EP3793839A1 - Security element with microreflectors - Google Patents

Security element with microreflectors

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Publication number
EP3793839A1
EP3793839A1 EP19726574.7A EP19726574A EP3793839A1 EP 3793839 A1 EP3793839 A1 EP 3793839A1 EP 19726574 A EP19726574 A EP 19726574A EP 3793839 A1 EP3793839 A1 EP 3793839A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
motif
tilt angle
security element
angle range
main plane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP19726574.7A
Other languages
German (de)
French (fr)
Other versions
EP3793839B1 (en
Inventor
Kai Hermann SCHERER
Maik Rudolf Johann SCHERER
Raphael DEHMEL
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Original Assignee
Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=66655294&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=EP3793839(A1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH filed Critical Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Publication of EP3793839A1 publication Critical patent/EP3793839A1/en
Application granted granted Critical
Publication of EP3793839B1 publication Critical patent/EP3793839B1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/324Reliefs

Definitions

  • the invention relates to a planar security element with microreflectors for producing documents of value, such as banknotes, checks or the like, wherein the planar security element defines a main plane and the microreflectors are arranged in a microreflector pattern and in plan view of the planar security element when tilting about an axis. present a first and a second motif, wherein the first motif is perceptible only in a first tilt angle range and the second motif in a second tilt angle range.
  • the first and the second motif are different here, so that the tilting of the security element changes the view from the first motif to the second motif or from a domed first view to a curved second view.
  • the micro-reflectors are net angeord in a micro-reflector pattern, so that the planar security element in a plurality of pixels, each comprising at least one optically active facet, so at least one micro-reflector is divided.
  • the microreflector patterns of the two motifs are interleaved with simultaneous rescoring of the microreflector or micromirror alignments , In this way, a safety element can be produced which gives the impression that a static, three-dimensional motif changes abruptly.
  • the proposed embodiments may also be such that both representations are visible at the same time in a certain tilt angle range.
  • the flächi ge form of the security element defines a major level.
  • Floating motifs are also known from document WO 2012/048847 A1. Therein is described a display element which is designed and determined such that when illuminated, a light spot image is generated from a plurality of light spots which appear to be floating above or below the area area for an observer and which are arranged in the form of a predetermined motif. Each light spot of the light spot image is assigned at least one reflective optical element which, when illuminated, contributes to the generation of its associated light spot.
  • the motif can also be an alternating image that shows different images from different viewing directions.
  • the Mikroreflek gates are in particular designed so that their orientation along a direction changes continuously or gradually, so that a Be trachter sees when tilting the security element a bright light reflection that travels along the direction of change.
  • the motif thus has a movement effect when tilting the security element, which is related to the main plane.
  • Microreflector-based security features that show a tilt-angle-dependent change are difficult to replicate because traditional printing techniques tend to fail to make the change. At the same time, the change is recognizable to the normal viewer.
  • the microreflectors thus realize a security element that is concise.
  • the invention is therefore the object of developing a security feature with micro-reflectors of the type mentioned so that the apparent effect is particularly concise.
  • a planar security element For the production of value documents, such as banknotes, checks or the like, a planar security element is provided.
  • the safety element has micro-deflectors and defines a main plane due to its planar design.
  • the microreflectors are arranged in a microreflector pattern and present several motifs whose appearance depends on the tilting state or on a tilting movement of the security element about an axis lying in the main plane.
  • a first motif appears when the security element is tilted about the axis to lie within a first tilt angle range. If you tilt the security element out of the first tilt angle range, the first motif disappears.
  • a second subject appears, different from the first subject, showing a (non-stereographic) motivational movement effect in the main plane or parallel to it during tilting.
  • the motivational motion effect extends at least partially past the first location and / or toward the first location or away therefrom.
  • the second motif thus moves at least for a part of the second tilt angle range outside the first position.
  • the observer can be witness to the illusion that the second motif virtually wipes away the first motif.
  • This illusion is supported by the second motif in a second Tilting angle range is seen, which adjoins the first tilt angle range or overlaps at least partially with this.
  • the second motif appears as soon as one enters the second tilt angle range. As you continue tapping, this second subject performs the creative movement effect. Depending on the version, the first subject disappears before the second subject appears or during the motivational movement effect.
  • the motif movement effect includes with particular advantage a change in shape of the second motif, wherein the shape of the second motif in particular continuously or stepwise, preferably in three or more steps changes.
  • the motif movement effect of the second motif is at least partially orthoparallaktisch.
  • a third motif is provided. It can only be seen in a third tilt angle range and appears at a different position. It is referred to here as second place.
  • the first and third motifs are optional.
  • the second location is laterally offset to the first location, so differs from the first location.
  • the term "lateral" encompasses a horizontal, vertical or oblique offset.
  • the tilt angle ranges in which the first and third motifs appear are advantageously disjoint.
  • the first motif is only for the first tilt angle range and This is understood to mean that the respective motif is not completely perceptible (over all tilt angles): only in the first or in the third tilt angle range can the first or third motif be seen in its entirety, outside of it only in parts or not.
  • a flip effect appears, since when tilting the first motif disappears and then the third motif appears.
  • the second tilt angle range forms or comprises the section between the first and third tilt angle ranges, that is, is larger. In the section between the first and third tilt angles, neither the first subject nor the third subject is perceptible.
  • the microreflector pattern presents, in the second tilt angle range, the second motif, which is different from the other two.
  • the second motive shows the motive movement effect that is in the main plane or parallel to it. It preferably runs at least partially in an area lying between the first and second location.
  • the micro-reflectors are formed and arranged in the micro-reflector pattern so that a viewer sees the first motif when it tilts the planar security element about the axis in the first tilt angle range. If it then tilts through the second tilt angle range, the first motif disappears. Before or after, the second subject appears, showing the motivational movement that runs in the main plane. Subsequently, the third motif optionally appears at a laterally offset point. Thus, a wiping effect and optionally also a flip effect, which is superimposed or interposed during tilting, the motive movement effect of the second motif, is generated. Tilting or changing the direction of supervision with a fixed safety element is equivalent to tilting the security element in the fixed viewing direction.
  • tilt angle range covers both case designs in this respect, ie, refers both to a tilting of the direction of view with a fixed security element as well as to a tilting of the security element in the fixed viewing direction.
  • the security element combines an appearance and disappearance effect of the first and optionally third motive with a motive movement effect of the second motive.
  • This movement effect which can be, for example, a running or pumping effect, supports (visually) the change of the first and optionally third motif when tilting in the representation.
  • the observer it is possible for the observer to create the illusion that the motif movement effect of the second motif virtually wipes off the first motif.
  • the second tilt angle range is advantageously in an angular range of ⁇ 5 °, preferably ⁇ 10 °, more preferably ⁇ 20 ° to the perpendicular to the main plane.
  • the subject movement effect of the second subject occurs.
  • the subject movement effect of the second subject may also occur while the first and optionally third subject is visible in the first and optionally third tilt angle ranges.
  • the first tilt angle range includes a range of 5 ° to 20 ° (relative to the lowering rights on the main plane).
  • There the first motif is visible.
  • the second motif is a second tilt angle range from -20 ° to + 20 ° zugeord net, the optional third motif a third tilt angle range from -20 ° to -5 °.
  • a disjoint arrangement of the first and third motifs allows a better optical separation of these motifs.
  • the motivational movement effect of the second motif is optionally visible over the entire tilt angle range, in which the first and optionally the third motif can be seen.
  • the second tilt angle range is therefore not necessarily outside the first and optionally third tilt angle range.
  • the motif movement effect is thus not exclusively interposed between the visibility of the first motif and that of the optional third motif.
  • the first location and the second location are laterally offset from each other. This may be designed so that first and third motifs are locally offset from each other horizontally, vertically or obliquely (e.g., diagonally).
  • the disjoint formation of the first and third tilt angle ranges, together with the offset of the two motives, ensures that a particularly strong illusion of a wiping motion is generated.
  • the offset provides a particularly large area for microreflectors for the flip effect. In this way, surprisingly, a particularly high-contrast first or third motif can be generated.
  • the security feature is designed so that different motifs are combined.
  • the security element optionally has at least one first, second and possibly third microreflector subpattern, which differ in their structure of the microreflectors with respect to the generated motifs and are at least partially interleaved and respectively produce the presentation of one of the motifs.
  • the microreflectors are preferably arranged in sub-patterns, each sub-pattern exactly one of the motives causes. Accordingly, it is possible for the three motifs to arrange three microreflector partial patterns at least partially interlaced, so that microreflectors of the one partial pattern are adjacent to or surrounded by microreflectors of the other partial patterns. Checkerboard nesting, line-like nesting, or any microreflector pattern screwed into each other are equally possible.
  • the differences in particular of the first and third microreflector partial pattern relate to the formation of the individual pixels and their arrangement, which leads to the presentation of the respective motif. This difference does not necessarily require a different geometric division or distribution of the pixels within a microreflector subpattern.
  • the microreflector subpatterns may even be completely identical and offset only from one another, i.e. from one another. have the same basic structure in view of the distribution of pixels in plan view.
  • the Mikroreflek gates of the two microreflector sub-pattern geometrically designed differently.
  • microreflector partial patterns it is particularly preferred to nest three microreflector partial patterns in one another so that microreflectors of all partial patterns lie in individual surface areas.
  • a particularly simple generation of the microreflector sector subpatterns is possible by first calculating the associated microreflector subpatterns for the first and third motifs. Up to this point, it corresponds to a conventional change between two Moti ven, as it is known for example from the document WO 2014/060089 A2 or from the pending German patent application DE 102017004586.0. It is possible to nest these two microreflector subpatterns or to arrange them next to each other. In a next step, an interleaving with the microreflector partial pattern is then provided, which generates the second motif with the motif movement effect.
  • the second microreflector partial pattern preferably has a fraction of 30-70%, preferably between 40 and 60%, particularly preferably 50%, of the sum of the three microreflector partial patterns.
  • the micro-reflector pattern includes a plurality of micro-reflectors. These can, as in the prior art, for example, the
  • WO 2011/066990 A2 is known to be formed in the form of pixels.
  • a pixel is a small surface area in which at least one, preferably a plurality of microreflectors lie, which have a uniform geometry and represent a pixel of the presented object.
  • Their reflection properties for example geometry and / or coating, are designed such that they produce a pixel of the presented object.
  • microreflectors or micromirrors work in reflection, it is not absolutely necessary to arrange them side by side in the manner of a standard printed image in accordance with the pixels to be represented. Rather, the microreflectors present an image by reflection of incident illumination radiation and, therefore, for a given viewing distance range, they can also lie in a spatial arrangement on a substrate, which is detached from the spatial position of the pixels of the object presented. In this description, therefore, it is quite deliberately not talked about "presentation of an image", but about the presentation. chen. This is intended to express the projection properties that the micro-reflectors use in imaging.
  • the microreflectors may have dimensions between 2 mih and 300 gm, preferably between 3 gm and 100 gm and more preferably between 6 gm and 20 gm.
  • microreflector background pattern whose microreflectors are preferably inclined to the principal plane so as to appear dark within the tilting plies in which the flip motive effects are presented, thus forming an object background.
  • the microreflectors can be provided with a reflective or at least reflection-enhancing coating.
  • a metallic or high-refractive coating may be provided.
  • a color-tilting coating can be formed on the microreflectors.
  • the color-shifting coating can be designed in particular as a thin-layer system or thin-film interference coating.
  • a value document for example a banknote, an identity document, a check, an electronically readable card, etc.
  • a security element of the type mentioned.
  • a planar substrate which defines a main plane on account of this shape, is provided with microreflectors which have the properties which were explained above with reference to the security element.
  • the step of coating the microreflectors may also be provided.
  • the microreflectors can be provided with a reflective or at least reflection-enhancing coating.
  • microstructuring methods may be used, e.g. Embossing process.
  • suitable structures in resist materials can also be exposed, possibly refined, shaped and used for the production of embossing tools with methods known from semiconductor production (photolithography, electron beam lithography, laser beam lithography, etc.).
  • Known processes for embossing in thermoplastic films or in films coated with radiation-curing paints can be used.
  • the substrate can have a plurality of layers, which are applied successively and optionally structured and / or can be composed of several parts.
  • FIG. 1 is a plan view of a banknote with a security element
  • Fig. 2 is a schematic representation of the structure of thewhoselemen TES of FIG. 1,
  • 3A and 3B are schematic representations of motifs which the
  • Security element of FIG. 2 in various embodiments presented to a viewer in plan view and the tilting of the
  • FIGS. 3A to 7B representations of embodiments of the security element for clarification of tilt angle ranges and 8 shows a further embodiment of the security element with the properties according to FIGS. 3A to 7B.
  • FIG. 1 schematically shows a banknote B with a security element S.
  • the banknote B is printed on a banknote paper
  • the security element S is configured as a film element which has been applied to the banknote paper. Due to the planar configuration of the security element S and the banknote B, the security element S defines a level of the catchment H, which coincides in FIG. 1 with the plane of the drawing.
  • the security element S has a multiplicity of microreflectors, which present the viewer in plan view motifs 7, 8, 9, depending on the viewing direction or tilting of the security element S.
  • FIG. 3A shows schematically a top view of the security element S.
  • FIGS Motifs 7, 8, 9 drawn by dashed lines, since their appearance depends on the consideration in a tipping angle range.
  • the motifs 7, 8, 9 never appear all at the same time, but during the tilting, as will be explained below with reference to FIGS. 4A to 7B.
  • the motif 7 is, for example, a star that appears at a location 10.
  • the motif 8 in the exemplary embodiment is a ring which appears at a point 10 offset laterally to the point 10. The point indicates the surface area covered by the respective motif in plan view.
  • the example 9 is, for example, an elongated strip which moves during tilting in a direction of a double arrow, which is also entered in FIG. Which of the motives 7, 8, 9 is presented or which state of the motion effect for the motif 9 is present, the observer can adjust by tilting the security element S about an axis Al, which is arranged in the main plane H.
  • Fig. 3B shows a modification in which the motif 8 is omitted. Otherwise, the security element S corresponds to that of FIG. 3A.
  • the security element S has three microreflector patterns 1, 2, 3 which, in the embodiment of FIG. 2, are nested in one another like a checkerboard pattern, so that horizontally as horizontally microreflector pixels 4 of the first micro-reflector pattern 1 alternate with microreflector pixels 5 of the second microreflector pattern 2 and microreflector pixels 6 of the third microreflector pattern 3.
  • a fourth microreflector pattern which is preferably also arranged in a nested manner (and not shown), is provided. Its micro-reflector pixels, as will be explained, are provided for generating a background and arranged to be dark in a viewing angle range in which one, two or three of the micro-reflector patterns 1-3 have a motif.
  • the third microreflector pattern 3 is dispensed with. Only the first microreflector pattern 1 and the second microreflector pattern 2 and optionally the background microreflector pattern are then provided.
  • FIGS. 4A and 4B show a tilting of the security element S with the lower edge of FIG. 3A upwards and the upper edge downwards. In this case, a tilting angle range W1 which is still to be explained is achieved. In this tilting angle range W1, only the motif 7 can be seen in the embodiment of FIG. 4A. In the embodiment of FIG. 4B, in addition, the motif 9 can also be seen.
  • the motif 9 can be recognized when the security element is located in a tilt angle range W2 that does not include the first tilt angle range W1 (FIG. 4A) or completely or partially (FIG. 4B).
  • FIGS. 5A and 5B show opposing tilting in the same amount in a third tilt angle range W3. It leads in Fig. 5A to the fact that only the subject 8 appears.
  • the motif 9 also appears in the third tilt angle E3 W3. It has moved during the tilting to the point 10 and beyond, so that the illusion of a Wegwischens the subject 7 arises.
  • the embodiments of FIGS. 5A and 5B again differ in whether the second tilt angle range W2, in which the motif 9 shows the motif movement effect, comprises the tilt angle range W3 for the motif 8 (FIG. 5B) or not (FIG. 5A ).
  • the motif 9 appears in at least one state between the tilt angle ranges W1 and W3 and shows the motif movement effect.
  • the embodiment according to FIG. 4A can also be combined with the embodiment according to FIG. 5B. The same applies to the embodiments according to FIGS. 5A and 4B.
  • the motif 9 appears. It moves with the tilting process in the main plane H, for example away from the point 10 of the first motif 7 and to the point 11 of the third motif 8 out.
  • FIGS. 7 and 7B show the position of the tilt angle ranges W1, W2, W3 for the motives 7, 9, 8.
  • the tilt angle ranges W1, W2, W3 are each areas of a tilted position about the axis A1 and define the viewing angle ranges in which respective motif is presented.
  • the representation of FIG. 7A corresponds to a realization of a combination of FIGS. 4A and 5A
  • the representation according to FIG. 7B corresponds to a realization which combines the properties according to FIGS. 4B and 5B.
  • the tilt angle range Wl applies to the motif 7, which then shows itself with the appropriate tilt about the axis Al. It is defined by a minimum tilt angle bl -min and a maximum tilt angle bl-max. These two angles are of course measured to an axis that is perpendicular to the axis Al. If a tilting movement about the axis A1 takes place within the tilt angle range W1, the first motif 7 produced by the first microreflector or micromirror pattern 1 is shown. The same applies to the same tilt direction about the axis Al, when at the same time the tilt angle is within the corresponding angle (180 ° -b3-min) and (180 ° -b3-max), which define the second tilt angle range W3.
  • the two tilt angle ranges W1 and W3 are disjoint, with the result that the subject 7 and the subject 8 never appear simultaneously. It occurs the already mentioned flip effect. Between the Kippwinkel Kir W1 and the Kippwinkel Anlagen W3 is the Kippwinkel Colour W2, in which the motive movement effect of the subject 9 occurs and this motif 9 is visible.
  • the tilt angle range W2 directly adjoins the tilt angle ranges W1 and W3.
  • the tilt angle range W2 overlaps with both the tilt angle range W1 and the tilt angle range W3. The overlap can be complete or partial. An overlap with only one of the tilt angle ranges W1 or W3 is also possible. This would correspond to a combination example as shown in FIG.
  • the presentation of the motifs 7, 8 and 9 and the motif movement effect of the motif 9 are achieved in that the microreflectors 4, 5 and 6 in the associated microreflector patterns 1, 2 and 3 are individually correspondingly inclined.
  • microreflectors first become a separate one separately for the three motifs 7, 8, 9 and the movement effect of the motif 9 Reflector design calculated.
  • the corresponding individual pixels are then shifted into the corresponding mirror slope range, so that the tilt angle ranges W1, W2 and W3 are predetermined.
  • the pixels are nested together correspondingly, for example chess board-like, as shown in Fig. 2.
  • the pixel size typically corresponds to 10 to 20 pm.
  • the microreflector patterns 1 and 3 are calculated. These can be arranged nested inside each other or laterally adjacent to each other. Subsequently, this combination of microreflector patterns 1 and 3 is interleaved with a micro-reflector pattern 2, which generates the motif 9 and its motive movement effect.
  • This procedure is expedient in particular for the embodiments according to FIGS. 4B, 5B, 7B, since there the motive movement effect of the motif 9 extends over the points 10 and 11 at which the motives 7 and 8 appear.
  • the interleaving of the microreflector pattern 1, 3 makes it possible to run the wiping effect also via these named points 10 and 11, so that it appears particularly concise.
  • All reflector elements that are not used in the reflector designs are optionally equipped with a very steep slope against the main plane H, so that they appear dark in the respective tilt angle ranges.
  • This creates the fourth microreflector pattern for the background. It contains corresponding microreflectors.
  • Fig. 8 shows a further embodiment, which gives a particularly significant effect.
  • the points 10 and 11 are alternately reversed with the associated motifs.
  • all the motifs 7 appear first, which are then arranged in a zig-zag-like pattern.
  • the wiping movement of the motif 9 appears in the direction of the arrow.
  • This swipe moves in rows one and three from right to left, in rows two and four from left to right. It therefore runs away from the disappearing motive 7, 8 and towards the appearing motif 7, 8, which then becomes visible when the tilting has progressed into the tilt angle range W3.
  • the wiping effect is enhanced if the motive movement effect at least partially guides the motif 9 over the point at which the motif 7, 8 disappears during tilting.
  • the microreflectors of the motifs 7 and 8 can be realized here in particular as described in the publication WO 2016/1802522 A1.
  • the motifs 7 and 8 alternately visible from top to bottom, are shifted upwards in perspective or above the main plane H (cross-hatching for the motif 8 or diagonal-hatching for the motif 7 of FIG lower left to upper right) or downwards relative to the main plane H down or below the main plane H floating (vertical hatching for the motif 8 or diagonal hatching for the motif 7 from top left to bottom right).
  • the motifs 7 and 8 thus change not only by a flip effect, they also change their position relative to the main plane.
  • a motif that previously appeared in perspective below the main plane H changes in flip effect with another motif elsewhere, which appears raised against the main plane H.
  • microreflectors of the motif 7 and / or the motif 8 can be realized as in the document WO 2014/060089 A2.
  • the flip effect does not have to be a change of different motives. Rather, it is also a simple change of location one and the same motif, such as a star or ring, between the points 10 and 11 possible.
  • All embodiments of the security element can be realized as foil elements, as foil elements on window recesses or as security threads. They can be mounted on paper or polymer banknotes on both the front and the back. The same applies to security documents, identity papers etc.

Landscapes

  • Credit Cards Or The Like (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

The invention relates to a flat security element with microreflectors for creating value documents, such as bank notes (B), cheques or the like, wherein the flat security element (S) defines a main plane (H) and the microreflectors (4, 5, 6) are arranged in a microreflector pattern (1, 2, 3) and in a bird's eye view of the flat security element present a first and a third motif (7, 8) when tilted about an axis (Al), wherein the first motif (7) can only be perceived in a first tilt angle range (W1) and the third motif (8) can only be perceived in a third tilt angle range (W3), wherein the first motif (7) appears at a first position (10) which is laterally offset in relation to a second position (11) at which the third motif (8) appears, the tilt angle ranges (W1, W3) are disjoint, so that therebetween at least a part of a second tilt angle range (W2) lies in which neither the first motif (7) nor the third motif (8) can be perceived, and the microreflector pattern (1, 2, 3) presents, in the second tilt angle range (W2), a second motif (9) which, during a tilt movement which goes through the second tilt angle range (W2), shows a motif movement effect which runs in the main plane (H) or parallel thereto.

Description

Sicherheitselement mit Mikroreflektoren  Security element with micro-reflectors
Die Erfindung betrifft ein flächiges Sicherheitselement mit Mikroreflektoren zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder derglei- chen, wobei das flächige Sicherheitselement eine Hauptebene definiert und die Mikroreflektoren in einem Mikroreflektorenmuster angeordnet sind und in Draufsicht auf das flächige Sicherheitselement beim Kippen um eine Ach- se ein erstes und ein zweites Motiv präsentieren, wobei das erste Motiv nur in einem ersten Kippwinkelbereich und das zweite Motiv in einem zweiten Kippwinkelbereich wahrnehmbar ist. The invention relates to a planar security element with microreflectors for producing documents of value, such as banknotes, checks or the like, wherein the planar security element defines a main plane and the microreflectors are arranged in a microreflector pattern and in plan view of the planar security element when tilting about an axis. present a first and a second motif, wherein the first motif is perceptible only in a first tilt angle range and the second motif in a second tilt angle range.
Ein solches Sicherheitselement ist insbesondere aus der Druckschrift Such a security element is in particular from the document
WO 2014/ 060089 A2 bekannt. Das erste und das zweite Motiv sind hier un- terschiedlich, so dass sich beim Kippen des Sicherheitselementes die Ansicht vom ersten Motiv zum zweiten Motiv bzw. von einer gewölbt erscheinenden ersten Ansicht zu einer gewölbt erscheinenden zweiten Ansicht ändert. Die Mikroreflektoren werden dabei in einem Mikroreflektorenmuster angeord net, so dass das flächige Sicherheitselement in eine Vielzahl von Pixeln, die jeweils mindestens eine optisch wirksame Facette, also mindestens einen Mikroreflektor umfassen, aufgeteilt ist. Um zu erreichen, dass in einem be- stimmten ersten Betrachtungswinkelbereich nur eines der Motive sichtbar ist und in einem bestimmten zweiten Betrachtungswinkelbereich nur das ande re Motiv sichtbar ist, werden die Mikroreflektorenmuster der zwei Motive unter gleichzeitiger Reskalierung der Mikroreflektoren- bzw. Mikrospie gelausrichtungen miteinander verschachtelt. Auf diese Weise kann ein Si cherheitselement erzeugt werden, bei dem der Eindruck entsteht, dass sich ein statisches, dreidimensionales Motiv abrupt verändert. Die vorgesehenen Ausgestaltungen können jedoch auch derart sein, dass in einem gewissen Kippwinkelbereich beide Darstellungen gleichzeitig sichtbar sind. Die flächi ge Form des Sicherheitselementes definiert eine Hauptebene. Der zugrundeliegende Effekt, gemäß dem ein dreidimensional erscheinendes Motiv präsentiert wird, das für einen Betrachter als gegenüber seiner tatsäch- lichen Raumform vor- und/ oder zurückspringende Fläche und insbesondere als kontinuierlich gewölbte Fläche wahrnehmbar ist, ist beispielsweise aus der WO 2011/066990 A2 bekannt. WO 2014/060089 A2. The first and the second motif are different here, so that the tilting of the security element changes the view from the first motif to the second motif or from a domed first view to a curved second view. The micro-reflectors are net angeord in a micro-reflector pattern, so that the planar security element in a plurality of pixels, each comprising at least one optically active facet, so at least one micro-reflector is divided. In order to achieve that only one of the motifs is visible in a certain first viewing angle range and only the other motif is visible in a certain second viewing angle range, the microreflector patterns of the two motifs are interleaved with simultaneous rescoring of the microreflector or micromirror alignments , In this way, a safety element can be produced which gives the impression that a static, three-dimensional motif changes abruptly. However, the proposed embodiments may also be such that both representations are visible at the same time in a certain tilt angle range. The flächi ge form of the security element defines a major level. The underlying effect according to which a three-dimensional appearing motif is presented which can be perceived by a viewer as a surface projecting and / or receding relative to its actual spatial form and, in particular, as a continuously curved surface is known, for example, from WO 2011/066990 A2 ,
Ferner sind Effekte bekannt, bei denen ein oder mehrere Motive beim Kip- pen des Sicherheitselements im weiteren Sinne ein dynamisches Verhalten zeigen, ihre Form dabei jedoch im Wesentlichen unverändert beibehalten.Furthermore, effects are known in which one or more motifs when tilting the security element in a broader sense show a dynamic behavior, while retaining their shape essentially unchanged.
Die Richtungen von Kippbewegung und„Bewegung" sind dabei gleich oder gegengleich (parallaktisch). Die beiden Augen eines Betrachters sehen die Motive dadurch zur gleichen Zeit an jeweils leicht unterschiedlichen Positionen, was einen räumlichen Eindruck bzw. einen Schwebeeffekt bewirkt. Ste- reographische Effekte dieser Art lassen sich beispielsweise mit einem Sicher heitselement erzeugen, wie es in der Druckschrift WO 2016/180522 Al be schrieben ist. The directions of tilting movement and "movement" are equal or opposite (parallax), so that the two eyes of a viewer see the motifs at the same time in slightly different positions, which creates a spatial impression or a hovering effect Art can be generated, for example, with a safety element, as described in the publication WO 2016/180522 Al be written.
Kombinationen aus zwei oder mehr räumlich bzw. dreidimensional erschei nenden Motiven, die sich beim Kippen des Sicherheitselements auf vorste hend beschriebene Weise verhalten, sind ebenfalls grundsätzlich bekannt, beispielsweise aus der anhängigen deutschen Patentanmeldung Combinations of two or more spatially or three-dimensionally appearing motifs which behave in a first described manner when tilting the security element, are also known in principle, for example from the pending German patent application
DE 102017004586.0. Auch bei solchen Sicherheitselementen kann vorgesehen sein, dass mindestens eines der Motive nur in einem bestimmten ersten Be- trachtungswinkelbereich sichtbar ist und mindestens ein anderes Motiv nur in einem zweiten Betrachtungswinkelbereich sichtbar ist, so dass bei einer Änderung der Betrachtungsrichtung der Eindruck einer abrupten Motivän derung entsteht. Schwebende Motive sind ferner aus der Druckschrift WO 2012/ 048847 Al bekannt. Darin ist ein Darstellungselement beschrieben, das so ausgelegt und bestimmt ist, dass bei Beleuchtung ein Lichtfleckenbild aus einer Mehrzahl von Lichtflecken erzeugt wird, die für einen Betrachter oberhalb oder unter halb des Flächenbereichs schwebend erscheinen und die in Form eines vor- bestimmten Motivs angeordnet sind. Jedem Lichtfleck des Lichtfleckenbilds ist zumindest ein reflektives optisches Element zugeordnet, welches bei Be- leuchtung zur Erzeugung des ihm zugeordneten Lichtflecks beiträgt. In einer Ausgestaltung kann das Motiv auch ein Wechselbild sein, das aus unter- schiedlichen Betrachtungsrichtungen unterschiedliche Bilder zeigt. DE 102017004586.0. Even with such security elements, it can be provided that at least one of the motifs is only visible in a certain first viewing angle range and at least one other motif is visible only in a second viewing angle range, so that the impression of an abrupt change of motivation arises when the viewing direction is changed , Floating motifs are also known from document WO 2012/048847 A1. Therein is described a display element which is designed and determined such that when illuminated, a light spot image is generated from a plurality of light spots which appear to be floating above or below the area area for an observer and which are arranged in the form of a predetermined motif. Each light spot of the light spot image is assigned at least one reflective optical element which, when illuminated, contributes to the generation of its associated light spot. In one embodiment, the motif can also be an alternating image that shows different images from different viewing directions.
Im Stand der Technik ist es weiter bekannt, durch Mikroreflektoren in Draufsicht Motive zu präsentieren, die nicht-stereographische Motivbewe gungseffekte zeigen. Exemplarisch sei auf die Druckschriften In the prior art, it is further known to present by microreflectors in plan motifs that show non-stereographic Motivbewe tion effects. As an example, see the pamphlets
WO 2011/066991 A2 und WO 2015/078572 Al verwiesen. Die Mikroreflek toren sind dabei insbesondere so ausgebildet, dass sich ihre Ausrichtung entlang einer Richtung kontinuierlich oder stufenweise ändert, so dass ein Be trachter beim Kippen des Sicherheitselements einen hellen Lichtreflex sieht, der entlang der Änderungsrichtung wandert. Das Motiv weist beim Kippen des Sicherheitselementes somit einen Bewegungseffekt auf, der auf die Hauptebene bezogen ist. WO 2011/066991 A2 and WO 2015/078572 Al referenced. The Mikroreflek gates are in particular designed so that their orientation along a direction changes continuously or gradually, so that a Be trachter sees when tilting the security element a bright light reflection that travels along the direction of change. The motif thus has a movement effect when tilting the security element, which is related to the main plane.
Sicherheitsmerkmale mit Mikroreflektoren, die eine kippwinkelabhängige Veränderung zeigen, sind schwer nachzubilden, da mit herkömmlichen Drucktechniken die Veränderung meist nicht zu erreichen ist. Zugleich ist die Veränderung für den normalen Betrachter erkennbar. Die Mikroreflek toren realisieren damit ein Sicherheitselement, das prägnant ist. Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Sicherheitsmerkmal mit Mikroreflektoren der eingangs genannten Art so weiterzubilden, dass der erkennbare Effekt besonders prägnant ist. Microreflector-based security features that show a tilt-angle-dependent change are difficult to replicate because traditional printing techniques tend to fail to make the change. At the same time, the change is recognizable to the normal viewer. The microreflectors thus realize a security element that is concise. The invention is therefore the object of developing a security feature with micro-reflectors of the type mentioned so that the apparent effect is particularly concise.
Die Erfindung ist in den unabhängigen Ansprüchen definiert. Die abhängi gen Ansprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen. The invention is defined in the independent claims. The dependent claims relate to advantageous developments.
Zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder der- gleichen ist ein flächiges Sicherheitselement vorgesehen. Das Sicherheitsele- ment weist Mikroreflektoren auf und legt aufgrund seiner flächigen Ausbil- dung eine Hauptebene fest. Die Mikroreflektoren sind in einem Mikroreflek- torenmuster angeordnet und präsentieren mehrere Motive, deren Erschei- nung vom Kippzustand bzw. von einer Kippbewegung des Sicherheitsele mentes um eine in der Hauptebene liegende Achse abhängt. An einer ersten Stelle erscheint ein erstes Motiv, wenn das Sicherheitselement um die Achse so gekippt ist, dass es in einem ersten Kippwinkelbereich liegt. Kippt man das Sicherheitselement aus dem ersten Kippwinkelbereich heraus, ver schwindet das erste Motiv. Gleichzeitig erscheint während des Kippvor gangs ein zweites Motiv, das sich vom ersten Motiv unterscheidet und wäh rend des Kippens einen (nicht-stereographischen) Motivbewegungseffekt zeigt, der in der Hauptebene oder parallel zu ihr verläuft. Der Motivbewe gungseffekt verläuft mindestens teilweise über die erste Stelle hinweg und/ oder auf die erste Stelle hin oder von dieser weg. Das zweite Motiv be wegt sich somit zumindest für einen Teil des zweiten Kippwinkelbereichs außerhalb der ersten Stelle. Dadurch kann beim Betrachter die Illusion er zeugt werden, dass das zweite Motiv das erste Motiv quasi wegwischt. Diese Illusion wird dadurch unterstützt, dass das zweite Motiv in einem zweiten Kippwinkelbereich zu sehen ist, der an den ersten Kippwinkelbereich an- grenzt oder mit diesem mindestens teilweise überlappt. Kippt man das Si- cherheitselement im ersten Kippwinkelbereich in Richtung auf den zweiten Kippwinkelbereich hin, erscheint, sobald man in den zweiten Kippwinkelbe- reich eintritt, das zweite Motiv. Beim Weiterkippen führt dieses zweite Motiv den Motivbewegungseffekt aus. Das erste Motiv verschwindet je nach Aus- führungsform bevor das zweite Motiv erscheint oder während des Motivbe- wegungseffekts. For the production of value documents, such as banknotes, checks or the like, a planar security element is provided. The safety element has micro-deflectors and defines a main plane due to its planar design. The microreflectors are arranged in a microreflector pattern and present several motifs whose appearance depends on the tilting state or on a tilting movement of the security element about an axis lying in the main plane. At a first location, a first motif appears when the security element is tilted about the axis to lie within a first tilt angle range. If you tilt the security element out of the first tilt angle range, the first motif disappears. At the same time, during the tilting process, a second subject appears, different from the first subject, showing a (non-stereographic) motivational movement effect in the main plane or parallel to it during tilting. The motivational motion effect extends at least partially past the first location and / or toward the first location or away therefrom. The second motif thus moves at least for a part of the second tilt angle range outside the first position. As a result, the observer can be witness to the illusion that the second motif virtually wipes away the first motif. This illusion is supported by the second motif in a second Tilting angle range is seen, which adjoins the first tilt angle range or overlaps at least partially with this. If one tilts the safety element in the first tilt angle range in the direction of the second tilt angle range, the second motif appears as soon as one enters the second tilt angle range. As you continue tapping, this second subject performs the creative movement effect. Depending on the version, the first subject disappears before the second subject appears or during the motivational movement effect.
Der Motivbewegungseffekt umfasst mit besonderem Vorteil eine Formänderung des zweiten Motivs, wobei sich die Form des zweiten Motivs insbeson dere kontinuierlich oder schrittweise, bevorzugt in drei oder mehr Schritten, ändert. Alternativ oder zusätzlich ist der Motivbewegungseffekt des zweiten Motivs zumindest teilweise orthoparallaktisch. The motif movement effect includes with particular advantage a change in shape of the second motif, wherein the shape of the second motif in particular continuously or stepwise, preferably in three or more steps changes. Alternatively or additionally, the motif movement effect of the second motif is at least partially orthoparallaktisch.
Optional ist noch ein drittes Motiv vorgesehen. Es ist nur in einem dritten Kippwinkelbereich zu sehen und erscheint an einer anderen Stelle. Sie wird entsprechend hier als zweite Stelle bezeichnet. Das erste und das dritte Motiv unterscheiden sich optional. Die zweite Stelle ist zur ersten Stelle lateral versetzt, unterscheidet sich also von der ersten Stelle. Der Begriff„lateral" um fasst dabei je nach Ausrichtung des Sicherheitselements einen horizontalen, vertikalen oder schrägen Versatz. Die Kippwinkelbereiche, in denen das ers te und das dritte Motiv erscheinen, sind mit Vorteil disjunkt. Das erste Motiv ist nur dem ersten Kippwinkelbereich und das dritte Motiv nur in dem drit ten Kippwinkelbereich wahrnehmbar. Hierunter wird verstanden, dass das jeweilige Motiv nicht (über alle Kippwinkelbereiche) vollständig wahrnehm bar ist: nur im ersten bzw. im dritten Kippwinkelbereich ist das erste bzw. dritte Motiv in seiner Gänze zu erkennen, außerhalb dessen nur in Teilen oder gar nicht. Somit erscheint in dieser Ausführungsform ein Flip-Effekt, da beim Kippen das erste Motiv verschwindet und danach das dritte Motiv er- scheint. Optionally, a third motif is provided. It can only be seen in a third tilt angle range and appears at a different position. It is referred to here as second place. The first and third motifs are optional. The second location is laterally offset to the first location, so differs from the first location. Depending on the orientation of the security element, the term "lateral" encompasses a horizontal, vertical or oblique offset.The tilt angle ranges in which the first and third motifs appear are advantageously disjoint.The first motif is only for the first tilt angle range and This is understood to mean that the respective motif is not completely perceptible (over all tilt angles): only in the first or in the third tilt angle range can the first or third motif be seen in its entirety, outside of it only in parts or not. Thus, in this embodiment, a flip effect appears, since when tilting the first motif disappears and then the third motif appears.
Der zweite Kippwinkelbereich bildet den Abschnitt zwischen erstem und drittem Kippwinkelbereich oder umfasst diesen, ist also größer. In dem Ab- schnitt zwischen erstem und drittem Kippwinkelbereich ist weder das erste Motiv noch das dritte Motiv wahrnehmbar. Das Mikroreflektorenmuster präsentiert im zweiten Kippwinkelbereich das zweite Motiv, das sich von den anderen beiden unterscheidet. Während einer Kippbewegung, die den zweiten Kippwinkelbereich durchläuft und von einem Ende des ersten Kippwinkelbereichs zu einem Ende des dritten Kippwinkelbereichs führt, zeigt das zweite Motiv den Motivbewegungseffekt, der in der Hauptebene oder parallel zu ihr verläuft. Er verläuft bevorzugt mindestens teilweise in einem Bereich, der zwischen erster und zweiter Stelle liegt. The second tilt angle range forms or comprises the section between the first and third tilt angle ranges, that is, is larger. In the section between the first and third tilt angles, neither the first subject nor the third subject is perceptible. The microreflector pattern presents, in the second tilt angle range, the second motif, which is different from the other two. During a tilting movement that passes through the second tilting angle range and leads from one end of the first tilting angle range to an end of the third tilting angle range, the second motive shows the motive movement effect that is in the main plane or parallel to it. It preferably runs at least partially in an area lying between the first and second location.
Die Mikroreflektoren sind im Mikroreflektorenmuster so ausgebildet und angeordnet, dass ein Betrachter das erste Motiv sieht, wenn er das flächige Sicherheitselement um die Achse in den ersten Kippwinkelbereich kippt. Kippt er dann durch den zweiten Kippwinkelbereich, verschwindet das erste Motiv. Vorher oder danach erscheint das zweite Motiv, das den Motivbewe- gungseffekt zeigt, der in der Hauptebene verläuft. Anschließend erscheint optional an einer lateral versetzten Stelle das dritte Motiv. Somit wird ein Wisch-Effekt und optional auch ein Flip-Effekt, dem während des Kippens der Motivbewegungseffekt des zweiten Motivs überlagert bzw. zwischengeschaltet ist, erzeugt. Ein Kippen bzw. ein Ändern der Aufsichtsrichtung bei festliegendem Sicher- heitselement ist gleichbedeutend zum Kippen des Sicherheitselementes bei fixer Sichtrichtung. Der Begriff„Kippwinkelbereich" deckt diesbezüglich beide Fallgestaltungen ab, bezieht sich also sowohl auf ein Kippen der Auf- sichtsrichtung bei festliegendem Sicherheitselement als auch auf ein Kippen des Sicherheitselementes bei fixer Sichtrichtung. The micro-reflectors are formed and arranged in the micro-reflector pattern so that a viewer sees the first motif when it tilts the planar security element about the axis in the first tilt angle range. If it then tilts through the second tilt angle range, the first motif disappears. Before or after, the second subject appears, showing the motivational movement that runs in the main plane. Subsequently, the third motif optionally appears at a laterally offset point. Thus, a wiping effect and optionally also a flip effect, which is superimposed or interposed during tilting, the motive movement effect of the second motif, is generated. Tilting or changing the direction of supervision with a fixed safety element is equivalent to tilting the security element in the fixed viewing direction. The term "tilt angle range" covers both case designs in this respect, ie, refers both to a tilting of the direction of view with a fixed security element as well as to a tilting of the security element in the fixed viewing direction.
Das Sicherheitselement kombiniert einen Erscheinungs- und Verschwinde- Effekt des ersten und optional dritten Motivs mit einem Motivbewegungsef- fekt des zweiten Motivs. Dieser Bewegungseffekt, der beispielsweise ein Lauf- oder Pumpeffekt sein kann, unterstützt (visuell) den Wechsel des ers- ten und optional dritten Motivs beim Kippen in der Darstellung. Insbesonde re kann beim Betrachter die Illusion erzeugt werden, dass der Motivbewe gungseffekt des zweiten Motivs das erste Motiv quasi wegwischt. Für das optionale dritte Motiv gilt dasselbe. The security element combines an appearance and disappearance effect of the first and optionally third motive with a motive movement effect of the second motive. This movement effect, which can be, for example, a running or pumping effect, supports (visually) the change of the first and optionally third motif when tilting in the representation. In particular, it is possible for the observer to create the illusion that the motif movement effect of the second motif virtually wipes off the first motif. The same applies to the optional third theme.
Der zweite Kippwinkelbereich liegt mit Vorteil in einem Winkelbereich von ± 5°, bevorzugt von ± 10°, besonders bevorzugt ± 20° zur Senkrechten auf die Hauptebene. In diesem Bereich erfolgt der Motivbewegungseffekt des zwei ten Motivs. Der Motivbewegungseffekt des zweiten Motivs kann auch auf- treten, während das erste und optional dritte Motiv im ersten und optional dritten Kippwinkelbereich sichtbar ist. Insbesondere ist es möglich, dass der erste Kippwinkelbereich einen Bereich von 5° bis 20° (bezogen auf die Senk rechte auf die Hauptebene) umfasst. Dort ist das erste Motiv sichtbar. Dem zweiten Motiv ist ein zweiter Kippwinkelbereich von -20° bis +20° zugeord net, dem optionalen dritten Motiv ein dritter Kippwinkelbereich von -20° bis -5°. Durch eine disjunkte Anordnung von erstem und drittem Motiv lässt sich eine bessere optische Trennung dieser Motive erreichen. Der Motivbewe- gungseffekt des zweiten Motivs ist optional über den kompletten Kippwin- kelbereich sichtbar, in dem das erste und optional das dritte Motiv erkennbar sind. Der zweite Kippwinkelbereich liegt also nicht zwingend außerhalb des ersten und optional dritten Kippwinkelbereichs. In bevorzugten Ausfüh- rungsformen ist damit der Motivbewegungseffekt nicht exklusiv zwischen- geschaltet zwischen der Sichtbarkeit des ersten Motivs und der des optiona len dritten Motivs. The second tilt angle range is advantageously in an angular range of ± 5 °, preferably ± 10 °, more preferably ± 20 ° to the perpendicular to the main plane. In this area, the subject movement effect of the second subject occurs. The subject movement effect of the second subject may also occur while the first and optionally third subject is visible in the first and optionally third tilt angle ranges. In particular, it is possible that the first tilt angle range includes a range of 5 ° to 20 ° (relative to the lowering rights on the main plane). There the first motif is visible. The second motif is a second tilt angle range from -20 ° to + 20 ° zugeord net, the optional third motif a third tilt angle range from -20 ° to -5 °. A disjoint arrangement of the first and third motifs allows a better optical separation of these motifs. The motivational movement effect of the second motif is optionally visible over the entire tilt angle range, in which the first and optionally the third motif can be seen. The second tilt angle range is therefore not necessarily outside the first and optionally third tilt angle range. In preferred embodiments, the motif movement effect is thus not exclusively interposed between the visibility of the first motif and that of the optional third motif.
Die erste Stelle und die zweite Stelle sind lateral gegeneinander versetzt. Dies kann so ausgestaltet werden, dass erstes und drittes Motiv örtlich gegenei nander horizontal, vertikal oder schräg (z.B. diagonal) versetzt sind. The first location and the second location are laterally offset from each other. This may be designed so that first and third motifs are locally offset from each other horizontally, vertically or obliquely (e.g., diagonally).
Die disjunkte Ausbildung von erstem und drittem Kippwinkelbereich stellt zusammen mit dem Versatz der beiden Motive sicher, dass eine besonders starke Illusion einer Wischbewegung erzeugt wird. Der Versatz stellt für den Flip-Effekt eine besonders große Fläche für Mikroreflektoren zur Verfügung. Auf diese Weise kann überraschend ein besonders kontraststarkes erstes bzw. drittes Motiv erzeugt werden. The disjoint formation of the first and third tilt angle ranges, together with the offset of the two motives, ensures that a particularly strong illusion of a wiping motion is generated. The offset provides a particularly large area for microreflectors for the flip effect. In this way, surprisingly, a particularly high-contrast first or third motif can be generated.
Das Sicherheitsmerkmal ist so ausgebildet, dass unterschiedliche Motive kombiniert werden. Das Sicherheitselement hat optional mindestens ein ers tes, zweites und ggf. drittes Mikroreflektorenteilmuster, die sich in ihrer Struktur der Mikroreflektoren hinsichtlich der erzeugten Motive voneinan der unterscheiden und mindestens teilweise ineinander verschachtelt sind und jeweils die Präsentation eines der Motive erzeugen. Die Mikroreflek- toren werden bevorzugt in Teilmustern angeordnet, wobei jedes Teilmuster genau eines der Motive bewirkt. Es ist demnach möglich, für die drei Motive drei Mikroreflektorenteilmuster mindestens teilweise ineinander verschach- telt anzuordnen, so dass Mikroreflektoren des einen Teilmusters benachbart oder umgeben sind von Mikroreflektoren der anderen Teilmuster. Schach- brettartige Verschachtelung, linienartige Verschachtelung oder beliebige in einander verschraubte Mikroreflektorenmuster sind gleichermaßen möglich. The security feature is designed so that different motifs are combined. The security element optionally has at least one first, second and possibly third microreflector subpattern, which differ in their structure of the microreflectors with respect to the generated motifs and are at least partially interleaved and respectively produce the presentation of one of the motifs. The microreflectors are preferably arranged in sub-patterns, each sub-pattern exactly one of the motives causes. Accordingly, it is possible for the three motifs to arrange three microreflector partial patterns at least partially interlaced, so that microreflectors of the one partial pattern are adjacent to or surrounded by microreflectors of the other partial patterns. Checkerboard nesting, line-like nesting, or any microreflector pattern screwed into each other are equally possible.
Die Unterschiede insbesondere des ersten und dritten Mikroreflektorenteil- musters beziehen sich auf die Ausbildung der einzelnen Pixel und ihre An ordnung, die zur Präsentation des jeweiligen Motives führt. Dieser Unter schied erfordert nicht zwingend eine unterschiedliche geometrische Auftei lung oder Verteilung der Pixel innerhalb eines Mikroreflektorenteilmusters. In ihrer strukturellen Aufteilung können die Mikroreflektorenteilmuster, wie Ausführungsbeispiele zeigen werden, sogar vollständig identisch und nur gegeneinander versetzt sein, d.h. in Draufsicht dieselbe Grundstruktur hin sichtlich der Verteilung von Pixeln haben. Natürlich sind die Mikroreflek toren der beiden Mikroreflektorenteilmuster geometrisch unterschiedlich ausgestaltet. The differences in particular of the first and third microreflector partial pattern relate to the formation of the individual pixels and their arrangement, which leads to the presentation of the respective motif. This difference does not necessarily require a different geometric division or distribution of the pixels within a microreflector subpattern. In their structural layout, as shown in embodiments, the microreflector subpatterns may even be completely identical and offset only from one another, i.e. from one another. have the same basic structure in view of the distribution of pixels in plan view. Of course, the Mikroreflek gates of the two microreflector sub-pattern geometrically designed differently.
Besonders bevorzugt ist es, drei Mikroreflektorenteilmuster ineinander zu verschachteln, so dass in einzelnen Flächenbereichen Mikroreflektoren aller Teilmuster liegen. Eine besonders einfache Erzeugung der Mikroreflek torenteilmuster ist dadurch möglich, dass man zuerst für das erste und das dritte Motiv die zugeordneten Mikroreflektorenteilmuster berechnet. Bis hierhin entspricht es einem konventionellen Wechsel zwischen zwei Moti ven, wie er beispielsweise aus der Druckschrift WO 2014/060089 A2 oder aus der anhängigen deutschen Patentanmeldung DE 102017004586.0 bekannt ist. Es ist möglich, diese beiden Mikroreflektorenteilmuster zu verschachteln oder sie nebeneinanderliegend anzuordnen. In einem nächsten Schritt wird dann eine Verschachtelung mit dem Mikroreflektorenteilmuster vorgesehen, welches das zweite Motiv mit dem Motivbewegungseffekt erzeugt. Man be- rechnet also zuerst eine Struktur, die das erste und dritte Mikroreflek- torenteilmuster enthält und die dann mit dem zweiten Mikroreflektorenteil- muster verschachtelt wird. Hierbei hat das zweite Mikroreflektorenteilmus- ter bevorzugt einen Anteil von 30-70%, bevorzugt zwischen 40 und 60%, be sonders bevorzugt von 50% an der Summe der drei Mikroreflektorenteilmus- ter. It is particularly preferred to nest three microreflector partial patterns in one another so that microreflectors of all partial patterns lie in individual surface areas. A particularly simple generation of the microreflector sector subpatterns is possible by first calculating the associated microreflector subpatterns for the first and third motifs. Up to this point, it corresponds to a conventional change between two Moti ven, as it is known for example from the document WO 2014/060089 A2 or from the pending German patent application DE 102017004586.0. It is possible to nest these two microreflector subpatterns or to arrange them next to each other. In a next step, an interleaving with the microreflector partial pattern is then provided, which generates the second motif with the motif movement effect. Thus, first a structure is calculated which contains the first and third microreflector partial patterns and which is then nested with the second microreflector partial pattern. In this case, the second microreflector partial pattern preferably has a fraction of 30-70%, preferably between 40 and 60%, particularly preferably 50%, of the sum of the three microreflector partial patterns.
Das Mikroreflektorenmuster enthält eine Vielzahl von Mikroreflektoren. Die- se können, wie dies aus dem Stand der Technik, beispielsweise der The micro-reflector pattern includes a plurality of micro-reflectors. These can, as in the prior art, for example, the
WO 2011 / 066990 A2, bekannt ist, in Form von Pixeln ausgebildet werden.WO 2011/066990 A2, is known to be formed in the form of pixels.
Ein Pixel ist ein kleiner Flächenbereich, in dem mindestens ein, bevorzugt mehrere Mikroreflektoren liegen, die eine einheitliche Geometrie haben und einen Bildpunkt des präsentierten Objektes darstellen. Ihre Reflexionseigen- schaften, beispielsweise Geometrie und/ oder Beschichtung, sind so gestaltet, dass sie einen Bildpunkt des präsentierten Objektes erzeugen. Da die A pixel is a small surface area in which at least one, preferably a plurality of microreflectors lie, which have a uniform geometry and represent a pixel of the presented object. Their reflection properties, for example geometry and / or coating, are designed such that they produce a pixel of the presented object. Because the
Mikroreflektoren bzw. Mikrospiegel in Reflexion arbeiten, ist es nicht zwin- gend erforderlich, sie in Art eines üblichen Druckbildes gemäß den darzu- stellenden Bildpunkten nebeneinander anzuordnen. Die Mikroreflektoren präsentieren vielmehr ein Bild durch Reflexion einfallender Beleuchtungs- Strahlung und können deshalb für einen bestimmten Betrachtungsabstands- bereich auch in einer räumlichen Anordnung auf einem Substrat liegen, die von der räumlichen Lage der zu erzeugenden Bildpunkte des präsentierten Objektes losgelöst ist. In dieser Beschreibung wird deshalb ganz bewusst nicht von„Darstellung eines Bildes", sondern von der Präsentation gespro- chen. Hierdurch sollen die Projektionseigenschaften, welche die Mikroreflektoren bei der Bilderzeugung nutzen, zum Ausdruck gebracht werden. If microreflectors or micromirrors work in reflection, it is not absolutely necessary to arrange them side by side in the manner of a standard printed image in accordance with the pixels to be represented. Rather, the microreflectors present an image by reflection of incident illumination radiation and, therefore, for a given viewing distance range, they can also lie in a spatial arrangement on a substrate, which is detached from the spatial position of the pixels of the object presented. In this description, therefore, it is quite deliberately not talked about "presentation of an image", but about the presentation. chen. This is intended to express the projection properties that the micro-reflectors use in imaging.
Die Mikroreflektoren können Abmessungen zwischen 2 mih und 300 gm, bevorzugt zwischen 3 gm und 100 gm und besonders bevorzugt zwischen 6 gm und 20 gm aufweisen. The microreflectors may have dimensions between 2 mih and 300 gm, preferably between 3 gm and 100 gm and more preferably between 6 gm and 20 gm.
Die unterschiedlichen Flip- bzw. Motivbewegungseffekte sind besonders dann gut zu erkennen, wenn das Motiv vor einem Hintergrund angeordnet ist, der dunkel erscheint. Es ist deshalb bevorzugt, im Mikroreflektorenmus ter ein Mikroreflektorenhintergrundmuster vorzusehen, dessen Mikroreflek toren vorzugsweise so gegenüber der Hauptebene geneigt sind, dass sie in nerhalb der Kipplagen, in denen die Flip- bzw. Motivbewegungseffekte prä sentiert werden, dunkel erscheinen und so einen Objekthintergrund bilden. The different flip or motive motion effects are particularly noticeable when the subject is placed in front of a background that appears dark. It is therefore preferable to provide in the micro-reflector pattern a microreflector background pattern whose microreflectors are preferably inclined to the principal plane so as to appear dark within the tilting plies in which the flip motive effects are presented, thus forming an object background.
Die Mikroreflektoren können mit einer reflektierenden oder zumindest refle xionserhöhenden Beschichtung versehen sein. Insbesondere kann eine metallische oder hochbrechende Beschichtung vorgesehen sein. The microreflectors can be provided with a reflective or at least reflection-enhancing coating. In particular, a metallic or high-refractive coating may be provided.
In einer weiteren Ausgestaltung kann auf den Mikroreflektoren eine farb- kippende Beschichtung ausgebildet sein. Die farbkippende Beschichtung kann insbesondere als Dünnschichtsystem bzw. Dünnfilm-Interferenz- Beschichtung ausgebildet sein. In a further refinement, a color-tilting coating can be formed on the microreflectors. The color-shifting coating can be designed in particular as a thin-layer system or thin-film interference coating.
In einer Ausgestaltung ist ein Wertdokument, beispielsweise eine Banknote, ein Ausweisdokument, ein Scheck, eine elektronisch auslesbare Karte etc. als Wertdokument mit einem Sicherheitselement der genannten Art ausgestaltet. Zur Herstellung des Sicherheitselementes wird ein flächiges Substrat, das aufgrund dieser Form eine Hauptebene definiert, mit Mikroreflektoren ver- sehen, die diejenigen Eigenschaften haben, welche oben mit Bezug auf das Sicherheitselement erläutert wurden. In one embodiment, a value document, for example a banknote, an identity document, a check, an electronically readable card, etc., is configured as a value document with a security element of the type mentioned. To produce the security element, a planar substrate, which defines a main plane on account of this shape, is provided with microreflectors which have the properties which were explained above with reference to the security element.
Bei dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren kann ferner der Schritt des Beschichtens der Mikroreflektoren vorgesehen sein. Die Mikroreflek- toren können mit einer reflektierenden oder zumindest reflexionserhöhen- den Beschichtung versehen werden. In the production method according to the invention, the step of coating the microreflectors may also be provided. The microreflectors can be provided with a reflective or at least reflection-enhancing coating.
Zur Erzeugung der höhenmodulierten Oberfläche des Substrats können be- kannte Mikrostrukturierungsverfahren verwendet werden, wie z.B. Präge- verfahren. So können beispielsweise auch mit aus der Halbleiterfertigung bekannten Verfahren (Photolithographie, Elektronenstrahllithographie, La- serstrahllithographie, etc.) geeignete Strukturen in Resistmaterialien belich- tet, eventuell veredelt, abgeformt und zur Fertigung von Prägewerkzeugen verwendet werden. Es können bekannte Verfahren zur Prägung in thermo plastische Folien oder in mit strahlungshärtenden Lacken beschichtete Folien eingesetzt werden. Das Substrat kann mehrere Schichten aufweisen, die sukzessive aufgebracht und gegebenenfalls strukturiert werden und/ oder kann aus mehreren Teilen zusammengesetzt werden. For the generation of the height-modulated surface of the substrate, known microstructuring methods may be used, e.g. Embossing process. For example, suitable structures in resist materials can also be exposed, possibly refined, shaped and used for the production of embossing tools with methods known from semiconductor production (photolithography, electron beam lithography, laser beam lithography, etc.). Known processes for embossing in thermoplastic films or in films coated with radiation-curing paints can be used. The substrate can have a plurality of layers, which are applied successively and optionally structured and / or can be composed of several parts.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen, die ebenfalls erfindungswe- sentliche Merkmale offenbaren, noch näher erläutert. Diese Ausführungsbei- spiele dienen lediglich der Veranschaulichung und sind nicht als einschrän kend auszulegen. Beispielsweise ist eine Beschreibung eines Ausführungs beispiels mit einer Vielzahl von Elementen oder Komponenten nicht dahin- gehend auszulegen, dass alle diese Elemente oder Komponenten zur Imple- mentierung notwendig sind. Vielmehr können andere Ausführungsbeispiele auch alternative Elemente und Komponenten, weniger Elemente oder Kom ponenten oder zusätzliche Elemente oder Komponenten enthalten. Elemente oder Komponenten verschiedener Ausführungsbespiele können miteinander kombiniert werden, sofern nichts anderes angegeben ist. Modifikationen und Abwandlungen, welche für eines der Ausführungsbeispiele beschrieben werden, können auch auf andere Ausführungsbeispiele anwendbar sein. Zur Vermeidung von Wiederholungen werden gleiche oder einander entspre- chende Elemente in verschiedenen Figuren mit gleichen Bezugszeichen be- zeichnet und nicht mehrmals erläutert. In den Figuren zeigen: The invention will be explained in more detail by means of exemplary embodiments with reference to the attached drawings, which likewise disclose inventive features. These exemplary embodiments are for illustrative purposes only and are not to be construed as limiting. For example, a description of an embodiment with a plurality of elements or components is not to interpret that all these elements or components are necessary for implementation. Rather, other embodiments may also include alternative elements and components, fewer elements or components, or additional elements or components. Elements or components of various embodiments may be combined with each other unless otherwise specified. Modifications and modifications described for one of the embodiments may also be applicable to other embodiments. To avoid repetition, identical or corresponding elements in different figures are denoted by the same reference numerals and are not explained several times. In the figures show:
Fig. 1 eine Draufsicht auf eine Banknote mit einem Sicherheitselement, Fig. 2 eine schematische Darstellung der Struktur des Sicherheitselemen tes der Fig. 1, 1 is a plan view of a banknote with a security element, Fig. 2 is a schematic representation of the structure of the Sicherheitsselemen TES of FIG. 1,
Fig. 3A und 3B schematische Darstellungen von Motiven, welche das 3A and 3B are schematic representations of motifs which the
Sicherheitselement der Fig. 2 in verschiedenen Ausführungsformen einem Betrachter in Draufsicht präsentiert und die beim Kippen des Security element of FIG. 2 in various embodiments presented to a viewer in plan view and the tilting of the
Sicherheitselementes unterschiedlich erscheinen, Security element appear differently,
Fig. 4 bis 6 die Erscheinung verschiedene Ausführungsformen des Sicher- heitselements in unterschiedlichen Kippwinkelbereichen, 4 to 6 show the appearance of different embodiments of the security element in different tilt angle ranges,
Fig. 7A und 7B Darstellungen von Ausführungsformen des Sicher heits- elementes zur Verdeutlichung von Kippwinkelbereichen und Fig. 8 eine weitere Ausführungsform des Sicherheitselements mit den Eigenschaften gemäß Fig. 3A bis 7B. 7A and 7B representations of embodiments of the security element for clarification of tilt angle ranges and 8 shows a further embodiment of the security element with the properties according to FIGS. 3A to 7B.
Fig. 1 zeigt schematisch eine Banknote B mit einem Sicherheitselement S. Die Banknote B ist auf einem Banknotenpapier gedruckt, und das Sicherheits- element S ist als Folienelement ausgestaltet, welches auf das Bankno tenpa- pier aufgebracht wurde. Aufgrund der flächigen Ausgestaltung des Sicher heitselementes S und der Banknote B legt das Sicherheitselement S eine Flauptebene H fest, die in Fig. 1 mit der Zeichnungsebene zusammenfällt. 1 schematically shows a banknote B with a security element S. The banknote B is printed on a banknote paper, and the security element S is configured as a film element which has been applied to the banknote paper. Due to the planar configuration of the security element S and the banknote B, the security element S defines a level of the catchment H, which coincides in FIG. 1 with the plane of the drawing.
Das Sicherheitselement S verfügt über eine Vielzahl von Mikroreflektoren, die dem Betrachter in Draufsicht Motive 7, 8, 9 präsentieren, je nach Auf sichtsrichtung bzw. Kippung des Sicherheitselementes S. Fig. 3A zeigt sche matisch eine Draufsicht auf das Sicherheitselement S. Dabei sind die Motive 7, 8, 9 gestrichelt gezeichnet, da ihre Erscheinung von der Betrachtung in ei nem Kippwinkelbereich abhängt. Die Motive 7, 8, 9 erscheinen nie alle gleichzeitig, sondern während des Kippens, wie nachfolgend anhand der Figuren 4A bis 7B erläutert wird. Das Motiv 7 ist z.B. ein Stern, der an einer Stelle 10 erscheint. Das Motiv 8 ist im Ausführungsbeispiel ein Ring, der an einer zur Stelle 10 lateral versetzten Stelle 11 erscheint. Die Stelle bezeichnet den vom jeweiligen Motiv in Draufsicht bedeckten Flächenbereich. Das Mo tiv 9 ist z.B. ein längserstreckter Streifen, der sich während des Kippens in einer Richtung eines Doppelpfeils bewegt, der in Fig. 3 ebenfalls eingetragen ist. Welches der Motive 7, 8, 9 präsentiert wird bzw. welcher Zustand des Bewegungseffektes für das Motiv 9 vorliegt, kann der Betrachter dadurch einstellen, dass er das Sicherheitselement S um eine Achse Al kippt, die in der Hauptebene H angeordnet ist. Fig. 3B zeigt eine Abwandlung, bei der das Motiv 8 entfällt. Ansonsten entspricht das Sicherheitselement S dem der Fig. 3A. The security element S has a multiplicity of microreflectors, which present the viewer in plan view motifs 7, 8, 9, depending on the viewing direction or tilting of the security element S. FIG. 3A shows schematically a top view of the security element S. In this case, FIGS Motifs 7, 8, 9 drawn by dashed lines, since their appearance depends on the consideration in a tipping angle range. The motifs 7, 8, 9 never appear all at the same time, but during the tilting, as will be explained below with reference to FIGS. 4A to 7B. The motif 7 is, for example, a star that appears at a location 10. The motif 8 in the exemplary embodiment is a ring which appears at a point 10 offset laterally to the point 10. The point indicates the surface area covered by the respective motif in plan view. The example 9 is, for example, an elongated strip which moves during tilting in a direction of a double arrow, which is also entered in FIG. Which of the motives 7, 8, 9 is presented or which state of the motion effect for the motif 9 is present, the observer can adjust by tilting the security element S about an axis Al, which is arranged in the main plane H. Fig. 3B shows a modification in which the motif 8 is omitted. Otherwise, the security element S corresponds to that of FIG. 3A.
Zur Erzeugung der Motive 7, 8, 9 und des Motivbewegungseffektes gemäß Fig. 3A hat das Sicherheitselement S, wie Fig. 2 zeigt, drei Mikroreflektoren- muster 1, 2, 3, die in der Ausführungsform der Fig. 2 schachbrettmusterartig ineinander verschachtelt sind, so dass sich horizontal wie waagrecht Mikro- reflektorenpixel 4 des ersten Mikroreflektorenmusters 1 mit Mikroreflek- torenpixeln 5 des zweiten Mikroreflektorenmusters 2 und Mikroreflektoren- pixel 6 des dritten Mikroreflektorenmusters 3 abwechseln. Optional ist ein bevorzugt ebenfalls verschachtelt angeordnetes (und nicht eingezeichnetes) viertes Mikroreflektorenmuster vorgesehen. Dessen Mikroreflektorenpixel sind, wie noch erläutert wird, zur Erzeugung eines Hintergrundes vorgese- hen und so angeordnet, dass sie in einem Betrachtungswinkelbereich, in dem eines, zwei oder drei der Mikroreflektorenmuster 1-3 ein Motiv zeigen, dunkel sind. To produce the motifs 7, 8, 9 and the motif movement effect according to FIG. 3A, the security element S, as FIG. 2 shows, has three microreflector patterns 1, 2, 3 which, in the embodiment of FIG. 2, are nested in one another like a checkerboard pattern, so that horizontally as horizontally microreflector pixels 4 of the first micro-reflector pattern 1 alternate with microreflector pixels 5 of the second microreflector pattern 2 and microreflector pixels 6 of the third microreflector pattern 3. Optionally, a fourth microreflector pattern, which is preferably also arranged in a nested manner (and not shown), is provided. Its micro-reflector pixels, as will be explained, are provided for generating a background and arranged to be dark in a viewing angle range in which one, two or three of the micro-reflector patterns 1-3 have a motif.
In der Ausführungsform der Fig. 3B entfällt das dritte Mikroreflektorenmus ter 3. Es sind dann nur das erste Mikroreflektorenmuster 1 und das zweite Mikroreflektorenmuster 2 und optional das Mikroreflektorenmuster für den Hintergrund vorgesehen. In the embodiment of FIG. 3B, the third microreflector pattern 3 is dispensed with. Only the first microreflector pattern 1 and the second microreflector pattern 2 and optionally the background microreflector pattern are then provided.
Nachfolgend wird die Erscheinung des Sicherheitselementes S beim Kippen anhand der Ausführungsform der Fig. 3A erläutert, also für eine Realisie rung, die sowohl das Motiv 7 als auch das Motiv 8 aufweist. Die Erläuterun gen gelten sinngemäß auch für die Ausführungsformen gemäß Fig. 3B, also Varianten ohne das Motiv 8. Fig. 4A und 4B zeigen eine Kippung des Sicherheitselementes S mit der Un- terkante der Fig. 3A nach oben und der Oberkante nach unten. Es wird dabei ein noch zu erläuternder Kippwinkelbereich W1 erreicht. In diesem Kipp- winkelbereich W1 ist in der Ausführungsform der Fig. 4A nur das Motiv 7 erkennbar. In der Ausführungsform der Fig. 4B ist zusätzlich auch das Motiv 9 zu sehen. Es hat während des Kippens, welches an der Stelle 11 das Motiv 8 verschwinden ließ, eine Bewegung von der Stelle 10 zur Stelle 11 hin ausge- führt. Dadurch entsteht die Illusion, dass das Motiv 9 das Motiv 8 von der Stelle 11 wegwischt. Das Motiv 9 ist erkennbar, wenn das Sicherheitselement sich in einem Kippwinkelbereich W2 befindet, der den ersten Kippwinkelbereich W1 nicht umfasst (Fig. 4A) oder ganz oder teilweise umfasst (Fig. 4B). The appearance of the security element S during tilting is explained below with reference to the embodiment of FIG. 3A, that is to say for a realization which has both the motif 7 and the motif 8. The explanations apply mutatis mutandis to the embodiments of FIG. 3B, ie variants without the subject. 8 FIGS. 4A and 4B show a tilting of the security element S with the lower edge of FIG. 3A upwards and the upper edge downwards. In this case, a tilting angle range W1 which is still to be explained is achieved. In this tilting angle range W1, only the motif 7 can be seen in the embodiment of FIG. 4A. In the embodiment of FIG. 4B, in addition, the motif 9 can also be seen. During the tilting, which caused the motif 8 to disappear at the point 11, it made a movement from the point 10 to the point 11. This creates the illusion that the subject 9 wipes the motif 8 from the point 11. The motif 9 can be recognized when the security element is located in a tilt angle range W2 that does not include the first tilt angle range W1 (FIG. 4A) or completely or partially (FIG. 4B).
Die Fig. 5A und 5B zeigen eine gegensinnige betragsgleiche Kippung in ei- nen dritten Kippwinkelbereich W3. Sie führt in Fig. 5A dazu, dass nur das Motiv 8 erscheint. In der Ausführungsform der Fig. 5B erscheint das Motiv 9 auch im dritten Kipp winkelber eich W3. Es hat sich während der Kippung auf die Stelle 10 und über diese hinweg bewegt, so dass die Illusion eines Wegwischens des Motivs 7 entsteht. Die Ausführungsformen der Fig. 5A und 5B unterscheiden sich wiederum darin, ob der zweite Kippwinkelbe- reich W2, in dem das Motiv 9 den Motivbewegungseffekt zeigt, den Kipp winkelbereich W3 für das Motiv 8 umfasst (Fig. 5B) oder nicht (Fig. 5A). FIGS. 5A and 5B show opposing tilting in the same amount in a third tilt angle range W3. It leads in Fig. 5A to the fact that only the subject 8 appears. In the embodiment of FIG. 5B, the motif 9 also appears in the third tilt angle E3 W3. It has moved during the tilting to the point 10 and beyond, so that the illusion of a Wegwischens the subject 7 arises. The embodiments of FIGS. 5A and 5B again differ in whether the second tilt angle range W2, in which the motif 9 shows the motif movement effect, comprises the tilt angle range W3 for the motif 8 (FIG. 5B) or not (FIG. 5A ).
Den Ausführungsformen gemäß Fig. 4A/5A und 4B/5B ist es gemein, dass mindestens in einem Zustand zwischen den Kippwinkelbereichen W1 und W3 das Motiv 9 erscheint und den Motivbewegungseffekt zeigt. Natürlich kann die Ausgestaltung gemäß Fig. 4A auch mit der Ausgestaltung gemäß Fig. 5B kombiniert werden. Gleiches gilt für die Ausgestaltungen gemäß Fig. 5A und 4B. Bei einer Kippung zwischen den beiden Kippwinkelbereichen W1 und W3 erscheint, wie Fig. 6 zeigt, das Motiv 9. Es bewegt sich mit dem Kippvorgang in der Hauptebene H, beispielsweise von der Stelle 10 des ersten Motivs 7 weg und zur Stelle 11 des dritten Motivs 8 hin. Der Flip-Effekt mit dem Wechsel zwischen den Motiven 7 und 8 wird damit durch einen Motivbewe gungseffekt des zweiten Motivs 9 unterstützt, wie er beispielsweise in den Druckschriften WO 2011/066991 A2 oder WO 2015/ 078572 Al beschrieben ist, deren Offenbarungsgehalt insoweit in die vorliegende Anmeldung auf- genommen wird, und der eine Art Wischbewegung zeigt. It is common to the embodiments according to FIGS. 4A / 5A and 4B / 5B that the motif 9 appears in at least one state between the tilt angle ranges W1 and W3 and shows the motif movement effect. Of course, the embodiment according to FIG. 4A can also be combined with the embodiment according to FIG. 5B. The same applies to the embodiments according to FIGS. 5A and 4B. When tilting between the two tilt angle ranges W1 and W3, as shown in FIG. 6, the motif 9 appears. It moves with the tilting process in the main plane H, for example away from the point 10 of the first motif 7 and to the point 11 of the third motif 8 out. The flip effect with the change between the motifs 7 and 8 is thus supported by a Motivbewe tion effect of the second motif 9, as described for example in the publications WO 2011/066991 A2 or WO 2015/078572 Al, the disclosure content extent in the present application is incorporated, and shows a kind of wiping movement.
Fig. 7 und 7B zeigen die Lage der Kippwinkelbereiche Wl, W2, W3 für die Motive 7, 9, 8. Die Kippwinkelbereiche Wl, W2, W3 sind jeweils Bereiche einer Kipplage um die Achse Al und definieren die Betrachtungswinkelbe- reiche, in denen das jeweilige Motiv präsentiert wird. Die Darstellung der Fig. 7A entspricht dabei einer Realisierung einer Kombination der Fig. 4A und 5A, die Darstellung gemäß Fig. 7B entspricht einer Realisierung, welche die Eigenschaften gemäß den Fig. 4B und 5B kombiniert. FIGS. 7 and 7B show the position of the tilt angle ranges W1, W2, W3 for the motives 7, 9, 8. The tilt angle ranges W1, W2, W3 are each areas of a tilted position about the axis A1 and define the viewing angle ranges in which respective motif is presented. The representation of FIG. 7A corresponds to a realization of a combination of FIGS. 4A and 5A, the representation according to FIG. 7B corresponds to a realization which combines the properties according to FIGS. 4B and 5B.
Der Kippwinkelbereich Wl gilt für das Motiv 7, das sich dann bei entspre- chender Kippung um die Achse Al zeigt. Er ist definiert durch einen Min- destkippwinkel bl -min und einen maximalen Kippwinkel bl-max. Diese beiden Winkel werden natürlich zu einer Achse gemessen, die zur Achse Al senkrecht steht. Erfolgt innerhalb des Kippwinkelbereichs Wl eine Kippbe- wegung um die Achse Al, zeigt sich das erste Motiv 7, das vom ersten Mikroreflektoren- bzw. Mikrospiegelmuster 1 erzeugt wird. Analoges gilt für dieselbe Kipprichtung um die Achse Al, wenn zugleich der Kippwinkel in nerhalb der entsprechenden Winkel (180°-b3-min) und (180°-b3-max) liegt, welche den zweiten Kippwinkelbereich W3 definieren. Wie man sieht, sind die beiden Kippwinkelbereiche W1 und W3 disjunkt, was zur Folge hat, dass das Motiv 7 und das Motiv 8 nie gleichzeitig erscheinen. Es tritt der bereits erwähnte Flip-Effekt auf. Zwischen dem Kippwinkelbereich W1 und dem Kippwinkelbereich W3 liegt der Kippwinkelbereich W2, in dem der Motiv bewegungseffekt des Motivs 9 auftritt und dieses Motiv 9 sichtbar ist. In der Ausführungsform gemäß Fig. 7A schließt der Kippwinkelbereich W2 direkt an die Kippwinkelbereiche W1 und W3 an. In der Ausführungsform der Fig. 7B überlappt der Kippwinkelbereich W2 sowohl mit dem Kippwinkelbereich W1 als auch mit dem Kippwinkelbereich W3. Der Überlapp kann vollständig oder teilweise sein. Auch ist ein Überlapp mit nur einem der Kippwinkelbe- reiche W1 oder W3 möglich. Dies entspräche einer Kombination beispiels weise nach Fig. 4A und Fig. 5B. Beim Kippen von bl-min nach (180°-b3-min) sieht man somit zuerst das erste Motiv 7 statisch, beim Kippwinkel bl-max verschwindet das erste Motiv 7 und es ist nur der Motivbewegungseffekt des Motivs 9 sichtbar. Dieser setzt gemäß Fig. 7B bereits innerhalb des ersten Kippwinkelbereiches W1 ein. Beim Weiterkippen durch den Kippwinkelbe reich W2 erscheint, sobald man den Kippwinkel (180-b3-max) erreicht und in den Kippwinkelbereich W3 eintritt, das zweite Motiv 8. Das Motiv 9 und sein Bewegungseffekt dauern gemäß Fig. 7B noch eine Zeit lang während des Weiter kippens an. The tilt angle range Wl applies to the motif 7, which then shows itself with the appropriate tilt about the axis Al. It is defined by a minimum tilt angle bl -min and a maximum tilt angle bl-max. These two angles are of course measured to an axis that is perpendicular to the axis Al. If a tilting movement about the axis A1 takes place within the tilt angle range W1, the first motif 7 produced by the first microreflector or micromirror pattern 1 is shown. The same applies to the same tilt direction about the axis Al, when at the same time the tilt angle is within the corresponding angle (180 ° -b3-min) and (180 ° -b3-max), which define the second tilt angle range W3. As you can see, the two tilt angle ranges W1 and W3 are disjoint, with the result that the subject 7 and the subject 8 never appear simultaneously. It occurs the already mentioned flip effect. Between the Kippwinkelbereich W1 and the Kippwinkelbereich W3 is the Kippwinkelbereich W2, in which the motive movement effect of the subject 9 occurs and this motif 9 is visible. In the embodiment of FIG. 7A, the tilt angle range W2 directly adjoins the tilt angle ranges W1 and W3. In the embodiment of FIG. 7B, the tilt angle range W2 overlaps with both the tilt angle range W1 and the tilt angle range W3. The overlap can be complete or partial. An overlap with only one of the tilt angle ranges W1 or W3 is also possible. This would correspond to a combination example as shown in FIG. 4A and FIG. 5B. When tilting from bl-min to (180 ° -b3-min), the first motif 7 is thus first static, at the tilt angle bl-max the first motif 7 disappears and only the motive movement effect of the motif 9 is visible. This already sets in accordance with FIG. 7B within the first tilt angle range W1. When further tipping by the Kippwinkelbe rich W2 appears as soon as you reach the tilt angle (180-b3-max) and enters the tilt angle range W3, the second subject 8. The subject 9 and its movement effect last for a while during the Continue to tilt.
Die Präsentation der Motive 7, 8 und 9 und der Motivbewegungseffekt des Motivs 9 sind dadurch erreicht, dass die Mikroreflektoren 4, 5 und 6 in den zugeordneten Mikroreflektorenmustern 1, 2 und 3 individuell entsprechend geneigt sind. Zum Ermitteln der entsprechenden Ausrichtungen der The presentation of the motifs 7, 8 and 9 and the motif movement effect of the motif 9 are achieved in that the microreflectors 4, 5 and 6 in the associated microreflector patterns 1, 2 and 3 are individually correspondingly inclined. To determine the appropriate alignments of
Mikroreflektoren wird in einer Ausführungsform zuerst separat für die drei Motive 7, 8, 9 und den Bewegungseffekt des Motivs 9 ein entsprechendes Reflektordesign berechnet. Hierzu wird auf den Stand der Technik verwie- sen. Einzelheiten einer solchen Berechnung können beispielsweise der Druckschrift WO 2014/060089 A2 oder der Druckschrift WO 2016/180522 Al entnommen werden, deren Offenbarungsgehalt insoweit in die vorliegende Anmeldung aufgenommen wird. Die entsprechenden Einzelpixel werden dann in den entsprechenden Spiegelsteigungsbereich verschoben, so dass die Kippwinkelbereiche Wl, W2 und W3 vorgegeben sind. Im Anschluss werden die Pixel entsprechend miteinander verschachtelt, beispielsweise schach brettartig, wie dies in Fig. 2 gezeigt ist. Die Pixelgröße entspricht dabei typi scherweise 10 bis 20 pm. In one embodiment, microreflectors first become a separate one separately for the three motifs 7, 8, 9 and the movement effect of the motif 9 Reflector design calculated. For this purpose, reference is made to the prior art. Details of such a calculation can be found, for example, in the publication WO 2014/060089 A2 or in the publication WO 2016/180522 A1, the disclosure content of which is included in the present application in this respect. The corresponding individual pixels are then shifted into the corresponding mirror slope range, so that the tilt angle ranges W1, W2 and W3 are predetermined. Subsequently, the pixels are nested together correspondingly, for example chess board-like, as shown in Fig. 2. The pixel size typically corresponds to 10 to 20 pm.
In einem besonders bevorzugten Herstellungsverfahren wird zuerst die Be rechnung der Reflektordesigns für die Motive 7 und 8 ausgeführt; es werden also die Mikroreflektorenmuster 1 und 3 berechnet. Diese können ineinander verschachtelt angeordnet werden oder lateral nebeneinanderliegen. An schließend wird diese Kombination aus Mikroreflektorenmustern 1 und 3 mit einem Mikroreflektorenmuster 2 verschachtelt, welches das Motiv 9 und dessen Motivbewegungseffekt erzeugt. Dieses Vorgehen ist insbesondere für die Ausführungsformen gemäß Fig. 4B, 5B, 7B zweckmäßig, da sich dort der Motivbewegungseffekt des Motivs 9 über die Stellen 10 und 11 erstreckt, an denen die Motive 7 und 8 erscheinen. Die Verschachtelung des Mikroreflek- torenmusters 1, 3 erlaubt es, den Wisch-Effekt auch über diese genannten Stellen 10 und 11 laufen zu lassen, so dass er besonders prägnant erscheint.In a particularly preferred manufacturing process, first the calculation of the reflector designs for the motifs 7 and 8 is carried out; that is, the microreflector patterns 1 and 3 are calculated. These can be arranged nested inside each other or laterally adjacent to each other. Subsequently, this combination of microreflector patterns 1 and 3 is interleaved with a micro-reflector pattern 2, which generates the motif 9 and its motive movement effect. This procedure is expedient in particular for the embodiments according to FIGS. 4B, 5B, 7B, since there the motive movement effect of the motif 9 extends over the points 10 and 11 at which the motives 7 and 8 appear. The interleaving of the microreflector pattern 1, 3 makes it possible to run the wiping effect also via these named points 10 and 11, so that it appears particularly concise.
In dieser Ausführungsform liegt das Flächenverhältnis der Verschachtelung von Pixeln der Mikroreflektorstrukturen 1 und 3 zu den Pixeln der Mikrore flektorstruktur 2 im Verhältnis von 30:70 bis 70:30, bevorzugt im Bereich von 40:60 bis 60:40, besonders bevorzugt bei 50:50. Alle Reflektorelemente, die in den Reflektordesigns nicht belegt sind, werden optional mit sehr steiler Steigung gegen die Hauptebene H ausgestattet, so dass sie in den jeweiligen Kippwinkelbereichen dunkel erscheinen. Hier ist eine Variation der steilen Steigungen im Sinne eines Rauschens zweckmäßig. Dies schafft das vierte Mikroreflektorenmuster für den Hintergrund. Es ent- hält entsprechende Mikroreflektoren. In this embodiment, the area ratio of the interleaving of pixels of the microreflector structures 1 and 3 to the pixels of the micro-reflector structure 2 in the ratio of 30:70 to 70:30, preferably in the range of 40:60 to 60:40, particularly preferably 50: 50th All reflector elements that are not used in the reflector designs are optionally equipped with a very steep slope against the main plane H, so that they appear dark in the respective tilt angle ranges. Here is a variation of the steep slopes in the sense of noise appropriate. This creates the fourth microreflector pattern for the background. It contains corresponding microreflectors.
Fig. 8 zeigt eine weitere Ausführungsform, die einen besonders prägnanten Effekt vermittelt. Dabei sind mehrere Anordnungen aus ersten Stellen 10 und zweiten Stellen 11 sowie zugeordneten Motiven 7 und 8 senkrecht zu einer Verbindungsgeraden A2 zwischen den Stellen 10 und 11, die parallel zur Kippachse Al ist, aufgereiht. Dabei sind jedoch abwechselnd die Stellen 10 und 11 mit den zugeordneten Motiven vertauscht. Somit ergeben sich in der Ausführungsform der Fig. 8 vier Reihen, die jeweils ein Paar aus Stelle 10 und Stelle 11 bzw. Motiv 7 und Motiv 8 umfassen, wobei in den Reihen zwei und vier die Anordnung der Stellen 10 und 11 gegenüber den Reihen eins und drei gespiegelt sind. Beim Kippen um die Achse Al erscheinen somit zuerst alle Motive 7, die dann in einem zick-zack-artigen Muster angeordnet sind. Kippt man aus dem Kippwinkelbereich W1 heraus, erscheint die Wischbewegung des Motivs 9 in Richtung des Pfeiles. Diese Wischbewegung verläuft bei den Reihen eins und drei von rechts nach links, bei den Reihen zwei und vier von links nach rechts. Sie läuft also jeweils vom verschwin denden Motiv 7, 8 weg und zum erscheinenden Motiv 7, 8 hin, das dann sichtbar wird, wenn die Kippung in den Kippwinkelbereich W3 fortgeschrit- ten ist. In allen Ausführungsformen wird der Wischeffekt verstärkt, wenn der Mo- tivbewegungseffekt das Motiv 9 mindestens teilweise über die Stelle führt, an der beim Kippen das Motiv 7, 8 verschwindet. Die Mikroreflektoren der Motive 7 bzw. 8 können hier insbesondere wie in der Druckschrift WO 2016/1802522 Al beschrieben realisiert sein. Zur Ver stärkung des Effektes liegen demnach die von oben nach unten abwechselnd sichtbaren Motive 7 bzw. 8 gegenüber der Hauptebene H perspektivisch nach oben verschoben bzw. oberhalb der Hauptebene H schwebend (Quer- schraffur für das Motiv 8 bzw. Diagonalschraffur für das Motiv 7 von links unten nach rechts oben) bzw. nach unten gegenüber der Hauptebene H ab gesenkt bzw. unterhalb der Hauptebene H schwebend (Senkrechtschraffur für das Motiv 8 bzw. Diagonalschraffur für das Motiv 7 von links oben nach rechts unten). Die Motive 7 und 8 wechseln somit nicht nur durch einen Flip- Effekt, sie wechseln zugleich auch ihre Lage gegenüber der Hauptebene. Ein Motiv, das vorher perspektivisch unter der Hauptebene H erschien, wechselt im Flip-Effekt mit einem anderen Motiv an anderer Stelle, das gegenüber der Hauptebene H erhoben erscheint. Diese Eigenschaften, also die Anordnung gegensinnig wechselnder Motive und das Absenken bzw. Anheben gegen- über der Hauptebene sind natürlich vorteilhaft zu einem besonders prägnan ten Effekt verknüpft, könnten jedoch auch einzeln eingesetzt werden. Fig. 8 shows a further embodiment, which gives a particularly significant effect. In this case, a plurality of arrangements of first locations 10 and second locations 11 and associated motifs 7 and 8 perpendicular to a connecting straight line A2 between the points 10 and 11, which is parallel to the tilt axis Al, lined up. In this case, however, the points 10 and 11 are alternately reversed with the associated motifs. Thus, in the embodiment of FIG. 8, there are four rows, each comprising a pair of location 10 and location 11 and motif 7 and motif 8, respectively, wherein in rows two and four the locations of locations 10 and 11 relative to rows one and three are mirrored. When tilting about the axis Al, all the motifs 7 appear first, which are then arranged in a zig-zag-like pattern. If one tilts out of the tilt angle range W1, the wiping movement of the motif 9 appears in the direction of the arrow. This swipe moves in rows one and three from right to left, in rows two and four from left to right. It therefore runs away from the disappearing motive 7, 8 and towards the appearing motif 7, 8, which then becomes visible when the tilting has progressed into the tilt angle range W3. In all embodiments, the wiping effect is enhanced if the motive movement effect at least partially guides the motif 9 over the point at which the motif 7, 8 disappears during tilting. The microreflectors of the motifs 7 and 8 can be realized here in particular as described in the publication WO 2016/1802522 A1. In order to strengthen the effect, the motifs 7 and 8, alternately visible from top to bottom, are shifted upwards in perspective or above the main plane H (cross-hatching for the motif 8 or diagonal-hatching for the motif 7 of FIG lower left to upper right) or downwards relative to the main plane H down or below the main plane H floating (vertical hatching for the motif 8 or diagonal hatching for the motif 7 from top left to bottom right). The motifs 7 and 8 thus change not only by a flip effect, they also change their position relative to the main plane. A motif that previously appeared in perspective below the main plane H, changes in flip effect with another motif elsewhere, which appears raised against the main plane H. These properties, ie the arrangement of oppositely changing motifs and the lowering or lifting relative to the main plane are of course linked advantageously to a particularly concise effect but could also be used individually.
Alternativ können die Mikroreflektoren des Motivs 7 und/ oder des Motivs 8 wie in der Druckschrift WO 2014/ 060089 A2 realisiert sein. Alternatively, the microreflectors of the motif 7 and / or the motif 8 can be realized as in the document WO 2014/060089 A2.
Gleichermaßen muss es sich bei dem Flip-Effekt nicht um einen Wechsel un terschiedlicher Motive handeln. Vielmehr ist auch ein simpler Ortswechsel ein und desselben Motivs, beispielsweise eines Sterns oder Rings, zwischen den Stellen 10 und 11 möglich. Likewise, the flip effect does not have to be a change of different motives. Rather, it is also a simple change of location one and the same motif, such as a star or ring, between the points 10 and 11 possible.
Sämtliche Ausführungsformen des Sicherheitselementes können als Folien- elemente, als Folienelemente auf Fensteraussparungen oder als Sicherheits- faden realisiert werden. Sie können dabei auf Papier- oder Polymerbankno- ten sowohl auf der Vorder- als auch auf der Rückseite angebracht werden. Gleiches gilt für Sicherheitsdokumente, Ausweispapiere etc. All embodiments of the security element can be realized as foil elements, as foil elements on window recesses or as security threads. They can be mounted on paper or polymer banknotes on both the front and the back. The same applies to security documents, identity papers etc.
Bezug eichenlisteReference to oak list
1,2,3 Mikroreflektorenmuster 1,2,3 micro-reflector pattern
4, 5,6 Mikroreflektorenpixel  4, 5.6 microreflector pixels
7,8,9 Motiv  7,8,9 motif
10, 11 Stelle  10, 11 place
Wl, W2, W3 Kippwinkelbereich  Wl, W2, W3 tilt angle range
bl -min Kippwinkel bl -min tilt angle
bl-max Kippwinkel bl-max tilt angle
b3-min Kippwinkel b3-min tilt angle
b3-max Kippwinkel b3-max tilt angle
Al Achse  Al axle
A2 Gerade  A2 straight
B Banknote  B banknote
H Hauptebene  H main level
S Sicherheitselement  S security element

Claims

P a t e n t a n s p r ü c h e Patent claims
1. Flächiges Sicherheitselement mit Mikroreflektoren zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, wobei das flächige Sicherheitselement eine Hauptebene definiert und die Mikroreflek toren in einem Mikroreflektorenmuster angeordnet sind und in Draufsicht auf das flächige Sicherheitselement beim Kippen um eine Achse ein erstes und ein zweites Motiv präsentieren, wobei das erste Motiv nur in einem ersten Kippwinkelbereich und das zweite Motiv in einem zweiten Kippwinkelbereich wahrnehmbar ist, wobei das erste Motiv an einer ersten Stelle er scheint, 1. A flat security element with microreflectors for the production of documents of value such as banknotes, checks or the like, wherein the planar security element defines a main plane and the Mikroreflek gates are arranged in a Mikroreflektorenmuster and in plan view of the planar security element when tilting about an axis a first and a present second motif, wherein the first motif is perceptible only in a first tilt angle range and the second motif in a second tilt angle range, wherein the first motif at a first location he seems,
d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass d a d u r c h e c e n c i n e s that
das zweite Motiv während einer Kippbewegung, die aus dem ersten Kipp winkelbereich, in dem das erste Motiv erkennbar ist, heraus und durch den zweiten Kippwinkelbereich führt, einen Motivbewegungseffekt zeigt, der in der Hauptebene oder parallel zu ihr verläuft, und das zweite Motiv sich zu mindest für einen Teil des zweiten Kippwinkelbereichs außerhalb der ersten Stelle bewegt. the second motif during a tilting movement, which leads out of the first tilt angle range in which the first motif is recognizable out and through the second tilt angle range shows a motif movement effect that runs in the main plane or parallel to it, and the second motif to at least for a portion of the second tilt angle range out of the first position.
2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Motivbewegungseffekt eine Formänderung des zweiten Motivs umfasst, wobei sich die Form des zweiten Motivs insbesondere kontinuierlich oder schrittweise, bevorzugt in drei oder mehr Schritten, ändert, und/ oder dass der Motivbewegungseffekt zumindest teilweise orthoparallaktisch ist. 2. Security element according to claim 1, characterized in that the motif movement effect comprises a change in shape of the second motif, wherein the shape of the second motif in particular continuously or stepwise, preferably in three or more steps, changes, and / or that the motif movement effect at least partially orthoparallaktisch is.
3. Sicherheitselement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Mikroreflektorenmuster in Draufsicht auf das flächige Sicherheits element beim Kippen um die Achse auch ein drittes Motiv präsentiert, wobei das dritte Motiv nur in einem dritten Kippwinkelbereich wahrnehm bar ist, das dritte Motiv an einer zweiten Stelle erscheint, die lateral versetzt zu der ersten Stelle ist, an der das erste Motiv erscheint. 3. Security element according to claim 1 or 2, characterized in that the microreflector pattern in plan view of the planar security element when tilting about the axis also presents a third motif, wherein the third motif is perceptible bar only in a third Kippwinkelbereich, the third motif appears at a second location laterally offset from the first location where the first motif appears.
4. Sicherheitselement nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass erster und dritter Kippwinkelbereich disjunkt sind. 4. Security element according to claim 3, characterized in that the first and third tilt angle range are disjoint.
5. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass der zweite Kippwinkelbereich mit dem ersten Kippwin- kelbereich und/ oder, soweit vorhanden, auch mit dem dritten Kippwinkel bereich überlappt, bevorzugt vollständig. 5. The security element according to one of the above claims, characterized in that the second tilt angle range overlaps with the first tilt angle range and / or, if present, also with the third tilt angle range, preferably completely.
6. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Kippwinkelbereich in einem Winkelbereich von ± 5°, bevorzugt von ± 10°, besonders bevorzugt ± 20° zur Senkrechten auf die Hauptebene liegt. 6. The security element according to claim 1, characterized in that the second tilt angle range is in an angular range of ± 5 °, preferably ± 10 °, more preferably ± 20 ° to the perpendicular to the main plane.
7. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass der Motivbewegungseffekt das zweite Motiv so ver schiebt, dass es sich von dem verschwindendem Motiv weg oder auf das verschwundene Motiv hin bewegt. 7. Security element according to one of the above claims, characterized in that the motif movement effect pushes the second motif so ver that it moves away from the vanishing motive or on the disappeared motif.
8. Sicherheitselement nach Anspruch 3 und optional zusätzlich einem oder mehreren der Ansprüche 4 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass eine Verbindungsgerade zwischen erster und zweiter Stelle längs der Achse liegt, bevorzugt parallel. 8. Security element according to claim 3 and optionally additionally one or more of claims 4 to 7, characterized in that a connecting line between the first and second position along the axis, preferably in parallel.
9. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass das zweite Motiv eine sich in der Hauptebene bewegende Linienstruktur umfasst, die längserstreckt ist und sich im Motivbewegungs- effekt längs der Achse bewegt. 9. Security element according to one of the above claims, characterized in that the second motif is moving in the main plane A line structure that is elongated and moves in the motive movement effect along the axis.
10. Sicherheitselement nach der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeich net, dass das zweite Motiv eine sich in der Hauptebene bewegende Linien struktur umfasst, die sich im Motivbewegungseffekt in einem Winkel zur Achse von weniger als ± 45° bewegt. 10. The security element according to claims 1 to 8, characterized in that the second motif comprises a moving line in the main plane structure, which moves in the motive movement effect at an angle to the axis of less than ± 45 °.
11. Sicherheitselement nach Anspruch 3 und optional zusätzlich einem oder mehreren der Ansprüche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Motivbewegungseffekt des zweiten Motivs in Draufsicht auf das Sicherheitselement in einem Flächenbereich verläuft, der mindestens teilweise zwischen der ersten Stelle und der zweiten Stelle liegt. 11. The security element according to claim 3 and optionally additionally one or more of claims 4 to 10, characterized in that the motive movement effect of the second motif extends in plan view of the security element in a surface region which lies at least partially between the first location and the second location.
12. Sicherheitselement nach Anspruch 3 und optional zusätzlich einem oder mehreren der Ansprüche 4 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Motiv senkrecht zur Hauptebene angehoben erscheint und das zweite Motiv gegenüber zur Hauptebene abgesenkt erscheint. 12. The security element according to claim 3 and optionally additionally one or more of claims 4 to 11, characterized in that the first motif appears raised perpendicular to the main plane and the second motif appears lowered relative to the main plane.
13. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass das Mikroreflektorenmuster ein Mikroreflektorenhinter grundmuster aufweist, dessen Mikroreflektoren gegenüber der Hauptebene vorzugsweise so geneigt sind, dass sie bei Kippen des Sicherheitselements im ersten und zweiten Kippwinkelbereich und, soweit vorhanden, im dritten Kippwinkelbereich dunkel erscheinen und so einen Objekthintergrund bil den. 13. A security element according to any one of the above claims, characterized in that the micro-reflector pattern has a Mikroreflektorenhinter basic pattern, the micro-deflectors are preferably inclined relative to the main plane that they tilt the security element in the first and second tilt angle range and, if present, in the third Kippwinkelbereich appear dark and thus form an object background.
14. Wertdokument mit einem Sicherheitselement nach einem der Ansprü che 1 bis 13. 14. document of value with a security element according to one of Ansprü che 1 to 13.
15. Herstellungsverfahren für ein flächiges Sicherheitselement zur Her- Stellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, wobei ein flächiges, aufgrund dieser Form eine Hauptebene definierendes Substrat mit Mikroreflektoren versehen wird, die in einem Mikroreflek- torenmuster angeordnet sind und ein erstes und ein zweites Motiv präsentieren, wobei das erste Motiv nur in einem ersten Kippwinkelbereich und das zweite Motiv in einem zweiten Kippwinkelbereich wahrnehmbar ist, wobei das erste Motiv an einer ersten Stelle erscheint, 15. A production method for a planar security element for producing value documents, such as banknotes, checks or the like, wherein a planar, due to this form a main plane defining substrate is provided with microreflectors, which are arranged in a microreflector torenmuster and a first and a present second motif, wherein the first motif is perceptible only in a first tilt angle range and the second motif in a second tilt angle range, wherein the first motif appears at a first location,
d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass d a d u r c h e c e n c i n e s that
das zweite Motiv während einer Kippbewegung, die aus dem ersten Kippwinkelbereichs, in dem das erste Motiv erkennbar ist, heraus und durch den zweiten Kippwinkelbereich führt, einen Motivbewegungseffekt zeigt, der in der Hauptebene oder parallel zu ihr verläuft, und das zweite Motiv sich zumindest für einen Teil des zweiten Kippwinkelbereichs außerhalb der ersten Stelle bewegt.  the second motif during a tilting movement, which out of the first tilt angle range, in which the first subject is recognizable out and leads through the second tilt angle range shows a motive movement effect, which runs in the main plane or parallel to it, and the second motif at least for moves a part of the second tilt angle range out of the first position.
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