EP1180521A1 - Method of producing allyltrichlorosilane - Google Patents

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EP1180521A1
EP1180521A1 EP00117800A EP00117800A EP1180521A1 EP 1180521 A1 EP1180521 A1 EP 1180521A1 EP 00117800 A EP00117800 A EP 00117800A EP 00117800 A EP00117800 A EP 00117800A EP 1180521 A1 EP1180521 A1 EP 1180521A1
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EP
European Patent Office
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reactor
range
temperature
chloropropyltrichlorosilane
pts
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Christoph Dr. Batz-Sohn
Eckhard Just
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Evonik Operations GmbH
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Degussa GmbH
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/121Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
    • C07F7/127Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions not affecting the linkages to the silicon atom

Definitions

  • the present invention relates to a new process for the production of Allyltrichlorosilane.
  • allyltrichlorosilane can be produced via the following routes:
  • a Grignard reaction can be used to convert allyl halides, preferably allyl bromide, magnesium metal and SiCl 4 in ethers to allyl trichlorosilane (J. Am. Chem. Soc. (1951), 73 , page 2599; EP 0 879 822 A2; EP 0 798 302 A1).
  • This method requires great care, especially with regard to the use of dry solvents and working under inert gas conditions, and is therefore only suitable for smaller laboratory batches.
  • the process is very complex, gives low yields and the disposal of by-products is very expensive.
  • Hexachlorodisilane is one of many reaction products in the direct synthesis of organochlorosilanes and has to be isolated in a complex and cost-intensive manner or can be obtained in the traditional way by reductive coupling of SiCl 4 with alkali metals. This fact and the rather high price of allyl chloride make this route for the production of allyltrichlorosilane very expensive.
  • SiCl 4 and allyl chloride can be converted to allyltrichlorosilane in the presence of a special nickel catalyst, which is formed from nickelocene or nickel chloride and hexamethylphosphoramide (HMPA) (Tetrahedron Letters (1980), 21 , pages 1857 to 1860; FR 2 458 553) ,
  • HMPA hexamethylphosphoramide
  • This reaction requires stoichiometric amounts of disilane, which are split into the corresponding chlorosilanes, thereby reducing the catalyst and thus acting as acceptors of the two chlorine atoms released from allyl chloride and SiCl 4 .
  • This process is also complex and not very economical.
  • Trichlorosilane can be reacted in the presence of catalytic amounts of metal salts, for example CuCl, and stoichiometric amounts of tertiary amines as auxiliary bases with allyl chloride to form allyltrichlorosilane and the respective amine hydrochloride (J. Organomet. Chem. (1975), 96 , C1-C3; DD 289 766; JP 56 008 040). Although in this case all starting materials are easily accessible and the yields which can be achieved are satisfactory, the inevitable by-product accumulation and its separation and the almost impossible separation of by-product and catalyst make the process of industrial production of allyltrichlorosilane uninteresting.
  • metal salts for example CuCl
  • allyltrichlorosilane can be obtained via the so-called direct synthesis from the reaction of silicon with allyl chloride in the presence of hydrogen chloride (HCl) at high temperatures (Organometallics (1993), 12 , pages 4887 to 4891; US 5,338,876). Copper is used as the catalyst.
  • HCl hydrogen chloride
  • the product also contains the undesired isomer propenyltrichlorosilane in part - up to the main amount (Chem. Ber. (1959), 92 , Pages 1012 to 1018; DE-OS 1 056 609).
  • alkyl groups are different Dehydrogenation reactions can be converted into the corresponding olefins.
  • Allyltrichlorosilane can be an interesting alternative to chloropropyltrichlorosilane for that Production of a variety of functional silanes.
  • Substrates to the terminal double bond can e.g. B. aminopropyl or Mercaptopropyl-functional silanes u. a. produce.
  • allyl silanes, such as z. B. trialkoxyallylsilane which is produced via alcoholysis from allyltrichlorosilane even interesting functional silanes, for example for Networking of thermoplastic materials.
  • the object is achieved according to the information in the Claims resolved.
  • allylchlorosilane can be used in simple and can produce economically if you can PTS in the gas phase at the same time in the presence of chlorine and at least one surface-rich material treated or if you first use PTS in the liquid or gas phase with chlorine implemented and then the resulting product mixture in the gas phase in Treated in the presence of at least one surface-rich material or if to 3-chloropropyltrichlorosilane (3-CI-PTS) in the gas phase in the presence of treated at least one surface-rich material. So got The crude product is generally worked up by distillation.
  • the present process also has the advantage over all others above mentioned methods for the production of allyltrichlorosilane the following advantages:
  • the present process is technically simple with standard equipment realize and only requires additional use in continuous operation of heating energy.
  • the catalysts to be used in the present process i. H.
  • Surface materials, especially activated carbon are usually inexpensive, available in large quantities on the market and do not require any special Preparation.
  • the preferred use of high-surface area activated carbon advantageously allyltrichlorosilane yields of up to 80% with regard to the implemented PTS or 3-CI-PTS, d. H. the respective Educt component, achieve.
  • the present invention therefore relates to a method for producing Allyltrichlorosilane by dehydrochlorination of a chloropropyltrichlorosilane or one Isomer mixture of chloropropyltrichlorosilanes, which is characterized in that that the chloropropyltrichlorosilane component in the presence of at least one surface-rich material treated in the gas phase.
  • the chloropropyltrichlorosilane component can be 3-chloropropyltrichlorosilane or 2-chloropropyltrichlorosilane or an isomer mixture of 3-chloropropyltrichlorosilane, 2-chloropropyltrichlorosilane and 1-chloropropyltrichlorosilane or any 2-component mixture use the substances mentioned.
  • first step of the process according to the invention is carried out preferably in a liquid phase reactor in the liquid phase at a Temperature in the range of 70 to 200 ° C and a pressure of 0.2 to 8 bar abs., particularly preferably at a temperature in the range from 100 to 150 ° C. and a pressure of 0.7 to 5 bar abs. and most preferably one Temperature in the range of 110 to 140 ° C and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs. by.
  • the reaction according to (i) first step can also be carried out in the gas phase a temperature in the range of 130 to 500 ° C and a pressure of 0.5 to 1.5 bar abs., Preferably at a temperature in the range from 200 to 400 ° C. and a pressure of 0.8 to 1.2 bar abs., particularly preferably at a temperature in the Carry out a range of 250 to 350 ° C and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs.
  • n-propyltrichlorosilane and chlorine (Cl 2 ) are used in a molar ratio of 1 to 1/2 to 1 to 1/6, a 2- to 6- times, especially a 4 times, excess of PTS is preferred.
  • the reaction product obtained is preferably carried out according to (i) second step at a temperature in the range of 350 to 600 ° C and a pressure of 0.5 to 2 bar abs., Preferably at a temperature in the range from 400 to 500 ° C and a pressure of 0.8 to 1.5 bar abs., particularly preferably at a temperature in Range from 420 to 480 ° C and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs., Treated.
  • the treatment according to the invention can also be carried out in accordance with the Procedure (ii) at a temperature in the range of 130 to 600 ° C and one Pressure from 0.5 to 2 bar abs., Preferably at a temperature in the range from 200 to 400 ° C and a pressure of 0.8 to 1.5 bar abs., Particularly preferably at a Temperature in the range of 250 to 350 ° C and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs.
  • the treatment of procedure (iii) can be carried out as for variant (i) carry out the second step by using the 3-chloropropyltrichlorosilane feeds the reactor and in the presence of a surface-rich material in the Gas phase, preferably at a temperature in the range of 130 to 600 ° C and at a pressure of 0.5 to 2 bar abs., particularly preferably at a temperature in the range of 200 to 500 ° C and a pressure of 0.8 to 1.5 barabs., whole particularly preferably at a temperature in the range from 250 to 450 ° C. and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs., treated.
  • the process according to the invention is preferably carried out, in particular according to (i) second step or according to (ii) or according to (iii), in a tube reactor, tube bundle reactor, Fixed bed reactor, fluid bed reactor or fluidized bed reactor.
  • BET internal surface area
  • Activated carbon, zeolites or silica are preferably used as the surface-rich material, very particularly preferably activated carbon with surfaces of 1 1,300 m 2 / g.
  • an inert gas for example N 2 , Ar or H 2
  • an inert gas for example N 2 , Ar or H 2
  • N 2 , Ar or H 2 can be added to the gaseous reaction or product mixture, in particular according to (i) second step or according to (ii) or according to (iii).
  • the reactor is preferably with a Gas velocity from 0.1 cm / s to 10 m / s, particularly preferably from 1 cm / s to 2 m / s, very particularly preferably from 5 cm / s to 1 m / s, flows through.
  • the average residence time of the gas in the reactor is preferably 1 second to 20 Seconds, particularly preferably 1 to 5 seconds.
  • Both the present method according to (i) and the procedure according to (ii) or (iii) is preferably operated continuously.
  • the process according to the invention can be thought of as an oxidizing dehydrogenation of PTS to allyltrichlorosilane with chlorine as the oxidizing agent in the presence of high-surface area materials in the gas phase, so that two partial reactions can be formulated:
  • the two partial reactions according to (i) can be separated one after the other or according to (ii) quasi as a "one-pot reaction” together in one for it carry out a suitable reactor.
  • Figure 3 shows the schematic of a preferred embodiment of a Plant to be operated continuously according to procedure (iii).
  • the product formed has the following Composition (% by weight): 9.95% 1-chloropropyltrichlorosilane, 42.11% 2-chloropropyltrichlorosilane, 45.48% 3-chloropropyltrichlorosilane and together 2.73% dichlorinated products (6 isomers in total).
  • a total of 211 g of high-surface area activated carbon (Picatal D7, 4 x 8 mesh, BET surface area 1,300 m 2 / g) are placed in a metal tube 62 cm long and 34 mm inside diameter over a length of approx. 50 cm. This results in an empty tube volume of 162 ml in this area. The remaining volume of the tube is filled with Raschig rings. This tube is heated to 350 to 500 ° C (for the exact value see Table 1) using a tube furnace.
  • chloropropyltrichlorosilane (3-chloropropyltrichlorosilane or isomer mixture from Example 1) is now metered in, in addition to a uniform stream of inert gas (nitrogen, dry) (for the metered amount see Table 1).
  • inert gas nitrogen, dry
  • the gaseous reaction mixture is condensed and collected using a reflux condenser.
  • the exhaust gases (HCl, possibly propene) leave the system via an intensive cooler (-20 ° C).
  • the condensates collected there are combined with the others and analyzed (GC).

Abstract

In the production of allyltrichlorosilane (I) by dehydrochlorination of a chloropropyltrichlorosilane (II) or mixture of (II) isomers, the (II) component is treated in the gas phase in the presence of material(s) (III) of large surface area.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfahren zur Herstellung von Allyltrichlorsilan.The present invention relates to a new process for the production of Allyltrichlorosilane.

Es ist bekannt, dass man Allyltrichlorsilan über folgende Routen herstellen kann:It is known that allyltrichlorosilane can be produced via the following routes:

Über eine Grignard-Reaktion lassen sich Allylhalogenide, bevorzugt Allylbromid, Magnesium-Metall und SiCl4 in Ethern zu Allyltrichlorsilan umsetzen (J. Am. Chem. Soc. (1951), 73, Seite 2599; EP 0 879 822 A2; EP 0 798 302 A1). Diese Methode erfordert hohe Sorgfalt, insbesondere bezüglich des Einsatzes trockener Lösemittel und das Arbeiten unter Inertgasbedingungen, und ist somit nur für kleinere Laboransätze geeignet. Zudem ist das Verfahren sehr aufwendig, liefert geringe Ausbeuten und die Entsorgung dabei anfallender Nebenprodukte ist sehr teuer.A Grignard reaction can be used to convert allyl halides, preferably allyl bromide, magnesium metal and SiCl 4 in ethers to allyl trichlorosilane (J. Am. Chem. Soc. (1951), 73 , page 2599; EP 0 879 822 A2; EP 0 798 302 A1). This method requires great care, especially with regard to the use of dry solvents and working under inert gas conditions, and is therefore only suitable for smaller laboratory batches. In addition, the process is very complex, gives low yields and the disposal of by-products is very expensive.

Die Umsetzung von Allylchlorid mit Hexachlordisilan zu Allyltrichlorsilan und SiCl4 erfordert entweder hohe Temperaturen in der Gasphase (Zh. Obshch. Khim. (1966), 66, Seiten 1484 bis 1487) oder den Einsatz von Katalysatoren. Hierfür finden insbesondere Übergangsmetalle und Übergangsmetallsalze, aber auch Amine als Co-Katalysatoren Verwendung (J. Organomet. Chem. (1982), 225, Seiten 331 bis 341; DE-OS 2 260 282; US 4 059 607). Hexachlordisilan fällt bei der Direktsynthese von Organochlorsilanen als eines von vielen Reaktionsprodukten an und muss aufwendig und kostenintensiv isoliert werden oder ist auf klassischem Wege durch reduktive Kopplung von SiCl4 mit Alkalimetallen zugänglich. Diese Tatsache und auch der recht hohe Preis für Allylchlorid machen diese Route zur Herstellung von Allyltrichlorsilan sehr teuer.The reaction of allyl chloride with hexachlorodisilane to allyltrichlorosilane and SiCl 4 requires either high temperatures in the gas phase (Zh. Obshch. Khim. (1966), 66 , pages 1484 to 1487) or the use of catalysts. For this purpose, in particular transition metals and transition metal salts, but also amines, are used as cocatalysts (J. Organomet. Chem. (1982), 225, pages 331 to 341; DE-OS 2 260 282; US 4,059,607). Hexachlorodisilane is one of many reaction products in the direct synthesis of organochlorosilanes and has to be isolated in a complex and cost-intensive manner or can be obtained in the traditional way by reductive coupling of SiCl 4 with alkali metals. This fact and the rather high price of allyl chloride make this route for the production of allyltrichlorosilane very expensive.

Ferner lassen sich SiCl4 und Allylchlorid in Gegenwart eines speziellen Nickel-Katalysators, der aus Nickelocen oder Nickelchlorid und Hexamethylphosphorsäureamid (HMPA) gebildet wird, zu Allyltrichlorsilan umsetzen (Tetrahedron Letters (1980), 21, Seiten 1857 bis 1860; FR 2 458 553). Für diese Reaktion sind stöchiometrische Mengen Disilan erforderlich, welche zu den entsprechenden Chlorsilanen gespalten werden, dabei den Katalysator reduzieren und somit als Akzeptoren der beiden aus Allylchlorid und SiCl4 freigesetzten Chloratome wirken. Auch dieses Verfahren ist aufwendig und wenig wirtschaftlich.Furthermore, SiCl 4 and allyl chloride can be converted to allyltrichlorosilane in the presence of a special nickel catalyst, which is formed from nickelocene or nickel chloride and hexamethylphosphoramide (HMPA) (Tetrahedron Letters (1980), 21 , pages 1857 to 1860; FR 2 458 553) , This reaction requires stoichiometric amounts of disilane, which are split into the corresponding chlorosilanes, thereby reducing the catalyst and thus acting as acceptors of the two chlorine atoms released from allyl chloride and SiCl 4 . This process is also complex and not very economical.

Trichlorsilan kann in Gegenwart von katalytischen Mengen von Metallsalzen, beispielsweise CuCI, und stöchiometrischen Mengen von tertiären Aminen als Hilfsbasen mit Allylchlorid zu Allyltrichlorsilan und dem jeweiligen Aminhydrochlorid umgesetzt werden (J. Organomet. Chem. (1975), 96, C1-C3; DD 289 766; JP 56 008 040). Obwohl in diesem Fall alle Edukte gut zugänglich und die erzielbaren Ausbeuten befriedigend sind, macht der unvermeidbare Nebenproduktanfall und dessen Abtrennung sowie die fast unmögliche Trennung von Nebenprodukt und Katalysator das Verfahren für eine industrielle Herstellung von Allyltrichlorsilan uninteressant.Trichlorosilane can be reacted in the presence of catalytic amounts of metal salts, for example CuCl, and stoichiometric amounts of tertiary amines as auxiliary bases with allyl chloride to form allyltrichlorosilane and the respective amine hydrochloride (J. Organomet. Chem. (1975), 96 , C1-C3; DD 289 766; JP 56 008 040). Although in this case all starting materials are easily accessible and the yields which can be achieved are satisfactory, the inevitable by-product accumulation and its separation and the almost impossible separation of by-product and catalyst make the process of industrial production of allyltrichlorosilane uninteresting.

Darüber hinaus lässt sich Allyltrichlorsilan über die so genannte Direktsynthese aus der Reaktion von Silicium mit Allylchlorid in Gegenwart von Chlorwasserstoff (HCI) bei hohen Temperaturen gewinnen (Organometallics (1993), 12, Seiten 4887 bis 4891; US 5 338 876). Als Katalysator wird Kupfer eingesetzt. Eine ähnliche Reaktion ist für die Gewinnuung der Methylchlorsilane für die Silkonherstellung bekannt und wirtschaftlich nur in einem großem Maßstab zu betreiben, da stets ein Gemisch der unterschiedlich alkylierten und chlorierten Produkte entsteht, Im Gegensatz zur Direktsynthese mit Methylchlorid ist die Reaktion mit Allylchlorid von zusätzlichen Nebenreaktionen begleitet. Bedingt durch die Tatsache, dass mehrfach allylierte Silane unerwünscht sind, ist dieses Verfahren für die Herstellung von Allyltrichlorsilan ungeeignet.In addition, allyltrichlorosilane can be obtained via the so-called direct synthesis from the reaction of silicon with allyl chloride in the presence of hydrogen chloride (HCl) at high temperatures (Organometallics (1993), 12 , pages 4887 to 4891; US 5,338,876). Copper is used as the catalyst. A similar reaction is known for the production of methylchlorosilanes for the production of silicone and can only be operated economically on a large scale, since a mixture of differently alkylated and chlorinated products is always produced.In contrast to direct synthesis with methyl chloride, the reaction with allyl chloride is accompanied by additional side reactions , Due to the fact that multiple allylated silanes are undesirable, this process is unsuitable for the production of allyltrichlorosilane.

Es ist auch bekannt, Chlorpropyltrichlorsilane, einzeln oder als Isomerengemisch, in Gegenwart von Ferrosilicium oder anderen Metallpulvern, wie Eisen oder Kupfer, zu dehydrochlorieren. Die Gasphasendehydrochlorierung bei 400 bis 450 °C in Gegenwart dieser Feststoffe führt allerdings nur zu Ausbeuten von ca. 3 bis 5 % Allyltrichlorsilan (Chem. Ber. (1959), 92, Seiten 1012 bis 1018). Höhere Ausbeuten an Allyltrichlorsilan lassen sich in flüssiger Phase am Siedepunkt oder unterhalb des Siedepunkts von Chlorpropyltrichlorsilan in Gegenwart von Ferrosilicium sowie Kupferpulver erzielen. Dieses Verfahren hat allerdings den Nachteil, dass sehr lange Reaktionszeiten (ca. 100 mmol/h) notwendig sind und außerdem das Produkt neben Allyltrichlorsilan anteilig - bis hin als Hauptmenge - das unerwünschte Isomer Propenyltrichlorsilan enthält (Chem. Ber. (1959), 92, Seiten 1012 bis 1018; DE-OS 1 056 609).It is also known to dehydrochlorinate chloropropyltrichlorosilanes, individually or as a mixture of isomers, in the presence of ferrosilicon or other metal powders such as iron or copper. However, gas phase dehydrochlorination at 400 to 450 ° C. in the presence of these solids only leads to yields of about 3 to 5% allyltrichlorosilane (Chem. Ber. (1959), 92 , pages 1012 to 1018). Higher yields of allyltrichlorosilane can be achieved in the liquid phase at the boiling point or below the boiling point of chloropropyltrichlorosilane in the presence of ferrosilicon and copper powder. However, this process has the disadvantage that very long reaction times (approx. 100 mmol / h) are necessary and, in addition to allyltrichlorosilane, the product also contains the undesired isomer propenyltrichlorosilane in part - up to the main amount (Chem. Ber. (1959), 92 , Pages 1012 to 1018; DE-OS 1 056 609).

Weiterhin ist bekannt, dass Alkylgruppen durch unterschiedliche Dehydrierreaktionen in die entsprechenden Olefine überführt werden können.It is also known that alkyl groups are different Dehydrogenation reactions can be converted into the corresponding olefins.

Bei der Herstellung von 3-Chlorpropyltrichlorsilan, welches als Ausgangsmaterial zur Herstellung der meisten organofunktionellen Silane in großen Mengen benötigt wird, entstehen durch eine unerwünschte Nebenreaktion große Mengen an n-Propyltrichlorsilan (PTS) (vgl. u. a. EP 0 519 181 A1).In the manufacture of 3-chloropropyltrichlorosilane, which is used as the starting material for Production of most organofunctional silanes is required in large quantities result from an undesirable side reaction, large amounts of n-propyltrichlorosilane (PTS) (see, inter alia, EP 0 519 181 A1).

Diese Nebenreaktion verbraucht zusätzlich das heute als Rohstoff knappe Trichlorsilan.This side reaction also consumes what is now a scarce resource Trichlorosilane.

Allyltrichlorsilan kann eine interessante Alternative zu Chlorpropyltrichlorsilan für die Herstellung einer Vielzahl funktioneller Silane sein. Durch Addition geeigneter Substrate an die terminale Doppelbindung lassen sich z. B. Aminopropyl- oder Mercaptopropyl-funktionelle Silane u. a. erzeugen. Außerdem sind Allylsilane, wie z. B. Trialkoxyallylsilan, welche über Alkoholyse aus Allyltrichlorsilan hergestellt werden können, selbst interessante funktionelle Silane, beispielsweise zur Vernetzung thermoplastischer Kunststoffe.Allyltrichlorosilane can be an interesting alternative to chloropropyltrichlorosilane for that Production of a variety of functional silanes. By adding more suitable ones Substrates to the terminal double bond can e.g. B. aminopropyl or Mercaptopropyl-functional silanes u. a. produce. In addition, allyl silanes, such as z. B. trialkoxyallylsilane, which is produced via alcoholysis from allyltrichlorosilane even interesting functional silanes, for example for Networking of thermoplastic materials.

Allerdings existieren bisher nur aufwendige bzw. mit großen Schwierigkeiten behaftete Verfahren zur Herstellung von Allyltrichlorsilan, was dazu geführt hat, dass Allyltrichlorsilan wegen seines sehr hohen Preises nicht für die genannten Zwecke in größerem Maße eingesetzt wird.So far, however, there have only been complex or very difficult ones Afflicted process for the production of allyltrichlorosilane, which has led to the fact that Allyltrichlorosilane because of its very high price not for the purposes mentioned in is used to a greater extent.

Es bestand daher die Aufgabe, ein weiteres, möglichst wirtschaftliches Verfahren zur Herstellung von Allytrichlorsilan zu entwickeln. Ein besonderes Anliegen der vorliegenden Erfindung war es, dabei PTS als Eduktkomponente zu verwenden. It was therefore the task of a further, as economical as possible process for Developing production of allytrichlorosilane. A special concern of the The present invention was to use PTS as the starting material component.

Die gestellte Aufgabe wird erfindungsgemäß entsprechend den Angaben der Patentansprüche gelöst.The object is achieved according to the information in the Claims resolved.

Überraschenderweise wurde gefunden, dass man Allylchlorsilan in einfacher und wirtschaftlicher Weise herstellen kann, wenn man PTS in der Gasphase gleichzeitig in Gegenwart von Chlor und mindestens einem oberflächenreichen Material behandelt oder wenn man PTS zunächst in Flüssig- oder Gasphase mit Chlor umsetzt und anschließend das resultierende Produktgemisch in der Gasphase in Gegenwart von mindestens einem oberflächenreichen Material behandelt oder wenn man 3-Chlorpropyltrichlorsilan (3-CI-PTS) in der Gasphase in Gegenwart von mindestens einem oberflächenreichen Material behandelt. So erhaltenes Rohprodukt wird in der Regel destillativ aufgearbeitet. Geeigneterweise erhält man dabei Allyltrichlorsilan mit einer Reinheit von 95 bis 99,5 Gew.-%, wobei die Ausbeute, bezogen auf die Eduktkomponente, in vorteilhafter Weise, da besonders wirtschaftlich, 60 bis 80 % beträgt. Nicht umgesetzte Komponenten können wieder in den Prozess zurückgeführt werden.Surprisingly, it was found that allylchlorosilane can be used in simple and can produce economically if you can PTS in the gas phase at the same time in the presence of chlorine and at least one surface-rich material treated or if you first use PTS in the liquid or gas phase with chlorine implemented and then the resulting product mixture in the gas phase in Treated in the presence of at least one surface-rich material or if to 3-chloropropyltrichlorosilane (3-CI-PTS) in the gas phase in the presence of treated at least one surface-rich material. So got The crude product is generally worked up by distillation. Suitably one obtains Allyltrichlorosilane with a purity of 95 to 99.5% by weight, the Yield, based on the reactant component, in an advantageous manner, since particularly economical, is 60 to 80%. Unconverted components can come back in the process can be traced.

Das vorliegende Verfahren hat darüber hinaus gegenüber allen anderen, oben erwähnten Methoden zur Herstellung von Allyltrichlorsilan folgende Vorteile:The present process also has the advantage over all others above mentioned methods for the production of allyltrichlorosilane the following advantages:

Beim vorliegenden Verfahren werden keine teuren Rohstoffe, wie Allylchlorid, Trichlorsilan oder Disilane, sondern der besagte Abfallstoff PTS sowie das preiswerte Chlor eingesetzt.In the present process, no expensive raw materials, such as allyl chloride, Trichlorosilane or Disilane, but said waste PTS and that inexpensive chlorine used.

Es werden außer HCI und geringen Mengen an Chlor- und Organochlorsilanen keinerlei schwierig abzutrennende oder kostenintensiv zu entsorgende Nebenprodukte gebildet.In addition to HCI and small amounts of chloro- and organochlorosilanes no difficult to separate or costly to dispose of By-products formed.

Das vorliegende Verfahren ist technisch einfach mit Standard-Apparaten zu realisieren und erfordert bei kontinuierlichem Betrieb nur den zusätzlichen Einsatz von Heizenergie. The present process is technically simple with standard equipment realize and only requires additional use in continuous operation of heating energy.

Die beim vorliegenden Verfahren zu verwendenden Katalysatoren, d. h. oberflächenreichen Materialien, insbesondere Aktivkohle, sind in der Regel preiswert, in großen Mengen auf dem Markt verfügbar und erfordern keine spezielle Präparation.The catalysts to be used in the present process, i. H. Surface materials, especially activated carbon, are usually inexpensive, available in large quantities on the market and do not require any special Preparation.

So lassen sich im vorliegenden Verfahren bei der bevorzugten Verwendung von hochoberflächiger Aktivkohle in vorteilhafter Weise Allyltrichlorsilan-Ausbeuten von bis zu 80 % bezüglich des umgesetzten PTS bzw. 3-CI-PTS, d. h. die jeweilige Eduktkomponente, erzielen.In the present process, the preferred use of high-surface area activated carbon advantageously allyltrichlorosilane yields of up to 80% with regard to the implemented PTS or 3-CI-PTS, d. H. the respective Educt component, achieve.

Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist daher ein Verfahren zur Herstellung von Allyltrichlorsilan durch Dehydrochlorierung eines Chlorpropyltrichlorsilans oder eines Isomerengemisches von Chlorpropyltrichlorsilanen, das dadurch gekennzeichnet ist, dass man die Chlorpropyltrichlorsilankomponente in Gegenwart mindestens eines oberflächenreichen Materials in der Gasphase behandelt.The present invention therefore relates to a method for producing Allyltrichlorosilane by dehydrochlorination of a chloropropyltrichlorosilane or one Isomer mixture of chloropropyltrichlorosilanes, which is characterized in that that the chloropropyltrichlorosilane component in the presence of at least one surface-rich material treated in the gas phase.

Als Chlorpropyltrichlorsilankomponente kann man 3-Chlorpropyltrichlorsilan oder 2-Chlorpropyltrichlorsilan oder ein Isomerengemisch aus 3-Chlorproppyltrichlorsilan, 2-Chlorpropyltrichlorsilan und 1-Chlorpropyltrichlorsilan oder beliebige 2-Komponentengemische der erwähnten Stoffe einsetzen.The chloropropyltrichlorosilane component can be 3-chloropropyltrichlorosilane or 2-chloropropyltrichlorosilane or an isomer mixture of 3-chloropropyltrichlorosilane, 2-chloropropyltrichlorosilane and 1-chloropropyltrichlorosilane or any 2-component mixture use the substances mentioned.

Vorzugsweise führt man das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Allyltrichlorsilan so aus, dass man

  • i) n-Propyltrichlorsilan in einem ersten Schritt mit Chlor umsetzt und das resultierende Produktgemisch in einem zweiten Schritt in Gegenwart von mindestens einem oberflächenreichen Material behandelt
    oder
  • (ii) n-Propyltrichlorsilan gleichzeitig in Gegenwart von Chlor und mindestens einem oberflächenreichen Material in der Gasphase behandelt
    oder
  • (iii) 3-Chlorpropyltrichlorsilan in Gegenwart von mindestens einem oberflächenreichen Material in der Gasphase behandelt.
  • The process according to the invention for the preparation of allyltrichlorosilane is preferably carried out in such a way that
  • i) reacting n-propyltrichlorosilane with chlorine in a first step and treating the resulting product mixture in a second step in the presence of at least one surface-rich material
    or
  • (ii) n-Propyltrichlorosilane treated simultaneously in the presence of chlorine and at least one surface-rich material in the gas phase
    or
  • (iii) 3-chloropropyltrichlorosilane treated in the presence of at least one surface-rich material in the gas phase.
  • Die Umsetzung gemäß (i) erster Schritt des erfindungsgmäßen Verfahrens führt man vorzugsweise in einem Flüssigphasenreaktor in flüssiger Phase bei einer Temperatur im Bereich von 70 bis 200 °C und einem Druck von 0,2 bis 8 bar abs., besonders bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 100 bis 150°C und einem Druck von 0,7 bis 5 bar abs. und ganz besonders bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 110 bis 140 °C und einem Druck von 0,9 bis 1,1 bar abs. durch.The implementation according to (i) first step of the process according to the invention is carried out preferably in a liquid phase reactor in the liquid phase at a Temperature in the range of 70 to 200 ° C and a pressure of 0.2 to 8 bar abs., particularly preferably at a temperature in the range from 100 to 150 ° C. and a pressure of 0.7 to 5 bar abs. and most preferably one Temperature in the range of 110 to 140 ° C and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs. by.

    Man kann die Umsetzung gemäß (i) erster Schritt aber auch in der Gasphase bei einer Temperatur im Bereich von 130 bis 500 °C und einem Druck von 0,5 bis 1,5 bar abs., bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 200 bis 400 °C und einem Druck von 0,8 bis 1,2 bar abs., besonders bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 250 bis 350 °C und einem Druck von 0,9 bis 1,1 bar abs., durchführen.The reaction according to (i) first step can also be carried out in the gas phase a temperature in the range of 130 to 500 ° C and a pressure of 0.5 to 1.5 bar abs., Preferably at a temperature in the range from 200 to 400 ° C. and a pressure of 0.8 to 1.2 bar abs., particularly preferably at a temperature in the Carry out a range of 250 to 350 ° C and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs.

    Geeigneterweise setzt man bei den Verfahrensweisen (i) sowie (ii) des erfindungsgemäßen Verfahrens n-Propyltrichlorsilan und Chlor (Cl2) in einem molaren Verhältnis von 1 zu 1/2 bis 1 zu 1/6 ein, wobei ein 2- bis 6-facher, insbesondere ein 4-facher, Überschuss an PTS bevorzugt ist.Suitably, in procedures (i) and (ii) of the process according to the invention, n-propyltrichlorosilane and chlorine (Cl 2 ) are used in a molar ratio of 1 to 1/2 to 1 to 1/6, a 2- to 6- times, especially a 4 times, excess of PTS is preferred.

    Dabei erhaltenes Umsetzungsprodukt wird vorzugsweise gemäß (i) zweitem Schritt bei einer Temperatur im Bereich von 350 bis 600 °C und einem Druck von 0,5 bis 2 bar abs., bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 400 bis 500 °C und einem Druck von 0,8 bis 1,5 bar abs., besonders bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 420 bis 480 °C und einem Druck von 0,9 bis 1,1 bar abs., behandelt.The reaction product obtained is preferably carried out according to (i) second step at a temperature in the range of 350 to 600 ° C and a pressure of 0.5 to 2 bar abs., Preferably at a temperature in the range from 400 to 500 ° C and a pressure of 0.8 to 1.5 bar abs., particularly preferably at a temperature in Range from 420 to 480 ° C and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs., Treated.

    Ebenso kann man erfindungsgemäß die Behandlung entsprechend der Verfahrensweise (ii) bei einer Temperatur im Bereich von 130 bis 600 °C und einem Druck von 0,5 bis 2 bar abs., bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 200 bis 400 °C und einem Druck von 0,8 bis 1,5 bar abs., besonders bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 250 bis 350 °C und einem Druck von 0,9 bis 1,1 bar abs., durchführen. The treatment according to the invention can also be carried out in accordance with the Procedure (ii) at a temperature in the range of 130 to 600 ° C and one Pressure from 0.5 to 2 bar abs., Preferably at a temperature in the range from 200 to 400 ° C and a pressure of 0.8 to 1.5 bar abs., Particularly preferably at a Temperature in the range of 250 to 350 ° C and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs.

    Weiterhin kann man erfindungsgemäß die Behandlung der Verfahrensweise (iii) wie bei Variante (i) zweiter Schritt durchführen, indem man das 3-Chlorpropyltrichlorsilan dem Reaktor zuführt und in Gegenwart eines oberflächenreichen Materials in der Gasphase, vorzugsweise bei einer Temperatur im Bereich von 130 bis 600 °C und bei einem Druck von 0,5 bis 2 bar abs., besonders bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 200 bis 500 °C und einem Druck von 0,8 bis 1,5 barabs., ganz besonders bevorzugt bei einer Temperatur im Bereich von 250 bis 450 °C und einem Druck von 0,9 bis 1,1 bar abs., behandelt.Furthermore, according to the invention, the treatment of procedure (iii) can be carried out as for variant (i) carry out the second step by using the 3-chloropropyltrichlorosilane feeds the reactor and in the presence of a surface-rich material in the Gas phase, preferably at a temperature in the range of 130 to 600 ° C and at a pressure of 0.5 to 2 bar abs., particularly preferably at a temperature in the range of 200 to 500 ° C and a pressure of 0.8 to 1.5 barabs., whole particularly preferably at a temperature in the range from 250 to 450 ° C. and a pressure of 0.9 to 1.1 bar abs., treated.

    Vorzugsweise führt man das erfindungsgemäße Verfahren, insbesondere gemäß (i) zweiter Schritt oder gemäß (ii) oder gemäß (iii), in einem Rohrreaktor, Rohrbündelreaktor, Festbettreaktor, Fließbettreaktor oder Wirbelschichtreaktor durch.The process according to the invention is preferably carried out, in particular according to (i) second step or according to (ii) or according to (iii), in a tube reactor, tube bundle reactor, Fixed bed reactor, fluid bed reactor or fluidized bed reactor.

    Beim erfindungsgemäßen Verfahren setzt man geeigneterweise ein oberflächenreiches Material mit einer inneren Oberfläche (BET) von 500 bis 2 000 m2/g, vorzugsweise 600 bis 1 600 m2/g, besonders vorzugsweise 700 bis 1 400 m2/g, ein. Bevorzugt verwendet man als oberflächenreiches Material Aktivkohle, Zeolithe oder Kieselsäure, ganz besonders bevorzugt Aktivkohle mit Oberflächen von ≥ 1 300 m2/g.In the process according to the invention, a surface-rich material with an internal surface area (BET) of 500 to 2,000 m 2 / g, preferably 600 to 1,600 m 2 / g, particularly preferably 700 to 1,400 m 2 / g, is suitably used. Activated carbon, zeolites or silica are preferably used as the surface-rich material, very particularly preferably activated carbon with surfaces of 1 1,300 m 2 / g.

    Weiterhin kann man beim vorliegenden Verfahren dem gasförmigen Reaktions- oder Produktgemisch, insbesondere gemäß (i) zweiter Schritt oder gemäß (ii) oder gemäß (iii), ein Inertgas, beispielsweise N2, Ar oder H2, zusetzen.Furthermore, in the present process, an inert gas, for example N 2 , Ar or H 2 , can be added to the gaseous reaction or product mixture, in particular according to (i) second step or according to (ii) or according to (iii).

    Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens, insbesondere gemäß (i) zweiter Schritt oder gemäß (ii) oder gemäß (iii), wird der Reaktor bevorzugt mit einer Gasgeschwindigkeit von 0,1 cm/s bis 10 m/s, besonders bevorzugt von 1 cm/s bis 2 m/s, ganz besonders bevorzugt von 5 cm/s bis 1 m/s, durchströmt. Dabei beträgt die mittlere Verweilzeit des Gases im Reaktor vorzugsweise 1 Sekunde bis 20 Sekunden, besonders vorzugsweise 1 bis 5 Sekunden.To carry out the method according to the invention, in particular according to (i) second step or according to (ii) or according to (iii), the reactor is preferably with a Gas velocity from 0.1 cm / s to 10 m / s, particularly preferably from 1 cm / s to 2 m / s, very particularly preferably from 5 cm / s to 1 m / s, flows through. Here is the average residence time of the gas in the reactor is preferably 1 second to 20 Seconds, particularly preferably 1 to 5 seconds.

    Sowohl das vorliegende Verfahren gemäß (i) als auch die Verfahrensweise gemäß (ii) bzw. (iii) betreibt man bevorzugt kontinuierlich. Both the present method according to (i) and the procedure according to (ii) or (iii) is preferably operated continuously.

    Man kann sich das erfindungsgemäße Verfahren hinsichtlich der Verfahrensvarianten (i) und (ii) als eine oxidierende Dehydrierung von PTS zu Allyltrichlorsilan mit Chlor als Oxidationsmittel in Gegenwart hochoberflächiger Materialien in der Gasphase vorstellen, sodass man zwei Teilreaktionen formulieren kann:

    Figure 00080001
    With regard to process variants (i) and (ii), the process according to the invention can be thought of as an oxidizing dehydrogenation of PTS to allyltrichlorosilane with chlorine as the oxidizing agent in the presence of high-surface area materials in the gas phase, so that two partial reactions can be formulated:
    Figure 00080001

    Erfindungsgemäß lassen sich beide Teilreaktionen gemäß (i) getrennt hintereinander oder gemäß (ii) quasi als "Eintopfreaktion" gemeinsam in einem dafür geeigneten Reaktor durchführen.According to the invention, the two partial reactions according to (i) can be separated one after the other or according to (ii) quasi as a "one-pot reaction" together in one for it carry out a suitable reactor.

    Bei der Verfahrensweise gemäß (i) kann man nach dem ersten Teilschritt (Chlorierung) das dabei erhaltene Isomerengemisch auftrennen und die Verbindungen 1-Chlorpropylsilan, 2-Chlorpropylsilan und/oder 3-Chlorpropylsilan dem zweiten Schritt (Dehydrochlorierung) zuführen. Bei der Auftrennung können gegebenenfalls auch höhere Chlorierungsprodukte abgetrennt werden. Besonders überraschend ist jedoch, dass man beim vorliegenden Verfahren das durch Chlorierung anfallende Isomerengemisch in besonders wirtschaftlicher Weise auch direkt der Dehydrochlorierung zuführen oder das Verfahren gemäß der Verfahrensweise (ii) "als Eintopfreaktion" betreiben kann und dabei Allyltrichlorid mit unerwartet hohe Selektivitäten und guten Ausbeuten erhält.In the procedure according to (i), you can after the first sub-step (Chlorination) separate the resulting isomer mixture and the Compounds 1-chloropropylsilane, 2-chloropropylsilane and / or 3-chloropropylsilane to the second step (dehydrochlorination). When splitting can higher chlorination products may also be separated off. Especially It is surprising, however, that in the present process this is done by Chlorination resulting isomer mixture also in a particularly economical manner directly to the dehydrochlorination or the procedure according to Procedure (ii) can operate "as a one-pot reaction" and allyl trichloride receives unexpectedly high selectivities and good yields.

    Im Allgemeinen kann das erfindungsgemäße Verfahren wie folgt durchgeführt werden:

    • Verfahrensweise (i) erster Schritt: Die Umsetzung von PTS mit Chlor erfolgt bevorzugt bei einer Temperatur von 100 bis 123 °C, besonders vorzugsweise beim Siedepunkt von PTS. Man kann die Umsetzung aber auch in Gegenwart von Licht, UV- sowie IR-Licht, und/oder in Gegenwart eines Chlorierungskatalysators, wie Y-Zeolithe, durchführen. Die Trichlorsilylgruppe von Organochlorsilanen ist gegenüber der Chlorierung inert, - so wird in der Regel kein SiCl4 abgespalten. Die Umsetzung von PTS mit Chlor erfolgt vorzugsweise in flüssiger Phase am Siedepunkt des PTS. Geeigneterweise wird das Chlorgas vorher getrocknet und fein verteilt gasförmig durch die PTS-enthaltende Reaktionsmischung geleitet. Dabei kann das Reaktionsgemisch PTS und Lösemittel, wie Tetrachlorkohlenstoff, Hexachlorethan und andere, gegenüber Chlorierung inerte Lösemittel, enthalten. Für die Umsetzung kann man einen gängigen Chlorierungsreaktor aus Glas, Edelstahl, Emaile, etc. verwenden. Das als Nebenprodukt entstehende HCI kann beispielsweise über einen Rückflusskühler aus dem System entfernt werden. Die Chlorierung wird zweckmäßigerweise bei hohem Chlorunterschuss durchgeführt, um die Bildung von Dichloriden statistisch zu vermeiden. Chlorierungen gemäß (i) erstem Schritt können zweckmäßiger Weise so betrieben, dass ständig ein Teil der Chlorierungsmischung, die einen hohen Überschuss an PTS enthält destillativ in Edukt und Produkt aufgetrennt wird und das Edukt PTS in den Reaktionsraum zurückgeführt wird. Geeigneterweise ist somit eine kontinuierliche Fahrweise gegeben und es kann die Bildung von unerwünschten Dichlorpropyltrichlorsilanen weitestgehend unterdrückt werden. PTS, die drei möglichen Isomere 1-Chlorpropyltrichlorsilan, 2-Chlorpropyltrichlorsilan und 3-Chlorpropyltrichlorsilan, die beispielsweise in einem molaren Verhältnis 1:4:4 entstehen können, sowie die in geringem Maße gebildeten höher chlorierten Produkte lassen sich destillativ trennen.
    • Verfahrensweise (i) zweiter Schritt: Der Dehydrochlorierungsschritt wird in der Regel an hochoberflächigen Stoffen als Katalysator durchgeführt. Die Behandlung erfolgt vorzugsweise in der Gasphase bei 350 bis 600 °C, bevorzugt bei 400 bis 500 °C, besonders bevorzugt bei 420 bis 480 °C, und einer mittleren Verweilzeiten zwischen 1 und 20 s, besonders bevorzugt 2 bis 10 s. Beispielsweise geeignet ist ein mit dem Katalysator gefüllter Rohrreaktor aus einem inerten Material, wie Metall, Glas, Keramik, d. h. Materialien, die bei rund 500 °C unter den vorherrschenden Bedingungen weitgehend beständig sind. Als Edukte für (i) zweiter Schritt können sowohl die einzelnen Isomere von Chlorpropyltrichlorsilan, wie auch Gemische daraus verwendet werden. Weiterhin kann das Edukt andere unter diesen Bedingungen inerte Stoffe, wie SiCl4, enthalten. Bevorzugt sind aber keine weiteren Stoffe enthalten, um die Auftrennung des Produktgemisches zu vereinfachen. Die Edukte werden in der Regel entweder vor dem Eintritt in den Dehydrochlorierungsreaktor verdampft, oder innerhalb der ersten Zone innerhalb des Reaktors verdampft, die dafür nicht mit Katalysator gefüllt sein muss, sondern zweckmäßigerweise mit anderen Füllkörpern zur Wärmeübertragung gefüllt ist. Als Füllkörper eignen sich beispielsweise Metalleinsätze,Glaskugeln, Raschig-Ringe. Nach Austritt aus dem Reaktor wird das gasförmige Reaktionsgemisch in der Regel kondensiert und so vom gebildeten Chlorwasserstoff abgetrennt. Das flüssige Produktgemisch kann je nach Umsetzungsrate noch große Mengen nicht umgesetztes Chlorpropyltrichlorsilan enthalten, welches beispielsweise destillativ vom Produkt getrennt und geeigneterweise zur weiteren Umsetzung wieder verwendet wird.Weitere Nebenprodukte können insbesondere SiCl4, Propen, Methyltrichlorsilan und Vinyltrichlorsilan sein. Verringert man beispielsweise die Verweilzeit, geht in der Regel der Umsatz zurück. Will man den Umsatz erhöhen, kann man die Verweilzeit erhöhen, allerdings kann dabei die Ausbeute an Allyltrichlorsilan zugunsten von Zersetzungsreaktionen sinken, z. B. können Methyltrichlorsilan, Vinyltrichlorsilan usw. entstehen. Variiert man bei gegebener Verweilzeit beispielsweise die Temperatur, kann man ein anderes Phänomen beobachten: Bei geringeren Temperaturen (ca. 300 bis 350 °C) findet bevorzugt eine andere Reaktion statt: die Zersetzung von Chlorpropyltrichlorsilan zu SiCl4 und Propen. Bei höheren Temperaturen (ab ca. 500 °C) können zunehmend Zersetzungsreaktionen des intermediär gebildeten Allytrichlorsilans auftreten. Ebenso kann man hinsichtlich des Isomerenverhältnises Allyl-/Propenyltrichlorsilan beobachten.
      Figure 00110001
    In general, the method according to the invention can be carried out as follows:
    • Procedure (i) first step: The reaction of PTS with chlorine is preferably carried out at a temperature of 100 to 123 ° C, particularly preferably at the boiling point of PTS. However, the reaction can also be carried out in the presence of light, UV and IR light and / or in the presence of a chlorination catalyst, such as Y zeolites. The trichlorosilyl group of organochlorosilanes is inert to chlorination, so no SiCl 4 is usually split off. The reaction of PTS with chlorine is preferably carried out in the liquid phase at the boiling point of the PTS. The chlorine gas is suitably dried beforehand and passed through the PTS-containing reaction mixture in finely divided gaseous form. The reaction mixture can contain PTS and solvents such as carbon tetrachloride, hexachloroethane and other solvents which are inert to chlorination. A common chlorination reactor made of glass, stainless steel, enamel, etc. can be used for the implementation. The HCI produced as a by-product can be removed from the system, for example, using a reflux cooler. The chlorination is expediently carried out when the chlorine deficit is high in order to statistically avoid the formation of dichlorides. Chlorinations according to (i) first step can expediently be carried out in such a way that part of the chlorination mixture which contains a large excess of PTS is continuously separated by distillation into starting material and product and the starting material PTS is returned to the reaction space. A continuous mode of operation is thus suitably given and the formation of undesired dichloropropyltrichlorosilanes can be largely suppressed. PTS, the three possible isomers 1-chloropropyltrichlorosilane, 2-chloropropyltrichlorosilane and 3-chloropropyltrichlorosilane, which can be formed in a molar ratio of 1: 4: 4, for example, as well as the slightly more highly chlorinated products formed can be separated by distillation.
    • Procedure (i) second step: The dehydrochlorination step is usually carried out on high-surface materials as a catalyst. The treatment is preferably carried out in the gas phase at 350 to 600 ° C, preferably at 400 to 500 ° C, particularly preferably at 420 to 480 ° C, and an average residence time between 1 and 20 s, particularly preferably 2 to 10 s. For example, a tube reactor made of an inert material, such as metal, glass, ceramic, ie materials which are largely stable at around 500 ° C. under the prevailing conditions, is suitable with the catalyst. Both the individual isomers of chloropropyltrichlorosilane and mixtures thereof can be used as starting materials for (i) second step. Furthermore, the educt can contain other substances which are inert under these conditions, such as SiCl 4 . However, no further substances are preferably present in order to simplify the separation of the product mixture. The starting materials are usually either evaporated before entering the dehydrochlorination reactor, or evaporated within the first zone within the reactor, which does not have to be filled with catalyst for this purpose, but is advantageously filled with other packing elements for heat transfer. Metal inserts, glass balls, Raschig rings, for example, are suitable as packing elements. After leaving the reactor, the gaseous reaction mixture is generally condensed and thus separated from the hydrogen chloride formed. The liquid product mixture can, depending on the reaction rate is still large quantities contain unreacted chloropropyltrichlorosilane, which, for example separated by distillation from the product and suitably re-used for further reaction wird.Weitere by-products can in particular SiCl 4, propene, methyltrichlorosilane and vinyltrichlorosilane be. If, for example, the retention time is reduced, sales usually decrease. If you want to increase sales, you can increase the residence time, but the yield of allyltrichlorosilane can decrease in favor of decomposition reactions, e.g. B. methyltrichlorosilane, vinyltrichlorosilane, etc. can arise. If, for example, the temperature is varied for a given residence time, a different phenomenon can be observed: At lower temperatures (approx. 300 to 350 ° C) another reaction preferably takes place: the decomposition of chloropropyltrichlorosilane to SiCl 4 and propene. At higher temperatures (from approx. 500 ° C), decomposition reactions of the intermediate allytrichlorosilane can increasingly occur. One can also observe allyl / propenyltrichlorosilane with regard to the isomer ratio.
      Figure 00110001

    Abbildung 1:Illustration 1:

    Abbildung 1 zeigt das Schema einer bevorzugten Ausführungform einer kontinuierlich zu betreibenden, erfindungsgemäßen Anlage gemäß Verfahrensweise (i) (getrennte Chlorierung und Dehydrochlorierung).

    • Verfahrensweise (ii) Hierbei wird PTS und Chlor in Gegenwart eines Oberflächenreichen Materials in der Gasphase behandelt bzw. umgesetzt. Dafür kann einem beheizten Reaktor zunächst PTS, flüssig oder gasförmig, zugeführt und geeigneterweise im erstem Abschnitt des Reaktionsrohres Chlor zudosiert werden. Geeigneterweise betreibt man den Reaktor mit einem Temperaturgradienten im Bereich von 150 bis 600 °C. Dabei sind im Einlassbereich bis hin zur Reaktormitte 150 bis 500 °C, insbesondere 250 bis 450 °C, und zum Reaktorauslass hin 350 bis 600 °C, insbesondere 420 bis 480 °C, bevorzugt. Die Dosierung des Chlors erfolgt zweckmäßigerweise über mehrere hintereinander angeordnete Dosierstellen, sodass stets ein Chlorunterschuss zur Vermeidung der Dichloridbildung verwendet werden kann. Im weiter Verlauf des Reaktor kann dieser mit dem oberflächenreichen Material bestückt oder ausgekleidet sein. Das den Reaktor verlassende Rohprodukt wird in der Regel destillativ aufgearbeitet, wobei das im Überschuss eingesetzte Chlor sowie nicht umgesetztes PTS als Edukte zurückgeführt werden können.
      Figure 00120001
    Figure 1 shows the diagram of a preferred embodiment of a continuously operated system according to the invention according to procedure (i) (separate chlorination and dehydrochlorination).
    • Procedure (ii) PTS and chlorine are treated or reacted in the gas phase in the presence of a surface-rich material. For this purpose, PTS, liquid or gaseous, can first be fed to a heated reactor and chlorine can be metered in suitably in the first section of the reaction tube. The reactor is suitably operated with a temperature gradient in the range from 150 to 600.degree. 150 to 500 ° C., in particular 250 to 450 ° C., and 350 to 600 ° C., in particular 420 to 480 ° C., are preferred in the inlet region up to the middle of the reactor. The chlorine is expediently metered via a plurality of metering points arranged one behind the other, so that a chlorine deficit can always be used to avoid the formation of dichloride. As the reactor continues, it can be equipped or lined with the surface-rich material. The crude product leaving the reactor is generally worked up by distillation, and the excess chlorine and unreacted PTS can be recycled as starting materials.
      Figure 00120001

    Abbildung 2:Figure 2:

    Abbildung 2 zeigt das Schema einer bevorzugten Ausführungform einer kontinuierlich zu betreibenden, erfindungsgemäßen Anlage gemäß Verfahrensweise (ii) ("Eintopfreaktion").

    • Verfahrensweise (iii) Im Allgemeinen wird als Edukt 3-Chlorpropyltrichlorsilan (3-CI-PTS) dem Reaktor zugeführt und hier in Gegenwart eines oberflächenreichen Materials in der Gasphase behandelt. Hierfür gilt im Grundsatz auch das bereits für die Verfahrensweisen (i) zweiter Schritt sowie (ii) Offenbarte. So liefert die erfindungsgemäße Dehydrochlorierung von 3-CI-PTS in einfacher und wirtschaftlicher Weise Allyltrichlorsilan-Ausbeuten bis zu 80 % bezüglich 3-CI-PTS. Außerdem kann in vorteilhafter Weise ein Isomerenverhältnis der Dehydrochlorierungsprodukte Allyltrichlorsilan und Propenyltrichlorsilan (H3C-CH=CH-SiCl3) von 35 : 1 erreicht werden, was einer Allyltrichlorsilanreinheit von ≥ 97 % entspricht.
      Figure 00130001
    Figure 2 shows the diagram of a preferred embodiment of a continuously operated system according to the invention according to procedure (ii) ("one-pot reaction").
    • Procedure (iii) In general, 3-chloropropyltrichlorosilane (3-CI-PTS) is fed to the reactor as the starting material and is treated here in the gas phase in the presence of a surface-rich material. In principle, what has already been disclosed for procedures (i) second step and (ii) also applies to this. The dehydrochlorination of 3-CI-PTS according to the invention thus provides allyltrichlorosilane yields of up to 80% with respect to 3-CI-PTS in a simple and economical manner. In addition, an isomer ratio of the dehydrochlorination products allyltrichlorosilane and propenyltrichlorosilane (H 3 C-CH = CH-SiCl 3 ) of 35: 1 can advantageously be achieved, which corresponds to an allyltrichlorosilane purity of ≥ 97%.
      Figure 00130001

    Abbildung 3:Figure 3:

    Abbildung 3 zeigt das Schema einer bevorzugten Ausführungsform einer kontinuierlich zu betreibenden Anlage gemäß Verfahrensweise (iii).Figure 3 shows the schematic of a preferred embodiment of a Plant to be operated continuously according to procedure (iii).

    Die vorliegende Erfindung wird durch die nachfolgenden Beispiele näher erläutert:.The present invention is illustrated by the following examples:

    Beispiel 1example 1 Chlorierung von PTSChlorination of PTS

    in einem 1-I-Vierhalskolben mit Gaseinleitungsrohr, Tropftrichter, Rückflusskühler, Heizpilz und Innenthermometer werden zunächst 500 g PTS vorgelegt und zum Rückfluss erhitzt. Über einen Auslass am Boden des Kolbens werden mittels einer Dosierpumpe pro Stunde ca. 400 ml Flüssigkeit entnommen und auf eine Destillationskolonne gegeben, die in der Lage ist, die chlorierten Produkte als Sumpf sauber abzutrennen. Das Kopfprodukt dieser Kolonne enthält somit fast reines PTS, welches zurück in den Reaktionskolben fließt. Nachdem sich hier ein stabiler Kreislauf gebildet hat, wird mit der Dosierung von 40 g Chlorgas pro Stunde begonnen, welches zuvor mittels Durchleiten durch konz. Schwefelsäure getrocknet wird. Gleichzeitig werden über den Tropftrichter 100g PTS pro Stunde dosiert, sodass sich insgesamt ein kontinuierlicher Betrieb ergibt. Am Boden der Kolonne werden nach Einstellung eines stationären Betriebszustands pro Stunde ca. 120 g chloriertes Produkt abgezogen. Durch diese Fahrweise ergibt sich rechnerisch bei der Chlorierung ein molarer vierfacher PTS-Überschuss, sodass die Bildung von Dichloriden zurückgedrängt wird. Das gebildete Produkt besitzt laut GC folgende Zusammensetzung (Gew.-%): 9,95% 1-Chlorpropyltrichlorsilan, 42,11 % 2-Chlorpropyltrichlorsilan, 45,48 % 3-Chlorpropyltrichlorsilan sowie zusammen 2,73 % dichlorierter Produkte (insgesamt 6 Isomere).in a 1 l four-necked flask with gas inlet tube, dropping funnel, reflux condenser, The patio heater and internal thermometer are initially charged with 500 g of PTS and the Reflux heated. Via an outlet at the bottom of the piston, a Dosing pump removed approx. 400 ml of liquid per hour and poured into a Distillation column given, which is able to the chlorinated products as a bottom separate cleanly. The top product of this column thus contains almost pure PTS, which flows back into the reaction flask. Having a stable here Cycle is formed with the dosage of 40 g of chlorine gas per hour started, which was previously by passing through conc. Dried sulfuric acid becomes. At the same time, 100g PTS are dosed per hour via the dropping funnel, so that overall there is continuous operation. At the bottom of the column become approx. 120 g per hour after setting a stationary operating state chlorinated product deducted. This driving style results in arithmetically chlorination a molar fourfold excess of PTS, so that the formation of Dichlorides is pushed back. According to the GC, the product formed has the following Composition (% by weight): 9.95% 1-chloropropyltrichlorosilane, 42.11% 2-chloropropyltrichlorosilane, 45.48% 3-chloropropyltrichlorosilane and together 2.73% dichlorinated products (6 isomers in total).

    Beispiele 2 bis 9Examples 2 to 9 Dehydrohalogenierungdehydrohalogenation

    In einem Metallrohr von 62 cm Länge und 34 mm Innendurchmesser werden auf ca. 50 cm Länge insgesamt 211 g einer hochoberflächigen Aktivkohle (Picatal D7, 4 x 8 mesh, BET-Oberfläche 1.300 m2/g) gegeben. Es ergibt sich in diesem Bereich ein Leerrohrvolumen von 162 ml. Das Restvolumen des Rohrs wird mit Raschigringen aufgefüllt. Dieses Rohr wird auf 350 bis 500 °C (genauer Wert siehe Tabelle 1) mittels eines Rohrofens beheizt. Auf der Seite der Raschigringe wird nun neben einem gleichmäßigen Inertgasstrom (Stickstoff, trocken) Chlorpropyltrichlorsilan (3-Chlorpropyltrichlorsilan oder Isomerengemisch aus Beispiel 1) dosiert (Dosiermenge siehe Tabelle 1). Dieses verdampft nun in der Zone der Raschigringe, wird durch die Aktivkohlezone geleitet und reagiert dort. Am Austritt des Rohres wird das gasförmige Reaktionsgemisch mittels eines Rückflusskühlers kondensiert und gesammelt. Die Abgase (HCl, evtl. Propen) verlassen über einen Intensivkühler (-20 °C) das System. Die dort gesammelten Kondensate werden mit den anderen vereinigt und analysiert (GC).

    Figure 00150001
    Figure 00160001
    A total of 211 g of high-surface area activated carbon (Picatal D7, 4 x 8 mesh, BET surface area 1,300 m 2 / g) are placed in a metal tube 62 cm long and 34 mm inside diameter over a length of approx. 50 cm. This results in an empty tube volume of 162 ml in this area. The remaining volume of the tube is filled with Raschig rings. This tube is heated to 350 to 500 ° C (for the exact value see Table 1) using a tube furnace. On the side of the Raschig rings, chloropropyltrichlorosilane (3-chloropropyltrichlorosilane or isomer mixture from Example 1) is now metered in, in addition to a uniform stream of inert gas (nitrogen, dry) (for the metered amount see Table 1). This now evaporates in the zone of the Raschig rings, is passed through the activated carbon zone and reacts there. At the outlet of the tube, the gaseous reaction mixture is condensed and collected using a reflux condenser. The exhaust gases (HCl, possibly propene) leave the system via an intensive cooler (-20 ° C). The condensates collected there are combined with the others and analyzed (GC).
    Figure 00150001
    Figure 00160001

    Claims (16)

    Verfahren zur Herstellung von Allyltrichlorsilan durch Dehydrochlorierung eines Chlorpropyltrichlorsilans oder eines Isomerengemisches von Chlorpropyltrichlorsilanen,
    dadurch gekennzeichnet, dass man die Chlorpropyltrichlorsilankomponente in Gegenwart mindestens eines oberflächenreichen Materials in der Gasphase behandelt.
    Process for the preparation of allyltrichlorosilane by dehydrochlorination of a chloropropyltrichlorosilane or an isomer mixture of chloropropyltrichlorosilanes,
    characterized in that the chloropropyltrichlorosilane component is treated in the presence of at least one surface-rich material in the gas phase.
    Verfahren nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, dass man i) n-Propyltrichlorsilan in einem ersten Schritt mit Chlor umsetzt und das resultierende Produktgemisch in einem zweiten Schritt in Gegenwart von mindestens einem oberflächenreichen Material behandelt
    oder
    (ii) n-Propyltrichlorsilan gleichzeitig in Gegenwart von Chlor und mindestens einem oberflächenreichen Material in der Gasphase behandelt
    oder
    (iii) 3-Chlorpropyltrichlorsilan in Gegenwart eines oberflächenreichen Materials in der Gasphase behandelt.
    Method according to claim 1,
    characterized in that one i) reacting n-propyltrichlorosilane with chlorine in a first step and treating the resulting product mixture in a second step in the presence of at least one surface-rich material
    or
    (ii) n-Propyltrichlorosilane treated simultaneously in the presence of chlorine and at least one surface-rich material in the gas phase
    or
    (iii) 3-chloropropyltrichlorosilane treated in the presence of a surface-rich material in the gas phase.
    Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
    dadurch gekennzeichnet, dass man ein oberflächenreiches Material mit einer inneren Oberfläche (BET) von 500 bis 2 000 m2/g einsetzt.
    The method of claim 1 or 2,
    characterized in that a surface-rich material with an inner surface area (BET) of 500 to 2,000 m 2 / g is used.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
    dadurch gekennzeichnet, dass man als oberflächenreiches Material Aktivkohle, Zeolithe oder Kieselsäuren einsetzt.
    Method according to one of claims 1 to 3,
    characterized in that activated carbon, zeolites or silicas are used as the surface-rich material.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
    dadurch gekennzeichnet, dass man die Behandlung in der Gasphase bei einer Temperatur im Bereich von 120 bis 600 °C und einem Druck im Bereich von 0,3 bis 2 bar abs. durchführt.
    Method according to one of claims 1 to 4,
    characterized in that the treatment in the gas phase at a temperature in the range from 120 to 600 ° C and a pressure in the range from 0.3 to 2 bar abs. performs.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5,
    dadurch gekennzeichnet, dass man die Umsetzung gemäß (i) erster Schritt in einem Flüssigphasenreaktor in flüssiger Phase bei einer Temperatur im Bereich von 70 bis 200 °C und einem Druck von 0,2 bis 8 bar abs. durchführt.
    Method according to one of claims 2 to 5,
    characterized in that the reaction according to (i) first step in a liquid phase reactor in the liquid phase at a temperature in the range from 70 to 200 ° C and a pressure of 0.2 to 8 bar abs. performs.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5,
    dadurch gekennzeichnet, dass man die Umsetzung gemäß (i) erster Schritt in der Gasphase bei einer Temperatur im Bereich von 130 bis 500 °C und einem Druck von 0,5 bis 1,5 bar abs. durchführt.
    Method according to one of claims 2 to 5,
    characterized in that the reaction according to (i) first step in the gas phase at a temperature in the range from 130 to 500 ° C and a pressure of 0.5 to 1.5 bar abs. performs.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 7,
    dadurch gekennzeichnet, dass man die Behandlung gemäß (i) zweiter Schritt bei einer Temperatur im Bereich von 350 bis 600 °C und einem Druck von 0,5 bis 2 bar abs. durchführt.
    Method according to one of claims 2 to 7,
    characterized in that the treatment according to (i) second step at a temperature in the range from 350 to 600 ° C and a pressure of 0.5 to 2 bar abs. performs.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5,
    dadurch gekennzeichnet, dass man die Behandlung gemäß (ii) bei einer Temperatur im Bereich von 130 bis 600 °C und einem Druck von 0,5 bis 2 bar abs. durchführt.
    Method according to one of claims 2 to 5,
    characterized in that the treatment according to (ii) at a temperature in the range from 130 to 600 ° C and a pressure of 0.5 to 2 bar abs. performs.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 9,
    dadurch gekennzeichnet, dass man n-Propyltrichlorsilan und Chlor in einem molaren Verhältnis von 1 zu 1/2 bis 1 zu 1/6 einsetzt.
    Method according to one of claims 2 to 9,
    characterized in that n-propyltrichlorosilane and chlorine are used in a molar ratio of 1 to 1/2 to 1 to 1/6.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5,
    dadurch gekennzeichnet, dass man die Behandlung gemäß (iii) bei einer Temperatur im Bereich von 130 bis 600 °C und einem Druck von 0,5 bis 2 bar abs. durchführt.
    Method according to one of claims 2 to 5,
    characterized in that the treatment according to (iii) at a temperature in the range from 130 to 600 ° C and a pressure of 0.5 to 2 bar abs. performs.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11,
    dadurch gekennzeichnet, dass man das Verfahren gemäß (i) zweiter Schritt oder gemäß (ii) oder gemäß (iii) in einem Rohrreaktor, Rohrbündelreaktor, Festbettreaktor, Fließbettreaktor oder Wirbelschichtreaktor durchführt.
    Method according to one of claims 8 to 11,
    characterized in that one carries out the process according to (i) second step or according to (ii) or according to (iii) in a tube reactor, tube bundle reactor, fixed bed reactor, fluidized bed reactor or fluidized bed reactor.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12,
    dadurch gekennzeichnet, dass man dem gasförmigen Reaktions- oder Produktgemisch ein Inertgas zusetzt.
    Method according to one of claims 1 to 12,
    characterized in that an inert gas is added to the gaseous reaction or product mixture.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13,
    dadurch gekennzeichnet, dass der Reaktor zur Durchführung des Verfahrens mit einer Gasgeschwindigkeit von 0,1 cm/s bis 10 m/s durchströmt wird.
    Method according to one of claims 1 to 13,
    characterized in that the reactor is flowed through at a gas velocity of 0.1 cm / s to 10 m / s to carry out the process.
    Verfahren nach Anspruch 14,
    dadurch gekennzeichnet, dass man die mittlere Verweilzeit des Gases im Reaktor 1 Sekunde bis 20 Sekunden beträgt.
    The method of claim 14
    characterized in that the average residence time of the gas in the reactor is 1 second to 20 seconds.
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 15,
    dadurch gekennzeichnet, dass man das Verfahren kontinuierlich betreibt.
    Method according to one of claims 1 to 15,
    characterized in that the process is operated continuously.
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    Cited By (3)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    CN102050460B (en) * 2009-10-30 2012-10-24 中国石油化工股份有限公司 Equipment for preparing molecular sieve
    WO2014016014A1 (en) * 2012-07-24 2014-01-30 Evonik Industries Ag Method for the production of alkenyl halosilanes, and reactor suited therefor
    CN104520306B (en) * 2012-07-24 2016-11-30 赢创德固赛有限公司 Prepare the method for thiazolinyl halogenated silanes and to its suitable reactor

    Families Citing this family (1)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    DE102012212050A1 (en) 2012-07-11 2014-01-16 Wacker Chemie Ag Process for the preparation of allylsilanes

    Citations (3)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    DE1056609B (en) * 1957-08-24 1959-05-06 Inst Silikon & Fluorkarbonchem Process for the preparation of alkenylhalosilanes from haloalkylhalosilanes
    JPS53135934A (en) * 1977-04-28 1978-11-28 Shin Etsu Chem Co Ltd Preparation of alkenylsilane
    DE4119994A1 (en) * 1991-06-18 1992-12-24 Huels Chemische Werke Ag METHOD FOR PRODUCING 3-CHLOROPROPYLSILANES

    Patent Citations (3)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    DE1056609B (en) * 1957-08-24 1959-05-06 Inst Silikon & Fluorkarbonchem Process for the preparation of alkenylhalosilanes from haloalkylhalosilanes
    JPS53135934A (en) * 1977-04-28 1978-11-28 Shin Etsu Chem Co Ltd Preparation of alkenylsilane
    DE4119994A1 (en) * 1991-06-18 1992-12-24 Huels Chemische Werke Ag METHOD FOR PRODUCING 3-CHLOROPROPYLSILANES

    Non-Patent Citations (2)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Title
    DATABASE WPI Section Ch Week 197902, Derwent World Patents Index; Class A41, AN 1979-02879B, XP002157227 *
    S. MUNKELT, R. MÜLLER: "Darstellung von Alkenylchlorsilanen aus Chloralkyl-Chlorsilanen", CHEM. BER., vol. 92, 1959, pages 1012 - 1018, XP002157226 *

    Cited By (7)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    CN102050460B (en) * 2009-10-30 2012-10-24 中国石油化工股份有限公司 Equipment for preparing molecular sieve
    WO2014016014A1 (en) * 2012-07-24 2014-01-30 Evonik Industries Ag Method for the production of alkenyl halosilanes, and reactor suited therefor
    CN104520306A (en) * 2012-07-24 2015-04-15 赢创工业集团股份有限公司 Method for the production of alkenyl halosilanes, and reactor suited therefor
    US20150202590A1 (en) * 2012-07-24 2015-07-23 Evonik Industries Ag Process for preparing alkenylhalosilanes and reactor suitable therefor
    JP2015530365A (en) * 2012-07-24 2015-10-15 エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG Process for producing alkenyl halogen silane, and reactor suitable for the process
    US9272258B2 (en) 2012-07-24 2016-03-01 Evonik Degussa Gmbh Process for preparing alkenylhalosilanes and reactor suitable therefore
    CN104520306B (en) * 2012-07-24 2016-11-30 赢创德固赛有限公司 Prepare the method for thiazolinyl halogenated silanes and to its suitable reactor

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