmula IXFormula IX
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
Fórmula XFormula X
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
en las quein the that
- \bullet?
- -(R4)_{2}-Si-O- representa redes poliméricas de silicona reticuladas.- (R4) 2 -Si-O- represents crosslinked polymeric polymer networks.
- \bullet?
- R4 representa sustitución de metilo, etilo y arilo de las redes poliméricas de silicona reticuladas.R4 represents substitution of methyl, ethyl and aryl of crosslinked polymeric polymer networks.
- \bullet?
- B representa unidades de repetición que absorben cerca del infrarrojo, que muestran fuertes bandas de absorción entre 780 y 1200 nm. Las unidades de repetición de absorción cerca del infrarrojo comprenden derivados de indol, benz[e]indol, benz[cd]indol, benzotiazol, naftotiazol, benzoxazol, naftoxazol, benzselenazol y naftoselenazol, que pueden representarse según las fórmulas XI, XII y XIII:B represents repeating units that absorb near the infrared, which show strong absorption bands between 780 and 1200 nm. Repeating absorption units near infrared include indole derivatives, benz [e] indole, benz [cd] indole, benzothiazole, naphthiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzselenazole and naphthoselenazole, which can be represented according to formulas XI, XII and XIII:
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Fórmula XIFormula XI
Fórmula XIIFormula XII
Fórmula XIIIFormula XIII
en las quein the that
- \bullet?
- Z1 y Z2 representan átomos suficientes para formar anillos aromáticos condensados, sustituidos o no sustituidos, tales como fenilo y naftilo.Z1 and Z2 represent enough atoms to form condensed, substituted or unsubstituted aromatic rings, such like phenyl and naphthyl.
- \bullet?
- D1 y D2 representan -O-, -S-, -Se-, -CH = CH, y -C(CH_{3})_{2}-D1 and D2 represent -O-, -S-, -Se-, -CH = CH, and -C (CH 3) 2 -
- \bullet?
- R5 representa alquilo, alquiloxilo, haluro de alquilo, piridina, alquil piridina y alquiltio.R5 represents alkyl, alkyloxy, halide of alkyl, pyridine, alkyl pyridine and alkylthio.
- \bullet?
- R6 representa sustitución de alquilo, sulfonilalquilo y carboxialquilo.R6 represents alkyl substitution, sulfonylalkyl and carboxyalkyl.
- \bullet?
- R7 representa sustitución de hidrógeno, alquilo y arilo.R7 represents replacement of hydrogen, alkyl and aryl
- \bullet?
- R8 representa sustitución de alquilo, bencilo, alquilamina, ácido alquilsulfónico, ácido alquilcarboxílico.R8 represents substitution of alkyl, benzyl, alkylamine, alkylsulfonic acid, acid alkylcarboxylic.
- \bullet?
- X2 representa un contraion aniónico seleccionado de bromuro, cloruro, yoduro, tosilato, triflato, carbonato de trifluorometano, dodecil benzosulfonato y tetrafluoroborato.X2 represents an anionic counterion selected from bromide, chloride, iodide, tosylate, triflate, carbonate trifluoromethane, dodecyl benzosulfonate and tetrafluoroborate
- \bullet?
- n representa 0 y 1.n represents 0 and 1.
- \bullet?
- m varía desde 1 hasta 18.m varies from 1 to 18.
Los polímeros de silicona reticulados que repelen la tinta, que absorben cerca del infrarrojo, de esta invención pueden obtenerse mediante reacciones de adición in situ de poli(hidroalquilsiloxano) con poli(dialquilsiloxano) y moléculas de absorción cerca del infrarrojo que contienen grupos funcionales alquenilo en presencia de catalizadores de complejos metálicos, tales como hexacloroplatinato de hidrógeno. También pueden obtenerse mediante reacciones de condensación de poli(dialquilsiloxano) que contienen grupos funcionales silanol con compuestos orgánicos que contienen grupos funcionales aciloxi o alcoxisilano en presencia de un catalizador de sal de ácido carboxílico de zinc, estaño, hierro o titanio.The crosslinked silicone polymers that repel the ink, which absorb near the infrared, of this invention can be obtained by in situ addition reactions of poly (hydroalkylsiloxane) with poly (dialkylsiloxane) and near infrared absorption molecules containing alkenyl functional groups in presence of catalysts of metal complexes, such as hydrogen hexachloroplatinate. They can also be obtained by condensation reactions of poly (dialkylsiloxane) containing silanol functional groups with organic compounds containing acyloxy or alkoxysilane functional groups in the presence of a zinc, tin, iron or titanium carboxylic acid salt catalyst.
Con la exposición a la radiación cerca del infrarrojo entre 780 y 1200 nm, los segmentos de absorción cerca del infrarrojo contenidos en la cadena central del polímero de silicona reticulado convierten la energía fotoeléctrica en calor, lo que induce la descomposición y la fragmentación térmica de las redes poliméricas. La fragmentación térmica de la capa que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, en combinación con la fragmentación térmica de la capa por debajo que potencia la adhesión, que absorbe cerca del infrarrojo, da como resultado la formación de materiales de bajo peso molecular. Estos productos descompuestos se eliminan fácilmente mediante las tintas de impresión en la prensa de imprimir durante el periodo de entintado. La zona de exposición al láser finalmente llega a aceptar las tintas y la zona de no exposición todavía repele las tintas.With radiation exposure near the infrared between 780 and 1200 nm, the absorption segments near of the infrared contained in the polymer central chain of crosslinked silicone convert photoelectric energy into heat, which which induces the decomposition and thermal fragmentation of polymer networks. Thermal fragmentation of the repellent layer the ink, which absorbs near the infrared, in combination with the thermal fragmentation of the layer below that enhances the adhesion, which absorbs near the infrared, results in formation of low molecular weight materials. These products Decomposed are easily removed using the inks of printing in the printing press during the inking period. The laser exposure zone finally comes to accept the inks and the non-exposure zone still repels the inks.
Toda la polimerización se realizó en un reactor de matraz de tres bocas equipado con agitador magnético, metal de calentamiento, controlador de temperatura, condensador de agua y entrada de nitrógeno. La finalización de la reacción fue seguida por espectrofotómetro de infrarrojos. Las características ópticas y térmicas de los polímeros obtenidos se caracterizaron mediante técnicas espectroscópicas y calorimétricas de exploración diferencial.All polymerization was performed in a reactor three-neck flask equipped with magnetic stirrer, metal heating, temperature controller, water condenser and nitrogen inlet The completion of the reaction was followed by infrared spectrophotometer Optical characteristics and thermal characteristics of the polymers obtained were characterized by spectroscopic and calorimetric scanning techniques differential.
Ejemplos 1 a 5Examples 1 to 5
El polímero ADS-001-CTP con absorción cerca del infrarrojo se sintetizó añadiendo lentamente 21,2 partes de trimetil-1,6-diisocianatohexano (disponible de Aldrich Chemicals) en una solución que contenía 100 partes de N-metil pirrolidinona, 6,8 partes de perclorato de 2-[2-[2-cloro-3-[2-(1,3-dihidro-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio (disponible de American Dye Source, Inc.), 18,0 partes de a,a,a',a'-tetrametil-1,4-bencenodimetanol (disponible de Aldrich Chemicals) y 0,5 partes de dilaurato de dibutilestaño (disponible de Aldrich Chemicals) a 60ºC bajo atmósfera de nitrógeno y agitación constante. La finalización de la polimerización se indicó por la desaparición sobre bandas de absorción de NCO en los espectros infrarrojos. El producto se precipitó en agua y después se recogió mediante filtración a vacío, se lavó abundantemente con agua y se secó al aire hasta alcanzar un peso constante.Polymer ADS-001-CTP with absorption near the infrared was synthesized by slowly adding 21.2 parts of trimethyl-1,6-diisocyanatohexane (available from Aldrich Chemicals) in a solution containing 100 parts of N-methyl pyrrolidinone, 6.8 parts of perchlorate of 2- [2- [2-Chloro-3- [2- (1,3-dihydro-1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethyliden] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.), 18.0 parts of a, a, a ', a'-tetramethyl-1,4-benzenedimethanol (available from Aldrich Chemicals) and 0.5 parts dilaurate of dibutyltin (available from Aldrich Chemicals) at 60 ° C under nitrogen atmosphere and constant agitation. The completion of the polymerization was indicated by disappearance on bands of NCO absorption in infrared spectra. The product is precipitated in water and then collected by vacuum filtration, washed thoroughly with water and dried in the air until reaching a constant weight
El polímero obtenido con absorción cerca del infrarrojo tiene temperaturas de transición vítrea y descomposición de aproximadamente 133ºC y 214ºC, respectivamente. La película de polímero ADS-001-CTP con absorción cerca del infrarrojo sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a aproximadamente 842 nm. La estructura ideal de ADS-001-CTP puede representarse tal como sigue:The polymer obtained with absorption near the infrared has glass transition temperatures and decomposition of approximately 133 ° C and 214 ° C, respectively. The movie of ADS-001-CTP polymer with absorption near the infrared on polyester film shows a band of wide absorption that has a maximum at approximately 842 nm. The ideal structure of ADS-001-CTP It can be represented as follows:
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Estructura de ADS-001-CTPStructure of ADS-001-CTP
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
El polímero ADS-002-CTP con absorción cerca del infrarrojo se sintetizó añadiendo lentamente 26,0 partes de bis(4-ciclohexilisocianato) de metileno (disponible de Bayer) en una solución que contenía 100 partes de N-metil pirrolidinona, 6,8 partes de perclorato de 2-[2-[2-cloro-3-[2-(1,3-dihidro-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio (disponible de American Dye Source, Inc.), 18,0 partes de a,a,a',a'-tetrametil-1,4-bencenodimetanol (disponible de Aldrich Chemicals) y 0,5 partes de dilaurato de dibutilestaño (disponible de Aldrich Chemicals) a 60ºC bajo atmósfera de nitrógeno y agitación constante. La finalización de la polimerización se indicó por la desaparición sobre bandas de absorción de NCO en los espectros infrarrojos. El producto se precipitó en agua y después se recogió mediante filtración a vacío, se lavó abundantemente con agua y se secó al aire hasta alcanzar un peso constante. El polímero ADS-002-CTP que absorbe cerca del infrarrojo tiene temperaturas de transición vítrea y descomposición de aproximadamente 132ºC y 214ºC, respectivamente. La película de polímero ADS-002-CTP con absorción cerca del infrarrojo sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a aproximadamente 839 nm. La estructura ideal de ADS-002-CTP puede representarse tal como sigue:Polymer ADS-002-CTP with absorption near the infrared was synthesized by slowly adding 26.0 parts of methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate) (available from Bayer) in a solution containing 100 parts of N-methyl pyrrolidinone, 6.8 parts perchlorate 2- [2- [2-Chloro-3- [2- (1,3-dihydro-1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethyliden] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.), 18.0 parts of a, a, a ', a'-tetramethyl-1,4-benzenedimethanol (available from Aldrich Chemicals) and 0.5 parts dilaurate of dibutyltin (available from Aldrich Chemicals) at 60 ° C under nitrogen atmosphere and constant agitation. The completion of the polymerization was indicated by disappearance on bands of NCO absorption in infrared spectra. The product is precipitated in water and then collected by vacuum filtration, washed thoroughly with water and dried in the air until reaching a constant weight Polymer ADS-002-CTP absorbing near the infrared has glass transition temperatures and decomposition of approximately 132 ° C and 214 ° C, respectively. The movie of ADS-002-CTP polymer with absorption near the infrared on polyester film shows a band of wide absorption that has a maximum at approximately 839 nm. The ideal structure of ADS-002-CTP It can be represented as follows:
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
Estructura de ADS-002-CTPStructure of ADS-002-CTP
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
El polímero
ADS-003-CTP con absorción cerca del
infrarrojo se sintetizó añadiendo lentamente 21,2 partes de
trimetil-1,6-diisocianatohexano
(disponible de Aldrich Chemicals) en una solución que contenía 100
partes de N-metil pirrolidinona, 6,4 partes de
perclorato de
2-[2-[2-aliloxi-3-[2-(1,3-dihidro-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio
(disponible de American Dye Source, Inc.), 18,0 partes de
a,a,a',a'-tetrametil-1,4-bencenodimetanol
(disponible de Aldrich Chemicals) y 0,5 partes de dilaurato de
dibutilestaño (disponible de Aldrich Chemicals) a 60ºC bajo
atmósfera de nitrógeno y agitación constante durante 6 horas. A la
mezcla de reacción se añadieron lentamente 6 partes de aliloxilato
de sodio en 14 partes de alcohol alílico y la reacción se continuó
durante 4 horas adicionales. La mezcla de reacción se enfrió hasta
temperatura ambiente. El producto se precipitó en agua y después se
recogió mediante filtración a vacío, se lavó abundantemente con
agua y se secó al aire hasta alcanzar un peso constante. La
película de polímero ADS-003-CTP con
absorción cerca del infrarrojo sobre película de poliéster muestra
una banda de absorción ancha que tiene un máximo a aproximadamente
832 nm. La estructura ideal de
ADS-003-CTP puede representarse tal
como
sigue:ADS-003-CTP polymer with near-infrared absorption was synthesized by slowly adding 21.2 parts of trimethyl-1,6-diisocyanatohexane (available from Aldrich Chemicals) in a solution containing 100 parts of N-methyl pyrrolidinone, 6.4 parts of 2- [2- [2-allyloxy-3- [2- (1,3-dihydro-1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2- perchlorate] iliden) ethyliden] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.), 18, 0 parts of a, a, a ', a'-tetramethyl-1,4-benzenedimethanol (available from Aldrich Chemicals) and 0.5 parts of dibutyltin dilaurate (available from Aldrich Chemicals) at 60 ° C under nitrogen atmosphere and constant stirring for 6 hours To the reaction mixture, 6 parts of sodium allyloxylate in 14 parts of allyl alcohol were slowly added and the reaction was continued for an additional 4 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature. The product was precipitated in water and then collected by vacuum filtration, washed thoroughly with water and dried in air until a constant weight was reached. The ADS-003-CTP polymer film with near-infrared absorption on polyester film shows a wide absorption band having a maximum at approximately 832 nm. The ideal structure of ADS-003-CTP can be represented as
follow:
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Estructura de ADS-003-CTPStructure of ADS-003-CTP
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
El polímero ADS-004-CTP con absorción cerca del infrarrojo se sintetizó añadiendo lentamente 26,0 partes de bis(4-ciclohexilisocianato) de metileno (disponible de Bayer) en una solución que contenía 100 partes de N-metil pirrolidinona, 6,8 partes de perclorato de 2-[2-[2-cloro-3-[2-(1,3-dihidro-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio (disponible de American Dye Source, Inc.), 11,6 partes de a,a,a',a'-tetrametil-1,4-bencenodimetanol (disponible de Aldrich Chemicals), 2,6 partes de 3-alil-1,2-propanodiol (disponible de Aldrich Chemicals) y 0,5 partes de dilaurato de dibutilestaño (disponible de Aldrich Chemicals) a 60ºC bajo atmósfera de nitrógeno y agitación constante. La finalización de la polimerización se indicó por la desaparición sobre bandas de absorción de NCO en los espectros infrarrojos. La mezcla de reacción se enfrió hasta temperatura ambiente. El producto se precipitó en agua y después se recogió mediante filtración a vacío, se lavó abundantemente con agua y se secó al aire hasta alcanzar un peso constante. El polímero ADS-004-CTP que absorbe cerca del infrarrojo tiene temperaturas de transición vítrea y descomposición de aproximadamente 113ºC y 210ºC, respectivamente. La película de polímero ADS-004-CTP con absorción cerca del infrarrojo sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a aproximadamente 841 nm. La estructura ideal de ADS-004-CTP puede representarse tal como sigue:Polymer ADS-004-CTP with absorption near the infrared was synthesized by slowly adding 26.0 parts of methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate) (available from Bayer) in a solution containing 100 parts of N-methyl pyrrolidinone, 6.8 parts perchlorate 2- [2- [2-Chloro-3- [2- (1,3-dihydro-1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethyliden] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.), 11.6 parts of a, a, a ', a'-tetramethyl-1,4-benzenedimethanol (available from Aldrich Chemicals), 2.6 parts of 3-allyl-1,2-propanediol (available from Aldrich Chemicals) and 0.5 parts dilaurate of dibutyltin (available from Aldrich Chemicals) at 60 ° C under nitrogen atmosphere and constant agitation. The completion of the polymerization was indicated by disappearance on bands of NCO absorption in infrared spectra. Reaction mixture cooled to room temperature. The product precipitated in water and then collected by vacuum filtration, washed abundantly with water and air dried to reach a weight constant. ADS-004-CTP polymer which absorbs near the infrared has transition temperatures vitreous and decomposition of approximately 113 ° C and 210 ° C, respectively. Polymer film ADS-004-CTP with absorption near the infrared on polyester film shows a band of wide absorption that has a maximum at approximately 841 nm. The ideal structure of ADS-004-CTP It can be represented as follows:
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Estructura de ADS-004-CTPStructure of ADS-004-CTP
El polímero ADS-CTP-005 con absorción cerca del infrarrojo se sintetizó añadiendo lentamente 21,2 partes de trimetil-1,6-diisocianatohexano (disponible de Aldrich Chemicals) en una solución que contenía 100 partes de N-metil pirrolidinona, 6,8 partes de perclorato de 2-[2-[2-cloro-3-[2-(1,3-dihidro-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-(2-hidroxietil)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio (disponible de American Dye Source, Inc.), 11,6 partes de a,a,a',a'-tetrametil-1,4-bencenodimetanol (disponible de Aldrich Chemicals), 3,4 partes de 2,6-bis(hidroximetil)-p-cresol y 0,5 partes de dibutilestaño (disponible de Aldrich Chemicals)a 60ºC bajo atmósfera de nitrógeno y agitación constante durante 6 horas. La finalización de la polimerización se indicó por la desaparición sobre bandas de absorción de NCO en los espectros infrarrojos. El producto se precipitó en agua y después se recogió mediante filtración a vacío, se lavó abundantemente con agua y se secó al aire hasta alcanzar un peso constante. El polímero ADS-005-CTP que absorbe cerca del infrarrojo tiene temperaturas de transición vítrea y descomposición de aproximadamente 117ºC y 215ºC, respectivamente. La película de polímero ADS-005-CTP con absorción cerca del infrarrojo sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a aproximadamente 841 nm. La estructura ideal de ADS-005-CTP puede representarse tal como sigue:Polymer ADS-CTP-005 with absorption near the infrared was synthesized by slowly adding 21.2 parts of trimethyl-1,6-diisocyanatohexane (available from Aldrich Chemicals) in a solution containing 100 parts of N-methyl pyrrolidinone, 6.8 parts of perchlorate of 2- [2- [2-Chloro-3- [2- (1,3-dihydro-1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethyliden] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1- (2-hydroxyethyl) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.), 11.6 parts of a, a, a ', a'-tetramethyl-1,4-benzenedimethanol (available from Aldrich Chemicals), 3.4 parts of 2,6-bis (hydroxymethyl) -p-cresol and 0.5 parts of dibutyltin (available from Aldrich Chemicals) at 60 ° C under nitrogen atmosphere and stirring constant for 6 hours. The completion of the polymerization is indicated by the disappearance of NCO absorption bands in the infrared spectra The product was precipitated in water and then was collected by vacuum filtration, washed thoroughly with water and dried in the air until reaching a constant weight. He ADS-005-CTP polymer absorbing near the infrared has glass transition temperatures and decomposition of approximately 117 ° C and 215 ° C, respectively. ADS-005-CTP polymer film with near infrared absorption on polyester film shows a wide absorption band that has a maximum at approximately 841 nm. The ideal structure of ADS-005-CTP can be represented as as follows:
Estructura de ADS-005-CTPStructure of ADS-005-CTP
Ejemplos 6 a 12Examples 6 to 12
El polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, se preparó añadiendo 300 partes de agua que contenía 1,0 partes de la sal interna de 2-[2-[2-aliloxi-3-[2-(1,3-dihidro-1-(4-sulfobutil)-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-(4-sulfobutil)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio (disponible de American Dye Source, Inc.), en una solución que contenía 50 partes de emulsión polimérica de silicona reactiva (Syl-Off 7910, disponible de Dow Corning, 40% en peso sólido), 50 partes de emulsión reticulante polimérica de silicona que contiene el catalizador platino (Syl-Off 7922, disponible de Dow Corning, 40% en peso sólido) y 1,5 partes de agente humectante de silicona (Q2-5211, disponible de Dow Corning). La solución polimérica recién preparada se revistió sobre un sustrato de aluminio anodizado usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y después se curó adicionalmente a 120ºC durante 5 minutos para producir una película de revestimiento uniforme que tenía un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. El espectro UV-Vis-NIR del polímero resultante sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a 840 nm. La estructura ideal del polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, puede representarse tal como sigue:The crosslinked silicone polymer that repels the ink, which absorbs near the infrared, was prepared by adding 300 parts of water containing 1.0 parts of the internal salt of 2- [2- [2-Allyloxy-3- [2- (1,3-dihydro-1- (4-sulfobutyl) -3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethyliden] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1- (4-sulfobutyl) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.), in a solution that It contained 50 parts of reactive silicone polymer emulsion (Syl-Off 7910, available from Dow Corning, 40% in solid weight), 50 parts of polymeric crosslinking emulsion of silicone containing platinum catalyst (Syl-Off 7922, available from Dow Corning, 40% in solid weight) and 1.5 parts silicone wetting agent (Q2-5211, available from Dow Corning). The solution freshly prepared polymer was coated on a substrate of Anodized aluminum using a rolled wire rod. He coating dried under hot air stream and then it further cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating film that had a weight of coating of approximately 1.0 g / m2. The spectre UV-Vis-NIR of the resulting polymer on polyester film shows a wide absorption band which has a maximum at 840 nm. The ideal polymer structure of cross-linked silicone that repels ink, which absorbs near the infrared, can be represented as follows:
Estructura de ADS-001-SiStructure of ADS-001-Yes
El polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, se preparó añadiendo 300 partes de agua que contenía 1,0 partes del ácido 2-[2-[2-cloro-3-[2-(1,3-dihidro-1-alil-3,3-dimetil-7-sulfonil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-alil-3,3-dimetil-7-sulfonil-1H-benz[e]indolio 4-metilbencenosulfónico (disponible de American Dye Source, Inc.), en una solución que contenía 50 partes de emulsión de silicona reactiva (Syl-Off 7910, disponible de Dow Corning, 40% en peso sólido), 50 partes de emulsión de silicona reactiva con catalizador de platino (Syl-Off 7922, disponible de Dow Corning, 40% en peso sólido) y 1,5 partes de agente humectante (Q2-5211, disponible de Dow Corning). La solución polimérica recién preparada se revistió sobre un sustrato de aluminio anodizado usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y después se curó adicionalmente a 120ºC durante 5 minutos para producir una película de revestimiento uniforme que tenía un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. El espectro UV-Vis-NIR del polímero resultante sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a 842 nm. La estructura ideal del polímero de silicona, reticulado, que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, puede representarse tal como sigue:The crosslinked silicone polymer that repels the ink, which absorbs near the infrared, was prepared by adding 300 parts of water containing 1.0 parts of the acid 2- [2- [2-Chloro-3- [2- (1,3-dihydro-1-allyl-3,3-dimethyl-7-sulfonyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethylidene] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1-allyl-3,3-dimethyl-7-sulfonyl-1H-benz [e] indole 4-methylbenzenesulfonic acid (available from American Dye Source, Inc.), in a solution containing 50 emulsion parts of reactive silicone (Syl-Off 7910, available from Dow Corning, 40% solid weight), 50 parts silicone emulsion reactive with platinum catalyst (Syl-Off 7922, available from Dow Corning, 40% solid weight) and 1.5 parts of wetting agent (Q2-5211, available from Dow Corning) The freshly prepared polymer solution was coated on an anodized aluminum substrate using a rolled rod of wire. The coating was dried under a stream of hot air and then it was further cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating film that had a weight coating of approximately 1.0 g / m2. The spectre UV-Vis-NIR of the resulting polymer on polyester film shows a wide absorption band which has a maximum at 842 nm. The ideal polymer structure of cross-linked silicone that repels ink, which absorbs near the infrared, can be represented as follows:
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Estructura de ADS-002-SiStructure of ADS-002-Yes
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El polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, se preparó añadiendo 300 partes de agua que contenía 1,0 partes del ácido 2-[2-[2-aliloxi-3-[2-(1,3-dihidro-1-alil-3,3-dimetil-7-sulfonil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-alil-3,3-dimetil-7-sulfonil-1H-benz[e]indolio 4-metilbencenosulfónico (disponible de American Dye Source, Inc.), en una solución que contenía 50 partes de emulsión de silicona reactiva (Syl-Off 7910, disponible de Dow Corning, 40% en peso sólido), 50 partes de emulsión de silicona reactiva con catalizador de platino (Syl-Off 7922, disponible de Dow Corning, 40% en peso sólido) y 1,5 partes de agente humectante (Q2-5211, disponible de Dow Corning). La solución polimérica recién preparada se revistió sobre un sustrato de aluminio anodizado usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y después se curó adicionalmente a 120ºC durante 5 minutos para producir una película de revestimiento uniforme que tenía un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. El espectro UV-Vis-NIR del polímero resultante sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a 837 nm. La estructura ideal del polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, puede representarse tal como sigue:The crosslinked silicone polymer that repels the ink, which absorbs near the infrared, was prepared by adding 300 parts of water containing 1.0 parts of the acid 2- [2- [2-Allyloxy-3- [2- (1,3-dihydro-1-allyl-3,3-dimethyl-7-sulfonyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethylidene] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1-allyl-3,3-dimethyl-7-sulfonyl-1H-benz [e] indole 4-methylbenzenesulfonic acid (available from American Dye Source, Inc.), in a solution containing 50 emulsion parts of reactive silicone (Syl-Off 7910, available from Dow Corning, 40% solid weight), 50 parts silicone emulsion reactive with platinum catalyst (Syl-Off 7922, available from Dow Corning, 40% solid weight) and 1.5 parts of wetting agent (Q2-5211, available from Dow Corning) The freshly prepared polymer solution was coated on an anodized aluminum substrate using a rolled rod of wire. The coating was dried under a stream of hot air and then it was further cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating film that had a weight coating of approximately 1.0 g / m2. The spectre UV-Vis-NIR of the resulting polymer on polyester film shows a wide absorption band which has a maximum at 837 nm. The ideal polymer structure of cross-linked silicone that repels ink, which absorbs near the infrared, can be represented as follows:
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(Estructura pasa a página siguiente)(Structure turns to page next)
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El polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, se preparó añadiendo una solución que contenía 10 partes de metiletilcetona disolviendo con 0,10 partes de 4-metil bencenosulfonato de 2-[2-[2-aliloxi-3-[2-(1,3-dihidro-1-heptil-3,3-dimetil-2H-ben[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-heptil)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio (disponible de American Dye Source, Inc.), en una solución que contenía 2,0 partes de polidimetilsiloxano divinilo terminado (PS445, disponible de United Chemical), 1,0 parte de polidimetilsiloxano divinilo terminado de alto peso molecular (PS225, disponible de United Chemical), 1,0 parte de polihidrometilsiloxano (SL6020, disponible de GE Silicones), 0,1 partes de catalizador de platino (PC075, disponible de United Chemical), 0,06 partes de inhibidor volátil (SL6020, disponible de GE Silicones) en una solución que contenía 45 partes de solución de Isoparafina (IsoPar-E, disponible de Exxon Chemical). La solución se filtró para eliminar cualquier residuo sólido. La solución polimérica recién preparada se revistió sobre un sustrato de aluminio anodizado usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y después se curó adicionalmente a 120ºC durante 5 minutos para producir una película de revestimiento uniforme que tenía un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. El espectro UV-Vis-NIR del polímero resultante sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a 835 nm. La estructura ideal del polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, puede representarse tal como sigue:The crosslinked silicone polymer that repels the ink, which absorbs near the infrared, was prepared by adding a solution containing 10 parts of methyl ethyl ketone dissolving with 0.10 parts of 4-methyl benzenesulfonate from 2- [2- [2-Allyloxy-3- [2- (1,3-dihydro-1-heptyl-3,3-dimethyl-2H-ben [e] indole-2-ylidene) ethylidene] -1-cyclohexen -1-yl] ethenyl] -1-heptyl) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.), in a solution that contained 2.0 parts of finished divinyl polydimethylsiloxane (PS445, available from United Chemical), 1.0 part of finished high molecular weight polydimethylsiloxane divinyl (PS225, available from United Chemical), 1.0 part of polyhydrometilsiloxane (SL6020, available from GE Silicones), 0.1 platinum catalyst parts (PC075, available from United Chemical), 0.06 parts volatile inhibitor (SL6020, available from GE Silicones) in a solution containing 45 parts of the solution of Isoparaffin (IsoPar-E, available from Exxon Chemical) The solution was filtered to remove any residue. solid. The freshly prepared polymer solution was coated on an anodized aluminum substrate using a rolled rod of wire. The coating was dried under a stream of hot air and then it was further cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating film that had a weight coating of approximately 1.0 g / m2. The spectre UV-Vis-NIR of the resulting polymer on polyester film shows a wide absorption band that It has a maximum at 835 nm. The ideal polymer structure of cross-linked silicone that repels ink, which absorbs near the infrared, can be represented as follows:
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Estructura de ADS-004-SiStructure of ADS-004-Yes
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El polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, se preparó de manera similar a la del ejemplo 4, excepto que se usó 4-metil bencenosulfonato de 2-[2-[2-dodeciloxi-3-[2-(1,3-dihidro-1-alil-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-alil-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio (disponible de American Dye Source, Inc.) para sustituir al 4-metil bencenosulfonato de 2-[2-[2-aliloxi-3-[2-(1,3-dihidro-1-heptil-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-heptil)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio. La solución polimérica recién preparada se revistió sobre un sustrato de aluminio anodizado usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y después se curó adicionalmente a 120ºC durante 5 minutos para producir una película de revestimiento uniforme que tenía un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. El espectro UV-Vis-NIR del polímero resultante sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a 829 nm. La estructura ideal del polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, puede representarse tal como sigue:The crosslinked silicone polymer that repels the ink, which absorbs near the infrared, was prepared so similar to that of example 4, except that it was used 4-methyl benzenesulfonate 2- [2- [2-Dodecyloxy-3- [2- (1,3-dihydro-1-allyl-3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethylidene] -1-cyclohexen -1-yl] ethenyl] -1-allyl-3,3-dimethyl-1 H -benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.) to replace the 4-methyl benzenesulfonate 2- [2- [2-Allyloxy-3- [2- (1,3-dihydro-1-heptyl-3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethylidene] -1-cyclohexen -1-yl] ethenyl] -1-heptyl) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole. The freshly prepared polymer solution was coated on a anodized aluminum substrate using a rolled rod of wire. The coating was dried under a stream of hot air and then it was further cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating film that had a weight of coating of approximately 1.0 g / m2. The spectre UV-Vis-NIR of the resulting polymer on polyester film shows a wide absorption band that It has a maximum at 829 nm. The ideal polymer structure of cross-linked silicone that repels ink, which absorbs near the infrared, can be represented as follows:
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(Estructura pasa a página siguiente)(Structure turns to page next)
El polímero de silicona reticulado que repele la
tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, se preparó de manera
similar a la del ejemplo 4, excepto que se usó
4-metil bencenosulfonato de
2-[2-[2-dodeciloxi-4-terc-butil-3-[2-(1,3-dihidro-1-alil-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-alil-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio
(disponible de American Dye Source, Inc.) para sustituir al
4-metil bencenosulfonato de
2-[2-[2-aliloxi-3-[2-(1,3-dihidro-1-heptil-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-heptil)-3,3-dimetil-1H-
benz[e]indolio. La solución polimérica recién
preparada se revistió sobre un sustrato de aluminio anodizado usando
una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo
corriente de aire caliente y después se curó adicionalmente a 120ºC
durante 5 minutos para producir una película de revestimiento
uniforme que tenía un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0
g/m^{2}. El espectro UV-Vis-NIR
del polímero resultante sobre película de poliéster muestra una
banda de absorción ancha que tiene un máximo a 829 nm. La
estructura ideal del polímero de silicona reticulado que repele la
tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, puede representarse tal
como sigue:The crosslinked silicone polymer that repels the ink, which absorbs near the infrared, was prepared in a manner similar to that of Example 4, except that 2- [2- [2-dodecyloxy-4- tert -4-methyl benzenesulfonate] was used. butyl-3- [2- (1,3-dihydro-1-allyl-3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethylidene] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] - 1-allyl-3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.) to replace 2- [2- [2-allyloxy-3- [2- 4-methylbenzenesulfonate] (1,3-dihydro-1-heptyl-3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethylidene] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1-heptyl) -3, 3-dimethyl-1H-
benz [e] indolio. The freshly prepared polymer solution was coated on an anodized aluminum substrate using a rolled wire rod. The coating was dried under a stream of hot air and then further cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating film having a coating weight of approximately 1.0 g / m2. The UV-Vis-NIR spectrum of the resulting polymer on polyester film shows a broad absorption band having a maximum at 829 nm. The ideal structure of the crosslinked silicone polymer that repels the ink, which absorbs near the infrared, can be represented as follows:
El polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, se preparó de manera similar a la del ejemplo 4, excepto que se usó 4-metil bencenosulfonato de 2-[2-[2-aliloxi-3-[2-(1,3-dihidro-1-(octil-8-en)-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-(octil-8-en)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio (disponible de American Dye Source, Inc.) para sustituir al 4-metil bencenosulfonato de 2-[2-[2-aliloxi-3-[2-(1,3-dihidro-1-heptil-3,3-dimetil-2H-benz[e]indol-2-iliden)etiliden]-1-ciclohexen-1-il]etenil]-1-heptil)-3,3-dimetil-1H-benz[e]indolio. La solución polimérica recién preparada se revistió sobre un sustrato de aluminio anodizado usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y después se curó adicionalmente a 120ºC durante 5 minutos para producir una película de revestimiento uniforme que tenía un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. El espectro UV-Vis-NIR del polímero resultado sobre película de poliéster muestra una banda de absorción ancha que tiene un máximo a 829 nm. La estructura ideal del polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, puede representarse tal como sigue:The crosslinked silicone polymer that repels the ink, which absorbs near the infrared, was prepared so similar to that of example 4, except that it was used 4-methyl benzenesulfonate 2- [2- [2-Allyloxy-3- [2- (1,3-dihydro-1- (octyl-8-en) -3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethylidene] -1-cyclohexen-1-yl] ethenyl] -1- (octyl-8-en) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole (available from American Dye Source, Inc.) to replace the 4-methyl benzenesulfonate 2- [2- [2-Allyloxy-3- [2- (1,3-dihydro-1-heptyl-3,3-dimethyl-2H-benz [e] indole-2-ylidene) ethylidene] -1-cyclohexen -1-yl] ethenyl] -1-heptyl) -3,3-dimethyl-1H-benz [e] indole. The freshly prepared polymer solution was coated on a anodized aluminum substrate using a rolled rod of wire. The coating was dried under a stream of hot air and then it was further cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating film that had a weight of coating of approximately 1.0 g / m2. The spectre UV-Vis-NIR polymer result on polyester film shows a wide absorption band that It has a maximum at 829 nm. The ideal polymer structure of cross-linked silicone that repels ink, which absorbs near the infrared, can be represented as follows:
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Estructura de ADS-007-SiStructure of ADS-007-Yes
Ejemplos 13 a 18Examples 13 a 18
Se preparó una plancha de impresión sin agua disolviendo 10,0 partes de ADS-001-CTP del ejemplo 1 en 90,0 partes del sistema disolvente que contenía el 35% de metoxietanol, el 30% de metiletilcetona y el 35% de metanol. La solución polimérica con absorción cerca del infrarrojo se filtró para eliminar cualquier residuo sólido. Después se revistió sobre un sustrato de aluminio anodizado usando una varilla enrollada de alambre y se secó bajo corriente de aire caliente a 80ºC durante 5 minutos para producir un revestimiento uniforme que tiene un peso de revestimiento de aproximadamente 1,5 g/m^{2}. La solución de polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo, se preparó de manera similar a la del ejemplo 6. Después se revistió sobre la capa que potencia la adhesión, que absorbe cerca del infrarrojo, usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y se curó a 120ºC durante 5 minutos para producir un revestimiento uniforme que tiene un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. Se formaron imágenes en la plancha con un "image setter" (dispositivo de ajuste de la imagen) de láser adaptado a las necesidades del cliente, que estaba equipado con un tambor de aluminio, un láser diódico en estado sólido de 1 vatio de rayo único que emite a 830 nm (disponible de Optopower) a una densidad de energía de entre 200 y 800 mJ/cm^{2}. La plancha se probó en una prensa AB Dick con Tinta Sun Chemical Drilith "H" Cyan (disponible de Sun Chemical) en ausencia de solución mojadora. Antes de la impresión, los desechos en la zona expuesta se limpiaron suavemente con un trapo de algodón humedecido con agua jabonosa. La zona expuesta produjo una imagen de gran impresión óptica, mientras que la zona no expuesta se mantenía limpia. Pueden imprimirse hasta más de 10.000 copias de la plancha sin deterioro.A printing plate without water was prepared dissolving 10.0 parts of ADS-001-CTP of Example 1 at 90.0 parts of the solvent system containing 35% methoxyethanol, 30% methyl ethyl ketone and 35% methanol. The solution polymeric with near-infrared absorption was filtered to Remove any solid residue. Then he dressed on a anodized aluminum substrate using a rolled rod of wire and dried under hot air stream at 80 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating that has a weight of coating of approximately 1.5 g / m2. The solution of cross-linked silicone polymer that repels ink, which absorbs near the infrared, it was prepared similarly to the example 6. Then it was coated on the layer that enhances adhesion, which absorbs near the infrared, using a rolled rod of wire. The coating was dried under a stream of hot air and cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a coating uniform that has a coating weight of approximately 1.0 g / m2. Images were formed on the plate with an "image laser setter "(image adjustment device) adapted to customer needs, which was equipped with a drum aluminum, a solid state diode laser of 1 watt of lightning only emitting at 830 nm (available from Optopower) at a density of energy between 200 and 800 mJ / cm2. The iron was tested on an AB Dick press with Sun Chemical Drilith "H" Cyan Ink (available from Sun Chemical) in the absence of a wetting solution. Before printing, debris in the exposed area was cleaned gently with a cotton cloth dampened with soapy water. The exposed area produced an image of great optical impression while that the unexposed area was kept clean. They can be printed up to more than 10,000 copies of the plate without deterioration.
Se preparó una plancha de impresión sin agua de manera similar al procedimiento del ejemplo 13, excepto que se usó la capa de polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo preparada de manera similar a la del ejemplo 7 (es decir, ADS-002-Si) para revestir la capa que potencia la adhesión, que absorbe cerca del infrarrojo, usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y se curó a 120ºC durante 5 minutos para producir un revestimiento uniforme que tiene un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. Se formaron imágenes en la plancha con un image setter de láser adaptado a las necesidades del cliente, que estaba equipado con un tambor de aluminio, un láser diódico en estado sólido de 1 vatio de rayo único que emite a 830 nm (disponible de Optopower) a una densidad de energía de entre 200 y 800 mJ/cm^{2}. La plancha se probó en una prensa AB Dick con Tinta Sun Chemical Drilith "H" Cyan (disponible de Sun Chemical) en ausencia de solución mojadora. Antes de la impresión, los desechos en la zona expuesta se limpiaron suavemente con un trapo de algodón humedecido con agua jabonosa. La zona expuesta produjo una imagen de gran impresión óptica, mientras que la zona no expuesta se mantenía limpia. Pueden imprimirse hasta más de 10.000 copias de la plancha sin deterioro.A printing plate without water was prepared similar to the procedure of example 13, except that it was used the crosslinked silicone polymer layer that repels the ink, which absorbs near the infrared prepared in a manner similar to that of the example 7 (ie ADS-002-Si) to coat the layer that enhances adhesion, which absorbs nearby infrared, using a rolled wire rod. He coating was dried under a stream of hot air and cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating that It has a coating weight of approximately 1.0 g / m2. Be they formed images on the plate with a laser image setter adapted to the needs of the client, which was equipped with a Aluminum drum, a 1 watt solid state diode laser single beam emitting at 830 nm (available from Optopower) at a energy density between 200 and 800 mJ / cm2. The iron is tested in a press AB Dick with Ink Sun Chemical Drilith "H" Cyan (available from Sun Chemical) in the absence of a wetting solution. Before printing, debris in the exposed area was cleaned gently with a cotton cloth dampened with soapy water. The exposed area produced an image of great optical impression while that the unexposed area was kept clean. They can be printed up to more than 10,000 copies of the plate without deterioration.
Se preparó una plancha de impresión sin agua de manera similar al procedimiento del ejemplo 13, excepto que se usó la capa de polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo preparada de manera similar a la del ejemplo 8 (es decir, ADS-003-Si) para revestir la capa que potencia la adhesión, que absorbe cerca del infrarrojo, usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y se curó a 120ºC durante 5 minutos para producir un revestimiento uniforme que tiene un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. Se formaron imágenes en la plancha con un image setter de láser adaptado a las necesidades del cliente, que estaba equipado con un tambor de aluminio, un láser diódico en estado sólido de 1 vatio de rayo único que emite a 830 nm (disponible de Optopower) a una densidad de energía de entre 200 y 800 mJ/cm^{2}. La plancha se probó en una prensa AB Dick con Tinta Sun Chemical Drilith "H" Cyan (disponible de Sun Chemical) en ausencia de solución mojadora. Antes de la impresión, los desechos en la zona expuesta se limpiaron suavemente con un trapo de algodón humedecido con agua jabonosa. La zona expuesta produjo una imagen de gran impresión óptica, mientras que la zona no expuesta se mantenía limpia. Pueden imprimirse hasta más de 10.000 copias de la plancha sin deterioro.A printing plate without water was prepared similar to the procedure of example 13, except that it was used the crosslinked silicone polymer layer that repels the ink, which absorbs near the infrared prepared in a manner similar to that of the example 8 (ie ADS-003-Si) to coat the layer that enhances adhesion, which absorbs nearby infrared, using a rolled wire rod. He coating was dried under a stream of hot air and cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating that It has a coating weight of approximately 1.0 g / m2. Be they formed images on the plate with a laser image setter adapted to the needs of the client, which was equipped with a Aluminum drum, a 1 watt solid state diode laser single beam emitting at 830 nm (available from Optopower) at a energy density between 200 and 800 mJ / cm2. The iron is tested in a press AB Dick with Ink Sun Chemical Drilith "H" Cyan (available from Sun Chemical) in the absence of a wetting solution. Before printing, debris in the exposed area was cleaned gently with a cotton cloth dampened with soapy water. The exposed area produced an image of great optical impression while that the unexposed area was kept clean. They can be printed up to more than 10,000 copies of the plate without deterioration.
Se preparó una plancha de impresión sin agua de manera similar al procedimiento del ejemplo 13, excepto que se usó el polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo obtenido de manera similar a la del ejemplo 9 (es decir, ADS-004-Si) para revestir la capa que potencia la adhesión, que absorbe cerca del infrarrojo, usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y se curó a 120ºC durante 5 minutos para producir un revestimiento uniforme que tiene un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. Se formaron imágenes en la plancha con un image setter de láser adaptado a las necesidades del cliente, que estaba equipado con un tambor de aluminio, un láser diódico en estado sólido de 1 vatio de rayo único que emite a 830 nm (disponible de Optopower) a una densidad de energía de entre 200 y 800 mJ/cm^{2}. La plancha se probó en una prensa AB Dick con Tinta Sun Chemical Drilith "H" Cyan (disponible de Sun Chemical) en ausencia de solución mojadora. Antes de la impresión, los desechos en la zona expuesta se limpiaron suavemente con un trapo de algodón humedecido con agua jabonosa. La zona expuesta produjo una imagen de gran impresión óptica, mientras que la zona no expuesta se mantenía limpia. Pueden imprimirse hasta más de 10.000 copias de la plancha sin deterioro.A printing plate without water was prepared similar to the procedure of example 13, except that it was used crosslinked silicone polymer that repels ink, which absorbs near the infrared obtained similarly to that of example 9 (i.e., ADS-004-Si) to coat the layer that enhances adhesion, which absorbs near the infrared, using a rolled wire rod. The coating dried under hot air flow and cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating that has a weight of coating of approximately 1.0 g / m2. They formed images on the plate with a laser image setter adapted to the customer needs, which was equipped with a drum aluminum, a solid state diode laser of 1 watt of lightning only emitting at 830 nm (available from Optopower) at a density of energy between 200 and 800 mJ / cm2. The iron was tested on an AB Dick press with Sun Chemical Drilith "H" Cyan Ink (available from Sun Chemical) in the absence of a wetting solution. Before printing, debris in the exposed area was cleaned gently with a cotton cloth dampened with soapy water. The exposed area produced an image of great optical impression while that the unexposed area was kept clean. They can be printed up to more than 10,000 copies of the plate without deterioration.
Se preparó una plancha de impresión sin agua de manera similar al procedimiento del ejemplo 13, excepto que se usó el polímero de silicona reticulado que repele la tinta, que absorbe cerca del infrarrojo obtenido de manera similar a la del ejemplo 12 (es decir, ADS-007-Si) para revestir la capa que potencia la adhesión, que absorbe cerca del infrarrojo, usando una varilla enrollada de alambre. El revestimiento se secó bajo corriente de aire caliente y se curó a 120ºC durante 5 minutos para producir un revestimiento uniforme que tiene un peso de revestimiento de aproximadamente 1,0 g/m^{2}. Se formaron imágenes en la plancha con un image setter de láser adaptado a las necesidades del cliente, que estaba equipado con un tambor de aluminio, un láser diódico en estado sólido de 1 vatio de rayo único que emite a 830 nm (disponible de Optopower) a una densidad de energía de entre 200 y 800 mJ/cm^{2}. La plancha se probó en una prensa AB Dick con Tinta Sun Chemical Drilith "H" Cyan (disponible de Sun Chemical) en ausencia de solución mojadora. Antes de la impresión, los desechos en la zona expuesta se limpiaron suavemente con un trapo de algodón humedecido con agua jabonosa. La zona expuesta produjo una imagen de gran impresión óptica, mientras que la zona no expuesta se mantenía limpia. Pueden imprimirse hasta más de 10.000 copias de la plancha sin deterioro.A printing plate without water was prepared similar to the procedure of example 13, except that it was used crosslinked silicone polymer that repels ink, which absorbs near the infrared obtained similarly to that of example 12 (i.e., ADS-007-Si) to coat the layer that enhances adhesion, which absorbs near the infrared, using a rolled wire rod. The coating dried under hot air flow and cured at 120 ° C for 5 minutes to produce a uniform coating that has a weight of coating of approximately 1.0 g / m2. They formed images on the plate with a laser image setter adapted to the customer needs, which was equipped with a drum aluminum, a solid state diode laser of 1 watt of lightning only emitting at 830 nm (available from Optopower) at a density of energy between 200 and 800 mJ / cm2. The iron was tested on an AB Dick press with Sun Chemical Drilith "H" Cyan Ink (available from Sun Chemical) in the absence of a wetting solution. Before printing, debris in the exposed area was cleaned gently with a cotton cloth dampened with soapy water. The exposed area produced an image of great optical impression while that the unexposed area was kept clean. They can be printed up to more than 10,000 copies of the plate without deterioration.
Se preparó una plancha de impresión sin agua de manera similar al ejemplo 15, excepto que se usó el polímero que absorbe cerca del infrarrojo obtenido del ejemplo 3 (es decir, ADS-003-CTP) para preparar la capa que potencia la adhesión cerca del infrarrojo. Se formaron imágenes en la plancha con un image setter de láser adaptado a las necesidades del cliente, que estaba equipado con un tambor de aluminio, un láser diódico en estado sólido de 1 vatio de rayo único que emite a 830 nm (disponible de Optopower) a una densidad de energía de entre 200 y 800 mJ/cm^{2}. La plancha se probó en una prensa AB Dick de duplicación con Tinta Sun Chemical Drilith "H" Cyan (disponible de Sun Chemical) en ausencia de solución mojadora. Antes de la impresión, los desechos en la zona expuesta se limpiaron suavemente con un trapo de algodón humedecido con agua jabonosa. La zona expuesta produjo una imagen de gran impresión óptica, mientras que la zona no expuesta se mantenía limpia. Pueden imprimirse hasta más de 10.000 copias de la plancha sin deterioro.A printing plate without water was prepared similar to example 15, except that the polymer that was used absorbs near the infrared obtained from example 3 (i.e. ADS-003-CTP) to prepare the layer which enhances adhesion near infrared. Images were formed on the plate with a laser image setter adapted to the customer needs, which was equipped with a drum aluminum, a solid state diode laser of 1 watt of lightning only emitting at 830 nm (available from Optopower) at a density of energy between 200 and 800 mJ / cm2. The iron was tested on an AB Dick duplication press with Sun Chemical Drilith Ink "H" Cyan (available from Sun Chemical) in the absence of solution wetting Before printing, waste in the exposed area they were gently cleaned with a cotton cloth moistened with water soapy The exposed area produced a great impression image optics, while the unexposed area was kept clean. They can print up to more than 10,000 copies of the plate without deterioration.
Claims (6)
- \bullet?
- a y b representan razones molares en las que b puede variar desde 0,1 hasta 0,2 y a puede variar desde 0,9 hasta 0,8,a and b represent molar ratios in which b can vary from 0.1 to 0.2 and a can vary from 0.9 to 0.8,
- \bullet?
- T representa un segmento de repetición transparente cerca del infrarrojo, que puede tener una estructura según las fórmulas II, III, IV y V,T represents a transparent repeat segment near the infrared, which can have a structure according to the formulas II, III, IV and V,
\newpage\ newpage
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\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
- \bullet?
- A representa un segmento de repetición que absorbe cerca del infrarrojo, que puede tener una estructura según la fórmula VI,A represents a repeating segment that absorbs near the infrared, which can have a structure according to the formula VI,
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
- \bullet?
- Z1 y Z2 representan átomos suficientes para formar anillos aromáticos condensados, sustituidos o no sustituidos, tales como fenilo y naftilo,Z1 and Z2 represent enough atoms to form condensed, substituted or unsubstituted aromatic rings, such like phenyl and naphthyl,
- \bullet?
- D1 y D2 representan -O-, -S-, -Se-, -CH = CH, y -C(CH_{3})_{2}-D1 and D2 represent -O-, -S-, -Se-, -CH = CH, and -C (CH 3) 2 -
- \bullet?
- R1 y R2 representan sustitución de alquilo, alquiloxilo, haluro de alquilo, alquil piridina, aliloxilo, viniloxilo, alquiltio, ariltio, aminotiofenol, sulfoalquilo y carboxialquilo,R1 and R2 represent alkyl substitution, alkyloxy, alkyl halide, alkyl pyridine, allyloxy, vinyloxyl, alkylthio, arylthio, aminothiophenol, sulfoalkyl and carboxyalkyl,
- \bullet?
- R3 representa sustitución de hidrógeno, alquilo y arilo,R3 represents replacement of hydrogen, alkyl and aryl,
- \bullet?
- X1 representa un contraion aniónico seleccionado de bromuro, cloruro, yoduro, tosilato, triflato, carbonato de trifluorometano, dodecil benzosulfonato y tetrafluoroborato,X1 represents an anionic counterion selected from bromide, chloride, iodide, tosylate, triflate, carbonate trifluoromethane, dodecyl benzosulfonate and tetrafluoroborate,
- \bullet?
- n representa 0 y 1,n represents 0 and 1,
- \bullet?
- m varía desde 1 hasta 8.m varies from 1 to 8.
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- -(R4)_{2}-Si-O- representa redes poliméricas de silicona reticuladas,- (R4) 2 -Si-O- represents crosslinked polymeric polymer networks,
- \bullet?
- R4 representa sustitución de metilo, etilo y arilo de las redes poliméricas de silicona reticuladas,R4 represents substitution of methyl, ethyl and aryl of crosslinked polymeric polymer networks,
- \bullet?
- B representa unidades de repetición que absorben cerca del infrarrojo, que muestran fuertes bandas de absorción entre 780 y 1200 nm. Las unidades de repetición de absorción cerca del infrarrojo comprenden derivados de indol, benz[e]indol, benz[cd]indol, benzotiazol, naftotiazol, benzoxazol, naftoxazol, benzselenazol y naftoselenazol, que pueden representarse según las fórmulas XI, XII y XIII:B represents repeating units that absorb near the infrared, which show strong absorption bands between 780 and 1200 nm. Repeating absorption units near infrared include indole derivatives, benz [e] indole, benz [cd] indole, benzothiazole, naphthiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzselenazole and naphthoselenazole, which can be represented according to formulas XI, XII and XIII:
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- Z1 y Z2 representan átomos suficientes para formar anillos aromáticos condensados, sustituidos o no sustituidos, tales como fenilo y naftilo,Z1 and Z2 represent enough atoms to form condensed, substituted or unsubstituted aromatic rings, such like phenyl and naphthyl,
- \bullet?
- D1 y D2 representan -O-, -S-, -Se-, -CH = CH, y -C(CH_{3})_{2}-,D1 and D2 represent -O-, -S-, -Se-, -CH = CH, and -C (CH 3) 2 -,
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- R5 representa alquilo, alquiloxilo, haluro de alquilo, piridina, alquil piridina y alquiltio,R5 represents alkyl, alkyloxy, halide of alkyl, pyridine, alkyl pyridine and alkylthio,
- \bullet?
- R6 representa sustitución de alquilo, sulfonilalquilo y carboxialquilo,R6 represents alkyl substitution, sulfonylalkyl and carboxyalkyl,
- \bullet?
- R7 representa sustitución de hidrógeno, alquilo y arilo,R7 represents replacement of hydrogen, alkyl and aryl,
- \bullet?
- R8 representa sustitución de alquilo, bencilo, alquilamina, ácido alquilsulfónico, ácido alquilcarboxílico,R8 represents substitution of alkyl, benzyl, alkylamine, alkylsulfonic acid, acid alkylcarboxylic,
- \bullet?
- X2 representa un contraion aniónico seleccionado de bromuro, cloruro, yoduro, tosilato, triflato, carbonato de trifluorometano, dodecil benzosulfonato y tetrafluoroborato,X2 represents an anionic counterion selected from bromide, chloride, iodide, tosylate, triflate, carbonate trifluoromethane, dodecyl benzosulfonate and tetrafluoroborate,
- \bullet?
- n representa 0 y 1,n represents 0 and 1,
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