EP0145586A2 - Source d'ions multicharges a plusieurs zones de resonance cyclotronique electronique - Google Patents

Source d'ions multicharges a plusieurs zones de resonance cyclotronique electronique Download PDF

Info

Publication number
EP0145586A2
EP0145586A2 EP84402460A EP84402460A EP0145586A2 EP 0145586 A2 EP0145586 A2 EP 0145586A2 EP 84402460 A EP84402460 A EP 84402460A EP 84402460 A EP84402460 A EP 84402460A EP 0145586 A2 EP0145586 A2 EP 0145586A2
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
enclosure
axis
orifice
symmetry
local
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP84402460A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP0145586B1 (fr
EP0145586A3 (en
Inventor
Bernard Jacquot
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Original Assignee
Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Commissariat a lEnergie Atomique CEA filed Critical Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Publication of EP0145586A2 publication Critical patent/EP0145586A2/fr
Publication of EP0145586A3 publication Critical patent/EP0145586A3/fr
Application granted granted Critical
Publication of EP0145586B1 publication Critical patent/EP0145586B1/fr
Expired legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00—Ion beam tubes
    • H01J27/02—Ion sources; Ion guns
    • H01J27/16—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation
    • H01J27/18—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation with an applied axial magnetic field

Definitions

  • the present invention relates to a source of multicharged ions with several zones of electronic cyclotron resonance. It finds many applications, depending on the different values of the kinetic energy of the extracted ions, in the fields of ion implantation, microgravure, and more particularly in the equipment of particle accelerators, used both in the scientific than medical.
  • the quantity of ions that can be produced results from the competition between two processes: on the one hand the formation of ions by, electronic impact on neutral atoms constituting the gas to be ionized and on the other hand the destruction of these same ions by recombination, single or multiple, during a collision of the latter with a neutral atom; this neutral atom can come from the gas not yet ionized or else be produced on the walls of the enclosure by impact of an ion on said walls.
  • the local radial fields being created by means of several magnetic bars, arranged symmetrically around the enclosure and each consisting of several elementary magnets, the terminal elementary magnets of said bars, located at level of the extraction orifice, having the same polarity, constitute in part the means for reducing the amplitude of the local axial magnetic fields.
  • the invention proposes to reduce the amplitude of the local axial magnetic fields located near the 'extraction orifice 24 and more precisely downstream thereof, and slightly upstream near the axis of symmetry 18. This reduction of the local axial magnetic fields must be carried out outside the volume occupied by the plasma of electrons, confined inside the equimagnetic sheet such as 23, the outermost and not intercepted by the wall, in order to avoid any modification of this sheet as well in its shape as in its location.
  • This reduction can be carried out advantageously by using magnetic bars 20 made up of several elementary magnets placed side by side 30, preferably made of SmCo 5 , the terminal elementary magnets 30a of the different bars 20, located at the level of the extraction orifice 24 present both a same polarity, here a north polarity (N), as shown in Figures 1 and 2.
  • N north polarity
  • the polarities of the terminal elementary magnets 30a were alternately either north or south.
  • the uniform polarity of the elementary magnets 30a must have the same name or polarity (FIG. 1) as that of the face of the coils 12 located near said magnets, that is to say near the extraction orifice 24.
  • the number of equimagnetic caps 32 depends on the number of magnetic bars 20.
  • the use of 2n magnetic bars allows the formation of n equimagnetic caps. In the case shown in Figure 2, we took n equal to three.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

Sources d'ions multichargés à plusieurs résonances cyclotroniques électroniques. La source comprend une enceinte fermée (2) contenant un gaz destiné à former un plasma confiné dans l'enceinte, des moyens (6) pour engendrer dans l'enceinte un champ électromagnétique de haute fréquence, des moyens (12, 20) pour créer dans l'enceinte un ensemble de champs magnétiques locaux, radiaux (22) et axiaux (16), définissant des nappes équimagnétiques (23) permettant le confinement du plasma, sur une de ces nappes, la condition de résonance cyclotronique électronique étant satisfaite, ledir ensemble présentant un axe de symétrie (18), des moyens (26) pour extraire les ions par un orifice (24) pratiqué dans la paroi de l'enceinte et situé sur l'axe de symétrie et des moyens (30a, 36) pour diminuer, en dehors du volume occupé par le plasma, l'amplitude des champs magnétiques axiaux locaux situés à proximité et légèrement en amont de l'orifice d'extraction (24) dans n zones (32) se trouvant en dehors de l'axe, de façon à faire apparaître dans ces zones, de nouvelles résonances cyclotroniques électroniques ionisantes.

Description

  • La présente invention a pour objet une source d'ions multichargés à plusieurs zones de résonance cyclotronique électronique. Elle trouve de nombreuses applications, en fonction des différentes valeurs de l'énergie cinétique des ions extraits, dans les domaines de l'implantation ionique, de la microgravure, et plus particulièrement dans l'équipement des accélérateurs de particules, utilisés aussi bien dans le domaine scientifique que médical.
  • Dans les sources à résonance cyclotronique électronique, les ions sont obtenus en ionisant, dans une enceinte fermée du genre cavité hyperfréquence un gaz, constitué par exemple de vapeurs métalliques, au moyen d'un plasma d'électrons fortement accélérés par résonance cyclotronique électronique. Cette résonance est obtenue grâce à l'action conjuguée d'un champ électromagnétique haute fréquence injecté dans l'enceinte, contenant le gaz à ioniser, et d'un champ magnétique, régnant dans cette même enceinte, dont l'amplitude B satisfait à la condition de résonance cyclotronique électronique suivante : B = f.2né dans la- quelle e représente la charge de l'électron, m sa masse, et f la fréquence du champ électromagnétique.
  • Dans ce type de source, la quantité d'ions pouvant être produite résulte de la compétition entre deux processus : d'une part la formation des ions par, impact électronique sur des atomes neutres constituant le gaz à ioniser et d'autre part la destruction de ces mêmes ions par recombinaison, simple ou multiple, lors d'une collision de ces derniers avec un atome neutre ; cet atome neutre peut provenir du gaz non encore ionisé ou bien être produit sur les parois de l'enceinte par impact d'un ion sur lesdites parois.
  • Le problème dans ce type de source est donc de minimiser la destruction des ions formés, en évitant toute collision de ceux-ci avec un atome neutre.
  • Pour remédier à cet inconvénient, on a envisagé de confiner, dans l'enceinte constituant la source, les ions formés ainsi que les électrons servant à leur ionisation. Ceci est réalisé en créant à l'intérieur de l'enceinte un ensemble de champs magnétiques locaux, radiaux et axiaux, définissant une nappe fermée dite "équimagnétique", n'ayant aucun contact avec les parois de l'enceinte et sur laquelle la condition de résonance cyclotronique électrique est satisfaite : cette nappe représente le lieu des points où l'amplitude des champs magnétiques locaux présente la même valeur. Une telle source a été décrite dans un brevet français n° 2 475 798 déposé le 13 février 1980 au nom du demandeur.
  • Plus cette nappe équimagnétique est proche des parois de l'enceinte, plus son efficacité est grande car elle permet de limiter le volume de présence des atomes neutres et donc la quantité de collision ions-atome neutre.
  • Cependant, les risques pour cette nappe de toucher les parois internes de l'enceinte sont grands et il est alors préférable d'utiliser une deuxième nappe équimagnétique dont l'amplitude est accordée à une fréquence différente du champ électromagnétique, ce qui impose automatiquement l'emploi d'un deuxième générateur hyperfréquence.
  • La présente invention a justement pour objet une source d'ions multichargés à résonance cyclotronique électronique permettant de minimiser les effets de recombinaison par collision des ions sur les atomes neutres tout en évitant l'emploi d'un deuxième générateur hyperfréquence.
  • De façon plus précise, l'invention a pour objet une source d'ions multichargés comprenant une enceinte fermée contenant un gaz destiné à former un plasma confiné dans l'enceinte, des moyens pour engendrer dans l'enceinte un champ électromagnétique de haute fréquence, des moyens pour créer dans l'enceinte un ensemble de champs magnétiques locaux, radiaux et axiaux, définissant au moins une nappe équimagnétique permettant le confinement du plasma créé par la résonance cyclotronique électronique dont on a satisfait la condition sur ladite nappe, ledit ensemble présentant un axe de symétrie, et des moyens pour extraire les ions par un orifice, pratiqué dans les parois de l'enceinte et situé sur l'axe de symétrie, la source étant caractérisée en ce qu'elle comprend des moyens pour diminuer, en dehors du volume occupé par le plasma confiné, l'amplitude des champs magnétiques axiaux locaux situés à proximité et légèrement en amont de l'orifice d'extraction dans n petites zones situées en dehors de l'axe de symétrie d'une part, et d'autre part, d'une façon plus globale dans tout le volume situé en aval dudit orifice ; cette diminution permet de faire apparaître dans les n zones, de nouvelles résonances cyclotroniques électroniques ionisantes.
  • Selon un mode préféré de réalisation du dispositif de l'invention, les champs radiaux locaux étant créés au moyen de plusieurs barreaux aimantés, disposés symétriquement autour de l'enceinte et constitués chacun de plusieurs aimants élémentaires, les aimants élémentaires terminaux desdits barreaux, situés au niveau de l'orifice d'extraction, présentant une même polarité, constituent en partie les moyens de diminution de l'amplitude des champs magnétiques axiaux locaux.
  • De préférence, les barreaux aimantés sont réalisés en SmCo,1 ce matériau présentant des propriétés remarquables d'anisotropie macroscopique et une grande rigidité magnétique.
  • De façon à augmenter ou moduler dans l'espace l'effet de la décroissance des champs magnétiques axiaux un blindage en fer accolé à l'enceinte extérieurement à celle-ci et au niveau de l'orifice d'extraction peut être avantageusement prévu. Ce blindage présente un axe de symétrie confondu avec celui dudit ensemble de champs magnétiques.
  • D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront mieux de la description qui va suivre, donnée à titre illustratif mais non limitatif en référence aux figures annexées, dans lesquelles :
    • - la figure 1 représente schématiquement, en coupe longitudinale, une source d'ions conformément à l'invention,
    • - la figure 2 représente schématiquement une coupe transversale, au niveau de l'orifice d'extraction des ions de la source de la figure 1,
    • - la figure 3 est une vue schématique comparable à la figure 1 illustrant la répartition des champs magnétiques locaux, et
    • - la figure 4 est une vue schématique illustrant l'influence supplémentaire d'un blindage en fer sur les variations d'amplitude des champs magnétiques axiaux selon l'axe de symétrie de la source.
  • Sur la figure 1, on a représenté schématiquement, en coupe longitudinale, une source d'ions à résonance cyclotronique électronique. Cette source comprend une enceinte fermée de confinement 2 qui constitue une cavité résonnante. Cette enceinte 2 est réunie au moyen d'une canalisation 4 à une pompe à vide 5 permettant de créer un vide poussé dans l'enceinte. Cette enceinte 2 peut être excitée par un champ électromagnétique hyperfréquence produit par un générateur 6, ce champ étant introduit dans l'enceinte au moyen d'un guide d'ondes 8. Une conduite 10 permet d'introduire dans l'enceinte 2 un gaz ionisable.
  • Des bobines telles que 12, disposées autour de l'enceinte 2 permettent de créer dans ladite enceinte des champs magnétiques locaux, symbolisés par des flèches 16 et parallèles à un axe 18, qui peut être par exemple l'axe de symétrie de l'enceinte 2. De même, des barreaux aimantés 20, disposés tout autour de ladite cavité, permettent de créer des champs magnétiques locaux, symbolisés par les flèches 22 et situés radialement par rapport à l'axe 18. L'ensemble des champs magnétiques locaux, radiaux et axiaux, ayant pour axe de symétrie l'axe 18, permettent de définir des nappes "équimagnétiques" fermées telles que 23 (lieu des points où l'amplitude des champs magnétiques locaux présente la même valeur), n'ayant aucun contact avec les parois de l'enceinte 2. Sur une de ces nappes internes, la condition de résonance cyclotronique électronique est satisfaite, condition explicitée précédemment.
  • L'existence d'une telle nappe résonnante permet (voir brevet cité précédemment) d'ioniser fortement le gaz contenu dans l'enceinte 2 donnant ainsi naissance à un plasma d'électrons très énergétiques. Cette nappe permet aussi de confiner les ions et les électrons produits par ionisation du gaz. Grâce à ce confinement, les électrons créés ont le temps de bombarder plusieurs fois un même ion et de l'ioniser totalement.
  • Cette nappe résonnante permet encore, et c'est fondamental, un pompage ionique in situ très efficace qui limite ipso facto les collisions destructrices d'échange de charge ions-atomes neutres à l'intérieur même du volume limité par cette nappe résonnante.
  • Les ions fortement chargés ou multichargés ainsi formés peuvent ensuite être extraits de l'enceinte 2, comportant à cet effet un orifice d'extraction 24 situé sur l'axe de symétrie 18, par exemple au moyen d'une électrode 26 portée à un potentiel négatif à l'aide d'une source d'alimentation 28. Les ions ainsi extraits de l'enceinte 2 peuvent ensuite être sélectionnés suivant leur degré d'ionisation à l'aide de tout moyen connu utilisant un champ magnétique et/ou un champ électrique.
  • Afin de minimiser les effets destructeurs des collisions d'échange de charge précédemment décrits, mais cette fois entre la nappe résonnante et l'orifice d'extraction, l'invention propose de diminuer l'amplitude des champs magnétiques axiaux locaux situés à proximité de l'orifice d'extraction 24 et plus précisément en aval de celui-ci, et légèrement en amont à proximité de l'axe de symétrie 18. Cette diminution des champs magnétiques axiaux locaux doit être effectuée en dehors du volume occupé par le plasma d'électrons, confiné à l'intérieur de la nappe équimagnétique telle que 23, la plus extérieure et non interceptée par la paroi, afin d'éviter toute modification de cette nappe aussi bien dans sa forme que dans son emplacement.
  • Cette diminution peut être réalisée de façon avantageuse en utilisant des barreaux aimantés 20 constitués de plusieurs aimants élémentaires accolés 30, réalisés de préférence en SmCo5, les aimants élémentaires terminaux 30a des différents barreaux 20, situés au niveau de l'orifice d'extraction 24 présentant une même polarité, ici une polarité nord (N), comme représenté sur les figures 1 et 2. Dans les sources d'ions de l'art antérieur, les polarités des aimants élémentaires terminaux 30a étaient en alternance soit nord soit sud. La polarité uniforme des aimants élémentaires 30a doit présenter le même nom ou polarité (figure 1) que celui de la face des bobines 12 situées à proximité desdits aimants, c'est-à-dire à proximité de l'orifice d'extraction 24.
  • Cette polarité uniforme des éléments 30a permet la formation de plusieurs calottes 32 équimagnétiques, sur lesquelles la condition de résonance cyclotronique électronique est satisfaite. Les dimensions, donc l'efficacité de ces calottes 32 peuvent être modifiées en faisant varier légèrement l'amplitude des champs locaux radiaux produits par les bobines 12.
  • Le nombre de calottes équimagnétiques 32 dépend du nombre de barreaux aimantés 20. L'emploi de 2n barreaux aimantés, permet la formation de n calottes équimagnétiques. Dans le cas représenté sur la figure 2, on a pris n égal à trois. Ces calottes 32 situées dans la zone d'extraction des ions permettent de minimiser la recombinaison des ions avec les atomes neutres produits notamment sur les parois de l'enceinte proches de l'orifice d'extraction.
  • En effet, ces calottes obtenues par décroissance locale des champs magnétiques axiaux permettent, du fait de la résonance cyclotronique électronique réalisée sur leur surface, de créer localement des plasmas d'électrons assez énergétiques pour ioniser au moins une fois les atomes neutres normalement présents au niveau de l'orifice d'extraction 24.
  • Sur la figure 2, les régions 32 représentent les zones dans lesquelles est réalisée la diminution des champs magnétiques locaux axiaux, conformément à l'invention.
  • Toujours sur cette figure 2, la zone 33 hachurée représente la zone de formation des atomes neutres responsables de l'échange de charge destructeur des ions.
  • La possibilité de diminuer l'amplitude des champs magnétiques locaux axiaux 16 (figure 1) au niveau de l'orifice d'extraction 24 en jouant sur la structure des barreaux aimantés 20 qui engendrent les champs magnétiques locaux radiaux 22 tient au fait que ces barreaux aimantés engendrent à leur extrémité, compte tenu des fuites magnétiques inévitables, des composantes magnétiques axiales.
  • Sur la figure 3, on a représenté les lignes de force magnétiques des champs de fuite axiaux engendrés aux extrémités des barreaux aimantés 20. Ces lignes de force magnétiques portent la référence 34. L'emploi d'aimants élémentaires terminaux 30a de même polarité (nord) au niveau de l'orifice d'extraction 24 permet, compte tenu du sens de circulation de la ligne de champ de fuite axial 34a, de diminuer fortement et localement les champs magnétiques axiaux créés principalement par les bobines 12, à proximité et légèrement en amont de l'orifice d'extraction, en dehors de l'axe de symétrie d'une part, et d'autre part, d'une façon plus globale, dans tout le volume situé en aval dudit orifice. Les zones de champs magnétiques axiaux faibles, au niveau de l'orifice 24, portent la référence 35.
  • De même, l'emploi de ces aimants élémentaires terminaux 30a permet, compte tenu du sens de circulation de la ligne de champ de fuite axial 34b, d'augmenter le champ magnétique axial créé par les bobines 12, en amont et assez loin de l'orifice d'extraction. Cette augmentation globale du champ magnétique axial permet d'éloigner la nappe équimagnétique résonnante 23 de la zone d'extraction des ions et donc de diminuer le risque de voir cette nappe toucher les parois de l'enceinte.
  • Afin d'augmenter ou moduler dans l'espace, l'effet de la décroissance des champs magnétiques axiaux déjà obtenus par les aimants 30a, un blindage 36 en fer tel que représenté sur la figure 4, peut être accolé à l'enceinte 2, extérieurement à celle-ci et au niveau de l'orifice d'extraction 24. Ce blindage 36 en fer présente un axe de symétrie confondu avec l'axe 18. Ce blindage 36 permet d'accentuer la diminution des champs magnétiques axiaux locaux en aval de l'orifice 24 et notamment le champ magnétique local axial situé sur l'axe 18. Ce blindage 36 contribue ainsi à la formation et au positionnement des calottes équimagnétiques résonnantes 32. Il est cependant à noter que l'emploi de ce blindage 36 seul, c'est-à-dire en l'absence d'aimants élémentaires terminaux 30a de même polarité, ne permettrait pas la formation des calottes équimagnétiques résonnantes. Les courbes a et b représentées sur la figure 4 illustrent respectivement l'amplitude des champs magnétiques sur l'axe 18 sans blindage 36 et avec blindage.

Claims (4)

1. Source d'ions multichargés comprenant une enceinte fermée (2) contenant un gaz destiné à former un plasma confiné dans l'enceinte, des moyens (6) pour engendrer dans l'enceinte (2) un champ électromagnétique de haute fréquence, des moyens (20, 12) pour créer dans l'enceinte un ensemble de champs magnétiques locaux, radiaux (22) et axiaux (16), définissant des nappes équimagnétiques (23) permettant le confinement du plasma créé par la résonance cyclotronique électronique dont on a satisfait la condition sur l'une d'elles, ledit ensemble présentant un axe de symétrie (18), et des moyens (26) pour extraire les ions par un orifice (24), pratiqué dans la paroi de l'enceinte (2) et situé sur l'axe de symétrie (18), caractérisée en ce qu'elle comprend des moyens (30a, 36) pour diminuer, en dehors du volume (23) occupé par le plasma confiné, l'amplitude des champs magnétiques axiaux locaux situés à proximité et légèrement en amont de l'orifice d'extraction (24), dans n petites zones (32) situées en dehors de l'axe de symétrie d'une part, et d'autre part, d'une façon plus globale dans tout le volume situé en aval dudit orifice.
2. Source d'ions selon la revendication 1, caractérisée en ce que les champs radiaux locaux (22) étant créés au moyen de plusieurs barreaux aimantés (20), disposés symétriquement autour de l'enceinte (2) et constitués chacun de plusieurs aimants élémentaires (30), les aimants élémentaires terminaux (30a) desdits barreaux, situés au niveau de l'orifice (24) présentant une même polarité (N), constituent en partie les moyens de diminution de l'amplitude des champs magnétiques axiaux locaux (16).
3. Source d'ions selon la revendication 2, caractérisée en ce qu'elle comprend un blindage en fer (36) présentant un axe de symétrie confondu avec celui dudit ensemble, ce blindage (36) étant accolé à l'enceinte (2), extérieurement à celle-ci et au niveau de l'orifice (24).
4. Source d'ions selon la revendication 2, caractérisée en ce que les barreaux aimantés (30) sont réalisés en SmCO5.
EP84402460A 1983-12-07 1984-11-30 Source d'ions multicharges a plusieurs zones de resonance cyclotronique electronique Expired EP0145586B1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8319572 1983-12-07
FR8319572A FR2556498B1 (fr) 1983-12-07 1983-12-07 Source d'ions multicharges a plusieurs zones de resonance cyclotronique electronique

Publications (3)

Publication Number Publication Date
EP0145586A2 true EP0145586A2 (fr) 1985-06-19
EP0145586A3 EP0145586A3 (en) 1985-07-10
EP0145586B1 EP0145586B1 (fr) 1988-11-17

Family

ID=9294945

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP84402460A Expired EP0145586B1 (fr) 1983-12-07 1984-11-30 Source d'ions multicharges a plusieurs zones de resonance cyclotronique electronique

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4631438A (fr)
EP (1) EP0145586B1 (fr)
JP (1) JPS60140635A (fr)
DE (1) DE3475244D1 (fr)
FR (1) FR2556498B1 (fr)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0217361A2 (fr) * 1985-09-30 1987-04-08 Hitachi, Ltd. Source d'ions
FR2592518A1 (fr) * 1985-12-26 1987-07-03 Commissariat Energie Atomique Sources d'ions a resonance cyclotronique electronique
EP0252845A1 (fr) * 1986-07-10 1988-01-13 Commissariat A L'energie Atomique Source d'ions à résonance cyclotronique électronique

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0616384B2 (ja) * 1984-06-11 1994-03-02 日本電信電話株式会社 マイクロ波イオン源
US4727293A (en) * 1984-08-16 1988-02-23 Board Of Trustees Operating Michigan State University Plasma generating apparatus using magnets and method
EP0221164B1 (fr) * 1985-05-03 1990-10-24 The Australian National University Procede et appareil de production de plasmas magnetiques de grand volume
FR2595868B1 (fr) * 1986-03-13 1988-05-13 Commissariat Energie Atomique Source d'ions a resonance cyclotronique electronique a injection coaxiale d'ondes electromagnetiques
JP2667826B2 (ja) * 1987-03-18 1997-10-27 株式会社日立製作所 マイクロ波多価イオン源
US4947085A (en) * 1987-03-27 1990-08-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Plasma processor
US4778561A (en) * 1987-10-30 1988-10-18 Veeco Instruments, Inc. Electron cyclotron resonance plasma source
US5208512A (en) * 1990-10-16 1993-05-04 International Business Machines Corporation Scanned electron cyclotron resonance plasma source
US5189446A (en) * 1991-05-17 1993-02-23 International Business Machines Corporation Plasma wafer processing tool having closed electron cyclotron resonance
EP0585229B1 (fr) * 1991-05-21 1995-09-06 Materials Research Corporation Module d'attaque douce pour outil multiposte et generateur de plasma a resonance cyclotronique d'electrons pour ledit module
FR2681186B1 (fr) * 1991-09-11 1993-10-29 Commissariat A Energie Atomique Source d'ions a resonance cyclotronique electronique et a injection coaxiale d'ondes electromagnetiques.
DE4200235C1 (fr) * 1992-01-08 1993-05-06 Hoffmeister, Helmut, Dr., 4400 Muenster, De
DE19933762C2 (de) * 1999-07-19 2002-10-17 Juergen Andrae Gepulste magnetische Öffnung von Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Jonenquellen zur Erzeugung kurzer, stromstarker Pulse hoch geladener Ionen oder von Elektronen
FR2861947B1 (fr) * 2003-11-04 2007-11-09 Commissariat Energie Atomique Dispositif pour controler la temperature electronique dans un plasma rce
KR101686694B1 (ko) * 2009-05-15 2016-12-28 알파 소스, 인크. Ｅｃｒ 입자 비임 소스 장치, 시스템 및 방법
ES2696227B2 (es) * 2018-07-10 2019-06-12 Centro De Investig Energeticas Medioambientales Y Tecnologicas Ciemat Fuente de iones interna para ciclotrones de baja erosion

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2069230A (en) * 1980-02-13 1981-08-19 Commissariat Energie Atomique Process and apparatus for producing highly charged large ions and an application utilizing this process

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3665245A (en) * 1969-10-27 1972-05-23 Research Corp Quadrupole ionization gauge
US4223246A (en) * 1977-07-01 1980-09-16 Raytheon Company Microwave tubes incorporating rare earth magnets
US4393333A (en) * 1979-12-10 1983-07-12 Hitachi, Ltd. Microwave plasma ion source
JPS5947421B2 (ja) * 1980-03-24 1984-11-19 株式会社日立製作所 マイクロ波イオン源
US4507588A (en) * 1983-02-28 1985-03-26 Board Of Trustees Operating Michigan State University Ion generating apparatus and method for the use thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2069230A (en) * 1980-02-13 1981-08-19 Commissariat Energie Atomique Process and apparatus for producing highly charged large ions and an application utilizing this process

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, vol. NS-26, no. 2, avril 1979, pages 2120-2126, IEEE, New York, US; R. GELLER: "Electron cyclotron resonance (E.C.R.) multiply charged ion sources" *
IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, vol. NS-26, no. 3, juin 1979, pages 3680-3682, IEEE, New York, US; V. BECHTOLD et al.: "An ECR-type light ion source for the Karlsruhe isochronous cyclotron" *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0217361A2 (fr) * 1985-09-30 1987-04-08 Hitachi, Ltd. Source d'ions
EP0217361A3 (en) * 1985-09-30 1988-08-03 Hitachi, Ltd. Ion source
FR2592518A1 (fr) * 1985-12-26 1987-07-03 Commissariat Energie Atomique Sources d'ions a resonance cyclotronique electronique
EP0232651A1 (fr) * 1985-12-26 1987-08-19 Commissariat A L'energie Atomique Source d'ions à résonance cyclotronique électronique
EP0252845A1 (fr) * 1986-07-10 1988-01-13 Commissariat A L'energie Atomique Source d'ions à résonance cyclotronique électronique
FR2601498A1 (fr) * 1986-07-10 1988-01-15 Commissariat Energie Atomique Source d'ions a resonance cyclotronique electronique

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0479460B2 (fr) 1992-12-16
FR2556498A1 (fr) 1985-06-14
US4631438A (en) 1986-12-23
FR2556498B1 (fr) 1986-09-05
EP0145586B1 (fr) 1988-11-17
DE3475244D1 (en) 1988-12-22
JPS60140635A (ja) 1985-07-25
EP0145586A3 (en) 1985-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0145586B1 (fr) Source d'ions multicharges a plusieurs zones de resonance cyclotronique electronique
FR2475798A1 (fr) Procede et dispositif de production d'ions lourds fortement charges et une application mettant en oeuvre le procede
EP0238397B1 (fr) Source d'ions à résonance cyclotronique électronique à injection coaxiale d'ondes électromagnétiques
EP0209469B1 (fr) Procédé et dispositif d'excitation d'un plasma par micro-ondes à la résonance cyclotronique électronique
FR2702119A1 (fr) Dispositif d'excitation d'un plasma à la résonance cyclotronique électronique par l'intermédiaire d'un applicateur filaire d'un champ micro-onde et d'un champ magnétique statique.
EP2353347B1 (fr) Dispositif et procede de production et/ou de confinement d'un plasma
FR2671931A1 (fr) Dispositif de repartition d'une energie micro-onde pour l'excitation d'un plasma.
EP0711100A1 (fr) Dispositif de production d'un plasma permettant une dissociation entre les zones de propagation et d'absorption des micro-ondes
EP2044816A2 (fr) Dispositif et procédé de production et/ou de confinement d'un plasma
EP0199625B1 (fr) Source d'ions négatifs à résonance cyclotronique des électrons
EP0252845B1 (fr) Source d'ions à résonance cyclotronique électronique
EP0232651B1 (fr) Source d'ions à résonance cyclotronique électronique
EP0527082B1 (fr) Source d'ions multicharges à résonance cyclotronique électronique de type guide d'ondes
EP0532411B1 (fr) Source d'ions à résonance cyclotronique électronique et à injection coaxiale d'ondes électromagnétiques
FR2757310A1 (fr) Systeme magnetique, en particulier pour les sources ecr, permettant la creation de surfaces fermees d'equimodule b de forme et de dimensions quelconques
EP2311061A2 (fr) Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique
EP0483004B1 (fr) Source d'ions fortement chargés à sonde polarisable et à résonance cyclotronique électronique
EP3136418B1 (fr) Dispositif generateur d'ions a resonance cyclotronique electronique
RU2757210C1 (ru) Волновой плазменный источник электронов
FR2766049A1 (fr) Cyclotron compact et son utilisation en proton-therapie
FR2985366A1 (fr) Generateur d'ondes hyperfrequences et procede de generation d'une onde hyperfrequence associe
EP0374011A1 (fr) Procédé et dispositif utilisant une source RCE pour la production d'ions lourds fortement chargés
EP1272015A1 (fr) Dispositif pour la production d'ions de charges positives variables et à résonance cyclotronique

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

PUAL Search report despatched

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009013

AK Designated contracting states

Designated state(s): DE GB NL

AK Designated contracting states

Designated state(s): DE GB NL

17P Request for examination filed

Effective date: 19851115

RAP1 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

Owner name: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE

17Q First examination report despatched

Effective date: 19880127

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): DE GB NL

REF Corresponds to:

Ref document number: 3475244

Country of ref document: DE

Date of ref document: 19881222

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)
PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed
PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 19971112

Year of fee payment: 14

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 19971115

Year of fee payment: 14

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Payment date: 19971124

Year of fee payment: 14

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 19981130

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 19990601

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 19981130

NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee

Effective date: 19990601

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 19990901