DISPOSITIF DE PROTECTION D'UN DISPOSITIF ELECTRONIQUE CONTRE LES TENSIONS ENGENDREES PAR UN CHAMP ELECTROMAGNETIQUE DEVICE FOR PROTECTING AN ELECTRONIC DEVICE AGAINST VOLTAGES GENERATED BY AN ELECTROMAGNETIC FIELD
La présente invention a pour objet un dispositif de protection d'un composant et/ou d'un circuit électronique contre les perturbations (tensions) engendrées par un champ électromagnétique extérieur, tel que l'onde dite EMP due à une désintégration atomique ou nucléaire.The present invention relates to a device for protecting a component and / or an electronic circuit against disturbances (voltages) generated by an external electromagnetic field, such as the so-called EMP wave due to atomic or nuclear decay.
Ainsi qu'il est connu, la présence d'un champ électromagnétique provoque dans des composants ou des circuits électroniques l'apparition de tensions qui, lorsque le champ est très intense, peuvent entraîner le claquage et la destruction des composants. Une protection contre ces tensions parasites est donc nécessaire et elle est d'autant plus difficile à réaliser que le champ en question est susceptible d'apparaître brutalement, avec un temps de montée faible, pouvant atteindre dans certains cas la dizaine de nanosecondes, ce qui est par exemple le cas de l'onde EMP sus mentionnée.As is known, the presence of an electromagnetic field causes in electronic components or circuits the appearance of voltages which, when the field is very intense, can cause breakdown and destruction of the components. Protection against these parasitic voltages is therefore necessary and it is all the more difficult to achieve since the field in question is liable to appear suddenly, with a short rise time, which may in some cases reach ten nanoseconds, which is for example the case of the EMP wave mentioned above.
Il est connu de tenter de réaliser une telle protection en enfermant le circuit ou le composant à protéger dans un blindage ou une cage de Faraday. Toutefois, cette protection s'avère insuffisante du fait que ces composants ou circuits ont nécessairement des connexions électriques avec l'extérieur, qui forment antenne en présence d'un champ extérieur et permettent l'arrivée de charges parasites dans l'élément à protéger.It is known to attempt to achieve such protection by enclosing the circuit or the component to be protected in a shield or a Faraday cage. However, this protection proves to be insufficient because these components or circuits necessarily have electrical connections with the outside, which form the antenna in the presence of an outside field and allow the arrival of parasitic charges in the element to be protected.
La présente invention a pour objet un dispositif de protection permettant d'éviter les inconvénients ci-dessus et, ce, en drainant les charges parasites vers l'extérieur au niveau de chacune des connexions de l'élément protégé.The present invention relates to a protection device making it possible to avoid the above drawbacks and, this, by draining the parasitic charges towards the exterior at each of the connections of the protected element.
Plus précisément, l'invention a pour objet un dispositif de protection d'un dispositif électronique contre un champ électromagnétique extérieur, comportant des moyens de liaison électrique, dont la conductivité augmente sous l'effet du champ électro
magnétique extérieur, entre chacune des connexions de sortie du dispositif électronique et une évacuation et/ou un réservoir des charges créées par le champ.More specifically, the subject of the invention is a device for protecting an electronic device against an external electromagnetic field, comprising electrical connection means, the conductivity of which increases under the effect of the electro field. external magnetic, between each of the output connections of the electronic device and an evacuation and / or a reservoir of the charges created by the field.
D'autres objets, caractéristiques et résultats de l'invention ressortiront de la description suivante, donnée à titre d'exemple non limitatif et illustrée par les dessins annexés qui représentent :Other objects, characteristics and results of the invention will emerge from the following description, given by way of nonlimiting example and illustrated by the appended drawings which represent:
- la figure 1, un premier mode de réalisation du dispositif selon l'invention, appliqué à la protection d'un composant électronique ;- Figure 1, a first embodiment of the device according to the invention, applied to the protection of an electronic component;
- la figure 2, un deuxième mode de réalisation du dispositif selon l'invention adapté à un boîtier de type "chip carrier" ;- Figure 2, a second embodiment of the device according to the invention adapted to a type of housing "chip carrier";
- la figure 3, une vue en coupe partielle de la figure précédente ;- Figure 3, a partial sectional view of the previous figure;
- la figure 4, un troisième mode de réalisation du dispositif selon l'invention, également adapté à un boîtier de type "chip carrier" ;- Figure 4, a third embodiment of the device according to the invention, also suitable for a "chip carrier" type housing;
- les figures 5, 6 et 7, trois modes de réalisation du dispositif selon l'invention appliqué à la protection d'un circuit électronique monté sur une carte ;- Figures 5, 6 and 7, three embodiments of the device according to the invention applied to the protection of an electronic circuit mounted on a card;
- les figures 8, 9 et 10, trois modes de réalisation du dispositif selon l'invention appliqué à un connecteur pour cartes portant des circuits électroniques.- Figures 8, 9 and 10, three embodiments of the device according to the invention applied to a connector for cards carrying electronic circuits.
Sur ces différentes figures, d'une part les mêmes références se rapportent aux mêmes éléments et, d'autre part, les dimensions réelles de ces éléments n'ont pas été respectées pour la clarté du dessin.In these different figures, on the one hand the same references relate to the same elements and, on the other hand, the actual dimensions of these elements have not been respected for the clarity of the drawing.
Sur la figure 1, on a donc représenté un composant électronique C muni par exemple de quatre plots de connexion (1, 2, 3 et 4) qui sont reliés chacun classiquement par un fil conducteur (10) à des conducteurs, par exemple constitués par les pistes de l'embase du boîtier B (céramique ou plastique) qui porte le composant, repérés respectivement 11, 12, 13 et 14. Dans cet exemple, c'est la connexion 3 et la piste 13 qui constituent la masse de l'ensemble du dispositif.In FIG. 1, an electronic component C is therefore shown, for example provided with four connection pads (1, 2, 3 and 4) which are each conventionally connected by a conductive wire (10) to conductors, for example constituted by the tracks of the base of the housing B (ceramic or plastic) which carries the component, marked respectively 11, 12, 13 and 14. In this example, it is the connection 3 and the track 13 which constitute the mass of the whole device.
Selon l'invention, il est prévu un cadre enfermant le compo
sant, à proximité de celui-ci, constitué par une couche V d'un matériau varistance recouverte d'une électrode conductrice E, par exemple de largeur un peu inférieure à celle de la couche V ; ce cadre V est déposé sur le support B et sur les conducteurs 11 à 14. L'électrode E est reliée à la piste 13 par une languette 15. Ainsi qu'il est connu, un matériau varistance qui est constitué en général d'oxyde de zinc dopé (par des oxydes de bismuth, cobalt, chrome, molybdène, antimoine, etc.) présente une résistance non linéaire : il n'est pas électriquement conducteur lorsque la diffé rence de potentiel qui lui est appliquée ne dépasse pas une certaine tension de seuil (VC), et il le devient après ce seuil. Ce phénomène étant dû à un effet de champ, la commutation entre l'état conducteur et l'état non conducteur est très rapide (elle peut être égale ou inférieure à 1 ns). Un tel matériau peut être déposé de toute façon connue : par exemple sérigraphié sur le support B du composant C lorsque celui-ci est en céramique ou encore déposé, par pulvérisation cathodique par exemple, lorsque ce support est plastique.According to the invention, a frame is provided enclosing the component. sant, near the latter, consisting of a layer V of a varistor material covered with a conductive electrode E, for example of a width slightly less than that of the layer V; this frame V is deposited on the support B and on the conductors 11 to 14. The electrode E is connected to the track 13 by a tongue 15. As is known, a varistor material which generally consists of oxide of doped zinc (by oxides of bismuth, cobalt, chromium, molybdenum, antimony, etc.) has a non-linear resistance: it is not electrically conductive when the potential difference applied to it does not exceed a certain voltage threshold (V C ), and it becomes after this threshold. This phenomenon being due to a field effect, the switching between the conductive state and the non-conductive state is very fast (it can be equal to or less than 1 ns). Such a material can be deposited in any known way: for example screen-printed on the support B of the component C when the latter is made of ceramic or else deposited, by sputtering for example, when this support is plastic.
Le fonctionnement d'un tel dispositif est le suivant : en l'absence de tout champ électromagnétique extérieur, les signaux passent des pistes 11-14 aux plots 1-4 du composant C sans être perturbés par le cadre V ni l'électrode E, puisque le matériau varistance n'est pas conducteur et donc que l'électrode E se trouve isolée des pistes 11, 12 et 14. Lorsque un champ électromagnétique est appliqué sur le dispositif, si son intensité par rapport au seuil VC du matériau varistance est suffisante, il rend ce dernier conducteur, ce qui a pour effet de relier les pistes 11, 12, 13 et 14 entre elles (et à la masse) par l'intermédiaire de l'électrode E. Il en résulte que les charges électriques créées par le champ extérieur n'entrent pas dans le composant C mais sont drainées vers la masse du dispositif, réalisant ainsi la fonction de protection recherchée.The operation of such a device is as follows: in the absence of any external electromagnetic field, the signals pass from tracks 11-14 to pads 1-4 of component C without being disturbed by the frame V or the electrode E, since the varistor material is not conductive and therefore the electrode E is isolated from tracks 11, 12 and 14. When an electromagnetic field is applied to the device, if its intensity relative to the threshold V C of the varistor material is sufficient, it makes the latter conductor, which has the effect of connecting the tracks 11, 12, 13 and 14 together (and to ground) by means of the electrode E. As a result, the electric charges created by the external field do not enter component C but are drained towards the mass of the device, thus achieving the desired protection function.
Ainsi qu'il est connu également, la tension de seuil VC d'une varistance est fonction de l'épaisseur de celle-ci et peut donc être choisie en fonction des intensités auxquelles on peut s'attendre pour les champs électromagnétiques perturbateurs, lorsqu'elles sont
connues. Dans tous les cas, le seuil VC doit être supérieur à la plus élevée des tensions de travail du composant C ; pour constituer une protection efficace, il est clair que cette tension VC doit toutefois être inférieure à la tension de claquage du composant et, de préférence, aussi proche que possible de sa tension de travail. Toutefois, des considérations technologiques de tolérance de fabrication sur l'épaisseur de la couche constituant la varistance peuvent conduire à choisir VC de l'ordre de deux à trois fois la tension de travail la plus élevée du composant. A titre d'exemple, pour une tension de travail de 12 volts, la valeur choisie pour VC peut être de l'ordre de 30 volts, qui est une tension inférieure à la tension de claquage de la plupart des composants électroniques actuels.As is also known, the threshold voltage V C of a varistor is a function of its thickness and can therefore be chosen as a function of the intensities which can be expected for the disturbing electromagnetic fields, when 'they are known. In all cases, the threshold V C must be greater than the highest of the working voltages of the component C; to constitute an effective protection, it is clear that this voltage V C must however be lower than the breakdown voltage of the component and, preferably, as close as possible to its working voltage. However, technological considerations of manufacturing tolerance on the thickness of the layer constituting the varistor can lead to choosing V C of the order of two to three times the highest working voltage of the component. By way of example, for a working voltage of 12 volts, the value chosen for V C can be of the order of 30 volts, which is a voltage lower than the breakdown voltage of most current electronic components.
Il ressort de ce qui précède qu'un avantage du dispositif de protection selon l'invention est que, outre le fait de permettre une protection efficace, il est susceptible d'être intégré sur le support du composant.It follows from the above that an advantage of the protection device according to the invention is that, in addition to allowing effective protection, it is capable of being integrated on the support of the component.
La figure 2 montre, vu de dessus, un mode de réalisation pratique du dispositif selon l'invention dans un boîtier de type "chip carrier". On rappelle qu'un tel boîtier se caractérise essentiellement par l'absence de broches de connexion, qui sont remplacées par des dépôts métalliques.FIG. 2 shows, seen from above, a practical embodiment of the device according to the invention in a "chip carrier" type housing. It will be recalled that such a housing is essentially characterized by the absence of connection pins, which are replaced by metal deposits.
On a schématisé sur la figure 2 le composant C et quelques uns de ses plots de connexion (1 et 3), fixés sur le substrat d'un boîtier "chip carrier" repéré CC ; le substrat porte un certain nombre de conducteurs sous forme de dépôts métalliques tels que 11 et 13, qui se prolongent jusqu'à la périphérie du substrat au droit de demi-trous (20) ; ainsi qu'il est connu, les dépôts conducteurs se prolongent à l'intérieur de ces demi-trous sur la tranche du boîtier et s'achèvent sur le dessous du boîtier où ils constituent les connexions de sortie de ce dernier.We have shown diagrammatically in FIG. 2 the component C and some of its connection pads (1 and 3), fixed on the substrate of a "chip carrier" housing marked CC; the substrate carries a certain number of conductors in the form of metal deposits such as 11 and 13, which extend to the periphery of the substrate in line with half-holes (20); as is known, the conductive deposits extend inside these half-holes on the edge of the housing and end on the underside of the housing where they constitute the output connections of the latter.
Ainsi qu'il apparaît sur la figure 3, qui est une vue en coupe partielle réalisée selon l'axe XX de la figure 2, les métallisations telles que 11 et la métallîsation de masse 13 sont déposées direc
tement sur le substrat CC. Les metallisations 11 sont recouvertes par la couche de matériau varistance V qui entoure le composant C, sauf au niveau de la connexion de masse 13. L'électrode E recouvre la couche V et se prolonge sur la piste de masse 13, réalisant ainsi la connexion électrique entre les éléments E et 13.As it appears in FIG. 3, which is a partial sectional view taken along the axis XX of FIG. 2, the metallizations such as 11 and the mass metallization 13 are deposited directly on the CC substrate. The metallizations 11 are covered by the layer of varistor material V which surrounds the component C, except at the level of the ground connection 13. The electrode E covers the layer V and extends over the ground track 13, thus making the connection electric between elements E and 13.
Le fonctionnement du dispositif selon l'invention est identique à ce qui est décrit ci-dessus pour la figure 1.The operation of the device according to the invention is identical to what is described above for FIG. 1.
La figure 4 représente un autre mode de réalisation du dispositif selon l'invention, également adapté à un boîtier de type "chip carrier" mais comportant en outre une capacité intégrée dans le substrat du boîtier.FIG. 4 shows another embodiment of the device according to the invention, also suitable for a "chip carrier" type housing but also comprising a capacity integrated in the substrate of the housing.
Sur cette figure, on retrouve le substrat CC d'un boîtier "chip carrier", vu de dessus, présentant des metallisations (11, 13, 16) réparties à sa périphérie, ainsi que le cadre de matériau varis tance V et l'électrode E. Parmi les metallisations, on retrouve la metallisation 13 reliée à la masse, deux metallisations telles que 11, reliées au composant qui n'est ici pas représenté, et une metallisation 16 qui n'est reliée ni au composant ni à l'extérieur du dispositif mais qui sert de connexion entre l'électrode E par l'inter mediaire de la languette 15 et une metallisation 22 déposée sur l'une des faces du substrat CC ; la metallisation 22 forme l'une des armatures d'un condensateur dont le diélectrique est formé par le substrat CC et l'autre armature par une metallisation 21 déposée sur l'autre face du substrat ; la metallisation 21 est reliée à la connexion de masse 13.In this figure, we find the DC substrate of a "chip carrier" box, seen from above, having metallizations (11, 13, 16) distributed around its periphery, as well as the frame of varis tance material V and the electrode E. Among the metallizations, there is metallization 13 connected to ground, two metallizations such as 11, connected to the component which is not shown here, and a metallization 16 which is neither connected to the component nor to the exterior. of the device but which serves as a connection between the electrode E via the tongue 15 and a metallization 22 deposited on one of the faces of the substrate CC; the metallization 22 forms one of the reinforcements of a capacitor whose dielectric is formed by the DC substrate and the other reinforcement by a metallization 21 deposited on the other face of the substrate; the metallization 21 is connected to the ground connection 13.
Ainsi qu'il apparaît, par rapport au mode de réalisation de la figure 2, une capacité (d'armature 21 et 22) a été interposée entre l'électrode E et la connexion de masse 13.As it appears, compared to the embodiment of FIG. 2, a capacitor (of armature 21 and 22) has been interposed between the electrode E and the ground connection 13.
Ce mode de réalisation a pour avantage de permettre par la capacité ainsi interposée de stocker sur place au moins une fraction des charges créées par le champ électromagnétique extérieur, afin d'éviter un trop grand transfert de charges vers la masse qui est à son tour susceptible de créer des perturbations, par exemple une tension parasite par induction selfique.
Il est à noter qu'il est connu d'intégrer des capacités sur le substrat d'un boîtier du type "chip carrier", ce qui est notamment décrit dans les demandes de brevet n° 79-11852, 80-18927 et 80-26076, toutes trois au nom de THOMSON-CSF. La capacité de stockage précédente peut être ou non confondue avec les capacités de découplage décrites dans les demandes de brevet susmentionnées.This embodiment has the advantage of allowing, by the capacity thus interposed, to store on site at least a fraction of the charges created by the external electromagnetic field, in order to avoid too great a transfer of charges to the mass which is in turn liable create disturbances, for example a parasitic voltage by inductive induction. It should be noted that it is known to integrate capacities on the substrate of a "chip carrier" type housing, which is described in particular in patent applications No. 79-11852, 80-18927 and 80- 26076, all three on behalf of THOMSON-CSF. The preceding storage capacity may or may not be confused with the decoupling capacities described in the aforementioned patent applications.
Les figures 5, 6 et 7, représentent trois modes de réalisation du dispositif selon l'invention, appliqués à la protection d'un ou plusieurs circuits électroniques montés sur une même carte (circuit imprimé ou céramique).Figures 5, 6 and 7 show three embodiments of the device according to the invention, applied to the protection of one or more electronic circuits mounted on the same card (printed circuit or ceramic).
Sur la figure 5, on a représenté l'extrémité d'une carte S supportant un ou plusieurs composants ou circuits électroniques (non représentés), vue à son extrémité de connexion, c'est-à-dire celle où elle se termine par des pistes conductrices destinées à coopérer avec d'autres cartes par l'intermédiaire de connecteurs. Ces pistes sont par exemple de deux sortes, d'une part deux pistes de masse repérées, respectivement 31 et 32 situées aux deux extrémités de la carte S et, d'autre part, des pistes 33 assurant l'alimentation et les entrées-sorties de signaux des différents circuits et composants portés par la carte S.In Figure 5, there is shown the end of a card S supporting one or more electronic components or circuits (not shown), seen at its connection end, that is to say the one where it ends in conductive tracks intended to cooperate with other cards via connectors. These tracks are for example of two kinds, on the one hand two identified ground tracks, respectively 31 and 32 located at the two ends of the card S and, on the other hand, tracks 33 ensuring the supply and the inputs-outputs of signals from the various circuits and components carried by the S card.
Selon l'invention, cette carte S porte en outre une couche en forme de bande de matériau varistance repérée VS, constituée et déposée sur l'extrémité des pistes 33 avantageusement de la même manière que le cadre V des figures précédentes, et recouverte par une électrode ES qui est en contact électrique avec la ou, en l'occurence, les pistes (31 et 32) reliées à la masse du dispositif.According to the invention, this card S further carries a layer in the form of a strip of varistor material marked V S , formed and deposited on the end of the tracks 33 advantageously in the same way as the frame V of the preceding figures, and covered by an electrode E S which is in electrical contact with the or, in this case, the tracks (31 and 32) connected to the ground of the device.
Selon que la carte S est en céramique ou est un circuit imprimé, le matériau varistance VS peut être déposé par sérigraphie ou pulvérisation cathodique, etc.Depending on whether the card S is ceramic or is a printed circuit, the varistor material V S can be deposited by screen printing or sputtering, etc.
Le fonctionnement de ce dispositif de protection situé au niveau de la carte S est identique à ce qui a été décrit pour un composant seul précédemment, à savoir que lorsqu'un champ électromagnétique extérieur perturbateur est d'une intensité suffisante,
le matériau constituant la couche VS devient conducteur et les charges créées à l'extérieur de la carte et arrivant par les connexions 33 se trouvent, par l'intermédiaire de l'électrode ES alors en contact électrique avec elles, évacuées vers la masse par les connexions 31 et 32, ne peuvent donc pas atteindre les circuits portés par la carte, assurant ainsi la protection recherchée.The operation of this protection device located at the level of the card S is identical to that which has been described for a single component previously, namely that when a disturbing external electromagnetic field is of sufficient intensity, the material constituting the layer V S becomes conductive and the charges created outside the card and arriving via the connections 33 are found, via the electrode E S then in electrical contact with them, discharged to ground therefore, by connections 31 and 32, cannot reach the circuits carried by the card, thus ensuring the protection sought.
Il est à noter que ce dispositif de protection décrit figure 5 peut être utilisé cumulativement avec des dispositifs de protection tels que décrits dans les figures précédentes au niveau de chacun des composants ou circuits électroniques utilisés sur la carte.It should be noted that this protection device described in FIG. 5 can be used cumulatively with protection devices as described in the preceding figures at the level of each of the electronic components or circuits used on the card.
La figure 6 représente une variante de réalisation du dispositif de protection d'une carte électronique.FIG. 6 represents an alternative embodiment of the protection device for an electronic card.
Sur cette figure, on retrouve la carte S, une connexion de masse 32 et des connexions d'entrée-sortie de différents circuits repérées 33. Cette carte porte en outre une plaquette allongée 34, recouvrant sensiblement tout le bord de la carte S, interposée sur les connexions 32 et 33. Cette plaquette 34 est de préférence en céramique et porte la couche varistance VS et l'électrode ES, déposées de préférence par sérigraphie sur la plaquette 34, ainsi que des électrodes 36 et 35 assurant la continuité électrique sur la plaquette 34 entre respectivement les pistes 32 et 33 de la carte S. Les connexions sont par exemple réalisées sur la figure 6 par des fils de connexion soudés 37 ou, comme représenté sur la figure 7, par des demi-troϋs brasés 38 du type des demi-trous des boîtiers "chip carrier".In this figure, we find the card S, a ground connection 32 and input-output connections of different circuits marked 33. This card also carries an elongated plate 34, covering substantially the entire edge of the card S, interposed on connections 32 and 33. This plate 34 is preferably made of ceramic and carries the varistor layer V S and the electrode E S , preferably deposited by screen printing on the plate 34, as well as electrodes 36 and 35 ensuring electrical continuity on the wafer 34 between the tracks 32 and 33 of the card S respectively. The connections are for example made in FIG. 6 by welded connection wires 37 or, as shown in FIG. 7, by brazed half-troϋs 38 of the type of half-holes for "chip carrier" boxes.
Cette variante, aussi bien dans sa version de la figure 6 que celle de la figure 7, permet, du fait de l'interposition d'une plaquette 34 en céramique, de déposer le matériau varistance VS par une technique de sérigraphie lorsque la. carte S est une carte de circuit imprimé qui est incompatible avec cette technique.This variant, as well in its version of FIG. 6 as that of FIG. 7, allows, because of the interposition of a ceramic plate 34, to deposit the varistor material V S by a screen printing technique when the. card S is a printed circuit board which is incompatible with this technique.
Dans une variante de réalisation non représentée, il est possible d'interposer une capacité entre l'électrode ES et la masse, dans le même but que précédemment.In an alternative embodiment not shown, it is possible to interpose a capacitance between the electrode E S and the ground, for the same purpose as above.
Les figures 8, 9 et 10, représentent trois modes de réalisation
du dispositif selon l'invention appliqués à un connecteur de carte portant des circuits ou composants électroniques.Figures 8, 9 and 10 show three embodiments of the device according to the invention applied to a card connector carrying electronic circuits or components.
Sur la figure 8, on a représenté en coupe un connecteur par ses broches de connexion 51 émergeant par des trous ménagés dans une embase isolante CT. Sur une même face de l'embase CT, entre chaque paire de broches 51, on a déposé une metallisation EC1 en contact électrique avec une brasure 53 la réunissant à une broche 51 située à droite sur le schéma ; cette metallisation EC1 est partiellement recouverte par une couche de matériau varistance VC lui-même recouvert par une électrode EC2 qui est sans contact électrique avec l'électrode EC1 mais réunie à une autre broche 51, sur le schéma située à gauche du même élément de l'embase CT, par une brasure 54.In Figure 8, there is shown in section a connector by its connection pins 51 emerging through holes in an insulating base CT. On the same face of the base CT, between each pair of pins 51, a metallization E C1 has been deposited in electrical contact with a solder 53 joining it to a pin 51 located on the right in the diagram; this metallization E C1 is partially covered by a layer of varistor material V C itself covered by an electrode E C2 which is without electrical contact with the electrode E C1 but joined to another pin 51, on the diagram situated to the left of the same element of the CT base, by a solder 54.
Le fonctionnement de ce dispositif est analogue aux dispositifs précédents, à savoir que le matériau varistance VC est choisi et dimensionné de telle sorte qu'il soit isolant en l'absence de champ électromagnétique extérieur de perturbation : de la sorte, les différentes broches 51 sont saris contact électrique les unes avec les autres, de façon classique. En présence de champs perturbateurs, le matériau varistance VC devient conducteur et il apparaît que deux broches 51 successives sont en contact électrique par l'intermédiaire successivement de la brasure 54, d'une première couche conductrice EC2, du matériau varistance VC devenu conducteur, d'une deuxième couche EC1 et enfin d'une seconde brasure 53. Il apparaît comme précédemment que les charges créées par le champ perturbateur n'ont donc pas la possibilité de franchir le connecteur mais sont évacuées par exemple vers une des broches 51 reliées à la masse.The operation of this device is analogous to the previous devices, namely that the varistor material V C is chosen and dimensioned so that it is insulating in the absence of an external electromagnetic disturbance field: in this way, the different pins 51 are without electrical contact with each other, in a conventional manner. In the presence of disturbing fields, the varistor material V C becomes conductive and it appears that two successive pins 51 are in electrical contact through successively the solder 54, a first conductive layer E C2 , the varistor material V C become conductor, of a second layer E C1 and finally of a second solder 53. It appears as above that the charges created by the disturbing field therefore do not have the possibility of passing through the connector but are discharged for example towards one of the pins 51 connected to earth.
Comme précédemment également, ce dispositif de protection au niveau du connecteur peut être utilisé cumulativement avec une protection au niveau de la carte et une protection au niveau du circuit ou composant lui-même.As previously also, this protection device at the connector can be used cumulatively with protection at the level of the card and protection at the level of the circuit or component itself.
La figure 9 représente une variante de réalisation de la figure 8.
Sur cette figure, on retrouve le connecteur représenté par ses broches de connexion 51 et son embase isolante CT. Entre deux broches successives 51 sont déposées sur une même face de l'isolant CT deux metallisations EC3 et EC4 sans contact électrique mais situées au même niveau. Sur les électrodes EC3 , EC4 et entre elles est disposée une couche de matériau varistance VC . La liaison électrique avec les broches 51 est réalisée par deux brasures 54 et 53 reliant respectivement les électrodes EC3, et EC4 à leurs broches 51 respectives. Le fonctionnement est identique à ce qui a été décrit précédemment. La seule différence est d'ordre technologique : en effet, les électrodes EC3 et EC4 peuvent être déposées en une même opération, l'espace entre elles étant réalisé par gravure laser.FIG. 9 represents an alternative embodiment of FIG. 8. In this figure, we find the connector represented by its connection pins 51 and its insulating base CT. Between two successive pins 51 are deposited on the same face of the CT insulator two metallizations E C3 and E C4 without electrical contact but located at the same level. On the electrodes E C3 , E C4 and between them is placed a layer of varistor material V C. The electrical connection with the pins 51 is made by two solders 54 and 53 respectively connecting the electrodes E C3 and E C4 to their respective pins 51. The operation is identical to what has been described previously. The only difference is technological: in fact, the electrodes E C3 and E C4 can be deposited in a single operation, the space between them being produced by laser engraving.
La figure 10 représente un autre mode de réalisation du dispositif selon l'invention appliqué à un connecteur de carte de circuit électronique qui comporte l'intégration d'une capacité, de façon analogue à ce qui a été décrit sur la figure 4.FIG. 10 represents another embodiment of the device according to the invention applied to an electronic circuit board connector which includes the integration of a capacitor, in a manner similar to what has been described in FIG. 4.
Sur cette figure, on retrouve les broches de connexion 51 ainsi que l'embase isolante CT et, à titre d'exemple, les électrodes EC3 et EC4 et le matériau varistance VC tel que décrit figure 9. Toutefois, l'autre face de la couche isolante CT comporte de plus une électrode repérée 55 s'étendant par exemple sur toute la surface comprise entre deux broches 51 ; en outre, les brasures faisant la liaison électrique avec les broches de connexion 51 sont légèrement modifiées : en effet, une broche 51 est soit reliée de part et d'autre aux metallisations 55, soit aux metallisations situées sur l'autre face, EC3 ou EC4.In this figure, we find the connection pins 51 as well as the insulating base CT and, for example, the electrodes E C3 and E C4 and the varistor material V C as described in Figure 9. However, the other face of the insulating layer CT further comprises an electrode marked 55 extending for example over the entire surface between two pins 51; in addition, the solders making the electrical connection with the connection pins 51 are slightly modified: in fact, a pin 51 is either connected on either side to the metallizations 55, or to the metallizations situated on the other face, E C3 or E C4 .
En fonctionnement, il apparaît que le matériau CT isolant et les électrodes 55. EC3 et EC4 forment une capacité dont le rôle est analogue à ce qui a été décrit figure 4.
In operation, it appears that the insulating CT material and the electrodes 55. E C3 and E C4 form a capacitor whose role is analogous to that which has been described in FIG. 4.