EP1801554A2 - Sensor for the contactless measuring of a temperature - Google Patents

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EP1801554A2
EP1801554A2 EP07001421A EP07001421A EP1801554A2 EP 1801554 A2 EP1801554 A2 EP 1801554A2 EP 07001421 A EP07001421 A EP 07001421A EP 07001421 A EP07001421 A EP 07001421A EP 1801554 A2 EP1801554 A2 EP 1801554A2
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EP
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sensor
membrane
recess
temperature
side walls
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EP07001421A
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EP1801554B1 (en
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Jörg SCHIEFERDECKER
Martin Hausner
Wilhelm Leneke
Marion Simon
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Excelitas Technologies Singapore Pte Ltd
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PerkinElmer Optoelectronics GmbH and Co KG
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Definitions

  • the invention relates to a sensor for measuring a temperature by means of a heat-sensitive region applied to and / or under a membrane, the membrane being arranged above a recess.
  • FIG. 1 Such a sensor is shown in FIG. 1.
  • the sensor according to FIG. 1 has side walls which are arranged at an angle ⁇ to the underside of the sensor, that is to say the side opposite the diaphragm.
  • the angle ⁇ is approximately 54.7 °.
  • Such sensors are known as thermal infrared sensors, which are designed in particular as a thermopile sensors, and in which the sensor is manufactured in micromechanical technology.
  • a thin membrane which is made of dielectric layers, for example SiO 2 or Si 3 N 4 or a combination thereof.
  • the membrane is carried out by anisotropic etching, for example by KOH or EDP, whereby square membrane structures can arise in the silicon if the crystal orientation of the silicon chip is ⁇ 100>.
  • the walls of the silicon etch follow the so-called 111 plane, creating the characteristic oblique walls of about 54.7 °.
  • Corresponding sensors for temperature measurement are eg from EP 1 039 280 A2 .
  • EP 0 599 364 B1 US 3,801,949 . US 5,693,942 .
  • the object of the invention is to provide an improved sensor for measuring temperature and a corresponding method for its production. It is desirable to design a corresponding sensor with the same sensitivity as possible with smaller dimensions than the known sensors, or to make a sensor with the same dimensions more sensitive.
  • a sensor for measuring a temperature by means of a heat-sensitive region applied to and / or under a membrane arranged above a recess, the recess being etched by a reactive ion etching method Deep reactive ion etching (DRIE) is used in a particularly advantageous manner as a reactive ion etching process.
  • DRIE Deep reactive ion etching
  • Such a sensor has a particularly high sensitivity in terms of its size.
  • Such a sensor is noticeably smaller in comparison to known sensors with the same sensitivity.
  • the reactive Ionenharmicide is used in an advantageous embodiment of the invention such that the recess laterally completely is bounded by side walls, in particular wherein adjoining side walls are arranged at an angle of at least 40 ° to each other.
  • the recess in an advantageous embodiment of the invention is additionally or alternatively etched such that at least one side wall (preferably all side walls) is (are) arranged at an angle between 80 ° and 100 ° to the membrane.
  • a sensor for measuring a temperature by means of a heat-sensitive region applied to and / or under a membrane arranged above a recess, the recess being laterally completely bounded by side walls, in particular adjacent side walls being at an angle of at least 40 ° are arranged to each other, and wherein at least one side wall (preferably all side walls) is arranged at an angle between 80 ° and 100 ° to the membrane (are).
  • a sensor has a particularly small size with high sensitivity.
  • Such a sensor has a particularly narrow outer edge of silicon and is suitable on the front for bonding islands and on the back for mechanical attachment to a housing bottom plate with epoxy resin edge surface (typically 0.1 to 0.2 mm).
  • a so-called passivation layer for example of Si 3 N 4 , may be applied.
  • a particularly small sensor is achieved by an advantageous embodiment of the invention, in which adjoining side walls are at an angle of substantially 90 °, e.g. 80 ° to 100 °, are arranged to each other.
  • adjoining side walls are at an angle of substantially 90 °, e.g. 80 ° to 100 °, are arranged to each other.
  • such a sensor has a particularly small dimension, since such a sensor is approximately 0.5-0.7 mm smaller than known sensors with the same sensitivity.
  • At least one side wall is so arranged at an angle between 70 ° and 90 °, in particular at an angle between 85 ° and 90 ° to the membrane that the recess limiting surface of the membrane is greater than one of the membrane Opposite open (or possibly closed) surface.
  • all the side walls are arranged at an angle between 70 ° and 90 °, in particular at an angle between 85 ° and 90 °, to the membrane that the recess limiting surface of the membrane is greater than the membrane opposite open (or possibly closed) area.
  • all side walls consist essentially of silicon.
  • the senor is designed as a thermopile, wherein the heat-sensitive region is a series circuit of at least two thermoelectric materials, in particular materials each of p-type silicon and aluminum or n-type silicon and aluminum or p-type silicon and n-type silicon. conductive silicon.
  • the thermoelectric material may be crystalline or polycrystalline silicon, polysilicon germanium or amorphous silicon. It is particularly advantageous in this case, when the series circuit has juxtaposed regions of p-type silicon and n-type silicon, which are connected to one another via a metal bridge, in particular aluminum (advantageously with two contact windows). Due to the design of the adjacently arranged regions of p-type silicon and n-type silicon, the signal voltage of the sensor can be increased by 30 to 80% compared with an embodiment of n-type polysilicon and aluminum.
  • the series circuit has at least one p-type silicon layer and at least one n-type silicon layer, which are arranged one above the other and separated by an insulating layer, in particular by silicon oxide or silicon nitride. In this way, the signal voltage of the sensor can be increased by another 10 to 15%.
  • the senor is designed as a pyroelectric sensor, wherein the heat-sensitive region comprises a stack of two electrode layers and a pyroelectric layer arranged between the two electrode layers, in particular a pyroelectric thin layer, e.g. pyroelectric ceramic or polymer layers, which is applied in particular by sputtering, spin-coating or CVD process on the lower electrode layer.
  • a pyroelectric thin layer e.g. pyroelectric ceramic or polymer layers
  • the senor is designed as a bolometer, wherein the heat-sensitive region a meander layer of a metal oxide or a semiconductor, in particular with a very high temperature coefficient, ie in particular a temperature coefficient of at least 2 ⁇ 10 -3 K -1 , preferably 2 ⁇ 10 -2 K -1 , of the resistance.
  • the membrane is rectangular, advantageously square.
  • the membrane in an advantageous embodiment of the invention at its corners recesses, so that there is a cross-shaped base. In these recesses advantageously bonding islands are provided.
  • the senor is integrated in a semiconductor chip, in particular a silicon chip.
  • a membrane on a support advantageously a silicon carrier, applied and etched under the membrane by a reactive ion etching a recess in the carrier.
  • DRIE Deep reactive ion etching
  • ICP reactor inductively coupled plasma
  • RIE reactor reactive ion etching
  • the (isotropic) etching is carried out with fluorine radicals (eg SF6 as etching gas), the rhythmic change of an etching phase followed by a so-called passivation phase in which a polymer layer is deposited on the surface of the side walls (of the etching pits) (eg by adding C4F8 ), which prevents a laterally directed etching.
  • fluorine radicals eg SF6 as etching gas
  • passivation phase in which a polymer layer is deposited on the surface of the side walls (of the etching pits) (eg by adding C4F8 ), which prevents a laterally directed etching.
  • a bias voltage prevented.
  • Fig. 1 shows a known sensor 1 for temperature measurement.
  • This has a silicon body 2 with a recess 8.
  • a membrane 3 is arranged.
  • a heat-sensitive region 4 is applied.
  • the recess 8 is bounded by side walls 5 facing towards the underside 6 of the chip body 2, i. the opposite with respect to the recess 8 of the membrane 3 side, are arranged at an angle ⁇ of about 54.7 °.
  • Fig. 2 shows an embodiment of a sensor 10 according to the invention for temperature measurement.
  • This has a chip body 12 with a recess 18.
  • the recess 18 is bounded laterally by side walls 15.
  • a membrane 13 is arranged over the recess 18, a membrane 13 is arranged.
  • a heat-sensitive region 14 is arranged. This is infrared sensitive in a particularly advantageous embodiment.
  • the side walls 15 of the recess 18 are aligned with the bottom 16 of the chip body 12 at an angle ⁇ .
  • the angle ⁇ is advantageously 80 to 100 °.
  • the side walls 15 are arranged at an angle ⁇ of 100 to 80 °, respectively.
  • FIG. 3 shows a sensor 30, which is advantageous over the temperature sensor 10 in FIG. 2, for measuring a temperature.
  • the same parts have the same reference numerals as in Fig. 2.
  • the side walls 15 of the recess 18 in the sensor 30 are arranged to the diaphragm 13 so that the angle ⁇ is between 80 and 89 °.
  • the membrane 13 opposite surface 17 at the Bottom 16 of the chip body 12 smaller than the recess 18 limiting surface of the membrane 13.
  • the membrane 13 of the sensors 10 and 20 in FIGS. 2 and 3 advantageously consists of dielectric layers, for example of SiO 2 or Si 3 N 4 SiC or their combination.
  • the membrane is carried out by reactive dry etching (so-called DRIE).
  • the heat-sensitive region 14 has a series arrangement of at least two thermoelectric materials, such as n-type polysilicon and aluminum, p-type polysilicon and aluminum or advantageously n-type and p-type silicon ,
  • the heat-sensitive region 14 has a pyroelectric thin film between a metal back electrode and a cover electrode.
  • the heat-sensitive region 14 has a meandering layer of a metal oxide or a semiconductor.
  • Fig. 4 and Fig. 5 show the advantageous use of a sensor 20 in a temperature measuring device.
  • the sensor 10 may also be used.
  • the sensor 20 is placed on a base plate 31, in particular centrally.
  • the bottom plate 31 is, for example, a transistor base plate TO-5 or TO-18.
  • the chip 20 is advantageously glued to the bottom plate 31 by means of an epoxy resin adhesive with good thermal conductivity.
  • contacts 32, 33 and 34 are guided.
  • the contacts 32 and 33 are connected via conductive connections 38 and 37 to so-called bonding pads 45 and 46 on the sensor 20.
  • an additional temperature sensor 36 is arranged on the bottom plate 31 for measuring the temperature of the temperature measuring device 30. This is connected via a conductor 39 to the contact 34.
  • a housing 41 which surrounds the sensor 20 is arranged on the base plate.
  • the housing 41 has an infrared filter 40.
  • the housing 41 is designed as a transistor cap.
  • Fig. 6 shows the structure of the chip body 12.
  • the reference numeral 18 denotes the recess and the reference numeral 15 denotes the side walls.
  • the side walls are advantageously arranged approximately at right angles to each other, i. the angle designated by the reference symbol ⁇ is approximately 90 °.
  • Fig. 7 shows a particularly advantageous embodiment of the chip body 12.
  • the recess 18 has a cross-shaped base, so that the chip body 12, the recess 18 with solid corners 50, 51, 52 and 53 limited. In the corners 51, 52 and 53, bonding pads 55, 56 and 57 are provided.
  • Fig. 8 shows a plan view of a thermopile formed as a temperature sensor.
  • Strips 90, 91, 92, 93 of p-type silicon, p-type polycrystalline silicon or p-type polycrystalline silicon germanium, and strips 100, 101, 102, 103 of n-type silicon, are present on the membrane 13.
  • conductive polycrystalline silicon or n-type polycrystalline silicon germanium arranged.
  • the individual strips 90, 91, 92, 93, 100, 101, 102, 103 are connected to one another via webs 80, 81, 82, 83, 84, 85, 86, advantageously aluminum webs, to form an electrical series circuit.
  • a configuration with eight stripes is shown.
  • the heat-sensitive region arranged on the membrane 13 comprises two layers 110 and 112 of thermoelectric material, which are covered by an insulating layer 111, e.g. silicon nitride or silicon oxide.
  • the layer 110 consists of n-type or p-type silicon, n-type or p-type polycrystalline silicon or n-type or p-type polycrystalline silicon germanium.
  • the layer 112 consists of p-type or n-type silicon, p-type or n-type polycrystalline silicon or p-type or n-type polycrystalline silicon germanium.
  • the two layers are connected in series by means of a contact window, not shown.
  • two or three separate arrangements by further insulation layers arrangements according to the arrangement of the layers 110, 111 and 112 are provided.
  • Reference numerals 120, 124, 132 and 136 denote layers of n-type silicon, n-type polycrystalline silicon or n-type polycrystalline silicon germanium.
  • Reference numerals 122, 126, 130 and 134 denote layers of p-type silicon, p-type polycrystalline silicon or p-type polycrystalline silicon germanium.
  • Reference numerals 121, 123, 125, 131, 133, 135 denote insulation layers.
  • Layers 120 and 122, 122 and 124, 124 and 126, 130 and 132, 132 and 134, and 134 and 136 are electrically interconnected via contact windows.
  • the layers 126 and 136 are electrically connected to each other via an aluminum web 139, so that a series circuit of the layers 120, 122, 124, 126, 136, 134, 132 and 130 results. It is advantageously provided, as shown in FIG. 8 more than two stacks of layers 120 to 126 and 130 to provide 136.
  • the heat-sensitive region applied to the membrane 13 comprises a lower electrode 140 and an upper electrode 142 and a pyroelectric layer arranged between the lower electrode 140 and the upper electrode 142.
  • FIG. 12 shows a chip 200, which comprises a plurality of sensors 20 according to FIG. 3.
  • FIG. 13 shows a principle method for producing a sensor 10 or 20.
  • the membrane 13 is first applied to a carrier which forms the silicon body 12 in the finished state of the sensor.
  • a low etch rate layer is applied for the reactive ion etch process.
  • a layer is advantageously a photolithographically structurable layer (see above).
  • a heat-sensitive region 14 is applied to the membrane 13.
  • a recess is subsequently etched into the carrier under the membrane by means of a previously explained reactive ion etching method.
  • Step 73 may also be performed prior to step 72.
  • the heat-sensitive region is covered with an infrared-absorbing layer (not illustrated in the figures) which can be patterned photolithographically (see claim 24).
  • This layer is advantageously a photoresist with absorber particles, as in particular in DE 4221037 A1 "Thermal sensor with absorber layer" is disclosed.

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Abstract

The temperature device (10, 20) has a sensor on a base plate (31) with contacts (32, 33, 34) that contact the sensor. The sensor has a chip body (2, 12) with a recess that is covered by a membrane (13) and is manufactured via reactive ionisation. The sensor may have a heat-sensitive region (14) together with a row switch made from two thermo-electric materials.

Description

Die Erfindung betrifft einen Sensor zum Messen einer Temperatur mittels eines auf und/oder unter einer Membran aufgebrachten wärmesensitiven Bereichs, wobei die Membran über einer Aussparung angeordnet ist.The invention relates to a sensor for measuring a temperature by means of a heat-sensitive region applied to and / or under a membrane, the membrane being arranged above a recess.

Einen solchen Sensor zeigt Fig. 1. Der Sensor gemäß Fig. 1 weist Seitenwände auf, die in einem Winkel α zur Unterseite des Sensors, also der der Membran gegenüberliegenden Seite, angeordnet sind. Bei einem bekannten Sensor gemäß Fig. 1 beträgt der Winkel α in etwa 54,7°.Such a sensor is shown in FIG. 1. The sensor according to FIG. 1 has side walls which are arranged at an angle α to the underside of the sensor, that is to say the side opposite the diaphragm. In a known sensor according to FIG. 1, the angle α is approximately 54.7 °.

Bekannt sind solche Sensoren als thermische Infrarot-Sensoren, die insbesondere als Thermopile-Sensoren ausgestaltet sind, und bei denen der Sensor in Mikromechanik-Technologie hergestellt wird. Dabei befindet sich auf der Oberseite eines Silizium-Substrats, aus dem der Sensor hergestellt wird, eine dünne Membran, die aus dielektrischen Schichten, z.B. SiO2 oder Si3N4 oder deren Kombination, hergestellt ist. Die Membran wird durch anisotropes Ätzen, z.B. durch KOH oder EDP, ausgeführt, wobei quadratische Membranstrukturen im Silizium entstehen können, wenn die Kristallorientierung des Silizium-Chips <100> ist. Die Wände der Siliziumätzung folgen der sogenannten 111-Ebene, wodurch die charakteristischen schrägen Wände von ca. 54,7° entstehen. Entsprechende Sensoren zur Temperaturmessung sind z.B. aus der EP 1 039 280 A2 , EP 1 045 232 A2 , EP 0 599 364 B1 , US 3,801,949 , US 5,693,942 , DE 42 21 037 A1 und der DE 197 10 946 A1 bekannt.Such sensors are known as thermal infrared sensors, which are designed in particular as a thermopile sensors, and in which the sensor is manufactured in micromechanical technology. In this case, located on the upper side of the sensor is made of a silicon substrate, a thin membrane, which is made of dielectric layers, for example SiO 2 or Si 3 N 4 or a combination thereof. The membrane is carried out by anisotropic etching, for example by KOH or EDP, whereby square membrane structures can arise in the silicon if the crystal orientation of the silicon chip is <100>. The walls of the silicon etch follow the so-called 111 plane, creating the characteristic oblique walls of about 54.7 °. Corresponding sensors for temperature measurement are eg from EP 1 039 280 A2 . EP 1 045 232 A2 . EP 0 599 364 B1 . US 3,801,949 . US 5,693,942 . DE 42 21 037 A1 and the DE 197 10 946 A1 known.

Aufgabe der Erfindung ist es, einen verbesserten Sensor zur Temperaturmessung und ein entsprechendes Verfahren zu dessen Herstellung anzugeben. Dabei ist es wünschenswert, einen entsprechenden Sensor bei gleicher Empfindlichkeit möglichst mit geringeren Abmessungen als die bekannten Sensoren zu gestalten, oder einen Sensor bei gleichen Abmessungen empfindlicher zu gestalten.The object of the invention is to provide an improved sensor for measuring temperature and a corresponding method for its production. It is desirable to design a corresponding sensor with the same sensitivity as possible with smaller dimensions than the known sensors, or to make a sensor with the same dimensions more sensitive.

Diese Aufgabe wird durch einen Sensor zum Messen einer Temperatur mittels eines auf und/oder unter einer über einer Aussparung angeordneten Membran aufgebrachten wärmesensitiven Bereichs gelöst, wobei die Aussparung durch ein reaktives Ionenätzverfahren geätzt ist. Als reaktives Ionenätzverfahren wird dabei in besonders vorteilhafterweise deep reactive ion etching (DRIE) eingesetzt. Ein derartiger Sensor weist eine in Bezug auf seine Größe besonders hohe Empfindlichkeit auf. Ein solcher Sensor ist insbesondere im Vergleich zu bekannten Sensoren bei gleicher Empfindlichkeit merklich kleiner. Dabei wird das reaktive Ionenätzverfahren in vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung derart eingesetzt, daß die Aussparung seitlich vollständig durch Seitenwände begrenzt ist, insbesondere wobei aneinandergrenzende Seitenwände in einem Winkel von mindestens 40° zueinander angeordnet sind. Mittels des reaktiven Ionenätzverfahrens wird zudem oder alternativ die Aussparung in vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung derart geätzt, daß zumindest eine Seitenwand (vorzugsweise alle Seitenwände) in einem Winkel zwischen 80° und 100° zu der Membran angeordnet ist (sind).This object is achieved by a sensor for measuring a temperature by means of a heat-sensitive region applied to and / or under a membrane arranged above a recess, the recess being etched by a reactive ion etching method. Deep reactive ion etching (DRIE) is used in a particularly advantageous manner as a reactive ion etching process. Such a sensor has a particularly high sensitivity in terms of its size. Such a sensor is noticeably smaller in comparison to known sensors with the same sensitivity. In this case, the reactive Ionenätzverfahren is used in an advantageous embodiment of the invention such that the recess laterally completely is bounded by side walls, in particular wherein adjoining side walls are arranged at an angle of at least 40 ° to each other. By means of the reactive ion etching method, the recess in an advantageous embodiment of the invention is additionally or alternatively etched such that at least one side wall (preferably all side walls) is (are) arranged at an angle between 80 ° and 100 ° to the membrane.

Die Aufgabe wird weiterhin durch einen Sensor zum Messen einer Temperatur mittels eines auf und/oder unter einer über einer Aussparung angeordneten Membran aufgebrachten wärmesensitiven Bereichs gelöst, wobei die Aussparung seitlich vollständig durch Seitenwände begrenzt ist, insbesondere wobei aneinandergrenzende Seitenwände in einem Winkel von mindestens 40° zueinander angeordnet sind, und wobei zumindest eine Seitenwand (vorzugsweise alle Seitenwände) in einem Winkel zwischen 80° und 100° zu der Membran angeordnet ist (sind). Ein solcher Sensor hat bei großer Sensitivität eine besonders geringe Abmessung. Ein solcher Sensor hat einen besonders schmalen Außenrand von Silizium und ist auf der Frontseite für Bondinseln und auf der Rückseite zur mechanischen Befestigung auf einer Gehäusebodenplatte mit Epoxidharz-Randfläche (typischerweise 0,1 bis 0,2 mm) geeignet.The object is further achieved by a sensor for measuring a temperature by means of a heat-sensitive region applied to and / or under a membrane arranged above a recess, the recess being laterally completely bounded by side walls, in particular adjacent side walls being at an angle of at least 40 ° are arranged to each other, and wherein at least one side wall (preferably all side walls) is arranged at an angle between 80 ° and 100 ° to the membrane (are). Such a sensor has a particularly small size with high sensitivity. Such a sensor has a particularly narrow outer edge of silicon and is suitable on the front for bonding islands and on the back for mechanical attachment to a housing bottom plate with epoxy resin edge surface (typically 0.1 to 0.2 mm).

In weiterhin vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung sind aneinandergrenzende Seitenwände in einem Winkel von mindestens 45°, vorteilhafterweise in einem Winkel von mindestens 80°, zueinander angeordnet.In a further advantageous embodiment of the invention adjoining side walls at an angle of at least 45 °, advantageously at an angle of at least 80 °, arranged to each other.

Auf dem wärmesensitiven Bereich kann eine sogenannte Passivierungsschicht, z.B. aus Si3N4, aufgebracht sein.On the heat-sensitive area, a so-called passivation layer, for example of Si 3 N 4 , may be applied.

Ein besonders kleiner Sensor wird durch eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung erzielt, bei der aneinandergrenzende Seitenwände in einem Winkel von im wesentlichen 90°, z.B. 80° bis 100°, zueinander angeordnet sind. Ein solcher Sensor hat bei großer Sensitivität eine besonders geringe Abmessung, denn ein solcher Sensor ist bei gleicher Sensitivität in etwa 0,5 - 0,7 mm kleiner als bekannte Sensoren.A particularly small sensor is achieved by an advantageous embodiment of the invention, in which adjoining side walls are at an angle of substantially 90 °, e.g. 80 ° to 100 °, are arranged to each other. With high sensitivity, such a sensor has a particularly small dimension, since such a sensor is approximately 0.5-0.7 mm smaller than known sensors with the same sensitivity.

In vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist zumindest eine Seitenwand derart in einem Winkel zwischen 70° und 90°, insbesondere in einem Winkel zwischen 85° und 90°, zu der Membran angeordnet, daß die die Aussparung begrenzende Fläche der Membran größer ist als eine der Membran gegenüber stehende offene (oder ggf. geschlossene) Fläche. Dabei sind vorteilhafterweise alle Seitenwände derart in einem Winkel zwischen 70° und 90°, insbesondere in einem Winkel zwischen 85° und 90°, zu der Membran angeordnet, daß die die Aussparung begrenzende Fläche der Membran größer ist als eine der Membran gegenüberstehende offene (oder ggf. geschlossene) Fläche. Ein solcher Sensor ist ohne Einbuße der Empfindlichkeit mechanisch besonders stabil.In an advantageous embodiment of the invention, at least one side wall is so arranged at an angle between 70 ° and 90 °, in particular at an angle between 85 ° and 90 ° to the membrane that the recess limiting surface of the membrane is greater than one of the membrane Opposite open (or possibly closed) surface. In this case, advantageously, all the side walls are arranged at an angle between 70 ° and 90 °, in particular at an angle between 85 ° and 90 °, to the membrane that the recess limiting surface of the membrane is greater than the membrane opposite open (or possibly closed) area. Such a sensor is mechanically stable without loss of sensitivity.

In weiterhin vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung bestehen alle Seitenwände im wesentlichen aus Silizium.In a further advantageous embodiment of the invention, all side walls consist essentially of silicon.

In weiterhin vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist der Sensor als Thermopile ausgebildet, wobei der wärmesensitive Bereich eine Reihenschaltung aus zumindest zwei thermoelektrischen Materialien, insbesondere Materialien jeweils aus p-leitendem Silizium und Aluminium oder n-leitendem Silizium und Aluminium oder p-leitendem Silizium und n-leitendem Silizium, aufweist. Das thermoelektrische Material kann kristallines oder polykristallines Silizium, Polysilizium-Germanium oder amorphes Silizium sein. Besonders vorteilhaft ist es dabei, wenn die Reihenschaltung nebeneinander angeordnete Bereiche aus p-leitendem Silizium und n-leitendem Silizium aufweist, die über eine Metallbrücke, insbesondere Aluminium (vorteilhafterweise mit zwei Kontaktfenstern), miteinander verbunden sind. Durch die Ausgestaltung der nebeneinander angeordneten Bereiche aus p-leitendem Silizium und n-leitendem Silizium läßt sich die Signalspannung des Sensors gegenüber einer Ausführungsform aus n-leitendem Polysilizium und Aluminium um 30 bis 80 % erhöhen.In a further advantageous embodiment of the invention, the sensor is designed as a thermopile, wherein the heat-sensitive region is a series circuit of at least two thermoelectric materials, in particular materials each of p-type silicon and aluminum or n-type silicon and aluminum or p-type silicon and n-type silicon. conductive silicon. The thermoelectric material may be crystalline or polycrystalline silicon, polysilicon germanium or amorphous silicon. It is particularly advantageous in this case, when the series circuit has juxtaposed regions of p-type silicon and n-type silicon, which are connected to one another via a metal bridge, in particular aluminum (advantageously with two contact windows). Due to the design of the adjacently arranged regions of p-type silicon and n-type silicon, the signal voltage of the sensor can be increased by 30 to 80% compared with an embodiment of n-type polysilicon and aluminum.

In weiterhin vorteilhafter Ausgestaltung des Sensors als Thermopile weist die Reihenschaltung zumindest eine p-leitende Siliziumschicht und zumindest eine n-leitende Siliziumschicht auf, die übereinander angeordnet und durch eine Isolationsschicht, insbesondere durch Siliziumoxid oder Siliziumnitrid, getrennt sind. Auf diese Weise läßt sich die Signalspannung des Sensors um weitere 10 bis 15 % erhöhen.In a further advantageous embodiment of the sensor as a thermopile, the series circuit has at least one p-type silicon layer and at least one n-type silicon layer, which are arranged one above the other and separated by an insulating layer, in particular by silicon oxide or silicon nitride. In this way, the signal voltage of the sensor can be increased by another 10 to 15%.

In weiterhin vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist der Sensor als pyroelektrischer Sensor ausgebildet, wobei der wärmesensitive Bereich einen Stapel aus zwei Elektrodenschichten und eine zwischen den zwei Elektrodenschichten angeordnete pyroelektrische Schicht, insbesondere eine pyroelektrische Dünnschicht, z.B. pyroelektrische Keramik oder Polymerschichten, aufweist, die insbesondere durch sputtern, Aufschleudern oder CVD-Prozess auf der unteren Elektrodenschicht aufgebracht ist.In a further advantageous embodiment of the invention, the sensor is designed as a pyroelectric sensor, wherein the heat-sensitive region comprises a stack of two electrode layers and a pyroelectric layer arranged between the two electrode layers, in particular a pyroelectric thin layer, e.g. pyroelectric ceramic or polymer layers, which is applied in particular by sputtering, spin-coating or CVD process on the lower electrode layer.

In weiterhin vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist der Sensor als Bolometer ausgebildet, wobei der wärmesensitive Bereich eine Mäanderschicht aus einem Metalloxid oder einem Halbleiter, insbesondere mit einem sehr hohen Temperaturkoeffizienten, d.h. insbesondere einem Temperaturkoeffizienten von mindestens 2·10-3 K-1, bevorzugt 2·10-2 K-1, des Widerstandes aufweist.In a further advantageous embodiment of the invention, the sensor is designed as a bolometer, wherein the heat-sensitive region a meander layer of a metal oxide or a semiconductor, in particular with a very high temperature coefficient, ie in particular a temperature coefficient of at least 2 × 10 -3 K -1 , preferably 2 · 10 -2 K -1 , of the resistance.

In weiterhin vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist die Membran rechteckig, vorteilhafterweise quadratisch. Dabei weist die Membran in vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung an ihren Ecken Aussparungen auf, so daß sich eine kreuzförmige Grundfläche ergibt. In diesen Aussparungen sind vorteilhafterweise Bondinseln vorgesehen.In a further advantageous embodiment of the invention, the membrane is rectangular, advantageously square. In this case, the membrane in an advantageous embodiment of the invention at its corners recesses, so that there is a cross-shaped base. In these recesses advantageously bonding islands are provided.

In weiterhin vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist der Sensor in einen Halbleiterchip, insbesondere einen Siliziumchip, integriert.In a further advantageous embodiment of the invention, the sensor is integrated in a semiconductor chip, in particular a silicon chip.

Beim einem Verfahren zum Herstellen eines erfindungsgemäßen Sensors zum Messen einer Temperatur wird vorteilhafterweise eine Membran auf einen Träger, vorteilhafterweise einen Silizium träger, aufgebracht und unter der Membran durch ein reaktives Ionenätzverfahren eine Aussparung in den Träger geätzt. Als reaktives Ionenätzverfahren wird dabei in besonders vorteilhafter Weise deep reactive ion etching (DRIE) eingesetzt.In a method for producing a sensor according to the invention for measuring a temperature is advantageously a membrane on a support, advantageously a silicon carrier, applied and etched under the membrane by a reactive ion etching a recess in the carrier. Deep reactive ion etching (DRIE) is used in a particularly advantageous manner as a reactive ion etching process.

Zur Herstellung der nahezu senkrechten Seitenwände der Ätzgruben im Silizium wird vorteilhaft ein sog. ICP-Reaktor (inductively coupled plasma) benutzt, bei dem im Gegensatz zu einem RIE-Reaktor (reactive ion etching) dem Plasma zusätzlich über induktive Einkopplung Energie zugeführt wird. Dies führt zu einer extrem hohen Ionisationsdichte und ermöglicht hohe Ätzraten von einigen µm Silizium pro Minute.To produce the almost vertical sidewalls of the etching pits in silicon, a so-called ICP reactor (inductively coupled plasma) is advantageously used, in which, in contrast to an RIE reactor (reactive ion etching), the plasma is additionally supplied with energy via inductive coupling. This leads to an extremely high ionization density and enables high etching rates of a few μm silicon per minute.

Das (isotrope) Ätzen erfolgt mit Fluor-Radikalen (z.B. SF6 als Ätzgas), wobei im rhythmischen Wechsel einer Ätzphase eine sog. Passivierungsphase folgt, bei der an der Oberfläche der Seitenwände (der Ätzgruben) eine Polymerschicht abgeschieden wird (z.B. durch Zugabe von C4F8), die eine seitlich gerichtete Ätzung verhindert. Am Boden der Gruben wird durch Anlegen einer BIAS-Spannung die Polymerbildung verhindert. Dieser Prozeß ist z.B. in der US 550 18 93 näher offenbartThe (isotropic) etching is carried out with fluorine radicals (eg SF6 as etching gas), the rhythmic change of an etching phase followed by a so-called passivation phase in which a polymer layer is deposited on the surface of the side walls (of the etching pits) (eg by adding C4F8 ), which prevents a laterally directed etching. At the bottom of the pits, polymerisation occurs by applying a bias voltage prevented. This process is eg in the US 550 18 93 disclosed in more detail

Überraschenderweise hat sich gezeigt, daß oben beschriebenes Verfahren (im folgenden auch als Prozeß bezeichnet) für folgende Anwendungen einsetzbar ist:

  • Sogenanntes "Through the wafer etching": Im Gegensatz zu üblichen Prozessen mit einer Ätztiefe von wenigen zehn µm wird der Wafer vollständig durchgeätzt (Ätztiefe ca. 200 bis 800 µm)
  • Die dem Plasma während des Ätzvorganges ausgesetzte Fläche beträgt ca. 20% bis 50% der gesamten Waferfläche. (Übliche Prozesse ätzen auf nur wenigen % der Gesamtfläche.) Um eine ausreichende Homogenität der Ätztiefe über den gesamten Wafer sicherzustellen, muß der Prozeß mit sehr geringer Selektivität zum Maskenmaterial geführt werden. Dies wiederum erfordert die Verwendung eines extrem widerstandsfähigen Maskenmaterials.
Surprisingly, it has been found that the method described above (also referred to below as a process) can be used for the following applications:
  • So-called "Through the wafer etching": In contrast to conventional processes with an etching depth of a few tens of μm, the wafer is etched through completely (etching depth approx. 200 to 800 μm)
  • The area exposed to the plasma during the etching process is about 20% to 50% of the total wafer area. (Conventional processes etch only a few% of the total area.) In order to ensure sufficient homogeneity of the etch depth over the entire wafer, the process must be conducted to the mask material with very low selectivity. This in turn requires the use of an extremely resistant mask material.

Weiterhin hat sich gezeigt, daß durch eine geeignete Prozeßführung bestimmte Eigenschaften des Sensorelements beeinflußt werden können:

  • Durch Reduzierung der Passivierungszyklen verläuft der Ätzprozeß etwas weniger anisotrop und man erreicht keine ideal vertikalen Wände, sondern eine Aufweitung der Ätzgrube nach unten. Man bezeichnet dieses Ätzprofil als "re-entrant". Dies ist v.a. bei Mehrelementsensoren von Vorteil, bei denen eine dünne Zwischenwand von einigen µm eine Ätzgrube von der danebenliegenden trennt. Die Wände sind an der Waferrückseite dünner als an der Membranseite, was zu erhöhter Stabilität führt.
  • Um beim Auftreffen auf die dielektrische Membran diese nicht zu schädigen und trotzdem eine gute Strukturübertragung und saubere Membranoberfläche sicherzustellen, sollte der Gesamtprozeß in mehreren Schritten erfolgen, die sich in der Wahl der Prozeßparameter grundlegend unterscheiden. Nach einem ersten Prozeßschritt mit guter Homogenität und (vorteilhaft) hoher Ätzrate folgt, sobald die Membran erreicht wird, ein Prozeßschritt mit sehr hoher Selektivität zum Membranmaterial, d.h. geringer Ätzrate bzgl. Siliziumoxid. Ein nachfolgender rein isotroper Prozeßschritt (d.h. ohne Passivierungszyklen) schließlich entfernt eventuelle Siliziumreste auf der Membran.
  • Zur Säuberung der Membran kann weiterhin ein kurze naßchemische Ätzung in TMAHW (Tetraammoniumhydroxid in Wasser) verwendet werden, wobei durch geeignete Verfahren, z.B. Abdeckung durch Photolack, die Wafervorderseite geschützt wird.
Furthermore, it has been found that certain properties of the sensor element can be influenced by a suitable process control:
  • By reducing the Passivierungszyklen the etching process is somewhat less anisotropic and you reach no ideal vertical walls, but a widening of the etch pit down. This etched profile is called a "re-entrant". This is particularly advantageous in the case of multi-element sensors in which a thin intermediate wall of a few μm separates an etching pit from the adjacent one. The walls are thinner at the back of the wafer than at the membrane side, which leads to increased stability.
  • In order not to damage the dielectric membrane when it hits the dielectric membrane and still ensure a good structure transfer and clean membrane surface, the overall process should be carried out in several steps, which differ fundamentally in the choice of process parameters. After a first process step with good homogeneity and (advantageously) high etching rate, as soon as the membrane is reached, a process step with very high selectivity to the membrane material follows, ie low etching rate with respect to silicon oxide. A subsequent purely isotropic process step (ie without Passivierungszyklen) eventually removes any silicon residues on the membrane.
  • To clean the membrane, a short wet-chemical etching in TMAHW (tetraammonium hydroxide in water) can furthermore be used, the wafer front side being protected by suitable methods, for example covering by photoresist.

In vorteilhafter Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird vor dem Ätzen der Aussparung auf einer der Membran abgewandten Seite des Trägers eine Schicht mit niedriger Ätzrate für das reaktive Ionenätzverfahren aufgebracht. Eine solche Schicht ist vorteilhafterweise eine photolithographisch strukturierbare Schicht, z.B. eine Schicht aus dickem Photolack, eine Siliziumoxidschicht oder eine Metallschicht.

  • In weiterhin vorteilhafter Ausgestaltung dieses Verfahrens wird auf die Membran ein wärmesensitiver Bereich aufgebracht.
In an advantageous embodiment of the method according to the invention, a layer with a low etch rate for the reactive ion etching method is applied before etching the recess on a side of the carrier facing away from the membrane. Such a layer is advantageously a photolithographically structurable layer, for example a layer of thick photoresist, a silicon oxide layer or a metal layer.
  • In a further advantageous embodiment of this method, a heat-sensitive area is applied to the membrane.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den Unteransprüchen und aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen. Dabei zeigen:

Fig. 1
einen bekannten Sensor zur Temperaturmessung;
Fig. 2
ein Ausführungsbeispiel für einen erfindungsgemäßen Temperatursensor;
Fig. 3
ein weiteres Ausführungsbeispiel für einen erfindungsgemäßen Temperatursensor;
Fig. 4
den Einsatz eines erfindungsgemäßen Temperatursensors in einer Temperaturmeßeinrichtung;
Fig. 5
den Einsatz eines erfindungsgemäßen Temperatursensors in einer Temperaturmeßeinrichtung;
Fig. 6
einen Chipkörper;
Fig. 7
eine besonders vorteilhafte Ausgestaltung eines Chipkörpers;
Fig. 8
eine Draufsicht auf ein als Thermopile ausgestalteten Temperatursensor;
Fig. 9
eine Seitenansicht eines weiteren als Thermopile ausgebildeten Temperatursensors;
Fig. 10
eine besonders vorteilhafte Ausgestaltung eines als Thermopile ausgestalteten Temperatursensors;
Fig. 11
eine Seitenansicht eines als pyroelektrischer Sensor ausgebildeten Temperatursensors;
Fig. 12
einen Chip mit mehreren Sensoren; und
Fig. 13
ein prinzipielles Verfahren zum Herstellen eines Sensors.
Further advantageous embodiments will become apparent from the dependent claims and from the following description of exemplary embodiments. Showing:
Fig. 1
a known sensor for temperature measurement;
Fig. 2
an embodiment of a temperature sensor according to the invention;
Fig. 3
a further embodiment of a temperature sensor according to the invention;
Fig. 4
the use of a temperature sensor according to the invention in a temperature measuring device;
Fig. 5
the use of a temperature sensor according to the invention in a temperature measuring device;
Fig. 6
a chip body;
Fig. 7
a particularly advantageous embodiment of a chip body;
Fig. 8
a plan view of a designed as a thermopile temperature sensor;
Fig. 9
a side view of another designed as a thermopile temperature sensor;
Fig. 10
a particularly advantageous embodiment of a designed as a thermopile temperature sensor;
Fig. 11
a side view of a formed as a pyroelectric sensor temperature sensor;
Fig. 12
a chip with multiple sensors; and
Fig. 13
a principle method for producing a sensor.

Fig. 1 zeigt einen bekannten Sensor 1 zur Temperaturmessung. Dieser weist einen Siliziumkörper 2 mit einer Aussparung 8 auf. Über der Aussparung ist eine Membran 3 angeordnet. Auf der Membran ist ein wärmesensitiver Bereich 4 aufgebracht. Die Aussparung 8 ist durch Seitenwände 5 begrenzt, die zu der Unterseite 6 des Chipkörpers 2, d.h. der in Bezug auf die Aussparung 8 der Membran 3 gegenüberliegenden Seite, in einem Winkel α von ca. 54,7° angeordnet sind.Fig. 1 shows a known sensor 1 for temperature measurement. This has a silicon body 2 with a recess 8. About the recess, a membrane 3 is arranged. On the membrane, a heat-sensitive region 4 is applied. The recess 8 is bounded by side walls 5 facing towards the underside 6 of the chip body 2, i. the opposite with respect to the recess 8 of the membrane 3 side, are arranged at an angle α of about 54.7 °.

Fig. 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel für einen erfindungsgemäßen Sensor 10 zur Temperaturmessung. Dieser weist einen Chipkörper 12 mit einer Aussparung 18 auf. Die Aussparung 18 ist seitlich durch Seitenwände 15 begrenzt. Über der Aussparung 18 ist eine Membran 13 angeordnet. Auf der Membran 13 ist wiederum ein wärmesensitiver Bereich 14 angeordnet. Dieser ist in besonders vorteilhafter Ausgestaltung infrarotsensitiv. Die Seitenwände 15 der Aussparung 18 sind zu der Unterseite 16 des Chipkörpers 12 in einem Winkel α ausgerichtet. Der Winkel α beträgt vorteilhafterweise 80 bis 100°. In Bezug auf die Membran 13 sind die Seitenwände 15 in einem Winkel β von entsprechend 100 bis 80° angeordnet.Fig. 2 shows an embodiment of a sensor 10 according to the invention for temperature measurement. This has a chip body 12 with a recess 18. The recess 18 is bounded laterally by side walls 15. Over the recess 18, a membrane 13 is arranged. On the membrane 13, in turn, a heat-sensitive region 14 is arranged. This is infrared sensitive in a particularly advantageous embodiment. The side walls 15 of the recess 18 are aligned with the bottom 16 of the chip body 12 at an angle α. The angle α is advantageously 80 to 100 °. With respect to the diaphragm 13, the side walls 15 are arranged at an angle β of 100 to 80 °, respectively.

Fig. 3 zeigt einen gegenüber dem Temperatursensor 10 in Fig. 2 vorteilhaften Sensor 30 zum Messen einer Temperatur. Dabei haben gleiche Teile die gleichen Bezugszeichen wie in Fig. 2. Die Seitenwände 15 der Aussparung 18 beim Sensor 30 sind derart zur Membran 13 angeordnet, daß der Winkel β zwischen 80 und 89° beträgt. Auf diese Weise ist die der Membran 13 gegenüberliegende Fläche 17 an der Unterseite 16 des Chipkörpers 12 kleiner als die die Aussparung 18 begrenzende Fläche der Membran 13. Bei vemachlässigbarem Verlust an Sensitivität wird auf diese Weise ein besonders stabiler Chipkörper 12 mit geringen Außenabmessungen erreicht.FIG. 3 shows a sensor 30, which is advantageous over the temperature sensor 10 in FIG. 2, for measuring a temperature. The same parts have the same reference numerals as in Fig. 2. The side walls 15 of the recess 18 in the sensor 30 are arranged to the diaphragm 13 so that the angle β is between 80 and 89 °. In this way, the membrane 13 opposite surface 17 at the Bottom 16 of the chip body 12 smaller than the recess 18 limiting surface of the membrane 13. With negligible loss of sensitivity in this way a particularly stable chip body 12 is achieved with small outer dimensions.

Die Membran 13 der Sensoren 10 und 20 in den Fig. 2 und Fig. 3 besteht vorteilhafterweise aus dielektrischen Schichten, z.B. aus SiO2 oder Si3N4 SiC oder deren Kombination. Die Membran wird durch reaktives Trockenätzen (sogenanntes DRIE) ausgeführt.The membrane 13 of the sensors 10 and 20 in FIGS. 2 and 3 advantageously consists of dielectric layers, for example of SiO 2 or Si 3 N 4 SiC or their combination. The membrane is carried out by reactive dry etching (so-called DRIE).

Bei Ausgestaltung der Sensoren 10 bzw. 20 als Thermopile weist der wärmesensitive Bereich 14 eine Reihenschaltung aus zumindest zwei thermoelektrischen Materialien, wie etwa n-leitendes Polysilizium und Aluminium, p-leitendes Polysilizium und Aluminium oder vorteilhafterweise n-leitendes und p-leitendes Silizium, auf. Bei einer Ausgestaltung des Sensors 10 bzw. des Sensors 20 als pyroelektrischer Sensor weist der wärmesensitive Bereich 14 eine pyroelektrische Dünnschicht zwischen einer Metallrückelektrode und einer Deckelelektrode auf. In einer Ausführung des Sensors 10 bzw. des Sensors 20 als Bolometer weist der wärmesensitive Bereich 14 eine Mäanderschicht aus einem Metalloxid oder einem Halbleiter auf.When the sensors 10 and 20 are designed as thermopile, the heat-sensitive region 14 has a series arrangement of at least two thermoelectric materials, such as n-type polysilicon and aluminum, p-type polysilicon and aluminum or advantageously n-type and p-type silicon , In an embodiment of the sensor 10 or the sensor 20 as a pyroelectric sensor, the heat-sensitive region 14 has a pyroelectric thin film between a metal back electrode and a cover electrode. In an embodiment of the sensor 10 or of the sensor 20 as a bolometer, the heat-sensitive region 14 has a meandering layer of a metal oxide or a semiconductor.

Fig. 4 und Fig. 5 zeigen den vorteilhaften Einsatz eines Sensors 20 in einer Temperaturmeßeinrichtung. Anstelle des Sensors 20 kann auch der Sensor 10 verwendet werden. Gemäß dem Ausführungsbeispiel in Fig. 4 ist der Sensor 20 auf einer Bodenplatte 31, insbesondere zentrisch, plaziert. Die Bodenplatte 31 ist z.B. eine Transistor-Bodenplatte TO-5 oder TO-18. Der Chip 20 wird vorteilhafterweise mittels eines Epoxidharzklebers mit guter Wärmeleitfähigkeit auf die Bodenplatte 31 geklebt.Fig. 4 and Fig. 5 show the advantageous use of a sensor 20 in a temperature measuring device. Instead of the sensor 20, the sensor 10 may also be used. According to the exemplary embodiment in FIG. 4, the sensor 20 is placed on a base plate 31, in particular centrally. The bottom plate 31 is, for example, a transistor base plate TO-5 or TO-18. The chip 20 is advantageously glued to the bottom plate 31 by means of an epoxy resin adhesive with good thermal conductivity.

Durch die Bodenplatte 31 sind Kontakte 32, 33 und 34 geführt. Die Kontakte 32 und 33 sind über leitende Verbindungen 38 und 37 mit sogenannten Bondinseln 45 und 46 auf dem Sensor 20 verbunden.Through the bottom plate 31 contacts 32, 33 and 34 are guided. The contacts 32 and 33 are connected via conductive connections 38 and 37 to so-called bonding pads 45 and 46 on the sensor 20.

Vorteilhafterweise ist zur Messung der Eigentemperatur der Temperaturmeßeinrichtung 30 ein zusätzlicher Temperatursensor 36 auf der Bodenplatte 31 angeordnet. Dieser ist über einen Leiter 39 mit dem Kontakt 34 verbunden.Advantageously, an additional temperature sensor 36 is arranged on the bottom plate 31 for measuring the temperature of the temperature measuring device 30. This is connected via a conductor 39 to the contact 34.

Auf der Bodenplatte ist - wie in Fig. 5 dargestellt - ein Gehäuse 41 angeordnet, das den Sensor 20 umschließt. Das Gehäuse 41 weist einen Infrarotfilter 40 auf. In vorteilhafter Weise ist das Gehäuse 41 als Transistorkappe ausgeführt.As shown in FIG. 5, a housing 41 which surrounds the sensor 20 is arranged on the base plate. The housing 41 has an infrared filter 40. Advantageously, the housing 41 is designed as a transistor cap.

Fig. 6 zeigt den Aufbau des Chipkörpers 12. Das Bezugszeichen 18 bezeichnet die Aussparung und das Bezugszeichen 15 bezeichnet die Seitenwände. Die Seitenwände sind vorteilhafterweise in etwa rechtwinklig zueinander angeordnet, d.h. der mit dem Bezugszeichen γ bezeichnete Winkel ist in etwa 90°.Fig. 6 shows the structure of the chip body 12. The reference numeral 18 denotes the recess and the reference numeral 15 denotes the side walls. The side walls are advantageously arranged approximately at right angles to each other, i. the angle designated by the reference symbol γ is approximately 90 °.

Fig. 7 zeigt eine besonders vorteilhafte Ausgestaltung des Chipkörpers 12. Dabei weist die Aussparung 18 eine kreuzförmige Grundfläche auf, so daß der Chipkörper 12 die Aussparung 18 mit massiven Ecken 50, 51, 52 und 53 begrenzt. In den Ecken 51, 52 und 53 sind Bondinseln 55, 56 und 57 vorgesehen.Fig. 7 shows a particularly advantageous embodiment of the chip body 12. In this case, the recess 18 has a cross-shaped base, so that the chip body 12, the recess 18 with solid corners 50, 51, 52 and 53 limited. In the corners 51, 52 and 53, bonding pads 55, 56 and 57 are provided.

Fig. 8 zeigt eine Draufsicht auf einen als Thermopile ausgebildeten Temperatursensor. Dabei sind auf der Membran 13 Streifen 90, 91, 92, 93 aus p-leitendem Silizium, p-leitendem polykristallinem Silizium oder p-leitendem polykristallinem Silizium-Germanium und Streifen 100, 101, 102, 103 aus n-leitendem Silizium, n-leitendem polykristallinem Silizium oder n-leitendem polykristallinem Silizium-Germanium angeordnet. Die einzelnen Streifen 90, 91, 92, 93, 100, 101, 102, 103 sind über Stege 80, 81, 82, 83, 84, 85, 86, vorteilhafterweise Aluminiumstege, miteinander zu einer elektrischen Reihenschaltung verbunden. In Fig. 8 ist eine Konfiguration mit acht Streifen dargestellt. Vorteilhafterweise sind auf der Membran 13 zwanzig bis zweihundert Streifen, vorzugsweise sechzig bis hundertzwanzig Streifen,k angeordnet. Selbstverständlich sind alternative Ausführungen zu den Stegen 80, 81, 82, 83, 84, 85, 86 zur Erzielung einer Reihenschaltung der Streifen 90, 91, 92, 93, 100, 101, 102, 103 möglich.Fig. 8 shows a plan view of a thermopile formed as a temperature sensor. Strips 90, 91, 92, 93 of p-type silicon, p-type polycrystalline silicon or p-type polycrystalline silicon germanium, and strips 100, 101, 102, 103 of n-type silicon, are present on the membrane 13. conductive polycrystalline silicon or n-type polycrystalline silicon germanium arranged. The individual strips 90, 91, 92, 93, 100, 101, 102, 103 are connected to one another via webs 80, 81, 82, 83, 84, 85, 86, advantageously aluminum webs, to form an electrical series circuit. In Fig. 8, a configuration with eight stripes is shown. Advantageously, twenty to two hundred strips, preferably sixty to one hundred and twenty strips, k are arranged on the membrane 13. Of course, alternative embodiments to the webs 80, 81, 82, 83, 84, 85, 86 to achieve a series connection of the strips 90, 91, 92, 93, 100, 101, 102, 103 are possible.

Fig. 9 zeigt eine Seitenansicht eines alternativen als Thermopile ausgebildeten Temperatursensors. Dabei umfaßt der auf der Membran 13 angeordnete wärmesensitive Bereich zwei Schichten 110 und 112 aus thermoelektrischem Material, die durch eine Isolationsschicht 111, z.B. aus Siliziumnitrid oder Siliziumoxid, getrennt sind. Die Schicht 110 besteht dabei aus n-leitendem oder p-leitendem Silizium, n-leitendem oder p-leitendem polykristallinem Silizium oder n-leitendem oder p-leitendem polykristallinem Silizium-Germanium. Die Schicht 112 besteht aus p-leitendem oder n-leitendem Silizium, p-leitendem oder n-leitendem polykristallinem Silizium oder p-leitendem oder n-leitendem polykristallinem Silizium-Germanium. Die beiden Schichten sind mittels eines nicht dargestellten Kontaktfensters in Reihe geschaltet. In vorteilhafter Ausgestaltung sind zwei oder drei durch weitere Isolationsschichten voneinander getrennte Anordnungen gemäß der Anordnung der Schichten 110, 111 und 112 vorgesehen.9 shows a side view of an alternative temperature sensor designed as a thermopile. In this case, the heat-sensitive region arranged on the membrane 13 comprises two layers 110 and 112 of thermoelectric material, which are covered by an insulating layer 111, e.g. silicon nitride or silicon oxide. The layer 110 consists of n-type or p-type silicon, n-type or p-type polycrystalline silicon or n-type or p-type polycrystalline silicon germanium. The layer 112 consists of p-type or n-type silicon, p-type or n-type polycrystalline silicon or p-type or n-type polycrystalline silicon germanium. The two layers are connected in series by means of a contact window, not shown. In an advantageous embodiment, two or three separate arrangements by further insulation layers arrangements according to the arrangement of the layers 110, 111 and 112 are provided.

Besonders vorteilhaft ist es, n-leitende und p-leitende Schichten sowohl übereinander als auch nebeneinander anzuordnen, wobei die einzelnen Schichten in Reihe geschaltet sind. Ein vereinfachtes Beispiel einer solchen Schichtung zeigt Fig. 10. Dabei bezeichnen Bezugszeichen 120, 124, 132 und 136 Schichten bzw. Streifen aus n-leitendem Silizium, n-leitendem polykristallinem Silizium oder n-leitendem polykristallinem Silizium-Germanium. Bezugszeichen 122, 126, 130 und 134 bezeichnen Schichten bzw. Streifen aus p-leitendem Silizium, p-leitendem polykristallinem Silizium oder p-leitendem polykristallinem Silizium-Germanium. Bezugszeichen 121, 123, 125, 131, 133, 135 bezeichnen Isolationsschichten. Die Schichten 120 und 122, 122 und 124, 124 und 126, 130 und 132, 132 und 134 sowie 134 und 136 sind über Kontaktfenster miteinander elektrisch verbunden. Die Schichten 126 und 136 sind über einen Aluminiumsteg 139 miteinander elektrisch verbunden, so daß sich eine Reihenschaltung aus den Schichten 120, 122, 124, 126, 136, 134, 132 und 130 ergibt. Dabei ist vorteilhafterweise vorgesehen, entsprechend Fig. 8 mehr als zwei Stapel aus Schichten 120 bis 126 und 130 bis 136 vorzusehen.It is particularly advantageous to arrange n-type and p-type layers both one above the other and next to each other, wherein the individual layers are connected in series. A simplified example of such a layering is shown in FIG. 10. Reference numerals 120, 124, 132 and 136 denote layers of n-type silicon, n-type polycrystalline silicon or n-type polycrystalline silicon germanium. Reference numerals 122, 126, 130 and 134 denote layers of p-type silicon, p-type polycrystalline silicon or p-type polycrystalline silicon germanium. Reference numerals 121, 123, 125, 131, 133, 135 denote insulation layers. Layers 120 and 122, 122 and 124, 124 and 126, 130 and 132, 132 and 134, and 134 and 136 are electrically interconnected via contact windows. The layers 126 and 136 are electrically connected to each other via an aluminum web 139, so that a series circuit of the layers 120, 122, 124, 126, 136, 134, 132 and 130 results. It is advantageously provided, as shown in FIG. 8 more than two stacks of layers 120 to 126 and 130 to provide 136.

Fig. 11 zeigt die Seitenansicht eines Ausführungsbeispiels für einen als pyroelektrischen Sensor ausgebildeten Temperatursensor. Dabei umfaßt der auf der Membran 13 aufgebrachte wärmesensitive Bereich eine Unterelektrode 140 und eine Oberelektrode 142 sowie eine zwischen der Unterelektrode 140 und der Oberelektrode 142 angeordnete pyroelektrische Schicht.11 shows the side view of an exemplary embodiment of a temperature sensor designed as a pyroelectric sensor. In this case, the heat-sensitive region applied to the membrane 13 comprises a lower electrode 140 and an upper electrode 142 and a pyroelectric layer arranged between the lower electrode 140 and the upper electrode 142.

Die erfindungsgemäßen Sensoren können einzeln oder zu mehreren auf einem Chip angeordnet werden. Letzteres ist in Fig. 12 dargestellt. Dabei zeigt Fig. 12 einen Chip 200, der mehrere Sensoren 20 gemäß Fig. 3 umfaßt.The sensors according to the invention can be arranged individually or in a plurality on a chip. The latter is shown in FIG. 12. In this case, FIG. 12 shows a chip 200, which comprises a plurality of sensors 20 according to FIG. 3.

Fig. 13 zeigt ein prinzipielles Verfahren zum Herstellen eines Sensors 10 bzw. 20. Dabei wird in einem ersten Schritt 70 zunächst die Membran 13 auf einem Träger aufgebracht, der im fertigen Zustand des Sensors den Siliziumkörper 12 bildet.FIG. 13 shows a principle method for producing a sensor 10 or 20. In a first step 70, the membrane 13 is first applied to a carrier which forms the silicon body 12 in the finished state of the sensor.

In einem nächsten Schritt 71 wird auf einer der Membran abgewandten Seite 16 des Trägers, d.h. in Bezug auf vorgenannte Ausführungsbeispiele der Seite 16 des Siliziumkörpers 12, eine Schicht mit niedriger Ätzrate für das reaktive Ionenätzverfahren aufgebracht. Eine solche Schicht ist vorteilhafterweise eine photolithographisch strukturierbare Schicht (siehe oben).In a next step 71, on a side 16 of the carrier facing away from the membrane, i. with respect to aforementioned embodiments of side 16 of silicon body 12, a low etch rate layer is applied for the reactive ion etch process. Such a layer is advantageously a photolithographically structurable layer (see above).

In einem weiteren Schritt 72 wird ein wärmesensitiver Bereich 14 auf die Membran 13 aufgebracht.In a further step 72, a heat-sensitive region 14 is applied to the membrane 13.

In einem weiteren Schritt 73 wird anschließend unter der Membran eine Aussparung durch ein vorhergehend erläutertes reaktives Ionenätzverfahren in den Träger geätzt.In a further step 73, a recess is subsequently etched into the carrier under the membrane by means of a previously explained reactive ion etching method.

Schritt 73 kann auch vor dem Schritt 72 erfolgen.Step 73 may also be performed prior to step 72.

In besonders vorteilhafter Weise wird bei allen Ausgestaltungen der Sensoren der wärmesensitive Bereich mit einer infrarotabsorbierenden Schicht (in den Figuren nicht dargestellt), die photolithographisch strukturierbar ist, abgedeckt (siehe Anspruch 24). Diese Schicht ist vorteilhafterweise ein Photolack mit Absorberpartikeln, wie er insbesondere in der DE 4221037 A1 "Thermischer Sensor mit Absorberschicht" offenbart ist.In a particularly advantageous manner, in all configurations of the sensors, the heat-sensitive region is covered with an infrared-absorbing layer (not illustrated in the figures) which can be patterned photolithographically (see claim 24). This layer is advantageously a photoresist with absorber particles, as in particular in DE 4221037 A1 "Thermal sensor with absorber layer" is disclosed.

Claims (15)

Temperaturmeßvorrichtung mit einem Sensor auf einer Bodenplatte, sich durch die Bodenplatte geführten Kontakten, die mit dem Sensor kontaktiert sind, wobei der Sensor einen Chipkörper mit einer Aussparung und einer die Aussparung überspannenden Membran aufweist, wobei die Aussparung durch reaktives Ionenätzen hergestellt ist.A temperature measuring device comprising a sensor on a bottom plate, contacts passed through the bottom plate contacted with the sensor, the sensor comprising a chip body having a recess and a membrane spanning the recess, the recess being made by reactive ion etching. Vorrichtung (10, 20) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Sensor einen wärmesensitive Bereich (14) aufweist, der eine Reihenschaltung aus zumindest zwei thermoelektrischen Materialien aufweist.Device (10, 20) according to claim 1, characterized in that the sensor has a heat-sensitive region (14) which comprises a series connection of at least two thermoelectric materials. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Querschnittsfläche der Aussparung unmittelbar unter der Membran größer ist als die Fläche der Aussparung auf der von der Membran entfernt liegenden Seite des Chipkörpers.Apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the cross-sectional area of the recess immediately below the membrane is greater than the area of the recess on the side remote from the membrane of the chip body. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Aussparung durch geradlinige Seitenwände begrenzt ist, von denen eine oder mehrere mit der Membran einen Winkel zwischen 80° und 100° einschließen, und/oder von denen zwei oder mehr einen Winkel von größer 80° zueinander haben.Apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the recess is bounded by rectilinear side walls, one or more of which enclose an angle between 80 ° and 100 ° with the diaphragm, and / or two or more of which are at an angle of greater than 80 ° ° to each other. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Chipkörper auf der Bodenplatte mit einem Epoxidharzkleber verbunden ist.Device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the chip body is connected to the bottom plate with an epoxy resin adhesive. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Bodenplatte ein Temperatursensor für die Eigentemperatur des Sensors angeordnet ist.Device according to one or more of the preceding claims, characterized in that a temperature sensor for the intrinsic temperature of the sensor is arranged on the base plate. Sensor (10,20) zum Messen einer Temperatur mittels eines auf und/oder unter einer Membran (13) aufgebrachten wärmesensitiven Bereichs (14), wobei der wärmesensitive Bereich (14) eine Reihenschaltung aus zumindest zwei thermoelektrischen Materialien aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass eines der thermoelektrischen Materialien jeweils p-leitendes Silizium, polykristallines Silizium oder polykristallines Silizium-Germanium aufweist und das andere Material n-leitendes Silizium, polykristallines Silizium oder polykristallines Silizium-Germanium aufweist.A sensor (10, 20) for measuring a temperature by means of a heat-sensitive region (14) applied to and / or under a membrane (13), the heat-sensitive region (14) comprising a series connection of at least two thermoelectric materials, characterized in that the thermoelectric materials each comprise p-type silicon, polycrystalline silicon or polycrystalline silicon germanium, and the other material comprises n-type silicon, polycrystalline silicon or polycrystalline silicon germanium. Sensor nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Materialien schichtweise ausgebildet, nebeneinander angeordnet und seriell miteinander verbunden sind.Sensor according to claim 7, characterized in that the two materials are formed in layers, juxtaposed and connected in series. Sensor nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Materialien schichtweise ausgebildet, übereinander angeordnet und seriell miteinander verbunden sind, wobei eine Isolierschicht zwischen ihnen vorgesehen sein kann.Sensor according to claim 7 or 8, characterized in that the two materials layered, stacked and connected in series, with an insulating layer may be provided between them. Sensor(10,20) zum Messen einer Temperatur mittels eines auf und/oder unter einer Membran (13) aufgebrachten wärmesensitiven Bereichs (14), wobei die Membran von einem Chipkörper mit einer Aussparung unter der Membran gehalten wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Querschnittsfläche der Aussparung unmittelbar unter der Membran größer ist als die Fläche der Aussparung auf der von der Membran entfernt liegenden Seite des Chipkörpers.A sensor (10, 20) for measuring a temperature by means of a heat-sensitive region (14) applied to and / or under a membrane (13), the membrane being held by a chip body having a recess underneath the membrane, characterized in that the cross-sectional area the recess immediately below the membrane is larger than the area of the recess on the side of the chip body remote from the membrane. Sensor nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass eine oder mehrere der Seitenwände der Aussparung eben sind und eine oder mehrere der Seitenwände mit der Membran einen Winkel zwischen 80° und 89° einschließen.Sensor according to claim 10, characterized in that one or more of the side walls of the recess are flat and include one or more of the side walls with the membrane at an angle between 80 ° and 89 °. Sensor (10, 20) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass aneinandergrenzende Seitenwände in einem Winkel von mindestens 80°, vorzugsweise 90° zueinander angeordnet sind.Sensor (10, 20) according to any one of the preceding claims, characterized in that adjoining side walls are arranged at an angle of at least 80 °, preferably 90 ° to each other. Sensor (10, 20) zum Messen einer Temperatur mittels eines auf und/oder unter einer Membran (13) aufgebrachten wärmesensitiven Bereichs (14), wobei die Membran über einer Aussparung (18) angeordnet ist, die seitlich vollständig durch Seitenwände (15) begrenzt ist, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine Seitenwand (15) in einem Winkel b zwischen 80° und 100° zu der Membran angeordnet ist.A sensor (10, 20) for measuring a temperature by means of a heat-sensitive region (14) applied to and / or under a membrane (13), the membrane being arranged above a recess (18) is laterally completely bounded by side walls (15), characterized in that at least one side wall (15) is arranged at an angle b between 80 ° and 100 ° to the membrane. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6 mit einem Sensor nach einem oder mehreren der Ansprüche 7 bis 13.Device according to one or more of claims 1 to 6 with a sensor according to one or more of claims 7 to 13. Verfahren zum Herstellen eines Sensors zum Messen einer Temperatur, insbesondere Verfahren zum Herstellen eines Sensors nach einem der Ansprüche 7 bis 13, wobei in einer Aktivierungsphase eine Aussparung mit Seitenwänden mittels eines reaktiven Ionenätzverfahrens in einen Träger geätzt wird, wobei in einer Passivierungsphase eine Schutzschicht, insbesondere eine Polymerschicht, an den Seitenwänden abgelagert wird, die einen Abtrag von Material von den Seitenwänden verhindert oder deutlich vermindert, und wobei des Verfahren zum Herstellen des Sensors mehrere alternierende Aktivierungsphasen und Passivierungsphasen umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die Passivierungsphasen abgeschwächt und/oder verkürzt werden und/oder daß die Aktivierungsphasen verstärkt und/oder verlängert werden.Method for producing a sensor for measuring a temperature, in particular method for producing a sensor according to one of claims 7 to 13, wherein in an activation phase, a recess with side walls is etched into a carrier by means of a reactive ion etching method, wherein in a passivation phase a protective layer, in particular a polymer layer is deposited on the sidewalls, which prevents or significantly reduces removal of material from the sidewalls, and wherein the method for producing the sensor comprises a plurality of alternating activation phases and passivation phases, characterized in that the passivation phases are attenuated and / or shortened and / or that the activation phases are reinforced and / or extended.
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