EP2901214A1 - Illuminateur de dispositif de photolithographie permettant la diffraction controlee - Google Patents

Illuminateur de dispositif de photolithographie permettant la diffraction controlee

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Publication number
EP2901214A1
EP2901214A1 EP13766352.2A EP13766352A EP2901214A1 EP 2901214 A1 EP2901214 A1 EP 2901214A1 EP 13766352 A EP13766352 A EP 13766352A EP 2901214 A1 EP2901214 A1 EP 2901214A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
diaphragms
illuminator
shutter
plane
condenser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP13766352.2A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Bertrand PLAINCHAMP
Renaud Mercier Ythier
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Safran Electronics and Defense SAS
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Sagem Defense Securite SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd, Sagem Defense Securite SA filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Publication of EP2901214A1 publication Critical patent/EP2901214A1/fr
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/095—Refractive optical elements
    • G02B27/0955—Lenses
    • G02B27/0961—Lens arrays
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds

Definitions

  • the present invention relates to an illuminator of a photolithography device, and such a photolithography device.
  • Photolithography is a technique used for the fabrication of semiconductor devices, using electromagnetic radiation to generate fine patterns on semiconductor devices.
  • an illuminator of a photolithography device illuminates a mask whose image is projected onto a semiconductor wafer (also known as the "wafer").
  • a known illuminator generally comprises a diffractive optical element 1 (also called a "diffractive optical element” or DOE) which is illuminated by a source 1 'of illumination.
  • a diffractive optical element 1 also called a "diffractive optical element” or DOE
  • the source 1 'of illumination is for example a laser source.
  • the element 1 can be any element generally used to produce diffraction, such as for example a two-dimensional matrix of spherical microlenses, a Fresnel lens, a diffraction grating, etc.
  • the element acts as an optical diffuser and its main function is to produce at its output a pupil of general pattern wanted, for example in the form of disk or ring.
  • the illuminator comprises at the output of the element 1 a zoom 2 formed of several lenses.
  • the function of the zoom 2 is to bring the image of the exit pupil of the element 1 to a finite distance and to be able to vary it in dimension.
  • a matrix L1 of micro-lenses consisting of a flat blade comprising two faces facing one another, and on each face being formed an array of spherical or cylindrical microlenses.
  • the matrix L1 of microlenses breaks down the incident beam, at the exit of zoom 2, into a multitude of sub-beams. In other words, the exit pupil of the matrix L1 is decomposed into sub-exit pupils.
  • a second L2 matrix of microlenses is disposed downstream of the first L1, so that the L1 L2 system is afocal.
  • a third L3 matrix of microlenses is disposed downstream of the second L2.
  • a shutter 3 consisting of a plate or a grid in which openings are provided at regular intervals.
  • the shutter 3 may comprise two plates 31, 32 displaced in synchronism with the movements of the mask 7 and w slice to be illuminated in a direction orthogonal to the optical axis, or two directions orthogonal to the optical axis and where appropriate between them.
  • the shutter 3 makes it possible to control the dose, the image format, and the illumination profile on the mask 7. It is in this respect positioned in a conjugate plane of the focal plane of a condenser 5, the mask 7 being disposed slightly downstream thereof. This makes it possible to prevent light from being transmitted outside the desired field, generating stray light on the wafer during illumination.
  • the fact that the mask is slightly defocused with respect to the focal plane of the condenser makes it possible to improve the control of the dose by smoothing temporal variations of energies of the light pulses.
  • the network system L1 L2 upstream of the shutter 3 is afocal makes it possible to limit the size of the sub-pupil output of the system illuminating the shutter.
  • the image focal point of the third L3 matrix of microlenses is located at the object focus of a condenser 5, in order to make the illuminator telecentric, that is to say so that the exit pupil of the illuminator is at the infinite.
  • the condenser 5, meanwhile, comprises a plurality of lenses for superimposing at the mask sub-beams from matrices L1 L2.
  • An apodization device 6 is also placed between the condenser 5 and the mask 7.
  • the shutter 3 is positioned in a conjugate plane of the focal plane of the condenser to ensure a clear closure of the light beam 10.
  • Such an illuminator provides in particular good results for the light beam in one dimension, i.e. when the shutter of the light beam must be made along a first axis in the plane of the shutter.
  • the telecentricity condition of the illuminator requires the shutter 3 to be positioned at the object focus of the microlens matrix L3 in the directions of the two shutter axes.
  • the condition of sharpness of the image of the shutter on the mask requires that the image focus of the microlens matrix L3 is positioned at the object focus of the condenser in both directions.
  • microlens matrix L3 have the same focal length in both directions.
  • focal length of the microlenses being of the same order of magnitude as the thickness of said microlenses, it is geometrically impossible to ensure obtaining this result, and thus to ensure perfect conjugation between the microlenses. shutter and mask in both directions.
  • the shutter causes a diffraction phenomenon which makes it difficult to obtain a clear image of the shutter in the plane of the condenser, and therefore on the mask. More particularly, the diffraction of the light by the grid diffuses the light beam in an opening greater than the opening of the sub-beams from the microlens matrices L1 L2. This results in two negative consequences:
  • the light coming from the shutter may not pass through the good microlens of the matrix L3, creating crosstalk between the sub-beams 100 and interference phenomena on the mask.
  • the diffraction by the shutter leads to increase the opening of the sub-beams at the input of the third matrix of microlenses L3.
  • a larger aperture limits the object depth of field of the microlens matrix L3, which increases the sensitivity to a defocusing of the shutter with respect to the object focal plane of this matrix L3. The setting of the illuminator is thus made more complex.
  • the invention proposes to overcome at least one of the above problems.
  • a photolithographic device illuminator comprising:
  • an optical system for homogenization comprising at least one microlens array, said system being disposed upstream of the condenser, and
  • the illuminator further comprising a network of aperture diaphragms disposed in the plane of the Fourier transform, or Fourier plane, of the plane of the shutter.
  • the invention is further supplemented by at least one of the following features:
  • the aperture diameters of the diaphragms and the coherence factors of the light rays passing through said diaphragms vary from one diaphragm to another.
  • the aperture diameters of the diaphragms and the coherence factors of the light rays are variable between two adjacent diaphragms, the distribution of the aperture diameters of the diaphragms is random, the variations of the aperture diameters from one diaphragm to the other are between 0 and 50%, and preferably between 0 and 30%.
  • the image focal plane of the homogenization optical system is disposed at the object focal plane of the condenser.
  • the invention further relates to a photolithography device comprising a mask and an illuminator according to the invention, wherein the shutter of the illuminator is positioned in a conjugate plane of the image focal plane of the condenser.
  • the invention has many advantages.
  • An illuminator according to the invention fulfills the conditions of conjugation between the shutter and the mask to be illuminated both in a first direction orthogonal to the optical axis, but also in a second direction orthogonal to the optical axis, and preferably orthogonal to the first.
  • an illuminator according to the invention makes it possible to control the effect of the diffraction related to the shutter so as to increase the sharpness of the image of the shutter on the mask.
  • the control of the opening also makes it possible to make the third microlens matrix L3 less sensitive to a defocusing of the grid with respect to its object focal plane, which facilitates the assembly and adjustment of the illuminator according to the invention.
  • FIGS. 2a, 2b and 2c show schematically different embodiments of an illuminator according to the invention
  • FIG. 3 represents the relative dispositions of the microlens matrices downstream of the shutter
  • FIG. 4 represents the image of a slit of the shutter in the object focal plane of the condenser as a function of the coherence of light beams passing through a network of diaphragms.
  • Figures 2a to 2c show schematically part of an illuminator according to the invention.
  • the illuminator comprises a source 1 'of a light beam 10, for example a laser source, a diffractive element 1 placed at the output of the source 1', and a zoom 2 (these elements are not represented in Figures 2b and 2c).
  • the beam 10 comprises, at its output from the afocal system L1 L2, a plurality of sub-beams 100 constituting sub-pupils of the output of the afocal system L1 L2.
  • the illuminator comprises a shutter 3, represented in the form of two grids 31, 32, and positioned at the level of the exit pupils of the afocal system L1 L2.
  • a homogenization optical system 4 comprising a third microlensed matrix L3 is placed downstream of the shutter 3, so that it is placed in the object focal plane of the homogenization optical system 4.
  • the illuminator also comprises a condenser 5 which makes it possible to superimpose, at the level of a photolithography mask 7, the sub-beams 100 coming from the afocal system L1 L2, an apodization device 6 being provided between the condenser 4 and the plane in which the mask 7 is positioned.
  • the focal plane object of the condenser 5 is advantageously arranged at the image focal plane of the homogenization system 4 to ensure the sharpness of the image of the shutter on the mask.
  • a photolithography device comprising such an illuminator also comprises a mask 7 disposed on an edge w to be etched, the shutter being arranged in the conjugate plane of the image focal plane of the condenser 5, it being understood that in use, a projection optic the image of the mask 7 on the slice w.
  • the homogenization system of the illuminator according to the invention makes it possible to obtain the sharpness and the telecentricity of the illuminator in two distinct directions, orthogonal to the optical axis. These directions are advantageously orthogonal to each other.
  • the homogenization system making it possible to obtain this result comprises, in addition to the third microlens matrix L3, a fourth matrix of microlenses L4.
  • FIG. 3 Schematically shows the shutter 3, located at the object focus P of the homogenization system, and the image focal plane F 'of this system, to be located to the object focal plane FC of the condenser, in both directions X and Y.
  • the conditions of sharpness and telecentricity are ensured if the homogenization optical system has the same focal plane object and image in both directions X and Y.
  • each micro-lens matrix is in the form of a plane blade comprising two faces 310, 320, 410, 420 facing one another, a plurality of cylindrical microlenses being etched on at least one one of said faces.
  • the microlens matrix L3 comprises microlenses on each of its faces 310, 320, the microlenses being cylindrical, the axes of the microlenses of one face being orthogonal to the axes of the microlenses of the other face.
  • the axes of the microlenses of the two faces are orthogonal to the optical axis so that the light rays reach the microlenses by their cylindrical surfaces.
  • the microlens matrix L4 comprises cylindrical microlenses only on its first face 410 with respect to the direction of propagation of the luminous flux, the other face 420 being flat so as not to deflect the light rays in any direction.
  • the axes of the cylinders of the microlenses are oriented so that, in a first direction, for example the Y direction, the homogenization system behaves as a convergent lens 31 disposed at the first face of the matrix L3.
  • the plane of the shutter P is then at the object focal plane of said lens 31, and the object focal plane of the condenser FC is at the focal plane F 'of said lens.
  • the axes of the cylindrical lenses of the first face of the microlens matrix L3 extend orthogonally to the direction Y, while the axes of the other cylindrical lenses (ie those of the second face of the matrix L3 and the first face of the matrix L4) extend parallel to the direction Y, so as not to deflect the propagation of the light beams in the direction Y.
  • the axes of the cylinders of the microlenses are oriented parallel to the first direction Y, for the homogenization system 4 to behave as a system comprising:
  • a diverging lens 41 at the first face of the matrix L4 the plane of the shutter being at the object focal plane of the convergent lens 32, and the object focal plane of the condenser being at the image focal plane F 'of the system.
  • the lenses are dimensioned in a manner known to those skilled in the art so that their respective focal distances make it possible to obtain such a result.
  • the positioning of the two microlens matrices L3 and L4, and the dimensioning of the lenses composing them, makes it possible to obtain a homogenization system 4 having the same focal length in both directions.
  • the illuminator comprises, in order to control the diffraction phenomena at the output of the shutter, an array 8 of aperture diaphragms disposed in the plane of the Fourier transform, or Fourier plane, from the plane P of the shutter.
  • this network comprises a plurality of diaphragms 80, each diaphragm 80 being disposed facing a corresponding microlens 40 of an adjacent matrix of the homogenization system.
  • the homogenization system 4 comprises only an L3 matrix of microlenses; the network of diaphragms is then in the focal plane image of the matrix L3 of microlens, the diaphragms being opposite microlenses of this matrix L3.
  • FIG. 2c the use of a network 8 of diaphragms with a homogenization system 4 comprising two microlens arrays L3 L4 has been combined as previously described with reference to FIG. 2a.
  • the diaphragm network 8 is disposed between the two microlens matrices L3 and L4, in the plane of F ', this plane being the Fourier plane of the plane of the shutter.
  • the diaphragms are located opposite the microlenses of the matrices L4 and L3 of microlenses.
  • the presence of diaphragms makes it possible to avoid the crosstalk phenomena between the sub-beams 100 of the light beam.
  • the array 8 of diaphragms also makes it possible to increase the depth of field sufficiently to make the accuracy of the illuminator less sensitive to a defocusing of the shutter with respect to the object focal plane of the homogenization system, and thus to facilitate the fabrication and the setting of the illuminator.
  • the aperture diameter of a diaphragm is of the order of magnitude of a microlens.
  • a microlens may have a diameter of the order of 0.5 mm, and an opening diameter may be of the order of 0.1 mm.
  • the diffraction correction resulting from the presence of the shutter by the network of aperture diaphragms depends on certain parameters of the illuminator.
  • the sharpness of the image depends on the coherence factor of the illumination of the network of diaphragms.
  • the curve drawn for a "partially coherent" beam corresponds to a coherence factor of 0.3
  • the slot is disposed at 25 mm, the transparent portion of the slot being less than 25 mm, and the opaque portion after 25 mm.
  • the light intensity is represented as a percentage of the intensity of the incident beam. Theoretically, this intensity is equal to 100% at the level of the transparent part of the slot and falls to 0% at the level of the opaque part.
  • the case where the beam is partially coherent is an intermediate case, providing a good compromise between the two previous cases. More specifically, an advantageous configuration is ensured when the beam has a coherence factor of between 0.2 and 0.8.
  • microlens matrix L3 of the homogenization system ⁇ the angle of illumination of the shutter with respect to the optical axis, and b the aperture diameter of the diaphragms.
  • the variations of the aperture diameters from one diaphragm to the other are between 0 and 50%, and preferably between 0 and 30%.
  • the aperture diameters of the diaphragms advantageously follow a random statistical distribution, irrespective of the illumination of the shutter. This makes it possible to average the diffraction phenomena, for example even locally for a given sub-beam 100.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

L'invention concerne un illuminateur de dispositif photo lithographique, comprenant: une source d'un faisceau lumineux, un condenseur (5), un système optique d'homogénéisation (4), comprenant au moins une matrice de microlentilles, ledit système étant disposé en amont du condenseur, et un obturateur (3), disposé au foyer objet du système optique d'homogénéisation, l'illuminateur étant caractérisé en ce qu'il comporte en outre un réseau de diaphragmes d'ouverture (8), disposé dans le plan de la transformée de Fourier du plan de l'obturateur (3). L'invention concerne également un dispositif de photolithographie comprenant un tel illuminateur.

Description

ILLUMINATEUR DE DISPOSITIF DE PHOTOLITHOGRAPHIE PERMETTANT LA
DIFFRACTION CONTROLEE
DOMAINE TECHNIQUE DE L'INVENTION
La présente invention concerne un illuminateur d'un dispositif de photolithographie, et un tel dispositif de photolithographie. ETAT DE L'ART
La photolithographie est une technique utilisée pour la fabrication de dispositifs semiconducteurs, en utilisant un rayonnement électromagnétique pour générer des motifs fins sur les dispositifs semiconducteurs. A cet effet, un illuminateur d'un dispositif de photolithographie illumine un masque dont l'image est projetée sur une tranche semiconductrice (également connue sous le nom anglais de « wafer »).
En référence à la figure 1 , un illuminateur connu comporte généralement un élément optique diffractif 1 (également appelé « diffractive optical élément » ou DOE en anglais) qui est illuminé par une source 1 ' d'illumination.
La source 1 ' d'illumination est par exemple une source laser.
L'élément 1 peut être n'importe quel élément généralement utilisé pour produire de la diffraction, comme par exemple une matrice en deux dimensions de microlentilles sphériques, une lentille de Fresnel, un réseau de diffraction, etc. L'élément joue le rôle d'un diffuseur optique et a pour fonction principale de produire à sa sortie une pupille de motif général voulu, par exemple en forme de disque ou d'anneau.
L'illuminateur comporte en sortie de l'élément 1 un zoom 2 formé de plusieurs lentilles. La fonction du zoom 2 est de ramener l'image de la pupille de sortie de l'élément 1 à une distance finie et de pouvoir la faire varier en dimension.
En sortie du zoom 2 est disposée une matrice L1 de micro-lentilles, constituée d'une lame plate comprenant deux faces en regard l'une de l'autre, et sur chaque face étant formé un réseau de microlentilles sphériques ou cylindriques. La matrice L1 de microlentilles décompose le faisceau incident, en sortie du zoom 2, en une multitude de sous faisceaux. En d'autres termes, la pupille de sortie de la matrice L1 est décomposée en sous-pupilles de sortie.
Une deuxième matrice L2 de microlentilles est disposée en aval de la première L1 , de sorte que le système L1 L2 soit afocal.
Une troisième matrice L3 de microlentilles est disposée en aval de la deuxième L2. Au foyer objet de cette troisième matrice L3 est positionné un obturateur 3, constitué d'une plaque ou d'une grille dans laquelle sont aménagées des ouvertures à intervalles réguliers. Alternativement, l'obturateur 3 peut comprendre deux plaques 31 , 32, déplacées en synchronisme avec les déplacements du masque 7 et de la tranche w à éclairer selon une direction orthogonale à l'axe optique, ou deux directions orthogonales à l'axe optique et le cas échéant entre elles. On pourra se référer au document WO2007/028793 pour plus de détails sur la réalisation de cet obturateur.
Dans tous les cas, l'obturateur 3 permet de contrôler la dose, le format image, et le profil d'illumination sur le masque 7. Il est à cet égard positionné dans un plan conjugué du plan focal d'un condenseur 5, le masque 7 étant disposé légèrement en aval de celui-ci. Ceci permet d'éviter que de la lumière soit transmise en dehors du champ souhaité, générant de la lumière parasite sur la tranche en cours d'illumination. Le fait que le masque soit légèrement défocalisé par rapport au plan focal du condenseur permet d'améliorer le contrôle de la dose en lissant des variations temporelles d'énergies des impulsions lumineuses.
Le fait que le système de réseaux L1 L2 en amont de l'obturateur 3 soit afocal permet de limiter la taille des sous-pupilles de sortie du système éclairant l'obturateur. Il existe ainsi une zone non éclairée, située entre les microlentilles des faisceaux, où la partie opaque de l'obturateur 3 peut se positionner sans intercepter le faisceau lorsque le champ image doit être complètement éclairé. Ceci permet une coupure franche des sous-faisceaux en sortie de l'obturateur et une obturation nette au niveau du masque.
Le foyer image de la troisième matrice L3 de microlentilles est situé au foyer objet d'un condenseur 5, afin de rendre l'illuminateur télécentrique, c'est-à-dire afin que la pupille de sortie de l'illuminateur soit à l'infini. Le condenseur 5, quant à lui, comporte une pluralité de lentilles permettant de superposer au niveau du masque les sous-faisceaux issus des matrices L1 L2. Un dispositif d'apodisation 6 est également placé entre le condenseur 5 et le masque 7.
Comme précédemment indiqué, l'obturateur 3 est positionné dans un plan conjugué du plan focal du condenseur pour assurer une obturation nette du faisceau lumineux 10.
Un tel illuminateur fournit notamment de bons résultats pour le faisceau lumineux selon une dimension, i.e. lorsque l'obturation du faisceau lumineux doit être faite selon un premier axe dans le plan de l'obturateur.
Cependant, dans l'hypothèse où l'obturation doit être faite selon deux axes du plan de l'obturateur, notamment deux axes perpendiculaires à l'axe optique et perpendiculaires entre eux, des problématiques d'imagerie se posent.
En effet, la condition de télécentricité de l'illuminateur impose que l'obturateur 3 soit positionné au foyer objet de la matrice de microlentilles L3 dans les directions des deux axes d'obturation. D'autre part, la condition de netteté de l'image de l'obturateur sur le masque impose que le foyer image de la matrice de microlentilles L3 soit positionné au foyer objet du condenseur dans les deux directions.
Ces deux conditions imposent que la matrice de microlentilles L3 ait la même distance focale selon les deux directions. Or, dans ce type d'illuminateur, la distance focale des microlentilles étant du même ordre de grandeur que l'épaisseur desdites microlentilles, il est géométriquement impossible d'assurer l'obtention de ce résultat, et donc de garantir une parfaite conjugaison entre l'obturateur et le masque dans les deux directions.
D'autre part, l'obturateur provoque un phénomène de diffraction qui rend difficile l'obtention d'une image nette de l'obturateur dans le plan du condenseur, et donc sur le masque. Plus particulièrement, la diffraction de la lumière par la grille diffuse le faisceau lumineux selon une ouverture plus grande que l'ouverture des sous-faisceaux issus des matrices de microlentilles L1 L2. Il en résulte deux conséquences négatives :
- Si la diffraction est trop importante, la lumière issue de l'obturateur peut ne pas passer par la bonne microlentille de la matrice L3, créant de la diaphonie entre les sous-faisceaux 100 et des phénomènes d'interférence sur le masque. La diffraction par l'obturateur conduit à augmenter l'ouverture des sous- faisceaux en entrée de la troisième matrice de microlentilles L3. Or, une ouverture plus grande limite la profondeur de champ objet de la matrice de microlentilles L3, ce qui augmente la sensibilité à une défocalisation de l'obturateur par rapport au plan focal objet de cette matrice L3. Le réglage de l'illuminateur est donc rendu plus complexe.
PRESENTATION DE L'INVENTION
L'invention propose de pallier au moins l'un des problèmes ci-dessus.
A cet effet, on propose selon l'invention un illuminateur de dispositif photolithographique, comprenant :
- une source d'un faisceau lumineux,
- un condenseur,
- un système optique d'homogénéisation, comprenant au moins une matrice de microlentilles, ledit système étant disposé en amont du condenseur, et
- un obturateur, disposé au foyer objet du système optique d'homogénéisation,
l'illuminateur comportant en outre un réseau de diaphragmes d'ouverture, disposé dans le plan de la transformée de Fourier, ou plan de Fourier, du plan de l'obturateur.
Avantageusement, mais facultativement, l'invention est en outre complétée par au moins l'une des caractéristiques suivantes :
- le réseau de diaphragmes d'ouverture comporte une pluralité de diaphragmes disposés en regard des microlentilles d'une matrice du système optique d'homogénéisation, chaque diaphragme du réseau de diaphragmes étant disposé en regard d'une microlentille correspondante, la distance focale fi d'une première matrice de microlentilles du système optique d'homogénéisation par rapport à la direction de l'axe optique, l'angle d'éclairage Θ de l'obturateur, et le diamètre d'ouverture b des diaphragmes sont adaptés pour que les rayons lumineux franchissant les diaphragmes présentent un facteur de cohérence σ = b compris entre 0,2 et 0,8.
les diamètres d'ouverture des diaphragmes et les facteurs de cohérence des rayons lumineux franchissant lesdits diaphragmes varient d'un diaphragme à l'autre.
les diamètres d'ouverture des diaphragmes et les facteurs de cohérence des rayons lumineux sont variables entre deux diaphragmes adjacents, la distribution des diamètres d'ouverture des diaphragmes est aléatoire, les variations des diamètres d'ouverture d'un diaphragme à l'autre sont comprises entre 0 et 50%, et de préférence entre 0 et 30%.
le plan focal image du système optique d'homogénéisation est disposé au plan focal objet du condenseur.
L'invention concerne en outre un dispositif de photolithographie comportant un masque et un illuminateur selon l'invention, dans lequel l'obturateur de l'illuminateur est positionné dans un plan conjugué du plan focal image du condenseur.
L'invention présente de nombreux avantages.
Un illuminateur selon l'invention remplit les conditions de conjugaison entre l'obturateur et le masque à illuminer à la fois dans une première direction orthogonale à l'axe optique, mais aussi dans une seconde direction orthogonale à l'axe optique, et de préférence orthogonale à la première.
En outre, un illuminateur selon l'invention permet de contrôler l'effet de la diffraction liée à l'obturateur de manière à augmenter la netteté de l'image de l'obturateur sur le masque. Le contrôle de l'ouverture permet en outre de rendre moins sensible la troisième matrice de microlentilles L3 à une défocalisation de la grille par rapport à son plan focal objet, ce qui facilite le montage et le réglage de l'illuminateur selon l'invention. PRESENTATION DES FIGURES
D'autres caractéristiques, buts et avantages de l'invention ressortiront de la description qui suit, qui est purement illustrative et non limitative, et qui doit être lue en regard des dessins annexés sur lesquels :
La figure 1 , déjà décrite, représente schématiquement un illuminateur connu de l'état de la technique ;
Les figure 2a, 2b, et 2c représentent schématiquement différentes réalisations d'un illuminateur selon l'invention ;
- La figure 3 représente les dispositions relatives des matrices de microlentilles en aval de l'obturateur,
La figure 4 représente l'image d'une fente de l'obturateur dans le plan focal objet du condenseur en fonction de la cohérence de faisceaux lumineux traversant un réseau de diaphragmes.
DESCRIPTION DETAILLEE D'AU MOINS UN MODE DE REALISATION DE L'INVENTION
Description générale de l'illuminateur
Les figures 2a à 2c montrent schématiquement une partie d'un illuminateur selon l'invention.
Sur la figure 2a, l'illuminateur comporte une source 1 ' d'un faisceau lumineux 10, par exemple une source laser, un élément diffractif 1 placé en sortie de la source 1 ', et un zoom 2 (ces éléments ne sont pas représentés en figures 2b et 2c).
II comporte en outre un système afocal L1 L2 constitué d'une première et d'une seconde matrice de microlentilles L1 et L2 en sortie du zoom 2.
Le faisceau 10 comprend, à sa sortie du système afocal L1 L2, une pluralité de sous-faisceaux 100, constituant des sous-pupilles de sortie du système afocal L1 L2.
L'illuminateur comporte un obturateur 3, représenté sous la forme de deux grilles 31 , 32, et positionné au niveau des pupilles de sorties du système afocal L1 L2. Un système optique d'homogénéisation 4 comportant une troisième matrice L3 de microlentilles est placé en aval de l'obturateur 3, de sorte que celui-ci soit disposé dans le plan focal objet du système optique d'homogénéisation 4.
L'illuminateur comporte également un condenseur 5 qui permet de superposer au niveau d'un masque 7 de photolithographie les sous-faisceaux 100 issus du système afocal L1 L2, un dispositif d'apodisation 6 étant prévu entre le condenseur 4 et le plan dans lequel le masque 7 est positionné.
Le plan focal objet du condenseur 5 est avantageusement disposé au plan focal image du système d'homogénéisation 4 pour assurer la netteté de l'image de l'obturateur sur le masque.
Un dispositif de photolithographie comprenant un tel illuminateur comprend également un masque 7 disposé sur une tranche w à graver, l'obturateur étant disposé dans le plan conjugué du plan focal image du condenseur 5, étant entendu qu'en utilisation, une optique de projection fait l'image du masque 7 sur la tranche w.
Système d'homogénéisation
Le système d'homogénéisation de l'illuminateur selon l'invention permet d'obtenir la netteté et la télécentricité de l'illuminateur dans deux directions distinctes, orthogonales à l'axe optique. Ces directions sont avantageusement orthogonales l'une à l'autre. A titre d'exemple non limitatif, on note, dans les figures
2a à 2c, Z l'axe optique, X un axe selon une première direction orthogonale à l'axe optique et orthogonale au plan de coupe des figures, et Y un axe selon une seconde direction orthogonale à l'axe optique et à l'axe X.
Le système d'homogénéisation permettant d'obtenir ce résultat comprend, outre la troisième matrice de microlentilles L3, une quatrième matrice de microlentilles L4.
Les configurations relatives des matrices de microlentilles L3 et L4 sont représentées en figure 3. On a représenté schématiquement l'obturateur 3, situé au foyer objet P du système d'homogénéisation, et le plan focal image F' de ce système, devant être situé au plan focal objet FC du condenseur, dans les deux directions X et Y. Les conditions de netteté et de télécentricité sont assurées si le système optique d'homogénéisation présente les mêmes plans focaux objet et image dans les deux directions X et Y.
Pour ce faire, chaque matrice de microlentilles se présente sous la forme d'une lame plane comprenant deux faces 310, 320, 410, 420 en regard l'une de l'autre, une pluralité de microlentilles cylindriques étant gravée sur au moins l'une desdites faces.
Plus précisément, la matrice de microlentilles L3 comporte des microlentilles sur chacune de ses faces 310, 320, les microlentilles étant cylindriques, les axes des microlentilles d'une face étant orthogonaux aux axes des microlentilles de l'autre face.
Les axes des microlentilles des deux faces sont orthogonaux à l'axe optique pour que les rayons lumineux parviennent aux microlentilles par leurs surfaces cylindriques.
Quant à la matrice de microlentilles L4, elle ne comporte des microlentilles cylindriques que sur sa première face 410 par rapport à la direction de propagation du flux lumineux, l'autre face 420 étant plane pour ne dévier les rayons lumineux dans aucune direction.
Les axes des cylindres des microlentilles sont orientés de sorte que, dans une première direction, par exemple la direction Y, le système d'homogénéisation se comporte comme une lentille convergente 31 disposée au niveau de la première face de la matrice L3. Le plan de l'obturateur P est alors au plan focal objet de ladite lentille 31 , et le plan focal objet du condenseur FC est au plan focal image F' de ladite lentille.
Pour obtenir ce résultat, les axes des lentilles cylindriques de la première face de la matrice de microlentilles L3 s'étendent orthogonalement à la direction Y, tandis que les axes des autres lentilles cylindriques (i.e. celles de la deuxième face de la matrice L3 et de la première face de la matrice L4) s'étendent parallèlement à la direction Y, de manière à ne pas dévier la propagation des faisceaux lumineux selon la direction Y.
Ceci permet d'obtenir la netteté et la télécentricité de l'illuminateur dans la première direction Y.
Quant à la deuxième direction, en l'occurrence la direction X, les axes des cylindres des microlentilles sont orientés parallèlement à la première direction Y, pour que le système d'homogénéisation 4 se comporte comme un système comprenant :
une lentille convergente 32 au niveau de la deuxième face de la matrice L3, et
- une lentille divergente 41 au niveau de la première face de la matrice L4, le plan de l'obturateur étant au plan focal objet de la lentille convergente 32, et le plan focal objet du condenseur étant au plan focal image F' du système.
Les lentilles sont dimensionnées de façon connue de l'homme du métier pour que leurs distances focales respectives permettent d'obtenir un tel résultat.
Ainsi, le positionnement des deux matrices de microlentilles L3 et L4, et le dimensionnement des lentilles les composant permet d'obtenir un système d'homogénéisation 4 présentant la même distance focale dans les deux directions.
Diaphragmes
En référence à la figure 2b, l'illuminateur comprend, afin de contrôler les phénomènes de diffraction en sortie de l'obturateur, un réseau 8 de diaphragmes d'ouverture, disposé dans le plan de la transformée de Fourier, ou plan de Fourier, du plan P de l'obturateur.
De préférence, ce réseau comprend une pluralité de diaphragmes 80, chaque diaphragme 80 étant disposé en regard d'une microlentille 40 correspondante d'une matrice adjacente du système d'homogénéisation.
Dans la figure 2b, le système d'homogénéisation 4 ne comprend qu'une matrice L3 de microlentilles ; le réseau de diaphragmes se trouve alors au plan focal image de la matrice L3 de microlentille, les diaphragmes étant en regard des microlentilles de cette matrice L3.
Dans la figure 2c, on a combiné l'utilisation d'un réseau 8 de diaphragmes avec un système d'homogénéisation 4 comprenant deux matrices de microlentilles L3 L4 comme décrit précédemment en référence à la figure 2a.
Dans ce cas, le réseau de diaphragme 8 est disposé entre les deux matrices de microlentilles L3 et L4, dans le plan de F', ce plan étant le plan de Fourier du plan de l'obturateur. Les diaphragmes se trouvent en regard des microlentilles des matrices L4 et L3 de microlentilles.
Ainsi, en cas de diffraction en sortie de l'obturateur 3, la présence de diaphragmes permet d'éviter les phénomènes de diaphonie entre les sous-faisceaux 100 du faisceau lumineux. Le réseau 8 de diaphragmes permet également d'augmenter suffisamment la profondeur de champ pour rendre la précision de l'illuminateur moins sensible à une défocalisation de l'obturateur par rapport au plan focal objet du système d'homogénéisation, et ainsi faciliter la fabrication et le réglage de l'illuminateur.
Avantageusement, le diamètre d'ouverture d'un diaphragme est de l'ordre de grandeur d'une microlentille. Par exemple, une microlentille peut présenter un diamètre de l'ordre de 0.5 mm, et un diamètre d'ouverture peut être de l'ordre de 0.1 mm.
La correction de la diffraction résultant de la présence de l'obturateur par le réseau de diaphragmes d'ouverture dépend de certains paramètres de l'illuminateur. Notamment, la netteté de l'image dépend du facteur de cohérence de l'éclairage du réseau de diaphragmes.
En référence à la figure 4, on montre l'image d'un bord d'une fente de l'obturateur au niveau du plan focal image du condenseur, pour différents facteurs de cohérence. Dans la figure ;
la courbe tracée pour un faisceau « cohérent » correspond à un facteur de cohérence nul,
la courbe tracée pour un faisceau « partiellement cohérent » correspond à un facteur de cohérence de 0.3, et
la courbe tracée pour un faisceau « incohérent » correspond à un facteur de cohérence égal à 1.
En abscisse est donnée une position géométrique en mm par rapport à la fente. La fente est disposée à 25 mm, la partie transparente de la fente se trouvant à moins de 25 mm, et la partie opaque se trouvant après 25 mm.
En ordonnée, l'intensité lumineuse est représentée, en pourcentage de l'intensité du faisceau incident. Théoriquement, cette intensité est égale à 100% au niveau de la partie transparente de la fente et tombe à 0% au niveau de la partie opaque.
Or pour un faisceau totalement cohérent, des figures d'interférence apparaissent au niveau du coté transparent de la fente, donnant l'aspect sinusoïdal de l'intensité à ce niveau. Ces interférences disparaissent dans le cas où le faisceau est totalement incohérent, cette amélioration se produisant toutefois au détriment de la transition entre la partie opaque et la partie transparente de la fente, à 25 mm.
Le cas où le faisceau est partiellement cohérent est un cas intermédiaire, fournissant un bon compromis entre les deux cas précédents. Plus spécifiquement, une configuration avantageuse est assurée quand le faisceau présente un facteur de cohérence compris entre 0.2 et 0.8.
Le facteur de cohérence s'écrit σ = 2flSm(e), où fi est la distance focale de la
b
matrice de microlentilles L3 du système d'homogénéisation, Θ l'angle d'éclairage de l'obturateur par rapport à l'axe optique, et b le diamètre d'ouverture des diaphragmes. Ainsi la valeur du facteur de cohérence est obtenue en ajustant les valeurs de ces trois paramètres.
On observe toutefois sur la figure 4 que des oscillations de l'intensité lumineuse subsistent au niveau de la partie transparente de la fente. Afin de moyenner ces oscillations, on prévoit avantageusement de faire varier les diamètres d'ouverture des diaphragmes, modifiant ce faisant le facteur de cohérence. De préférence, les diamètres des diaphragmes varient y compris entre deux diaphragmes adjacents.
Les variations des diamètres d'ouverture d'un diaphragme à l'autre sont comprises entre 0 et 50%, et de préférence entre 0 et 30%.
En outre, les diamètres d'ouverture des diaphragmes suivent avantageusement une répartition statistique aléatoire, et ce, quelle que soit l'illumination de l'obturateur. Cela permet de moyenner les phénomènes de diffraction, par exemple même localement pour un sous-faisceau 100 donné.

Claims

REVENDICATIONS
1 . Illuminateur de dispositif photolithographique, comprenant :
- une source (1 ') d'un faisceau lumineux,
- un condenseur (5),
- un système optique d'homogénéisation (4), comprenant au moins une matrice de microlentilles (L3, L4), ledit système étant disposé en amont du condenseur,
- un obturateur (3), disposé au foyer objet du système optique d'homogénéisation, et
l'illuminateur étant caractérisé en ce qu'il comporte en outre un réseau de diaphragmes d'ouverture (8), disposé dans le plan de la transformée de Fourier du plan de l'obturateur (3).
2. Illuminateur selon la revendication 1 , dans lequel le réseau de diaphragmes d'ouverture (8) comporte une pluralité de diaphragmes disposés en regard des microlentilles d'une matrice (L3, L4) du système optique d'homogénéisation (4), chaque diaphragme du réseau de diaphragmes étant disposé en regard d'une microlentille correspondante.
3. Illuminateur selon la revendication 1 , dans lequel la distance focale fi d'une première matrice de microlentilles (L3) du système optique d'homogénéisation (4) par rapport à la direction de l'axe optique, l'angle d'éclairage Θ de l'obturateur, et le diamètre d'ouverture b des diaphragmes sont adaptés pour que les rayons lumineux franchissant les diaphragmes présentent un facteur de cohérence σ = 2 ι^η(θ) compris entre 0,2 et 0,8.
4. Illuminateur selon la revendication précédente, dans lequel les diamètres d'ouverture des diaphragmes et les facteurs de cohérence des rayons lumineux franchissant lesdits diaphragmes varient d'un diaphragme à l'autre.
5. Illuminateur selon la revendication 4, dans lequel les diamètres d'ouverture des diaphragmes et les facteurs de cohérence des rayons lumineux sont variables entre deux diaphragmes adjacents.
6. Illuminateur selon l'une des revendications 4 ou 5, dans lequel la distribution des diamètres d'ouverture des diaphragmes est aléatoire.
7. Illuminateur selon l'une des revendications 4 à 6, dans lequel les variations des diamètres d'ouverture d'un diaphragme à l'autre sont comprises entre 0 et 50%, et de préférence entre 0 et 30%.
8. Illuminateur selon l'une des revendications précédentes, dans lequel le plan focal image du système optique d'homogénéisation (4) est disposé au plan focal objet du condenseur (5).
9. Dispositif de photo-lithographie comportant un masque (7) et un illuminateur selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'obturateur (3) de l'illuminateur est positionné dans un plan conjugué du plan focal image du condenseur (5) de l'illuminateur.
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