EP2409343A2 - Hybrid molecular memory with high charge retention - Google Patents

Hybrid molecular memory with high charge retention

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Publication number
EP2409343A2
EP2409343A2 EP10712458A EP10712458A EP2409343A2 EP 2409343 A2 EP2409343 A2 EP 2409343A2 EP 10712458 A EP10712458 A EP 10712458A EP 10712458 A EP10712458 A EP 10712458A EP 2409343 A2 EP2409343 A2 EP 2409343A2
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
group
spacer
redox
silicon oxide
silicon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP10712458A
Other languages
German (de)
French (fr)
Inventor
Régis BARATTIN
Guillaume Delapierre
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Original Assignee
Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Commissariat a lEnergie Atomique CEA, Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA filed Critical Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Publication of EP2409343A2 publication Critical patent/EP2409343A2/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/701—Organic molecular electronic devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
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    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
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    • H10K85/30—Coordination compounds
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    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane

Definitions

  • the invention relates to a silicon substrate functionalized with molecules with redox properties, a method for its manufacture and a hybrid system of molecular memory comprising it.
  • the object of the invention is to further improve the retention of the charge of the redox molecule on the surface and to limit the dissipation of this charge towards the silicon surface.
  • the invention provides a substrate comprising a silicon layer coated on at least one of its surfaces with a layer of silicon oxide, the silicon oxide layer being functionalized with R groups having redox properties characterized in that what he understands moreover at least one spacer E, one end of which is bonded to the silicon oxide layer and the other end of which is bound to a R group.
  • the spacer E is a linear or branched C 1 to C 30 alkyl chain, optionally comprising heteroatoms, and / or aryl groups, and / or amino functions, and / or ester functions, and / or oxyamine functions, and / or oxyme functions, and / or optionally substituted by halogen atoms, the alkyl chain being saturable or unsaturated, provided that when the alkyl chain contains unsaturations, it does not include conjugated unsaturations allowing a delocalization of the electrons on the whole of the spacer E.
  • the spacer E has the following formula I:
  • the spacer E has the following formula II:
  • the redox group R having redox properties is chosen from naphthalene, nitrobenzene, hydroquinone, ferrocene, porphyrin, poly-oxometallate and fullerene and the combinations of these
  • the silicon oxide layer has a thickness between 0.5 nm and 5 nm inclusive.
  • the silicon layer is doped silicon.
  • the invention also proposes a method of manufacturing a substrate according to the invention characterized in that it comprises the following steps: a) bonding to a layer of silicon oxide deposited on a silicon layer of a spacer E of the following formula III:
  • F1 is a reactive group capable of binding to the silicon oxide layer
  • F2 is a reactive group capable of binding to the reactive group F3 of a redox molecule comprising a redox group R
  • X is a hydrocarbon chain, by reaction of the reactive group F1 with the silicon oxide layer, and b) binding of the spacer E 'to the redox group R by reacting the reactive group F3 with the reactive group F2.
  • the Fl reactive group is (alkoxy-C 3) silane.
  • the reactive group F2 is an azide group and the reactive group F3 of the redox molecule is an alkyne group.
  • the spacer group E ' has one of the following formulas:
  • the reactive group F2 is an alkyne group and the reactive group F3 is an azide group.
  • the reactive group F1 is a triazene group, a precursor of the reactive diazonium function.
  • the reactive group F 2 is a COOH group and the reactive group F 3 is an NH 2 group.
  • the spacer E ' has the following formula:
  • n 3 or 7.
  • step a) is carried out before step b).
  • step b) can also be advantageously performed before step a).
  • the invention also proposes a hybrid system of molecular memory characterized in that it comprises a silicon substrate according to the invention or obtained by the process according to the invention.
  • the invention is based on the discovery that indirect grafting, ie via the use of an organic spacer molecule, of a redox molecule on a surface of a layer of silicon oxide placed on a silicon substrate makes it possible to use the device obtained as a strongly increased charge retention molecular memory device.
  • the silicon device or substrate according to the invention consists of or comprises 4 components: a silicon layer, - a silicon oxide layer coating at least one surface of the silicon layer, a redox group, noted R in the following, and a spacer, noted E in the following, linking the redox group to the silicon oxide layer.
  • redox molecule a molecule comprising a redox group R, having reversible oxidation and reduction properties, and a reactive group F3 capable of reacting with a reactive group F2 of the spacer E 'to form a bond.
  • the redox group may be bonded to the reactive group F3 by a hydrocarbon chain, denoted spacer E "in the following, redox group R: group which is effectively grafted onto the silicon oxide layer of the substrate of the invention by the intermediate of the spacer E, after the reaction of the reactive group F3 with the reactive group F2 of the spacer E ', spacer E ': precursor of the spacer E consisting of a hydrocarbon chain comprising at one end a reactive group F1 capable of bonding to the silicon oxide layer and at another end a reactive group F2 capable of reacting with the reactive group F3 of the redox molecule, spacer E: organic molecule comprising a hydrocarbon chain whose one end is bonded to the silicon oxide layer and the other end is bonded to the redox group of the redox molecule; when the redox molecule is composed of the redox group R bonded to the reactive group F3 by an E "spacer, the spacer E is the hydrocarbon chain bonded to the silicon layer and to the
  • the spacer E makes it possible to increase the retention of the charge of the redox group R and to enhance the positive effect of the effect of the increase in charge retention already due to the presence of the silicon oxide layer.
  • the results of this study show that an increase in the thickness of the silicon oxide layer results in a decrease in the electron transfer between the redox center and the silicon surface. The same effect is observable on the charge retention time.
  • the retention time increases to more than 2000 seconds.
  • the substrate according to the invention is constituted by a silicon layer of which at least one surface is covered with a silicon oxide layer, a spacer E being bonded at one end to a surface at this silicon oxide layer and at the other end to a redox group R.
  • the spacer E used in the invention is any organic spacer which can be bonded to a silicon oxide surface.
  • the spacer E is obtained by grafting onto the silicon oxide surface by silanization reaction of the spacer E '.
  • the spacer E ', precursor of the spacer E therefore, preferably, at one end, a (C 1 -C 3 ) alkoxy silane functionality, and more preferably trimethoxysilane.
  • This method of grafting by silanization reaction makes it possible to obtain a stable and homogeneous monolayer of spacers, thus presenting on its surface a reactive reactive group, the F2 group, for the coupling of the redox group R.
  • the spacer E ' is preferably chosen from: (H 3 CO) 3 Si
  • the spacer E ' can be grafted onto the surface of the silicon oxide layer via fl phosphonate or phosphate reactive groups.
  • spacers comprising or equipped with a reactive group Fl which is a diazonium group
  • the spacer E ' comprises at one end a diazonium group or a triazene function which will then be converted into a diazonium group.
  • the reactive groups Fl and F2 present at each end of the spacer E ' are separated, e.g., by an alkyl chain Ci to C 3 0, linear or branched, optionally including heteroatoms such as oxygen, nitrogen or sulfur.
  • the alkyl chain may also comprise aryl groups, and / or amide functions, and / or ester functions, and / or oxyamine functions, and / or oxymime functions.
  • the alkyl chain may also be substituted, or for example by halogens, such as Cl, F, and I.
  • the alkyl chain may be saturated or unsaturated. However, it is preferable to avoid that this alkyl chain comprises conjugated unsaturations so as not to favor an electronic transport.
  • any redox group used in the hybrid systems of molecular memories is usable.
  • ferrocenes, porphyrins, poly-oxometallates and fullerenes are particularly preferred.
  • the coupling of the redox group R on the free end of the spacer E ' will depend on the nature of the reactive group F3 of the redox molecule itself.
  • a peptide coupling when the reactive group F 2 of the spacer E 'is an NH 2 or COOH group, and the redox molecule itself has a reactive group F 3 which is respectively a COOH or NH 2 group .
  • any type of coupling involving the reaction between a nucleophile and an electrophile thiol / phthalimide, amine / aldehyde, oxyamine / aldehyde, amine / carboxylic acid, etc.
  • the thickness of the silicon oxide layer also influences the increase in the retention time of the redox charge.
  • this layer will be from a few angstroms to a few tens of nanometers, preferentially it will be between 0.5 nm and 5 nm and typically between 1 and 2 nm.
  • silicon layer itself, several types of silicon may be used such as p-doped or n-doped silicon, either in each case weakly or strongly doped.
  • redox group R the silicon will preferably be doped with boron (p-doping), that is to say enriched with electronic vacancies.
  • p-doping the silicon will have to be strongly enriched in electrons (doping with phosphorus, that is to say n-doping).
  • the substrate according to the invention has many advantages.
  • the grafting of the spacers E 'by silanization on silicon oxide makes it possible to form monolayers of spacers E dense, stable and organized.
  • This type of functionalization thus makes it possible to achieve high densities of redox groups R on the surface.
  • the developed chemical grafting strategy allows a great flexibility and a great choice of functionalization, because several parameters are modifiable.
  • various spacers E 'could be used in the context of the invention, these spacers E' having two reactive groups Fl and F2, one grafting gra on the silicon oxide layer and the other other coupling to a redox molecule.
  • the method used for producing a stack as defined above may comprise a first grafting step on the SiO 2 layer of the substrate of the invention, and then a subsequent coupling with the molecule with redox properties. . But he can also first to understand the coupling of the spacer molecule E 'with the redox molecule R and then the grafting of the entity obtained on the silicon oxide surface.
  • the spacer is first bonded via its methoxysilane group to the silicon oxide layer and the ferrocene molecule is bonded to the spacer thus grafted by reacting the chlorine reactive group of the spacer E 'with the alkyne reactive group bonded to the ferrocene molecule.
  • the spacer molecule E 'used is the undecyltrimethoxysilane azide obtained, as will be seen hereinafter, from 11-chloroundecyltrimethoxysilane.
  • the surface of a silicon substrate was coated with a 1.2 nm thick layer of silicon oxide.
  • the grafting of 11-chloroundecyltrimethoxysilane on the surface of the silicon oxide layer is carried out by silanization.
  • (MeO) 3 Si (CH 2 ) H -Cl is reacted in toluene at 80 ° C.
  • the 11-chloroundecyltrimethoxysilane is then grafted onto the surface of SiO 2 .
  • the terminal chlorine of 1,1-chloroundecyltrimethoxysilane is then converted into azide by treatment with NaN 3 in DMF at 80 ° C.
  • the redox molecule consisting of the ferrocene redox group directly attached to the reactive group F3 is introduced into the mixture in the presence of CuI, DIEA (diisopropylethylamine), and CH 2 Cl 2 .
  • the 4-component substrate according to the invention is then obtained.
  • the methodology consists in measuring two successive oxidation scans by varying the time between these two scans. During the waiting time between these two scans, no reduction voltage is applied.
  • the following scans measure the charges that have dissipated from the redox molecule to the surface. The time at which a signal corresponding to approximately half of the signal obtained during the first oxidation scan is measured is then measured.
  • Example 2 Grafting of a ferrocene group on a silicon oxide layer via the diazonium reactive group of a short-chain spacer.
  • the spacer E 'used herein has a reactive group F 2 COOH at one end and a reactive group Fl azide at the other end.
  • Electrografting is performed using a three electrode system: the working electrode is the silicon substrate to be functionalized, the reference electrode is a saturated calomel electrode and the counter electrode is a platinum electrode.
  • the diazonium solution is prepared by adding 40 ⁇ l of an 8M solution of tetrafluoroboric acid HBF 4 in water to 5 ml of a 4 mM solution of the ferrocene-triazene derivative and to 0.1 M Bu 4 carrier salt. NPFg in distilled acetonitrile.
  • the Si-SiO 2 surface is introduced into this diazonium solution.
  • a reduction potential is then applied to the surface (5 reduction sweeps from 0 to -2 V in cyclic voltammetry), allowing the reduction of the diazonium salt on the surface.
  • the surface is then washed and sonicated in dichloromethane and dried under argon.
  • the Si-SiO 2 substrate is introduced into this diazonium solution.
  • a reduction potential is then applied to the surface (5 reduction scans from 0 to 1).
  • the charge retention time is 600s and the associated electronic transfer ⁇ E is 0.471V.
  • Example 3 Grafting of a ferrocene group on a silicon oxide layer via the reactive diazonium group of a long-chain spacer.
  • the spacer E 'used has a reactive group F2, which is a COOH group, at one end, and a reactive group F1, which is a triazene group, at the other end.
  • the redox molecule is the same as that used in Example 1.
  • a mixture of iodophenyl-diethyltriazene (110 mg or 0.363 mmol), bis (triphenylphosphine) dichloropalladium (II) catalyst (11 mg or 0.016 mmol) and copper iodide CuI (4 mg or 0.020 mmol) is subjected to three empty-argon cycles. After adding 1 mL of anhydrous tetrahydrofuran and 0.25 mL of triethylamine, a solution of the precursor-alkyne (77 mg, 0.182 mmol) in anhydrous THF (2 mL) is added dropwise. The reaction mixture is then heated at 50 ° C. under an argon atmosphere for 20 h. After evaporation of the solvents under vacuum, the product is purified on silica gel (DCM / MeOH: 96/4) and is obtained in the form of an orange oil (25 mg or 23% yield).
  • the grafting is carried out on silicon macroelectrodes (p + doping) coated with a thermal oxide SiO 2 with a thickness of 1.2 nm.
  • Electrografting is performed using a three electrode system: the working electrode is the silicon substrate to be functionalized, the reference electrode is a saturated calomel electrode and the counter electrode is a platinum electrode.
  • the diazonium solution is prepared by adding 40 ⁇ l of an 8M solution of tetrafluoroboric acid HBF 4 in water to 5 mL of a 2 mM solution of the ferrocene-triazene derivative and 0.1 M Bu 4 carrier salt. MFN 6 in distilled acetonitrile.
  • the substrate obtained is introduced into this diazonium solution.
  • a reduction potential is then applied to the surface (5 reduction scans from 0 to -2 V in cyclic voltammetry), allowing the reduction of the diazonium salt on the surface.
  • the surface is then washed and sonicated in dichloromethane and dried under argon.
  • the charge retention time of the system of Example 3 is 750s.
  • the electronic transfer associated with this system, ⁇ E, is 0.922V.
  • Comparative Example 1 Grafting onto a silicon oxide layer of a ferrocene group via the same 1-carbon spacer as in Example 1.
  • the grafting of the organic spacer on the surface of the silicon substrate consisted of the hydrosilylation of the bifunctional 11-chloro-undec-1-ene spacer, which makes it possible to obtain a chlorinated-terminated monolayer.
  • This chlorinated function of the organic spacer is then converted into azide by treatment with sodium azide NaN 3 in DMF.
  • the azide function is then engaged in a 1-3 cycloaddition reaction with ethynyl-ferrocene, thus allowing the formation of a triazole in a specific and quantitative manner and ensuring the coupling of the redox molecule on the surface.
  • the charge retention time of this 3-component system was measured by the same method as in Example 1.
  • the retention time of the charge, noted V ⁇ of this substrate is about 1000 seconds, or 10 times less than with the silicon substrate according to the invention.
  • Comparative Example 2 Direct grafting of a ferrocene group on a silicon layer.
  • Example 2 The same redox molecule as in Example 1 was grafted directly onto the same substrate as in Example 1 consisting of a silicon layer.
  • Comparative Example 3 Grafting of a ferrocene group on a silicon layer via the diazonium reactive group of a short-chain spacer.
  • Comparative Example 4 Grafting a ferrocene group on a silicon layer via the diazonium group of a long-chain spacer.
  • the charge retention time of the redox molecules is increased by at least 10 times.

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Abstract

The invention relates to a silicon substrate functionalised with molecules having redox properties, the production method thereof and a hybrid molecular memory system including same. The silicon substrate includes: a layer of silicon coated on at least one surface with a layer of silicon oxide, said silicon oxide layer being functionalised with R groups having redox properties; and at least one spacer E having one end bound to the silicon oxide layer and one end bound to an R group. The invention is particularly suitable for use in the field of hybrid molecular memory systems.

Description

MEMOIRE HYBRIDE MOLECULAIRE A RETENTION DE CHARGE ELEVEE MOLECULAR HYBRID MEMORY WITH HIGH LOAD RETENTION
L'invention concerne un substrat de silicium fonctionnalisé par des molécules à propriétés redox, un procédé pour sa fabrication ainsi qu'un système hybride de mémoire moléculaire le comprenant.The invention relates to a silicon substrate functionalized with molecules with redox properties, a method for its manufacture and a hybrid system of molecular memory comprising it.
Face aux limitations rencontrées lors de la miniaturisation à l'échelle du nanomètre des mémoires flash actuelles, des technologies parallèles, telles que les systèmes hybrides de mémoire moléculaire, ont vu le jour. Ces systèmes utilisent les avantages de la technologie du silicium tout en y intégrant les propriétés intrinsèques d'édifices moléculaires. Ce type de dispositif de mémoire moléculaire utilise les propriétés des molécules pour stocker l'information.Faced with the limitations of nanoscale miniaturization of current flash memories, parallel technologies, such as hybrid molecular memory systems, have emerged. These systems use the advantages of silicon technology while incorporating the intrinsic properties of molecular structures. This type of molecular memory device uses the properties of molecules to store information.
Plus précisément, l'écriture des données s'effectue lors de l'oxydation de la molécule redox et l'effacement des données s'effectue par une réaction de réduction de la molécule redox. L'un des principaux problèmes rencontré dans le développement de ce type de dispositif est la rétention de la charge de la molécule redox sur la surface, après écriture des données. Cette caractéristique est en effet indispensable pour assurer le stockage de l'information et permettre l'utilisation de ce type de système en mémoire flash moléculaire. L'augmentation de la rétention de charge d'une molécule redox par greffage de cette molécule redox directement sur une couche d'oxyde de silicium elle- même déposée sur une surface d'un substrat de silicium, a été décrite dans Mathur et al., Properties of functionalized redox-active monolayers in thin silicon dioxide- A study of the dependence of rétention time on oxide thickness, IEEE Trans. On Nanotechn. , 2005, 4(2), 278-283.More precisely, the writing of the data takes place during the oxidation of the redox molecule and the erasure of the data is carried out by a reduction reaction of the redox molecule. One of the main problems encountered in the development of this type of device is the retention of the charge of the redox molecule on the surface, after writing the data. This characteristic is indeed essential to ensure the storage of information and allow the use of this type of system in molecular flash memory. The increase of the charge retention of a redox molecule by grafting this redox molecule directly onto a layer of silicon oxide itself deposited on a surface of a silicon substrate, has been described in Mathur et al. Properties of Functionalized Redox-active Monolayers in Thin Silicon Dioxide, A Study of the Dependence of Retention Time on Oxide Oxidation, IEEE Trans. On Nanotechn. 2005, 4 (2), 278-283.
L'invention a pour objet d'améliorer encore plus la rétention de la charge de la molécule redox sur la surface et de limiter la dissipation de cette charge vers la surface de silicium.The object of the invention is to further improve the retention of the charge of the redox molecule on the surface and to limit the dissipation of this charge towards the silicon surface.
A cet effet, l'invention propose un substrat comprenant une couche en silicium revêtue sur au moins une de ses surfaces d'une couche en oxyde de silicium, la couche en oxyde de silicium étant fonctionnalisée par des groupements R ayant des propriétés redox caractérisé en ce qu'il comprend de plus au moins un espaceur E dont une extrémité est liée à la couche d'oxyde de silicium et l'autre extrémité est liée à un groupement R.For this purpose, the invention provides a substrate comprising a silicon layer coated on at least one of its surfaces with a layer of silicon oxide, the silicon oxide layer being functionalized with R groups having redox properties characterized in that what he understands moreover at least one spacer E, one end of which is bonded to the silicon oxide layer and the other end of which is bound to a R group.
De préférence, l' espaceur E est une chaîne alkyle en Ci à C30, linéaire ou ramifiée, comprenant optionnellement des hétéroatomes, et/ou des groupements aryles, et/ou des fonctions aminés, et/ou des fonctions esters, et/ou des fonctions oxyamines, et/ou des fonctions oxymes, et/ou éventuellement substituée par des atomes d'halogène, la chaîne alkyle pouvant être saturée ou insaturée, à la condition que lorsque la chaîne alkyle comporte des insaturations, elle ne comporte pas d' insaturations conjugées permettant une délocalisation des électrons sur l'ensemble de l' espaceur E.Preferably, the spacer E is a linear or branched C 1 to C 30 alkyl chain, optionally comprising heteroatoms, and / or aryl groups, and / or amino functions, and / or ester functions, and / or oxyamine functions, and / or oxyme functions, and / or optionally substituted by halogen atoms, the alkyl chain being saturable or unsaturated, provided that when the alkyl chain contains unsaturations, it does not include conjugated unsaturations allowing a delocalization of the electrons on the whole of the spacer E.
Dans un premier mode de réalisation du substrat de l'invention, l'espaceur E a la formule I suivante :In a first embodiment of the substrate of the invention, the spacer E has the following formula I:
Formule I dans laquelle 1 < x < 20, 1 < y < 10 et 0 < z < 10 et 2 < x+y+z < 40. De préférence, dans la formule I, x = 3, y = 2 et z = 1. Mais également de préférence, dans la formule I, x = 7, y = 2 et z = 1.Formula I wherein 1 <x <20, 1 <y <10 and 0 <z <10 and 2 <x + y + z <40. Preferably, in formula I, x = 3, y = 2 and z = 1. But also preferably, in formula I, x = 7, y = 2 and z = 1.
Dans un second mode de réalisation du substrat de l'invention, l'espaceur E a la formule II suivante : In a second embodiment of the substrate of the invention, the spacer E has the following formula II:
Formule II dans laquelle 1 < w < à 30, avantageusement 3 < w < à 15 De préférence, dans la formule II, w = 11. Egalement de préférence, dans la formule II, w = 7. Toujours de préférence, dans la formule II, w = 3.Formula II wherein 1 <w <to 30, preferably 3 <w <to 15, preferably in formula II, w = 11. Also preferably in formula II, w = 7. Still preferably, in formula II, w = 3.
Dans tous les modes de réalisation du substrat de l'invention, de préférence, le groupement redox R ayant des propriétés redox est choisi parmi un naphtalène, un nitrobenzène, une hydroquinone, un ferrocène, une porphyrine, un poly-oxométallate et un fullerène et les combinaisons de ceux-ciIn all the embodiments of the substrate of the invention, preferably, the redox group R having redox properties is chosen from naphthalene, nitrobenzene, hydroquinone, ferrocene, porphyrin, poly-oxometallate and fullerene and the combinations of these
Egalement, dans tous les modes de réalisation du substrat de l'invention, de préférence, la couche d'oxyde de silicium a une épaisseur comprise entre 0,5 nm et 5 nm inclus.Also, in all embodiments of the substrate of the invention, preferably, the silicon oxide layer has a thickness between 0.5 nm and 5 nm inclusive.
De préférence la couche de silicium est en silicium dopé. L'invention propose aussi un procédé de fabrication d'un substrat selon l'invention caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : a) liaison à une couche d'oxyde de silicium déposée sur une couche de silicium d'un espaceur E' de formule III suivante :Preferably the silicon layer is doped silicon. The invention also proposes a method of manufacturing a substrate according to the invention characterized in that it comprises the following steps: a) bonding to a layer of silicon oxide deposited on a silicon layer of a spacer E of the following formula III:
Fl X F2 Formule III dans laquelle Fl est un groupe réactif apte à se lier à la couche d'oxyde de silicium, F2 est un groupe réactif apte à se lier au groupe réactif F3 d'une molécule redox comprenant un groupement redox R, et X est une chaîne hydrocarbonée, par réaction du groupe réactif Fl avec la couche d'oxyde de silicium, et b) liaison de l'espaceur E' au groupement redox R par réaction du groupe réactif F3 avec le groupe réactif F2.Wherein F1 is a reactive group capable of binding to the silicon oxide layer, F2 is a reactive group capable of binding to the reactive group F3 of a redox molecule comprising a redox group R, and X is a hydrocarbon chain, by reaction of the reactive group F1 with the silicon oxide layer, and b) binding of the spacer E 'to the redox group R by reacting the reactive group F3 with the reactive group F2.
Dans une première variante préférée du procédé de l'invention, dans la formule III, le groupe réactif Fl est un groupe (alcoxy en Ci-C3)silane. Dans ce cas, dans un premier mode de réalisation préféré de l'invention, dans la formule III, le groupe réactif F2 est un groupe azoture et le groupe réactif F3 de la molécule redox est un groupe alcyne. Dans ce dernier cas, de préférence, le groupe espaceur E' a l'une des Formules suivantes :In a first preferred variant of the process of the invention, in formula III, the Fl reactive group is (alkoxy-C 3) silane. In this case, in a first preferred embodiment of the invention, in formula III, the reactive group F2 is an azide group and the reactive group F3 of the redox molecule is an alkyne group. In the latter case, preferably, the spacer group E 'has one of the following formulas:
(H3CO)3Si \/\/ N3 (H3CO)3Si ^x /x/X^X/X/ N,(H 3 CO) 3 If \ / \ / N 3 (H 3 CO) 3 If ^ x / x / X ^ X / X / N,
Dans un second mode de mise en œuvre également préféré de la première variante du procédé de l'invention, le groupe réactif F2 est un groupe alcyne et le groupe réactif F3 est un groupe azoture.In a second embodiment also preferred of the first variant of the process of the invention, the reactive group F2 is an alkyne group and the reactive group F3 is an azide group.
Dans une seconde variante préférée du procédé selon l'invention, dans la formule III, le groupe réactif Fl est un groupe triazène, précurseur de la fonction diazonium réactive.In a second preferred variant of the process according to the invention, in formula III, the reactive group F1 is a triazene group, a precursor of the reactive diazonium function.
Dans ce cas, de préférence, le groupe réactif F2 est un groupe COOH et le groupe réactif F3 est un groupe NH2.In this case, preferably, the reactive group F 2 is a COOH group and the reactive group F 3 is an NH 2 group.
Toujours dans ce cas, de préférence, l' espaceur E' a la Formule suivante :In this case, preferably, the spacer E 'has the following formula:
dans laquelle n = 3 ou 7. in which n = 3 or 7.
De préférence, dans le procédé de l'invention l'étape a) est effectuée avant l'étape b).Preferably, in the process of the invention step a) is carried out before step b).
Mais l'étape b) peut également être avantageusement effectuée avant l'étape a). L'invention propose également un système hybride de mémoire moléculaire caractérisé en ce qu'il comprend un substrat de silicium selon l'invention ou obtenu par le procédé selon l'invention.But step b) can also be advantageously performed before step a). The invention also proposes a hybrid system of molecular memory characterized in that it comprises a silicon substrate according to the invention or obtained by the process according to the invention.
L'invention sera mieux comprise et d'autres caractéristiques et avantages de celle-ci apparaîtront plus clairement à la lecture de la description explicative qui suit.The invention will be better understood and other features and advantages thereof will appear more clearly on reading the explanatory description which follows.
L'invention repose sur la découverte qu'un greffage indirect, c'est-à- dire via l'emploi d'une molécule espaceur organique, d'une molécule redox sur une surface d'une couche d'oxyde de silicium placée sur un substrat de silicium permet d'utiliser le dispositif obtenu en tant que dispositif de mémoire moléculaire à rétention de charge fortement augmentée.The invention is based on the discovery that indirect grafting, ie via the use of an organic spacer molecule, of a redox molecule on a surface of a layer of silicon oxide placed on a silicon substrate makes it possible to use the device obtained as a strongly increased charge retention molecular memory device.
Ainsi, le dispositif ou substrat de silicium selon l'invention est constitué ou comprend 4 composants : une couche de silicium, - une couche d'oxyde de silicium revêtant au moins une surface de la couche de silicium, un groupement redox, noté R dans ce qui suit, et un espaceur, noté E dans ce qui suit, liant le groupement redox à la couche d'oxyde de silicium. Dans l'invention, les termes suivants ont les significations suivantes : molécule redox : molécule comprenant un groupement redox R, ayant des propriétés d'oxydation et de réduction réversibles, et un groupe réactif F3 apte à réagir avec un groupe réactif F2 de l 'espaceur E' pour former une liaison. Le groupement redox peut être lié au groupe réactif F3 par une chaîne hydrocarbonée, notée espaceur E" dans ce qui suit, groupement redox R : groupement qui est effectivement greffé sur la couche d'oxyde de silicium du substrat de l'invention par l'intermédiaire de l' espaceur E, après la réaction du groupe réactif F3 avec le groupe réactif F2 de l' espaceur E', espaceur E' : précurseur de l'espaceur E constitué d'une chaîne hydrocarbonée comprenant à une extrémité un groupement réactif Fl apte à se lier à la couche d'oxyde de silicium et à une autre extrémité un groupe réactif F2 apte à réagir avec le groupe réactif F3 de la molécule redox, espaceur E : molécule organique comprenant une chaîne hydrocarbonée dont une extrémité est liée à la couche d'oxyde de silicium et l'autre extrémité est liée au groupement redox de la molécule redox ; lorsque la molécule redox est composée du groupement redox R lié au groupe réactif F3 par un espaceur E" , l'espaceur E est la chaîne hydrocarbonée liée à la couche de silicium et au groupement redox R et est donc constituée de la partie de la chaîne hydrocarbonée de l'espaceur E' sans le groupement réactif Fl, plus la chaîne hydrocarbonée de l'espaceur E", ces chaînes étant reliées ensemble par le groupement chimique obtenu après réaction du groupe réactif F2 avec le groupe réactif F3, chaîne hydrocarbonée : chaîne alkyle en Ci à C30, linéaire ou ramifiée, comprenant éventuellement des hétéroatomes, tels que l'oxygène, l'azote ou le soufre, et/ou des groupements aryles, et/ou des groupements aminés, et/ou des groupements esters, et/ou des groupements oxyamines, et/ou des groupements oxymes ; la chaîne alkyle peut également être substituée, par exemple, par des atomes d'halogène, tels que Cl, F, I ; la chaîne alkyle peut également être saturée ou insaturée, mais lorsque la chaîne alkyle est insaturée, elle ne doit pas comporter d' insaturations conjugées, qui pourrait conduire à une délocalisation des électrons sur l'ensemble de l'espaceur. Dans le système à 4 composants constituant le dispositif de l'invention décrit précédemment, c'est-à-dire dans lequel le groupement redox R est lié, indirectement, par l'intermédiaire de l'espaceur E, à la couche d'oxyde de silicium du substrat de l'invention, l'espaceur E permet d'augmenter la rétention de la charge du groupement redox R et de renforcer l'effet positif de l'effet de l'augmentation de la rétention de charge déjà due à la présence de la couche d'oxyde de silicium.Thus, the silicon device or substrate according to the invention consists of or comprises 4 components: a silicon layer, - a silicon oxide layer coating at least one surface of the silicon layer, a redox group, noted R in the following, and a spacer, noted E in the following, linking the redox group to the silicon oxide layer. In the invention, the following terms have the following meanings: redox molecule: a molecule comprising a redox group R, having reversible oxidation and reduction properties, and a reactive group F3 capable of reacting with a reactive group F2 of the spacer E 'to form a bond. The redox group may be bonded to the reactive group F3 by a hydrocarbon chain, denoted spacer E "in the following, redox group R: group which is effectively grafted onto the silicon oxide layer of the substrate of the invention by the intermediate of the spacer E, after the reaction of the reactive group F3 with the reactive group F2 of the spacer E ', spacer E ': precursor of the spacer E consisting of a hydrocarbon chain comprising at one end a reactive group F1 capable of bonding to the silicon oxide layer and at another end a reactive group F2 capable of reacting with the reactive group F3 of the redox molecule, spacer E: organic molecule comprising a hydrocarbon chain whose one end is bonded to the silicon oxide layer and the other end is bonded to the redox group of the redox molecule; when the redox molecule is composed of the redox group R bonded to the reactive group F3 by an E "spacer, the spacer E is the hydrocarbon chain bonded to the silicon layer and to the redox group R and therefore consists of the part of the chain hydrocarbon product of the spacer E 'without the reactive group F1, plus the hydrocarbon chain of the spacer E ", these chains being linked together by the chemical group obtained after reaction of the reactive group F2 with the reactive group F3, hydrocarbon chain: chain linear or branched C 1 -C 30 alkyl, optionally comprising heteroatoms, such as oxygen, nitrogen or sulfur, and / or aryl groups, and / or amino groups, and / or ester groups, and / or oxyamine groups, and / or oxime groups; the alkyl chain may also be substituted, for example, with halogen atoms, such as Cl, F, I; the alkyl chain may also be saturated or unsaturated, but when the alkyl chain is unsaturated, it must not contain conjugated unsaturations, which could lead to delocalization of the electrons over the entire spacer. In the 4-component system constituting the device of the invention described above, that is to say in which the redox group R is linked, indirectly, via the spacer E, to the oxide layer of silicon of the substrate of the invention, the spacer E makes it possible to increase the retention of the charge of the redox group R and to enhance the positive effect of the effect of the increase in charge retention already due to the presence of the silicon oxide layer.
L'augmentation de la rétention de charge d'une molécule redox par greffage de cette molécule redox directement sur une couche d'oxyde de silicium elle- même déposée sur une surface d'un substrat de silicium, a été décrite dans Mathur et al, Properties of functionalized redox-active monolayers in thin silicon dioxide- A study of the dependence of rétention time on oxide thickness, IEEE Trans. On Nanotechn., 2005, 4(2), 278-283.The increase of the charge retention of a redox molecule by grafting this redox molecule directly onto a layer of silicon oxide itself deposited on a surface of a silicon substrate, has been described in Mathur et al. Properties of Functionalized Redox-active Monolayers in Thin Silicon Dioxide - A study of the dependence of retention time on oxide thickness, IEEE Trans. On Nanotechn., 2005, 4 (2), 278-283.
L'étude de Mathur et al. avait pour but d'étudier l'influence de l'épaisseur de la couche d'oxyde de silicium et son incidence sur le temps de rétention de charge.The study by Mathur et al. was aimed at studying the influence of the thickness of the silicon oxide layer and its effect on the charge retention time.
Plus précisément, les résultats de cette étude montrent qu'une augmentation de l'épaisseur de la couche d'oxyde de silicium entraîne une diminution du transfert électronique entre le centre redox et la surface de silicium. Le même effet est observable sur le temps de rétention de charge.More specifically, the results of this study show that an increase in the thickness of the silicon oxide layer results in a decrease in the electron transfer between the redox center and the silicon surface. The same effect is observable on the charge retention time.
Toutefois, la charge portée à la surface du système par le centre redox qui est, dans cette étude, un ferrocène, décroît exponentiellement et rapidement avec le temps.However, the charge on the surface of the system by the redox center, which in this study is a ferrocene, decreases exponentially and rapidly over time.
Dans cette étude, les temps de rétention de charge estimés, notés t)/2, sont alors de l'ordre de la dizaine de secondes.In this study, the estimated load retention times, noted t) / 2 , are then of the order of ten seconds.
En contraste, en utilisant un système selon l'invention, le temps de rétention augmente jusqu'à plus de 2000 secondes.In contrast, using a system according to the invention, the retention time increases to more than 2000 seconds.
De plus, il s'agit bien ici d'un effet de synergie entre l'espaceur E et la présence de la couche d'oxyde de silicium : lorsque l'on utilise un même espaceur et une même molécule redox qui sont liés soit directement sur la surface du substrat de silicium, soit directement sur la surface de la couche d'oxyde de silicium elle-même placée sur la surface du substrat de silicium, le temps de rétention entre ces deux systèmes (à trois composants dans l'art antérieur et à quatre composants comme dans l'invention) est lui-même augmenté d'un facteur d'au moins 10. Le substrat selon l'invention est donc constitué d'une couche de silicium dont au moins une surface est recouverte d'une couche d'oxyde de silicium, un espaceur E étant lié par une extrémité à une surface à cette couche d'oxyde de silicium et par l'autre extrémité, à un groupement redox R.Moreover, this is a synergistic effect between the spacer E and the presence of the silicon oxide layer: when the same spacer and the same redox molecule are used which are linked either directly on the surface of the silicon substrate, either directly on the surface of the silicon oxide layer itself placed on the surface of the silicon substrate, the retention time between these two systems (three-component in the prior art and four-component as in the invention) is itself increased by a factor of at least 10. The substrate according to the invention is constituted by a silicon layer of which at least one surface is covered with a silicon oxide layer, a spacer E being bonded at one end to a surface at this silicon oxide layer and at the other end to a redox group R.
L'espaceur E utilisé dans l'invention est tout espaceur organique pouvant être lié sur une surface d'oxyde de silicium.The spacer E used in the invention is any organic spacer which can be bonded to a silicon oxide surface.
Dans un premier mode de réalisation préféré, l'espaceur E est obtenu par greffage sur la surface d'oxyde de silicium par réaction de silanisation de l'espaceur E'.In a first preferred embodiment, the spacer E is obtained by grafting onto the silicon oxide surface by silanization reaction of the spacer E '.
Dans ce cas, l'espaceur E', précurseur de l'espaceur E comprend, donc, de préférence, à une extrémité, une fonctionnalité (alcoxy en Ci-C3)silane, et plus préférablement triméthoxysilane.In this case, the spacer E ', precursor of the spacer E, therefore, preferably, at one end, a (C 1 -C 3 ) alkoxy silane functionality, and more preferably trimethoxysilane.
Cette méthode de greffage par réaction de silanisation permet d'obtenir une monocouche d'espaceurs stable et homogène, présentant ainsi à sa surface un groupement réactif exploitable, le groupement F2, pour le couplage du groupement redox R.This method of grafting by silanization reaction makes it possible to obtain a stable and homogeneous monolayer of spacers, thus presenting on its surface a reactive reactive group, the F2 group, for the coupling of the redox group R.
Dans ce cas, l'espaceur E' est de préférence choisi parmi : (H3CO)3SiIn this case, the spacer E 'is preferably chosen from: (H 3 CO) 3 Si
Cependant, comme cela apparaîtra clairement à l'homme du métier, de nombreux autres espaceurs E peuvent être utilisées. Par exemple, l'espaceur E' peut être greffé sur la surface de la couche d'oxyde de silicium via des groupes réactifs Fl phosphonates ou phosphates.However, as will become apparent to those skilled in the art, many other E spacers can be used. For example, the spacer E 'can be grafted onto the surface of the silicon oxide layer via fl phosphonate or phosphate reactive groups.
Mais il peut encore être greffé par l'emploi d'espaceurs comportant, ou munis, d'un groupe réactif Fl qui est un groupe diazoniumBut it can still be grafted by the use of spacers comprising or equipped with a reactive group Fl which is a diazonium group
Dans ce cas, l'espaceur E' comprend à une extrémité, un groupe diazonium ou encore une fonction triazène qui sera ensuite transformé en un groupe diazonium.In this case, the spacer E 'comprises at one end a diazonium group or a triazene function which will then be converted into a diazonium group.
Ce dernier cas est un mode de réalisation préféré de l'invention. Les groupes réactifs Fl et F2 présents à chaque extrémité de l'espaceur E' sont séparés, par exemple, par une chaîne alkyle en Ci à C30, linéaire ou ramifiée, comprenant éventuellement des hétéroatomes tels que l'oxygène, l'azote ou le soufre. La chaîne alkyle peut également comprendre des groupements aryles, et/ou des fonctions amides, et/ou des fonctions esters, et/ou des fonctions oxyamines, et/ou des fonctions oxymes.This latter case is a preferred embodiment of the invention. The reactive groups Fl and F2 present at each end of the spacer E 'are separated, e.g., by an alkyl chain Ci to C 3 0, linear or branched, optionally including heteroatoms such as oxygen, nitrogen or sulfur. The alkyl chain may also comprise aryl groups, and / or amide functions, and / or ester functions, and / or oxyamine functions, and / or oxymime functions.
La chaîne alkyle peut également être substituée, ou par exemple par des halogènes, tels que Cl, F, et I.The alkyl chain may also be substituted, or for example by halogens, such as Cl, F, and I.
La chaîne alkyle peut être saturée ou comporter des insaturations. Cependant, il est préférable d'éviter que cette chaîne alkyle comporte des insaturations conjuguées de façon à ne pas favoriser un transport électronique.The alkyl chain may be saturated or unsaturated. However, it is preferable to avoid that this alkyl chain comprises conjugated unsaturations so as not to favor an electronic transport.
Quant au groupement redox R, tout groupement redox utilisé dans les systèmes hybrides de mémoires moléculaires est utilisable. Dans l'invention, on préfère tout particulièrement les ferrocènes, les porphyrines, les poly-oxométallates et les fullerènes.As for the redox group R, any redox group used in the hybrid systems of molecular memories is usable. In the invention, ferrocenes, porphyrins, poly-oxometallates and fullerenes are particularly preferred.
Mais également, on pourra utiliser, selon l'invention, un naphtalène, un nitrobenzène et une hydroquinone.But also, it is possible to use, according to the invention, a naphthalene, a nitrobenzene and a hydroquinone.
Le couplage du groupement redox R sur l'extrémité libre de l'espaceur E' dépendra de la nature du groupement réactif F3 de la molécule redox elle-même.The coupling of the redox group R on the free end of the spacer E 'will depend on the nature of the reactive group F3 of the redox molecule itself.
Par exemple, on pourra utiliser une cycloaddition de Huisgen lorsque la molécule redox présente au moins un groupement réactif F3 alcyne et que l'espaceur E' comporte un groupement réactif F2 azoture à son extrémité. L'inverse est également réalisable.For example, it will be possible to use a Huisgen cycloaddition when the redox molecule has at least one F3 alkyne reactive group and the spacer E 'has a reactive F2 azide group at its end. The opposite is also possible.
On pourra également utiliser un couplage peptidique lorsque le groupement réactif F2 de l'espaceur E' est un groupe NH2 ou COOH, et que la molécule redox a elle-même un groupe réactif F3 qui est respectivement un groupe COOH ou NH2. Plus généralement, on pourra utiliser tout type de couplage faisant intervenir la réaction entre un nucléophile et une électrophile (Thiol/phtalimide, amine/aldéhyde, oxyamine/aldéhyde, amine/acide carboxylique, etc .). L'épaisseur de la couche d'oxyde de silicium a également une influence sur l'augmentation du temps de rétention de la charge redox.It will also be possible to use a peptide coupling when the reactive group F 2 of the spacer E 'is an NH 2 or COOH group, and the redox molecule itself has a reactive group F 3 which is respectively a COOH or NH 2 group . More generally, any type of coupling involving the reaction between a nucleophile and an electrophile (thiol / phthalimide, amine / aldehyde, oxyamine / aldehyde, amine / carboxylic acid, etc.) can be used. The thickness of the silicon oxide layer also influences the increase in the retention time of the redox charge.
Comme on l'a dit précédemment, plus cette épaisseur augmente, plus le temps de rétention de la charge du substrat de silicium selon l'invention augmente.As stated above, the more this thickness increases, the longer the charge retention time of the silicon substrate according to the invention increases.
L'épaisseur de cette couche sera de quelques angstroems à quelques dizaines de nanomètre, préférentiellement, elle sera comprise entre 0,5 nra et 5 nm et typiquement entre 1 et 2 nm.The thickness of this layer will be from a few angstroms to a few tens of nanometers, preferentially it will be between 0.5 nm and 5 nm and typically between 1 and 2 nm.
Quant à la couche de silicium elle-même, plusieurs types de silicium pourront être utilisés tels que du silicium dopé p ou dopé n, que ce soit dans chaque cas faiblement ou fortement dopé.As for the silicon layer itself, several types of silicon may be used such as p-doped or n-doped silicon, either in each case weakly or strongly doped.
Le choix du dopage dépend de la nature du groupement redox R choisi. Pour les molécules étudiées en oxydation, groupement redox R (ferrocène), le silicium sera de préférence dopé au bore (dopage p), c'est-à-dire enrichi en lacunes électroniques. Au contraire, pour les molécules étudiées en réduction groupement redox R (poly-oxo métallates), le silicium devra être fortement enrichi en électrons (dopage au phosphore c'est-à-dire dopage n).The choice of doping depends on the nature of the selected redox group R. For the molecules studied in oxidation, redox group R (ferrocene), the silicon will preferably be doped with boron (p-doping), that is to say enriched with electronic vacancies. On the contrary, for the molecules studied in redox reduction group R (polyoxo-metalloids), the silicon will have to be strongly enriched in electrons (doping with phosphorus, that is to say n-doping).
Le substrat selon l'invention présente de nombreux avantages.The substrate according to the invention has many advantages.
Tout d'abord, le greffage des espaceurs E', par silanisation sur oxyde de silicium permet de former des monocouches d'espaceurs E denses, stables et organisées.Firstly, the grafting of the spacers E 'by silanization on silicon oxide makes it possible to form monolayers of spacers E dense, stable and organized.
Ce type de fonctionnalisation permet ainsi d'atteindre des densités importantes de groupes redox R sur la surface.This type of functionalization thus makes it possible to achieve high densities of redox groups R on the surface.
Ensuite, la stratégie de greffage chimique développée permet une grande flexibilité et un grand choix de fonctionnalisation, car plusieurs paramètres sont modifiables. En particulier, on a vu que divers espaceurs E' pouvaient être utilisées dans le cadre de l'invention, ces espaceurs E' présentant deux groupes réactifs Fl et F2, l'un Fl de greffage sur la couche d'oxyde de silicium et l'autre de couplage à une molécule redox. Ainsi on comprendra que le procédé mis en oeuvre pour la réalisation d'un empilement tel que défini plus haut peut comprendre une première étape de greffage sur la couche SiO2 du substrat de l'invention, puis un couplage ultérieur avec la molécule aux propriétés redox. Mais il peut aussi comprendre d'abord le couplage de la molécule espaceur E' avec la molécule redox R et ensuite le greffage de l'entité obtenue sur la surface d'oxyde de silicium.Then, the developed chemical grafting strategy allows a great flexibility and a great choice of functionalization, because several parameters are modifiable. In particular, it has been seen that various spacers E 'could be used in the context of the invention, these spacers E' having two reactive groups Fl and F2, one grafting gra on the silicon oxide layer and the other other coupling to a redox molecule. Thus, it will be understood that the method used for producing a stack as defined above may comprise a first grafting step on the SiO 2 layer of the substrate of the invention, and then a subsequent coupling with the molecule with redox properties. . But he can also first to understand the coupling of the spacer molecule E 'with the redox molecule R and then the grafting of the entity obtained on the silicon oxide surface.
Enfin, l'introduction d'un espaceur E entre le groupe redox R et la surface d'oxyde de silicium permet d'augmenter fortement le temps de rétention de la charge sur le centre redox.Finally, the introduction of a spacer E between the redox group R and the silicon oxide surface makes it possible to greatly increase the retention time of the charge on the redox center.
C'est l'effet cumulé de ces deux éléments, l'introduction d'un espaceur E et d'une couche d'oxyde de silicium, qui permet d'augmenter d'un facteur de 2000 les temps de rétention décrits dans la littérature pour ce type de substrat de mémoire hybride moléculaire. Afin de mieux faire comprendre l'invention, on va maintenant décrire à titre purement illustratif et non limitatif, plusieurs modes de réalisation.It is the cumulative effect of these two elements, the introduction of a spacer E and a layer of silicon oxide, which makes it possible to increase by a factor of 2000 the retention times described in the literature. for this type of hybrid hybrid memory substrate. In order to better understand the invention, will now be described by way of illustration and not limitation, several embodiments.
Exemple 1 : Greffage sur une couche d'oxyde de silicium d'un groupement ferrocène via un espaceur à 11 carbones.EXAMPLE 1 Grafting on a Silicon Oxide Layer of a Ferrocene Group via an 11-Carbon Spacer
Dans cet exemple, l'espaceur est d'abord lié via son groupement méthoxysilane à la couche d'oxyde de silicium et la molécule de ferrocène est liée à l'espaceur ainsi greffé par réaction du groupe réactif chlore de l'espaceur E' avec le groupe réactif al cyne lié à la molécule de ferrocène.In this example, the spacer is first bonded via its methoxysilane group to the silicon oxide layer and the ferrocene molecule is bonded to the spacer thus grafted by reacting the chlorine reactive group of the spacer E 'with the alkyne reactive group bonded to the ferrocene molecule.
La molécule espaceur E' utilisée est l'azoture de undécyltriméthoxysilane obtenu, comme on le verra ci-après, à partir du 11- chloroundécyltriméthoxysilaneThe spacer molecule E 'used is the undecyltrimethoxysilane azide obtained, as will be seen hereinafter, from 11-chloroundecyltrimethoxysilane.
On a revêtu la surface d'un substrat de silicium d'une couche d'oxyde de silicium de 1,2 nm d'épaisseur. Le greffage du 1 1 -chloroundécyltriméthoxysilane sur la surface de la couche d'oxyde de silicium est effectué par silanisation.The surface of a silicon substrate was coated with a 1.2 nm thick layer of silicon oxide. The grafting of 11-chloroundecyltrimethoxysilane on the surface of the silicon oxide layer is carried out by silanization.
Cette technique de greffage est connue et a été rapportée avec des systèmes non redox par Lummerstorfer et al. dans Click chemistry on surfaces: 1,3- dipolar cycloaddition reactions of azide-terminated monolayers on silica, J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 3963-3966.This grafting technique is known and has been reported with non-redox systems by Lummerstorfer et al. in Click chemistry on surfaces: 1,3-dipolar cycloaddition reactions of azide-terminated monolayers on silica, J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 3963-3966.
Brièvement, on fait réagir, dans du toluène, à 800C, du (MeO)3 Si(CH2)H-Cl. Le 1 1 -chloroundécyltriméthoxysilane est alors greffé sur la surface de SiO2. Le chlore terminal du 1 1 -chloroundécyltriméthoxysilane est ensuite converti en azoture par traitement avec NaN3, dans du DMF, à 800C.Briefly, (MeO) 3 Si (CH 2 ) H -Cl is reacted in toluene at 80 ° C. The 11-chloroundecyltrimethoxysilane is then grafted onto the surface of SiO 2 . The terminal chlorine of 1,1-chloroundecyltrimethoxysilane is then converted into azide by treatment with NaN 3 in DMF at 80 ° C.
Puis la molécule redox constituée du groupement redox ferrocène lié directement au groupe réactif F3 est introduite dans le mélange en présence de CuI, DIEA (diisopropyléthylamine), et CH2Cl2. On obtient alors le substrat à 4 composants selon l'invention.Then the redox molecule consisting of the ferrocene redox group directly attached to the reactive group F3 is introduced into the mixture in the presence of CuI, DIEA (diisopropylethylamine), and CH 2 Cl 2 . The 4-component substrate according to the invention is then obtained.
Le temps de rétention de la charge de ce système est alors mesuré par la méthode rapportée par Mathur et al. dans l'article précédemment cité.The charge retention time of this system is then measured by the method reported by Mathur et al. in the article previously cited.
La méthodologie consiste à mesurer deux balayages d'oxydation successifs en faisant varier le temps entre ces deux balayages. Pendant le temps d'attente entre ces deux balayages, aucune tension de réduction n'est appliquée.The methodology consists in measuring two successive oxidation scans by varying the time between these two scans. During the waiting time between these two scans, no reduction voltage is applied.
Ainsi, alors que le premier balayage permet de mesurer toutes les charges oxydées, les balayages suivants mesurent les charges qui se sont dissipées de la molécule redox vers la surface. On mesure alors le temps au bout duquel un signal correspondant approximativement à la moitié du signal obtenu lors du premier balayage d'oxydation.Thus, while the first scan can measure all the oxidized charges, the following scans measure the charges that have dissipated from the redox molecule to the surface. The time at which a signal corresponding to approximately half of the signal obtained during the first oxidation scan is measured is then measured.
On obtient ainsi le pourcentage de charge restante sur la surface en fonction du temps, ce qui permet d'évaluer le temps de rétention de charge du système étudié. Avec le système de l'exemple 1, le temps de rétention de charge est de 10000 secondes. Exemple 2. Greffage d'un groupement ferrocène sur une couche d'oxyde de silicium via le groupe réactif diazonium d'un espaceur à chaîne courte.This gives the percentage of charge remaining on the surface as a function of time, which makes it possible to evaluate the charge retention time of the studied system. With the system of Example 1, the charge retention time is 10000 seconds. Example 2. Grafting of a ferrocene group on a silicon oxide layer via the diazonium reactive group of a short-chain spacer.
L'espaceur E' utilisé ici a un groupe réactif F2 COOH à une extrémité et un groupe réactif Fl azoture à l'autre extrémité.The spacer E 'used herein has a reactive group F 2 COOH at one end and a reactive group Fl azide at the other end.
Il est obtenu à partir de l'acide 5-hexynoïque de formule suivante :It is obtained from 5-hexynoic acid of the following formula:
qui est d'abord greffé sur la molécule redox qui est identique à celle utilisée à l'exemple 1, le groupe réactif Fl azoture étant ensuite lié au groupe alcyne de l'acide 10-undécynoïque. which is first grafted on the redox molecule which is identical to that used in Example 1, the reactive group Fl azide then being bonded to the alkyne group of 10-undecynoic acid.
Synthèse du précurseur-alcyne.Synthesis of the precursor-alkyne.
A une solution de l'acide 5-hexynoïque (115 mg soit 1,026 mmol) dans 3mL de DMF anhydre sont ajoutés 212 mg d'EDC (soit 1,106 mmol) et 149 mg d'HOBt (soit 1,103 mmol). Après agitation à température ambiante sous argon pendant 15 min, le 2-aminoéthyl-ferrocényl méthyléther (291 mg soit 1,123 mmol) est ajouté. L'agitation est maintenue pendant 17h. Après évaporation sous vide du solvant, le résidu est redissous dans du dichlorométhane. La phase organique est lavée à l'eau, séchée sur Na2SO4 anhydre, filtrée et concentrée sous vide. Le produit est purifié sur gel de silice (DCM/MeOH : 96/4) et est obtenu sous forme d'une huile orange (227 mg soit 63% de rendement).To a solution of 5-hexynoic acid (115 mg, ie 1.026 mmol) in 3 ml of anhydrous DMF, 212 mg of EDC (ie 1.106 mmol) and 149 mg of HOBt (ie 1.103 mmol) are added. After stirring at room temperature under argon for 15 minutes, 2-aminoethyl-ferrocenyl methyl ether (291 mg, ie 1.123 mmol) is added. Stirring is maintained for 17h. After evaporation of the solvent under vacuum, the residue is redissolved in dichloromethane. The organic phase is washed with water, dried over anhydrous Na 2 SO 4 , filtered and concentrated in vacuo. The product is purified on silica gel (DCM / MeOH: 96/4) and is obtained in the form of an orange oil (227 mg or 63% yield).
Synthèse du dérivé ferrocène-triazène.Synthesis of the ferrocene-triazene derivative.
Un mélange d'iodophényl-diéthyltriazène (82 mg soit 0,270 mmol), de catalyseur bis(triphènylphosphine)dichloropalladium(II) (10 mg soit 0,014 mmol) et d'iodure de cuivre CuI (7 mg soit 0,037 mmol) est soumis à trois cycles vide-argon. Après addition de 1 mL de tétrahydrofurane anhydre et de 0,2 mL de triéthylamine, une solution du précurseur-alcyne (73 mg soit 0,207 mmol) dans le THF anhydre (2 mL) est ajoutée au goutte à goutte. Le mélange réactionnel est alors chauffée à 50°C, sous atmosphère d'argon pendant 17h. Après évaporation sous vide des solvants, le produit est purifié sur gel de silice (DCM/MeOH : 96/4) et est obtenu sous la forme d'une huile orange (35 mg soit 32% de rendement).A mixture of iodophenyl-diethyltriazene (82 mg or 0.270 mmol), bis (triphenylphosphine) dichloropalladium (II) catalyst (10 mg or 0.014 mmol) and copper iodide CuI (7 mg or 0.037 mmol) is subjected to three vacuum-argon cycles. After addition of 1 mL of anhydrous tetrahydrofuran and 0.2 mL of triethylamine, a solution of the precursor-alkyne (73 mg or 0.207 mmol) in anhydrous THF (2 mL) is added dropwise. The reaction mixture is then heated at 50 ° C. under an argon atmosphere for 17 hours. After evaporation of the solvents under vacuum, the product is purified on silica gel (DCM / MeOH: 96/4) and is obtained in the form of an orange oil (35 mg or 32% yield).
Greffage du groupement ferrocène sur une couche d'oxyde de silicium via le groupement diazonium de l'espaceur à chaîne courte.Grafting the ferrocene group on a silicon oxide layer via the diazonium group of the short-chain spacer.
L' électrogreffage est effectué en utilisant un système à trois électrodes : l'électrode de travail est le substrat de silicium à fonctionnaliser, l'électrode de référence est une électrode à calomel saturé et la contre-électrode est une électrode de platine. La solution de diazonium est préparée en ajoutant 40μL d'une solution à 8M d'acide tétrafluoroborique HBF4 dans l'eau à 5 mL d'une solution à 4mM du dérivé ferrocène-triazène et à 0, 1 M de sel porteur Bu4NPFg dans l'acétonitrile distillé.Electrografting is performed using a three electrode system: the working electrode is the silicon substrate to be functionalized, the reference electrode is a saturated calomel electrode and the counter electrode is a platinum electrode. The diazonium solution is prepared by adding 40 μl of an 8M solution of tetrafluoroboric acid HBF 4 in water to 5 ml of a 4 mM solution of the ferrocene-triazene derivative and to 0.1 M Bu 4 carrier salt. NPFg in distilled acetonitrile.
La surface Si-SiO2 est introduite dans cette solution de diazonium. Un potentiel de réduction est alors appliqué sur la surface (5 balayages de réduction de 0 à -2 V en voltamétrie cyclique), permettant la réduction du sel de diazonium sur la surface. La surface est ensuite lavée et soniquée dans le dichlorométhane et séchée sous argon. Le substrat Si-SiO2 est introduit dans cette solution de diazonium.The Si-SiO 2 surface is introduced into this diazonium solution. A reduction potential is then applied to the surface (5 reduction sweeps from 0 to -2 V in cyclic voltammetry), allowing the reduction of the diazonium salt on the surface. The surface is then washed and sonicated in dichloromethane and dried under argon. The Si-SiO 2 substrate is introduced into this diazonium solution.
Un potentiel de réduction est alors appliqué sur la surface (5 scans de réduction de 0 àA reduction potential is then applied to the surface (5 reduction scans from 0 to
-2 V en voltamétrie cyclique), permettant la réduction du sel de diazonium sur la surface. La surface est ensuite lavée et soniquée dans le dichlorométhane et séchée sous argon.-2 V in cyclic voltammetry), allowing the reduction of the diazonium salt on the surface. The surface is then washed and sonicated in dichloromethane and dried under argon.
Avec le système de l'exemple 2, le temps de rétention de charge est de 600s et le transfert électronique associé ΔE est de 0,471V.With the system of Example 2, the charge retention time is 600s and the associated electronic transfer ΔE is 0.471V.
Exemple 3 : Greffage d'un groupement ferrocène sur une couche d'oxyde de silicium via le groupement réactif diazonium d'un espaceur à longue chaîne.Example 3: Grafting of a ferrocene group on a silicon oxide layer via the reactive diazonium group of a long-chain spacer.
L'espaceur E' utilisé a un groupe réactif F2, qui est un groupement COOH, à une extrémité, et à un groupe réactif Fl, qui est un groupement triazène, à l'autre extrémité.The spacer E 'used has a reactive group F2, which is a COOH group, at one end, and a reactive group F1, which is a triazene group, at the other end.
Il est obtenu à partir de l'acide 10-undécynoïque de formule : It is obtained from 10-undecynoic acid of formula:
La molécule redox est la même que celle utilisée à l'exemple 1.The redox molecule is the same as that used in Example 1.
Synthèse du précurseur alcyne.Synthesis of the alkyne precursor.
A une solution de l'acide 10-undécynoïque (153 mg soit 0,839 mmol) dans 3mL de DMF anhydre sont ajoutés 180 mg d'EDC (soit 0,939 mmol) et 138 mg d'HOBt (soit 1,021 mmol). Après agitation à température ambiante sous argon pendant 15 min, le 2-aminoethyl-ferrocenyl méthyléther (237 mg soit 0,915 mmol) est ajouté. L'agitation est maintenue pendant 17h. Après évaporation sous vide du solvant, le résidu est redissous dans du dichlorométhane. La phase organique est lavée à l'eau, séchée sur Na2SO4 anhydre, filtrée et concentrée sous vide. Le produit est purifié sur gel de silice (DCM/MeOH : 96/4) et est obtenu sous forme d'une huile rouge-orangée (270 mg soit 76% de rendement). Synthèse du dérivé ferrocène-triazène.To a solution of 10-undecynoic acid (153 mg, ie 0.839 mmol) in 3 mL of anhydrous DMF, 180 mg of EDC (ie 0.939 mmol) and 138 mg of HOBt (ie 1.021 mmol) are added. After stirring at room temperature under argon for 15 min, 2-aminoethyl-ferrocenyl methyl ether (237 mg, ie 0.915 mmol) is added. Stirring is maintained for 17h. After evaporation of the solvent under vacuum, the residue is redissolved in dichloromethane. The organic phase is washed with water, dried over anhydrous Na 2 SO 4 , filtered and concentrated in vacuo. The product is purified on silica gel (DCM / MeOH: 96/4) and is obtained in the form of a red-orange oil (270 mg or 76% yield). Synthesis of the ferrocene-triazene derivative.
Un mélange d'iodophenyl-diethyltriazène (110 mg soit 0,363 mmol), de catalyseur bis(triphenylphosphine)dichloropalladium(II) (11 mg soit 0,016 mmol) et d'iodure de cuivre CuI (4 mg soit 0,020 mmol) est soumis à trois cycles vide-argon. Après addition de 1 mL de tétrahydrofurane anhydre et de 0,25 mL de triethylamine, une solution du précurseur-alcyne (77 mg soit 0, 182 mmol) dans le THF anhydre (2 mL) est ajoutée au goutte à goutte. Le mélange réactionnel est alors chauffée à 50°C, sous atmosphère d'argon pendant 2Oh. Après évaporation sous vide des solvants, le produit est purifié sur gel de silice (DCM/MeOH : 96/4) et est obtenu sous la forme d'une huile orange (25 mg soit 23% de rendement).A mixture of iodophenyl-diethyltriazene (110 mg or 0.363 mmol), bis (triphenylphosphine) dichloropalladium (II) catalyst (11 mg or 0.016 mmol) and copper iodide CuI (4 mg or 0.020 mmol) is subjected to three empty-argon cycles. After adding 1 mL of anhydrous tetrahydrofuran and 0.25 mL of triethylamine, a solution of the precursor-alkyne (77 mg, 0.182 mmol) in anhydrous THF (2 mL) is added dropwise. The reaction mixture is then heated at 50 ° C. under an argon atmosphere for 20 h. After evaporation of the solvents under vacuum, the product is purified on silica gel (DCM / MeOH: 96/4) and is obtained in the form of an orange oil (25 mg or 23% yield).
Greffage via Ie groupement diazonium sur une couche d'oxyde de silicium.Grafting via the diazonium group on a layer of silicon oxide.
Le greffage est effectué sur macroélectrodes de silicium (dopage p+) recouvert d'un oxyde thermique SiO2 d'une épaisseur de 1,2 nm.The grafting is carried out on silicon macroelectrodes (p + doping) coated with a thermal oxide SiO 2 with a thickness of 1.2 nm.
L 'électrogreffage est effectué en utilisant un système à trois électrodes : l'électrode de travail est le substrat de silicium à fonctionnaliser, l'électrode de référence est une électrode à calomel saturé et la contre-électrode est une électrode de platine. La solution de diazonium est préparée en ajoutant 40μL d'une solution à 8M d'acide tétrafiuoroborique HBF4 dans l'eau à 5 mL d'une solution à 2mM du dérivé ferrocène-triazène et à 0, 1 M de sel porteur Bu4NPF6 dans l'acétonitrile distillé. Le substrat obtenu est introduit dans cette solution de diazonium. Un potentiel de réduction est alors appliqué sur la surface (5 scans de réduction de 0 à -2 V en voltamétrie cyclique), permettant la réduction du sel de diazonium sur la surface. La surface est ensuite lavée et soniquée dans le dichlorométhane et séchée sous argon.Electrografting is performed using a three electrode system: the working electrode is the silicon substrate to be functionalized, the reference electrode is a saturated calomel electrode and the counter electrode is a platinum electrode. The diazonium solution is prepared by adding 40 μl of an 8M solution of tetrafluoroboric acid HBF 4 in water to 5 mL of a 2 mM solution of the ferrocene-triazene derivative and 0.1 M Bu 4 carrier salt. MFN 6 in distilled acetonitrile. The substrate obtained is introduced into this diazonium solution. A reduction potential is then applied to the surface (5 reduction scans from 0 to -2 V in cyclic voltammetry), allowing the reduction of the diazonium salt on the surface. The surface is then washed and sonicated in dichloromethane and dried under argon.
Le temps de rétention de charge du système de l'exemple 3 est de 750s. Le transfert électronique associé à ce système, ΔE, est de 0,922V.The charge retention time of the system of Example 3 is 750s. The electronic transfer associated with this system, ΔE, is 0.922V.
Exemple comparatif 1 : Greffage sur une couche d'oxyde de silicium d'un groupement ferrocène via le même espaceur à 1 1 carbones qu'à l'exemple 1.Comparative Example 1: Grafting onto a silicon oxide layer of a ferrocene group via the same 1-carbon spacer as in Example 1.
On a utilisé le même espaceur E' ainsi que la même molécule redox qu'à l'exemple 1.The same spacer E 'as well as the same redox molecule was used as in Example 1.
Mais le substrat utilisé était constitué, ici, uniquement de silicium.But the substrate used consisted, here, only of silicon.
Le greffage de l 'espaceur organique sur la surface du substrat de silicium à consisté en l'hydrosilylation de l'espaceur bifonctionnel 11-chloro-undéc-l- ène, permettant l'obtention d'une monocouche à terminaison chlorée.The grafting of the organic spacer on the surface of the silicon substrate consisted of the hydrosilylation of the bifunctional 11-chloro-undec-1-ene spacer, which makes it possible to obtain a chlorinated-terminated monolayer.
Cette fonction chlorée de l'espaceur organique est ensuite convertie en azoture par traitement avec l'azoture de sodium NaN3 dans le DMF.This chlorinated function of the organic spacer is then converted into azide by treatment with sodium azide NaN 3 in DMF.
La fonction azoture est alors engagée dans une réaction de cycloaddition 1-3 avec l'éthynyl -ferrocène, permettant ainsi la formation d'un triazole de façon spécifique et quantitative et assurant le couplage de la molécule redox sur la surface.The azide function is then engaged in a 1-3 cycloaddition reaction with ethynyl-ferrocene, thus allowing the formation of a triazole in a specific and quantitative manner and ensuring the coupling of the redox molecule on the surface.
Le temps de rétention de charge de ce système à 3 composants a été mesuré par la même méthode qu'à l'exemple 1. Le temps de rétention de la charge, noté VΔ de ce substrat, est d'environ 1000 secondes, soit 10 fois moins qu'avec le substrat de silicium selon l'invention.The charge retention time of this 3-component system was measured by the same method as in Example 1. The retention time of the charge, noted VΔ of this substrate, is about 1000 seconds, or 10 times less than with the silicon substrate according to the invention.
Exemple comparatif 2 : Greffage direct d'un groupement ferrocène sur une couche de silicium.Comparative Example 2: Direct grafting of a ferrocene group on a silicon layer.
La même molécule redox qu'à l'exemple 1 a été greffée directement sur le même substrat qu'à l'exemple 1 constitué d'une couche de silicium.The same redox molecule as in Example 1 was grafted directly onto the same substrate as in Example 1 consisting of a silicon layer.
On a retrouvé avec ce substrat, les valeurs données dans la littérature par Mathur et al., précédemment cité : on obtient des temps de rétention d'environ 3 à 5 secondes, soit 2000 fois moins qu'avec le substrat selon l'invention.The values given in the literature by Mathur et al., Previously cited, have been found with this substrate: retention times of about 3 to 5 seconds are obtained, ie 2000 times less than with the substrate according to the invention.
Exemple comparatif 3 : Greffage d'un groupement ferrocène sur une couche de silicium via le groupement réactif diazonium d'un espaceur à chaîne courte.Comparative Example 3: Grafting of a ferrocene group on a silicon layer via the diazonium reactive group of a short-chain spacer.
Electrochimique Electrochemical
On a procédé comme à l'exemple 2, sauf que le substrat utilisé était uniquement constitué de silicium.The procedure was as in Example 2, except that the substrate used consisted solely of silicon.
Avec ce système, le temps de rétention de charge n'est pas mesurable car le transfert électronique associé à ce substrat était très faible : ΔE = 0,135V. Exemple comparatif 4 : Greffage d'un groupement ferrocène sur une couche de silicium via le groupement diazonium d'un espaceur à longue chaîne.With this system, the charge retention time is not measurable because the electronic transfer associated with this substrate was very low: ΔE = 0.135V. Comparative Example 4: Grafting a ferrocene group on a silicon layer via the diazonium group of a long-chain spacer.
On a procédé comme à l'exemple 3, sauf que le substrat utilisé était uniquement constitué de silicium.The procedure was as in Example 3, except that the substrate used consisted solely of silicon.
Le transfert électronique ΔE de ce système était très faible (ΔE = 0,201 V), rendant ainsi la mesure de rétention de charge impossible.The electronic transfer ΔE of this system was very low (ΔE = 0.201 V), thus making the load retention measurement impossible.
On voit à partir des exemples qui précèdent, qu'avec le substrat de l'invention, le temps de rétention de charge des molécules redox est augmenté d'au moins 10 fois. It can be seen from the preceding examples that with the substrate of the invention, the charge retention time of the redox molecules is increased by at least 10 times.

Claims

REVENDICATIONS
1. Substrat de silicium comprenant une couche en silicium revêtue sur au moins une de ses surfaces d'une couche en oxyde de silicium, la couche en oxyde de silicium étant fonctionnalisée par des groupements R ayant des propriétés redox, comprenant de plus au moins un espaceur E dont une extrémité est liée à la couche d'oxyde de silicium et l'autre extrémité est liée à l'un des groupements R, caractérisé en ce que l' espaceur E a la formule I suivante :A silicon substrate comprising a silicon layer coated on at least one of its surfaces with a silicon oxide layer, the silicon oxide layer being functionalized with R groups having redox properties, further comprising at least one spacer E, one end of which is bonded to the silicon oxide layer and the other end of which is bonded to one of the R groups, characterized in that the spacer E has the following formula I:
Formule I dans laquelle 1 < x < 20, 1 < y < 10 et 0 < z < 10 et 2 < x+y+z < 40. ou la formule II suivante : Formula I wherein 1 <x <20, 1 <y <10 and 0 <z <10 and 2 <x + y + z <40. or the following formula II:
Formule II dans laquelle 3 < w < à 15.Formula II wherein 3 <w <to 15.
2. Substrat selon la revendication 1 caractérisé en ce que le groupe espaceur E a la formule I dans laquelle x = 3, y = 2 et z = 1.2. Substrate according to claim 1 characterized in that the spacer group E has formula I in which x = 3, y = 2 and z = 1.
3. Substrat selon la revendication 1 caractérisé en ce que l'espaceur E a la formule I dans laquelle x = 7, y = 2 et z = 1. 3. Substrate according to claim 1 characterized in that the spacer E has formula I in which x = 7, y = 2 and z = 1.
4. Substrat selon la revendication 1 caractérisé en ce que l'espaceur E a la formule II dans laquelle w = 11.4. Substrate according to claim 1 characterized in that the spacer E has formula II in which w = 11.
5. Substrat selon la revendication 1 caractérisé en ce que l'espaceur E a la formule I dans laquelle w = 7.5. Substrate according to claim 1 characterized in that the spacer E has formula I in which w = 7.
6. Substrat selon la revendication 1 caractérisé en ce que l'espaceur E a la formule II dans laquelle w = 3. 6. Substrate according to claim 1 characterized in that the spacer E has formula II in which w = 3.
7. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le groupement redox R ayant des propriétés redox est choisi parmi un naphtalène, un nitrobenzène, une hydroquinone, un ferrocène, une porphyrine, un poly-oxométallate et un fullerène et les combinaisons de ceux-ci. 7. Substrate according to any one of the preceding claims, characterized in that the redox group R having redox properties is chosen from naphthalene, a nitrobenzene, a hydroquinone, a ferrocene, a porphyrin, a poly-oxometallate and a fullerene and the combinations of these.
8. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que la couche d'oxyde de silicium a une épaisseur comprise entre 0,5 nm et 5 nm inclus.8. Substrate according to any one of the preceding claims characterized in that the silicon oxide layer has a thickness of between 0.5 nm and 5 nm inclusive.
9. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que la couche de silicium est en silicium dopé. 9. Substrate according to any one of the preceding claims, characterized in that the silicon layer is doped silicon.
10. Procédé de fabrication d'un substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : a) liaison, à la couche d'oxyde de silicium déposée sur une couche de silicium, d'un espaceur E' de formule III suivante :10. A method of manufacturing a substrate according to any preceding claim characterized in that it comprises the following steps: a) bonding, to the silicon oxide layer deposited on a silicon layer, a spacer E 'of formula III below:
Fl X F2 Formule III dans laquelle Fl représente un groupe réactif apte à se lier à la couche d'oxyde de silicium choisi parmi un groupe (alcoxy en Ci-C3)silane ou un groupe triazène, F2 est un groupe réactif apte à se lier au groupe réactif F3 d'une molécule redox comprenant un groupement redox R, et X est une chaîne hydrocarbonée, par réaction du groupement Fl avec la couche d'oxyde de silicium, et b) liaison de l'espaceur E' au groupement redox R par réaction du groupe réactif F3 avec le groupe réactif F2.Wherein F1 represents a reactive group capable of binding to the silicon oxide layer selected from a (C 1 -C 3 alkoxy) silane group or a triazene group, F 2 is a reactive group capable of to bind to the reactive group F3 a redox molecule comprising a redox group R, and X is a hydrocarbon chain, by reaction of the group Fl with the silicon oxide layer, and b) binding of the spacer E 'to the redox group R by reaction of the reactive group F3 with the reactive group F2.
1 1. Procédé selon la revendication 10 caractérisé en ce que le groupe réactif Fl est un groupe (alcoxy en C)-C3)silane, le groupe réactif F2 est un groupe azoture et le groupe réactif F3 est un groupe alcyne.1. Process according to claim 10, characterized in that the reactive group F1 is a (C 1 -C 3 alkoxy) silane group, the reactive group F 2 is an azide group and the reactive group F 3 is an alkyne group.
12. Procédé selon la revendication 11 caractérisé en ce que le groupe espaceur E' est choisi parmi les composés de Formules suivantes :12. Process according to claim 11, characterized in that the spacer group E 'is chosen from the compounds of the following formulas:
(H3CO)3Si(H 3 CO) 3 Si
13. Procédé selon la revendication 10 caractérisé en ce que le groupe réactif Fl est un groupe (alcoxy en Ci-C3)silane, le groupe réactif F2 est un groupe alcyne et le groupe réactif F3 est un groupe azoture.13. A method according to claim 10 characterized in that the reactive group Fl is (alkoxy-C 3) silane, F2 reactive group is an alkyne group and F3 reactive group is an azide group.
14. Procédé selon la revendication 10 caractérisé en ce que le groupe réactif Fl est un groupe triazène, le groupe F2 est un groupe COOH et le groupe F3 est un groupe NH2.14. Process according to claim 10, characterized in that the reactive group F1 is a triazene group, the group F2 is a COOH group and the group F3 is an NH 2 group.
15. Procédé selon la revendication 14 caractérisé en ce que l'espaceur E' a la Formule suivante :15. The method of claim 14 characterized in that the spacer E 'has the following formula:
dans laquelle n = 3 ou 7. in which n = 3 or 7.
16. Procédé selon l'une quelconque des revendications 10 à 15 caractérisé en ce que l'étape a) est effectuée avant l'étape b).16. Method according to any one of claims 10 to 15 characterized in that step a) is performed before step b).
17. Procédé selon l'une quelconque des revendications 10 à 15 caractérisé en ce que l'étape b) est effectuée avant l'étape a). 17. Method according to any one of claims 10 to 15 characterized in that step b) is performed before step a).
18. Système hybride de mémoire moléculaire caractérisé en ce qu'il comprend un substrat selon l'une quelconque des revendications 1 à 9 ou obtenu par le procédé selon l'une quelconque des revendications 10 à 17. 18. Hybrid system of molecular memory characterized in that it comprises a substrate according to any one of claims 1 to 9 or obtained by the method according to any one of claims 10 to 17.
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