EP0470878A1 - Anti-wear coating on a titanium based substrate - Google Patents

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EP0470878A1
EP0470878A1 EP91402065A EP91402065A EP0470878A1 EP 0470878 A1 EP0470878 A1 EP 0470878A1 EP 91402065 A EP91402065 A EP 91402065A EP 91402065 A EP91402065 A EP 91402065A EP 0470878 A1 EP0470878 A1 EP 0470878A1
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EP
European Patent Office
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nickel
deposition method
sic
cr2c3
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EP91402065A
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EP0470878B1 (en
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Robert Lucien Martinou
Michel Meyer Ruimi
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Safran Aircraft Engines SAS
Original Assignee
Societe Nationale dEtude et de Construction de Moteurs dAviation SNECMA
SNECMA SAS
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • Y10S205/00Electrolysis: processes, compositions used therein, and methods of preparing the compositions
    • Y10S205/917Treatment of workpiece between coating steps

Definitions

  • the field of the present invention is that of methods of depositing anti-wear coatings on titanium or titanium alloy parts and the coatings thus obtained.
  • Zinc predepot from glycol-metal fluoride mixtures or aqueous mixtures based on fluoroboric acid, hydrofluoric acid and metal salts;
  • the invention therefore aims to overcome the aforementioned drawbacks, by eliminating the generation of hydrides by eliminating the prior chemical treatments of the substrate and by slowing the penetration of hydrogen into the substrate during the electrolytic process of depositing the anti-wear layer.
  • the invention also aims to allow an anti-wear deposit on titanium parts while reducing the fatigue drop compared to the previous methods and thereby allowing the use of coated titanium substrates for parts subjected to a cyclic fatigue, where the parts obtained by the previous processes do not allow it.
  • the object of the invention is therefore to produce a range of deposition in which the techniques of deposition of nickel by magnetron sputtering are combined in order to ensure a underlay particularly adherent to the substrate with an electrolytic deposit allowing the deposition of a final anti-wear layer.
  • the object of the invention is more particularly to define nickel deposition parameters by sputtering, compatible with subsequent electrolytic deposits.
  • step (b2) will be carried out by sputtering with a magnetron cathode, and preferably at a pressure between 0.4 and 0.8 Pa.
  • the curves give the admissible stresses in rotary bending according to the number of cycles carried out.
  • the parts are then placed in a vacuum enclosure in the range of high secondary vacuum, ie at a pressure between 3.10 ⁇ 4 and 3.10 ⁇ 1 Pa.
  • the substrate is then subjected to an ionic pickling which cleans the substrate by removing material.
  • the parts are placed in an inert gas atmosphere, for example argon injected into the enclosure under a pressure of between 1.10 ⁇ 1 and 50 Pa while applies a negative voltage to the substrate in order to attract the ions to the substrate during the luminescent discharge produced in the enclosure.
  • the operation can be performed in a range of power densities between 0.05 and 0.4 W / cm2. The tests showed that the preferred range was 0.1 to 0.15 W / cm2 for a period of between 15 and 20 minutes.
  • this technique is a vacuum deposition process operating cold, in luminescent plasma, in a gas maintained at reduced pressure from 0.1 to 10 Pa.
  • the material to be deposited here nickel, called target and placed in cathode , is introduced into the vacuum enclosure in the form of a plate a few millimeters thick.
  • the substrate is arranged in an anode.
  • the electric field created between the 2 electrodes causes the ionization of the residual gas which creates a luminescent cloud between the electrodes.
  • the substrate is then covered with a layer of the same material as the target, due to the condensation of atoms coming from the target under the impact of positive ions contained in the luminescent gas and attracted to the target due to its negative bias.
  • the substrate to be coated placed in the anode position has been polarized at a voltage between -20 and -500V.
  • the target was made of pure nickel and it was bombarded with a power density between 70 and 700 W / dm2, the choice of the bombardment power density of the target being made as a function of the temperature admissible by the substrate to be covered.
  • the spraying was carried out under an inert atmosphere in a pressure range between 0.2 and 5 Pa, the best results being obtained between 0.4 and 0.8 Pa.
  • the part then undergoes an alkaline degreasing by soaking for 3 to 7 minutes (typically 5) in an aqueous bath containing 30 to 45 g / l of Turco 4215 NCLT or 40 to 60 g / l of Ardrox PST 39 (registered trademarks).
  • the part is then rinsed with cold water, checking the continuity of the water film.
  • An electrolytic activation of the part is then carried out by soaking it for one minute under a current density (ddc) of 1.5 to 3 A / dm2 in an aqueous bath comprising from 60 to 80 g / l of KCN and from 10 to 50 g / l of K2 CO3.
  • ddc current density
  • the part is then rinsed again with cold water and electrolytic nickel-plating operations are carried out.
  • the average thickness deposited is 15 microns.
  • the part is then rinsed with cold water.
  • the thickness of nickel deposited is between 3 and 5 microns.
  • the part is then rinsed with cold water.
  • the part can then receive its anti-wear coating such as coatings in Cr, Ni-Co, Ni Co SiC or Ag-Ni.
  • the average thickness obtained is between 120 and 150 microns.
  • Another example of an anti-wear coating is 29% Ni-Co.
  • Ni / Co mass ratio used is 20 and the Ni + Co sum in solution is 87.5 g / l.
  • the parts are placed on a rotating assembly and the bath stirred with compressed air.
  • the average thickness obtained is 120 to 140 microns.
  • the part is rinsed with cold water then dried with compressed air, then undergoes degassing at 200 ° + 5 ° C for 3 h.
  • Coated test pieces according to the invention were therefore compared to coated test pieces according to the state of the prior art represented by the teaching of document FR-A-1322970.
  • Table 1 shows the treatment ranges applied to 56 test pieces, some of which were left at various stages of the coating process before subjecting them to rotary bending fatigue tests.
  • Table 2 illustrates the precise operating conditions for electrolysis carried out during the operations indicated in table 1.
  • the curves of plates 1 and 2 illustrate these results by showing, during the rotational bending fatigue tests, the variation of the stresses as a function of the number of cycles according to the state of finish of the parts and according to whether they were obtained by the invention. or according to the state of the art.
  • Table 3 shows the results of vibration fatigue tests carried out, depending on the nature of the treatment carried out on each sample, the number of cycles and the maximum stresses applied.
  • the fall in fatigue limit after 108 cycles of parts having undergone only the nickel plating (therefore before final coating) is 61% if the part is obtained according to the state of the prior art, but only 23% if the part is obtained by PVD nickel and then electrolysis as recommended by the invention.
  • the fatigue limit drop is 52% for parts according to the prior art and only 15% for parts according to l 'invention.
  • the invention makes it possible to make coated titanium, parts which previously could not have been used in a restrictive environment.
  • titanium substrates which are much lighter than the materials usually used for parts subjected to lasting fatigue stresses, both in rotational bending and in vibration fatigue.

Abstract

Un procédé de déposition d'un revêtement anti-usure en Ag ou choisi dans le groupe des matériaux formé par Cr, Ni, Co, pris séparément ou en mélange entre eux avec ou sans particules céramiques telles que SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃, sur un substrat à base titane est décrit. Selon l'invention, il comporte les étapes suivantes :

  • a) rugosification du substrat par sablage,
  • b) dépôt d'une sous-couche d'accrochage de nickel par pulvérisation cathodique,
  • c) étape intermédiaire de nettoyage
  • d) activation par immersion de la pièce dans un bain cyanuré,
  • e) dépôt de la couche finale anti-usure en Ag ou choisie dans le groupe formé par Cr, Ni, Co pris seuls ou en mélange entre eux avec ou sans particules céramiques telles que SiC, Cr₂C₃ , Al₂O₃, Cr₂O₃.
A process for depositing an anti-wear coating in Ag or chosen from the group of materials formed by Cr, Ni, Co, taken separately or as a mixture with or without ceramic particles such as SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃, on a titanium-based substrate is described. According to the invention, it comprises the following stages:
  • a) roughening of the substrate by sandblasting,
  • b) deposition of a nickel bonding sublayer by sputtering,
  • c) intermediate cleaning step
  • d) activation by immersion of the part in a cyanide bath,
  • e) depositing the final anti-wear layer in Ag or chosen from the group formed by Cr, Ni, Co taken alone or as a mixture with or without ceramic particles such as SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃.

Description

Le domaine de la présente invention est celui des procédés de déposition de revêtements anti-usure sur des pièces en titane ou en alliage de titane et les revêtements ainsi obtenus.The field of the present invention is that of methods of depositing anti-wear coatings on titanium or titanium alloy parts and the coatings thus obtained.

Il est très difficile d'obtenir des dépôts très adhérents sur le titane et ses alliages en raison de la grande passivité de ceux-ci.It is very difficult to obtain very adherent deposits on titanium and its alloys because of the great passivity of these.

On a déjà proposé de faire subir un traitement préliminaire aux pièces à revêtir avant de procéder au dépôt anti-usure proprement dit, afin d'améliorer l'adhérence de celui-ci. On a déjà ainsi proposé de réaliser les traitements préliminaires suivants :It has already been proposed to subject a preliminary treatment to the parts to be coated before proceeding with the actual anti-wear deposit, in order to improve the adhesion thereof. It has thus already been proposed to carry out the following preliminary treatments:

Attaque anodique dans des mélanges glycol - acide fluorhydrique, acide acétique ;Anodic attack in glycol mixtures - hydrofluoric acid, acetic acid;

Prédépot de zinc à partir de mélanges glycol - fluorures métalliques ou de mélanges aqueux à base d'acide fluoroborique, fluorhydrique et de sels métalliques ;Zinc predepot from glycol-metal fluoride mixtures or aqueous mixtures based on fluoroboric acid, hydrofluoric acid and metal salts;

Décapages de longue durée dans les acides chlorhydrique ou sulfurique - chlorhydrique concentrés suivis de dépôts de fer, nickel ou cobalt en bains très acides.Long-term pickling in hydrochloric or sulfuric acid - concentrated hydrochloric acid followed by iron, nickel or cobalt deposits in very acid baths.

Dans toutes ces méthodes, il est nécessaire ou recommandé de combiner le traitement préliminaire avec un traitement thermique entre 400°C et 800°C en atmosphère non contaminante vis à vis du titane afin d'améliorer la tenue du revêtement métallique. Toutefois cette tenue n'est jamais excellente. En particulier, le revêtement obtenu ne résiste pas à l'usinage ou à la rectification.In all these methods, it is necessary or recommended to combine the preliminary treatment with a heat treatment between 400 ° C and 800 ° C in a non-contaminating atmosphere with respect to titanium in order to improve the resistance of the metallic coating. However, this outfit is never excellent. In particular, the coating obtained does not withstand machining or grinding.

On a aussi proposé dans le document FR-A-1 322 970 de réaliser un traitement préliminaire par voie chimique en milieu oxydant consistant à soumettre la pièce à l'action d'un bain d'anhydride chromique, de phosphate alcalin et d'acide fluorhydrique pendant 5 à 30 mn à une température comprise entre 35°C et 100°C. Mais cette gamme présente le double inconvénient d'être génératrice d'hydures dans le revêtement et d'assurer une pénétration indésirable d'hydrogène dans le substrat lors des opérations électrolytiques ultérieures.It has also been proposed in document FR-A-1 322 970 to carry out a preliminary treatment by chemical means in an oxidizing medium consisting in subjecting the part to the action of a bath of chromic anhydride, alkaline phosphate and acid hydrofluoric for 5 to 30 min at a temperature between 35 ° C and 100 ° C. However, this range has the double disadvantage of generating hydrides in the coating and of ensuring undesirable penetration of hydrogen into the substrate during subsequent electrolytic operations.

L'invention a donc pour but de s'affranchir des inconvénients précités, en supprimant la génération d'hydrures par la suppression des traitements chimiques préalables du substrat et en freinant la pénétration d'hydrogène dans le substrat lors du processus électrolytique de dépôt de la couche anti-usure.The invention therefore aims to overcome the aforementioned drawbacks, by eliminating the generation of hydrides by eliminating the prior chemical treatments of the substrate and by slowing the penetration of hydrogen into the substrate during the electrolytic process of depositing the anti-wear layer.

L'invention a également pour but de permettre un dépôt anti-usure sur des pièces en titane tout en diminuant la chute de fatigue par rapport aux procédés antérieurs et permettant de ce fait d'utiliser des substrats en titane revêtus pour des pièces soumises à une fatigue cyclique, là où les pièces obtenues par les procédés antérieurs ne le permettent pas.The invention also aims to allow an anti-wear deposit on titanium parts while reducing the fatigue drop compared to the previous methods and thereby allowing the use of coated titanium substrates for parts subjected to a cyclic fatigue, where the parts obtained by the previous processes do not allow it.

L'invention a donc pour objet de réaliser une gamme de dépôt dans laquelle on associe les techniques de dépôt de nickel par pulvérisation cathodique magnétron afin d'assurer une sous-couche particulièrement adhèrente au substrat à un dépôt électrolytique permettant la déposition d'une couche finale anti-usure.The object of the invention is therefore to produce a range of deposition in which the techniques of deposition of nickel by magnetron sputtering are combined in order to ensure a underlay particularly adherent to the substrate with an electrolytic deposit allowing the deposition of a final anti-wear layer.

L'invention a plus particulièrement pour objet de définir des paramètres de déposition de nickel par pulvérisation cathodique, compatibles avec les dépôts électrolytiques ultérieurs.The object of the invention is more particularly to define nickel deposition parameters by sputtering, compatible with subsequent electrolytic deposits.

L'invention a donc pour objet un procédé de déposition d'un revêtement anti-usure en Ag ou choisi dans le groupe des matériaux formé par Cr, Ni, Co, pris séparément ou en mélange entre eux, avec ou sans particules céramiques telles que SiC Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃ sur un substrat à base titane caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes :

  • a) rugosification du substrat par sablage,
  • b) dépôt d'une sous-couche d'accrochage de nickel par pulvérisation cathodique ;
  • c) étape intermédiaire de nettoyage ;
  • d) activation électrolytique par immersion de la pièce dans un bain cyanuré ;
  • e) dépôt d'une couche de nickel électrolytique ;
  • f) dépôt de la couche finale anti-usure en Ag ou choisie dans le groupe formé par Cr, Ni, Co, pris seuls ou en mélange entre eux avec ou sans particules céramiques telles que SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃.
The subject of the invention is therefore a method of depositing an anti-wear coating in Ag or chosen from the group of materials formed by Cr, Ni, Co, taken separately or as a mixture between them, with or without ceramic particles such as SiC Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃ on a titanium-based substrate characterized in that it comprises the following stages:
  • a) roughening of the substrate by sandblasting,
  • b) deposition of a nickel bonding sublayer by sputtering;
  • c) intermediate cleaning step;
  • d) electrolytic activation by immersion of the part in a cyanide bath;
  • e) deposition of an electrolytic nickel layer;
  • f) deposition of the final anti-wear layer in Ag or chosen from the group formed by Cr, Ni, Co, taken alone or as a mixture with or without ceramic particles such as SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃.

Selon une particularité de l'invention l'étape (b) pourra être réalisée en deux sous-étapes successives, (b1) et (b2), effectuées sous atmosphère de gaz inerte, les deux sous-étapes étant :

  • b1) décapage ionique du substrat dans une enceinte à vide à une pression comprise entre 1.10ml et 50 Pa
  • b2) nickelage par pulvérisation cathodique sous atmosphère inerte obtenue par introduction d'argon dans l'enceinte, à une pression comprise entre 2.10⁻¹ et 5 Pa.
According to a feature of the invention, step (b) can be carried out in two successive sub-steps, (b1) and (b2), carried out under an inert gas atmosphere, the two sub-steps being:
  • b1) ionic pickling of the substrate in a vacuum enclosure at a pressure between 1.10 ml and 50 Pa
  • b2) nickel-plating by sputtering under an inert atmosphere obtained by introducing argon into the enclosure, at a pressure between 2.10⁻¹ and 5 Pa.

Avantageusement l'étape (b2) sera réalisée par pulvérisation cathodique à cathode magnétron, et de façon préférentielle à une pression comprise entre 0,4 et 0,8 Pa.Advantageously, step (b2) will be carried out by sputtering with a magnetron cathode, and preferably at a pressure between 0.4 and 0.8 Pa.

D'autres caractéristiques du procédé seront précisées par la suite.Other characteristics of the process will be specified below.

L'invention a également pour objet les pièces ainsi obtenues sur un substrat à base de titane et comportant depuis le substrat jusqu'à la surface :

  • Une couche de Ni déposée par pulvérisation cathodique magnétron et l'épaisseur comprise entre 3 et 7 microns.
  • Une couche de Ni électrolytique obtenue par prénickelage en bain acide suivie d'un nickelage en bain sulfamate, ladite couche ayant une épaisseur comprise entre 18 et 20 microns.
  • Une couche finale anti-usure en Ag ou d'un matériau choisi soit dans le groupe formé par Cr, Ni, Co, pris seuls ou en mélange entre eux avec ou sans particules céramiques telles que SiC Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃ ladite couche ayant une épaisseur supérieure à 80 microns.
The subject of the invention is also the parts thus obtained on a titanium-based substrate and comprising from the substrate to the surface:
  • A layer of Ni deposited by magnetron sputtering and the thickness between 3 and 7 microns.
  • An electrolytic Ni layer obtained by pre-nickel plating in an acid bath followed by nickel plating in a sulfamate bath, said layer having a thickness of between 18 and 20 microns.
  • A final anti-wear layer of Ag or of a material chosen either from the group formed by Cr, Ni, Co, taken alone or as a mixture with or without ceramic particles such as SiC Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃ said layer having a thickness greater than 80 microns.

D'autres caractéristiques du procédé selon l'invention vont être décrites dans le complément qui va suivre accompagné de 2 planches représentant des courbes d'essais de fatigue en flexion rotative sur des éprouvettes toriques en TA6V, selon divers états de finition indiqués en légende pour des pièces réalisées selon l'état de la technique défini par le brevet FR-A-1 322 970 ou selon l'invention.Other characteristics of the process according to the invention will be described in the supplement which follows, accompanied by 2 plates representing fatigue test curves in rotary bending on toroidal test pieces in TA6V, according to various finish states indicated. in legend for parts produced according to the state of the art defined by patent FR-A-1 322 970 or according to the invention.

Les courbes donnent les contraintes admissibles en flexion rotative selon le nombre de cycles effectués.The curves give the admissible stresses in rotary bending according to the number of cycles carried out.

Pour décrire plus en détail l'invention, on explicitera la gamme de déposition à partir d'exemple de dépôts effectués sur des éprouvettes d'alliage de titane TA6V à l'état coulé. Les éprouvettes utilisées ont été les suivantes :

  • des barreaux de diamètre 30mm et de hauteur 80mm
  • des plaques de 100 X 20 X 2 mm
  • des alésages de diamètre 30mm et de hauteur 12mm percés dans des barreaux.
To describe the invention in more detail, the range of deposition will be explained on the basis of example of deposits made on test pieces of titanium alloy TA6V in the cast state. The test pieces used were as follows:
  • bars of diameter 30mm and height 80mm
  • plates of 100 X 20 X 2 mm
  • bores of 30mm diameter and 12mm height drilled in bars.

On a tout d'abord procédé à une opération de rugosification du substrat, par sablage à sec au corindon de 50 microns ou par sablage humide au quartz de 40 microns, opération que des essais avaient démontré souhaitable pour obtenir ensuite une adhérence satisfaisante du nickel déposé dans les opérations suivantes.We first carried out an operation of roughening the substrate, by dry sandblasting with corundum of 50 microns or by wet sandblasting with quartz of 40 microns, an operation which tests had demonstrated desirable to then obtain a satisfactory adhesion of the deposited nickel. in the following operations.

Les pièces sont ensuite placées en enceinte sous vide dans la gamme du vide secondaire élevé, i.e. à une pression comprise entre 3.10⁻⁴ et 3.10⁻¹ Pa. The parts are then placed in a vacuum enclosure in the range of high secondary vacuum, ie at a pressure between 3.10⁻⁴ and 3.10⁻¹ Pa.

On fait alors subir au substrat un décapage ionique qui nettoie le substrat par enlèvement de matière. Pour ce faire, les pièces sont placées en atmosphère de gaz inerte par exemple de l'argon injecté dans l'enceinte sous une pression comprise entre 1.10⁻¹ et 50 Pa tandis qu'on applique une tension négative sur le substrat afin d'attirer les ions sur le substrat lors de la décharge luminescente réalisée dans l'enceinte. L'opération peut être réalisée dans une gamme de densités de puissance comprise entre 0,05 et 0,4 W/cm².
Les essais ont montré que la gamme préférée était de 0,1 à 0,15W/cm² pendant une durée comprise entre 15 et 20 minutes.
The substrate is then subjected to an ionic pickling which cleans the substrate by removing material. To do this, the parts are placed in an inert gas atmosphere, for example argon injected into the enclosure under a pressure of between 1.10⁻¹ and 50 Pa while applies a negative voltage to the substrate in order to attract the ions to the substrate during the luminescent discharge produced in the enclosure. The operation can be performed in a range of power densities between 0.05 and 0.4 W / cm².
The tests showed that the preferred range was 0.1 to 0.15 W / cm² for a period of between 15 and 20 minutes.

Après cette opération de décapage ionique du substrat, on procède au dépôt d'une couche d'accrochage de nickel. Pour les raisons indiquées plus haut le choix du procédé de dépôt s'est porté sur un dépôt par pulvérisation cathodique.After this ionic stripping operation on the substrate, a nickel bonding layer is deposited. For the reasons indicated above, the choice of deposition method fell on sputtering deposition.

On rappelle que cette technique est un procédé de dépôt sous vide fonctionnant à froid, en plasma luminescent, dans un gaz maintenu à pression réduite de 0,1 à 10 Pa. Le matériau à déposer, ici du nickel, appelé cible et placé en cathode, est introduit dans l'enceinte à vide sous forme d'une plaque de quelques millimètres d'épaisseur. Le substrat est disposé en anode.Recall that this technique is a vacuum deposition process operating cold, in luminescent plasma, in a gas maintained at reduced pressure from 0.1 to 10 Pa. The material to be deposited, here nickel, called target and placed in cathode , is introduced into the vacuum enclosure in the form of a plate a few millimeters thick. The substrate is arranged in an anode.

A la pression résiduelle de l'enceinte, le champ électrique créé entre les 2 électrodes provoque l'ionisation du gaz résiduel qui crée un nuage luminescent entre les électrodes.At the residual pressure of the enclosure, the electric field created between the 2 electrodes causes the ionization of the residual gas which creates a luminescent cloud between the electrodes.

Le substrat se recouvre alors d'une couche du même matériau que la cible, dûe à la condensation d'atomes en provenance de la cible sous l'impact d'ions positifs contenus dans le gaz luminescent et attirés par la cible du fait de sa polarisation négative.The substrate is then covered with a layer of the same material as the target, due to the condensation of atoms coming from the target under the impact of positive ions contained in the luminescent gas and attracted to the target due to its negative bias.

Plus précisément dans l'invention on a choisi d'effectuer le dépôt de nickel d'accrochage par pulvérisation cathodique avec cathode magnétron afin d'accroître la qualité d'adhésion du nickel et d'augmenter la vitesse du dépôt pour obtenir une gamme d'une durée compatible avec les impératifs de la production industrielle.More precisely, in the invention, the choice was made to deposit the bonding nickel by sputtering with a magnetron cathode in order to increase the quality of adhesion of the nickel and to increase the speed of the deposit in order to obtain a range of a duration compatible with the requirements of industrial production.

Avec une cathode magnétron on combine au champ électrique un champ magnétique intense perpendiculaire au précédent, c'est à dire parallèle à la cible. Cette superposition des deux champs a pour effet d'enrouler les trajectoires électroniques autour des lignes de champ magnétique, augmentant considérablement les chances d'ioniser une molécule de gaz au voisinage de la cathode. L'efficacité d'ionisation des électrons secondaires émis par la cathode est augmentée du fait de l'allongement de leurs trajectoires. Cette augmentation de densité ionique à proximité de la cible entraîne une augmentation importante du bombardement ionique de cette dernière d'où un accroissement de la quantité d'atomes éjectés pour une même tension appliquée.With a magnetron cathode we combine with the electric field an intense magnetic field perpendicular to the previous one, ie parallel to the target. This superposition of the two fields has the effect of winding the electronic trajectories around the magnetic field lines, considerably increasing the chances of ionizing a gas molecule in the vicinity of the cathode. The ionization efficiency of the secondary electrons emitted by the cathode is increased due to the lengthening of their trajectories. This increase in ion density near the target results in a significant increase in the ion bombardment of the latter, hence an increase in the quantity of atoms ejected for the same applied voltage.

Selon l'invention le substrat à revêtir placé en position d'anode, a été polarisé à une tension comprise entre -20 et -500V.According to the invention the substrate to be coated placed in the anode position, has been polarized at a voltage between -20 and -500V.

Les meilleurs résultats ont été obtenus entre-100 et-150 V.The best results have been obtained between -100 and -150 V.

La cible était en nickel pur et elle a été bombardée avec une densité de puissance comprise entre 70 et 700 W/dm², le choix de la densité de puissance de bombardement de la cible étant effectué en fonction de la température admissible par le substrat à recouvrir.The target was made of pure nickel and it was bombarded with a power density between 70 and 700 W / dm², the choice of the bombardment power density of the target being made as a function of the temperature admissible by the substrate to be covered.

La pulvérisation a été réalisée sous atmosphère inerte dans une gamme de pression comprise entre 0,2 et 5 Pa, les meilleurs résultats étant obtenus entre 0,4 et 0,8 Pa.The spraying was carried out under an inert atmosphere in a pressure range between 0.2 and 5 Pa, the best results being obtained between 0.4 and 0.8 Pa.

Pour obtenir un dépôt de nickel de 5 à 7 microns, des durées comprises entre 45 et 60 minutes ont été suffisantes, ce qui présente un avantage notable par rapport aux techniques antérieures qui nécessitaient plusieurs heures.To obtain a nickel deposit of 5 to 7 microns, durations of between 45 and 60 minutes have been sufficient, which has a notable advantage compared to the prior techniques which required several hours.

La pièce subit ensuite un dégraissage alcalin au trempé pendant 3 à 7 minutes (typiquement 5) dans un bain aqueux contenant 30 à 45 g/l de Turco 4215 NCLT ou 40 à 60 g/l de Ardrox PST 39 (marques déposées).The part then undergoes an alkaline degreasing by soaking for 3 to 7 minutes (typically 5) in an aqueous bath containing 30 to 45 g / l of Turco 4215 NCLT or 40 to 60 g / l of Ardrox PST 39 (registered trademarks).

La pièce subit alors un rinçage à l'eau froide avec vérification de la continuité du film d'eau.The part is then rinsed with cold water, checking the continuity of the water film.

On effectue ensuite une activation électrolytique de la pièce par trempage de celle-ci pendant une minute sous une densité de courant (d.d.c) de 1,5 à 3 A/dm² dans un bain aqueux comportant de 60 à 80 g/l de KCN et de 10 à 50 g/l de K₂ CO₃.An electrolytic activation of the part is then carried out by soaking it for one minute under a current density (ddc) of 1.5 to 3 A / dm² in an aqueous bath comprising from 60 to 80 g / l of KCN and from 10 to 50 g / l of K₂ CO₃.

La pièce subit alors un nouveau rinçage à l'eau froide puis on effectue des opérations de nickelage électrolytique.The part is then rinsed again with cold water and electrolytic nickel-plating operations are carried out.

Celles-ci sont réalisées en deux étapes successives :These are carried out in two successive stages:

-e1) prénickelage en bain acide (pH 1,1) dans les conditions opératoires suivantes :

- température
: 50 ± 5°C
- d.d.c.
: 6 ± 1A / dm² pendant 3mn
puis 4 ± 1 A/dm² pendant 10mn
dans un bain contenant :
- NiCl₂, 6H₂O
: 280 à 350 g/l
- Ni métal
: 69 à 86 g/l
- H₃BO₃
: 28 à 35 g/l
-e1) pre-nickel plating in an acid bath (pH 1.1) in the following operating conditions:
- temperature
: 50 ± 5 ° C
- ddc
: 6 ± 1A / dm² for 3 minutes
then 4 ± 1 A / dm² for 10 minutes
in a bath containing:
- NiCl₂, 6H₂O
: 280 to 350 g / l
- Ni metal
: 69 to 86 g / l
- H₃BO₃
: 28 to 35 g / l

L'épaisseur moyenne déposée est de 15 microns.The average thickness deposited is 15 microns.

La pièce est ensuite rincée à l'eau froide.The part is then rinsed with cold water.

- e2) nickelage en bain sulfamate dans les conditions opératoires suivantes :

- température
: 50 ± 5°C
- d. d. c.
: 2 A/dm² pendant 5 mn
puis 4A/dm² pendant 5 mn.
dans un bain contenant
- Ni sulfamate
: 75 à 90 g/l
- NiCl₂, 6H₂O
: 18 g/l
- ion chlorure Cl⁻⁻
: 3,75 à 5,60 g/l
- H₃BO₃
: 30 à 40 g/l
e2) nickel plating in a sulfamate bath under the following operating conditions:
- temperature
: 50 ± 5 ° C
- ddc
: 2 A / dm² for 5 min
then 4A / dm² for 5 min.
in a container bath
- Ni sulfamate
: 75 to 90 g / l
- NiCl₂, 6H₂O
: 18 g / l
- Cl⁻⁻ chloride ion
: 3.75 to 5.60 g / l
- H₃BO₃
: 30 to 40 g / l

L'épaisseur de nickel déposé est comprise entre 3 et 5 microns.The thickness of nickel deposited is between 3 and 5 microns.

La pièce est ensuite rincée à l'eau froide.The part is then rinsed with cold water.

La pièce peut ensuite recevoir son revêtement anti-usure tel que des revêtements en Cr, en Ni-Co, Ni Co SiC ou Ag- Ni.The part can then receive its anti-wear coating such as coatings in Cr, Ni-Co, Ni Co SiC or Ag-Ni.

Un premier exemple peut être donné avec un revêtement de chrome électrolytique obtenu sous les conditions opératoires suivantes.

- température
: 54° ± 1°C
- d.d.c.
: 25 A/dm² pendant 10mn puis
: 20 A/dm² pendant 12 heures
dans un bain contenant :
- CrO₃
: 225 à 275 g/l
- H₂SO₄
: 2 à 3 g/l
- Cr ⁺⁺⁺
: 2,5 à 8 g/l
avec CrO₃ / H₂ SO₄ compris entre 90 et 120.A first example can be given with an electrolytic chromium coating obtained under the following operating conditions.
- temperature
: 54 ° ± 1 ° C
- ddc
: 25 A / dm² for 10 minutes then
: 20 A / dm² for 12 hours
in a bath containing:
- CrO₃
: 225 to 275 g / l
- H₂SO₄
: 2 to 3 g / l
- Cr ⁺⁺⁺
: 2.5 to 8 g / l
with CrO₃ / H₂ SO₄ between 90 and 120.

L'épaisseur moyenne obtenue est comprise entre 120 et 150 microns.The average thickness obtained is between 120 and 150 microns.

Un autre exemple de revêtement anti-usure est le Ni-Co à 29% Co.Another example of an anti-wear coating is 29% Ni-Co.

Le rapport massique Ni/Co utilisé est de 20 et la somme Ni + Co en solution est de 87,5 g/l.The Ni / Co mass ratio used is 20 and the Ni + Co sum in solution is 87.5 g / l.

Le nickel et le cobalt sont introduits dans le bain sous la forme de sulfamate de nickel Ni (NH₂ SO₃)₂, 4 H₂O et de sulfamate de cobalt Co(NH₂SO₃)₂, 4H₂O dans les conditions opératoires suivantes :

- température
: 50° ± 2°C
- pH
: 3,9 ± 0,1
- d.d.c
: 2 A/dm² pendant 10 mn puis
4 A/dm² pendant 3h25mn.
Nickel and cobalt are introduced into the bath in the form of nickel sulfamate Ni (NH₂ SO₃) ₂, 4 H₂O and cobalt sulfamate Co (NH₂SO₃) ₂, 4H₂O under the following operating conditions:
- temperature
: 50 ° ± 2 ° C
- pH
: 3.9 ± 0.1
- ddc
: 2 A / dm² for 10 min then
4 A / dm² for 3h25mn.

les pièces sont placées sur un montage tournant et le bain agité à l'air comprimé.the parts are placed on a rotating assembly and the bath stirred with compressed air.

L'épaisseur moyenne obtenue est de 120 à 140 microns.The average thickness obtained is 120 to 140 microns.

Après obtention de l'un des revêtements anti usure précités, la pièce est rincée à l'eau froide puis séchée à l'air comprimé, puis subit un dégazage à 200° + 5°C pendant 3 h.After obtaining one of the aforementioned anti-wear coatings, the part is rinsed with cold water then dried with compressed air, then undergoes degassing at 200 ° + 5 ° C for 3 h.

Afin de déterminer la tenue en fatigue des pièces à base titane revêtues des dépôts anti-usure selon l'invention, des essais de fatigue en flexion rotative sur des éprouvettes toriques ont été réalisés.In order to determine the fatigue strength of titanium-based parts coated with anti-wear deposits according to the invention, fatigue tests in rotary bending on toric test pieces were carried out.

Des éprouvettes revêtues selon l'invention ont été pour cela comparées à des éprouvettes revêtues selon l'état de la technique antérieure représenté par l'enseignement du document FR-A-1322970.Coated test pieces according to the invention were therefore compared to coated test pieces according to the state of the prior art represented by the teaching of document FR-A-1322970.

Les tableaux joints en annexe illustrent les opérations qui ont été effectuées. Ces tableaux font partie intégrante de la présente description.The attached tables illustrate the operations that have been carried out. These tables are an integral part of this description.

Le tableau 1 montre les gammes de traitement appliquées à 56 éprouvettes dont certaines laissées à diverses étapes du procédé de revêtement avant de leur faire subir des essais de fatigue de flexion rotative.
Le tableau 2 illustre les conditions opératoires précises d'électrolyse effectuée lors des opérations indiquées dans le tableau 1.
Table 1 shows the treatment ranges applied to 56 test pieces, some of which were left at various stages of the coating process before subjecting them to rotary bending fatigue tests.
Table 2 illustrates the precise operating conditions for electrolysis carried out during the operations indicated in table 1.

Les courbes des planches 1 et 2 illustrent ces résultats en montrant lors des essais de fatigue en flexion rotative la variation des contraintes en fonction du nombre de cycles selon l'état de finition des pièces et selon qu'elles ont été obtenues par l'invention ou selon l'état de la technique.The curves of plates 1 and 2 illustrate these results by showing, during the rotational bending fatigue tests, the variation of the stresses as a function of the number of cycles according to the state of finish of the parts and according to whether they were obtained by the invention. or according to the state of the art.

Les courbes montrent que les pièces revêtues selon l'invention ont une chûte de fatigue en flexion rotative beaucoup plus faible que celles réalisées selon l'état de la technique illustré par le brevet FRA 1 322 970.The curves show that the coated parts according to the invention have a much lower fatigue drop in rotary bending than those produced according to the state of the art illustrated by patent FRA 1,322,970.

Les contraintes maximales admissibles au bout de 10⁸ cycles, peuvent à partir de ce tableau être résumées ainsi, selon que les revêtements (nickelage seul, Ni Co, Cr) on été réalisés au moyen de l'invention ou selon l'état de la technique

Figure imgb0001
The maximum admissible stresses after 10⁸ cycles, can be summarized from this table as follows, depending on whether the coatings (nickel plating alone, Ni Co, Cr) have been produced by means of the invention or according to the state of the art
Figure imgb0001

Le tableau 3 montre les résultats d'essais de fatigue vibratoire réalisés, en fonction de la nature du traitement réalisé sur chaque échantillon, du nombre de cycles et des contraintes maximales appliquées.

Figure imgb0002
Figure imgb0003
Figure imgb0004
Table 3 shows the results of vibration fatigue tests carried out, depending on the nature of the treatment carried out on each sample, the number of cycles and the maximum stresses applied.
Figure imgb0002
Figure imgb0003
Figure imgb0004

Si on examine comparativement les résultats de ces essais sur des pièces à même niveau de revêtement, selon que le revêtement est obtenu selon l'invention et selon l'état de la technique, on peut voir les points suivants :If we compare the results of these tests on parts with the same level of coating, depending on whether the coating is obtained according to the invention and according to the state of the art, we can see the following points:

La chute de limite de fatigue après 10⁸ cycles de pièces ayant subi seulement les nickelages (donc avant revêtement final) est de 61 % si la pièce est obtenue selon l'état de la technique antérieure, mais seulement de 23 % si la pièce est obtenue par nickel PVD puis électrolyse comme préconisé par l'invention.The fall in fatigue limit after 10⁸ cycles of parts having undergone only the nickel plating (therefore before final coating) is 61% if the part is obtained according to the state of the prior art, but only 23% if the part is obtained by PVD nickel and then electrolysis as recommended by the invention.

A l'état revêtu, pour des revêtements de chrome de 0,1 mm d'épaisseur, la chute de limite de fatigue est de 52 % pour les pièces selon l'état de la technique et seulement de 15 % pour les pièces selon l'invention.In the coated state, for chrome coatings 0.1 mm thick, the fatigue limit drop is 52% for parts according to the prior art and only 15% for parts according to l 'invention.

Pour les revêtements nickel-cobalt de 0,1mm, la différence est encore plus importante car la chute de limite de fatigue de 67 % pour l'état de la technique, tombe à 27 % pour les pièces selon l'invention.For 0.1mm nickel-cobalt coatings, the difference is even greater since the drop in fatigue limit of 67% for the state of the art, drops to 27% for the parts according to the invention.

Les résultats indiqués ci-dessus montrent que l'invention permet de limiter notablement l'abaissement de la limite de fatigue des pièces revêtues de dépots protecteurs par rapport au substrat non revêtu, tant en fatigue vibratoire qu'en fatigue par flexion rotative.The results indicated above show that the invention makes it possible to significantly limit the lowering of the fatigue limit of the parts coated with protective deposits relative to the uncoated substrate, both in vibration fatigue and in fatigue by rotary bending.

En réalisant ainsi un procédé industriellement exploitable (en raison de ses durées comparativement limitées par rapport à l'état de l'art) pour la réalisation de dépôts anti-usure fiables et durables sur des substrats en alliage de titane, l'invention permet de réaliser en titane revêtu, des pièces qui auparavant n'auraient pas pu être utilisées en environnement contraignant.By thus realizing an industrially exploitable process (because of its comparatively limited durations compared to the state of the art) for producing reliable and durable anti-wear deposits on titanium alloy substrates, the invention makes it possible to make coated titanium, parts which previously could not have been used in a restrictive environment.

On peut donc utiliser des substrats titane, beaucoup plus légers que les matériaux habituellement utilisés pour des pièces soumises à des contraintes durables de fatigue, tant en flexion de rotation qu'en fatigue vibratoire.It is therefore possible to use titanium substrates, which are much lighter than the materials usually used for parts subjected to lasting fatigue stresses, both in rotational bending and in vibration fatigue.

Claims (11)

Procédé de déposition d'un revêtement anti-usure en Ag ou choisi dans le groupe des matériaux formé par Cr, Ni, Co, pris séparément ou en mélange entre eux avec ou sans particules céramiques telles que SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃, sur un substrat à base titane caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes : a) rugosification du substrat par sablage, b) depôt d'une sous-couche d'accrochage de nickel par pulvérisation cathodique, c) étape intermédiaire de nettoyage d) activation par immersion de la pièce dans un bain cyanuré, e) dépôt d'une couche de nickel électrolytique, f) dépôt de la couche finale anti-usure en Ag ou choisie dans le groupe forme par Cr,Ni, Co, pris seuls ou en mélange entre eux avec ou sans particules céramiques telles que SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃. Method for depositing an anti-wear coating in Ag or chosen from the group of materials formed by Cr, Ni, Co, taken separately or as a mixture with or without ceramic particles such as SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃, on a titanium-based substrate characterized in that it comprises the following steps: a) roughening of the substrate by sandblasting, b) depositing a nickel bonding sublayer by sputtering, c) intermediate cleaning step d) activation by immersion of the part in a cyanide bath, e) deposition of an electrolytic nickel layer, f) deposition of the final anti-wear layer in Ag or chosen from the group formed by Cr, Ni, Co, taken alone or as a mixture with or without ceramic particles such as SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃. Procedé de déposition selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape (b) est constituée de deux sous-étapes successives b₁ et b₂ effectuées sous atmosphère de gaz inerte, lesdites sous-étapes étant - b₁) décapage ionique du substrat dans une enceinte à vide à une pression comprise entre 1.10⁻¹ et 50 Pa. - b₂) nickelage par pulvérisation cathodique sous atmosphère inerte obtenue par introduction d'argon dans l'enceinte, à une pression comprise entre 2.10⁻¹ et 5Pa. Deposition process according to claim 1, characterized in that step (b) consists of two successive substeps b₁ and b₂ carried out under an atmosphere of inert gas, said substeps being - b₁) ion stripping of the substrate in a vacuum enclosure at a pressure between 1.10⁻¹ and 50 Pa. - b₂) nickel-plating by sputtering under an inert atmosphere obtained by introducing argon into the enclosure, at a pressure between 2.10⁻¹ and 5Pa. Procédé de déposition selon la revendication 2 caractérisé en ce que la sous-étape b₂ est effectuée à une pression comprise entre 0,4 et 0,8 Pa.Deposition method according to claim 2 characterized in that the sub-step b₂ is carried out at a pressure between 0.4 and 0.8 Pa. Procédé de déposition selon l'une des revendications 2 ou 3 caractérisé en ce que l'étape (b₂) est effectuée par pulvérisation cathodique à cathode magnétron.Deposition method according to one of claims 2 or 3 characterized in that step (b₂) is carried out by sputtering with a magnetron cathode. Procédé de déposition selon l'une des revendications 2 ou 3 caractérisé en ce que le substrat à revêtir placé en position d'anode est polarisé à une tension comprise entre -20 et -500V.Deposition method according to one of claims 2 or 3 characterized in that the substrate to be coated placed in the anode position is polarized at a voltage between -20 and -500V. Procédé de déposition selon la revendication 5, caractérisé en ce que le substrat est polarisé à une tension comprise entre -100 et -150V.Deposition method according to claim 5, characterized in that the substrate is polarized at a voltage between -100 and -150V. Procédé de déposition selon la revendication 6 caractérisé en ce que la cible est en nickel pur et en ce qu'elle est bombardée avec une densité de puissance comprise entre 70 et 700 W/dm², le choix de la densité de puissance de bombardement de la cible étant effectué en fonction de la température admissible par le substrat à recouvrir.Deposition method according to claim 6 characterized in that the target is made of pure nickel and in that it is bombarded with a power density of between 70 and 700 W / dm², the choice of the bombardment power density of the target being made as a function of the temperature admissible by the substrate to be covered. Procédé de déposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 7 caractérisé en ce que l'étape c) de nettoyage est réalisée par trempage de la pièce dans un bain alcalin pendant 3 à 7 mn, suivi d'un rinçage à l'eau froide.Deposition method according to any one of Claims 1 to 7, characterized in that the cleaning step c) is carried out by soaking the part in an alkaline bath for 3 to 7 min, followed by rinsing with water cold. Procédé de déposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 7 caractérisé en ce que l'étape (e) est constituée de deux sous-étapes successives : - e1) prénickelage en bain acide à 50°C + 5°C sous une d.d.c. de 6± 1 A/dm² pendant 3 minutes puis sous une d.d.c. de 4± 1A/dm² pendant 10 minutes. - e2) nickelage en bain sulfamate sous une d.d.c comprise entre 2 et 4 A/dm² pendant 5 minutes. Deposition method according to any one of Claims 1 to 7, characterized in that step (e) consists of two successive substeps: - e1) pre-nickel plating in an acid bath at 50 ° C + 5 ° C under a ddc of 6 ± 1 A / dm² for 3 minutes then under a ddc of 4 ± 1A / dm² for 10 minutes. - e2) nickel plating in a sulfamate bath under a ddc of between 2 and 4 A / dm² for 5 minutes. Procédé de déposition selon la revendication 9 caractérisée en ce qu'il comporte des rinçages à l'eau froide entre chacune des étapes d, e1, e2, et f.Deposition method according to claim 9 characterized in that it comprises rinsing with cold water between each of the steps d, e1, e2, and f. Pièce dont le substrat est à base de titane, caractérisée en ce que elle comporte depuis le substrat jusqu'à la surface - une couche de Ni déposée par pulvérisation cathodique magnétron et d'épaisseur comprise entre 3 et 7 microns. - une couche de Ni électrolytique obtenue par prénickelage en bain acide suivi d'un nickelage en bain sulfamate ladite couche ayant une épaisseur comprise entre 18 et 20 microns. - une couche finale anti-usure en Ag ou en un matériau choisi dans le groupe formé par Cr, Ni, Co, pris seuls ou en mélange entre eux, avec ou sans particules céramiques telles que SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃, ladite couche ayant une épaisseur supérieure à 80 microns. Part whose substrate is based on titanium, characterized in that it comprises from the substrate to the surface - a layer of Ni deposited by magnetron sputtering and with a thickness between 3 and 7 microns. a layer of electrolytic Ni obtained by pre-nickel plating in an acid bath followed by nickel plating in a sulfamate bath, said layer having a thickness of between 18 and 20 microns. - a final anti-wear layer in Ag or in a material chosen from the group formed by Cr, Ni, Co, taken alone or as a mixture between them, with or without ceramic particles such as SiC, Cr₂C₃, Al₂O₃, Cr₂O₃, said layer having a thickness greater than 80 microns.
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