EA043933B1 - COMPOSITIONS, KITS, METHODS AND APPLICATIONS FOR CLEANING, DISINFECTING, STERILIZATION AND/OR TREATMENT - Google Patents

COMPOSITIONS, KITS, METHODS AND APPLICATIONS FOR CLEANING, DISINFECTING, STERILIZATION AND/OR TREATMENT Download PDF

Info

Publication number
EA043933B1
EA043933B1 EA202091687 EA043933B1 EA 043933 B1 EA043933 B1 EA 043933B1 EA 202091687 EA202091687 EA 202091687 EA 043933 B1 EA043933 B1 EA 043933B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
ppm
present
months
composition described
weeks
Prior art date
Application number
EA202091687
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Ходжабр Алими
Сридхар Говинда Прасад
Сурья Канта Де
Original Assignee
Коллидион, Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Коллидион, Инк. filed Critical Коллидион, Инк.
Publication of EA043933B1 publication Critical patent/EA043933B1/en

Links

Description

Настоящая заявка испрашивает приоритет и преимущество по дате подачи в соответствии с § 119(e) раздела 35 Свода законов США на основании предварительной заявки на патент США № 62/721991, поданной 23 августа 2018, и предварительной заявки на патент США № 62/617263, поданной 14 января 2018, содержание каждой из которых включено в настоящую заявку во всей полноте посредством ссылки.This application claims priority and filing date benefit under 35 USC § 119(e) based on U.S. Provisional Patent Application No. 62/721991, filed Aug. 23, 2018, and U.S. Provisional Patent Application No. 62/617263. filed January 14, 2018, the contents of each of which are incorporated herein by reference in their entirety.

В Соединенных штатах каждый год проводят примерно 46,5 миллионов хирургических процедур и даже больше инвазивных медицинских процедур, включая примерно 5 миллионов эндоскопий желудочнокишечного тракта. Каждая процедура включат приведение медицинского устройства в контакт со стерильной тканью или слизистыми оболочками пациента. Основным риском всех таких процедур является введение патогенов, которые могут приводить к инфекции. Неспособность правильно очистить, дезинфицировать и/или стерилизовать медицинское устройство может подвергнуть пациента воздействию биологических жидкостей и тканевых загрязнений от предыдущего пациента, что может приводить к передаче патогенов от человека человеку или в окружающую среду и инфицировать большое количество людей.In the United States, approximately 46.5 million surgical procedures and even more invasive medical procedures are performed each year, including approximately 5 million gastrointestinal endoscopies. Each procedure will involve bringing the medical device into contact with sterile tissue or mucous membranes of the patient. The main risk of all such procedures is the introduction of pathogens, which can lead to infection. Failure to properly clean, disinfect, and/or sterilize a medical device may expose a patient to body fluids and tissue contaminants from a previous patient, which may result in the transmission of pathogens from person to person or into the environment and infect large numbers of people.

Стерилизация медицинского устройства является предпочтительной, поскольку указанный процесс разрушает или устраняет все формы микробной жизни. Тем не менее, высокая температура и давление, применяемые в процессах стерилизации, не подходят для термочувствительных медицинских устройств. Такие термочувствительные медицинские устройства следует очищать с применением процесса дезинфицирования. Тем не менее, одна из проблем, связанных с применяемыми в настоящее время процессами дезинфицирования, заключается в том, что тип и количество используемых дезинфицирующих агентов являются разрушительными для медицинского устройства. Это сокращает общий срок службы медицинского устройства, что в итоге приводит к увеличению медицинских расходов из-за необходимости более ранней замены медицинского устройства новым. Кроме того, с учетом недавних инфекционных вспышек, вызванных загрязненными медицинскими устройствами, необходим более эффективный способ дезинфицирования, чем доступные в настоящее время способы.Sterilization of a medical device is preferred because the process destroys or eliminates all forms of microbial life. However, the high temperature and pressure used in sterilization processes are not suitable for temperature-sensitive medical devices. Such heat-sensitive medical devices should be cleaned using a disinfection process. However, one of the problems with currently used disinfection processes is that the type and amount of disinfectant agents used are destructive to the medical device. This reduces the overall lifespan of the medical device, which ultimately leads to increased medical costs due to the need to replace the medical device with a new one earlier. Additionally, given recent infectious outbreaks caused by contaminated medical devices, a more effective disinfection method than currently available methods is needed.

В настоящем изобретении описаны дезинфицирующие композиции, способы и применения, которые обеспечивают превосходную очистку и дезинфицирование твердых поверхностей от загрязнений/биопленки и/или медицинского устройства, включая термочувствительное медицинское устройство и устройство, классифицируемое как критическое, полукритическое или некритическое изделие. В то же время описанные дезинфицирующие композиции, способы и применения являются менее агрессивными по сравнению с обычными композициями, способами и применениями, что приводит к более длительному сроку службы твердой поверхности и/или медицинского устройства.The present invention describes disinfectant compositions, methods and applications that provide excellent cleaning and disinfection of hard surfaces from contaminants/biofilm and/or a medical device, including a temperature-sensitive medical device and a device classified as a critical, semi-critical or non-critical device. At the same time, the described disinfectant compositions, methods and applications are less aggressive than conventional compositions, methods and applications, resulting in a longer service life of the hard surface and/or medical device.

Кроме того, при хирургических процедурах или в результате травмы существует острая необходимость в очистке и дезинфицировании ран. В настоящем изобретении дополнительно описаны дезинфицирующие композиции, способы и применения, которые обеспечивают превосходную очистку и дезинфицирование ткани при уходе за раной, предоперационной подготовке и хирургии, поверхности кожи при дерматологических применениях и глаза при офтальмологических применениях. В настоящем изобретении также описаны композиции, способы и применения для лечения пациентов.Additionally, during surgical procedures or as a result of injury, there is an urgent need to clean and disinfect wounds. The present invention further describes disinfectant compositions, methods and uses that provide superior cleaning and disinfection of tissue for wound care, preoperative preparation and surgery, the skin surface for dermatological applications and the eye for ophthalmic applications. The present invention also describes compositions, methods and uses for treating patients.

Краткое описание изобретенияBrief description of the invention

В аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, содержащая хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. Композиция, описанная в настоящем изобретении, может дополнительно содержать одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент, одну или более металлических частиц и/или одну или более солей металлов.Aspects of the present invention provide a composition comprising hypochlorous acid or free active chlorine and one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. The composition described in the present invention may further contain one or more compounds containing a guanide moiety, one or more metal particles and/or one or more metal salts.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, содержащая хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. Описанное соединение, содержащее гуанидный фрагмент, включает органическое соединение, содержащее бигуанидную функциональную группу, бигуанидиновую функциональную группу, тригуанидную функциональную группу или любую их комбинацию. Композиция, описанная в настоящем изобретении, может дополнительно содержать одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, одну или более металлических частиц и/или одну или более солей металлов.In other aspects, the present invention provides a composition comprising hypochlorous acid or free active chlorine and one or more compounds containing a guanide moiety. The described compound containing a guanide moiety includes an organic compound containing a biguanide functional group, a biguanidine functional group, a triguanide functional group, or any combination thereof. The composition described in the present invention may further contain one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, one or more metal particles and/or one or more metal salts.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, содержащая один или более спиртов и одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. Описанные спирты включают этанол, метанол, изопропиловый спирт или любую их комбинацию. Композиция, описанная в настоящем изобретении, может дополнительно содержать одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент, одну или более металлических частиц и/или одну или более солей металлов.In other aspects, the present invention provides a composition comprising one or more alcohols and one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. Alcohols described include ethanol, methanol, isopropyl alcohol, or any combination thereof. The composition described in the present invention may further contain one or more compounds containing a guanide moiety, one or more metal particles and/or one or more metal salts.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, содержащая один или более спиртов и одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. Описанные спирты включают этанол, метанол, изопропиловый спирт или любую их комбинацию. Описанное соединение, содержащее гуанидный фрагмент, включает органическое соединение, содержащее бигуанидную функциональную группу, бигуанидиновую функциональную группу, тригуанидную функциональную группу или любую их комбинацию. Композиция, описанная в настоящем изобретении, может дополнительно содержать одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соедине- 1 043933 ний, одну или более металлических частиц и/или одну или более солей металлов.In other aspects, the present invention provides a composition containing one or more alcohols and one or more compounds containing a guanide moiety. Alcohols described include ethanol, methanol, isopropyl alcohol, or any combination thereof. The described compound containing a guanide moiety includes an organic compound containing a biguanide functional group, a biguanidine functional group, a triguanide functional group, or any combination thereof. The composition described in the present invention may further contain one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, one or more metal particles and/or one or more metal salts.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, содержащая хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и одну или более металлических частиц. Композиция, описанная в настоящем изобретении, может дополнительно содержать одну или более солей металлов.In other aspects, the present invention provides a composition comprising hypochlorous acid or free active chlorine and one or more metal particles. The composition described in the present invention may further contain one or more metal salts.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, содержащая хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и одну или более солей металлов. Композиция, описанная в настоящем изобретении, может дополнительно содержать одну или более металлических частиц.In other aspects, the present invention provides a composition comprising hypochlorous acid or free active chlorine and one or more metal salts. The composition described in the present invention may further contain one or more metal particles.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описан набор, содержащий одну или более емкостей, содержащих композицию, описанную в настоящем изобретении, и/или одну или более емкостей, содержащих компоненты композиции, описанной в настоящем изобретении. Описанный набор дополнительно содержит одну или более систем доставки или нанесения, и/или инструкции, и/или емкость.In other aspects, the present invention discloses a kit comprising one or more containers containing a composition described herein and/or one or more containers containing components of a composition described herein. The described kit further contains one or more delivery or application systems, and/or instructions, and/or container.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описан способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации устройства. Описанный способ включает нанесение композиции, описанной в настоящем изобретении, на устройство, при этом нанесение композиции очищает, дезинфицирует и/или стерилизует устройство. Описанный способ может дополнительно включать промывание очищенного, дезинфицированного и/или стерилизованного устройства раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации устройства. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации устройства.In other aspects, the present invention describes a method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a device. The described method involves applying a composition described in the present invention to a device, wherein application of the composition cleans, disinfects and/or sterilizes the device. The described method may further include washing the cleaned, disinfected and/or sterilized device with a washing solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described in the present invention for use in cleaning, disinfecting and/or sterilizing a device. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a device.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описан способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации области поверхности. Описанный способ включает нанесение композиции, описанной в настоящем изобретении, на область поверхности, при этом нанесение композиции очищает, дезинфицирует и/или стерилизует область поверхности. Описанный способ может дополнительно включать промывание очищенной, дезинфицированной и/или стерилизованной области поверхности раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации области поверхности. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации области поверхности.In other aspects, the present invention describes a method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a surface area. The described method involves applying a composition described in the present invention to a surface area, wherein application of the composition cleans, disinfects and/or sterilizes the surface area. The described method may further include rinsing the cleaned, disinfected and/or sterilized surface area with a rinsing solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described in the present invention for use in cleaning, disinfecting and/or sterilizing a surface area. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a surface area.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описан способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации раны у пациента. Описанный способ включает применение композиции, описанной в настоящем изобретении, на пациенте, при этом применение композиции очищает, дезинфицирует и/или стерилизует рану. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации раны у пациента. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации раны у пациента. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для производства лекарственного средства для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации раны у пациента.In other aspects, the present invention describes a method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a wound on a patient. The described method involves the use of a composition described in the present invention on a patient, wherein the use of the composition cleanses, disinfects and/or sterilizes the wound. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in cleaning, disinfecting, and/or sterilizing a wound on a patient. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a wound on a patient. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for the production of a medicament for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a wound on a patient.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описан способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации инфекции у пациента. Описанный способ включает применение композиции, описанной в настоящем изобретении, на пациенте, при этом применение композиции очищает, дезинфицирует и/или стерилизует инфекцию. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации инфекции у пациента. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации инфекции у пациента. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для производства лекарственного средства для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации инфекции у пациента. Инфекция может представлять собой микробную инфекцию.In other aspects, the present invention describes a method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing an infection in a patient. The described method involves the use of a composition described in the present invention on a patient, wherein the use of the composition clears, disinfects and/or sterilizes the infection. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in cleaning, disinfecting, and/or sterilizing an infection in a patient. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing an infection in a patient. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for the production of a medicament for cleaning, disinfecting and/or sterilizing an infection in a patient. The infection may be a microbial infection.

В других аспектах согласно настоящему изобретению описан способ лечения раны у пациента. Описанный способ включает применение композиции, описанной в настоящем изобретении, на пациенте, при этом применение композиции способствует заживлению раны. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для лечения раны у пациента. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для лечения раны у пациента. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для производства лекарственного средства для лечения раны у пациента.In other aspects, the present invention describes a method for treating a wound in a patient. The described method involves the use of a composition described in the present invention on a patient, wherein the use of the composition promotes wound healing. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in treating a wound in a patient. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for treating a wound in a patient. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for the production of a medicament for treating a wound in a patient.

Подробное описание изобретенияDetailed Description of the Invention

Композиция, описанная в настоящем изобретении, имеет повышенную стабильность и эффективность благодаря защите хлорноватистой кислоты. В частности, композиция может защищать хлорноватистую кислоту от воздействия вредных агентов, включая, например, органические соединения, реакционноспособные соединения, положительно заряженные молекулы или другие соединения, которые спо- 2 043933 собствуют или облегчают разложение хлорноватистой кислоты. Например, описанные композиции являются стабильными в сыворотке крови и в пластиковом упаковочном материале. Кроме того, при защите хлорноватистой кислоты от указанного воздействия наблюдается синергетический эффект эффективности. Указанная значительно улучшенная эффективность позволяет использовать меньшие количества хлорноватистой кислоты в описанных композициях. Поскольку концентрации хлорноватистой кислоты выше 350 ppm, особенно выше 500 ppm, вызывают нестабильность, более низкие количества хлорноватистой кислоты, используемые в описанных композициях, еще больше увеличивают стабильность композиции. По существу, композицию, описанную в настоящем изобретении, рассматривают в качестве замены любым предшествующим композициям хлорноватистой кислоты, которые в настоящее время представлены на рынке или разрабатываются. Применения включают очистку/дезинфицирование ткани при уходе за раной и хирургии, очистку/дезинфицирование кожи при дерматологических применениях, очистку/дезинфицирование глаза при офтальмологических применениях, очистку/дезинфицирование твердых поверхностей от загрязнений/биопленки, очистку/дезинфицирование медицинских устройств от загрязнений.The composition described in the present invention has increased stability and effectiveness due to the protection of hypochlorous acid. In particular, the composition may protect hypochlorous acid from harmful agents, including, for example, organic compounds, reactive compounds, positively charged molecules, or other compounds that promote or facilitate the decomposition of hypochlorous acid. For example, the compositions described are stable in blood serum and in plastic packaging material. In addition, when protecting hypochlorous acid from this effect, a synergistic effect of effectiveness is observed. This significantly improved efficiency allows the use of smaller amounts of hypochlorous acid in the described compositions. Because hypochlorous acid concentrations above 350 ppm, especially above 500 ppm, cause instability, lower amounts of hypochlorous acid used in the described compositions further increase the stability of the composition. As such, the composition described in the present invention is considered as a replacement for any prior hypochlorous acid compositions currently on the market or in development. Applications include tissue cleaning/disinfection in wound care and surgery, skin cleaning/disinfection in dermatological applications, eye cleaning/disinfection in ophthalmic applications, hard surface cleaning/disinfection of contaminants/biofilm, medical device cleaning/disinfection of contaminants.

Стабильность композиции, описанной в настоящем изобретении, может быть обусловлена положительно заряженным атомом N четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения, металлической частицы, соли металла и/или соединения, содержащего гуанидный фрагмент, описанных в настоящем изобретении. Такие соединения, по-видимому, образуют сильное ионное взаимодействие с отрицательно заряженным (OCl-), и образующийся таким образом комплекс сохраняет свою стабильностью в течение более длительного периода времени по сравнению с индивидуальной хлорноватистой кислотой, которая представляет собой более слабый комплекс в растворе по сравнению с композицией, описанной в настоящем изобретении. Кроме того, использование 500 ppm или менее, в частности 350 ppm или менее, хлорноватистой кислоты дополнительно увеличивает стабильность композиции, описанной в настоящем изобретении.The stability of the composition described in the present invention may be due to the positively charged N atom of the quaternary compound or organosilicon quaternary compound, metal particle, metal salt and/or guanide moiety-containing compound described in the present invention. Such compounds appear to form a strong ionic interaction with the negatively charged (OCl - ) and the complex thus formed remains stable for a longer period of time compared to individual hypochlorous acid, which is a weaker complex in solution compared with the composition described in the present invention. In addition, the use of 500 ppm or less, in particular 350 ppm or less, hypochlorous acid further increases the stability of the composition described in the present invention.

Повышенная эффективность композиции, описанной в настоящем изобретении, частично может являться результатом образования химической связи между четвертичным соединением или кремнийорганическим четвертичным соединением, металлической частицей, солью металла и/или соединением, содержащим гуанидный фрагмент, описанными в настоящем изобретении, и субстратами с обеспечением таким образом длительного действия в сочетании со свободным OCl(-), который обладает собственным противомикробным действием.The increased effectiveness of the composition described in the present invention may result in part from the formation of a chemical bond between the quaternary compound or organosilicon quaternary compound, metal particle, metal salt and/or guanide moiety-containing compound described in the present invention and the substrates, thereby providing long-lasting action in combination with free OCl(-), which has its own antimicrobial effect.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, может содержать хлорноватистую кислоту. Хлорноватистая кислота представляет собой слабую кислоту химической формулы HOCl, тогда как ее молекулярную формулу записывают как HClO. Как показано в формуле I, хлорноватистая кислота представляет собой простую молекулу с центральным атомом кислорода, связанным с атомами хлора и водорода одинарными связями, и она имеет молекулярную массу 52,46 г/моль.The composition described in the present invention may contain hypochlorous acid. Hypochlorous acid is a weak acid with the chemical formula HOCl, while its molecular formula is written as HClO. As shown in Formula I, hypochlorous acid is a simple molecule with a central oxygen atom linked to chlorine and hydrogen atoms by single bonds, and it has a molecular weight of 52.46 g/mol.

|О н CI (I)|O n CI (I)

Хлорноватистая кислота представляет собой бесцветный раствор, и ее точные физические свойства являются переменными в зависимости от концентрации хлорноватистой кислоты в растворе. Хлорноватистая кислота взаимодействует с основаниями с образованием солей, называемых гипохлоритами. Например, гипохлорит натрия (NaOCl), активный ингредиент в отбеливателе, образуется в результате взаимодействия хлорноватистой кислоты с гидроксидом натрия. Хлорноватистая кислота также легко взаимодействует с различными органическими молекулами и биомолекулами.Hypochlorous acid is a colorless solution, and its exact physical properties are variable depending on the concentration of hypochlorous acid in the solution. Hypochlorous acid reacts with bases to form salts called hypochlorites. For example, sodium hypochlorite (NaOCl), the active ingredient in bleach, is formed when hypochlorous acid reacts with sodium hydroxide. Hypochlorous acid also readily interacts with various organic molecules and biomolecules.

Раствор хлорноватистой кислоты можно получать, например, путем растворения хлора в воде, гидролиза газообразного хлора, электролиза солевого раствора или подкисления гипохлорита. Например, стабильные хлорноватистые соли, такие как, например, гипохлориты щелочных металлов, такие как гипохлорит натрия, гипохлорит кальция, гипохлорит калия, гипохлорит лития и гипохлорит магния, можно получать путем растворения газообразного хлора в водном растворе гидроксида щелочного металла, таком как раствор гидроксида натрия, раствор гидроксида кальция, раствор гидроксида калия, раствор гидроксида лития или раствор гидроксида магния. Хлорноватистую кислоту также можно получать путем растворения монооксида дихлора в воде. В качестве другого примера хлорноватистую кислоту также можно получать путем электролитической обработки физиологического раствора. В одном из способов электрический ток подают на одно-, двух- или трехкамерную ячейку, содержащую катодную камеру, анодную камеру и центральную камеру с физиологическим раствором, расположенную между двумя другими камерами, при этом все камеры разделены полупроницаемой мембраной. Во время электролиза хлорид натрия (NaCl) диссоциирует на отрицательно заряженный хлорид (Cl-) и положительно заряженный натрий (Na+). При этом вода диссоциирует на ионы гидроксида (ОН-) и водорода (Н+). Отрицательно заряженные ионы хлора (Cl-) и гидроксида (ОН-) двигаются к аноду, теряя электроны и образуя хлорноватистую кислоту (HOCl), а также ионы гипохлорита (OCl-) и газообразные кислород (О2) и хлор (Cl2). Затем восстановительную воду, содержащую хлорноватистую кислоту, подают в сборочную камеру для последующего применения. Способы получения хлорноватистой кислоты описаны, например, в патентахThe hypochlorous acid solution can be prepared, for example, by dissolving chlorine in water, hydrolysis of chlorine gas, electrolysis of saline, or acidification of hypochlorite. For example, stable hypochlorous salts such as, for example, alkali metal hypochlorites such as sodium hypochlorite, calcium hypochlorite, potassium hypochlorite, lithium hypochlorite and magnesium hypochlorite can be prepared by dissolving chlorine gas in an aqueous alkali metal hydroxide solution such as sodium hydroxide solution , calcium hydroxide solution, potassium hydroxide solution, lithium hydroxide solution, or magnesium hydroxide solution. Hypochlorous acid can also be prepared by dissolving dichlorine monoxide in water. As another example, hypochlorous acid can also be produced by electrolytic treatment of saline solution. In one method, an electrical current is applied to a one-, two-, or three-chamber cell containing a cathode chamber, an anode chamber, and a central saline chamber located between two other chambers, all chambers being separated by a semipermeable membrane. During electrolysis, sodium chloride (NaCl) dissociates into negatively charged chloride (Cl - ) and positively charged sodium (Na + ). In this case, water dissociates into hydroxide (OH - ) and hydrogen (H + ) ions. Negatively charged chlorine (Cl - ) and hydroxide (OH - ) ions move towards the anode, losing electrons and forming hypochlorous acid (HOCl), as well as hypochlorite ions (OCl - ) and oxygen (O 2 ) and chlorine (Cl 2 ) gases. The reducing water containing hypochlorous acid is then fed into the collection chamber for subsequent use. Methods for producing hypochlorous acid are described, for example, in patents

- 3 043933- 3 043933

США № 3914397, № 4190638, № 4908215, № 5322677, № 6426066, № 7323118, № 8062500, № 8945630, №US No. 3914397, No. 4190638, No. 4908215, No. 5322677, No. 6426066, No. 7323118, No. 8062500, No. 8945630, No.

9168318 и № 9486479, каждый из которых включен в настоящую заявку во всей полноте посредством ссылки.9168318 and No. 9486479, each of which is incorporated herein by reference in its entirety.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит количество хлорноватистой кислоты, которое придает желаемый полезный эффект композиции, описанной в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, 0,05 ppm, 0,10 ppm, 0,15 ppm, 0,20 ppm, 0,25 ppm, 0,30 ppm, 0,35 ppm, 0,40 ppm, 0,45 ppm, 0,50 ppm, 0,55 ppm, 0,60 ppm, 0,65 ppm, 0,70 ppm, 0,75 ppm, 0,80 ppm, 0,85 ppm, 0,90 ppm, 0,95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm, 20 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm, 275 ppm, 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450ppm, 475 ppm, 500 ppm, 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm, 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 1125 ppm, 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm, 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1475 ppm, 1500 ppm, 1600 ppm, 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm или 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, по меньшей мере 0,05 ppm, по меньшей мере 0,10 ppm, по меньшей мере 0,20 ppm, по меньшей мере 0,30 ppm, по меньшей мере 0,40 ppm, по меньшей мере 0,50 ppm, по меньшей мере 0,60 ppm, по меньшей мере 0,70 ppm, по меньшей мере 0,80 ppm, по меньшей мере 0,90 ppm, по меньшей мере 1 ppm, по меньшей мере 10 ppm, по меньшей мере 20 ppm, по меньшей мере 30 ppm, по меньшей мере 40 ppm, по меньшей мере 50 ppm, по меньшей мере 60 ppm, по меньшей мере 70 ppm, по меньшей мере 80 ppm, по меньшей мере 90 ppm, по меньшей мере 100 ppm, по меньшей мере 125 ppm, по меньшей мере 150 ppm, по меньшей мере 175 ppm, по меньшей мере 200 ppm, по меньшей мере 225 ppm, по меньшей мере 250 ppm, по меньшей мере 275 ppm, по меньшей мере 300 ppm, по меньшей мере 325 ppm, по меньшей мере 350 ppm, по меньшей мере 375 ppm, по меньшей мере 400 ppm, по меньшей мере 425 ppm, по меньшей мере 450 ppm, по меньшей мере 475 ppm, по меньшей мере 500 ppm, по меньшей мере 525 ppm, по меньшей мере 550 ppm, по меньшей мере 575 ppm, по меньшей мере 600 ppm, по меньшей мере 625 ppm, по меньшей мере 650 ppm, по меньшей мере 675 ppm, по меньшей мере 700 ppm, по меньшей мере 725 ppm, по меньшей мере 750 ppm, по меньшей мере 775 ppm, по меньшей мере 800 ppm, по меньшей мере 825 ppm, по меньшей мере 850 ppm, по меньшей мере 875 ppm, по меньшей мере 900 ppm, по меньшей мере 925 ppm, по меньшей мере 950 ppm, по меньшей мере 975 ppm, по меньшей мере 1000 ppm, по меньшей мере 1025 ppm, по меньшей мере 1050 ppm, по меньшей мере 1075 ppm, по меньшей мере 1100 ppm, по меньшей мере 1125 ppm, по меньшей мере 1150 ppm, по меньшей мере 1175 ppm, по меньшей мере 1200 ppm, по меньшей мере 1225 ppm, по меньшей мере 1250 ppm, по меньшей мере 1275 ppm, по меньшей мере 1300 ppm, по меньшей мере 1325 ppm, по меньшей мере 1350 ppm, по меньшей мере 1375 ppm, по меньшей мере 1400 ppm, по меньшей мере 1425 ppm, по меньшей мере 1450 ppm, по меньшей мере 1475 ppm, по меньшей мере 1500 ppm, по меньшей мере 1600 ppm, по меньшей мере 1700 ppm, по меньшей мере 1800 ppm, по меньшей мере 1900 ppm или по меньшей мере 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, не более 0,05 ppm, не более 0,10 ppm, не более 0,20 ppm, не более 0,30 ppm, не более 0,40 ppm, не более 0,50 ppm, не более 0,60 ppm, не более 0,70 ppm, не более 0,80 ppm, не более 0,90 ppm, не более 1 ppm, не более 10 ppm, не более 20 ppm, не более 30 ppm, не более 40 ppm, не более 50 ppm, не более 60 ppm, не более 70 ppm, не более 80 ppm, не более 90 ppm, не более 100 ppm, не более 125 ppm, не более 150 ppm, не более 175 ppm, не более 200 ppm, не более 225 ppm, не более 250 ppm, не более 275 ppm, не более 300 ppm, не более 325 ppm, не более 350 ppm, не более 375 ppm, не более 400 ppm, не более 425 ppm, не более 450 ppm, не более 475 ppm, не более 500 ppm, не более 525 ppm, не более 550 ppm, не более 575 ppm, не более 600 ppm, не более 625 ppm, не более 650 ppm, не более 675 ppm, не более 700 ppm, не более 725 ppm, не более 750 ppm, не более 775 ppm, не более 800 ppm, не более 825 ppm, не более 850 ppm, не более 875 ppm, не более 900 ppm, не более 925 ppm, не более 950 ppm, не более 975 ppm, не более 1000 ppm, не более 1025 ppm, не более 1050 ppm, не более 1075 ppm, не более 1100 ppm, не более 1125 ppm, не болееIn one embodiment, the composition described in the present invention contains an amount of hypochlorous acid that imparts the desired beneficial effect of the composition described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount of, for example, 0.05 ppm, 0.10 ppm, 0.15 ppm, 0.20 ppm, 0.25 ppm, 0.30 ppm , 0.35 ppm, 0.40 ppm, 0.45 ppm, 0.50 ppm, 0.55 ppm, 0.60 ppm, 0.65 ppm, 0.70 ppm, 0.75 ppm, 0.80 ppm , 0.85 ppm, 0.90 ppm, 0.95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm, 20 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm, 275 ppm, 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450 ppm, 475 ppm, 500 ppm, 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm, 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 1125 ppm , 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm, 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1475 ppm, 1500 ppm, 1600 ppm, 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm or 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount of, for example, at least 0.05 ppm, at least 0.10 ppm, at least 0.20 ppm, at least 0 .30 ppm, at least 0.40 ppm, at least 0.50 ppm, at least 0.60 ppm, at least 0.70 ppm, at least 0.80 ppm, at least 0.90 ppm, at least 1 ppm, at least 10 ppm, at least 20 ppm, at least 30 ppm, at least 40 ppm, at least 50 ppm, at least 60 ppm, at least 70 ppm, at least 80 ppm, at least 90 ppm, at least 100 ppm, at least 125 ppm, at least 150 ppm, at least 175 ppm, at least 200 ppm, at least 225 ppm, at least at least 250 ppm, at least 275 ppm, at least 300 ppm, at least 325 ppm, at least 350 ppm, at least 375 ppm, at least 400 ppm, at least 425 ppm, at least 450 ppm, at least 475 ppm, at least 500 ppm, at least 525 ppm, at least 550 ppm, at least 575 ppm, at least 600 ppm, at least 625 ppm, at least 650 ppm, at least 675 ppm, at least 700 ppm, at least 725 ppm, at least 750 ppm, at least 775 ppm, at least 800 ppm, at least 825 ppm, at least 850 ppm, at least at least 875 ppm, at least 900 ppm, at least 925 ppm, at least 950 ppm, at least 975 ppm, at least 1000 ppm, at least 1025 ppm, at least 1050 ppm, at least 1075 ppm, at least 1100 ppm, at least 1125 ppm, at least 1150 ppm, at least 1175 ppm, at least 1200 ppm, at least 1225 ppm, at least 1250 ppm, at least 1275 ppm, at least 1300 ppm, at least 1325 ppm, at least 1350 ppm, at least 1375 ppm, at least 1400 ppm, at least 1425 ppm, at least 1450 ppm, at least 1475 ppm, at least at least 1500 ppm, at least 1600 ppm, at least 1700 ppm, at least 1800 ppm, at least 1900 ppm or at least 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount of, for example, not more than 0.05 ppm, not more than 0.10 ppm, not more than 0.20 ppm, not more than 0.30 ppm, no more than 0.40 ppm, no more than 0.50 ppm, no more than 0.60 ppm, no more than 0.70 ppm, no more than 0.80 ppm, no more than 0.90 ppm, no more than 1 ppm, no more than 10 ppm, no more than 20 ppm, no more than 30 ppm, no more than 40 ppm, no more than 50 ppm, no more than 60 ppm, no more than 70 ppm, no more than 80 ppm, no more than 90 ppm, no more than 100 ppm, no more than 125 ppm, no more than 150 ppm, no more than 175 ppm, no more than 200 ppm, no more than 225 ppm, no more than 250 ppm, no more than 275 ppm, no more than 300 ppm, no more than 325 ppm, no more than 350 ppm, no more than 375 ppm, no more than 400 ppm, no more than 425 ppm, no more than 450 ppm, no more than 475 ppm, no more than 500 ppm, no more than 525 ppm, no more than 550 ppm, no more than 575 ppm, no more than 600 ppm, no more than 625 ppm, no more than 650 ppm, no more than 675 ppm, no more than 700 ppm, no more than 725 ppm, no more than 750 ppm, no more than 775 ppm, no more than 800 ppm, no more than 825 ppm, no more than 850 ppm, no more than 875 ppm, no more than 900 ppm, no more than 925 ppm, no more than 950 ppm, no more than 975 ppm, no more than 1000 ppm, no more than 1025 ppm, no more than 1050 ppm, no more than 1075 ppm, no more than 1100 ppm, no more than 1125 ppm, no more

1150 ppm, не более 1175 ppm, не более 1200 ppm, не более 1225 ppm, не более 1250 ppm, не более1150 ppm, no more than 1175 ppm, no more than 1200 ppm, no more than 1225 ppm, no more than 1250 ppm, no more

1275 ppm, не более 1300 ppm, не более 1325 ppm, не более 1350 ppm, не более 1375 ppm, не более1275 ppm, no more than 1300 ppm, no more than 1325 ppm, no more than 1350 ppm, no more than 1375 ppm, no more

1400 ppm, не более 1425 ppm, не более 1450 ppm, не более 1475 ppm, не более 1500 ppm, не более1400 ppm, no more than 1425 ppm, no more than 1450 ppm, no more than 1475 ppm, no more than 1500 ppm, no more

1600 ppm, не более 1700 ppm, не более 1800 ppm, не более 1900 ppm или не более 2000 ppm.1600 ppm, not more than 1700 ppm, not more than 1800 ppm, not more than 1900 ppm or not more than 2000 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, от примерно 0,5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерноIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount, for example, from about 0.5 ppm to about 20 ppm, from about 0.5 ppm to about 25 ppm, from about 0.5 ppm to about 30 ppm, from about 0.5 ppm to about 35 ppm, from about 0.5 ppm to about 40 ppm, from about 0.5 ppm to about 45 ppm, from about 0.5 ppm to about 50 ppm, from approximately 0.5 ppm to approximately

- 4 043933 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 95 ppm или от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm.- 4 043933 ppm, from about 0.5 ppm to about 60 ppm, from about 0.5 ppm to about 65 ppm, from about 0.5 ppm to about 70 ppm, from about 0.5 ppm to about 75 ppm, from about 0.5 ppm to about 80 ppm, from about 0.5 ppm to about 85 ppm, from about 0.5 ppm to about 90 ppm, from about 0.5 ppm to about 95 ppm, from about 0.5 ppm to about 100 ppm, from about 0.75 ppm to about 20 ppm, from about 0.75 ppm to about 25 ppm, from about 0.75 ppm to about 30 ppm, from about 0.75 ppm to about 35 ppm, from about 0.75 ppm to about 40 ppm, from about 0.75 ppm to about 45 ppm, from about 0.75 ppm to about 50 ppm, from about 0.75 ppm to about 55 ppm, from about 0.75 ppm to about 60 ppm, from about 0.75 ppm to about 65 ppm, from about 0.75 ppm to about 70 ppm, from about 0.75 ppm to about 75 ppm, from about 0.75 ppm to about 80 ppm, from about 0 .75 ppm to about 85 ppm, from about 0.75 ppm to about 90 ppm, from about 0.75 ppm to about 95 ppm, from about 0.75 ppm to about 100 ppm, from about 1 ppm to about 20 ppm, from about 1 ppm to about 25 ppm, from about 1 ppm to about 30 ppm, from about 1 ppm to about 35 ppm, from about 1 ppm to about 40 ppm, from about 1 ppm to about 45 ppm, from about 1 ppm to about 50 ppm, from about 1 ppm to about 55 ppm, from about 1 ppm to about 60 ppm, from about 1 ppm to about 65 ppm, from about 1 ppm to about 70 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 80 ppm, about 1 ppm to about 85 ppm, about 1 ppm to about 90 ppm, about 1 ppm to about 95 ppm, about 1 ppm to about 100 ppm, about 5 ppm to about 20 ppm, from about 5 ppm to about 25 ppm, from about 5 ppm to about 30 ppm, from about 5 ppm to about 35 ppm, from about 5 ppm to about 40 ppm, from about 5 ppm to about 45 ppm, from about 5 ppm to about 50 ppm, about 5 ppm to about 55 ppm, about 5 ppm to about 60 ppm, about 5 ppm to about 65 ppm, about 5 ppm to about 70 ppm, about 5 ppm to about 75 ppm, from about 5 ppm to about 80 ppm, from about 5 ppm to about 85 ppm, from about 5 ppm to about 90 ppm, from about 5 ppm to about 95 ppm, from about 5 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 20 ppm, from about 10 ppm to about 25 ppm, from about 10 ppm to about 30 ppm, from about 10 ppm to about 35 ppm, from about 10 ppm to about 40 ppm, from about 10 ppm to about 45 ppm , from about 10 ppm to about 50 ppm, from about 10 ppm to about 55 ppm, from about 10 ppm to about 60 ppm, from about 10 ppm to about 65 ppm, from about 10 ppm to about 70 ppm, from about 10 ppm to about 75 ppm, from about 10 ppm to about 80 ppm, from about 10 ppm to about 85 ppm, from about 10 ppm to about 90 ppm, from about 10 ppm to about 95 ppm, or from about 10 ppm to about 100 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 225 ppm, от приIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount, for example, from about 1 ppm to about 25 ppm, from about 1 ppm to about 50 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 100 ppm, about 1 ppm to about 125 ppm, about 1 ppm to about 150 ppm, about 1 ppm to about 175 ppm, about 1 ppm to about 200 ppm, about 1 ppm to about 225 ppm, from about 1 ppm to about 250 ppm, from about 1 ppm to about 275 ppm, from about 1 ppm to about 300 ppm, from about 1 ppm to about 325 ppm, from about 1 ppm to about 350 ppm, from about 1 ppm to about 375 ppm, about 1 ppm to about 400 ppm, about 10 ppm to about 25 ppm, about 10 ppm to about 50 ppm, about 10 ppm to about 75 ppm, about 10 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 125 ppm, from about 10 ppm to about 150 ppm, from about 10 ppm to about 175 ppm, from about 10 ppm to about 200 ppm, from about 10 ppm to about 225 ppm, from about 10 ppm to about 250 ppm, from about 10 ppm to about 275 ppm, from about 10 ppm to about 300 ppm, from about 10 ppm to about 325 ppm, from about 10 ppm to about 350 ppm, from about 10 ppm to about 375 ppm , from about 10 ppm to about 400 ppm, from about 25 ppm to about 50 ppm, from about 25 ppm to about 75 ppm, from about 25 ppm to about 100 ppm, from about 25 ppm to about 125 ppm, from about 25 ppm to about 150 ppm, from about 25 ppm to about 175 ppm, from about 25 ppm to about 200 ppm, from about 25 ppm to about 225 ppm, from about 25 ppm to about 250 ppm, from about 25 ppm to about 275 ppm, from about 25 ppm to about 300 ppm, from about 25 ppm to about 325 ppm, from about 25 ppm to about 350 ppm, from about 25 ppm to about 375 ppm, from about 25 ppm to about 400 ppm, from about 50 ppm to about 75 ppm, from about 50 ppm to about 100 ppm, from about 50 ppm to about 125 ppm, from about 50 ppm to about 150 ppm, from about 50 ppm to about 175 ppm, from about 50 ppm to about 200 ppm, from about 50 ppm to about 225 ppm, about 50 ppm to about 250 ppm, about 50 ppm to about 275 ppm, about 50 ppm to about 300 ppm, about 50 ppm to about 325 ppm, about 50 ppm to about 350 ppm, from about 50 ppm to about 375 ppm, from about 50 ppm to about 400 ppm, from about 75 ppm to about 100 ppm, from about 75 ppm to about 125 ppm, from about 75 ppm to about 150 ppm, from about 75 ppm to about 175 ppm, from about 75 ppm to about 200 ppm, from about 75 ppm to about 225 ppm, from at

- 5 043933 мерно 75 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 400 ppm или от примерно 375 ppm до примерно 400 ppm.- 5 043933 approximately 75 ppm to about 250 ppm, from about 75 ppm to about 275 ppm, from about 75 ppm to about 300 ppm, from about 75 ppm to about 325 ppm, from about 75 ppm to about 350 ppm, from about 75 ppm to about 375 ppm, from about 75 ppm to about 400 ppm, from about 100 ppm to about 125 ppm, from about 100 ppm to about 150 ppm, from about 100 ppm to about 175 ppm, from about 100 ppm to about 200 ppm , from about 100 ppm to about 225 ppm, from about 100 ppm to about 250 ppm, from about 100 ppm to about 275 ppm, from about 100 ppm to about 300 ppm, from about 100 ppm to about 325 ppm, from about 100 ppm to about 350 ppm, from about 100 ppm to about 375 ppm, from about 100 ppm to about 400 ppm, from about 150 ppm to about 175 ppm, from about 150 ppm to about 200 ppm, from about 150 ppm to about 225 ppm, from about 150 ppm to about 250 ppm, from about 150 ppm to about 275 ppm, from about 150 ppm to about 300 ppm, from about 150 ppm to about 325 ppm, from about 150 ppm to about 350 ppm, from about 150 ppm to about 375 ppm, from about 150 ppm to about 400 ppm, from about 200 ppm to about 225 ppm, from about 200 ppm to about 250 ppm, from about 200 ppm to about 275 ppm, from about 200 ppm to about 300 ppm, from about 200 ppm to about 325 ppm, about 200 ppm to about 350 ppm, about 200 ppm to about 375 ppm, about 200 ppm to about 400 ppm, about 250 ppm to about 275 ppm, about 250 ppm to about 300 ppm, from about 250 ppm to about 325 ppm, from about 250 ppm to about 350 ppm, from about 250 ppm to about 375 ppm, from about 250 ppm to about 400 ppm, from about 300 ppm to about 325 ppm, from about 300 ppm to about 350 ppm, about 300 ppm to about 375 ppm, about 300 ppm to about 400 ppm, about 350 ppm to about 375 ppm, about 350 ppm to about 400 ppm, or about 375 ppm to about 400 ppm

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, от примерно 400 ppm до примерно 500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1500 ppm, от примерIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount, for example, from about 400 ppm to about 500 ppm, from about 400 ppm to about 600 ppm, from about 400 ppm to about 700 ppm, from from about 400 ppm to about 800 ppm, from about 400 ppm to about 900 ppm, from about 400 ppm to about 1000 ppm, from about 400 ppm to about 1100 ppm, from about 400 ppm to about 1200 ppm, from about 400 ppm to about 1300 ppm, from about 400 ppm to about 1400 ppm, from about 400 ppm to about 1500 ppm, from about 400 ppm to about 1600 ppm, from about 400 ppm to about 1700 ppm, from about 400 ppm to about 1800 ppm, from about 400 ppm to about 1900 ppm, from about 400 ppm to about 2000 ppm, from about 500 ppm to about 600 ppm, from about 500 ppm to about 700 ppm, from about 500 ppm to about 800 ppm, from about 500 ppm to about 900 ppm, from about 500 ppm to about 1000 ppm, from about 500 ppm to about 1100 ppm, from about 500 ppm to about 1200 ppm, from about 500 ppm to about 1300 ppm, from about 500 ppm to about 1400 ppm, from about 500 ppm to about 1500 ppm, from about 500 ppm to about 1600 ppm, from about 500 ppm to about 1700 ppm, from about 500 ppm to about 1800 ppm, from about 500 ppm to about 1900 ppm, from about 500 ppm to about 2000 ppm , from about 600 ppm to about 700 ppm, from about 600 ppm to about 800 ppm, from about 600 ppm to about 900 ppm, from about 600 ppm to about 1000 ppm, from about 600 ppm to about 1100 ppm, from about 600 ppm to about 1200 ppm, from about 600 ppm to about 1300 ppm, from about 600 ppm to about 1400 ppm, from about 600 ppm to about 1500 ppm, from about 600 ppm to about 1600 ppm, from about 600 ppm to about 1700 ppm, from about 600 ppm to about 1800 ppm, from about 600 ppm to about 1900 ppm, from about 600 ppm to about 2000 ppm, from about 700 ppm to about 800 ppm, from about 700 ppm to about 900 ppm, from about 700 ppm to about 1000 ppm, from about 700 ppm to about 1100 ppm, from about 700 ppm to about 1200 ppm, from about 700 ppm to about 1300 ppm, from about 700 ppm to about 1400 ppm, from about 700 ppm to about 1500 ppm, from from about 700 ppm to about 1600 ppm, from about 700 ppm to about 1700 ppm, from about 700 ppm to about 1800 ppm, from about 700 ppm to about 1900 ppm, from about 700 ppm to about 2000 ppm, from about 800 ppm to about 900 ppm, from about 800 ppm to about 1000 ppm, from about 800 ppm to about 1100 ppm, from about 800 ppm to about 1200 ppm, from about 800 ppm to about 1300 ppm, from about 800 ppm to about 1400 ppm, from about 800 ppm to about 1500 ppm, from about 800 ppm to about 1600 ppm, from about 800 ppm to about 1700 ppm, from about 800 ppm to about 1800 ppm, from about 800 ppm to about 1900 ppm, from about 800 ppm to about 2000 ppm, from about 900 ppm to about 1000 ppm, from about 900 ppm to about 1100 ppm, from about 900 ppm to about 1200 ppm, from about 900 ppm to about 1300 ppm, from about 900 ppm to about 1400 ppm, from about 900 ppm to about 1500 ppm, from about 900 ppm to about 1600 ppm, from about 900 ppm to about 1700 ppm, from about 900 ppm to about 1800 ppm, from about 900 ppm to about 1900 ppm, from about 900 ppm to about 2000 ppm , from about 1000 ppm to about 1100 ppm, from about 1000 ppm to about 1200 ppm, from about 1000 ppm to about 1300 ppm, from about 1000 ppm to about 1400 ppm, from about 1000 ppm to about 1500 ppm, from example

- 6 043933 но 1000 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 2000 ppm или от примерно 1900 ppm до примерно 2000 ppm.- 6 043933 but 1000 ppm to about 1600 ppm, from about 1000 ppm to about 1700 ppm, from about 1000 ppm to about 1800 ppm, from about 1000 ppm to about 1900 ppm, from about 1000 ppm to about 2000 ppm, from about 1100 ppm to about 1200 ppm, from about 1100 ppm to about 1300 ppm, from about 1100 ppm to about 1400 ppm, from about 1100 ppm to about 1500 ppm, from about 1100 ppm to about 1600 ppm, from about 1100 ppm to about 1700 ppm , from about 1100 ppm to about 1800 ppm, from about 1100 ppm to about 1900 ppm, from about 1100 ppm to about 2000 ppm, from about 1200 ppm to about 1300 ppm, from about 1200 ppm to about 1400 ppm, from about 1200 ppm to about 1500 ppm, from about 1200 ppm to about 1600 ppm, from about 1200 ppm to about 1700 ppm, from about 1200 ppm to about 1800 ppm, from about 1200 ppm to about 1900 ppm, from about 1200 ppm to about 2000 ppm, from about 1300 ppm to about 1400 ppm, from about 1300 ppm to about 1500 ppm, from about 1300 ppm to about 1600 ppm, from about 1300 ppm to about 1700 ppm, from about 1300 ppm to about 1800 ppm, from about 1300 ppm to from about 1900 ppm, from about 1300 ppm to about 2000 ppm, from about 1400 ppm to about 1500 ppm, from about 1400 ppm to about 1600 ppm, from about 1400 ppm to about 1700 ppm, from about 1400 ppm to about 1800 ppm, from from about 1400 ppm to about 1900 ppm, from about 1400 ppm to about 2000 ppm, from about 1500 ppm to about 1600 ppm, from about 1500 ppm to about 1700 ppm, from about 1500 ppm to about 1800 ppm, from about 1500 ppm to about 1900 ppm, from about 1500 ppm to about 2000 ppm, from about 1600 ppm to about 1700 ppm, from about 1600 ppm to about 1800 ppm, from about 1600 ppm to about 1900 ppm, from about 1600 ppm to about 2000 ppm, from about 1700 ppm to about 1800 ppm, about 1700 ppm to about 1900 ppm, about 1700 ppm to about 2000 ppm, about 1800 ppm to about 1900 ppm, about 1800 ppm to about 2000 ppm, or about 1900 ppm to about 2000 ppm

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, примерно 0,10%, примерно 0,11%, примерно 0,12%, примерно 0,13%, примерно 0,14%, примерно 0,15%, примерно 0,16%, примерно 0,17%, примерно 0,18%, примерно 0,19%, примерно 0,2%, примерно 0,25%, примерно 0,3%, примерно 0,35%, примерно 0,4%, примерно 0,45% или примерно 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, по меньшей мере 0,10%, по меньшей мере 0,11%, по меньшей мере 0,12%, по меньшей мере 0,13%, по меньшей мере 0,14%, по меньшей мере 0,15%, по меньшей мере 0,16%, по меньшей мере 0,17%, по меньшей мере 0,18%, по меньшей мере 0,19%, по меньшей мере 0,2%, по меньшей мере 0,25%, по меньшей мере 0,3%, по меньшей мере 0,35%, по меньшей мере 0,4%, по меньшей мере 0,45% или по меньшей мере 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, не более 0,10%, не более 0,11%, не более 0,12%, не более 0,13%, не более 0,14%, не более 0,15%, не более 0,16%, не более 0,17%, не более 0,18%, не более 0,19%, не более 0,2%, не более 0,25%, не более 0,3%, не более 0,35%, не более 0,4%, не более 0,45% или не более 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту в количестве, например, от примерно 0,10% до примерно 0,15%, от примерно 0,10% до примерно 0,20%, от примерно 0,10% до примерно 0,25%, от примерно 0,10% до примерно 0,30%, от примерно 0,10% до примерно 0,35%, от примерно 0,10% до примерно 0,40%, от примерно 0,10% до примерно 0,45%, от примерно 0,10% до примерно 0,50%, от примерно 0,20% до примерно 0,25%, от примерно 0,20% до примерно 0,30%, от примерноIn aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount of, for example, about 0.10%, about 0.11%, about 0.12%, about 0.13%, about 0.14% , approximately 0.15%, approximately 0.16%, approximately 0.17%, approximately 0.18%, approximately 0.19%, approximately 0.2%, approximately 0.25%, approximately 0.3%, approximately 0.35%, about 0.4%, about 0.45%, or about 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount of, for example, at least 0.10%, at least 0.11%, at least 0.12%, at least 0 .13%, at least 0.14%, at least 0.15%, at least 0.16%, at least 0.17%, at least 0.18%, at least 0.19 %, at least 0.2%, at least 0.25%, at least 0.3%, at least 0.35%, at least 0.4%, at least 0.45% or at least 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount of, for example, not more than 0.10%, not more than 0.11%, not more than 0.12%, not more than 0.13%, not more than 0.14%, not more than 0.15%, not more than 0.16%, not more than 0.17%, not more than 0.18%, not more than 0.19%, not more than 0.2%, not more than 0.25%, no more than 0.3%, no more than 0.35%, no more than 0.4%, no more than 0.45% or no more than 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid in an amount, for example, from about 0.10% to about 0.15%, from about 0.10% to about 0.20%, from about 0.10% to about 0.25%, from about 0.10% to about 0.30%, from about 0.10% to about 0.35%, from about 0.10% to about 0.40%, from about 0.10% to about 0.45%, from about 0.10% to about 0.50%, from about 0.20% to about 0.25%, from about 0.20% to about 0.30 %, from approximately

0,20% до примерно 0,35%, от примерно 0,20% до примерно 0,40%, от примерно 0,20% до примерно0.20% to about 0.35%, from about 0.20% to about 0.40%, from about 0.20% to about

0,45%, от примерно 0,20% до примерно 0,50%, от примерно 0,30% до примерно 0,35%, от примерно0.45%, from about 0.20% to about 0.50%, from about 0.30% to about 0.35%, from about

0,30% до примерно 0,40%, от примерно 0,30% до примерно 0,45%, от примерно 0,30% до примерно0.30% to about 0.40%, from about 0.30% to about 0.45%, from about 0.30% to about

0,50%, от примерно 0,40% до примерно 0,45% или от примерно 0,40% до примерно 0,50% от массы композиции.0.50%, from about 0.40% to about 0.45%, or from about 0.40% to about 0.50% by weight of the composition.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит хлорноватистую кислоту.In one embodiment, the composition described in the present invention does not contain hypochlorous acid.

Концентрация хлорноватистой кислоты в растворе может быть описана как содержание свободного активного хлора в миллионных долях. Хлорноватистая кислота находится в равновесии с ионами гипохлорита (OCl-) и растворенным газообразным хлором (Cl2). Степень равновесия определяется преимущественно концентрацией соли и значением pH раствора. Температура также влияет на отношение компонента свободного хлора. Таким образом, необходимо знать значения FAC и pH для понимания количества хлора, присутствующего в виде хлорноватистой кислоты. В целом, при pH в диапазоне от примерно 4,0 до примерно 5,6 примерно 100% доступного хлора присутствует в виде HOCl. При снижении pH ниже примерно 4 увеличивается содержание растворенного газообразного хлора (Cl2). Таким образом, при pH примерно 3 примерно 90% доступного хлора присутствует в виде хлорноватистой кислоты, при pH примерно 2 примерно 75% доступного хлора присутствует в виде хлорноватистой кислоты, при pH примерно 1,5 примерно 50% доступного хлора присутствует в виде хлорноватистой кислоты, тогда как приThe concentration of hypochlorous acid in a solution can be described as the free active chlorine content in parts per million. Hypochlorous acid is in equilibrium with hypochlorite ions (OCl - ) and dissolved chlorine gas (Cl 2 ). The degree of equilibrium is determined primarily by the salt concentration and the pH value of the solution. Temperature also affects the free chlorine component ratio. Therefore, it is necessary to know the FAC and pH values to understand the amount of chlorine present as hypochlorous acid. In general, at a pH in the range of about 4.0 to about 5.6, about 100% of the available chlorine is present as HOCl. As pH decreases below about 4, dissolved chlorine gas (Cl2) increases. Thus, at a pH of about 3, about 90% of the available chlorine is present as hypochlorous acid, at a pH of about 2, about 75% of the available chlorine is present as hypochlorous acid, at a pH of about 1.5, about 50% of the available chlorine is present as hypochlorous acid, whereas with

- 7 043933 pH примерно 1 примерно 25% доступного хлора присутствует в виде хлорноватистой кислоты. При возрастании pH выше примерно 5,6 увеличивается содержание ионов гипохлорита (OCl-). Таким образом, при pH примерно 6,5 примерно 90% доступного хлора присутствует в виде хлорноватистой кислоты, при pH примерно 7 примерно 75% доступного хлора присутствует в виде хлорноватистой кислоты, при pH примерно 7,5 примерно 50% доступного хлора присутствует в виде хлорноватистой кислоты, тогда как при pH примерно 8 примерно 25% доступного хлора присутствует в виде хлорноватистой кислоты.- 7 043933 pH approximately 1 approximately 25% of the available chlorine is present in the form of hypochlorous acid. As the pH increases above about 5.6, the content of hypochlorite ions (OCl - ) increases. Thus, at a pH of about 6.5, about 90% of the available chlorine is present as hypochlorous acid, at a pH of about 7, about 75% of the available chlorine is present as hypochlorous acid, at a pH of about 7.5, about 50% of the available chlorine is present as hypochlorous acid. acid, whereas at a pH of about 8, about 25% of the available chlorine is present as hypochlorous acid.

Количество хлора можно измерять при помощи способов, известных в данной области техники, таких как колориметрический способ с применением DPD (Lamotte Company, Chestertown, Md.), УФспектрофотометрия или другие известные способы, установленные агентством по охране окружающей среды. В колориметрическом способе с применением DPD желтая окраска образуется в результате взаимодействия свободного хлора с N,N-диэтил-n-фенилендиамином (DPD), и интенсивность измеряют при помощи калиброванного колориметра, который обеспечивает получение результата в виде миллионных долей. Дальнейшее добавление йодида калия окрашивает раствор в розовый цвет, что обеспечивает определение общего содержания хлора.The amount of chlorine can be measured using methods known in the art, such as the DPD colorimetric method (Lamotte Company, Chestertown, Md.), UV spectrophotometry, or other known methods established by the Environmental Protection Agency. In the DPD colorimetric method, the yellow color is produced by the reaction of free chlorine with N,N-diethyl-n-phenylenediamine (DPD) and the intensity is measured using a calibrated colorimeter that provides the result in parts per million. Further addition of potassium iodide turns the solution pink, which allows determination of the total chlorine content.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, которое придает желаемый полезный эффект композиции, описанной в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, 0,05 ppm, 0,10 ppm, 0,15 ppm, 0,20 ppm, 0,25 ppm, 0,30 ppm, 0,35 ppm, 0,40 ppm, 0,45 ppm, 0,50 ppm, 0,55 ppm, 0,60 ppm, 0,65 ppm, 0,70 ppm, 0,75 ppm, 0,80 ppm, 0,85 ppm, 0,90 ppm, 0,95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm, 20 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm, 275 ppm, 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450 ppm, 475 ppm, 500 ppm, 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm, 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 1125 ppm, 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm, 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1475 ppm, 1500 ppm, 1600 ppm, 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm или 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, по меньшей мере 0,05 ppm, по меньшей мере 0,10 ppm, по меньшей мере 0,20 ppm, по меньшей мере 0,30 ppm, по меньшей мере 0,40 ppm, по меньшей мере 0,50 ppm, по меньшей мере 0,60 ppm, по меньшей мере 0,70 ppm, по меньшей мере 0,80 ppm, по меньшей мере 0,90 ppm, по меньшей мере 1 ppm, по меньшей мере 10 ppm, по меньшей мере 20 ppm, по меньшей мере 30 ppm, по меньшей мере 40 ppm, по меньшей мере 50 ppm, по меньшей мере 60 ppm, по меньшей мере 70 ppm, по меньшей мере 80 ppm, по меньшей мере 90 ppm, по меньшей мере 100 ppm, по меньшей мере 125 ppm, по меньшей мере 150 ppm, по меньшей мере 175 ppm, по меньшей мере 200 ppm, по меньшей мере 225 ppm, по меньшей мере 250 ppm, по меньшей мере 275 ppm, по меньшей мере 300 ppm, по меньшей мере 325 ppm, по меньшей мере 350 ppm, по меньшей мере 375 ppm, по меньшей мере 400 ppm, по меньшей мере 425 ppm, по меньшей мере 450 ppm, по меньшей мере 475 ppm, по меньшей мере 500 ppm, по меньшей мере 525 ppm, по меньшей мере 550 ppm, по меньшей мере 575 ppm, по меньшей мере 600 ppm, по меньшей мере 625 ppm, по меньшей мере 650 ppm, по меньшей мере 675 ppm, по меньшей мере 700 ppm, по меньшей мере 725 ppm, по меньшей мере 750 ppm, по меньшей мере 775 ppm, по меньшей мере 800 ppm, по меньшей мере 825 ppm, по меньшей мере 850 ppm, по меньшей мере 875 ppm, по меньшей мере 900 ppm, по меньшей мере 925 ppm, по меньшей мере 950 ppm, по меньшей мере 975 ppm, по меньшей мере 1000 ppm, по меньшей мере 1025 ppm, по меньшей мере 1050 ppm, по меньшей мере 1075 ppm, по меньшей мере 1100 ppm, по меньшей мере 1125 ppm, по меньшей мере 1150 ppm, по меньшей мере 1175 ppm, по меньшей мере 1200 ppm, по меньшей мере 1225 ppm, по меньшей мере 1250 ppm, по меньшей мере 1275 ppm, по меньшей мере 1300 ppm, по меньшей мере 1325 ppm, по меньшей мере 1350 ppm, по меньшей мере 1375 ppm, по меньшей мере 1400 ppm, по меньшей мере 1425 ppm, по меньшей мере 1450 ppm, по меньшей мере 1475 ppm, по меньшей мере 1500 ppm, по меньшей мере 1600 ppm, по меньшей мере 1700 ppm, по меньшей мере 1800 ppm, по меньшей мере 1900 ppm или по меньшей мере 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, не более 0,05 ppm, не более 0,10 ppm, не более 0,20 ppm, не более 0,30 ppm, не более 0,40 ppm, не более 0,50 ppm, не более 0,60 ppm, не более 0,70 ppm, не более 0,80 ppm, не более 0,90 ppm, не более 1 ppm, не более 10 ppm, не более 20 ppm, не более 30 ppm, не более 40 ppm, не более 50 ppm, не более 60 ppm, не более 70 ppm, не более 80 ppm, не более 90 ppm, не более 100 ppm, не более 125 ppm, не более 150 ppm, не более 175 ppm, не более 200 ppm, не более 225 ppm, не более 250 ppm, не более 275 ppm, не более 300 ppm, не более 325 ppm, не более 350 ppm, не более 375 ppm, не более 400 ppm, не более 425 ppm, не более 450 ppm, не более 475 ppm, не более 500 ppm, не более 525 ppm, не более 550 ppm, не более 575 ppm, не более 600 ppm, не более 625 ppm, не более 650 ppm, не более 675 ppm, не более 700 ppm, не более 725 ppm, не более 750 ppm, не более 775 ppm, не более 800 ppm, не более 825 ppm, не более 850 ppm, не болееIn one embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount that imparts the desired beneficial effect of the composition described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount of, for example, 0.05 ppm, 0.10 ppm, 0.15 ppm, 0.20 ppm, 0.25 ppm, 0.30 ppm, 0.35 ppm, 0.40 ppm, 0.45 ppm, 0.50 ppm, 0.55 ppm, 0.60 ppm, 0.65 ppm, 0.70 ppm, 0.75 ppm, 0.80 ppm, 0.85 ppm, 0.90 ppm, 0.95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm, 20 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm, 275 ppm , 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450 ppm, 475 ppm, 500 ppm, 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm, 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 1125 ppm, 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm, 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1475 ppm, 1 500 ppm, 1600 ppm , 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm or 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount of, for example, at least 0.05 ppm, at least 0.10 ppm, at least 0.20 ppm, at least 0.30 ppm, at least 0.40 ppm, at least 0.50 ppm, at least 0.60 ppm, at least 0.70 ppm, at least 0.80 ppm, at least 0, 90 ppm, at least 1 ppm, at least 10 ppm, at least 20 ppm, at least 30 ppm, at least 40 ppm, at least 50 ppm, at least 60 ppm, at least 70 ppm , at least 80 ppm, at least 90 ppm, at least 100 ppm, at least 125 ppm, at least 150 ppm, at least 175 ppm, at least 200 ppm, at least 225 ppm, according to at least 250 ppm, at least 275 ppm, at least 300 ppm, at least 325 ppm, at least 350 ppm, at least 375 ppm, at least 400 ppm, at least 425 ppm, at least 450 ppm, at least 475 ppm, at least 500 ppm, at least 525 ppm, at least 550 ppm, at least 575 ppm, at least 600 ppm, at least 625 ppm, at least 650 ppm , at least 675 ppm, at least 700 ppm, at least 725 ppm, at least 750 ppm, at least 775 ppm, at least 800 ppm, at least 825 ppm, at least 850 ppm, according at least 875 ppm, at least 900 ppm, at least 925 ppm, at least 950 ppm, at least 975 ppm, at least 1000 ppm, at least 1025 ppm, at least 1050 ppm, at least 1075 ppm, at least 1100 ppm, at least 1125 ppm, at least 1150 ppm, at least 1175 ppm, at least 1200 ppm, at least 1225 ppm, at least 1250 ppm, at least 1275 ppm , at least 1300 ppm, at least 1325 ppm, at least 1350 ppm, at least 1375 ppm, at least 1400 ppm, at least 1425 ppm, at least 1450 ppm, at least 1475 ppm, according at least 1500 ppm, at least 1600 ppm, at least 1700 ppm, at least 1800 ppm, at least 1900 ppm or at least 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount of, for example, no more than 0.05 ppm, no more than 0.10 ppm, no more than 0.20 ppm, no more than 0.30 ppm , no more than 0.40 ppm, no more than 0.50 ppm, no more than 0.60 ppm, no more than 0.70 ppm, no more than 0.80 ppm, no more than 0.90 ppm, no more than 1 ppm, no more 10 ppm, no more than 20 ppm, no more than 30 ppm, no more than 40 ppm, no more than 50 ppm, no more than 60 ppm, no more than 70 ppm, no more than 80 ppm, no more than 90 ppm, no more than 100 ppm, no more 125 ppm, no more than 150 ppm, no more than 175 ppm, no more than 200 ppm, no more than 225 ppm, no more than 250 ppm, no more than 275 ppm, no more than 300 ppm, no more than 325 ppm, no more than 350 ppm, no more 375 ppm, no more than 400 ppm, no more than 425 ppm, no more than 450 ppm, no more than 475 ppm, no more than 500 ppm, no more than 525 ppm, no more than 550 ppm, no more than 575 ppm, no more than 600 ppm, no more 625 ppm, no more than 650 ppm, no more than 675 ppm, no more than 700 ppm, no more than 725 ppm, no more than 750 ppm, no more than 775 ppm, no more than 800 ppm, no more than 825 ppm, no more than 850 ppm, no more

- 8 043933- 8 043933

875 ppm, не более 900 ppm, не более 925 ppm, не более 950 ppm, не более 975 ppm, не более 1000 ppm, не более 1025 ppm, не более 1050 ppm, не более 1075 ppm, не более 1100 ppm, не более 1125 ppm, не более 1150 ppm, не более 1175 ppm, не более 1200 ppm, не более 1225 ppm, не более 1250 ppm, не более 1275 ppm, не более 1300 ppm, не более 1325 ppm, не более 1350 ppm, не более 1375 ppm, не более 1400 ppm, не более 1425 ppm, не более 1450 ppm, не более 1475 ppm, не более 1500 ppm, не более875 ppm, no more than 900 ppm, no more than 925 ppm, no more than 950 ppm, no more than 975 ppm, no more than 1000 ppm, no more than 1025 ppm, no more than 1050 ppm, no more than 1075 ppm, no more than 1100 ppm, no more 1125 ppm, no more than 1150 ppm, no more than 1175 ppm, no more than 1200 ppm, no more than 1225 ppm, no more than 1250 ppm, no more than 1275 ppm, no more than 1300 ppm, no more than 1325 ppm, no more than 1350 ppm, no more 1375 ppm, no more than 1400 ppm, no more than 1425 ppm, no more than 1450 ppm, no more than 1475 ppm, no more than 1500 ppm, no more

1600 ppm, не более 1700 ppm, не более 1800 ppm, не более 1900 ppm или не более 2000 ppm.1600 ppm, not more than 1700 ppm, not more than 1800 ppm, not more than 1900 ppm or not more than 2000 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, от примерно 0,5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 95 ppm или от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm.In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount, for example, from about 0.5 ppm to about 20 ppm, from about 0.5 ppm to about 25 ppm, from about 0.5 ppm to about 30 ppm, from about 0.5 ppm to about 35 ppm, from about 0.5 ppm to about 40 ppm, from about 0.5 ppm to about 45 ppm, from about 0.5 ppm to about 50 ppm, from about 0.5 ppm to about 55 ppm, from about 0.5 ppm to about 60 ppm, from about 0.5 ppm to about 65 ppm, from about 0.5 ppm to about 70 ppm, from about 0.5 ppm to about 75 ppm, from about 0.5 ppm to about 80 ppm, from about 0.5 ppm to about 85 ppm, from about 0.5 ppm to about 90 ppm, from about 0.5 ppm to about 95 ppm, from about 0.5 ppm to about 100 ppm, about 0.75 ppm to about 20 ppm, about 0.75 ppm to about 25 ppm, about 0.75 ppm to about 30 ppm, about 0.75 ppm to about 35 ppm, from about 0.75 ppm to about 40 ppm, from about 0.75 ppm to about 45 ppm, from about 0.75 ppm to about 50 ppm, from about 0.75 ppm to about 55 ppm, from about 0.75 ppm to about 60 ppm, from about 0.75 ppm to about 65 ppm, from about 0.75 ppm to about 70 ppm, from about 0.75 ppm to about 75 ppm, from about 0.75 ppm to about 80 ppm, from about 0.75 ppm to about 85 ppm, from about 0.75 ppm to about 90 ppm, from about 0.75 ppm to about 95 ppm, from about 0.75 ppm to about 100 ppm, from about 1 ppm to about 20 ppm, from about 1 ppm to about 25 ppm, from about 1 ppm to about 30 ppm, from about 1 ppm to about 35 ppm, from about 1 ppm to about 40 ppm, from about 1 ppm to about 45 ppm , from about 1 ppm to about 50 ppm, from about 1 ppm to about 55 ppm, from about 1 ppm to about 60 ppm, from about 1 ppm to about 65 ppm, from about 1 ppm to about 70 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 80 ppm, from about 1 ppm to about 85 ppm, from about 1 ppm to about 90 ppm, from about 1 ppm to about 95 ppm, from about 1 ppm to about 100 ppm, from about 5 ppm to about 20 ppm, from about 5 ppm to about 25 ppm, from about 5 ppm to about 30 ppm, from about 5 ppm to about 35 ppm, from about 5 ppm to about 40 ppm, from about 5 ppm to about 45 ppm, from about 5 ppm to about 50 ppm, from about 5 ppm to about 55 ppm, from about 5 ppm to about 60 ppm, from about 5 ppm to about 65 ppm, from about 5 ppm to about 70 ppm, from about 5 ppm to about 75 ppm, about 5 ppm to about 80 ppm, about 5 ppm to about 85 ppm, about 5 ppm to about 90 ppm, about 5 ppm to about 95 ppm, about 5 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 20 ppm, from about 10 ppm to about 25 ppm, from about 10 ppm to about 30 ppm, from about 10 ppm to about 35 ppm, from about 10 ppm to about 40 ppm, from about 10 ppm to about 45 ppm, from about 10 ppm to about 50 ppm, from about 10 ppm to about 55 ppm, from about 10 ppm to about 60 ppm, from about 10 ppm to about 65 ppm, from about 10 ppm to about 70 ppm, from about 10 ppm to about 75 ppm, from about 10 ppm to about 80 ppm, from about 10 ppm to about 85 ppm, from about 10 ppm to about 90 ppm, from about 10 ppm to about 95 ppm, or from about 10 ppm to about 100 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 25 ppm доIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount, for example, from about 1 ppm to about 25 ppm, from about 1 ppm to about 50 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 100 ppm, from about 1 ppm to about 125 ppm, from about 1 ppm to about 150 ppm, from about 1 ppm to about 175 ppm, from about 1 ppm to about 200 ppm, from about 1 ppm to about 225 ppm, from about 1 ppm to about 250 ppm, from about 1 ppm to about 275 ppm, from about 1 ppm to about 300 ppm, from about 1 ppm to about 325 ppm, from about 1 ppm to about 350 ppm, from about 1 ppm to about 375 ppm, about 1 ppm to about 400 ppm, about 10 ppm to about 25 ppm, about 10 ppm to about 50 ppm, about 10 ppm to about 75 ppm, about 10 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 125 ppm, from about 10 ppm to about 150 ppm, from about 10 ppm to about 175 ppm, from about 10 ppm to about 200 ppm, from about 10 ppm to about 225 ppm, from about 10 ppm to about 250 ppm, from about 10 ppm to about 275 ppm, from about 10 ppm to about 300 ppm, from about 10 ppm to about 325 ppm, from about 10 ppm to about 350 ppm, from about 10 ppm to about 375 ppm, from about 10 ppm to about 400 ppm, from about 25 ppm to about 50 ppm, from about 25 ppm to about 75 ppm, from about 25 ppm to about 100 ppm, from about 25 ppm to about 125 ppm, from about 25 ppm to about 150 ppm, from about 25 ppm to about 175 ppm, from about 25 ppm to about 200 ppm, from about 25 ppm to about 225 ppm, from about 25 ppm to about 250 ppm, from about 25 ppm to

- 9 043933 примерно 275 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 400 ppm или от примерно 375 ppm до примерно 400 ppm.- 9 043933 about 275 ppm, from about 25 ppm to about 300 ppm, from about 25 ppm to about 325 ppm, from about 25 ppm to about 350 ppm, from about 25 ppm to about 375 ppm, from about 25 ppm to about 400 ppm, from about 50 ppm to about 75 ppm, from about 50 ppm to about 100 ppm, from about 50 ppm to about 125 ppm, from about 50 ppm to about 150 ppm, from about 50 ppm to about 175 ppm, from about 50 ppm to about 200 ppm, from about 50 ppm to about 225 ppm, from about 50 ppm to about 250 ppm, from about 50 ppm to about 275 ppm, from about 50 ppm to about 300 ppm, from about 50 ppm to about 325 ppm , from about 50 ppm to about 350 ppm, from about 50 ppm to about 375 ppm, from about 50 ppm to about 400 ppm, from about 75 ppm to about 100 ppm, from about 75 ppm to about 125 ppm, from about 75 ppm to about 150 ppm, from about 75 ppm to about 175 ppm, from about 75 ppm to about 200 ppm, from about 75 ppm to about 225 ppm, from about 75 ppm to about 250 ppm, from about 75 ppm to about 275 ppm, from about 75 ppm to about 300 ppm, from about 75 ppm to about 325 ppm, from about 75 ppm to about 350 ppm, from about 75 ppm to about 375 ppm, from about 75 ppm to about 400 ppm, from about 100 ppm to about 125 ppm, from about 100 ppm to about 150 ppm, from about 100 ppm to about 175 ppm, from about 100 ppm to about 200 ppm, from about 100 ppm to about 225 ppm, from about 100 ppm to about 250 ppm, from from about 100 ppm to about 275 ppm, from about 100 ppm to about 300 ppm, from about 100 ppm to about 325 ppm, from about 100 ppm to about 350 ppm, from about 100 ppm to about 375 ppm, from about 100 ppm to about 400 ppm, from about 150 ppm to about 175 ppm, from about 150 ppm to about 200 ppm, from about 150 ppm to about 225 ppm, from about 150 ppm to about 250 ppm, from about 150 ppm to about 275 ppm, from about 150 ppm to about 300 ppm, from about 150 ppm to about 325 ppm, from about 150 ppm to about 350 ppm, from about 150 ppm to about 375 ppm, from about 150 ppm to about 400 ppm, from about 200 ppm to about 225 ppm, from about 200 ppm to about 250 ppm, from about 200 ppm to about 275 ppm, from about 200 ppm to about 300 ppm, from about 200 ppm to about 325 ppm, from about 200 ppm to about 350 ppm, from about 200 ppm to about 375 ppm, from about 200 ppm to about 400 ppm, from about 250 ppm to about 275 ppm, from about 250 ppm to about 300 ppm, from about 250 ppm to about 325 ppm, from about 250 ppm to about 350 ppm , from about 250 ppm to about 375 ppm, from about 250 ppm to about 400 ppm, from about 300 ppm to about 325 ppm, from about 300 ppm to about 350 ppm, from about 300 ppm to about 375 ppm, from about 300 ppm to about 400 ppm, from about 350 ppm to about 375 ppm, from about 350 ppm to about 400 ppm, or from about 375 ppm to about 400 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, от примерно 400 ppm до примерно 500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 800 ppm доIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount, for example, from about 400 ppm to about 500 ppm, from about 400 ppm to about 600 ppm, from about 400 ppm to about 700 ppm, from about 400 ppm to about 800 ppm, from about 400 ppm to about 900 ppm, from about 400 ppm to about 1000 ppm, from about 400 ppm to about 1100 ppm, from about 400 ppm to about 1200 ppm, from about 400 ppm to from about 1300 ppm, from about 400 ppm to about 1400 ppm, from about 400 ppm to about 1500 ppm, from about 400 ppm to about 1600 ppm, from about 400 ppm to about 1700 ppm, from about 400 ppm to about 1800 ppm, from from about 400 ppm to about 1900 ppm, from about 400 ppm to about 2000 ppm, from about 500 ppm to about 600 ppm, from about 500 ppm to about 700 ppm, from about 500 ppm to about 800 ppm, from about 500 ppm to about 900 ppm, from about 500 ppm to about 1000 ppm, from about 500 ppm to about 1100 ppm, from about 500 ppm to about 1200 ppm, from about 500 ppm to about 1300 ppm, from about 500 ppm to about 1400 ppm, from about 500 ppm to about 1500 ppm, from about 500 ppm to about 1600 ppm, from about 500 ppm to about 1700 ppm, from about 500 ppm to about 1800 ppm, from about 500 ppm to about 1900 ppm, from about 500 ppm to about 2000 ppm, from about 600 ppm to about 700 ppm, from about 600 ppm to about 800 ppm, from about 600 ppm to about 900 ppm, from about 600 ppm to about 1000 ppm, from about 600 ppm to about 1100 ppm, from about 600 ppm to about 1200 ppm, from about 600 ppm to about 1300 ppm, from about 600 ppm to about 1400 ppm, from about 600 ppm to about 1500 ppm, from about 600 ppm to about 1600 ppm, from about 600 ppm to about 1700 ppm , from about 600 ppm to about 1800 ppm, from about 600 ppm to about 1900 ppm, from about 600 ppm to about 2000 ppm, from about 700 ppm to about 800 ppm, from about 700 ppm to about 900 ppm, from about 700 ppm to about 1000 ppm, from about 700 ppm to about 1100 ppm, from about 700 ppm to about 1200 ppm, from about 700 ppm to about 1300 ppm, from about 700 ppm to about 1400 ppm, from about 700 ppm to about 1500 ppm, from about 700 ppm to about 1600 ppm, from about 700 ppm to about 1700 ppm, from about 700 ppm to about 1800 ppm, from about 700 ppm to about 1900 ppm, from about 700 ppm to about 2000 ppm, from about 800 ppm to about 900 ppm, about 800 ppm to about 1000 ppm, about 800 ppm to about 1100 ppm, about 800 ppm to

- 10 043933 примерно 1200 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 2000 ppm или от примерно 1900 ppm до примерно 2000 ppm.- 10 043933 about 1200 ppm, from about 800 ppm to about 1300 ppm, from about 800 ppm to about 1400 ppm, from about 800 ppm to about 1500 ppm, from about 800 ppm to about 1600 ppm, from about 800 ppm to about 1700 ppm, from about 800 ppm to about 1800 ppm, from about 800 ppm to about 1900 ppm, from about 800 ppm to about 2000 ppm, from about 900 ppm to about 1000 ppm, from about 900 ppm to about 1100 ppm, from about 900 ppm to about 1200 ppm, from about 900 ppm to about 1300 ppm, from about 900 ppm to about 1400 ppm, from about 900 ppm to about 1500 ppm, from about 900 ppm to about 1600 ppm, from about 900 ppm to about 1700 ppm , from about 900 ppm to about 1800 ppm, from about 900 ppm to about 1900 ppm, from about 900 ppm to about 2000 ppm, from about 1000 ppm to about 1100 ppm, from about 1000 ppm to about 1200 ppm, from about 1000 ppm to about 1300 ppm, from about 1000 ppm to about 1400 ppm, from about 1000 ppm to about 1500 ppm, from about 1000 ppm to about 1600 ppm, from about 1000 ppm to about 1700 ppm, from about 1000 ppm to about 1800 ppm, from about 1000 ppm to about 1900 ppm, from about 1000 ppm to about 2000 ppm, from about 1100 ppm to about 1200 ppm, from about 1100 ppm to about 1300 ppm, from about 1100 ppm to about 1400 ppm, from about 1100 ppm to from about 1500 ppm, from about 1100 ppm to about 1600 ppm, from about 1100 ppm to about 1700 ppm, from about 1100 ppm to about 1800 ppm, from about 1100 ppm to about 1900 ppm, from about 1100 ppm to about 2000 ppm, from from about 1200 ppm to about 1300 ppm, from about 1200 ppm to about 1400 ppm, from about 1200 ppm to about 1500 ppm, from about 1200 ppm to about 1600 ppm, from about 1200 ppm to about 1700 ppm, from about 1200 ppm to about 1800 ppm, from about 1200 ppm to about 1900 ppm, from about 1200 ppm to about 2000 ppm, from about 1300 ppm to about 1400 ppm, from about 1300 ppm to about 1500 ppm, from about 1300 ppm to about 1600 ppm, from about 1300 ppm to about 1700 ppm, from about 1300 ppm to about 1800 ppm, from about 1300 ppm to about 1900 ppm, from about 1300 ppm to about 2000 ppm, from about 1400 ppm to about 1500 ppm, from about 1400 ppm to about 1600 ppm, from about 1400 ppm to about 1700 ppm, from about 1400 ppm to about 1800 ppm, from about 1400 ppm to about 1900 ppm, from about 1400 ppm to about 2000 ppm, from about 1500 ppm to about 1600 ppm, from about 1500 ppm to about 1700 ppm, from about 1500 ppm to about 1800 ppm, from about 1500 ppm to about 1900 ppm, from about 1500 ppm to about 2000 ppm, from about 1600 ppm to about 1700 ppm, from about 1600 ppm to about 1800 ppm , from about 1600 ppm to about 1900 ppm, from about 1600 ppm to about 2000 ppm, from about 1700 ppm to about 1800 ppm, from about 1700 ppm to about 1900 ppm, from about 1700 ppm to about 2000 ppm, from about 1800 ppm to about 1900 ppm, from about 1800 ppm to about 2000 ppm, or from about 1900 ppm to about 2000 ppm.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, примерно 0,10%, примерно 0,11%, примерно 0,12%, примерно 0,13%, примерно 0,14%, примерно 0,15%, примерно 0,16%, примерно 0,17%, примерно 0,18%, примерно 0,19%, примерно 0,2%, примерно 0,25%, примерно 0,3%, примерно 0,35%, примерно 0,4%, примерно 0,45% или примерно 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, по меньшей мере 0,10%, по меньшей мере 0,11%, по меньшей мере 0,12%, по меньшей мере 0,13%, по меньшей мере 0,14%, по меньшей мере 0,15%, по меньшей мере 0,16%, по меньшей мере 0,17%, по меньшей мере 0,18%, по меньшей мере 0,19%, по меньшей мере 0,2%, по меньшей мере 0,25%, по меньшей мере 0,3%, по меньшей мере 0,35%, по меньшей мере 0,4%, по меньшей мере 0,45% или по меньшей мере 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, не более 0,10%, не более 0,11%, не более 0,12%, не более 0,13%, не более 0,14%, не более 0,15%, не более 0,16%, не более 0,17%, не более 0,18%, не более 0,19%, не более 0,2%, не более 0,25%, не более 0,3%, не более 0,35%, не более 0,4%, не более 0,45% или не более 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит свободный активный хлор в количестве, например, от примерно 0,10% до примерно 0,15%, от примерно 0,10% до примерно 0,20%, от примерно 0,10% до примерно 0,25%, от примерно 0,10% до примерно 0,30%, от примерно 0,10% до примерно 0,35%, от примерно 0,10% до примерно 0,40%, от примерно 0,10% до примерно 0,45%, от примерно 0,10% до примерно 0,50%, от примерно 0,20% до примерно 0,25%, от примерно 0,20% до примерно 0,30%, от примерноIn aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount of, for example, about 0.10%, about 0.11%, about 0.12%, about 0.13%, about 0.14 %, approximately 0.15%, approximately 0.16%, approximately 0.17%, approximately 0.18%, approximately 0.19%, approximately 0.2%, approximately 0.25%, approximately 0.3%, about 0.35%, about 0.4%, about 0.45%, or about 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount of, for example, at least 0.10%, at least 0.11%, at least 0.12%, at least 0.13%, at least 0.14%, at least 0.15%, at least 0.16%, at least 0.17%, at least 0.18%, at least 0, 19%, at least 0.2%, at least 0.25%, at least 0.3%, at least 0.35%, at least 0.4%, at least 0.45% or at least 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount of, for example, no more than 0.10%, no more than 0.11%, no more than 0.12%, no more than 0.13% , no more than 0.14%, no more than 0.15%, no more than 0.16%, no more than 0.17%, no more than 0.18%, no more than 0.19%, no more than 0.2%, no more than 0.25%, no more than 0.3%, no more than 0.35%, no more than 0.4%, no more than 0.45% or no more than 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains free active chlorine in an amount, for example, from about 0.10% to about 0.15%, from about 0.10% to about 0.20%, from about 0.10% to about 0.25%, about 0.10% to about 0.30%, about 0.10% to about 0.35%, about 0.10% to about 0.40% , from about 0.10% to about 0.45%, from about 0.10% to about 0.50%, from about 0.20% to about 0.25%, from about 0.20% to about 0, 30%, from approx.

0,20% до примерно 0,35%, от примерно 0,20% до примерно 0,40%, от примерно 0,20% до примерно0.20% to about 0.35%, from about 0.20% to about 0.40%, from about 0.20% to about

0,45%, от примерно 0,20% до примерно 0,50%, от примерно 0,30% до примерно 0,35%, от примерно0.45%, from about 0.20% to about 0.50%, from about 0.30% to about 0.35%, from about

0,30% до примерно 0,40%, от примерно 0,30% до примерно 0,45%, от примерно 0,30% до примерно0.30% to about 0.40%, from about 0.30% to about 0.45%, from about 0.30% to about

0,50%, от примерно 0,40% до примерно 0,45% или от примерно 0,40% до примерно 0,50% от массы композиции.0.50%, from about 0.40% to about 0.45%, or from about 0.40% to about 0.50% by weight of the composition.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит свободный активный хлор.In one embodiment, the composition described in the present invention does not contain free active chlorine.

- 11 043933- 11 043933

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит озон.In one embodiment, the composition described in the present invention does not contain ozone.

В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, может содержать озон.In another embodiment, the composition described in the present invention may contain ozone.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит пероксид водорода. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, может содержать пероксид водорода.In one embodiment, the composition described in the present invention does not contain hydrogen peroxide. In another embodiment, the composition described in the present invention may contain hydrogen peroxide.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, может содержать четвертичное соединение. Неограничивающие примеры четвертичных соединений включают диалкильное четвертичное соединение и жирное четвертичное соединение на основе простого полиэфира. Примеры диалкильных четвертичных соединений включают, без ограничений, дидодецилдиметиламмония хлорид и ди-налкилдиметиламмония хлорид. Четвертичное соединение включает кремнийорганическое четвертичное соединение. Неограничивающие примеры кремнийорганических четвертичных соединений включают кремнийорганическое диалкильное четвертичное соединение и кремнийорганическое жирное четвертичное соединение на основе простого полиэфира. Примеры кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений включают, без ограничений, диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид (DTSACl) и тетрадецилдиметил-(3-триметоксисилил)пропиламмония хлорид (TTSACl). Примеры других четвертичных соединений включают, без ограничений, соль четвертичного аммония, такую как, например, Quaternium-15 и Quatemium-18, и поликатионный полимер, такой как, например, цетилпиридиния хлорид, и поликватерний, такой как Polyquaterniums 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46 и 47. Другие неограничивающие примеры четвертичных соединений включают соединения формулы NR4+, где R представляет собой алкильную или арильную группу.The composition described in the present invention may contain a quaternary compound. Non-limiting examples of quaternary compounds include a dialkyl quaternary and a fatty polyether quaternary. Examples of dialkyl quaternary compounds include, but are not limited to, didodecyldimethylammonium chloride and dialkyldimethylammonium chloride. The quaternary compound includes an organosilicon quaternary compound. Non-limiting examples of silicone quaternaries include silicone dialkyl quaternary and organosilicon fatty polyether quaternary. Examples of organosilicon dialkyl quaternary compounds include, but are not limited to, dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride (DTSACl) and tetradecyldimethyl-(3-trimethoxysilyl)propylammonium chloride (TTSACl). Examples of other quaternary compounds include, but are not limited to, a quaternary ammonium salt, such as, for example, Quaternium-15 and Quatemium-18, and a polycationic polymer, such as, for example, cetylpyridinium chloride, and polyquaterniums, such as Polyquaterniums 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46 and 47. Other non-limiting examples of quaternary compounds include compounds of the formula NR4+, where R represents an alkyl or aryl group.

В одном из вариантов реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, присутствует одно четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение. В другом варианте реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, присутствуют множество четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, два или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, три или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, четыре или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений или пять или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, только одно четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение, по меньшей мере два четвертичных соединения или кремнийорганических четвертичных соединения, по меньшей мере три четвертичных соединения или кремнийорганических четвертичных соединения, по меньшей мере четыре четвертичных соединения или кремнийорганических четвертичных соединения или по меньшей мере пять четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, от 1 до 2 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, от 1 до 3 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, от 1 до 4 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, от 1 до 5 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, от 2 до 3 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, от 2 до 4 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, от 2 до 5 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, от 3 до 4 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, от 3 до 5 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений или от 4 до 5 четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений.In one embodiment, one quaternary compound or an organosilicon quaternary compound is present in the composition described in the present invention. In another embodiment, a plurality of quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds are present in the composition described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, two or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, three or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, four or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds or five or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, only one quaternary compound or organosilicon quaternary compound, at least two quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, at least three quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, at least four quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds or at least five quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, from 1 to 2 quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, from 1 to 3 quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, from 1 to 4 quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds , from 1 to 5 quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, from 2 to 3 quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, from 2 to 4 quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, from 2 to 5 quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, from 3 to 4 quaternaries compounds or organosilicon quaternary compounds, from 3 to 5 quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds or from 4 to 5 quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, которое придает желаемый полезный эффект композиции, описанной в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, 0,05 ppm, 0,10 ppm, 0,15 ppm, 0,20 ppm, 0,25 ppm, 0,30 ppm, 0,35 ppm, 0,40 ppm, 0,45 ppm, 0,50 ppm, 0,55 ppm, 0,60 ppm, 0,65 ppm, 0,70 ppm, 0,75 ppm, 0,80 ppm, 0,85 ppm, 0,90 ppm, 0,95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm, 20 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm, 275 ppm, 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450 ppm, 475 ppm, 500 ppm, 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm, 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 1125 ppm, 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm, 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1475 ppm, 1500 ppm, 1600 ppm, 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm или 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализа- 12 043933 ции композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, по меньшей мере 0,05 ppm, по меньшей мере 0,10 ppm, по меньшей мере 0,20 ppm, по меньшей мере 0,30 ppm, по меньшей мере 0,40 ppm, по меньшей мере 0,50 ppm, по меньшей мере 0,60 ppm, по меньшей мере 0,70 ppm, по меньшей мере 0,80 ppm, по меньшей мере 0,90 ppm, по меньшей мере 1 ppm, по меньшей мере 10 ppm, по меньшей мере 20 ppm, по меньшей мере 30 ppm, по меньшей мере 40 ppm, по меньшей мере 50 ppm, по меньшей мере 60 ppm, по меньшей мере 70 ppm, по меньшей мере 80 ppm, по меньшей мере 90 ppm, по меньшей мере 100 ppm, по меньшей мере 125 ppm, по меньшей мере 150 ppm, по меньшей мере 175 ppm, по меньшей мере 200 ppm, по меньшей мере 225 ppm, по меньшей мере 250 ppm, по меньшей мере 275 ppm, по меньшей мере 300 ppm, по меньшей мере 325 ppm, по меньшей мере 350 ppm, по меньшей мере 375 ppm, по меньшей мере 400 ppm, по меньшей мере 425 ppm, по меньшей мере 450 ppm, по меньшей мере 475 ppm, по меньшей мере 500 ppm, по меньшей мере 525 ppm, по меньшей мере 550 ppm, по меньшей мере 575 ppm, по меньшей мере 600 ppm, по меньшей мере 625 ppm, по меньшей мере 650 ppm, по меньшей мере 675 ppm, по меньшей мере 700 ppm, по меньшей мере 725 ppm, по меньшей мере 750 ppm, по меньшей мере 775 ppm, по меньшей мере 800 ppm, по меньшей мере 825 ppm, по меньшей мере 850 ppm, по меньшей мере 875 ppm, по меньшей мере 900 ppm, по меньшей мере 925 ppm, по меньшей мере 950 ppm, по меньшей мере 975 ppm, по меньшей мере 1000 ppm, по меньшей мере 1025 ppm, по меньшей мере 1050 ppm, по меньшей мере 1075 ppm, по меньшей мере 1100 ppm, по меньшей мере 1125 ppm, по меньшей мере 1150 ppm, по меньшей мере 1175 ppm, по меньшей мере 1200 ppm, по меньшей мере 1225 ppm, по меньшей мере 1250 ppm, по меньшей мере 1275 ppm, по меньшей мере 1300 ppm, по меньшей мере 1325 ppm, по меньшей мере 1350 ppm, по меньшей мере 1375 ppm, по меньшей мере 1400 ppm, по меньшей мере 1425 ppm, по меньшей мере 1450 ppm, по меньшей мере 1475 ppm, по меньшей мере 1500 ppm, по меньшей мере 1600 ppm, по меньшей мере 1700 ppm, по меньшей мере 1800 ppm, по меньшей мере 1900 ppm или по меньшей мере 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнииорганическое четвертичное соединение в количестве, например, не более 0,05 ppm, не более 0,10 ppm, не более 0,20 ppm, не более 0,30 ppm, не более 0,40 ppm, не более 0,50 ppm, не более 0,60 ppm, не более 0,70 ppm, не более 0,80 ppm, не более 0,90 ppm, не более 1 ppm, не более 10 ppm, не более 20 ppm, не более 30 ppm, не более 40 ppm, не более 50 ppm, не более 60 ppm, не более 70 ppm, не более 80 ppm, не более 90 ppm, не более 100 ppm, не более 125 ppm, не более 150 ppm, не более 175 ppm, не более 200 ppm, не более 225 ppm, не более 250 ppm, не более 275 ppm, не более 300 ppm, не более 325 ppm, не более 350 ppm, не более 375 ppm, не более 400 ppm, не более 425 ppm, не более 450 ppm, не более 475 ppm, не более 500 ppm, не более 525 ppm, не более 550 ppm, не более 575 ppm, не более 600 ppm, не более 625 ppm, не более 650 ppm, не более 675 ppm, не более 700 ppm, не более 725 ppm, не более 750 ppm, не более 775 ppm, не более 800 ppm, не более 825 ppm, не более 850 ppm, не более 875 ppm, не более 900 ppm, не более 925 ppm, не более 950 ppm, не более 975 ppm, не более 1000 ppm, не более 1025 ppm, не более 1050 ppm, не более 1075 ppm, не более 1100 ppm, не болееIn one embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or organosilicon quaternary compound in an amount that imparts the desired beneficial effect of the composition described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, 0.05 ppm, 0.10 ppm, 0.15 ppm, 0.20 ppm, 0.25 ppm, 0.30 ppm, 0.35 ppm, 0.40 ppm, 0.45 ppm, 0.50 ppm, 0.55 ppm, 0.60 ppm, 0.65 ppm, 0.70 ppm, 0.75 ppm, 0.80 ppm, 0.85 ppm, 0.90 ppm, 0.95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm, 20 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm , 275 ppm, 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450 ppm, 475 ppm, 500 ppm, 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm, 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 1125 ppm, 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm, 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1 475 ppm, 1500 ppm , 1600 ppm, 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm or 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, at least 0.05 ppm, at least 0.10 ppm, at least 0 .20 ppm, at least 0.30 ppm, at least 0.40 ppm, at least 0.50 ppm, at least 0.60 ppm, at least 0.70 ppm, at least 0.80 ppm, at least 0.90 ppm, at least 1 ppm, at least 10 ppm, at least 20 ppm, at least 30 ppm, at least 40 ppm, at least 50 ppm, at least 60 ppm, at least 70 ppm, at least 80 ppm, at least 90 ppm, at least 100 ppm, at least 125 ppm, at least 150 ppm, at least 175 ppm, at least 200 ppm, at least 225 ppm, at least 250 ppm, at least 275 ppm, at least 300 ppm, at least 325 ppm, at least 350 ppm, at least 375 ppm, at least 400 ppm, at least at least 425 ppm, at least 450 ppm, at least 475 ppm, at least 500 ppm, at least 525 ppm, at least 550 ppm, at least 575 ppm, at least 600 ppm, at least 625 ppm, at least 650 ppm, at least 675 ppm, at least 700 ppm, at least 725 ppm, at least 750 ppm, at least 775 ppm, at least 800 ppm, at least 825 ppm, at least 850 ppm, at least 875 ppm, at least 900 ppm, at least 925 ppm, at least 950 ppm, at least 975 ppm, at least 1000 ppm, at least 1025 ppm, at least at least 1050 ppm, at least 1075 ppm, at least 1100 ppm, at least 1125 ppm, at least 1150 ppm, at least 1175 ppm, at least 1200 ppm, at least 1225 ppm, at least 1250 ppm, at least 1275 ppm, at least 1300 ppm, at least 1325 ppm, at least 1350 ppm, at least 1375 ppm, at least 1400 ppm, at least 1425 ppm, at least 1450 ppm, at least 1475 ppm, at least 1500 ppm, at least 1600 ppm, at least 1700 ppm, at least 1800 ppm, at least 1900 ppm or at least 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, no more than 0.05 ppm, no more than 0.10 ppm, no more than 0.20 ppm, no more than 0 ,30 ppm, no more than 0.40 ppm, no more than 0.50 ppm, no more than 0.60 ppm, no more than 0.70 ppm, no more than 0.80 ppm, no more than 0.90 ppm, no more than 1 ppm , no more than 10 ppm, no more than 20 ppm, no more than 30 ppm, no more than 40 ppm, no more than 50 ppm, no more than 60 ppm, no more than 70 ppm, no more than 80 ppm, no more than 90 ppm, no more than 100 ppm , no more than 125 ppm, no more than 150 ppm, no more than 175 ppm, no more than 200 ppm, no more than 225 ppm, no more than 250 ppm, no more than 275 ppm, no more than 300 ppm, no more than 325 ppm, no more than 350 ppm , no more than 375 ppm, no more than 400 ppm, no more than 425 ppm, no more than 450 ppm, no more than 475 ppm, no more than 500 ppm, no more than 525 ppm, no more than 550 ppm, no more than 575 ppm, no more than 600 ppm , no more than 625 ppm, no more than 650 ppm, no more than 675 ppm, no more than 700 ppm, no more than 725 ppm, no more than 750 ppm, no more than 775 ppm, no more than 800 ppm, no more than 825 ppm, no more than 850 ppm , no more than 875 ppm, no more than 900 ppm, no more than 925 ppm, no more than 950 ppm, no more than 975 ppm, no more than 1000 ppm, no more than 1025 ppm, no more than 1050 ppm, no more than 1075 ppm, no more than 1100 ppm , no more

1125 ppm, не более 1150 ppm, не более 1175 ppm, не более 1200 ppm, не более 1225 ppm, не более1125 ppm, no more than 1150 ppm, no more than 1175 ppm, no more than 1200 ppm, no more than 1225 ppm, no more

1250 ppm, не более 1275 ppm, не более 1300 ppm, не более 1325 ppm, не более 1350 ppm, не более1250 ppm, no more than 1275 ppm, no more than 1300 ppm, no more than 1325 ppm, no more than 1350 ppm, no more

1375 ppm, не более 1400 ppm, не более 1425 ppm, не более 1450 ppm, не более 1475 ppm, не более 1500 ppm, не более 1600 ppm, не более 1700 ppm, не более 1800 ppm, не более 1900 ppm или не более 2000 ppm.1375 ppm, not more than 1400 ppm, not more than 1425 ppm, not more than 1450 ppm, not more than 1475 ppm, not more than 1500 ppm, not more than 1600 ppm, not more than 1700 ppm, not more than 1800 ppm, not more than 1900 ppm or not more 2000 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнииорганическое четвертичное соединение в количестве, например, от примерно 0,5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 1 ppm до примерноIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, from about 0.5 ppm to about 20 ppm, from about 0.5 ppm to about 25 ppm, from about 0.5 ppm to about 30 ppm, from about 0.5 ppm to about 35 ppm, from about 0.5 ppm to about 40 ppm, from about 0.5 ppm to about 45 ppm, from about 0.5 ppm to about 50 ppm, from about 0.5 ppm to about 55 ppm, from about 0.5 ppm to about 60 ppm, from about 0.5 ppm to about 65 ppm, from about 0.5 ppm to about 70 ppm, from about 0 .5 ppm to about 75 ppm, from about 0.5 ppm to about 80 ppm, from about 0.5 ppm to about 85 ppm, from about 0.5 ppm to about 90 ppm, from about 0.5 ppm to about 95 ppm, from about 0.5 ppm to about 100 ppm, from about 0.75 ppm to about 20 ppm, from about 0.75 ppm to about 25 ppm, from about 0.75 ppm to about 30 ppm, from about 0. 75 ppm to about 35 ppm, from about 0.75 ppm to about 40 ppm, from about 0.75 ppm to about 45 ppm, from about 0.75 ppm to about 50 ppm, from about 0.75 ppm to about 55 ppm , from about 0.75 ppm to about 60 ppm, from about 0.75 ppm to about 65 ppm, from about 0.75 ppm to about 70 ppm, from about 0.75 ppm to about 75 ppm, from about 0.75 ppm to about 80 ppm, from about 0.75 ppm to about 85 ppm, from about 0.75 ppm to about 90 ppm, from about 0.75 ppm to about 95 ppm, from about 0.75 ppm to about 100 ppm, from about 1 ppm to about 20 ppm, from about 1 ppm to about 25 ppm, from about 1 ppm to about 30 ppm, from about 1 ppm to about 35 ppm, from about 1 ppm to about 40 ppm, from about 1 ppm to about 45 ppm, about 1 ppm to about 50 ppm, about 1 ppm to about 55 ppm, about 1 ppm to about 60 ppm, about 1 ppm to about 65 ppm, about 1 ppm to about

- 13 043933 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 95 ppm или от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm.- 13 043933 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 80 ppm, from about 1 ppm to about 85 ppm, from about 1 ppm to about 90 ppm, from about 1 ppm to about 95 ppm, from about 1 ppm to about 100 ppm, from about 5 ppm to about 20 ppm, from about 5 ppm to about 25 ppm, from about 5 ppm to about 30 ppm, from about 5 ppm to about 35 ppm, from about 5 ppm to about 40 ppm, from about 5 ppm to about 45 ppm, from about 5 ppm to about 50 ppm, from about 5 ppm to about 55 ppm, from about 5 ppm to about 60 ppm, from about 5 ppm to about 65 ppm, from about 5 ppm to about 70 ppm, about 5 ppm to about 75 ppm, about 5 ppm to about 80 ppm, about 5 ppm to about 85 ppm, about 5 ppm to about 90 ppm, about 5 ppm to about 95 ppm, from about 5 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 20 ppm, from about 10 ppm to about 25 ppm, from about 10 ppm to about 30 ppm, from about 10 ppm to about 35 ppm, from about 10 ppm to about 40 ppm, from about 10 ppm to about 45 ppm, from about 10 ppm to about 50 ppm, from about 10 ppm to about 55 ppm, from about 10 ppm to about 60 ppm, from about 10 ppm to about 65 ppm, from about 10 ppm to about 70 ppm, from about 10 ppm to about 75 ppm, from about 10 ppm to about 80 ppm, from about 10 ppm to about 85 ppm, from about 10 ppm to about 90 ppm, from about 10 ppm to about 95 ppm or from about 10 ppm to about 100 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 300 ppm, отIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount, for example, from about 1 ppm to about 25 ppm, from about 1 ppm to about 50 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 100 ppm, from about 1 ppm to about 125 ppm, from about 1 ppm to about 150 ppm, from about 1 ppm to about 175 ppm, from about 1 ppm to about 200 ppm, from about 1 ppm to about 225 ppm, about 1 ppm to about 250 ppm, about 1 ppm to about 275 ppm, about 1 ppm to about 300 ppm, about 1 ppm to about 325 ppm, about 1 ppm to about 350 ppm, from about 1 ppm to about 375 ppm, from about 1 ppm to about 400 ppm, from about 10 ppm to about 25 ppm, from about 10 ppm to about 50 ppm, from about 10 ppm to about 75 ppm, from about 10 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 125 ppm, from about 10 ppm to about 150 ppm, from about 10 ppm to about 175 ppm, from about 10 ppm to about 200 ppm, from about 10 ppm to about 225 ppm , from about 10 ppm to about 250 ppm, from about 10 ppm to about 275 ppm, from about 10 ppm to about 300 ppm, from about 10 ppm to about 325 ppm, from about 10 ppm to about 350 ppm, from about 10 ppm to about 375 ppm, from about 10 ppm to about 400 ppm, from about 25 ppm to about 50 ppm, from about 25 ppm to about 75 ppm, from about 25 ppm to about 100 ppm, from about 25 ppm to about 125 ppm, from about 25 ppm to about 150 ppm, from about 25 ppm to about 175 ppm, from about 25 ppm to about 200 ppm, from about 25 ppm to about 225 ppm, from about 25 ppm to about 250 ppm, from about 25 ppm to about 275 ppm, from about 25 ppm to about 300 ppm, from about 25 ppm to about 325 ppm, from about 25 ppm to about 350 ppm, from about 25 ppm to about 375 ppm, from about 25 ppm to about 400 ppm, from about 50 ppm to about 75 ppm, about 50 ppm to about 100 ppm, about 50 ppm to about 125 ppm, about 50 ppm to about 150 ppm, about 50 ppm to about 175 ppm, about 50 ppm to about 200 ppm, from about 50 ppm to about 225 ppm, from about 50 ppm to about 250 ppm, from about 50 ppm to about 275 ppm, from about 50 ppm to about 300 ppm, from about 50 ppm to about 325 ppm, from about 50 ppm to about 350 ppm, about 50 ppm to about 375 ppm, about 50 ppm to about 400 ppm, about 75 ppm to about 100 ppm, about 75 ppm to about 125 ppm, about 75 ppm to about 150 ppm, from about 75 ppm to about 175 ppm, from about 75 ppm to about 200 ppm, from about 75 ppm to about 225 ppm, from about 75 ppm to about 250 ppm, from about 75 ppm to about 275 ppm, from about 75 ppm to about 300 ppm, from about 75 ppm to about 325 ppm, from about 75 ppm to about 350 ppm, from about 75 ppm to about 375 ppm, from about 75 ppm to about 400 ppm, from about 100 ppm to about 125 ppm , from about 100 ppm to about 150 ppm, from about 100 ppm to about 175 ppm, from about 100 ppm to about 200 ppm, from about 100 ppm to about 225 ppm, from about 100 ppm to about 250 ppm, from about 100 ppm to about 275 ppm, from about 100 ppm to about 300 ppm, from about 100 ppm to about 325 ppm, from about 100 ppm to about 350 ppm, from about 100 ppm to about 375 ppm, from about 100 ppm to about 400 ppm, from about 150 ppm to about 175 ppm, from about 150 ppm to about 200 ppm, from about 150 ppm to about 225 ppm, from about 150 ppm to about 250 ppm, from about 150 ppm to about 275 ppm, from about 150 ppm to about 300 ppm, from about 150 ppm to about 325 ppm, from about 150 ppm to about 350 ppm, from about 150 ppm to about 375 ppm, from about 150 ppm to about 400 ppm, from about 200 ppm to about 225 ppm, from from about 200 ppm to about 250 ppm, from about 200 ppm to about 275 ppm, from about 200 ppm to about 300 ppm, from

- 14 043933 примерно 200 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 400 ppm или от примерно 375 ppm до примерно 400 ppm.- 14 043933 about 200 ppm to about 325 ppm, from about 200 ppm to about 350 ppm, from about 200 ppm to about 375 ppm, from about 200 ppm to about 400 ppm, from about 250 ppm to about 275 ppm, from about 250 ppm to about 300 ppm, from about 250 ppm to about 325 ppm, from about 250 ppm to about 350 ppm, from about 250 ppm to about 375 ppm, from about 250 ppm to about 400 ppm, from about 300 ppm to about 325 ppm , from about 300 ppm to about 350 ppm, from about 300 ppm to about 375 ppm, from about 300 ppm to about 400 ppm, from about 350 ppm to about 375 ppm, from about 350 ppm to about 400 ppm, or from about 375 ppm up to approximately 400 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, от примерно 400 ppm до примерно 500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 2000 ppm, от примерноIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, from about 400 ppm to about 500 ppm, from about 400 ppm to about 600 ppm, from about 400 ppm to about 700 ppm, from about 400 ppm to about 800 ppm, from about 400 ppm to about 900 ppm, from about 400 ppm to about 1000 ppm, from about 400 ppm to about 1100 ppm, from about 400 ppm to about 1200 ppm, from about 400 ppm to about 1300 ppm, from about 400 ppm to about 1400 ppm, from about 400 ppm to about 1500 ppm, from about 400 ppm to about 1600 ppm, from about 400 ppm to about 1700 ppm, from about 400 ppm to about 1800 ppm, from about 400 ppm to about 1900 ppm, from about 400 ppm to about 2000 ppm, from about 500 ppm to about 600 ppm, from about 500 ppm to about 700 ppm, from about 500 ppm to about 800 ppm, from about 500 ppm to about 900 ppm, from about 500 ppm to about 1000 ppm, from about 500 ppm to about 1100 ppm, from about 500 ppm to about 1200 ppm, from about 500 ppm to about 1300 ppm, from about 500 ppm to about 1400 ppm , from about 500 ppm to about 1500 ppm, from about 500 ppm to about 1600 ppm, from about 500 ppm to about 1700 ppm, from about 500 ppm to about 1800 ppm, from about 500 ppm to about 1900 ppm, from about 500 ppm to about 2000 ppm, from about 600 ppm to about 700 ppm, from about 600 ppm to about 800 ppm, from about 600 ppm to about 900 ppm, from about 600 ppm to about 1000 ppm, from about 600 ppm to about 1100 ppm, from about 600 ppm to about 1200 ppm, from about 600 ppm to about 1300 ppm, from about 600 ppm to about 1400 ppm, from about 600 ppm to about 1500 ppm, from about 600 ppm to about 1600 ppm, from about 600 ppm to about 1700 ppm, from about 600 ppm to about 1800 ppm, from about 600 ppm to about 1900 ppm, from about 600 ppm to about 2000 ppm, from about 700 ppm to about 800 ppm, from about 700 ppm to about 900 ppm, from from about 700 ppm to about 1000 ppm, from about 700 ppm to about 1100 ppm, from about 700 ppm to about 1200 ppm, from about 700 ppm to about 1300 ppm, from about 700 ppm to about 1400 ppm, from about 700 ppm to about 1500 ppm, from about 700 ppm to about 1600 ppm, from about 700 ppm to about 1700 ppm, from about 700 ppm to about 1800 ppm, from about 700 ppm to about 1900 ppm, from about 700 ppm to about 2000 ppm, from about 800 ppm to about 900 ppm, from about 800 ppm to about 1000 ppm, from about 800 ppm to about 1100 ppm, from about 800 ppm to about 1200 ppm, from about 800 ppm to about 1300 ppm, from about 800 ppm to about 1400 ppm, from about 800 ppm to about 1500 ppm, from about 800 ppm to about 1600 ppm, from about 800 ppm to about 1700 ppm, from about 800 ppm to about 1800 ppm, from about 800 ppm to about 1900 ppm, from about 800 ppm to about 2000 ppm, from about 900 ppm to about 1000 ppm, from about 900 ppm to about 1100 ppm, from about 900 ppm to about 1200 ppm, from about 900 ppm to about 1300 ppm, from about 900 ppm to about 1400 ppm , from about 900 ppm to about 1500 ppm, from about 900 ppm to about 1600 ppm, from about 900 ppm to about 1700 ppm, from about 900 ppm to about 1800 ppm, from about 900 ppm to about 1900 ppm, from about 900 ppm to about 2000 ppm, from about 1000 ppm to about 1100 ppm, from about 1000 ppm to about 1200 ppm, from about 1000 ppm to about 1300 ppm, from about 1000 ppm to about 1400 ppm, from about 1000 ppm to about 1500 ppm, from about 1000 ppm to about 1600 ppm, from about 1000 ppm to about 1700 ppm, from about 1000 ppm to about 1800 ppm, from about 1000 ppm to about 1900 ppm, from about 1000 ppm to about 2000 ppm, from about 1100 ppm to from about 1200 ppm, from about 1100 ppm to about 1300 ppm, from about 1100 ppm to about 1400 ppm, from about 1100 ppm to about 1500 ppm, from about 1100 ppm to about 1600 ppm, from about 1100 ppm to about 1700 ppm, from from about 1100 ppm to about 1800 ppm, from about 1100 ppm to about 1900 ppm, from about 1100 ppm to about 2000 ppm, from about 1200 ppm to about 1300 ppm, from about 1200 ppm to about 1400 ppm, from about 1200 ppm to about 1500 ppm, from about 1200 ppm to about 1600 ppm, from about 1200 ppm to about 1700 ppm, from about 1200 ppm to about 1800 ppm, from about 1200 ppm to about 1900 ppm, from about 1200 ppm to about 2000 ppm, from about 1300 ppm to about 1400 ppm, from about 1300 ppm to about 1500 ppm, from about 1300 ppm to about 1600 ppm, from about 1300 ppm to about 1700 ppm, from about 1300 ppm to about 1800 ppm, from about 1300 ppm to about 1900 ppm, from about 1300 ppm to about 2000 ppm, from about

- 15 043933- 15 043933

1400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 2000 ppm или от примерно 1900 ppm до примерно 2000 ppm.1400 ppm to about 1500 ppm, from about 1400 ppm to about 1600 ppm, from about 1400 ppm to about 1700 ppm, from about 1400 ppm to about 1800 ppm, from about 1400 ppm to about 1900 ppm, from about 1400 ppm to about 2000 ppm, from about 1500 ppm to about 1600 ppm, from about 1500 ppm to about 1700 ppm, from about 1500 ppm to about 1800 ppm, from about 1500 ppm to about 1900 ppm, from about 1500 ppm to about 2000 ppm, from about 1600 ppm to about 1700 ppm, from about 1600 ppm to about 1800 ppm, from about 1600 ppm to about 1900 ppm, from about 1600 ppm to about 2000 ppm, from about 1700 ppm to about 1800 ppm, from about 1700 ppm to about 1900 ppm , from about 1700 ppm to about 2000 ppm, from about 1800 ppm to about 1900 ppm, from about 1800 ppm to about 2000 ppm, or from about 1900 ppm to about 2000 ppm.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, примерно 0,10%, примерно 0,11%, примерно 0,12%, примерно 0,13%, примерно 0,14%, примерно 0,15%, примерно 0,16%, примерно 0,17%, примерно 0,18%, примерно 0,19%, примерно 0,2%, примерно 0,25%, примерно 0,3%, примерно 0,35%, примерно 0,4%, примерно 0,45% или примерно 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, по меньшей мере 0,10%, по меньшей мере 0,11%, по меньшей мере 0,12%, по меньшей мере 0,13%, по меньшей мере 0,14%, по меньшей мере 0,15%, по меньшей мере 0,16%, по меньшей мере 0,17%, по меньшей мере 0,18%, по меньшей мере 0,19%, по меньшей мере 0,2%, по меньшей мере 0,25%, по меньшей мере 0,3%, по меньшей мере 0,35%, по меньшей мере 0,4%, по меньшей мере 0,45% или по меньшей мере 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, не более 0,10%, не более 0,11%, не более 0,12%, не более 0,13%, не более 0,14%, не более 0,15%, не более 0,16%, не более 0,17%, не более 0,18%, не более 0,19%, не более 0,2%, не более 0,25%, не более 0,3%, не более 0,35%, не более 0,4%, не более 0,45% или не более 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, от примерно 0,10% до примерно 0,15%, от примерно 0,10% до примерно 0,20%, от примерно 0,10% до примерно 0,25%, от примерно 0,10% до примерно 0,30%, от примерно 0,10% до примерно 0,35%, от примерно 0,10% до примерно 0,40%, от примерно 0,10% до примерно 0,45%, от примерно 0,10% до примерно 0,50%, от примерно 0,20% до примерно 0,25%, от примерно 0,20% до примерно 0,30%, от примерно 0,20% до примерно 0,35%, от примерно 0,20% до примерно 0,40%, от примерно 0,20% до примерно 0,45%, от примерно 0,20% до примерно 0,50%, от примерно 0,30% до примерно 0,35%, от примерно 0,30% до примерно 0,40%, от примерно 0,30% до примерно 0,45%, от примерно 0,30% до примерно 0,50%, от примерно 0,40% до примерно 0,45% или от примерно 0,40% до примерно 0,50% от массы композиции.In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, about 0.10%, about 0.11%, about 0.12%, about 0.13%, about 0.14%, approximately 0.15%, approximately 0.16%, approximately 0.17%, approximately 0.18%, approximately 0.19%, approximately 0.2%, approximately 0.25%, approximately 0. 3%, about 0.35%, about 0.4%, about 0.45%, or about 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, at least 0.10%, at least 0.11%, at least 0.12%, at least 0.13%, at least 0.14%, at least 0.15%, at least 0.16%, at least 0.17%, at least 0.18%, at least at least 0.19%, at least 0.2%, at least 0.25%, at least 0.3%, at least 0.35%, at least 0.4%, at least 0 .45% or at least 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, no more than 0.10%, no more than 0.11%, no more than 0.12%, no more than 0 ,13%, no more than 0.14%, no more than 0.15%, no more than 0.16%, no more than 0.17%, no more than 0.18%, no more than 0.19%, no more than 0, 2%, not more than 0.25%, not more than 0.3%, not more than 0.35%, not more than 0.4%, not more than 0.45% or not more than 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, from about 0.10% to about 0.15%, from about 0.10% to about 0.20 %, from about 0.10% to about 0.25%, from about 0.10% to about 0.30%, from about 0.10% to about 0.35%, from about 0.10% to about 0 .40%, from about 0.10% to about 0.45%, from about 0.10% to about 0.50%, from about 0.20% to about 0.25%, from about 0.20% to about 0.30%, from about 0.20% to about 0.35%, from about 0.20% to about 0.40%, from about 0.20% to about 0.45%, from about 0.20 % to about 0.50%, from about 0.30% to about 0.35%, from about 0.30% to about 0.40%, from about 0.30% to about 0.45%, from about 0 .30% to about 0.50%, from about 0.40% to about 0.45%, or from about 0.40% to about 0.50% by weight of the composition.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, примерно 1,0%, примерно 2,0%, примерно 3,0%, примерно 4,0%, примерно 5,0%, примерно 6,0%, примерно 7,0%, примерно 8,0%, примерно 9,0%, примерно 10%, примерно 11%, примерно 12%, примерно 13%, примерно 14% или примерно 15% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, по меньшей мере 1,0%, по меньшей мере 2,0%, по меньшей мере 3,0%, по меньшей мере 4,0%, по меньшей мере 5,0%, по меньшей мере 6,0%, по меньшей мере 7,0%, по меньшей мере 8,0%, по меньшей мере 9,0%, по меньшей мере 10%, по меньшей мере 11%, по меньшей мере 12%, по меньшей мере 13%, по меньшей мере 14% или по меньшей мере 15% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, не более 1,0%, не более 2,0%, не более 3,0%, не более 4,0%, не более 5,0%, не более 6,0%, не более 7,0%, не более 8,0%, не более 9,0%, не более 10%, не более 11%, не более 12%, не более 13%, не более 14% или не более 15% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение в количестве, например, от примерно 1,0% до примерно 2,0%, от примерно 1,0% до примерно 3,0%, от примерно 1,0% до примерно 4,0%, от примерно 1,0% до примерно 5,0%, от примерно 1,0% до примерно 6,0%, от примерно 1,0% до примерно 7,0%, от примерно 1,0% до примерно 8,0%, от примерно 1,0% до примерно 9,0%, от примерно 1,0% до примерно 10%, от примерно 1,0% до примерно 11%, от примерно 1,0% до примерно 12%, от примерно 1,0% до примерно 13%, от примерно 1,0% до примерно 14%, от примерно 1,0% до примерно 15%, от примерно 2,0% до примерно 3,0%, от примерно 2,0% до примерно 4,0%, от примерно 2,0% до примерно 5,0%, от примерно 2,0% до примерно 6,0%, отIn aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, about 1.0%, about 2.0%, about 3.0%, about 4.0%, about 5.0%, approximately 6.0%, approximately 7.0%, approximately 8.0%, approximately 9.0%, approximately 10%, approximately 11%, approximately 12%, approximately 13%, approximately 14% or approximately 15% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, at least 1.0%, at least 2.0%, at least 3.0%, at least 4.0%, at least 5.0%, at least 6.0%, at least 7.0%, at least 8.0%, at least 9.0%, at least at least 10%, at least 11%, at least 12%, at least 13%, at least 14% or at least 15% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, no more than 1.0%, no more than 2.0%, no more than 3.0%, no more than 4 ,0%, no more than 5.0%, no more than 6.0%, no more than 7.0%, no more than 8.0%, no more than 9.0%, no more than 10%, no more than 11%, not more than 12%, no more than 13%, no more than 14% or no more than 15% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound in an amount of, for example, from about 1.0% to about 2.0%, from about 1.0% to about 3.0 %, from about 1.0% to about 4.0%, from about 1.0% to about 5.0%, from about 1.0% to about 6.0%, from about 1.0% to about 7 .0%, from about 1.0% to about 8.0%, from about 1.0% to about 9.0%, from about 1.0% to about 10%, from about 1.0% to about 11 %, from about 1.0% to about 12%, from about 1.0% to about 13%, from about 1.0% to about 14%, from about 1.0% to about 15%, from about 2, 0% to about 3.0%, from about 2.0% to about 4.0%, from about 2.0% to about 5.0%, from about 2.0% to about 6.0%, from

- 16 043933 примерно 2,0% до примерно 7,0%, от примерно 2,0% до примерно 8,0%, от примерно 2,0% до примерно 9,0%, от примерно 2,0% до примерно 10%, от примерно 2,0% до примерно 11%, от примерно 2,0% до примерно 12%, от примерно 2,0% до примерно 13%, от примерно 2,0% до примерно 14%, от примерно 2,0% до примерно 15%, от примерно 3,0% до примерно 4,0%, от примерно 3,0% до примерно 5,0%, от примерно 3,0% до примерно 6,0%, от примерно 3,0% до примерно 7,0%, от примерно 3,0% до примерно 8,0%, от примерно 3,0% до примерно 9,0%, от примерно 3,0% до примерно 10%, от примерно 3,0% до примерно 11%, от примерно 3,0% до примерно 12%, от примерно 3,0% до примерно 13%, от примерно 3,0% до примерно 14%, от примерно 3,0% до примерно 15%, от примерно 4,0% до примерно 5,0%, от примерно 4,0% до примерно 6,0%, от примерно 4,0% до примерно 7,0%, от примерно 4,0% до примерно 8,0%, от примерно 4,0% до примерно 9,0%, от примерно 4,0% до примерно 10%, от примерно 4,0% до примерно 11%, от примерно 4,0% до примерно 12%, от примерно 4,0% до примерно 13%, от примерно 4,0% до примерно 14%, от примерно 4,0% до примерно 15%, от примерно 5,0% до примерно 6,0%, от примерно 5,0% до примерно 7,0%, от примерно 5,0% до примерно 8,0%, от примерно 5,0% до примерно 9,0%, от примерно 5,0% до примерно 10%, от примерно 5,0% до примерно 11%, от примерно 5,0% до примерно 12%, от примерно 5,0% до примерно 13%, от примерно 5,0% до примерно 14%, от примерно 5,0% до примерно 15%, от примерно 6,0% до примерно 7,0%, от примерно 6,0% до примерно 8,0%, от примерно 6,0% до примерно 9,0%, от примерно 6,0% до примерно 10%, от примерно 6,0% до примерно 11%, от примерно 6,0% до примерно 12%, от примерно 6,0% до примерно 13%, от примерно 6,0% до примерно 14%, от примерно 6,0% до примерно 15%, от примерно 7,0% до примерно 8,0%, от примерно 7,0% до примерно 9,0%, от примерно 7,0% до примерно 10%, от примерно 7,0% до примерно 11%, от примерно 7,0% до примерно 12%, от примерно 7,0% до примерно 13%, от примерно 7,0% до примерно 14%, от примерно 7,0% до примерно 15%, от примерно 8,0% до примерно 9,0%, от примерно 8,0% до примерно 10%, от примерно 8,0% до примерно 11%, от примерно 8,0% до примерно 12%, от примерно 8,0% до примерно 13%, от примерно 8,0% до примерно 14%, от примерно 8,0% до примерно 15%, от примерно 9,0% до примерно 10%, от примерно 9,0% до примерно 11%, от примерно 9,0% до примерно 12%, от примерно 9,0% до примерно 13%, от примерно 9,0% до примерно 14%, от примерно 9,0% до примерно 15%, от примерно 10% до примерно 11%, от примерно 10% до примерно 12%, от примерно 10% до примерно 13%, от примерно 10% до примерно 14%, от примерно 10% до примерно 15%, от примерно 11% до примерно 12%, от примерно 11% до примерно 13%, от примерно 11% до примерно 14%, от примерно 11% до примерно 15%, от примерно 12% до примерно 13%, от примерно 12% до примерно 14%, от примерно 12% до примерно 15%, от примерно 13% до примерно 14%, от примерно 13% до примерно 15% или от примерно 14% до примерно 15% от массы композиции.- 16 043933 about 2.0% to about 7.0%, from about 2.0% to about 8.0%, from about 2.0% to about 9.0%, from about 2.0% to about 10 %, from about 2.0% to about 11%, from about 2.0% to about 12%, from about 2.0% to about 13%, from about 2.0% to about 14%, from about 2, 0% to about 15%, from about 3.0% to about 4.0%, from about 3.0% to about 5.0%, from about 3.0% to about 6.0%, from about 3, 0% to about 7.0%, from about 3.0% to about 8.0%, from about 3.0% to about 9.0%, from about 3.0% to about 10%, from about 3, 0% to about 11%, about 3.0% to about 12%, about 3.0% to about 13%, about 3.0% to about 14%, about 3.0% to about 15% , from about 4.0% to about 5.0%, from about 4.0% to about 6.0%, from about 4.0% to about 7.0%, from about 4.0% to about 8, 0%, from about 4.0% to about 9.0%, from about 4.0% to about 10%, from about 4.0% to about 11%, from about 4.0% to about 12%, from from about 4.0% to about 13%, from about 4.0% to about 14%, from about 4.0% to about 15%, from about 5.0% to about 6.0%, from about 5.0 % to about 7.0%, from about 5.0% to about 8.0%, from about 5.0% to about 9.0%, from about 5.0% to about 10%, from about 5.0 % to about 11%, from about 5.0% to about 12%, from about 5.0% to about 13%, from about 5.0% to about 14%, from about 5.0% to about 15%, from about 6.0% to about 7.0%, from about 6.0% to about 8.0%, from about 6.0% to about 9.0%, from about 6.0% to about 10%, from about 6.0% to about 11%, from about 6.0% to about 12%, from about 6.0% to about 13%, from about 6.0% to about 14%, from about 6.0% to about 15%, from about 7.0% to about 8.0%, from about 7.0% to about 9.0%, from about 7.0% to about 10%, from about 7.0% to about 11%, from about 7.0% to about 12%, from about 7.0% to about 13%, from about 7.0% to about 14%, from about 7.0% to about 15%, from about 8 .0% to about 9.0%, from about 8.0% to about 10%, from about 8.0% to about 11%, from about 8.0% to about 12%, from about 8.0% to about 13%, from about 8.0% to about 14%, from about 8.0% to about 15%, from about 9.0% to about 10%, from about 9.0% to about 11%, from about 9.0% to about 12%, about 9.0% to about 13%, about 9.0% to about 14%, about 9.0% to about 15%, about 10% to about 11% , from about 10% to about 12%, from about 10% to about 13%, from about 10% to about 14%, from about 10% to about 15%, from about 11% to about 12%, from about 11% to about 13%, from about 11% to about 14%, from about 11% to about 15%, from about 12% to about 13%, from about 12% to about 14%, from about 12% to about 15%, from about 13% to about 14%, from about 13% to about 15%, or from about 14% to about 15% by weight of the composition.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит четвертичное соединение. В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит кремнийорганическое четвертичное соединение. В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение.In one embodiment, the composition described in the present invention does not contain a quaternary compound. In one embodiment, the composition described in the present invention does not contain an organosilicon quaternary compound. In one embodiment, the composition described in the present invention does not contain a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, может содержать соединение, содержащее гуанидный фрагмент и/или функциональную группу. Неограничивающие примеры соединений, содержащих гуанидный фрагмент, включают органическое соединение, содержащее бигуанидную функциональную группу, бигуанидиновую функциональную группу или тригуанидную функциональную группу. В одном из вариантов реализации описанное в настоящем изобретении соединение, содержащее гуанидный фрагмент, представляет собой бигуанид или соединение, содержащее бигуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации соединение, содержащее бигуанидный фрагмент, содержит одну, две, три, четыре или пять бигуанидных функциональных групп. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации соединение, содержащее бигуанидный фрагмент, включает формулу II,The composition described in the present invention may contain a compound containing a guanide moiety and/or a functional group. Non-limiting examples of compounds containing a guanide moiety include an organic compound containing a biguanide functional group, a biguanidine functional group, or a triguanide functional group. In one embodiment, the guanide moiety-containing compound described herein is a biguanide or a compound containing a biguanide moiety. In one aspect, according to the specified embodiment, the compound containing the biguanide moiety contains one, two, three, four or five biguanide functional groups. In one aspect, according to this embodiment, the biguanide moiety-containing compound comprises formula II,

где каждый из R5 и R6 независимо может представлять собой связь, Н, С, NH, NH2, Сы0 алкил, Сы0 алкан, Сы0 алкин, 5- или 6-членное ароматическое кольцо, необязательно замещенное галогеном; и n составляет 1-5. Галоген представляет собой F, Br, Cl, I и At. Неограничивающие примеры соединений, содержащих бигуанидный фрагмент, включают полигексаметиленбигуанид (РНМВ), полиаминопропилбигуанид (РАРВ), 1,1'-(1,6-гександиил)бис{2-[N'-(2-этилгексил)карбамимидоил]гуанидин} (алексидин), хлоргексидин и хлоргексидина глюконат.where each of R 5 and R 6 independently can represent a bond, H, C, NH, NH2, Ci 0 alkyl, Ci 0 alkane, Ci 0 alkyne, a 5- or 6-membered aromatic ring, optionally substituted with halogen; and n is 1-5. Halogen represents F, Br, Cl, I and At. Non-limiting examples of compounds containing a biguanide moiety include polyhexamethylene biguanide (PHMB), polyaminopropyl biguanide (PAPB), 1,1'-(1,6-hexanediyl)bis{2-[N'-(2-ethylhexyl)carbamimidoyl]guanidine} (alexidine ), chlorhexidine and chlorhexidine gluconate.

В одном из вариантов реализации описанное в настоящем изобретении соединение, содержащее гуанидный фрагмент, представляет собой бигуанидин или соединение, содержащее бигуанидиновый фраг- 17 043933 мент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации соединение, содержащее бигуанидиновый фрагмент, содержит одну, две, три, четыре или пять бигуанидиновых функциональных групп. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации соединение, содержащее бигуанидиновый фрагмент, включает формулу III,In one embodiment, the guanide moiety-containing compound described herein is a biguanidine or a compound containing a biguanidine moiety. In one aspect, according to the specified embodiment, the compound containing the biguanidine moiety contains one, two, three, four or five biguanidine functional groups. In one aspect, according to this embodiment, the compound containing a biguanidine moiety comprises formula III,

где каждый из R7 и R8 независимо может представлять собой связь, Н, С, NH, NH2, Сыо алкил, C1-10 алкан, C1.10 алкин, 5- или 6-членное ароматическое кольцо, необязательно замещенное галогеном; и n составляет 1-5. Галоген представляет собой F, Br, Cl, I и At.where each of R 7 and R 8 independently can represent a bond, H, C, NH, NH2, Cyo alkyl, C 1-10 alkane, C1. 10 alkyne, a 5- or 6-membered aromatic ring, optionally substituted with halogen; and n is 1-5. Halogen represents F, Br, Cl, I and At.

В одном из вариантов реализации описанное в настоящем изобретении соединение, содержащее гуанидный фрагмент, представляет собой тригуанид или соединение, содержащее тригуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации соединение, содержащее тригуанидный фрагмент, содержит одну, две, три, четыре или пять тригуанидных функциональных групп. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации соединение, содержащее тригуанидный фрагмент, включает формулу IV,In one embodiment, the guanide moiety-containing compound described herein is a triguanide or a compound containing a triguanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the triguanide moiety-containing compound contains one, two, three, four, or five triguanide functional groups. In one aspect, according to this embodiment, the triguanide moiety-containing compound comprises formula IV,

где каждый из R9 и R10 независимо может представлять собой связь, Н, С, NH, NH2, C1.10 алкил, C1.10 алкан, C1.10 алкин, 5- или 6-членное ароматическое кольцо, необязательно замещенное галогеном; и n составляет 1-5. Галоген представляет собой F, Br, Cl, I и At.where each of R 9 and R 10 can independently represent a bond, H, C, NH, NH2, C1. 10 alkyl, C1. 10 alkane, C1.10 alkyne, 5- or 6-membered aromatic ring, optionally substituted with halogen; and n is 1-5. Halogen represents F, Br, Cl, I and At.

В одном из вариантов реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, содержится одно соединение, содержащее гуанидный фрагмент. В другом варианте реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, содержится множество соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент, два или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент, три или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент, четыре или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент, или пять или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, только одно соединение, содержащее гуанидный фрагмент, не более двух соединений, содержащих гуанидный фрагмент, не более трех соединений, содержащих гуанидный фрагмент, не более четырех соединений, содержащих гуанидный фрагмент, или не более пяти соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, от 1 до 2 соединений, содержащих гуанидный фрагмент, от 1 до 3 соединений, содержащих гуанидный фрагмент, от 1 до 4 соединений, содержащих гуанидный фрагмент, от 1 до 5 соединений, содержащих гуанидный фрагмент, от 2 до 3 соединений, содержащих гуанидный фрагмент, от 2 до 4 соединений, содержащих гуанидный фрагмент, от 2 до 5 соединений, содержащих гуанидный фрагмент, от 3 до 4 соединений, содержащих гуанидный фрагмент, от 3 до 5 соединений, содержащих гуанидный фрагмент, или от 4 до 5 соединений, содержащих гуанидный фрагмент.In one embodiment, the composition described in the present invention contains a single compound containing a guanide moiety. In another embodiment, the composition described in the present invention contains a plurality of compounds containing a guanide moiety. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, one or more compounds containing a guanide moiety, two or more compounds containing a guanide moiety, three or more compounds containing a guanide moiety, four or more compounds containing guanide moiety, or five or more compounds containing a guanide moiety. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, only one compound containing a guanide moiety, no more than two compounds containing a guanide moiety, no more than three compounds containing a guanide moiety, no more than four compounds containing guanide moiety, or up to five compounds containing a guanide moiety. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, from 1 to 2 compounds containing a guanide moiety, from 1 to 3 compounds containing a guanide moiety, from 1 to 4 compounds containing a guanide moiety, from 1 up to 5 compounds containing a guanide fragment, from 2 to 3 compounds containing a guanide fragment, from 2 to 4 compounds containing a guanide fragment, from 2 to 5 compounds containing a guanide fragment, from 3 to 4 compounds containing a guanide fragment, from 3 up to 5 compounds containing a guanide moiety, or 4 to 5 compounds containing a guanide moiety.

Можно использовать любое количество описанного в настоящем изобретении соединения, содержащего гуанидный фрагмент, при условии, что это количество подходит для применения способов, описанных в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соединение, содержащее гуанидный фрагмент, в количестве, например, примерно 0,01%, примерно 0,05%, примерно 0,075%, примерно 0,1%, примерно 0,2%, примерно 0,3%, примерно 0,4%, примерно 0,5%, примерно 0,6%, примерно 0,7%, примерно 0,8%, примерно 0,9%, примерно 1,0%, примерно 1,5%, примерно 2,0%, примерно 2,5%, примерно 3,0%, примерно 4,0%, примерно 5,0%, примерно 6,0%, примерно 7,0%, примерно 7,5%, примерно 8,0%, примерно 9,0%, примерно 10,0%, примерно 11%, примерно 12%, примерно 13%, примерно 14%, примерно 15%, примерно 20%, примерно 25% или примерно 30% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соединение, содержащее гуанидный фрагмент, в количестве, например, по меньшей мере 0,01%, по меньшей мере 0,05%, по меньшей мере 0,075%, по меньшей мере 0,1%, по меньшей мере 0,25%, по меньшей мере 0,5%, по меньшей мере 0,75%, по меньшей мере 1,0%, по меньшей мере 1,5%, по меньшей мере 2,0%, по меньшей мереAny amount of a guanide moiety-containing compound described herein may be used, provided that the amount is suitable for use in the methods described herein. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a compound containing a guanide moiety in an amount of, for example, about 0.01%, about 0.05%, about 0.075%, about 0.1%, about 0. 2%, approximately 0.3%, approximately 0.4%, approximately 0.5%, approximately 0.6%, approximately 0.7%, approximately 0.8%, approximately 0.9%, approximately 1.0% , approximately 1.5%, approximately 2.0%, approximately 2.5%, approximately 3.0%, approximately 4.0%, approximately 5.0%, approximately 6.0%, approximately 7.0%, approximately 7.5%, approximately 8.0%, approximately 9.0%, approximately 10.0%, approximately 11%, approximately 12%, approximately 13%, approximately 14%, approximately 15%, approximately 20%, approximately 25% or about 30% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a compound containing a guanide moiety in an amount of, for example, at least 0.01%, at least 0.05%, at least 0.075%, at least at least 0.1%, at least 0.25%, at least 0.5%, at least 0.75%, at least 1.0%, at least 1.5%, at least 2 .0%, at least

- 18 043933- 18 043933

2,5%, по меньшей мере 3,0%, по меньшей мере 4,0%, по меньшей мере 5,0%, по меньшей мере 6,0%, по меньшей мере 7,0%, по меньшей мере 7,5%, по меньшей мере 8,0%, по меньшей мере 9,0%, по меньшей мере 10,0%, по меньшей мере 11%, по меньшей мере 12%, по меньшей мере 13%, по меньшей мере 14%, по меньшей мере 15%, по меньшей мере 20%, по меньшей мере 25% или по меньшей мере 30% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соединение, содержащее гуанидный фрагмент, в количестве, например, не более 0,01%, не более 0,05%, не более 0,075%, не более 0,1%, не более 0,25%, не более 0,5%, не более 0,75%, не более 1,0%, не более 1,5%, не более 2,0%, не более 2,5%, не более 3,0%, не более 4,0%, не более 5,0%, не более 6,0%, не более 7,5%, не более 8,0%, не более 9,0%, не более 10,0%, не более 11%, не более 12%, не более 13%, не более 14%, не более 15%, не более 20%, не более 25% или не более 30% от массы композиции.2.5%, at least 3.0%, at least 4.0%, at least 5.0%, at least 6.0%, at least 7.0%, at least 7, 5%, at least 8.0%, at least 9.0%, at least 10.0%, at least 11%, at least 12%, at least 13%, at least 14% , at least 15%, at least 20%, at least 25% or at least 30% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a compound containing a guanide moiety in an amount of, for example, no more than 0.01%, no more than 0.05%, no more than 0.075%, no more than 0.1 %, no more than 0.25%, no more than 0.5%, no more than 0.75%, no more than 1.0%, no more than 1.5%, no more than 2.0%, no more than 2.5% , no more than 3.0%, no more than 4.0%, no more than 5.0%, no more than 6.0%, no more than 7.5%, no more than 8.0%, no more than 9.0%, no more than 10.0%, no more than 11%, no more than 12%, no more than 13%, no more than 14%, no more than 15%, no more than 20%, no more than 25% or no more than 30% by weight of the composition.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соединение, содержащее гуанидный фрагмент, в количестве, например, от примерно 0,1% до примерно 0,5%, от примерно 0,1% до примерно 0,75%, от примерно 0,1% до примерно 1,0%, от примерно 0,1% до примерно 1,5%, от примерно 0,1% до примерно 2,0%, от примерно 0,1% до примерно 2,5%, от примерно 0,1% до примерно 3,0%, от примерно 0,1% до примерно 3,5%, от примерно 0,1% до примерно 4,0%, от примерно 0,1% до примерно 4,5%, от примерно 0,1% до примерно 5,0%, от примерно 0,2% до примерно 0,5%, от примерно 0,2% до примерно 0,75%, от примерно 0,2% до примерно 1,0%, от примерно 0,2% до примерно 1,5%, от примерно 0,2% до примерно 2,0%, от примерно 0,2% до примерно 2,5%, от примерно 0,2% до примерно 3,0%, от примерно 0,2% до примерно 3,5%, от примерно 0,2% до примерно 4,0%, от примерно 0,2% до примерно 4,5%, от примерно 0,2% до примерно 5,0%, от примерно 0,5% до примерно 1,0%, от примерно 0,5% до примерно 1,5%, от примерно 0,5% до примерно 2,0%, от примерно 0,5% до примерно 2,5%, от примерно 0,5% до примерно 3,0%, от примерно 0,5% до примерно 4,0%, от примерно 0,5% до примерно 5,0%, от примерно 0,5% до примерно 6,0%, от примерно 0,5% до примерно 7,0%, от примерно 0,5% до примерно 8,0%, от примерно 0,5% до примерно 9,0%, от примерно 0,5% до примерно 10,0%, от примерно 1,0% до примерно 2,5%, от примерно 1,0% до примерно 3,0%, от примерно 1,0% до примерно 4,0%, от примерно 1,0% до примерно 5,0%, от примерно 1,0% до примерно 6,0%, от примерно 1,0% до примерно 7,0%, от примерно 1,0% до примерно 7,5%, от примерно 1,0% до примерно 8,0%, от примерно 1,0% до примерно 9,0%, от примерно 1,0% до примерно 10,0%, от примерно 1,0% до примерно 15,0%, от примерно 1,0% до примерно 20,0%, от примерно 1,0% до примерно 25,0%, от примерно 1,0% до примерно 30,0%, от примерно 2,0% до примерно 2,5%, от примерно 2,0% до примерно 3,0%, от примерно 2,0% до примерно 4,0%, от примерно 2,0% до примерно 5,0%, от примерно 2,0% до примерно 6,0%, от примерно 2,0% до примерно 7,0%, от примерно 2,0% до примерно 7,5%, от примерно 2,0% до примерно 8,0%, от примерно 2,0% до примерно 9,0%, от примерно 2,0% до примерно 10,0%, от примерно 2,0% до примерно 15,0%, от примерно 2,0% до примерно 20,0%, от примерно 2,0% до примерно 25,0%, от примерно 2,0% до примерно 30,0%, от примерно 5,0% до примерно 6,0%, от примерно 5,0% до примерно 7,0%, от примерно 5,0% до примерно 7,5%, от примерно 5,0% до примерно 8,0%, от примерно 5,0% до примерно 9,0%, от примерно 5,0% до примерно 10,0%, от примерно 5,0% до примерно 11,0%, от примерно 5,0% до примерно 12,0%, от примерно 5,0% до примерно 13,0%, от примерно 5,0% до примерно 14,0%, от примерно 5,0% до примерно 15,0%, от примерно 5,0% до примерно 20,0%, от примерно 5,0% до примерно 25,0%, от примерно 5,0% до примерно 30,0%, от примерно 10,0% до примерно 15,0%, от примерно 10,0% до примерно 20,0%, от примерно 10,0% до примерноIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a compound containing a guanide moiety in an amount of, for example, from about 0.1% to about 0.5%, from about 0.1% to about 0.75 %, from about 0.1% to about 1.0%, from about 0.1% to about 1.5%, from about 0.1% to about 2.0%, from about 0.1% to about 2 .5%, from about 0.1% to about 3.0%, from about 0.1% to about 3.5%, from about 0.1% to about 4.0%, from about 0.1% to about 4.5%, about 0.1% to about 5.0%, about 0.2% to about 0.5%, about 0.2% to about 0.75%, about 0.2 % to about 1.0%, from about 0.2% to about 1.5%, from about 0.2% to about 2.0%, from about 0.2% to about 2.5%, from about 0 .2% to about 3.0%, from about 0.2% to about 3.5%, from about 0.2% to about 4.0%, from about 0.2% to about 4.5%, from about 0.2% to about 5.0%, about 0.5% to about 1.0%, about 0.5% to about 1.5%, about 0.5% to about 2.0% , from about 0.5% to about 2.5%, from about 0.5% to about 3.0%, from about 0.5% to about 4.0%, from about 0.5% to about 5, 0%, from about 0.5% to about 6.0%, from about 0.5% to about 7.0%, from about 0.5% to about 8.0%, from about 0.5% to about 9.0%, from about 0.5% to about 10.0%, from about 1.0% to about 2.5%, from about 1.0% to about 3.0%, from about 1.0% to about 4.0%, from about 1.0% to about 5.0%, from about 1.0% to about 6.0%, from about 1.0% to about 7.0%, from about 1, 0% to about 7.5%, from about 1.0% to about 8.0%, from about 1.0% to about 9.0%, from about 1.0% to about 10.0%, from about 1.0% to about 15.0%, from about 1.0% to about 20.0%, from about 1.0% to about 25.0%, from about 1.0% to about 30.0%, from about 2.0% to about 2.5%, from about 2.0% to about 3.0%, from about 2.0% to about 4.0%, from about 2.0% to about 5.0 %, from about 2.0% to about 6.0%, from about 2.0% to about 7.0%, from about 2.0% to about 7.5%, from about 2.0% to about 8 .0%, from about 2.0% to about 9.0%, from about 2.0% to about 10.0%, from about 2.0% to about 15.0%, from about 2.0% to about 20.0%, about 2.0% to about 25.0%, about 2.0% to about 30.0%, about 5.0% to about 6.0%, about 5.0 % to about 7.0%, from about 5.0% to about 7.5%, from about 5.0% to about 8.0%, from about 5.0% to about 9.0%, from about 5 .0% to about 10.0%, from about 5.0% to about 11.0%, from about 5.0% to about 12.0%, from about 5.0% to about 13.0%, from about 5.0% to about 14.0%, about 5.0% to about 15.0%, about 5.0% to about 20.0%, about 5.0% to about 25.0% , from about 5.0% to about 30.0%, from about 10.0% to about 15.0%, from about 10.0% to about 20.0%, from about 10.0% to about

25,0%, от примерно 10,0% до примерно 30,0%, от примерно 15,0% до примерно 20,0%, от примерно25.0%, from about 10.0% to about 30.0%, from about 15.0% to about 20.0%, from about

15,0% до примерно 25,0%, от примерно 15,0% до примерно 30,0%, от примерно 20,0% до примерно15.0% to about 25.0%, from about 15.0% to about 30.0%, from about 20.0% to about

25,0%, от примерно 20,0% до примерно 30,0% или от примерно 20,0% до примерно 30,0% от массы композиции.25.0%, from about 20.0% to about 30.0%, or from about 20.0% to about 30.0% by weight of the composition.

В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит соединение, содержащее гуанидный фрагмент. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит бигуанид. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит соединение, содержащее бигуанидный фрагмент. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит бигуанидин. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит соединение, содержащее бигуанидиновый фрагмент. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит тригуанид. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит соединение, содержащее тригуанидный фрагмент.In another embodiment, the composition described in the present invention does not contain a compound containing a guanide moiety. In another embodiment, the composition described in the present invention does not contain a biguanide. In another embodiment, the composition described in the present invention does not contain a compound containing a biguanide moiety. In another embodiment, the composition described in the present invention does not contain biguanidine. In another embodiment, the composition described in the present invention does not contain a compound containing a biguanidine moiety. In another embodiment, the composition described in the present invention does not contain triguanide. In another embodiment, the composition described in the present invention does not contain a compound containing a triguanide moiety.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, может содержать спирт. Спирт представляет собой органическую молекулу, содержащую гидроксильную функциональную группу (-ОН), связанную с атомом углерода, при этом атом углерода является насыщенным. В аспектах согласно указанному варианту реализации спирт может представлять собой, например, С2-4 спирт, C1_4 спирт, C1_5 спирт, C1_7 спирт, Сто спирт, С1-15 спирт или С1-2о спирт. В других аспектах согласно указанному варианту реализации спирт может представлять собой, например, первичный спирт, вторичный спирт или третичный спирт. В других аспектах согласно указанному варианту реализации спирт может представлять собой, например,The composition described in the present invention may contain alcohol. An alcohol is an organic molecule containing a hydroxyl functional group (-OH) bonded to a carbon atom, where the carbon atom is saturated. In aspects of this embodiment, the alcohol may be, for example, a C2-4 alcohol, a C1_4 alcohol, a C1_5 alcohol, a C1_7 alcohol, a hundred alcohol, a C1-15 alcohol, or a C1-2o alcohol. In other aspects, according to this embodiment, the alcohol may be, for example, a primary alcohol, a secondary alcohol, or a tertiary alcohol. In other aspects, according to this embodiment, the alcohol may be, for example,

- 19 043933 ациклический спирт, одноатомный спирт, многоатомный спирт (также известный как полиол или сахарный спирт), ненасыщенный алифатический спирт, алициклический спирт или их комбинацию. Примеры одноатомных спиртов включают, без ограничений, метанол, этанол, пропанол, изопропанол, бутанол, пентанол и 1-гексадеканол. Примеры многоатомных спиртов включают, без ограничений, гликоль, глицерин, арабит, эритрит, ксилит, мальтит, сорбит (глюцит), маннит, инозит, лактит, галактит (идит) и изомальт. Примеры ненасыщенных алифатических спиртов включают, без ограничений, проп-2-ен-1-ол, 3,7диметилокта-2,6-диен-1-ол и проп-2-ин-1-ол. Примеры алициклических спиртов включают, без ограничений, циклогексан-1,2,3,4,5,6-гексол и 2-(2-пропил)-5-метил-циклогексан-1-ол.- 19 043933 acyclic alcohol, monohydric alcohol, polyhydric alcohol (also known as polyol or sugar alcohol), unsaturated aliphatic alcohol, alicyclic alcohol or a combination thereof. Examples of monohydric alcohols include, but are not limited to, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, pentanol, and 1-hexadecanol. Examples of polyhydric alcohols include, but are not limited to, glycol, glycerin, arabitol, erythritol, xylitol, maltitol, sorbitol (glucite), mannitol, inositol, lactitol, galactitol (iditol), and isomalt. Examples of unsaturated aliphatic alcohols include, but are not limited to, prop-2-en-1-ol, 3,7dimethylocta-2,6-dien-1-ol, and prop-2-yn-1-ol. Examples of alicyclic alcohols include, but are not limited to, cyclohexane-1,2,3,4,5,6-hexol and 2-(2-propyl)-5-methylcyclohexan-1-ol.

В одном из вариантов реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, содержится один спирт. В другом варианте реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, содержится множество спиртов. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, один или более спиртов, два или более спиртов, три или более спиртов, четыре или более спиртов или пять или более спиртов. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, только один спирт, не более двух спиртов, не более трех спиртов, не более четырех спиртов или не более пяти спиртов. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, от 1 до 2 спиртов, от 1 до 3 спиртов, от 1 до 4 спиртов, от 1 до 5 спиртов, от 2 до 3 спиртов, от 2 до 4 спиртов, от 2 до 5 спиртов, от 3 до 4 спиртов, от 3 до 5 спиртов или от 4 до 5 спиртов.In one embodiment, the composition described in the present invention contains one alcohol. In another embodiment, the composition described in the present invention contains a plurality of alcohols. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, one or more alcohols, two or more alcohols, three or more alcohols, four or more alcohols, or five or more alcohols. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, only one alcohol, no more than two alcohols, no more than three alcohols, no more than four alcohols, or no more than five alcohols. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, from 1 to 2 alcohols, from 1 to 3 alcohols, from 1 to 4 alcohols, from 1 to 5 alcohols, from 2 to 3 alcohols, from 2 up to 4 alcohols, from 2 to 5 alcohols, from 3 to 4 alcohols, from 3 to 5 alcohols or from 4 to 5 alcohols.

В аспектах согласно указанному варианту реализации множество спиртов, содержащихся в композиции, описанной в настоящем изобретении, может составлять, например, примерно 99% первого спирта и примерно 1% второго спирта, примерно 98% первого спирта и примерно 2% второго спирта, примерно 97% первого спирта и примерно 3% второго спирта, примерно 96% первого спирта и примерно 4% второго спирта, примерно 95% первого спирта и примерно 5% второго спирта, примерно 90% первого спирта и примерно 10% второго спирта, примерно 80% первого спирта и примерно 20% второго спирта, примерно 70% первого спирта и примерно 30% второго спирта, примерно 60% первого спирта и примерно 40% второго спирта, примерно 50% первого спирта и примерно 50% второго спирта, примерно 40% первого спирта и примерно 60% второго спирта, примерно 30% первого спирта и примерно 70% второго спирта, примерно 20% первого спирта и примерно 80% второго спирта, примерно 10% первого спирта и примерно 90% второго спирта, примерно 5% первого спирта и примерно 95% второго спирта. В других аспектах согласно указанному варианту реализации отношение первого спирта ко второму спирту составляет, например, 100:1, 90:1, 80:1, 70:1, 60:1, 50:1, 40:1, 30:1, 20:1, 19:1, 18:1, 17:1, 16:1, 15:1, 14:1, 13:1, 12:1, 11:1, 10:1, 9:1, 8:1, 7:1, 6:1, 5:1, 4:1, 3:1, 2:1, 1:1, 1:2, 1:3, 1:4, 1:5, 1:6, 1:7, 1:8, 1:9, 1:10, 1:11, 1:12, 1:13, 1:14, 1:15, 1:16, 1:17, 1:18, 1:19, 1:20, 1:30, 1:40, 1:50, 1:60, 1:70, 1:80, 1:90 или 1:100. В других аспектах первый спирт представляет собой изопропанол, и второй спирт представляет собой этанол.In aspects according to this embodiment, the plurality of alcohols contained in the composition described in the present invention may be, for example, about 99% of the first alcohol and about 1% of the second alcohol, about 98% of the first alcohol and about 2% of the second alcohol, about 97% first alcohol and about 3% second alcohol, about 96% first alcohol and about 4% second alcohol, about 95% first alcohol and about 5% second alcohol, about 90% first alcohol and about 10% second alcohol, about 80% first alcohol and about 20% second alcohol, about 70% first alcohol and about 30% second alcohol, about 60% first alcohol and about 40% second alcohol, about 50% first alcohol and about 50% second alcohol, about 40% first alcohol and about 60% second alcohol, about 30% first alcohol and about 70% second alcohol, about 20% first alcohol and about 80% second alcohol, about 10% first alcohol and about 90% second alcohol, about 5% first alcohol and about 95% second alcohol. In other aspects, according to this embodiment, the ratio of the first alcohol to the second alcohol is, for example, 100:1, 90:1, 80:1, 70:1, 60:1, 50:1, 40:1, 30:1, 20 :1, 19:1, 18:1, 17:1, 16:1, 15:1, 14:1, 13:1, 12:1, 11:1, 10:1, 9:1, 8:1 , 7:1, 6:1, 5:1, 4:1, 3:1, 2:1, 1:1, 1:2, 1:3, 1:4, 1:5, 1:6, 1 :7, 1:8, 1:9, 1:10, 1:11, 1:12, 1:13, 1:14, 1:15, 1:16, 1:17, 1:18, 1:19 , 1:20, 1:30, 1:40, 1:50, 1:60, 1:70, 1:80, 1:90 or 1:100. In other aspects, the first alcohol is isopropanol and the second alcohol is ethanol.

Можно использовать любое количество описанного в настоящем изобретении спирта, при условии, что это количество подходит для применения способов, описанных в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит спирт в количестве, например, примерно 0,5%, примерно 1%, примерно 2%, примерно 3%, примерно 4%, примерно 5%, примерно 6%, примерно 7%, примерно 8%, примерно 9%, примерно 10%, примерно 11%, примерно 12%, примерно 13%, примерно 14%, примерно 15%, примерно 20%, примерно 25%, примерно 30%, примерно 35%, примерно 40%, примерно 45%, примерно 50%, примерно 55%, примерно 60%, примерно 65%, примерно 70%, примерно 75%, примерно 80%, примерно 85%, примерно 90%, примерно 95%, примерно 96%, примерно 97%, примерно 98% или примерно 99% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит спирт в количестве, например, по меньшей мере 0,5%, по меньшей мере 1%, по меньшей мере 2%, по меньшей мере 3%, по меньшей мере 4%, по меньшей мере 5%, по меньшей мере 6%, по меньшей мере 7%, по меньшей мере 8%, по меньшей мере 9%, по меньшей мере 10%, по меньшей мере 11%, по меньшей мере 12%, по меньшей мере 13%, по меньшей мере 14%, по меньшей мере 15%, по меньшей мере 20%, по меньшей мере 25%, по меньшей мере 30%, по меньшей мере 35%, по меньшей мере 40%, по меньшей мере 45%, по меньшей мере 50%, по меньшей мере 55%, по меньшей мере 60%, по меньшей мере 65%, по меньшей мере 70%, по меньшей мере 75%, по меньшей мере 80%, по меньшей мере 85%, по меньшей мере 90%, по меньшей мере 95%, по меньшей мере 96%, по меньшей мере 97%, по меньшей мере 98% или по меньшей мере 99% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит спирт в количестве, например, не более 0,5%, не более 1%, не более 2%, не более 3%, не более 4%, не более 5%, не более 6%, не более 7%, не более 8%, не более 9%, не более 10%, не более 11%, не более 12%, не более 13%, не более 14%, не более 15%, не более 20%, не более 25%, не более 30%, не более 35%, не более 40%, не более 45%, не более 50%, не более 55%, не более 60%, не более 65%, не более 70%, не более 75%, не более 80%, не более 85%, не более 90%, не более 95%, не более 96%, не более 97%, не более 98% или не более 99% от массы композиции.Any amount of the alcohol described in the present invention can be used, provided that the amount is suitable for the use of the methods described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains alcohol in an amount of, for example, about 0.5%, about 1%, about 2%, about 3%, about 4%, about 5%, about 6%, approximately 7%, approximately 8%, approximately 9%, approximately 10%, approximately 11%, approximately 12%, approximately 13%, approximately 14%, approximately 15%, approximately 20%, approximately 25%, approximately 30%, approximately 35 %, approximately 40%, approximately 45%, approximately 50%, approximately 55%, approximately 60%, approximately 65%, approximately 70%, approximately 75%, approximately 80%, approximately 85%, approximately 90%, approximately 95%, about 96%, about 97%, about 98%, or about 99% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains alcohol in an amount of, for example, at least 0.5%, at least 1%, at least 2%, at least 3%, at least 4%, at least 5%, at least 6%, at least 7%, at least 8%, at least 9%, at least 10%, at least 11%, at least 12% , at least 13%, at least 14%, at least 15%, at least 20%, at least 25%, at least 30%, at least 35%, at least 40%, according to at least 45%, at least 50%, at least 55%, at least 60%, at least 65%, at least 70%, at least 75%, at least 80%, at least 85%, at least 90%, at least 95%, at least 96%, at least 97%, at least 98% or at least 99% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains alcohol in an amount of, for example, no more than 0.5%, no more than 1%, no more than 2%, no more than 3%, no more than 4%, no more 5%, no more than 6%, no more than 7%, no more than 8%, no more than 9%, no more than 10%, no more than 11%, no more than 12%, no more than 13%, no more than 14%, no more 15%, no more than 20%, no more than 25%, no more than 30%, no more than 35%, no more than 40%, no more than 45%, no more than 50%, no more than 55%, no more than 60%, no more 65%, no more than 70%, no more than 75%, no more than 80%, no more than 85%, no more than 90%, no more than 95%, no more than 96%, no more than 97%, no more than 98% or no more 99% by weight of the composition.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящемIn other aspects, according to this embodiment, the composition described herein

- 20 043933 изобретении, содержит спирт в количестве, например, от примерно 0,05% до примерно 0,75%, от примерно 0,05% до примерно 1,0%, от примерно 0,05% до примерно 1,5%, от примерно 0,05% до примерно 2,0%, от примерно 0,05% до примерно 2,5%, от примерно 0,1% до примерно 0,5%, от примерно 0,1% до примерно 0,75%, от примерно 0,1% до примерно 1,0%, от примерно 0,1% до примерно 1,5%, от примерно 0,1% до примерно 2,0%, от примерно 0,1% до примерно 2,5%, от примерно 0,1% до примерно 3,0%, от примерно 0,1% до примерно 4,0%, от примерно 0,1% до примерно 5,0%, от примерно 0,2% до примерно 0,5%, от примерно 0,2% до примерно 0,75%, от примерно 0,2% до примерно 1,0%, от примерно 0,2% до примерно 1,5%, от примерно 0,2% до примерно 2,0%, от примерно 0,2% до примерно 2,5%, от примерно 0,2% до примерно 3,0%, от примерно 0,2% до примерно 4,0%, от примерно 0,2% до примерно 5,0%, от примерно 0,5% до примерно 1,0%, от примерно 0,5% до примерно 1,5%, от примерно 0,5% до примерно 2,0%, от примерно 0,5% до примерно 2,5%, от примерно 0,5% до примерно 3,0%, от примерно 0,5% до примерно 4,0%, от примерно 0,5% до примерно 5,0%, от примерно 0,5% до примерно 6,0%, от примерно 0,5% до примерно 7,0%, от примерно 0,5% до примерно 8,0%, от примерно 0,5% до примерно 9,0%, от примерно 0,5% до примерно 10,0%, от примерно 1,0% до примерно 2,5%, от примерно 1,0% до примерно 3,0%, от примерно 1,0% до примерно 4,0%, от примерно 1,0% до примерно 5,0%, от примерно 1,0% до примерно 6,0%, от примерно 1,0% до примерно 7,0%, от примерно 1,0% до примерно 7,5%, от примерно 1,0% до примерно 8,0%, от примерно 1,0% до примерно 9,0%, от примерно 1,0% до примерно 10,0%, от примерно 2,0% до примерно 2,5%, от примерно 2,0% до примерно 3,0%, от примерно 2,0% до примерно 4,0%, от примерно 2,0% до примерно 5,0%, от примерно 2,0% до примерно 6,0%, от примерно 2,0% до примерно 7,0%, от примерно 2,0% до примерно 7,5%, от примерно 2,0% до примерно 8,0%, от примерно 2,0% до примерно 9,0%, от примерно 2,0% до примерно 10,0%, от примерно 5,0% до примерно 6,0%, от примерно 5,0% до примерно 7,0%, от примерно 5,0% до примерно 7,5%, от примерно 5,0% до примерно 8,0%, от примерно 5,0% до примерно 9,0%, от примерно 5,0% до примерно 10,0%, от примерно 5,0% до примерно 11,0%, от примерно 5,0% до примерно 12,0%, от примерно 5,0% до примерно 13,0%, от примерно 5,0% до примерно 14,0% или от примерно 5,0% до примерно 15,0% от массы композиции, или от примерно 10% до примерно 20%, от примерно 10% до примерно 30%, от примерно 10% до примерно 40%, от примерно 10% до примерно 50%, от примерно 10% до примерно 60%, от примерно 10% до примерно 70%, от примерно 10% до примерно 80%, от примерно 10% до примерно 90%, от примерно 10% до примерно 95%, от примерно 10% до примерно 97%, от примерно 10% до примерно 99%, от примерно 20% до примерно 30%, от примерно 20% до примерно 40%, от примерно 20% до примерно 50%, от примерно 20% до примерно 60%, от примерно 20% до примерно 70%, от примерно 20% до примерно 80%, от примерно 20% до примерно 90%, от примерно 20% до примерно 95%, от примерно 20% до примерно 97%, от примерно 20% до примерно 99%, от примерно 30% до примерно 40%, от примерно 30% до примерно 50%, от примерно 30% до примерно 60%, от примерно 30% до примерно 70%, от примерно 30% до примерно 80%, от примерно 30% до примерно 90%, от примерно 30% до примерно 95%, от примерно 30% до примерно 97%, от примерно 30% до примерно 99%, от примерно 40% до примерно 50%, от примерно 40% до примерно 60%, от примерно 40% до примерно 70%, от примерно 40% до примерно 80%, от примерно 40% до примерно 90%, от примерно 40% до примерно 95%, от примерно 40% до примерно 97%, от примерно 40% до примерно 99%, от примерно 50% до примерно 60%, от примерно 50% до примерно 70%, от примерно 50% до примерно 80%, от примерно 50% до примерно 90%, от примерно 50% до примерно 95%, от примерно 50% до примерно 97%, от примерно 50% до примерно 99%, от примерно 60% до примерно 70%, от примерно 60% до примерно 80%, от примерно 60% до примерно 90%, от примерно 60% до примерно 95%, от примерно 60% до примерно 97%, от примерно 60% до примерно 99%, от примерно 70% до примерно 80%, от примерно 70% до примерно 90%, от примерно 70% до примерно 95%, от примерно 70% до примерно 97%, от примерно 70% до примерно 99%, от примерно 80% до примерно 90%, от примерно 80% до примерно 95%, от примерно 80% до примерно 97%, от примерно 80% до примерно 99%, от примерно 90% до примерно 95%, от примерно 90% до примерно 97%, от примерно 90% до примерно 99% от массы композиции.- 20 043933 invention, contains alcohol in an amount, for example, from about 0.05% to about 0.75%, from about 0.05% to about 1.0%, from about 0.05% to about 1.5% , from about 0.05% to about 2.0%, from about 0.05% to about 2.5%, from about 0.1% to about 0.5%, from about 0.1% to about 0, 75%, about 0.1% to about 1.0%, about 0.1% to about 1.5%, about 0.1% to about 2.0%, about 0.1% to about 2.5%, from about 0.1% to about 3.0%, from about 0.1% to about 4.0%, from about 0.1% to about 5.0%, from about 0.2% to about 0.5%, from about 0.2% to about 0.75%, from about 0.2% to about 1.0%, from about 0.2% to about 1.5%, from about 0. 2% to about 2.0%, from about 0.2% to about 2.5%, from about 0.2% to about 3.0%, from about 0.2% to about 4.0%, from about 0.2% to about 5.0%, from about 0.5% to about 1.0%, from about 0.5% to about 1.5%, from about 0.5% to about 2.0%, from about 0.5% to about 2.5%, from about 0.5% to about 3.0%, from about 0.5% to about 4.0%, from about 0.5% to about 5.0 %, from about 0.5% to about 6.0%, from about 0.5% to about 7.0%, from about 0.5% to about 8.0%, from about 0.5% to about 9 .0%, from about 0.5% to about 10.0%, from about 1.0% to about 2.5%, from about 1.0% to about 3.0%, from about 1.0% to about 4.0%, about 1.0% to about 5.0%, about 1.0% to about 6.0%, about 1.0% to about 7.0%, about 1.0 % to about 7.5%, from about 1.0% to about 8.0%, from about 1.0% to about 9.0%, from about 1.0% to about 10.0%, from about 2 .0% to about 2.5%, from about 2.0% to about 3.0%, from about 2.0% to about 4.0%, from about 2.0% to about 5.0%, from about 2.0% to about 6.0%, about 2.0% to about 7.0%, about 2.0% to about 7.5%, about 2.0% to about 8.0% , from about 2.0% to about 9.0%, from about 2.0% to about 10.0%, from about 5.0% to about 6.0%, from about 5.0% to about 7, 0%, from about 5.0% to about 7.5%, from about 5.0% to about 8.0%, from about 5.0% to about 9.0%, from about 5.0% to about 10.0%, from about 5.0% to about 11.0%, from about 5.0% to about 12.0%, from about 5.0% to about 13.0%, from about 5.0% to about 14.0%, or from about 5.0% to about 15.0% by weight of the composition, or from about 10% to about 20%, from about 10% to about 30%, from about 10% to about 40% , from about 10% to about 50%, from about 10% to about 60%, from about 10% to about 70%, from about 10% to about 80%, from about 10% to about 90%, from about 10% to about 95%, from about 10% to about 97%, from about 10% to about 99%, from about 20% to about 30%, from about 20% to about 40%, from about 20% to about 50%, from about 20% to about 60%, from about 20% to about 70%, from about 20% to about 80%, from about 20% to about 90%, from about 20% to about 95%, from about 20% to about 97%, from about 20% to about 99%, from about 30% to about 40%, from about 30% to about 50%, from about 30% to about 60%, from about 30% to about 70%, from about 30% to about 80%, about 30% to about 90%, about 30% to about 95%, about 30% to about 97%, about 30% to about 99%, about 40% to about 50%, from about 40% to about 60%, from about 40% to about 70%, from about 40% to about 80%, from about 40% to about 90%, from about 40% to about 95%, from about 40% to about 97%, from about 40% to about 99%, from about 50% to about 60%, from about 50% to about 70%, from about 50% to about 80%, from about 50% to about 90 %, from about 50% to about 95%, from about 50% to about 97%, from about 50% to about 99%, from about 60% to about 70%, from about 60% to about 80%, from about 60 % to about 90%, from about 60% to about 95%, from about 60% to about 97%, from about 60% to about 99%, from about 70% to about 80%, from about 70% to about 90% , from about 70% to about 95%, from about 70% to about 97%, from about 70% to about 99%, from about 80% to about 90%, from about 80% to about 95%, from about 80% to about 97%, from about 80% to about 99%, from about 90% to about 95%, from about 90% to about 97%, from about 90% to about 99% by weight of the composition.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит множество спиртов в общем количестве, например, примерно 10%, примерно 15%, примерно 20%, примерно 25%, примерно 30%, примерно 35%, примерно 40%, примерно 45%, примерно 50%, примерно 55%, примерно 60%, примерно 65%, примерно 70%, примерно 75%, примерно 80%, примерно 85%, примерно 90%, примерно 95%, примерно 96%, примерно 97%, примерно 98% или примерно 99% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит множество спиртов в общем количестве, например, по меньшей мере 10%, по меньшей мере 15%, по меньшей мере 20%, по меньшей мере 25%, по меньшей мере 30%, по меньшей мере 35%, по меньшей мере 40%, по меньшей мере 45%, по меньшей мере 50%, по меньшей мере 55%, по меньшей мере 60%, по меньшей мере 65%, по меньшей мере 70%, по меньшей мере 75%, по меньшей мере 80%, по меньшей мере 85%, по меньшей мере 90%, по меньшей мере 95%, по меньшей мере 96%, по меньшей мере 97%, по меньшей мере 98% или по меньшей мере 99% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит множество спиртов в общем количестве, например, не более 10%, неIn aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a plurality of alcohols in a total amount, for example, about 10%, about 15%, about 20%, about 25%, about 30%, about 35%, about 40%, about 45%, about 50%, about 55%, about 60%, about 65%, about 70%, about 75%, about 80%, about 85%, about 90%, about 95%, about 96%, about 97 %, about 98% or about 99% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a plurality of alcohols in a total amount, for example, at least 10%, at least 15%, at least 20%, at least 25%, at least 30%, at least 35%, at least 40%, at least 45%, at least 50%, at least 55%, at least 60%, at least 65%, at least 70% , at least 75%, at least 80%, at least 85%, at least 90%, at least 95%, at least 96%, at least 97%, at least 98% or according at least 99% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a plurality of alcohols in a total amount, for example, not more than 10%, not

- 21 043933 более 15%, не более 20%, не более 25%, не более 30%, не более 35%, не более 40%, не более 45%, не более 50%, не более 55%, не более 60%, не более 65%, не более 70%, не более 75%, не более 80%, не более 85%, не более 90%, не более 95%, не более 96%, не более 97%, не более 98% или не более 99% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит множество спиртов в общем количестве, например, от примерно 10% до примерно 20%, от примерно 10% до примерно 30%, от примерно 10% до примерно 40%, от примерно 10% до примерно 50%, от примерно 10% до примерно 60%, от примерно 10% до примерно 70%, от примерно 10% до примерно 80%, от примерно 10% до примерно 90%, от примерно 10% до примерно 95%, от примерно 10% до примерно 97%, от примерно 10% до примерно 99%, от примерно 20% до примерно 30%, от примерно 20% до примерно 40%, от примерно 20% до примерно 50%, от примерно 20% до примерно 60%, от примерно 20% до примерно 70%, от примерно 20% до примерно 80%, от примерно 20% до примерно 90%, от примерно 20% до примерно 95%, от примерно 20% до примерно 97%, от примерно 20% до примерно 99%, от примерно 30% до примерно 40%, от примерно 30% до примерно 50%, от примерно 30% до примерно 60%, от примерно 30% до примерно 70%, от примерно 30% до примерно 80%, от примерно 30% до примерно 90%, от примерно 30% до примерно 95%, от примерно 30% до примерно 97%, от примерно 30% до примерно 99%, от примерно 35% до примерно 40%, от примерно 35% до примерно 50%, от примерно 35% до примерно 60%, от примерно 35% до примерно 70%, от примерно 35% до примерно 80%, от примерно 35% до примерно 90%, от примерно 35% до примерно 95%, от примерно 35% до примерно 97%, от примерно 35% до примерно 99%, от примерно 40% до примерно 50%, от примерно 40% до примерно 60%, от примерно 40% до примерно 70%, от примерно 40% до примерно 80%, от примерно 40% до примерно 90%, от примерно 40% до примерно 95%, от примерно 40% до примерно 97%, от примерно 40% до примерно 99%, от примерно 45% до примерно 50%, от примерно 45% до примерно 60%, от примерно 45% до примерно 70%, от примерно 45% до примерно 80%, от примерно 45% до примерно 90%, от примерно 45% до примерно 95%, от примерно 45% до примерно 97%, от примерно 45% до примерно 99%, от примерно 50% до примерно 60%, от примерно 50% до примерно 70%, от примерно 50% до примерно 80%, от примерно 50% до примерно 90%, от примерно 50% до примерно 95%, от примерно 50% до примерно 97%, от примерно 50% до примерно 99%, от примерно 60% до примерно 70%, от примерно 60% до примерно 80%, от примерно 60% до примерно 90%, от примерно 60% до примерно 95%, от примерно 60% до примерно 97%, от примерно 60% до примерно 99%, от примерно 70% до примерно 80%, от примерно 70% до примерно 90%, от примерно 70% до примерно 95%, от примерно 70% до примерно 97%, от примерно 70% до примерно 99%, от примерно 80% до примерно 90%, от примерно 80% до примерно 95%, от примерно 80% до примерно 97%, от примерно 80% до примерно 99%, от примерно 90% до примерно 95%, от примерно 90% до примерно 97%, от примерно 90% до примерно 99% от массы композиции.- 21 043933 more than 15%, no more than 20%, no more than 25%, no more than 30%, no more than 35%, no more than 40%, no more than 45%, no more than 50%, no more than 55%, no more than 60 %, no more than 65%, no more than 70%, no more than 75%, no more than 80%, no more than 85%, no more than 90%, no more than 95%, no more than 96%, no more than 97%, no more than 98 % or not more than 99% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a plurality of alcohols in a total amount, for example, from about 10% to about 20%, from about 10% to about 30%, from about 10% to about 40%, from about 10% to about 50%, from about 10% to about 60%, from about 10% to about 70%, from about 10% to about 80%, from about 10% to about 90%, from about 10% to about 95%, from about 10% to about 97%, from about 10% to about 99%, from about 20% to about 30%, from about 20% to about 40%, from about 20% to about 50%, from about 20% to about 60%, about 20% to about 70%, about 20% to about 80%, about 20% to about 90%, about 20% to about 95%, about 20% to about 97%, from about 20% to about 99%, from about 30% to about 40%, from about 30% to about 50%, from about 30% to about 60%, from about 30% to about 70%, from about 30% to about 80%, from about 30% to about 90%, from about 30% to about 95%, from about 30% to about 97%, from about 30% to about 99%, from about 35% to about 40 %, from about 35% to about 50%, from about 35% to about 60%, from about 35% to about 70%, from about 35% to about 80%, from about 35% to about 90%, from about 35 % to about 95%, from about 35% to about 97%, from about 35% to about 99%, from about 40% to about 50%, from about 40% to about 60%, from about 40% to about 70% , from about 40% to about 80%, from about 40% to about 90%, from about 40% to about 95%, from about 40% to about 97%, from about 40% to about 99%, from about 45% to about 50%, from about 45% to about 60%, from about 45% to about 70%, from about 45% to about 80%, from about 45% to about 90%, from about 45% to about 95%, from about 45% to about 97%, from about 45% to about 99%, from about 50% to about 60%, from about 50% to about 70%, from about 50% to about 80%, from about 50% to about 90%, from about 50% to about 95%, from about 50% to about 97%, from about 50% to about 99%, from about 60% to about 70%, from about 60% to about 80%, from about 60% to about 90%, about 60% to about 95%, about 60% to about 97%, about 60% to about 99%, about 70% to about 80%, about 70% to about 90%, from about 70% to about 95%, from about 70% to about 97%, from about 70% to about 99%, from about 80% to about 90%, from about 80% to about 95%, from about 80% to about 97%, from about 80% to about 99%, from about 90% to about 95%, from about 90% to about 97%, from about 90% to about 99% by weight of the composition.

В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит спирт.In another embodiment, the composition described in the present invention does not contain alcohol.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, может содержать металлические частицы. Металлическая частица может состоять из одного элемента, такого как, например, медь, железо, серебро, титан или цинк, или может представлять собой смешанную металлическую частицу, состоящую из различных комбинаций разных элементов, таких как, например, различные комбинации двух или более из следующих элементов: медь, железо, серебро, титан или цинк. Неограничивающие примеры металлических частиц включают частицу меди, частицу железа, частицу калия, частицу серебра, частицу титана и частицу цинка. Другие неограничивающие примеры металлических частиц включают частицу ацетата металла, частицу хлорида металла, частицу нитрата металла или частицу оксида металла. Частицы ацетата металла включают, без ограничений, ацетат меди, ацетат железа, например, ацетат железа (II) и ацетат железа (III), ацетат серебра, ацетат титана, ацетат цинка или любую их комбинацию. Частицы нитрата металла включают, без ограничений, нитрат меди, нитрат железа, например, нитрат железа (II), нитрат железа (III), нитрат серебра, нитрат титана, нитрат цинка или любую их комбинацию. Частицы хлорида металла включают, без ограничений, хлорид меди, хлорид железа, например, хлорид железа (II) или хлорид железа (III), хлорид серебра, хлорид титана, хлорид цинка или любую их комбинацию. Частицы оксида металла включают, без ограничений, оксид меди, оксид железа, например, оксид железа (II), оксид железа (III), оксид серебра, оксид титана, оксид цинка, смешанный оксид меди, цинка и железа или любую их комбинацию.The composition described in the present invention may contain metal particles. The metal particle may be composed of a single element, such as, for example, copper, iron, silver, titanium or zinc, or may be a mixed metal particle consisting of various combinations of different elements, such as, for example, various combinations of two or more of the following elements: copper, iron, silver, titanium or zinc. Non-limiting examples of metal particles include a copper particle, an iron particle, a potassium particle, a silver particle, a titanium particle, and a zinc particle. Other non-limiting examples of metal particles include a metal acetate particle, a metal chloride particle, a metal nitrate particle, or a metal oxide particle. Metal acetate particles include, but are not limited to, copper acetate, iron acetate, such as iron(II) acetate and iron(III) acetate, silver acetate, titanium acetate, zinc acetate, or any combination thereof. Metal nitrate particles include, but are not limited to, copper nitrate, iron nitrate, such as iron(II) nitrate, iron(III) nitrate, silver nitrate, titanium nitrate, zinc nitrate, or any combination thereof. Metal chloride particles include, but are not limited to, copper chloride, ferric chloride, such as ferric (II) chloride or ferric (III) chloride, silver chloride, titanium chloride, zinc chloride, or any combination thereof. The metal oxide particles include, but are not limited to, copper oxide, iron oxide, such as iron(II) oxide, iron(III) oxide, silver oxide, titanium oxide, zinc oxide, mixed copper-zinc-iron oxide, or any combination thereof.

Металлические частицы включают наночастицы и микрочастицы. Наночастицы имеют средний диаметр от примерно 1 но до примерно 1000 нм. Микрочастицы имеют средний диаметр от примерно 1 мкм до примерно 1000 мкм.Metal particles include nanoparticles and microparticles. Nanoparticles have an average diameter from about 1 nm to about 1000 nm. The microparticles have an average diameter of from about 1 μm to about 1000 μm.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, которое придает желаемый полезный эффект композиции, описанной в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, 0,05 ppm, 0,10 ppm, 0,15 ppm, 0,20 ppm, 0,25 ppm, 0,30 ppm, 0,35 ppm, 0,40 ppm, 0,45 ppm, 0,50 ppm, 0,55 ppm, 0,60 ppm, 0,65 ppm, 0,70 ppm, 0,75 ppm, 0,80 ppm, 0,85 ppm, 0,90 ppm, 0,95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm,In one embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount that imparts the desired beneficial effect of the composition described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, 0.05 ppm, 0.10 ppm, 0.15 ppm, 0.20 ppm, 0.25 ppm, 0.30 ppm , 0.35 ppm, 0.40 ppm, 0.45 ppm, 0.50 ppm, 0.55 ppm, 0.60 ppm, 0.65 ppm, 0.70 ppm, 0.75 ppm, 0.80 ppm , 0.85 ppm, 0.90 ppm, 0.95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm,

- 22 043933 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm, 275 ppm, 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450 ppm, 475 ppm, 500 ppm, 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm, 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 1125 ppm, 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm, 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1475 ppm, 1500 ppm, 1600 ppm, 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm или 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, по меньшей мере 0,05 ppm, по меньшей мере 0,10 ppm, по меньшей мере 0,20 ppm, по меньшей мере 0,30 ppm, по меньшей мере 0,40 ppm, по меньшей мере 0,50 ppm, по меньшей мере 0,60 ppm, по меньшей мере 0,70 ppm, по меньшей мере 0,80 ppm, по меньшей мере 0,90 ppm, по меньшей мере 1 ppm, по меньшей мере 10 ppm, по меньшей мере 20 ppm, по меньшей мере 30 ppm, по меньшей мере 40 ppm, по меньшей мере 50 ppm, по меньшей мере 60 ppm, по меньшей мере 70 ppm, по меньшей мере 80 ppm, по меньшей мере 90 ppm, по меньшей мере 100 ppm, по меньшей мере 125 ppm, по меньшей мере 150 ppm, по меньшей мере 175 ppm, по меньшей мере 200 ppm, по меньшей мере 225 ppm, по меньшей мере 250 ppm, по меньшей мере 275 ppm, по меньшей мере 300 ppm, по меньшей мере 325 ppm, по меньшей мере 350 ppm, по меньшей мере 375 ppm, по меньшей мере 400 ppm, по меньшей мере 425 ppm, по меньшей мере 450 ppm, по меньшей мере 475 ppm, по меньшей мере 500 ppm, по меньшей мере 525 ppm, по меньшей мере 550 ppm, по меньшей мере 575 ppm, по меньшей мере 600 ppm, по меньшей мере 625 ppm, по меньшей мере 650 ppm, по меньшей мере 675 ppm, по меньшей мере 700 ppm, по меньшей мере 725 ppm, по меньшей мере 750 ppm, по меньшей мере 775 ppm, по меньшей мере 800 ppm, по меньшей мере 825 ppm, по меньшей мере 850 ppm, по меньшей мере 875 ppm, по меньшей мере 900 ppm, по меньшей мере 925 ppm, по меньшей мере 950 ppm, по меньшей мере 975 ppm, по меньшей мере 1000 ppm, по меньшей мере 1025 ppm, по меньшей мере 1050 ppm, по меньшей мере 1075 ppm, по меньшей мере 1100 ppm, по меньшей мере 1125 ppm, по меньшей мере 1150 ppm, по меньшей мере 1175 ppm, по меньшей мере 1200 ppm, по меньшей мере 1225 ppm, по меньшей мере 1250 ppm, по меньшей мере 1275 ppm, по меньшей мере 1300 ppm, по меньшей мере 1325 ppm, по меньшей мере 1350 ppm, по меньшей мере 1375 ppm, по меньшей мере 1400 ppm, по меньшей мере 1425 ppm, по меньшей мере 1450 ppm, по меньшей мере 1475 ppm, по меньшей мере 1500 ppm, по меньшей мере 1600 ppm, по меньшей мере 1700 ppm, по меньшей мере 1800 ppm, по меньшей мере 1900 ppm или по меньшей мере 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, не более 0,05 ppm, не более 0,10 ppm, не более 0,20 ppm, не более 0,30 ppm, не более 0,40 ppm, не более 0,50 ppm, не более 0,60 ppm, не более 0,70 ppm, не более 0,80 ppm, не более 0,90 ppm, не более 1 ppm, не более 10 ppm, не более 20 ppm, не более 30 ppm, не более 40 ppm, не более 50 ppm, не более 60 ppm, не более 70 ppm, не более 80 ppm, не более 90 ppm, не более 100 ppm, не более 125 ppm, не более 150 ppm, не более 175 ppm, не более 200 ppm, не более 225 ppm, не более 250 ppm, не более 275 ppm, не более 300 ppm, не более 325 ppm, не более 350 ppm, не более 375 ppm, не более 400 ppm, не более 425 ppm, не более 450 ppm, не более 475 ppm, не более 500 ppm, не более 525 ppm, не более 550 ppm, не более 575 ppm, не более 600 ppm, не более 625 ppm, не более 650 ppm, не более 675 ppm, не более 700 ppm, не более 725 ppm, не более 750 ppm, не более 775 ppm, не более 800 ppm, не более 825 ppm, не более 850 ppm, не более 875 ppm, не более 900 ppm, не более 925 ppm, не более 950 ppm, не более 975 ppm, не более 1000 ppm, не более 1025 ppm, не более 1050 ppm, не более 1075 ppm, не более 1100 ppm, не более 1125 ppm, не более 1150 ppm, не более 1175 ppm, не более 1200 ppm, не более 1225 ppm, не более 1250 ppm, не более 1275 ppm, не более 1300 ppm, не более 1325 ppm, не более 1350 ppm, не более 1375 ppm, не более 1400 ppm, не более 1425 ppm, не более 1450 ppm, не более 1475 ppm, не более 1500 ppm, не более 1600 ppm, не более 1700 ppm, не более 1800 ppm, не более 1900 ppm или не более 2000 ppm.- 22 043933 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm, 275 ppm, 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450 ppm, 475 ppm, 500 ppm , 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm, 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 1125 ppm, 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1475 ppm, 1500 ppm, 1600 ppm, 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm or 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, at least 0.05 ppm, at least 0.10 ppm, at least 0.20 ppm, at least 0 .30 ppm, at least 0.40 ppm, at least 0.50 ppm, at least 0.60 ppm, at least 0.70 ppm, at least 0.80 ppm, at least 0.90 ppm, at least 1 ppm, at least 10 ppm, at least 20 ppm, at least 30 ppm, at least 40 ppm, at least 50 ppm, at least 60 ppm, at least 70 ppm, at least 80 ppm, at least 90 ppm, at least 100 ppm, at least 125 ppm, at least 150 ppm, at least 175 ppm, at least 200 ppm, at least 225 ppm, at least at least 250 ppm, at least 275 ppm, at least 300 ppm, at least 325 ppm, at least 350 ppm, at least 375 ppm, at least 400 ppm, at least 425 ppm, at least 450 ppm, at least 475 ppm, at least 500 ppm, at least 525 ppm, at least 550 ppm, at least 575 ppm, at least 600 ppm, at least 625 ppm, at least 650 ppm, at least 675 ppm, at least 700 ppm, at least 725 ppm, at least 750 ppm, at least 775 ppm, at least 800 ppm, at least 825 ppm, at least 850 ppm, at least at least 875 ppm, at least 900 ppm, at least 925 ppm, at least 950 ppm, at least 975 ppm, at least 1000 ppm, at least 1025 ppm, at least 1050 ppm, at least 1075 ppm, at least 1100 ppm, at least 1125 ppm, at least 1150 ppm, at least 1175 ppm, at least 1200 ppm, at least 1225 ppm, at least 1250 ppm, at least 1275 ppm, at least 1300 ppm, at least 1325 ppm, at least 1350 ppm, at least 1375 ppm, at least 1400 ppm, at least 1425 ppm, at least 1450 ppm, at least 1475 ppm, at least at least 1500 ppm, at least 1600 ppm, at least 1700 ppm, at least 1800 ppm, at least 1900 ppm or at least 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, no more than 0.05 ppm, no more than 0.10 ppm, no more than 0.20 ppm, no more than 0.30 ppm, no more than 0.40 ppm, no more than 0.50 ppm, no more than 0.60 ppm, no more than 0.70 ppm, no more than 0.80 ppm, no more than 0.90 ppm, no more than 1 ppm, no more than 10 ppm, no more than 20 ppm, no more than 30 ppm, no more than 40 ppm, no more than 50 ppm, no more than 60 ppm, no more than 70 ppm, no more than 80 ppm, no more than 90 ppm, no more than 100 ppm, no more than 125 ppm, no more than 150 ppm, no more than 175 ppm, no more than 200 ppm, no more than 225 ppm, no more than 250 ppm, no more than 275 ppm, no more than 300 ppm, no more than 325 ppm, no more than 350 ppm, no more than 375 ppm, no more than 400 ppm, no more than 425 ppm, no more than 450 ppm, no more than 475 ppm, no more than 500 ppm, no more than 525 ppm, no more than 550 ppm, no more than 575 ppm, no more than 600 ppm, no more than 625 ppm, no more than 650 ppm, no more than 675 ppm, no more than 700 ppm, no more than 725 ppm, no more than 750 ppm, no more than 775 ppm, no more than 800 ppm, no more than 825 ppm, no more than 850 ppm, no more than 875 ppm, no more than 900 ppm, no more than 925 ppm, no more than 950 ppm, no more than 975 ppm, no more than 1000 ppm, no more than 1025 ppm, no more than 1050 ppm, no more than 1075 ppm, no more than 1100 ppm, no more than 1125 ppm, no more than 1150 ppm, no more than 1175 ppm, no more than 1200 ppm, no more than 1225 ppm, no more than 1250 ppm, no more than 1275 ppm, no more than 1300 ppm, no more than 1325 ppm, no more than 1350 ppm, no more than 1375 ppm, not more than 1400 ppm, not more than 1425 ppm, not more than 1450 ppm, not more than 1475 ppm, not more than 1500 ppm, not more than 1600 ppm, not more than 1700 ppm, not more than 1800 ppm, not more than 1900 ppm or not more than 2000 ppm

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, от примерно 0,5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 75 ppm, от приIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount, for example, from about 0.5 ppm to about 20 ppm, from about 0.5 ppm to about 25 ppm, from about 0.5 ppm to about 30 ppm, from about 0.5 ppm to about 35 ppm, from about 0.5 ppm to about 40 ppm, from about 0.5 ppm to about 45 ppm, from about 0.5 ppm to about 50 ppm, from about 0.5 ppm to about 55 ppm, about 0.5 ppm to about 60 ppm, about 0.5 ppm to about 65 ppm, about 0.5 ppm to about 70 ppm, about 0.5 ppm to about 75 ppm, from about 0.5 ppm to about 80 ppm, from about 0.5 ppm to about 85 ppm, from about 0.5 ppm to about 90 ppm, from about 0.5 ppm to about 95 ppm, from about 0.5 ppm to about 100 ppm, from about 0.75 ppm to about 20 ppm, from about 0.75 ppm to about 25 ppm, from about 0.75 ppm to about 30 ppm, from about 0.75 ppm to about 35 ppm, from about 0.75 ppm to about 40 ppm, from about 0.75 ppm to about 45 ppm, from about 0.75 ppm to about 50 ppm, from about 0.75 ppm to about 55 ppm, from about 0 .75 ppm to about 60 ppm, from about 0.75 ppm to about 65 ppm, from about 0.75 ppm to about 70 ppm, from about 0.75 ppm to about 75 ppm, from at

- 23 043933 мерно 0,75 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 95 ppm или от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm.- 23 043933 approximately 0.75 ppm to approximately 80 ppm, from approximately 0.75 ppm to approximately 85 ppm, from approximately 0.75 ppm to approximately 90 ppm, from approximately 0.75 ppm to approximately 95 ppm, from approximately 0, 75 ppm to about 100 ppm, about 1 ppm to about 20 ppm, about 1 ppm to about 25 ppm, about 1 ppm to about 30 ppm, about 1 ppm to about 35 ppm, about 1 ppm to about 40 ppm, from about 1 ppm to about 45 ppm, from about 1 ppm to about 50 ppm, from about 1 ppm to about 55 ppm, from about 1 ppm to about 60 ppm, from about 1 ppm to about 65 ppm, from about 1 ppm to about 70 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 80 ppm, from about 1 ppm to about 85 ppm, from about 1 ppm to about 90 ppm, from about 1 ppm to about 95 ppm , from about 1 ppm to about 100 ppm, from about 5 ppm to about 20 ppm, from about 5 ppm to about 25 ppm, from about 5 ppm to about 30 ppm, from about 5 ppm to about 35 ppm, from about 5 ppm to about 40 ppm, from about 5 ppm to about 45 ppm, from about 5 ppm to about 50 ppm, from about 5 ppm to about 55 ppm, from about 5 ppm to about 60 ppm, from about 5 ppm to about 65 ppm, from about 5 ppm to about 70 ppm, from about 5 ppm to about 75 ppm, from about 5 ppm to about 80 ppm, from about 5 ppm to about 85 ppm, from about 5 ppm to about 90 ppm, from about 5 ppm to about 95 ppm, from about 5 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 20 ppm, from about 10 ppm to about 25 ppm, from about 10 ppm to about 30 ppm, from about 10 ppm to about 35 ppm, from about 10 ppm to about 40 ppm, about 10 ppm to about 45 ppm, about 10 ppm to about 50 ppm, about 10 ppm to about 55 ppm, about 10 ppm to about 60 ppm, about 10 ppm to about 65 ppm, from about 10 ppm to about 70 ppm, from about 10 ppm to about 75 ppm, from about 10 ppm to about 80 ppm, from about 10 ppm to about 85 ppm, from about 10 ppm to about 90 ppm, from about 10 ppm to about 95 ppm or from about 10 ppm to about 100 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 150 ppm до примерноIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount, for example, from about 1 ppm to about 25 ppm, from about 1 ppm to about 50 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 100 ppm, about 1 ppm to about 125 ppm, about 1 ppm to about 150 ppm, about 1 ppm to about 175 ppm, about 1 ppm to about 200 ppm, about 1 ppm to about 225 ppm, from about 1 ppm to about 250 ppm, from about 1 ppm to about 275 ppm, from about 1 ppm to about 300 ppm, from about 1 ppm to about 325 ppm, from about 1 ppm to about 350 ppm, from about 1 ppm to about 375 ppm, about 1 ppm to about 400 ppm, about 10 ppm to about 25 ppm, about 10 ppm to about 50 ppm, about 10 ppm to about 75 ppm, about 10 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 125 ppm, from about 10 ppm to about 150 ppm, from about 10 ppm to about 175 ppm, from about 10 ppm to about 200 ppm, from about 10 ppm to about 225 ppm, from about 10 ppm to about 250 ppm, from about 10 ppm to about 275 ppm, from about 10 ppm to about 300 ppm, from about 10 ppm to about 325 ppm, from about 10 ppm to about 350 ppm, from about 10 ppm to about 375 ppm , from about 10 ppm to about 400 ppm, from about 25 ppm to about 50 ppm, from about 25 ppm to about 75 ppm, from about 25 ppm to about 100 ppm, from about 25 ppm to about 125 ppm, from about 25 ppm to about 150 ppm, from about 25 ppm to about 175 ppm, from about 25 ppm to about 200 ppm, from about 25 ppm to about 225 ppm, from about 25 ppm to about 250 ppm, from about 25 ppm to about 275 ppm, from about 25 ppm to about 300 ppm, from about 25 ppm to about 325 ppm, from about 25 ppm to about 350 ppm, from about 25 ppm to about 375 ppm, from about 25 ppm to about 400 ppm, from about 50 ppm to about 75 ppm, from about 50 ppm to about 100 ppm, from about 50 ppm to about 125 ppm, from about 50 ppm to about 150 ppm, from about 50 ppm to about 175 ppm, from about 50 ppm to about 200 ppm, from about 50 ppm to about 225 ppm, about 50 ppm to about 250 ppm, about 50 ppm to about 275 ppm, about 50 ppm to about 300 ppm, about 50 ppm to about 325 ppm, about 50 ppm to about 350 ppm, from about 50 ppm to about 375 ppm, from about 50 ppm to about 400 ppm, from about 75 ppm to about 100 ppm, from about 75 ppm to about 125 ppm, from about 75 ppm to about 150 ppm, from about 75 ppm to about 175 ppm, about 75 ppm to about 200 ppm, about 75 ppm to about 225 ppm, about 75 ppm to about 250 ppm, about 75 ppm to about 275 ppm, about 75 ppm to about 300 ppm, from about 75 ppm to about 325 ppm, from about 75 ppm to about 350 ppm, from about 75 ppm to about 375 ppm, from about 75 ppm to about 400 ppm, from about 100 ppm to about 125 ppm, from about 100 ppm to about 150 ppm, from about 100 ppm to about 175 ppm, from about 100 ppm to about 200 ppm, from about 100 ppm to about 225 ppm, from about 100 ppm to about 250 ppm, from about 100 ppm to about 275 ppm , from about 100 ppm to about 300 ppm, from about 100 ppm to about 325 ppm, from about 100 ppm to about 350 ppm, from about 100 ppm to about 375 ppm, from about 100 ppm to about 400 ppm, from about 150 ppm to about 175 ppm, from about 150 ppm to about

- 24 043933- 24 043933

200 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 400 ppm или от примерно 375 ppm до примерно 400 ppm.200 ppm, from about 150 ppm to about 225 ppm, from about 150 ppm to about 250 ppm, from about 150 ppm to about 275 ppm, from about 150 ppm to about 300 ppm, from about 150 ppm to about 325 ppm, from about 150 ppm to about 350 ppm, from about 150 ppm to about 375 ppm, from about 150 ppm to about 400 ppm, from about 200 ppm to about 225 ppm, from about 200 ppm to about 250 ppm, from about 200 ppm to about 275 ppm, from about 200 ppm to about 300 ppm, from about 200 ppm to about 325 ppm, from about 200 ppm to about 350 ppm, from about 200 ppm to about 375 ppm, from about 200 ppm to about 400 ppm, from about 250 ppm to about 275 ppm, from about 250 ppm to about 300 ppm, from about 250 ppm to about 325 ppm, from about 250 ppm to about 350 ppm, from about 250 ppm to about 375 ppm, from about 250 ppm to about 400 ppm , from about 300 ppm to about 325 ppm, from about 300 ppm to about 350 ppm, from about 300 ppm to about 375 ppm, from about 300 ppm to about 400 ppm, from about 350 ppm to about 375 ppm, from about 350 ppm to about 400 ppm or from about 375 ppm to about 400 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, от примерно 400 ppm до примерно 500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1200 ppm до примерIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount, for example, from about 400 ppm to about 500 ppm, from about 400 ppm to about 600 ppm, from about 400 ppm to about 700 ppm, from from about 400 ppm to about 800 ppm, from about 400 ppm to about 900 ppm, from about 400 ppm to about 1000 ppm, from about 400 ppm to about 1100 ppm, from about 400 ppm to about 1200 ppm, from about 400 ppm to about 1300 ppm, from about 400 ppm to about 1400 ppm, from about 400 ppm to about 1500 ppm, from about 400 ppm to about 1600 ppm, from about 400 ppm to about 1700 ppm, from about 400 ppm to about 1800 ppm, from about 400 ppm to about 1900 ppm, from about 400 ppm to about 2000 ppm, from about 500 ppm to about 600 ppm, from about 500 ppm to about 700 ppm, from about 500 ppm to about 800 ppm, from about 500 ppm to about 900 ppm, from about 500 ppm to about 1000 ppm, from about 500 ppm to about 1100 ppm, from about 500 ppm to about 1200 ppm, from about 500 ppm to about 1300 ppm, from about 500 ppm to about 1400 ppm, from about 500 ppm to about 1500 ppm, from about 500 ppm to about 1600 ppm, from about 500 ppm to about 1700 ppm, from about 500 ppm to about 1800 ppm, from about 500 ppm to about 1900 ppm, from about 500 ppm to about 2000 ppm , from about 600 ppm to about 700 ppm, from about 600 ppm to about 800 ppm, from about 600 ppm to about 900 ppm, from about 600 ppm to about 1000 ppm, from about 600 ppm to about 1100 ppm, from about 600 ppm to about 1200 ppm, from about 600 ppm to about 1300 ppm, from about 600 ppm to about 1400 ppm, from about 600 ppm to about 1500 ppm, from about 600 ppm to about 1600 ppm, from about 600 ppm to about 1700 ppm, from about 600 ppm to about 1800 ppm, from about 600 ppm to about 1900 ppm, from about 600 ppm to about 2000 ppm, from about 700 ppm to about 800 ppm, from about 700 ppm to about 900 ppm, from about 700 ppm to about 1000 ppm, from about 700 ppm to about 1100 ppm, from about 700 ppm to about 1200 ppm, from about 700 ppm to about 1300 ppm, from about 700 ppm to about 1400 ppm, from about 700 ppm to about 1500 ppm, from from about 700 ppm to about 1600 ppm, from about 700 ppm to about 1700 ppm, from about 700 ppm to about 1800 ppm, from about 700 ppm to about 1900 ppm, from about 700 ppm to about 2000 ppm, from about 800 ppm to about 900 ppm, from about 800 ppm to about 1000 ppm, from about 800 ppm to about 1100 ppm, from about 800 ppm to about 1200 ppm, from about 800 ppm to about 1300 ppm, from about 800 ppm to about 1400 ppm, from about 800 ppm to about 1500 ppm, from about 800 ppm to about 1600 ppm, from about 800 ppm to about 1700 ppm, from about 800 ppm to about 1800 ppm, from about 800 ppm to about 1900 ppm, from about 800 ppm to about 2000 ppm, from about 900 ppm to about 1000 ppm, from about 900 ppm to about 1100 ppm, from about 900 ppm to about 1200 ppm, from about 900 ppm to about 1300 ppm, from about 900 ppm to about 1400 ppm, from about 900 ppm to about 1500 ppm, from about 900 ppm to about 1600 ppm, from about 900 ppm to about 1700 ppm, from about 900 ppm to about 1800 ppm, from about 900 ppm to about 1900 ppm, from about 900 ppm to about 2000 ppm , from about 1000 ppm to about 1100 ppm, from about 1000 ppm to about 1200 ppm, from about 1000 ppm to about 1300 ppm, from about 1000 ppm to about 1400 ppm, from about 1000 ppm to about 1500 ppm, from about 1000 ppm to about 1600 ppm, from about 1000 ppm to about 1700 ppm, from about 1000 ppm to about 1800 ppm, from about 1000 ppm to about 1900 ppm, from about 1000 ppm to about 2000 ppm, from about 1100 ppm to about 1200 ppm, from about 1100 ppm to about 1300 ppm, from about 1100 ppm to about 1400 ppm, from about 1100 ppm to about 1500 ppm, from about 1100 ppm to about 1600 ppm, from about 1100 ppm to about 1700 ppm, from about 1100 ppm to from about 1800 ppm, from about 1100 ppm to about 1900 ppm, from about 1100 ppm to about 2000 ppm, from about 1200 ppm to about 1300 ppm, from about 1200 ppm to about 1400 ppm, from about 1200 ppm to about 1500 ppm, from about 1200 ppm to about 1600 ppm, from about 1200 ppm to about 1700 ppm, from about 1200 ppm to example

- 25 043933 но 1800 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 2000 ppm или от примерно 1900 ppm до примерно 2000 ppm.- 25 043933 but 1800 ppm, from about 1200 ppm to about 1900 ppm, from about 1200 ppm to about 2000 ppm, from about 1300 ppm to about 1400 ppm, from about 1300 ppm to about 1500 ppm, from about 1300 ppm to about 1600 ppm, from about 1300 ppm to about 1700 ppm, from about 1300 ppm to about 1800 ppm, from about 1300 ppm to about 1900 ppm, from about 1300 ppm to about 2000 ppm, from about 1400 ppm to about 1500 ppm, from about 1400 ppm to about 1600 ppm, from about 1400 ppm to about 1700 ppm, from about 1400 ppm to about 1800 ppm, from about 1400 ppm to about 1900 ppm, from about 1400 ppm to about 2000 ppm, from about 1500 ppm to about 1600 ppm , from about 1500 ppm to about 1700 ppm, from about 1500 ppm to about 1800 ppm, from about 1500 ppm to about 1900 ppm, from about 1500 ppm to about 2000 ppm, from about 1600 ppm to about 1700 ppm, from about 1600 ppm to about 1800 ppm, from about 1600 ppm to about 1900 ppm, from about 1600 ppm to about 2000 ppm, from about 1700 ppm to about 1800 ppm, from about 1700 ppm to about 1900 ppm, from about 1700 ppm to about 2000 ppm, from about 1800 ppm to about 1900 ppm, from about 1800 ppm to about 2000 ppm, or from about 1900 ppm to about 2000 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, 0,05 мг/л, 0,10 мг/л, 0,15 мг/л, 0,20 мг/л, 0,25 мг/л, 0,30 мг/л, 0,35 мг/л, 0,40 мг/л, 0,45 мг/л, 0,50 мг/л, 0,55 мг/л, 0,60 мг/л, 0,65 мг/л,In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, 0.05 mg/L, 0.10 mg/L, 0.15 mg/L, 0.20 mg/L, 0.25 mg/l, 0.30 mg/l, 0.35 mg/l, 0.40 mg/l, 0.45 mg/l, 0.50 mg/l, 0.55 mg/l, 0 .60 mg/l, 0.65 mg/l,

0,70 мг/л, 0,75 мг/л, 0,80 мг/л, 0,85 мг/л, 0,90 мг/л, 0,95 мг/л, 1 мг/л, 5 мг/л, 10 мг/л, 15 мг/л, 20 мг/л, мг/л, 30 мг/л, 35 мг/л, 40 мг/л, 45 мг/л, 50 мг/л, 55 мг/л, 60 мг/л, 65 мг/л, 70 мг/л, 75 мг/л, 80 мг/л, мг/л, 90 мг/л, 95 мг/л, 100 мг/л, 125 мг/л, 150 мг/л, 175 мг/л, 200 мг/л, 225 мг/л, 250 мг/л, 275 мг/л,0.70 mg/l, 0.75 mg/l, 0.80 mg/l, 0.85 mg/l, 0.90 mg/l, 0.95 mg/l, 1 mg/l, 5 mg/ l, 10 mg/l, 15 mg/l, 20 mg/l, mg/l, 30 mg/l, 35 mg/l, 40 mg/l, 45 mg/l, 50 mg/l, 55 mg/l , 60 mg/l, 65 mg/l, 70 mg/l, 75 mg/l, 80 mg/l, mg/l, 90 mg/l, 95 mg/l, 100 mg/l, 125 mg/l, 150 mg/l, 175 mg/l, 200 mg/l, 225 mg/l, 250 mg/l, 275 mg/l,

300 мг/л, 325 мг/л, 350 мг/л, 375 мг/л, 400 мг/л, 425 мг/л, 450 мг/л, 475 мг/л, 500 мг/л, 525 мг/л, 550 мг/л, 575 мг/л, 600 мг/л, 625 мг/л, 650 мг/л, 675 мг/л, 700 мг/л, 725 мг/л, 750 мг/л, 775 мг/л, 800 мг/л, 825 мг/л, 850 мг/л, 875 мг/л, 900 мг/л, 925 мг/л, 950 мг/л, 975 мг/л, 1000 мг/л, 1025 мг/л, 1050 мг/л, 1075 мг/л, 1100 мг/л, 1125 мг/л, 1150 мг/л, 1175 мг/л, 1200 мг/л, 1225 мг/л, 1250 мг/л, 1275 мг/л, 1300 мг/л, 1325 мг/л, 1350 мг/л, 1375 мг/л, 1400 мг/л, 1425 мг/л, 1450 мг/л, 1475 мг/л, 1500 мг/л, 1600 мг/л, 1700 мг/л, 1800 мг/л, 1900 мг/л или 2000 мг/л. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, по меньшей мере 0,05 мг/л, по меньшей мере 0,10 мг/л, по меньшей мере 0,20 мг/л, по меньшей мере 0,30 мг/л, по меньшей мере 0,40 мг/л, по меньшей мере 0,50 мг/л, по меньшей мере 0,60 мг/л, по меньшей мере 0,70 мг/л, по меньшей мере 0,80 мг/л, по меньшей мере 0,90 мг/л, по меньшей мере 1 мг/л, по меньшей мере 10 мг/л, по меньшей мере 20 мг/л, по меньшей мере 30 мг/л, по меньшей мере 40 мг/л, по меньшей мере 50 мг/л, по меньшей мере 60 мг/л, по меньшей мере 70 мг/л, по меньшей мере 80 мг/л, по меньшей мере 90 мг/л, по меньшей мере 100 мг/л, по меньшей мере 125 мг/л, по меньшей мере 150 мг/л, по меньшей мере 175 мг/л, по меньшей мере 200 мг/л, по меньшей мере 225 мг/л, по меньшей мере 250 мг/л, по меньшей мере 275 мг/л, по меньшей мере 300 мг/л, по меньшей мере 325 мг/л, по меньшей мере 350 мг/л, по меньшей мере 375 мг/л, по меньшей мере 400 мг/л, по меньшей мере 425 мг/л, по меньшей мере 450 мг/л, по меньшей мере 475 мг/л, по меньшей мере 500 мг/л, по меньшей мере 525 мг/л, по меньшей мере 550 мг/л, по меньшей мере 575 мг/л, по меньшей мере 600 мг/л, по меньшей мере 625 мг/л, по меньшей мере 650 мг/л, по меньшей мере 675 мг/л, по меньшей мере 700 мг/л, по меньшей мере 725 мг/л, по меньшей мере 750 мг/л, по меньшей мере 775 мг/л, по меньшей мере 800 мг/л, по меньшей мере 825 мг/л, по меньшей мере 850 мг/л, по меньшей мере 875 мг/л, по меньшей мере 900 мг/л, по меньшей мере 925 мг/л, по меньшей мере 950 мг/л, по меньшей мере 975 мг/л, по меньшей мере 1000 мг/л, по меньшей мере 1025 мг/л, по меньшей мере 1050 мг/л, по меньшей мере 1075 мг/л, по меньшей мере 1100 мг/л, по меньшей мере 1125 мг/л, по меньшей мере 1150 мг/л, по меньшей мере 1175 мг/л, по меньшей мере 1200 мг/л, по меньшей мере 1225 мг/л, по меньшей мере 1250 мг/л, по меньшей мере 1275 мг/л, по меньшей мере 1300 мг/л, по меньшей мере 1325 мг/л, по меньшей мере 1350 мг/л, по меньшей мере 1375 мг/л, по меньшей мере 1400 мг/л, по меньшей мере 1425 мг/л, по меньшей мере 1450 мг/л, по меньшей мере 1475 мг/л, по меньшей мере 1500 мг/л, по меньшей мере 1600 мг/л, по меньшей мере 1700 мг/л, по меньшей мере 1800 мг/л, по меньшей мере 1900 мг/л или по меньшей мере 2000 мг/л. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, не более 0,05 мг/л, не более 0,10 мг/л, не более 0,20 мг/л, не более 0,30 мг/л, не более 0,40 мг/л, не более 0,50 мг/л, не более 0,60 мг/л, не более 0,70 мг/л, не более 0,80 мг/л, не более 0,90 мг/л, не более 1 мг/л, не более 10 мг/л, не более 20 мг/л, не более 30 мг/л, не более 40 мг/л, не более 50 мг/л, не более 60 мг/л, не более 70 мг/л, не более 80 мг/л, не более 90 мг/л, не более 100 мг/л, не более 125 мг/л, не более 150 мг/л, не более 175 мг/л, не более 200 мг/л, не более 225 мг/л, не более 250 мг/л, не более 275 мг/л, не более 300 мг/л, не более 325 мг/л, не более 350 мг/л, не более 375 мг/л, не более 400 мг/л, не более 425 мг/л, не более 450 мг/л, не более 475 мг/л, не более 500 мг/л, не более 525 мг/л, не более 550 мг/л, не более 575 мг/л, не более 600 мг/л, не более 625 мг/л, не более 650 мг/л, не более 675 мг/л, не более 700 мг/л, не более 725 мг/л, не более 750 мг/л, не более 775 мг/л, не более 800 мг/л, не более 825 мг/л, не более 850 мг/л, не более 875 мг/л, не более 900 мг/л, не более 925 мг/л, не более 950 мг/л, не более 975 мг/л, не более 1000 мг/л, не более 1025 мг/л, не более 1050 мг/л, не более 1075 мг/л, не более 1100 мг/л, не более 1125 мг/л, не более300 mg/l, 325 mg/l, 350 mg/l, 375 mg/l, 400 mg/l, 425 mg/l, 450 mg/l, 475 mg/l, 500 mg/l, 525 mg/l, 550 mg/l, 575 mg/l, 600 mg/l, 625 mg/l, 650 mg/l, 675 mg/l, 700 mg/l, 725 mg/l, 750 mg/l, 775 mg/l, 800 mg/l, 825 mg/l, 850 mg/l, 875 mg/l, 900 mg/l, 925 mg/l, 950 mg/l, 975 mg/l, 1000 mg/l, 1025 mg/l, 1050 mg/l, 1075 mg/l, 1100 mg/l, 1125 mg/l, 1150 mg/l, 1175 mg/l, 1200 mg/l, 1225 mg/l, 1250 mg/l, 1275 mg/l, 1300 mg/l, 1325 mg/l, 1350 mg/l, 1375 mg/l, 1400 mg/l, 1425 mg/l, 1450 mg/l, 1475 mg/l, 1500 mg/l, 1600 mg/l, 1700 mg/l, 1800 mg/l, 1900 mg/l or 2000 mg/l. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, at least 0.05 mg/L, at least 0.10 mg/L, at least 0.20 mg/L l, at least 0.30 mg/l, at least 0.40 mg/l, at least 0.50 mg/l, at least 0.60 mg/l, at least 0.70 mg/l l, at least 0.80 mg/l, at least 0.90 mg/l, at least 1 mg/l, at least 10 mg/l, at least 20 mg/l, at least 30 mg/l, at least 40 mg/l, at least 50 mg/l, at least 60 mg/l, at least 70 mg/l, at least 80 mg/l, at least 90 mg/ l, at least 100 mg/l, at least 125 mg/l, at least 150 mg/l, at least 175 mg/l, at least 200 mg/l, at least 225 mg/l, at least 250 mg/l, at least 275 mg/l, at least 300 mg/l, at least 325 mg/l, at least 350 mg/l, at least 375 mg/l, at least at least 400 mg/l, at least 425 mg/l, at least 450 mg/l, at least 475 mg/l, at least 500 mg/l, at least 525 mg/l, at least 550 mg/l, at least 575 mg/l, at least 600 mg/l, at least 625 mg/l, at least 650 mg/l, at least 675 mg/l, at least 700 mg/l l, at least 725 mg/l, at least 750 mg/l, at least 775 mg/l, at least 800 mg/l, at least 825 mg/l, at least 850 mg/l, at least 875 mg/l, at least 900 mg/l, at least 925 mg/l, at least 950 mg/l, at least 975 mg/l, at least 1000 mg/l, at least at least 1025 mg/l, at least 1050 mg/l, at least 1075 mg/l, at least 1100 mg/l, at least 1125 mg/l, at least 1150 mg/l, at least 1175 mg/l, at least 1200 mg/l, at least 1225 mg/l, at least 1250 mg/l, at least 1275 mg/l, at least 1300 mg/l, at least 1325 mg/l l, at least 1350 mg/l, at least 1375 mg/l, at least 1400 mg/l, at least 1425 mg/l, at least 1450 mg/l, at least 1475 mg/l, at least 1500 mg/L, at least 1600 mg/L, at least 1700 mg/L, at least 1800 mg/L, at least 1900 mg/L or at least 2000 mg/L. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, no more than 0.05 mg/L, no more than 0.10 mg/L, no more than 0.20 mg/L, no more than 0.30 mg/l, no more than 0.40 mg/l, no more than 0.50 mg/l, no more than 0.60 mg/l, no more than 0.70 mg/l, no more than 0.80 mg /l, not more than 0.90 mg/l, not more than 1 mg/l, not more than 10 mg/l, not more than 20 mg/l, not more than 30 mg/l, not more than 40 mg/l, not more than 50 mg/l, not more than 60 mg/l, not more than 70 mg/l, not more than 80 mg/l, not more than 90 mg/l, not more than 100 mg/l, not more than 125 mg/l, not more than 150 mg /l, no more than 175 mg/l, no more than 200 mg/l, no more than 225 mg/l, no more than 250 mg/l, no more than 275 mg/l, no more than 300 mg/l, no more than 325 mg/ l, no more than 350 mg/l, no more than 375 mg/l, no more than 400 mg/l, no more than 425 mg/l, no more than 450 mg/l, no more than 475 mg/l, no more than 500 mg/l , no more than 525 mg/l, no more than 550 mg/l, no more than 575 mg/l, no more than 600 mg/l, no more than 625 mg/l, no more than 650 mg/l, no more than 675 mg/l, not more than 700 mg/l, not more than 725 mg/l, not more than 750 mg/l, not more than 775 mg/l, not more than 800 mg/l, not more than 825 mg/l, not more than 850 mg/l, not more than 875 mg/l, no more than 900 mg/l, no more than 925 mg/l, no more than 950 mg/l, no more than 975 mg/l, no more than 1000 mg/l, no more than 1025 mg/l, no more 1050 mg/l, not more than 1075 mg/l, not more than 1100 mg/l, not more than 1125 mg/l, not more

- 26 043933- 26 043933

1150 мг/л, не более 1175 мг/л, не более 1200 мг/л, не более 1225 мг/л, не более 1250 мг/л, не более1150 mg/l, not more than 1175 mg/l, not more than 1200 mg/l, not more than 1225 mg/l, not more than 1250 mg/l, not more

1275 мг/л, не более 1300 мг/л, не более 1325 мг/л, не более 1350 мг/л, не более 1375 мг/л, не более1275 mg/l, not more than 1300 mg/l, not more than 1325 mg/l, not more than 1350 mg/l, not more than 1375 mg/l, not more

1400 мг/л, не более 1425 мг/л, не более 1450 мг/л, не более 1475 мг/л, не более 1500 мг/л, не более1400 mg/l, no more than 1425 mg/l, no more than 1450 mg/l, no more than 1475 mg/l, no more than 1500 mg/l, no more

1600 мг/л, не более 1700 мг/л, не более 1800 мг/л, не более 1900 мг/л или не более 2000 мг/л.1600 mg/l, not more than 1700 mg/l, not more than 1800 mg/l, not more than 1900 mg/l or not more than 2000 mg/l.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, от примерно 0,5 мг/л до примерно 20 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 25 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 30 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 35 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 40 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 45 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 50 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 55 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 60 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 65 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 70 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 75 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 80 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 85 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 90 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 95 мг/л, от примерно 0,5 мг/л до примерно 100 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 20 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 25 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 30 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 35 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 40 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 45 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 50 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 55 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 60 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 65 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 70 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 75 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 80 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 85 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 90 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 95 мг/л, от примерно 0,75 мг/л до примерно 100 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 20 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 25 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 30 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 35 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 40 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 45 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 50 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 55 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 60 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 65 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 70 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 75 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 80 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 85 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 90 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 95 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 100 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 20 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 25 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 30 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 35 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 40 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 45 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 50 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 55 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 60 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 65 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 70 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 75 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 80 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 85 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 90 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 95 мг/л, от примерно 5 мг/л до примерно 100 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 20 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 25 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 30 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 35 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 40 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 45 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 50 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 55 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 60 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 65 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 70 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 75 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 80 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 85 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 90 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 95 мг/л или от примерно 10 мг/л до примерно 100 мг/л.In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, from about 0.5 mg/L to about 20 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 25 mg/L l, from about 0.5 mg/L to about 30 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 35 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 40 mg/L, from about 0 .5 mg/L to about 45 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 50 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 55 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 60 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 65 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 70 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 75 mg/L l, from about 0.5 mg/L to about 80 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 85 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 90 mg/L, from about 0 .5 mg/L to about 95 mg/L, from about 0.5 mg/L to about 100 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 20 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 25 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 30 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 35 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 40 mg/L l, from about 0.75 mg/L to about 45 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 50 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 55 mg/L, from about 0 .75 mg/L to about 60 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 65 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 70 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 75 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 80 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 85 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 90 mg/L l, from about 0.75 mg/L to about 95 mg/L, from about 0.75 mg/L to about 100 mg/L, from about 1 mg/L to about 20 mg/L, from about 1 mg/L l to about 25 mg/L, from about 1 mg/L to about 30 mg/L, from about 1 mg/L to about 35 mg/L, from about 1 mg/L to about 40 mg/L, from about 1 mg/L to about 45 mg/L, from about 1 mg/L to about 50 mg/L, from about 1 mg/L to about 55 mg/L, from about 1 mg/L to about 60 mg/L, from about 1 mg/L to about 65 mg/L, about 1 mg/L to about 70 mg/L, about 1 mg/L to about 75 mg/L, about 1 mg/L to about 80 mg/L , from about 1 mg/L to about 85 mg/L, from about 1 mg/L to about 90 mg/L, from about 1 mg/L to about 95 mg/L, from about 1 mg/L to about 100 mg /L, from about 5 mg/L to about 20 mg/L, from about 5 mg/L to about 25 mg/L, from about 5 mg/L to about 30 mg/L, from about 5 mg/L to about 35 mg/L, from about 5 mg/L to about 40 mg/L, from about 5 mg/L to about 45 mg/L, from about 5 mg/L to about 50 mg/L, from about 5 mg/L to about 55 mg/L, from about 5 mg/L to about 60 mg/L, from about 5 mg/L to about 65 mg/L, from about 5 mg/L to about 70 mg/L, from about 5 mg /L to about 75 mg/L, from about 5 mg/L to about 80 mg/L, from about 5 mg/L to about 85 mg/L, from about 5 mg/L to about 90 mg/L, from about 5 mg/L to about 95 mg/L, about 5 mg/L to about 100 mg/L, about 10 mg/L to about 20 mg/L, about 10 mg/L to about 25 mg/L, from about 10 mg/L to about 30 mg/L, from about 10 mg/L to about 35 mg/L, from about 10 mg/L to about 40 mg/L, from about 10 mg/L to about 45 mg/ l, from about 10 mg/L to about 50 mg/L, from about 10 mg/L to about 55 mg/L, from about 10 mg/L to about 60 mg/L, from about 10 mg/L to about 65 mg/L, from about 10 mg/L to about 70 mg/L, from about 10 mg/L to about 75 mg/L, from about 10 mg/L to about 80 mg/L, from about 10 mg/L to about 85 mg/L, about 10 mg/L to about 90 mg/L, about 10 mg/L to about 95 mg/L, or about 10 mg/L to about 100 mg/L.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, от примерно 1 мг/л до примерно 25 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 50 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 75 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 100 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 125 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 150 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 175 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 200 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 225 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 250 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 275 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 300 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 1 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 25 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 50 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 75 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 100 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 125 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 150 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 175 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 200 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 225 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 250 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 275 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 300 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 10 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 50 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 75 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 100 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 125 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 150 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 175 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 200 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 225 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 250 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 275 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 300 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 25 мг/л до примерно 375 мг/л, от при- 27 043933 мерно 25 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 75 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 100 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 125 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 150 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 175 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 200 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 225 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 250 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 275 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 300 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 50 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 100 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 125 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 150 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 175 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 200 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 225 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 250 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 275 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 300 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 75 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 125 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 150 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 175 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 200 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 225 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 250 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 275 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 300 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 100 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 175 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 200 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 225 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 250 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 275 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 300 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 150 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 200 мг/л до примерно 225 мг/л, от примерно 200 мг/л до примерно 250 мг/л, от примерно 200 мг/л до примерно 275 мг/л, от примерно 200 мг/л до примерно 300 мг/л, от примерно 200 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 200 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 200 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 200 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 250 мг/л до примерно 275 мг/л, от примерно 250 мг/л до примерно 300 мг/л, от примерно 250 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 250 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 250 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 250 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 300 мг/л до примерно 325 мг/л, от примерно 300 мг/л до примерно 350 мг/л, от примерно 300 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 300 мг/л до примерно 400 мг/л, от примерно 350 мг/л до примерно 375 мг/л, от примерно 350 мг/л до примерно 400 мг/л или от примерно 375 мг/л до примерно 400 мг/л.In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount, for example, from about 1 mg/L to about 25 mg/L, from about 1 mg/L to about 50 mg/L, from about 1 mg/L to about 75 mg/L, about 1 mg/L to about 100 mg/L, about 1 mg/L to about 125 mg/L, about 1 mg/L to about 150 mg/L, from about 1 mg/L to about 175 mg/L, from about 1 mg/L to about 200 mg/L, from about 1 mg/L to about 225 mg/L, from about 1 mg/L to about 250 mg/L l, from about 1 mg/L to about 275 mg/L, from about 1 mg/L to about 300 mg/L, from about 1 mg/L to about 325 mg/L, from about 1 mg/L to about 350 mg/L, from about 1 mg/L to about 375 mg/L, from about 1 mg/L to about 400 mg/L, from about 10 mg/L to about 25 mg/L, from about 10 mg/L to about 50 mg/L, about 10 mg/L to about 75 mg/L, about 10 mg/L to about 100 mg/L, about 10 mg/L to about 125 mg/L, about 10 mg/L l to about 150 mg/L, from about 10 mg/L to about 175 mg/L, from about 10 mg/L to about 200 mg/L, from about 10 mg/L to about 225 mg/L, from about 10 mg/L to about 250 mg/L, from about 10 mg/L to about 275 mg/L, from about 10 mg/L to about 300 mg/L, from about 10 mg/L to about 325 mg/L, from about 10 mg/L to about 350 mg/L, about 10 mg/L to about 375 mg/L, about 10 mg/L to about 400 mg/L, about 25 mg/L to about 50 mg/L , from about 25 mg/L to about 75 mg/L, from about 25 mg/L to about 100 mg/L, from about 25 mg/L to about 125 mg/L, from about 25 mg/L to about 150 mg /L, from about 25 mg/L to about 175 mg/L, from about 25 mg/L to about 200 mg/L, from about 25 mg/L to about 225 mg/L, from about 25 mg/L to about 250 mg/L, from about 25 mg/L to about 275 mg/L, from about 25 mg/L to about 300 mg/L, from about 25 mg/L to about 325 mg/L, from about 25 mg/L to about 350 mg/l, from about 25 mg/l to about 375 mg/l, from about 25 mg/l to about 400 mg/l, from about 50 mg/l to about 75 mg/l, from about 50 mg/L to about 100 mg/L, from about 50 mg/L to about 125 mg/L, from about 50 mg/L to about 150 mg/L, from about 50 mg/L to about 175 mg/L l, from about 50 mg/L to about 200 mg/L, from about 50 mg/L to about 225 mg/L, from about 50 mg/L to about 250 mg/L, from about 50 mg/L to about 275 mg/L, from about 50 mg/L to about 300 mg/L, from about 50 mg/L to about 325 mg/L, from about 50 mg/L to about 350 mg/L, from about 50 mg/L to about 375 mg/L, about 50 mg/L to about 400 mg/L, about 75 mg/L to about 100 mg/L, about 75 mg/L to about 125 mg/L, about 75 mg/L l to about 150 mg/L, from about 75 mg/L to about 175 mg/L, from about 75 mg/L to about 200 mg/L, from about 75 mg/L to about 225 mg/L, from about 75 mg/L to about 250 mg/L, from about 75 mg/L to about 275 mg/L, from about 75 mg/L to about 300 mg/L, from about 75 mg/L to about 325 mg/L, from about 75 mg/L to about 350 mg/L, about 75 mg/L to about 375 mg/L, about 75 mg/L to about 400 mg/L, about 100 mg/L to about 125 mg/L , from about 100 mg/L to about 150 mg/L, from about 100 mg/L to about 175 mg/L, from about 100 mg/L to about 200 mg/L, from about 100 mg/L to about 225 mg /L, from about 100 mg/L to about 250 mg/L, from about 100 mg/L to about 275 mg/L, from about 100 mg/L to about 300 mg/L, from about 100 mg/L to about 325 mg/L, from about 100 mg/L to about 350 mg/L, from about 100 mg/L to about 375 mg/L, from about 100 mg/L to about 400 mg/L, from about 150 mg/L to about 175 mg/L, from about 150 mg/L to about 200 mg/L, from about 150 mg/L to about 225 mg/L, from about 150 mg/L to about 250 mg/L, from about 150 mg /L to about 275 mg/L, from about 150 mg/L to about 300 mg/L, from about 150 mg/L to about 325 mg/L, from about 150 mg/L to about 350 mg/L, from about 150 mg/L to about 375 mg/L, from about 150 mg/L to about 400 mg/L, from about 200 mg/L to about 225 mg/L, from about 200 mg/L to about 250 mg/L, from about 200 mg/L to about 275 mg/L, from about 200 mg/L to about 300 mg/L, from about 200 mg/L to about 325 mg/L, from about 200 mg/L to about 350 mg/L l, from about 200 mg/L to about 375 mg/L, from about 200 mg/L to about 400 mg/L, from about 250 mg/L to about 275 mg/L, from about 250 mg/L to about 300 mg/L, from about 250 mg/L to about 325 mg/L, from about 250 mg/L to about 350 mg/L, from about 250 mg/L to about 375 mg/L, from about 250 mg/L to about 400 mg/L, from about 300 mg/L to about 325 mg/L, from about 300 mg/L to about 350 mg/L, from about 300 mg/L to about 375 mg/L, from about 300 mg/L l to about 400 mg/L, from about 350 mg/L to about 375 mg/L, from about 350 mg/L to about 400 mg/L, or from about 375 mg/L to about 400 mg/L.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, от примерно 400 мг/л до примерно 500 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 600 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 700 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 800 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 900 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1000 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1100 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1200 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1300 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 400 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 600 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 700 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 800 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 900 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1000 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1100 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1200 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1300 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 500 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 700 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 800 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 900 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1000 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1100 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1200 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1300 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 600 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 800 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 900 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1000 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1100 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1200 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1300 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 700 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 900 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 1000 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 1100 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 1200 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 1300 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 1600 мг/л, отIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount, for example, from about 400 mg/L to about 500 mg/L, from about 400 mg/L to about 600 mg/L, from about 400 mg/L to about 700 mg/L, from about 400 mg/L to about 800 mg/L, from about 400 mg/L to about 900 mg/L, from about 400 mg/L to about 1000 mg/L, from about 400 mg/L to about 1100 mg/L, from about 400 mg/L to about 1200 mg/L, from about 400 mg/L to about 1300 mg/L, from about 400 mg/L to about 1400 mg/L l, from about 400 mg/L to about 1500 mg/L, from about 400 mg/L to about 1600 mg/L, from about 400 mg/L to about 1700 mg/L, from about 400 mg/L to about 1800 mg/L, from about 400 mg/L to about 1900 mg/L, from about 400 mg/L to about 2000 mg/L, from about 500 mg/L to about 600 mg/L, from about 500 mg/L to about 700 mg/L, from about 500 mg/L to about 800 mg/L, from about 500 mg/L to about 900 mg/L, from about 500 mg/L to about 1000 mg/L, from about 500 mg/L l to about 1100 mg/l, from about 500 mg/l to about 1200 mg/l, from about 500 mg/l to about 1300 mg/l, from about 500 mg/l to about 1400 mg/l, from about 500 mg/L to about 1500 mg/L, from about 500 mg/L to about 1600 mg/L, from about 500 mg/L to about 1700 mg/L, from about 500 mg/L to about 1800 mg/L, from about 500 mg/L to about 1900 mg/L, about 500 mg/L to about 2000 mg/L, about 600 mg/L to about 700 mg/L, about 600 mg/L to about 800 mg/L , from about 600 mg/L to about 900 mg/L, from about 600 mg/L to about 1000 mg/L, from about 600 mg/L to about 1100 mg/L, from about 600 mg/L to about 1200 mg /L, from about 600 mg/L to about 1300 mg/L, from about 600 mg/L to about 1400 mg/L, from about 600 mg/L to about 1500 mg/L, from about 600 mg/L to about 1600 mg/L, from about 600 mg/L to about 1700 mg/L, from about 600 mg/L to about 1800 mg/L, from about 600 mg/L to about 1900 mg/L, from about 600 mg/L to about 2000 mg/L, from about 700 mg/L to about 800 mg/L, from about 700 mg/L to about 900 mg/L, from about 700 mg/L to about 1000 mg/L, from about 700 mg /L to about 1100 mg/L, from about 700 mg/L to about 1200 mg/L, from about 700 mg/L to about 1300 mg/L, from about 700 mg/L to about 1400 mg/L, from about 700 mg/L to about 1500 mg/L, from about 700 mg/L to about 1600 mg/L, from about 700 mg/L to about 1700 mg/L, from about 700 mg/L to about 1800 mg/L, from about 700 mg/L to about 1900 mg/L, from about 700 mg/L to about 2000 mg/L, from about 800 mg/L to about 900 mg/L, from about 800 mg/L to about 1000 mg/L l, from about 800 mg/L to about 1100 mg/L, from about 800 mg/L to about 1200 mg/L, from about 800 mg/L to about 1300 mg/L, from about 800 mg/L to about 1400 mg/L, from about 800 mg/L to about 1500 mg/L, from about 800 mg/L to about 1600 mg/L, from

- 28 043933 примерно 800 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 800 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1000 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1100 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1200 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1300 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 900 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 1100 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 1200 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 1300 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 1000 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 1100 мг/л до примерно 1200 мг/л, от примерно 1100 мг/л до примерно 1300 мг/л, от примерно 1100 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 1100 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 1100 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 1100 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 1100 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 1100 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 1100 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 1200 мг/л до примерно 1300 мг/л, от примерно 1200 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 1200 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 1200 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 1200 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 1200 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 1200 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 1200 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 1300 мг/л до примерно 1400 мг/л, от примерно 1300 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 1300 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 1300 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 1300 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 1300 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 1300 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 1400 мг/л до примерно 1500 мг/л, от примерно 1400 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 1400 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 1400 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 1400 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 1400 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 1500 мг/л до примерно 1600 мг/л, от примерно 1500 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 1500 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 1500 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 1500 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 1600 мг/л до примерно 1700 мг/л, от примерно 1600 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 1600 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 1600 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 1700 мг/л до примерно 1800 мг/л, от примерно 1700 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 1700 мг/л до примерно 2000 мг/л, от примерно 1800 мг/л до примерно 1900 мг/л, от примерно 1800 мг/л до примерно 2000 мг/л или от примерно 1900 мг/л до примерно 2000 мг/л.- 28 043933 about 800 mg/l to about 1700 mg/l, from about 800 mg/l to about 1800 mg/l, from about 800 mg/l to about 1900 mg/l, from about 800 mg/l to about 2000 mg/L, from about 900 mg/L to about 1000 mg/L, from about 900 mg/L to about 1100 mg/L, from about 900 mg/L to about 1200 mg/L, from about 900 mg/L to about 1300 mg/L, from about 900 mg/L to about 1400 mg/L, from about 900 mg/L to about 1500 mg/L, from about 900 mg/L to about 1600 mg/L, from about 900 mg/L L to about 1700 mg/L, from about 900 mg/L to about 1800 mg/L, from about 900 mg/L to about 1900 mg/L, from about 900 mg/L to about 2000 mg/L, from about 1000 mg/L to about 1100 mg/L, from about 1000 mg/L to about 1200 mg/L, from about 1000 mg/L to about 1300 mg/L, from about 1000 mg/L to about 1400 mg/L, from about 1000 mg/L to about 1500 mg/L, about 1000 mg/L to about 1600 mg/L, about 1000 mg/L to about 1700 mg/L, about 1000 mg/L to about 1800 mg/L , from about 1000 mg/L to about 1900 mg/L, from about 1000 mg/L to about 2000 mg/L, from about 1100 mg/L to about 1200 mg/L, from about 1100 mg/L to about 1300 mg /L, from about 1100 mg/L to about 1400 mg/L, from about 1100 mg/L to about 1500 mg/L, from about 1100 mg/L to about 1600 mg/L, from about 1100 mg/L to about 1700 mg/L, from about 1100 mg/L to about 1800 mg/L, from about 1100 mg/L to about 1900 mg/L, from about 1100 mg/L to about 2000 mg/L, from about 1200 mg/L to about 1300 mg/L, from about 1200 mg/L to about 1400 mg/L, from about 1200 mg/L to about 1500 mg/L, from about 1200 mg/L to about 1600 mg/L, from about 1200 mg /L to about 1700 mg/L, from about 1200 mg/L to about 1800 mg/L, from about 1200 mg/L to about 1900 mg/L, from about 1200 mg/L to about 2000 mg/L, from about 1300 mg/L to about 1400 mg/L, from about 1300 mg/L to about 1500 mg/L, from about 1300 mg/L to about 1600 mg/L, from about 1300 mg/L to about 1700 mg/L, from about 1300 mg/L to about 1800 mg/L, from about 1300 mg/L to about 1900 mg/L, from about 1300 mg/L to about 2000 mg/L, from about 1400 mg/L to about 1500 mg/L l, from about 1400 mg/L to about 1600 mg/L, from about 1400 mg/L to about 1700 mg/L, from about 1400 mg/L to about 1800 mg/L, from about 1400 mg/L to about 1900 mg/L, from about 1400 mg/L to about 2000 mg/L, from about 1500 mg/L to about 1600 mg/L, from about 1500 mg/L to about 1700 mg/L, from about 1500 mg/L to about 1800 mg/L, about 1500 mg/L to about 1900 mg/L, about 1500 mg/L to about 2000 mg/L, about 1600 mg/L to about 1700 mg/L, about 1600 mg/L L to about 1800 mg/L, from about 1600 mg/L to about 1900 mg/L, from about 1600 mg/L to about 2000 mg/L, from about 1700 mg/L to about 1800 mg/L, from about 1700 mg/L to about 1900 mg/L, from about 1700 mg/L to about 2000 mg/L, from about 1800 mg/L to about 1900 mg/L, from about 1800 mg/L to about 2000 mg/L, or from about 1900 mg/L to about 2000 mg/L.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, примерно 0,10%, примерно 0,11%, примерно 0,12%, примерно 0,13%, примерно 0,14%, примерно 0,15%, примерно 0,16%, примерно 0,17%, примерно 0,18%, примерно 0,19%, примерно 0,2%, примерно 0,25%, примерно 0,3%, примерно 0,35%, примерно 0,4%, примерно 0,45% или примерно 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, по меньшей мере 0,10%, по меньшей мере 0,11%, по меньшей мере 0,12%, по меньшей мере 0,13%, по меньшей мере 0,14%, по меньшей мере 0,15%, по меньшей мере 0,16%, по меньшей мере 0,17%, по меньшей мере 0,18%, по меньшей мере 0,19%, по меньшей мере 0,2%, по меньшей мере 0,25%, по меньшей мере 0,3%, по меньшей мере 0,35%, по меньшей мере 0,4%, по меньшей мере 0,45% или по меньшей мере 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, не более 0,10%, не более 0,11%, не более 0,12%, не более 0,13%, не более 0,14%, не более 0,15%, не более 0,16%, не более 0,17%, не более 0,18%, не более 0,19%, не более 0,2%, не более 0,25%, не более 0,3%, не более 0,35%, не более 0,4%, не более 0,45% или не более 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит металлические частицы в количестве, например, от примерно 0,10% до примерно 0,15%, от примерно 0,10% до примерно 0,20%, от примерно 0,10% до примерно 0,25%, от примерно 0,10% до примерно 0,30%, от примерно 0,10% до примерно 0,35%, от примерно 0,10% до примерно 0,40%, от примерно 0,10% до примерно 0,45%, от примерно 0,10% до примерноIn aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, about 0.10%, about 0.11%, about 0.12%, about 0.13%, about 0.14% , approximately 0.15%, approximately 0.16%, approximately 0.17%, approximately 0.18%, approximately 0.19%, approximately 0.2%, approximately 0.25%, approximately 0.3%, approximately 0.35%, about 0.4%, about 0.45%, or about 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, at least 0.10%, at least 0.11%, at least 0.12%, at least 0 .13%, at least 0.14%, at least 0.15%, at least 0.16%, at least 0.17%, at least 0.18%, at least 0.19 %, at least 0.2%, at least 0.25%, at least 0.3%, at least 0.35%, at least 0.4%, at least 0.45% or at least 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, no more than 0.10%, no more than 0.11%, no more than 0.12%, no more than 0.13%, not more than 0.14%, not more than 0.15%, not more than 0.16%, not more than 0.17%, not more than 0.18%, not more than 0.19%, not more than 0.2%, not more than 0.25%, no more than 0.3%, no more than 0.35%, no more than 0.4%, no more than 0.45% or no more than 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains metal particles in an amount of, for example, from about 0.10% to about 0.15%, from about 0.10% to about 0.20%, from about 0.10% to about 0.25%, from about 0.10% to about 0.30%, from about 0.10% to about 0.35%, from about 0.10% to about 0.40%, from about 0.10% to about 0.45%, from about 0.10% to about

0,50%, от примерно 0,20% до примерно 0,25%, от примерно 0,20% до примерно 0,30%, от примерно0.50%, from about 0.20% to about 0.25%, from about 0.20% to about 0.30%, from about

0,20% до примерно 0,35%, от примерно 0,20% до примерно 0,40%, от примерно 0,20% до примерно0.20% to about 0.35%, from about 0.20% to about 0.40%, from about 0.20% to about

0,45%, от примерно 0,20% до примерно 0,50%, от примерно 0,30% до примерно 0,35%, от примерно0.45%, from about 0.20% to about 0.50%, from about 0.30% to about 0.35%, from about

0,30% до примерно 0,40%, от примерно 0,30% до примерно 0,45%, от примерно 0,30% до примерно0.30% to about 0.40%, from about 0.30% to about 0.45%, from about 0.30% to about

0,50%, от примерно 0,40% до примерно 0,45% или от примерно 0,40% до примерно 0,50% от массы композиции.0.50%, from about 0.40% to about 0.45%, or from about 0.40% to about 0.50% by weight of the composition.

В одном из вариантов реализации металлические частицы могут иметь любой размер, который придает желаемый полезный эффект композиции, описанной в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации металлические частицы, описанные в настоящем изобретении, имеют средний диаметр, например, примерно 10 нм, примерно 20 нм, примерно 30 нм, примерно 40 нм, приIn one embodiment, the metal particles can be of any size that imparts the desired beneficial effect to the composition described herein. In aspects according to this embodiment, the metal particles described in the present invention have an average diameter of, for example, about 10 nm, about 20 nm, about 30 nm, about 40 nm, with

- 29 043933 мерно 50 нм, примерно 60 нм, примерно 70 нм, примерно 80 нм, примерно 90 нм, примерно 100 нм. В других аспектах согласно указанному варианту реализации металлические частицы, описанные в настоящем изобретении, имеют средний диаметр, например, по меньшей мере 10 нм, по меньшей мере 20 нм, по меньшей мере 30 нм, по меньшей мере 40 нм, по меньшей мере 50 нм, по меньшей мере 60 нм, по меньшей мере 70 нм, по меньшей мере 80 нм, по меньшей мере 90 нм, по меньшей мере 100 нм. В других аспектах согласно указанному варианту реализации металлические частицы, описанные в настоящем изобретении, имеют средний диаметр, например, не более 10 нм, не более 20 нм, не более 30 нм, не более 40 нм, не более 50 нм, не более 60 нм, не более 70 нм, не более 80 нм, не более 90 нм, не более 100 нм. В других аспектах согласно указанному варианту реализации металлические частицы, описанные в настоящем изобретении, имеют средний диаметр, например, от примерно 10 нм до примерно 20 нм, от примерно 10 нм до примерно 30 нм, от примерно 10 нм до примерно 40 нм, от примерно 10 нм до примерно 50 нм, от примерно 10 нм до примерно 60 нм, от примерно 10 нм до примерно 70 нм, от примерно 10 нм до примерно 80 нм, от примерно 10 нм до примерно 90 нм, от примерно 10 нм до примерно 100 нм, от примерно 20 нм до примерно 30 нм, от примерно 20 нм до примерно 40 нм, от примерно 20 нм до примерно 50 нм, от примерно 20 нм до примерно 60 нм, от примерно 20 нм до примерно 70 нм, от примерно 20 нм до примерно 80 нм, от примерно 20 нм до примерно 90 нм, от примерно 20 нм до примерно 100 нм, от примерно 30 нм до примерно 40 нм, от примерно 30 нм до примерно 50 нм, от примерно 30 нм до примерно 60 нм, от примерно 30 нм до примерно 70 нм, от примерно 30 нм до примерно 80 нм, от примерно 30 нм до примерно 90 нм, от примерно 30 нм до примерно 100 нм, от примерно 40 нм до примерно 50 нм, от примерно 40 нм до примерно 60 нм, от примерно 40 нм до примерно 70 нм, от примерно 40 нм до примерно 80 нм, от примерно 40 нм до примерно 90 нм, от примерно 40 нм до примерно 100 нм, от примерно 50 нм до примерно 60 нм, от примерно 50 нм до примерно 70 нм, от примерно 50 нм до примерно 80 нм, от примерно 50 нм до примерно 90 нм, от примерно 50 нм до примерно 100 нм, от примерно 60 нм до примерно 70 нм, от примерно 60 нм до примерно 80 нм, от примерно 60 нм до примерно 90 нм, от примерно 60 нм до примерно 100 нм, от примерно 70 нм до примерно 80 нм, от примерно 70 нм до примерно 90 нм, от примерно 70 нм до примерно 100 нм, от примерно 80 нм до примерно 90 нм, от примерно 80 нм до примерно 100 нм или от примерно 90 нм до примерно 100 нм.- 29 043933 approximately 50 nm, approximately 60 nm, approximately 70 nm, approximately 80 nm, approximately 90 nm, approximately 100 nm. In other aspects, according to this embodiment, the metal particles described in the present invention have an average diameter, for example, at least 10 nm, at least 20 nm, at least 30 nm, at least 40 nm, at least 50 nm , at least 60 nm, at least 70 nm, at least 80 nm, at least 90 nm, at least 100 nm. In other aspects, according to this embodiment, the metal particles described in the present invention have an average diameter of, for example, no more than 10 nm, no more than 20 nm, no more than 30 nm, no more than 40 nm, no more than 50 nm, no more than 60 nm , no more than 70 nm, no more than 80 nm, no more than 90 nm, no more than 100 nm. In other aspects, according to this embodiment, the metal particles described in the present invention have an average diameter, for example, from about 10 nm to about 20 nm, from about 10 nm to about 30 nm, from about 10 nm to about 40 nm, from about 10 nm to about 50 nm, from about 10 nm to about 60 nm, from about 10 nm to about 70 nm, from about 10 nm to about 80 nm, from about 10 nm to about 90 nm, from about 10 nm to about 100 nm, from about 20 nm to about 30 nm, from about 20 nm to about 40 nm, from about 20 nm to about 50 nm, from about 20 nm to about 60 nm, from about 20 nm to about 70 nm, from about 20 nm to about 80 nm, from about 20 nm to about 90 nm, from about 20 nm to about 100 nm, from about 30 nm to about 40 nm, from about 30 nm to about 50 nm, from about 30 nm to about 60 nm , from about 30 nm to about 70 nm, from about 30 nm to about 80 nm, from about 30 nm to about 90 nm, from about 30 nm to about 100 nm, from about 40 nm to about 50 nm, from about 40 nm to about 60 nm, from about 40 nm to about 70 nm, from about 40 nm to about 80 nm, from about 40 nm to about 90 nm, from about 40 nm to about 100 nm, from about 50 nm to about 60 nm, from about 50 nm to about 70 nm, from about 50 nm to about 80 nm, from about 50 nm to about 90 nm, from about 50 nm to about 100 nm, from about 60 nm to about 70 nm, from about 60 nm to about 80 nm, from about 60 nm to about 90 nm, from about 60 nm to about 100 nm, from about 70 nm to about 80 nm, from about 70 nm to about 90 nm, from about 70 nm to about 100 nm, from about 80 nm to about 90 nm, about 80 nm to about 100 nm, or about 90 nm to about 100 nm.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит металлических частиц.In one embodiment, the composition described in the present invention does not contain metal particles.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, может содержать соль металла. Неограничивающие примеры солей металлов включают соль меди, соль железа, соль калия, соль серебра, соль титана и соль цинка. Другие неограничивающие примеры солей металлов включают ацетат металла, хлорид металла, нитрат металла и сульфат металла. Ацетаты металлов включают, без ограничений, ацетат меди, ацетат железа, например, ацетат железа (II) и ацетат железа (III), ацетат калия, ацетат серебра, ацетат титана и ацетат цинка. Хлориды металлов включают, без ограничений, хлорид меди, хлорид железа, например, хлорид железа (II) или хлорид железа (III), хлорид калия, хлорид серебра, хлорид титана и хлорид цинка. Нитраты металлов включают, без ограничений, нитрат меди, нитрат железа, например, нитрат железа (II), нитрат железа (III), нитрат калия, нитрат серебра, нитрат титана и нитрат цинка. Сульфаты металлов включают, без ограничений, сульфат меди, сульфат железа, например, сульфат железа (II), сульфат железа (III), сульфат калия, сульфат серебра, сульфат титана и сульфат цинка.The composition described in the present invention may contain a metal salt. Non-limiting examples of metal salts include copper salt, iron salt, potassium salt, silver salt, titanium salt and zinc salt. Other non-limiting examples of metal salts include metal acetate, metal chloride, metal nitrate and metal sulfate. Metal acetates include, but are not limited to, copper acetate, iron acetate, such as iron(II) acetate and iron(III) acetate, potassium acetate, silver acetate, titanium acetate and zinc acetate. Metal chlorides include, but are not limited to, copper chloride, ferric chloride, such as ferric (II) chloride or ferric (III) chloride, potassium chloride, silver chloride, titanium chloride and zinc chloride. Metal nitrates include, but are not limited to, copper nitrate, iron nitrate, such as iron(II) nitrate, iron(III) nitrate, potassium nitrate, silver nitrate, titanium nitrate and zinc nitrate. Metal sulfates include, but are not limited to, copper sulfate, ferrous sulfate, for example, iron (II) sulfate, iron (III) sulfate, potassium sulfate, silver sulfate, titanium sulfate and zinc sulfate.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, которое придает желаемый полезный эффект композиции, описанной в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, например, 0,05 ppm, 0,10 ppm, 0,15 ppm, 0,20 ppm, 0,25 ppm, 0,30 ppm, 0,35 ppm, 0,40 ppm, 0,45 ppm, 0,50 ppm, 0,55 ppm, 0,60 ppm, 0,65 ppm, 0,70 ppm, 0,75 ppm, 0,80 ppm, 0,85 ppm, 0,90 ppm, 0,95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm, 20 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm, 275 ppm, 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450 ppm, 475 ppm, 500 ppm, 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm, 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 1125 ppm, 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm, 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1475 ppm, 1500 ppm, 1600 ppm, 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm или 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, например, по меньшей мере 0,05 ppm, по меньшей мере 0,10 ppm, по меньшей мере 0,20 ppm, по меньшей мере 0,30 ppm, по меньшей мере 0,40 ppm, по меньшей мере 0,50 ppm, по меньшей мере 0,60 ppm, по меньшей мере 0,70 ppm, по меньшей мереIn one embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount that imparts the desired beneficial effect of the composition described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount of, for example, 0.05 ppm, 0.10 ppm, 0.15 ppm, 0.20 ppm, 0.25 ppm, 0.30 ppm , 0.35 ppm, 0.40 ppm, 0.45 ppm, 0.50 ppm, 0.55 ppm, 0.60 ppm, 0.65 ppm, 0.70 ppm, 0.75 ppm, 0.80 ppm , 0.85 ppm, 0.90 ppm, 0.95 ppm, 1 ppm, 5 ppm, 10 ppm, 15 ppm, 20 ppm, 25 ppm, 30 ppm, 35 ppm, 40 ppm, 45 ppm, 50 ppm, 55 ppm, 60 ppm, 65 ppm, 70 ppm, 75 ppm, 80 ppm, 85 ppm, 90 ppm, 95 ppm, 100 ppm, 125 ppm, 150 ppm, 175 ppm, 200 ppm, 225 ppm, 250 ppm, 275 ppm, 300 ppm, 325 ppm, 350 ppm, 375 ppm, 400 ppm, 425 ppm, 450 ppm, 475 ppm, 500 ppm, 525 ppm, 550 ppm, 575 ppm, 600 ppm, 625 ppm, 650 ppm, 675 ppm, 700 ppm , 725 ppm, 750 ppm, 775 ppm, 800 ppm, 825 ppm, 850 ppm, 875 ppm, 900 ppm, 925 ppm, 950 ppm, 975 ppm, 1000 ppm, 1025 ppm, 1050 ppm, 1075 ppm, 1100 ppm, 11 25 ppm, 1150 ppm, 1175 ppm, 1200 ppm, 1225 ppm, 1250 ppm, 1275 ppm, 1300 ppm, 1325 ppm, 1350 ppm, 1375 ppm, 1400 ppm, 1425 ppm, 1450 ppm, 1475 ppm, 1500 ppm , 1600 ppm, 1700 ppm, 1800 ppm, 1900 ppm or 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount of, for example, at least 0.05 ppm, at least 0.10 ppm, at least 0.20 ppm, at least 0 .30 ppm, at least 0.40 ppm, at least 0.50 ppm, at least 0.60 ppm, at least 0.70 ppm, at least

0,80 ppm, по меньшей мере 0,90 ppm, по меньшей мере 1 ppm, по меньшей мере 10 ppm, по меньшей мере 20 ppm, по меньшей мере 30 ppm, по меньшей мере 40 ppm, по меньшей мере 50 ppm, по меньшей мере 60 ppm, по меньшей мере 70 ppm, по меньшей мере 80 ppm, по меньшей мере 90 ppm, по меньшей мере 100 ppm, по меньшей мере 125 ppm, по меньшей мере 150 ppm, по меньшей мере 175 ppm, по меньшей0.80 ppm, at least 0.90 ppm, at least 1 ppm, at least 10 ppm, at least 20 ppm, at least 30 ppm, at least 40 ppm, at least 50 ppm, according to at least 60 ppm, at least 70 ppm, at least 80 ppm, at least 90 ppm, at least 100 ppm, at least 125 ppm, at least 150 ppm, at least 175 ppm, at least

- 30 043933 мере 200 ppm, по меньшей мере 225 ppm, по меньшей мере 250 ppm, по меньшей мере 275 ppm, по меньшей мере 300 ppm, по меньшей мере 325 ppm, по меньшей мере 350 ppm, по меньшей мере 375 ppm, по меньшей мере 400 ppm, по меньшей мере 425 ppm, по меньшей мере 450 ppm, по меньшей мере 475 ppm, по меньшей мере 500 ppm, по меньшей мере 525 ppm, по меньшей мере 550 ppm, по меньшей мере 575 ppm, по меньшей мере 600 ppm, по меньшей мере 625 ppm, по меньшей мере 650 ppm, по меньшей мере 675 ppm, по меньшей мере 700 ppm, по меньшей мере 725 ppm, по меньшей мере 750 ppm, по меньшей мере 775 ppm, по меньшей мере 800 ppm, по меньшей мере 825 ppm, по меньшей мере 850 ppm, по меньшей мере 875 ppm, по меньшей мере 900 ppm, по меньшей мере 925 ppm, по меньшей мере 950 ppm, по меньшей мере 975 ppm, по меньшей мере 1000 ppm, по меньшей мере 1025 ppm, по меньшей мере 1050 ppm, по меньшей мере 1075 ppm, по меньшей мере 1100 ppm, по меньшей мере 1125 ppm, по меньшей мере 1150 ppm, по меньшей мере 1175 ppm, по меньшей мере 1200 ppm, по меньшей мере 1225 ppm, по меньшей мере 1250 ppm, по меньшей мере 1275 ppm, по меньшей мере 1300 ppm, по меньшей мере 1325 ppm, по меньшей мере 1350 ppm, по меньшей мере 1375 ppm, по меньшей мере 1400 ppm, по меньшей мере 1425 ppm, по меньшей мере 1450 ppm, по меньшей мере 1475 ppm, по меньшей мере 1500 ppm, по меньшей мере 1600 ppm, по меньшей мере 1700 ppm, по меньшей мере 1800 ppm, по меньшей мере 1900 ppm или по меньшей мере 2000 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, например, не более 0,05 ppm, не более 0,10 ppm, не более 0,20 ppm, не более 0,30 ppm, не более 0,40 ppm, не более 0,50 ppm, не более 0,60 ppm, не более 0,70 ppm, не более 0,80 ppm, не более 0,90 ppm, не более 1 ppm, не более 10 ppm, не более 20 ppm, не более 30 ppm, не более 40 ppm, не более 50 ppm, не более 60 ppm, не более 70 ppm, не более 80 ppm, не более 90 ppm, не более 100 ppm, не более 125 ppm, не более 150 ppm, не более 175 ppm, не более 200 ppm, не более 225 ppm, не более 250 ppm, не более 275 ppm, не более 300 ppm, не более 325 ppm, не более 350 ppm, не более 375 ppm, не более 400 ppm, не более 425 ppm, не более 450 ppm, не более 475 ppm, не более 500 ppm, не более 525 ppm, не более 550 ppm, не более 575 ppm, не более 600 ppm, не более 625 ppm, не более 650 ppm, не более 675 ppm, не более 700 ppm, не более 725 ppm, не более 750 ppm, не более 775 ppm, не более 800 ppm, не более 825 ppm, не более 850 ppm, не более 875 ppm, не более 900 ppm, не более 925 ppm, не более 950 ppm, не более 975 ppm, не более 1000 ppm, не более 1025 ppm, не более 1050 ppm, не более 1075 ppm, не более 1100 ppm, не более 1125 ppm, не более 1150 ppm, не более 1175 ppm, не более 1200 ppm, не более- 30 043933 at least 200 ppm, at least 225 ppm, at least 250 ppm, at least 275 ppm, at least 300 ppm, at least 325 ppm, at least 350 ppm, at least 375 ppm, according to at least 400 ppm, at least 425 ppm, at least 450 ppm, at least 475 ppm, at least 500 ppm, at least 525 ppm, at least 550 ppm, at least 575 ppm, at least 600 ppm, at least 625 ppm, at least 650 ppm, at least 675 ppm, at least 700 ppm, at least 725 ppm, at least 750 ppm, at least 775 ppm, at least 800 ppm , at least 825 ppm, at least 850 ppm, at least 875 ppm, at least 900 ppm, at least 925 ppm, at least 950 ppm, at least 975 ppm, at least 1000 ppm, according to at least 1025 ppm, at least 1050 ppm, at least 1075 ppm, at least 1100 ppm, at least 1125 ppm, at least 1150 ppm, at least 1175 ppm, at least 1200 ppm, at least 1225 ppm, at least 1250 ppm, at least 1275 ppm, at least 1300 ppm, at least 1325 ppm, at least 1350 ppm, at least 1375 ppm, at least 1400 ppm, at least 1425 ppm , at least 1450 ppm, at least 1475 ppm, at least 1500 ppm, at least 1600 ppm, at least 1700 ppm, at least 1800 ppm, at least 1900 ppm or at least 2000 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount of, for example, no more than 0.05 ppm, no more than 0.10 ppm, no more than 0.20 ppm, no more than 0.30 ppm, no more than 0.40 ppm, no more than 0.50 ppm, no more than 0.60 ppm, no more than 0.70 ppm, no more than 0.80 ppm, no more than 0.90 ppm, no more than 1 ppm, no more than 10 ppm, no more than 20 ppm, no more than 30 ppm, no more than 40 ppm, no more than 50 ppm, no more than 60 ppm, no more than 70 ppm, no more than 80 ppm, no more than 90 ppm, no more than 100 ppm, no more than 125 ppm, no more than 150 ppm, no more than 175 ppm, no more than 200 ppm, no more than 225 ppm, no more than 250 ppm, no more than 275 ppm, no more than 300 ppm, no more than 325 ppm, no more than 350 ppm, no more than 375 ppm, no more than 400 ppm, no more than 425 ppm, no more than 450 ppm, no more than 475 ppm, no more than 500 ppm, no more than 525 ppm, no more than 550 ppm, no more than 575 ppm, no more than 600 ppm, no more than 625 ppm, no more than 650 ppm, no more than 675 ppm, no more than 700 ppm, no more than 725 ppm, no more than 750 ppm, no more than 775 ppm, no more than 800 ppm, no more than 825 ppm, no more than 850 ppm, no more than 875 ppm, no more than 900 ppm, no more than 925 ppm, no more than 950 ppm, no more than 975 ppm, no more than 1000 ppm, no more than 1025 ppm, no more than 1050 ppm, no more than 1075 ppm, no more than 1100 ppm, no more than 1125 ppm, no more than 1150 ppm, no more than 1175 ppm, no more than 1200 ppm, no more

1225 ppm, не более 1250 ppm, не более 1275 ppm, не более 1300 ppm, не более 1325 ppm, не более1225 ppm, no more than 1250 ppm, no more than 1275 ppm, no more than 1300 ppm, no more than 1325 ppm, no more

1350 ppm, не более 1375 ppm, не более 1400 ppm, не более 1425 ppm, не более 1450 ppm, не более1350 ppm, no more than 1375 ppm, no more than 1400 ppm, no more than 1425 ppm, no more than 1450 ppm, no more

1475 ppm, не более 1500 ppm, не более 1600 ppm, не более 1700 ppm, не более 1800 ppm, не более1475 ppm, no more than 1500 ppm, no more than 1600 ppm, no more than 1700 ppm, no more than 1800 ppm, no more

1900 ppm или не более 2000 ppm.1900 ppm or not more than 2000 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, например, от примерно 0,5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 0,75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 95 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 5 ppm доIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount, for example, from about 0.5 ppm to about 20 ppm, from about 0.5 ppm to about 25 ppm, from about 0.5 ppm to about 30 ppm, from about 0.5 ppm to about 35 ppm, from about 0.5 ppm to about 40 ppm, from about 0.5 ppm to about 45 ppm, from about 0.5 ppm to about 50 ppm, from about 0.5 ppm to about 55 ppm, from about 0.5 ppm to about 60 ppm, from about 0.5 ppm to about 65 ppm, from about 0.5 ppm to about 70 ppm, from about 0.5 ppm to about 75 ppm, from about 0.5 ppm to about 80 ppm, from about 0.5 ppm to about 85 ppm, from about 0.5 ppm to about 90 ppm, from about 0.5 ppm to about 95 ppm, from about 0.5 ppm to about 100 ppm, from about 0.75 ppm to about 20 ppm, from about 0.75 ppm to about 25 ppm, from about 0.75 ppm to about 30 ppm, from about 0.75 ppm to about 35 ppm, from about 0.75 ppm to about 40 ppm, from about 0.75 ppm to about 45 ppm, from about 0.75 ppm to about 50 ppm, from about 0.75 ppm to about 55 ppm, from about 0 .75 ppm to about 60 ppm, from about 0.75 ppm to about 65 ppm, from about 0.75 ppm to about 70 ppm, from about 0.75 ppm to about 75 ppm, from about 0.75 ppm to about 80 ppm, from about 0.75 ppm to about 85 ppm, from about 0.75 ppm to about 90 ppm, from about 0.75 ppm to about 95 ppm, from about 0.75 ppm to about 100 ppm, from about 1 ppm to about 20 ppm, from about 1 ppm to about 25 ppm, from about 1 ppm to about 30 ppm, from about 1 ppm to about 35 ppm, from about 1 ppm to about 40 ppm, from about 1 ppm to about 45 ppm, from about 1 ppm to about 50 ppm, from about 1 ppm to about 55 ppm, from about 1 ppm to about 60 ppm, from about 1 ppm to about 65 ppm, from about 1 ppm to about 70 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 80 ppm, from about 1 ppm to about 85 ppm, from about 1 ppm to about 90 ppm, from about 1 ppm to about 95 ppm, from about 1 ppm to about 100 ppm, from about 5 ppm to about 20 ppm, about 5 ppm to about 25 ppm, about 5 ppm to about 30 ppm, about 5 ppm to about 35 ppm, about 5 ppm to about 40 ppm, about 5 ppm to about 45 ppm, from about 5 ppm to about 50 ppm, from about 5 ppm to about 55 ppm, from about 5 ppm to about 60 ppm, from about 5 ppm to about 65 ppm, from about 5 ppm to about 70 ppm, from about 5 ppm to about 75 ppm, from about 5 ppm to about 80 ppm, from about 5 ppm to about 85 ppm, from about 5 ppm to about 90 ppm, from about 5 ppm to

- 31 043933 примерно 95 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 35 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 45 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 55 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 65 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 85 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 95 ppm или от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm.- 31 043933 about 95 ppm, from about 5 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 20 ppm, from about 10 ppm to about 25 ppm, from about 10 ppm to about 30 ppm, from about 10 ppm to about 35 ppm, from about 10 ppm to about 40 ppm, from about 10 ppm to about 45 ppm, from about 10 ppm to about 50 ppm, from about 10 ppm to about 55 ppm, from about 10 ppm to about 60 ppm, from about 10 ppm to about 65 ppm, from about 10 ppm to about 70 ppm, from about 10 ppm to about 75 ppm, from about 10 ppm to about 80 ppm, from about 10 ppm to about 85 ppm, from about 10 ppm to about 90 ppm , from about 10 ppm to about 95 ppm, or from about 10 ppm to about 100 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, например, от примерно 1 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 1 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 25 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 25 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 75 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 75 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 125 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 150 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 175 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 200 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 150 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 225 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 250 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 200 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 275 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 300 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 250 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 325 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 350 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 300 ppm до примерно 400 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 375 ppm, от примерно 350 ppm до примерно 400 ppm или от примерно 375 ppm до примерно 400 ppm.In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount, for example, from about 1 ppm to about 25 ppm, from about 1 ppm to about 50 ppm, from about 1 ppm to about 75 ppm, from about 1 ppm to about 100 ppm, about 1 ppm to about 125 ppm, about 1 ppm to about 150 ppm, about 1 ppm to about 175 ppm, about 1 ppm to about 200 ppm, about 1 ppm to about 225 ppm, from about 1 ppm to about 250 ppm, from about 1 ppm to about 275 ppm, from about 1 ppm to about 300 ppm, from about 1 ppm to about 325 ppm, from about 1 ppm to about 350 ppm, from about 1 ppm to about 375 ppm, about 1 ppm to about 400 ppm, about 10 ppm to about 25 ppm, about 10 ppm to about 50 ppm, about 10 ppm to about 75 ppm, about 10 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 125 ppm, from about 10 ppm to about 150 ppm, from about 10 ppm to about 175 ppm, from about 10 ppm to about 200 ppm, from about 10 ppm to about 225 ppm, from about 10 ppm to about 250 ppm, from about 10 ppm to about 275 ppm, from about 10 ppm to about 300 ppm, from about 10 ppm to about 325 ppm, from about 10 ppm to about 350 ppm, from about 10 ppm to about 375 ppm , from about 10 ppm to about 400 ppm, from about 25 ppm to about 50 ppm, from about 25 ppm to about 75 ppm, from about 25 ppm to about 100 ppm, from about 25 ppm to about 125 ppm, from about 25 ppm to about 150 ppm, from about 25 ppm to about 175 ppm, from about 25 ppm to about 200 ppm, from about 25 ppm to about 225 ppm, from about 25 ppm to about 250 ppm, from about 25 ppm to about 275 ppm, from about 25 ppm to about 300 ppm, from about 25 ppm to about 325 ppm, from about 25 ppm to about 350 ppm, from about 25 ppm to about 375 ppm, from about 25 ppm to about 400 ppm, from about 50 ppm to about 75 ppm, from about 50 ppm to about 100 ppm, from about 50 ppm to about 125 ppm, from about 50 ppm to about 150 ppm, from about 50 ppm to about 175 ppm, from about 50 ppm to about 200 ppm, from about 50 ppm to about 225 ppm, about 50 ppm to about 250 ppm, about 50 ppm to about 275 ppm, about 50 ppm to about 300 ppm, about 50 ppm to about 325 ppm, about 50 ppm to about 350 ppm, from about 50 ppm to about 375 ppm, from about 50 ppm to about 400 ppm, from about 75 ppm to about 100 ppm, from about 75 ppm to about 125 ppm, from about 75 ppm to about 150 ppm, from about 75 ppm to about 175 ppm, about 75 ppm to about 200 ppm, about 75 ppm to about 225 ppm, about 75 ppm to about 250 ppm, about 75 ppm to about 275 ppm, about 75 ppm to about 300 ppm, from about 75 ppm to about 325 ppm, from about 75 ppm to about 350 ppm, from about 75 ppm to about 375 ppm, from about 75 ppm to about 400 ppm, from about 100 ppm to about 125 ppm, from about 100 ppm to about 150 ppm, from about 100 ppm to about 175 ppm, from about 100 ppm to about 200 ppm, from about 100 ppm to about 225 ppm, from about 100 ppm to about 250 ppm, from about 100 ppm to about 275 ppm , from about 100 ppm to about 300 ppm, from about 100 ppm to about 325 ppm, from about 100 ppm to about 350 ppm, from about 100 ppm to about 375 ppm, from about 100 ppm to about 400 ppm, from about 150 ppm to about 175 ppm, from about 150 ppm to about 200 ppm, from about 150 ppm to about 225 ppm, from about 150 ppm to about 250 ppm, from about 150 ppm to about 275 ppm, from about 150 ppm to about 300 ppm, from about 150 ppm to about 325 ppm, from about 150 ppm to about 350 ppm, from about 150 ppm to about 375 ppm, from about 150 ppm to about 400 ppm, from about 200 ppm to about 225 ppm, from about 200 ppm to from about 250 ppm, from about 200 ppm to about 275 ppm, from about 200 ppm to about 300 ppm, from about 200 ppm to about 325 ppm, from about 200 ppm to about 350 ppm, from about 200 ppm to about 375 ppm, from about 200 ppm to about 400 ppm, about 250 ppm to about 275 ppm, about 250 ppm to about 300 ppm, about 250 ppm to about 325 ppm, about 250 ppm to about 350 ppm, about 250 ppm to about 375 ppm, from about 250 ppm to about 400 ppm, from about 300 ppm to about 325 ppm, from about 300 ppm to about 350 ppm, from about 300 ppm to about 375 ppm, from about 300 ppm to about 400 ppm, from about 350 ppm to about 375 ppm, from about 350 ppm to about 400 ppm, or from about 375 ppm to about 400 ppm.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, например, от примерно 400 ppm до примерноIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount, for example, from about 400 ppm to about

- 32 043933- 32 043933

500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 800 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1000 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 900 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1100 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1000 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1200 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1100 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1300 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1200 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1400 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1300 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1500 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1400 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1600 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1500 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1700 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1600 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1800 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1700 ppm до примерно 2000 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 1900 ppm, от примерно 1800 ppm до примерно 2000 ppm или от примерно 1900 ppm до примерно 2000 ppm.500 ppm, from about 400 ppm to about 600 ppm, from about 400 ppm to about 700 ppm, from about 400 ppm to about 800 ppm, from about 400 ppm to about 900 ppm, from about 400 ppm to about 1000 ppm, from about 400 ppm to about 1100 ppm, from about 400 ppm to about 1200 ppm, from about 400 ppm to about 1300 ppm, from about 400 ppm to about 1400 ppm, from about 400 ppm to about 1500 ppm, from about 400 ppm to about 1600 ppm, from about 400 ppm to about 1700 ppm, from about 400 ppm to about 1800 ppm, from about 400 ppm to about 1900 ppm, from about 400 ppm to about 2000 ppm, from about 500 ppm to about 600 ppm, from about 500 ppm to about 700 ppm, from about 500 ppm to about 800 ppm, from about 500 ppm to about 900 ppm, from about 500 ppm to about 1000 ppm, from about 500 ppm to about 1100 ppm, from about 500 ppm to about 1200 ppm , from about 500 ppm to about 1300 ppm, from about 500 ppm to about 1400 ppm, from about 500 ppm to about 1500 ppm, from about 500 ppm to about 1600 ppm, from about 500 ppm to about 1700 ppm, from about 500 ppm to about 1800 ppm, from about 500 ppm to about 1900 ppm, from about 500 ppm to about 2000 ppm, from about 600 ppm to about 700 ppm, from about 600 ppm to about 800 ppm, from about 600 ppm to about 900 ppm, from about 600 ppm to about 1000 ppm, from about 600 ppm to about 1100 ppm, from about 600 ppm to about 1200 ppm, from about 600 ppm to about 1300 ppm, from about 600 ppm to about 1400 ppm, from about 600 ppm to from about 1500 ppm, from about 600 ppm to about 1600 ppm, from about 600 ppm to about 1700 ppm, from about 600 ppm to about 1800 ppm, from about 600 ppm to about 1900 ppm, from about 600 ppm to about 2000 ppm, from from about 700 ppm to about 800 ppm, from about 700 ppm to about 900 ppm, from about 700 ppm to about 1000 ppm, from about 700 ppm to about 1100 ppm, from about 700 ppm to about 1200 ppm, from about 700 ppm to about 1300 ppm, from about 700 ppm to about 1400 ppm, from about 700 ppm to about 1500 ppm, from about 700 ppm to about 1600 ppm, from about 700 ppm to about 1700 ppm, from about 700 ppm to about 1800 ppm, from about 700 ppm to about 1900 ppm, from about 700 ppm to about 2000 ppm, from about 800 ppm to about 900 ppm, from about 800 ppm to about 1000 ppm, from about 800 ppm to about 1100 ppm, from about 800 ppm to about 1200 ppm, from about 800 ppm to about 1300 ppm, from about 800 ppm to about 1400 ppm, from about 800 ppm to about 1500 ppm, from about 800 ppm to about 1600 ppm, from about 800 ppm to about 1700 ppm, from about 800 ppm to about 1800 ppm, from about 800 ppm to about 1900 ppm, from about 800 ppm to about 2000 ppm, from about 900 ppm to about 1000 ppm, from about 900 ppm to about 1100 ppm, from about 900 ppm to about 1200 ppm , from about 900 ppm to about 1300 ppm, from about 900 ppm to about 1400 ppm, from about 900 ppm to about 1500 ppm, from about 900 ppm to about 1600 ppm, from about 900 ppm to about 1700 ppm, from about 900 ppm to about 1800 ppm, from about 900 ppm to about 1900 ppm, from about 900 ppm to about 2000 ppm, from about 1000 ppm to about 1100 ppm, from about 1000 ppm to about 1200 ppm, from about 1000 ppm to about 1300 ppm, from about 1000 ppm to about 1400 ppm, from about 1000 ppm to about 1500 ppm, from about 1000 ppm to about 1600 ppm, from about 1000 ppm to about 1700 ppm, from about 1000 ppm to about 1800 ppm, from about 1000 ppm to about 1900 ppm, from about 1000 ppm to about 2000 ppm, from about 1100 ppm to about 1200 ppm, from about 1100 ppm to about 1300 ppm, from about 1100 ppm to about 1400 ppm, from about 1100 ppm to about 1500 ppm, from from about 1100 ppm to about 1600 ppm, from about 1100 ppm to about 1700 ppm, from about 1100 ppm to about 1800 ppm, from about 1100 ppm to about 1900 ppm, from about 1100 ppm to about 2000 ppm, from about 1200 ppm to about 1300 ppm, from about 1200 ppm to about 1400 ppm, from about 1200 ppm to about 1500 ppm, from about 1200 ppm to about 1600 ppm, from about 1200 ppm to about 1700 ppm, from about 1200 ppm to about 1800 ppm, from about 1200 ppm to about 1900 ppm, from about 1200 ppm to about 2000 ppm, from about 1300 ppm to about 1400 ppm, from about 1300 ppm to about 1500 ppm, from about 1300 ppm to about 1600 ppm, from about 1300 ppm to about 1700 ppm, from about 1300 ppm to about 1800 ppm, from about 1300 ppm to about 1900 ppm, from about 1300 ppm to about 2000 ppm, from about 1400 ppm to about 1500 ppm, from about 1400 ppm to about 1600 ppm, from about 1400 ppm to about 1700 ppm, from about 1400 ppm to about 1800 ppm, from about 1400 ppm to about 1900 ppm, from about 1400 ppm to about 2000 ppm, from about 1500 ppm to about 1600 ppm, from about 1500 ppm to about 1700 ppm , from about 1500 ppm to about 1800 ppm, from about 1500 ppm to about 1900 ppm, from about 1500 ppm to about 2000 ppm, from about 1600 ppm to about 1700 ppm, from about 1600 ppm to about 1800 ppm, from about 1600 ppm to about 1900 ppm, from about 1600 ppm to about 2000 ppm, from about 1700 ppm to about 1800 ppm, from about 1700 ppm to about 1900 ppm, from about 1700 ppm to about 2000 ppm, from about 1800 ppm to about 1900 ppm, from about 1800 ppm to about 2000 ppm or from about 1900 ppm to about 2000 ppm.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобреIn aspects according to the specified embodiment, the composition described in the present invention

- 33 043933 тении, содержит соль металла в количестве, например, примерно 0,10%, примерно 0,11%, примерно 0,12%, примерно 0,13%, примерно 0,14%, примерно 0,15%, примерно 0,16%, примерно 0,17%, примерно 0,18%, примерно 0,19%, примерно 0,2%, примерно 0,25%, примерно 0,3%, примерно 0,35%, примерно 0,4%, примерно 0,45% или примерно 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, например, по меньшей мере 0,10%, по меньшей мере 0,11%, по меньшей мере 0,12%, по меньшей мере 0,13%, по меньшей мере 0,14%, по меньшей мере 0,15%, по меньшей мере 0,16%, по меньшей мере 0,17%, по меньшей мере 0,18%, по меньшей мере 0,19%, по меньшей мере 0,2%, по меньшей мере 0,25%, по меньшей мере 0,3%, по меньшей мере 0,35%, по меньшей мере 0,4%, по меньшей мере 0,45% или по меньшей мере 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, например, не более 0,10%, не более 0,11%, не более 0,12%, не более 0,13%, не более 0,14%, не более 0,15%, не более 0,16%, не более 0,17%, не более 0,18%, не более 0,19%, не более 0,2%, не более 0,25%, не более 0,3%, не более 0,35%, не более 0,4%, не более 0,45% или не более 0,5% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит соль металла в количестве, например, от примерно 0,10% до примерно 0,15%, от примерно 0,10% до примерно 0,20%, от примерно 0,10% до примерно 0,25%, от примерно 0,10% до примерно 0,30%, от примерно 0,10% до примерно 0,35%, от примерно 0,10% до примерно 0,40%, от примерно 0,10% до примерно 0,45%, от примерно 0,10% до примерно 0,50%, от примерно 0,20% до примерно 0,25%, от примерно 0,20% до примерно 0,30%, от примерно 0,20% до примерно 0,35%, от примерно 0,20% до примерно 0,40%, от примерно 0,20% до примерно 0,45%, от примерно 0,20% до примерно 0,50%, от примерно 0,30% до примерно 0,35%, от примерно 0,30% до примерно 0,40%, от примерно 0,30% до примерно 0,45%, от примерно 0,30% до примерно 0,50%, от примерно 0,40% до примерно 0,45% или от примерно 0,40% до примерно 0,50% от массы композиции.- 33 043933 tenii, contains a metal salt in an amount of, for example, about 0.10%, about 0.11%, about 0.12%, about 0.13%, about 0.14%, about 0.15%, about 0.16%, approximately 0.17%, approximately 0.18%, approximately 0.19%, approximately 0.2%, approximately 0.25%, approximately 0.3%, approximately 0.35%, approximately 0. 4%, about 0.45%, or about 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount of, for example, at least 0.10%, at least 0.11%, at least 0.12%, at least 0 .13%, at least 0.14%, at least 0.15%, at least 0.16%, at least 0.17%, at least 0.18%, at least 0.19 %, at least 0.2%, at least 0.25%, at least 0.3%, at least 0.35%, at least 0.4%, at least 0.45% or at least 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount of, for example, no more than 0.10%, no more than 0.11%, no more than 0.12%, no more than 0.13%, not more than 0.14%, not more than 0.15%, not more than 0.16%, not more than 0.17%, not more than 0.18%, not more than 0.19%, not more than 0.2%, not more than 0.25%, no more than 0.3%, no more than 0.35%, no more than 0.4%, no more than 0.45% or no more than 0.5% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a metal salt in an amount of, for example, from about 0.10% to about 0.15%, from about 0.10% to about 0.20%, from about 0.10% to about 0.25%, from about 0.10% to about 0.30%, from about 0.10% to about 0.35%, from about 0.10% to about 0.40%, from about 0.10% to about 0.45%, from about 0.10% to about 0.50%, from about 0.20% to about 0.25%, from about 0.20% to about 0.30 %, from about 0.20% to about 0.35%, from about 0.20% to about 0.40%, from about 0.20% to about 0.45%, from about 0.20% to about 0 .50%, from about 0.30% to about 0.35%, from about 0.30% to about 0.40%, from about 0.30% to about 0.45%, from about 0.30% to about 0.50%, about 0.40% to about 0.45%, or about 0.40% to about 0.50% by weight of the composition.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, не содержит солей металлов.In one embodiment, the composition described in the present invention does not contain metal salts.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, может содержать носитель. Носитель, также известный как вещество-носитель, может представлять собой любой материал, обычно известный в области ухода за кожей, косметики и медицины, который используют в качестве основы для получения композиции, описанной в настоящем изобретении. Носитель может представлять собой водный носитель, полутвердый носитель или твердый носитель. Носитель также может обеспечивать уход за кожей, как описано в настоящем изобретении. Носитель включает, без ограничений, воду, растительное масло, минеральное масло, эфирное масло, простой эфир, спирт, жирный спирт, изопарафин, углеводородное масло, многоатомный спирт и воск. Неограничивающие примеры эфирных масел включают октилпальмитат, изопропилмиристат и изопропилпальмитат. Неограничивающие примеры простых эфиров включают дикаприловый эфир и диметилизосорбид. Неограничивающие примеры спиртов включают этанол и изопропанол. Неограничивающие примеры жирных спиртов включают цетиловый спирт, цетеариловый спирт, стеариловый спирт и бегениловый спирт. Неограничивающие примеры изопарафинов включают изооктан, изододекан (IDD) и изогексадекан. Неограничивающие примеры углеводородных масел включают минеральное масло, петролатум, изоэйкозан и полиолефин, включая (гидрогенизированный) полиизобутен. Неограничивающие примеры многоатомных спиртов включают пропиленгликоль, глицерин, бутиленгликоль, пентиленгликоль, гексиленгликоль, каприлилгликоль. Неограничивающие примеры восков включают пчелиный воск, карнаубский воск, озокерит, микрокристаллический воск, полиэтиленовый воск и ботанический воск.The composition described in the present invention may contain a carrier. The carrier, also known as a carrier material, can be any material commonly known in the fields of skin care, cosmetics and medicine, which is used as a basis for preparing the composition described in the present invention. The carrier may be an aqueous carrier, a semi-solid carrier, or a solid carrier. The carrier can also provide skin care as described in the present invention. The carrier includes, but is not limited to, water, vegetable oil, mineral oil, essential oil, ether, alcohol, fatty alcohol, isoparaffin, hydrocarbon oil, polyhydric alcohol and wax. Non-limiting examples of essential oils include octyl palmitate, isopropyl myristate and isopropyl palmitate. Non-limiting examples of ethers include dicaprylic ether and dimethyl isosorbide. Non-limiting examples of alcohols include ethanol and isopropanol. Non-limiting examples of fatty alcohols include cetyl alcohol, cetearyl alcohol, stearyl alcohol and behenyl alcohol. Non-limiting examples of isoparaffins include isooctane, isododecane (IDD), and isohexadecane. Non-limiting examples of hydrocarbon oils include mineral oil, petrolatum, isoeicosane and polyolefin, including (hydrogenated) polyisobutene. Non-limiting examples of polyhydric alcohols include propylene glycol, glycerin, butylene glycol, pentylene glycol, hexylene glycol, caprylyl glycol. Non-limiting examples of waxes include beeswax, carnauba wax, ozokerite, microcrystalline wax, polyethylene wax and botanical wax.

В одном из вариантов реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, содержится один носитель. В другом варианте реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, содержится множество носителей. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, один или более носителей, два или более носителей, три или более носителей, четыре или более носителей или пять или более носителей. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, только один носитель, не более двух носителей, не более трех носителей, не более четырех носителей или не более пяти носителей. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, от 1 до 2 носителей, от 1 до 3 носителей, от 1 до 4 носителей, от 1 до 5 носителей, от 2 до 3 носителей, от 2 до 4 носителей, от 2 до 5 носителей, от 3 до 4 носителей, от 3 до 5 носителей или от 4 до 5 носителей.In one embodiment, the composition described in the present invention contains a single carrier. In another embodiment, the composition described in the present invention contains a plurality of carriers. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, one or more carriers, two or more carriers, three or more carriers, four or more carriers, or five or more carriers. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, only one carrier, at most two carriers, at most three carriers, at most four carriers, or at most five carriers. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, from 1 to 2 carriers, from 1 to 3 carriers, from 1 to 4 carriers, from 1 to 5 carriers, from 2 to 3 carriers, from 2 up to 4 media, 2 to 5 media, 3 to 4 media, 3 to 5 media, or 4 to 5 media.

В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит количество носителя, которое обеспечивает желаемый рецептурный или полезный эффект композиции, описанной в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит носитель в количестве, например, по меньшей мере 5%, по меньшей мере 10%, по меньшей мере 15%, по меньшей мере 20%, по меньшей мере 25%, по меньшей мере 30%, по меньшей мере 35%, по меньшей мере 40%, по меньшей мере 45%, по меньшей мере 50%, по меньшей мере 55%, по меньшей мере 60%, по меньшей мере 65%, по меньшей мере 70%, по меньшейIn another embodiment, the composition described in the present invention contains an amount of carrier that provides the desired formulation or beneficial effect of the composition described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a carrier in an amount of, for example, at least 5%, at least 10%, at least 15%, at least 20%, at least 25%, at least 30%, at least 35%, at least 40%, at least 45%, at least 50%, at least 55%, at least 60%, at least 65%, at least at least 70%, at least

- 34 043933 мере 75%, по меньшей мере 80%, по меньшей мере 85%, по меньшей мере 90%, по меньшей мере 95%, по меньшей мере 96%, по меньшей мере 97%, по меньшей мере 98% или по меньшей мере 99% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит носитель в количестве, например, не более 5%, не более 10%, не более 15%, не более 20%, не более 25%, не более 30%, не более 35%, не более 40%, не более 45%, не более 50%, не более 55%, не более 60%, не более 65%, не более 70%, не более 75%, не более 80%, не более 85%, не более 90%, не более 95%, не более 96%, не более 97%, не более 98% или не более 99% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит носитель в количестве, например, от примерно 5% до примерно 25%, от примерно 5% до примерно 50%, от примерно 5% до примерно 75%, от примерно 5% до примерно 90%, от примерно 5% до примерно 95%, от примерно 5% до примерно 96%, от примерно 5% до примерно 97%, от примерно 5% до примерно 98%, от примерно 5% до примерно 99%, от примерно 25% до примерно 50%, от примерно 25% до примерно 75%, от примерно 25% до примерно 90%, от примерно 25% до примерно 95%, от примерно 25% до примерно 96%, от примерно 25% до примерно 97%, от примерно 25% до примерно 98%, от примерно 25% до примерно 99%, от примерно 50% до примерно 75%, от примерно 50% до примерно 90%, от примерно 50% до примерно 95%, от примерно 50% до примерно 96%, от примерно 50% до примерно 97%, от примерно 50% до примерно 98%, от примерно 50% до примерно 99%, от примерно 75% до примерно 80%, от примерно 75% до примерно 85%, от примерно 75% до примерно 90%, от примерно 75% до примерно 95%, от примерно 75% до примерно 96%, от примерно 75% до примерно 97%, от примерно 75% до примерно 98%, от примерно 75% до примерно 99%, от примерно 80% до примерно 85%, от примерно 80% до примерно 90%, от примерно 80% до примерно 95%, от примерно 80% до примерно 96%, от примерно 80% до примерно 97%, от примерно 80% до примерно 98%, от примерно 80% до примерно 99%, от примерно 85% до примерно 90%, от примерно 85% до примерно 95%, от примерно 85% до примерно 96%, от примерно 85% до примерно 97%, от примерно 85% до примерно 98%, от примерно 85% до примерно 99%, от примерно 90% до примерно 95%, от примерно 90% до примерно 96%, от примерно 90% до примерно 97%, от примерно 90% до примерно 98%, от примерно 90% до примерно 99% или от примерно 95% до примерно 99% от массы композиции.- 34 043933 at least 75%, at least 80%, at least 85%, at least 90%, at least 95%, at least 96%, at least 97%, at least 98% or according at least 99% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a carrier in an amount of, for example, no more than 5%, no more than 10%, no more than 15%, no more than 20%, no more than 25%, no more than 30% , no more than 35%, no more than 40%, no more than 45%, no more than 50%, no more than 55%, no more than 60%, no more than 65%, no more than 70%, no more than 75%, no more than 80% , not more than 85%, not more than 90%, not more than 95%, not more than 96%, not more than 97%, not more than 98% or not more than 99% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains a carrier in an amount of, for example, from about 5% to about 25%, from about 5% to about 50%, from about 5% to about 75%, from about 5% to about 90%, from about 5% to about 95%, from about 5% to about 96%, from about 5% to about 97%, from about 5% to about 98%, from about 5% to about 99 %, from about 25% to about 50%, from about 25% to about 75%, from about 25% to about 90%, from about 25% to about 95%, from about 25% to about 96%, from about 25 % to about 97%, from about 25% to about 98%, from about 25% to about 99%, from about 50% to about 75%, from about 50% to about 90%, from about 50% to about 95% , from about 50% to about 96%, from about 50% to about 97%, from about 50% to about 98%, from about 50% to about 99%, from about 75% to about 80%, from about 75% to about 85%, from about 75% to about 90%, from about 75% to about 95%, from about 75% to about 96%, from about 75% to about 97%, from about 75% to about 98%, from about 75% to about 99%, from about 80% to about 85%, from about 80% to about 90%, from about 80% to about 95%, from about 80% to about 96%, from about 80% to about 97%, from about 80% to about 98%, from about 80% to about 99%, from about 85% to about 90%, from about 85% to about 95%, from about 85% to about 96%, from about 85% to about 97%, about 85% to about 98%, about 85% to about 99%, about 90% to about 95%, about 90% to about 96%, about 90% to about 97%, from about 90% to about 98%, from about 90% to about 99%, or from about 95% to about 99% by weight of the composition.

В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит носитель, отличный от спирта. В аспектах согласно указанному варианту реализации, если композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, то композиция может содержать носитель, отличный от спирта.In another embodiment, the composition described in the present invention contains a carrier other than alcohol. In aspects according to this embodiment, if the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine, then the composition may contain a carrier other than an alcohol.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, может дополнительно необязательно включать дополнительные ингредиенты. Дополнительный ингредиент представляет собой ингредиент, полезный для получения конечной композиции, описанной в настоящем изобретении. Дополнительный ингредиент включает, без ограничений, гидрофильную глину, дезинфицирующее средство, антисептик, поверхностно-активное вещество, консервант или хелатирующий агент. Дополнительный ингредиент, описанный в настоящем изобретении, известен в данной области техники.The composition described in the present invention may further optionally include additional ingredients. An additional ingredient is an ingredient useful in preparing the final composition described in the present invention. The additional ingredient includes, but is not limited to, a hydrophilic clay, a disinfectant, an antiseptic, a surfactant, a preservative, or a chelating agent. The additional ingredient described in the present invention is known in the art.

Гидрофильная глина представляет собой синтетическую или природную смектическую глину, которая при гидратации образует трехмерные коллоидные структуры, что приводит к повышенной вязкости и улучшенным компонентам контроля суспензии в композиции. Гидрофильная глина включает водные филлосиликатные глины. Гидрофильная глина может иметь тиксотропные свойства. Неограничивающие примеры гидрофильных глин включают бентонитовую глину, гекторитовую глину, каолинитовую глину и силикатную глину. Бентонитовая глина представляет собой филлосиликатную глину и включает, без ограничений, калиевую бентонитовую глину, натриевую бентонитовую глину, кальциевую бентонитовую глину и алюминиевую бентонитовую глину. Гекторитовая глина представляет собой филлосиликатную глину и включает глины, коммерчески продающиеся в виде линейки продуктов BENTONE®, включая гекторитовую глину (BENTONE® EW), гекторитовую глину (BENTONE® MA) и гекторитовую глину и гидроксиэтилцеллюлозу (BENTONE® LT). Каолинитовая глина представляет собой филлосиликатную глину. Силикатная глина представляет собой синтетическую слоистую силикатную глину и включает глины, коммерчески продающиеся в виде линейки продуктов LAPONITE®, включая силикат лития-магния-натрия (LAPONITE® XLG), силикат лития-магния-натрия и пирофосфат тетранатрия (LAPONITE® XLS), фторсиликат натрия-магния (LAPONITE® XL) и фторсиликат натрия-магния (LAPONITE® XL21).Hydrophilic clay is a synthetic or natural smectic clay that, when hydrated, forms three-dimensional colloidal structures, resulting in increased viscosity and improved suspension control components in the composition. Hydrophilic clay includes hydrous phyllosilicate clays. Hydrophilic clay may have thixotropic properties. Non-limiting examples of hydrophilic clays include bentonite clay, hectorite clay, kaolinite clay and silicate clay. Bentonite clay is a phyllosilicate clay and includes, but is not limited to, potassium bentonite clay, soda bentonite clay, calcium bentonite clay and aluminum bentonite clay. Hectorite clay is a phyllosilicate clay and includes clays sold commercially as the BENTONE® product line, including hectorite clay (BENTONE® EW), hectorite clay (BENTONE® MA) and hectorite clay and hydroxyethylcellulose (BENTONE® LT). Kaolinite clay is a phyllosilicate clay. Silicate clay is a synthetic layered silicate clay and includes clays sold commercially as the LAPONITE® product line, including lithium magnesium sodium silicate (LAPONITE® XLG), lithium magnesium sodium silicate and tetrasodium pyrophosphate (LAPONITE® XLS), fluorosilicate sodium magnesium (LAPONITE® XL) and sodium magnesium fluorosilicate (LAPONITE® XL21).

В одном из вариантов реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, содержится одна гидрофильная глина. В другом варианте реализации в композиции, описанной в настоящем изобретении, содержится множество гидрофильных глин. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, одну или более гидрофильных глин, два или более гидрофильных глин, три или более гидрофильных глин, четыре или более гидрофильных глин или пять или более гидрофильных глин. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, только одну гидрофильную глину, не более двух гидрофильных глин, не более трех гидрофильных глин, не более четырехIn one embodiment, the composition described in the present invention contains one hydrophilic clay. In another embodiment, the composition described in the present invention contains a plurality of hydrophilic clays. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, one or more hydrophilic clays, two or more hydrophilic clays, three or more hydrophilic clays, four or more hydrophilic clays, or five or more hydrophilic clays. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, only one hydrophilic clay, no more than two hydrophilic clays, no more than three hydrophilic clays, no more than four

- 35 043933 гидрофильных глин или не более пяти гидрофильных глин. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит, например, от 1 до 2 гидрофильных глин, от 1 до 3 гидрофильных глин, от 1 до 4 гидрофильных глин, от 1 до 5 гидрофильных глин, от 2 до 3 гидрофильных глин, от 2 до 4 гидрофильных глин, от 2 до 5 гидрофильных глин, от 3 до 4 гидрофильных глин, от 3 до 5 гидрофильных глин или от 4 до 5 гидрофильных глин.- 35 043933 hydrophilic clays or no more than five hydrophilic clays. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains, for example, from 1 to 2 hydrophilic clays, from 1 to 3 hydrophilic clays, from 1 to 4 hydrophilic clays, from 1 to 5 hydrophilic clays, from 2 to 3 hydrophilic clays, 2 to 4 hydrophilic clays, 2 to 5 hydrophilic clays, 3 to 4 hydrophilic clays, 3 to 5 hydrophilic clays or 4 to 5 hydrophilic clays.

В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит гидрофильную глину в количестве, которое придает желаемый полезный эффект композиции, описанной в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит гидрофильную глину в количестве, например, 0,01%, 0,025%, 0,05%, 0,075%, 0,1%, 0,2%, 0,25%, 0,3%, 0,4%, 0,5%, 0,6%, 0,7%, 0,75%, 0,8%, 0,9%, 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, 6%, 7%, 8%. 9% или 10% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит гидрофильную глину в количестве, например, по меньшей мере 0,01%, по меньшей мере 0,025%, по меньшей мере 0,05%, по меньшей мере 0,075%, по меньшей мере 0,1%, по меньшей мере 0,25%, по меньшей мере 0,5%, по меньшей мере 0,75%, по меньшей мере 1%, по меньшей мере 2%, по меньшей мере 3%, по меньшей мере 4%, по меньшей мере 5%, по меньшей мере 6%, по меньшей мере 7%, по меньшей мере 8%, по меньшей мере 9% или по меньшей мере 10% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит гидрофильную глину в количестве, например, не более 0,01%, не более 0,025%, не более 0,05%, не более 0,075%, не более 0,1%, не более 0,25%, не более 0,5%, не более 0,75%, не более 1%, не более 2%, не более 3%, не более 4%, не более 5%, не более 6%, не более 7%, не более 8%, не более 9% или не более 10% от массы композиции.In another embodiment, the composition described in the present invention contains hydrophilic clay in an amount that imparts the desired beneficial effect of the composition described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hydrophilic clay in an amount of, for example, 0.01%, 0.025%, 0.05%, 0.075%, 0.1%, 0.2%, 0.25 %, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.75%, 0.8%, 0.9%, 1%, 2%, 3% , 4%, 5%, 6%, 7%, 8%. 9% or 10% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hydrophilic clay in an amount of, for example, at least 0.01%, at least 0.025%, at least 0.05%, at least 0.075%, at least 0.1%, at least 0.25%, at least 0.5%, at least 0.75%, at least 1%, at least 2%, at least 3%, at least 4%, at least 5%, at least 6%, at least 7%, at least 8%, at least 9% or at least 10% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hydrophilic clay in an amount of, for example, no more than 0.01%, no more than 0.025%, no more than 0.05%, no more than 0.075%, no more than 0. 1%, no more than 0.25%, no more than 0.5%, no more than 0.75%, no more than 1%, no more than 2%, no more than 3%, no more than 4%, no more than 5%, not more than 6%, no more than 7%, no more than 8%, no more than 9% or no more than 10% by weight of the composition.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит гидрофильную глину в количестве, например, от примерно 0,01% до примерно 0,05%, 0,01% до примерно 0,075%, от примерно 0,01% до примерно 0,1%, от примерно 0,1% до примерно 0,5%, от примерно 0,1% до примерно 0,75%, от примерно 0,1% до примерно 1%, от примерно 0,1% до примерно 2%, от примерно 0,1% до примерно 3%, от примерно 0,1% до примерно 4%, от примерно 0,1% до примерно 5%, от примерно 0,1% до примерно 6%, от примерно 0,1% до примерно 7%, от примерно 0,1% до примерно 8%, от примерно 0,1% до примерно 9%, от примерно 0,1% до примерно 10%, от примерно 0,25% до примерно 0,5%, от примерно 0,25% до примерно 0,75%, от примерно 0,25% до примерно 1%, от примерно 0,25% до примерно 2%, от примерно 0,25% до примерно 3%, от примерно 0,25% до примерно 4%, от примерно 0,25% до примерно 5%, от примерно 0,25% до примерно 6%, от примерно 0,25% до примерно 7%, от примерно 0,25% до примерно 8%, от примерно 0,25% до примерно 9%, от примерно 0,25% до примерно 10%, от примерно 0,5% до примерно 0,75%, от примерно 0,5% до примерно 1%, от примерно 0,5% до примерно 2%, от примерно 0,5% до примерно 3%, от примерно 0,5% до примерно 4%, от примерно 0,5% до примерно 5%, от примерно 0,5% до примерно 6%, от примерно 0,5% до примерно 7%, от примерно 0,5% до примерно 8%, от примерно 0,5% до примерно 9%, от примерно 0,5% до примерно 10%, от примерно 0,75% до примерно 1%, от примерно 0,75% до примерно 2%, от примерно 0,75% до примерно 3%, от примерно 0,75% до примерно 4%, от примерно 0,75% до примерно 5%, от примерно 0,75% до примерно 6%, от примерно 0,75% до примерно 7%, от примерно 0,75% до примерно 8%, от примерно 0,75% до примерно 9%, от примерно 0,75% до примерно 10%, от примерно 1% до примерно 2%, от примерно 1% до примерно 3%, от примерно 1% до примерно 4%, от примерноIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hydrophilic clay in an amount, for example, from about 0.01% to about 0.05%, 0.01% to about 0.075%, from about 0.01% to about 0.1%, from about 0.1% to about 0.5%, from about 0.1% to about 0.75%, from about 0.1% to about 1%, from about 0.1% to about 2%, from about 0.1% to about 3%, from about 0.1% to about 4%, from about 0.1% to about 5%, from about 0.1% to about 6%, from about 0.1% to about 7%, about 0.1% to about 8%, about 0.1% to about 9%, about 0.1% to about 10%, about 0.25% to about 0.5%, about 0.25% to about 0.75%, about 0.25% to about 1%, about 0.25% to about 2%, about 0.25% to about 3 %, from about 0.25% to about 4%, from about 0.25% to about 5%, from about 0.25% to about 6%, from about 0.25% to about 7%, from about 0. 25% to about 8%, from about 0.25% to about 9%, from about 0.25% to about 10%, from about 0.5% to about 0.75%, from about 0.5% to about 1%, from about 0.5% to about 2%, from about 0.5% to about 3%, from about 0.5% to about 4%, from about 0.5% to about 5%, from about 0 .5% to about 6%, from about 0.5% to about 7%, from about 0.5% to about 8%, from about 0.5% to about 9%, from about 0.5% to about 10 %, from about 0.75% to about 1%, from about 0.75% to about 2%, from about 0.75% to about 3%, from about 0.75% to about 4%, from about 0. 75% to about 5%, about 0.75% to about 6%, about 0.75% to about 7%, about 0.75% to about 8%, about 0.75% to about 9% , from about 0.75% to about 10%, from about 1% to about 2%, from about 1% to about 3%, from about 1% to about 4%, from about

1% до примерно 5%, от примерно 1% до примерно 6%, от примерно 1% до примерно 7%, от примерно1% to about 5%, from about 1% to about 6%, from about 1% to about 7%, from about

1% до примерно 8%, от примерно 1% до примерно 9%, от примерно 1% до примерно 10%, от примерно 2% до примерно 3%, от примерно 2% до примерно 4%, от примерно 2% до примерно 5%, от примерно1% to about 8%, about 1% to about 9%, about 1% to about 10%, about 2% to about 3%, about 2% to about 4%, about 2% to about 5 %, from approximately

2% до примерно 6%, от примерно 2% до примерно 7%, от примерно 2% до примерно 8%, от примерно2% to about 6%, from about 2% to about 7%, from about 2% to about 8%, from about

2% до примерно 9%, от примерно 2% до примерно 10%, от примерно 3% до примерно 4%, от примерно 3% до примерно 5%, от примерно 3% до примерно 6%, от примерно 3% до примерно 7%, от примерно 3% до примерно 8%, от примерно 3% до примерно 9%, от примерно 3% до примерно 10%, от примерно 4% до примерно 5%, от примерно 4% до примерно 6%, от примерно 4% до примерно 7%, от примерно 4% до примерно 8%, от примерно 4% до примерно 9%, от примерно 4% до примерно 10%, от примерно 5% до примерно 6%, от примерно 5% до примерно 7%, от примерно 5% до примерно 8%, от примерно 5% до примерно 9%, от примерно 5% до примерно 10%, от примерно 6% до примерно 7%, от примерно 6% до примерно 8%, от примерно 6% до примерно 9%, от примерно 6% до примерно 10%, от примерно 7% до примерно 8%, от примерно 7% до примерно 9%, от примерно 7% до примерно 10%, от примерно 8% до примерно 9%, от примерно 8% до примерно 10% или от примерно 9% до примерно 10% от массы композиции.2% to about 9%, about 2% to about 10%, about 3% to about 4%, about 3% to about 5%, about 3% to about 6%, about 3% to about 7 %, from about 3% to about 8%, from about 3% to about 9%, from about 3% to about 10%, from about 4% to about 5%, from about 4% to about 6%, from about 4 % to about 7%, from about 4% to about 8%, from about 4% to about 9%, from about 4% to about 10%, from about 5% to about 6%, from about 5% to about 7% , from about 5% to about 8%, from about 5% to about 9%, from about 5% to about 10%, from about 6% to about 7%, from about 6% to about 8%, from about 6% to about 9%, from about 6% to about 10%, from about 7% to about 8%, from about 7% to about 9%, from about 7% to about 10%, from about 8% to about 9%, from about 8% to about 10% or from about 9% to about 10% by weight of the composition.

В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит силикатную глину в количестве, которое придает желаемый полезный эффект композиции, описанной в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит силикатную глину в количестве, например, 0,001%, 0,0025%, 0,005%, 0,0075%, 0,01%, 0,025%, 0,05%, 0,075%, 0,1%, 0,2%, 0,25%, 0,3%, 0,4%, 0,5%, 0,6%, 0,7%, 0,75%, 0,8%, 0,9%, 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, 6%, 7%, 8%. 9% или 10% от массы композиции. В других аспектах согласноIn another embodiment, the composition described in the present invention contains silicate clay in an amount that imparts the desired beneficial effect of the composition described in the present invention. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains silicate clay in an amount of, for example, 0.001%, 0.0025%, 0.005%, 0.0075%, 0.01%, 0.025%, 0.05%, 0.075%, 0.1%, 0.2%, 0.25%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.75%, 0, 8%, 0.9%, 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, 6%, 7%, 8%. 9% or 10% by weight of the composition. In other aspects according to

- 36 043933 указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит силикатную глину в количестве, например, по меньшей мере 0,001%, по меньшей мере 0,0025%, по меньшей мере 0,005%, по меньшей мере 0,0075%, по меньшей мере 0,01%, по меньшей мере 0,025%, по меньшей мере 0,05%, по меньшей мере 0,075%, по меньшей мере 0,1%, по меньшей мере 0,25%, по меньшей мере 0,5%, по меньшей мере 0,75%, по меньшей мере 1%, по меньшей мере 2%, по меньшей мере 3%, по меньшей мере 4%, по меньшей мере 5%, по меньшей мере 6%, по меньшей мере 7%, по меньшей мере 8%, по меньшей мере 9% или по меньшей мере 10% от массы композиции. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит силикатную глину в количестве, например, не более 0,001%, не более 0,0025%, не более 0,005%, не более 0,0075%, не более 0,01%, не более 0,025%, не более 0,05%, не более 0,075%, не более 0,1%, не более 0,25%, не более 0,5%, не более 0,75%, не более 1%, не более 2%, не более 3%, не более 4%, не более 5%, не более 6%, не более 7%, не более 8%, не более 9% или не более 10% от массы композиции.- 36 043933 to the specified embodiment, the composition described in the present invention contains silicate clay in an amount of, for example, at least 0.001%, at least 0.0025%, at least 0.005%, at least 0.0075%, according to at least 0.01%, at least 0.025%, at least 0.05%, at least 0.075%, at least 0.1%, at least 0.25%, at least 0.5% , at least 0.75%, at least 1%, at least 2%, at least 3%, at least 4%, at least 5%, at least 6%, at least 7% , at least 8%, at least 9% or at least 10% by weight of the composition. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains silicate clay in an amount of, for example, no more than 0.001%, no more than 0.0025%, no more than 0.005%, no more than 0.0075%, no more than 0. 01%, no more than 0.025%, no more than 0.05%, no more than 0.075%, no more than 0.1%, no more than 0.25%, no more than 0.5%, no more than 0.75%, no more 1%, not more than 2%, not more than 3%, not more than 4%, not more than 5%, not more than 6%, not more than 7%, not more than 8%, not more than 9% or not more than 10% by weight of the composition .

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит силикатную глину в количестве, например, от примерно 0,001% до примерно 0,005%, от примерно 0,001% до примерно 0,0075%, от примерно 0,001% до примерно 0,01%, от примерно 0,001% до примерно 0,05%, от примерно 0,001% до примерно 0,075%, от примерно 0,001% до примерно 0,1%, от примерно 0,001% до примерно 0,25%, от примерно 0,001% до примерно 0,5%, от примерно 0,001% до примерно 0,75%, от примерно 0,005% до примерно 0,0075%, от примерно 0,005% до примерно 0,01%, от примерно 0,005% до примерно 0,05%, от примерно 0,005% до примерно 0,075%, от примерно 0,005% до примерно 0,1%, от примерно 0,005% до примерно 0,25%, от примерно 0,005% до примерно 0,5%, от примерно 0,005% до примерно 0,75%, от примерно 0,01% до примерно 0,05%, 0,01% до примерно 0,075%, от примерно 0,01% до примерно 0,1%, от примерно 0,1% до примерно 0,5%, от примерно 0,1% до примерно 0,75%, от примерно 0,1% до примерно 1%, от примерно 0,1% до примерно 2%, от примерно 0,1% до примерно 3%, от примерно 0,1% до примерно 4%, от примерно 0,1% до примерно 5%, от примерно 0,1% до примерно 6%, от примерно 0,1% до примерно 7%, от примерно 0,1% до примерно 8%, от примерно 0,1% до примерно 9%, от примерно 0,1% до примерно 10%, от примерно 0,25% до примерно 0,5%, от примерно 0,25% до примерно 0,75%, от примерно 0,25% до примерно 1%, от примерно 0,25% до примерно 2%, от примерно 0,25% до примерно 3%, от примерно 0,25% до примерно 4%, от примерно 0,25% до примерно 5%, от примерно 0,25% до примерно 6%, от примерно 0,25% до примерно 7%, от примерно 0,25% до примерно 8%, от примерно 0,25% до примерно 9%, от примерно 0,25% до примерно 10%, от примерно 0,5% до примерно 0,75%, от примерно 0,5% до примерно 1%, от примерно 0,5% до примерно 2%, от примерно 0,5% до примерно 3%, от примерно 0,5% до примерно 4%, от примерно 0,5% до примерно 5%, от примерно 0,5% до примерно 6%, от примерно 0,5% до примерно 7%, от примерно 0,5% до примерно 8%, от примерно 0,5% до примерно 9%, от примерно 0,5% до примерно 10%, от примерно 0,75% до примерно 1%, от примерно 0,75% до примерно 2%, от примерно 0,75% до примерно 3%, от примерно 0,75% до примерно 4%, от примерно 0,75% до примерно 5%, от примерно 0,75% до примерно 6%, от примерно 0,75% до примерно 7%, от примерно 0,75% до примерно 8%, от примерно 0,75% до примерно 9%, от примерно 0,75% до примерно 10%, от примерно 1% до примерно 2%, от примерно 1% до примерно 3%, от примерно 1% до примерно 4%, от примерно 1% до примерноIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains silicate clay in an amount, for example, from about 0.001% to about 0.005%, from about 0.001% to about 0.0075%, from about 0.001% to about 0. 01%, from about 0.001% to about 0.05%, from about 0.001% to about 0.075%, from about 0.001% to about 0.1%, from about 0.001% to about 0.25%, from about 0.001% to about 0.5%, from about 0.001% to about 0.75%, from about 0.005% to about 0.0075%, from about 0.005% to about 0.01%, from about 0.005% to about 0.05%, from about 0.005% to about 0.075%, from about 0.005% to about 0.1%, from about 0.005% to about 0.25%, from about 0.005% to about 0.5%, from about 0.005% to about 0, 75%, about 0.01% to about 0.05%, 0.01% to about 0.075%, about 0.01% to about 0.1%, about 0.1% to about 0.5% , from about 0.1% to about 0.75%, from about 0.1% to about 1%, from about 0.1% to about 2%, from about 0.1% to about 3%, from about 0 .1% to about 4%, from about 0.1% to about 5%, from about 0.1% to about 6%, from about 0.1% to about 7%, from about 0.1% to about 8 %, from about 0.1% to about 9%, from about 0.1% to about 10%, from about 0.25% to about 0.5%, from about 0.25% to about 0.75%, from about 0.25% to about 1%, from about 0.25% to about 2%, from about 0.25% to about 3%, from about 0.25% to about 4%, from about 0.25% to about 5%, from about 0.25% to about 6%, from about 0.25% to about 7%, from about 0.25% to about 8%, from about 0.25% to about 9%, from about 0.25% to about 10%, from about 0.5% to about 0.75%, from about 0.5% to about 1%, from about 0.5% to about 2%, from about 0.5 % to about 3%, from about 0.5% to about 4%, from about 0.5% to about 5%, from about 0.5% to about 6%, from about 0.5% to about 7%, from about 0.5% to about 8%, from about 0.5% to about 9%, from about 0.5% to about 10%, from about 0.75% to about 1%, from about 0.75% to about 2%, from about 0.75% to about 3%, from about 0.75% to about 4%, from about 0.75% to about 5%, from about 0.75% to about 6%, from about 0.75% to about 7%, about 0.75% to about 8%, about 0.75% to about 9%, about 0.75% to about 10%, about 1% to about 2 %, from about 1% to about 3%, from about 1% to about 4%, from about 1% to about

5%, от примерно 1% до примерно 6%, от примерно 1% до примерно 7%, от примерно 1% до примерно5%, from about 1% to about 6%, from about 1% to about 7%, from about 1% to about

8%, от примерно 1% до примерно 9%, от примерно 1% до примерно 10%, от примерно 2% до примерно 3%, от примерно 2% до примерно 4%, от примерно 2% до примерно 5%, от примерно 2% до примерно8%, from about 1% to about 9%, from about 1% to about 10%, from about 2% to about 3%, from about 2% to about 4%, from about 2% to about 5%, from about 2% to approx.

6%, от примерно 2% до примерно 7%, от примерно 2% до примерно 8%, от примерно 2% до примерно6%, from about 2% to about 7%, from about 2% to about 8%, from about 2% to about

9%, от примерно 2% до примерно 10%, от примерно 3% до примерно 4%, от примерно 3% до примерно 5%, от примерно 3% до примерно 6%, от примерно 3% до примерно 7%, от примерно 3% до примерно 8%, от примерно 3% до примерно 9%, от примерно 3% до примерно 10%, от примерно 4% до примерно 5%, от примерно 4% до примерно 6%, от примерно 4% до примерно 7%, от примерно 4% до примерно 8%, от примерно 4% до примерно 9%, от примерно 4% до примерно 10%, от примерно 5% до примерно 6%, от примерно 5% до примерно 7%, от примерно 5% до примерно 8%, от примерно 5% до примерно 9%, от примерно 5% до примерно 10%, от примерно 6% до примерно 7%, от примерно 6% до примерно 8%, от примерно 6% до примерно 9%, от примерно 6% до примерно 10%, от примерно 7% до примерно 8%, от примерно 7% до примерно 9%, от примерно 7% до примерно 10%, от примерно 8% до примерно 9%, от примерно 8% до примерно 10% или от примерно 9% до примерно 10% от массы композиции.9%, from about 2% to about 10%, from about 3% to about 4%, from about 3% to about 5%, from about 3% to about 6%, from about 3% to about 7%, from about 3% to about 8%, about 3% to about 9%, about 3% to about 10%, about 4% to about 5%, about 4% to about 6%, about 4% to about 7 %, from about 4% to about 8%, from about 4% to about 9%, from about 4% to about 10%, from about 5% to about 6%, from about 5% to about 7%, from about 5 % to about 8%, from about 5% to about 9%, from about 5% to about 10%, from about 6% to about 7%, from about 6% to about 8%, from about 6% to about 9% , from about 6% to about 10%, from about 7% to about 8%, from about 7% to about 9%, from about 7% to about 10%, from about 8% to about 9%, from about 8% to about 10% or from about 9% to about 10% by weight of the composition.

Консервант сохраняет стабильность композиции, описанной в настоящем изобретении. Консервант также может предотвращать рост микроорганизмов в композиции, описанной в настоящем изобретении. Неограничивающие примеры консервантов включают метилпарабен, феноксиэтанол, каприлгликоль, глицерилкаприлат, бензойную кислоту, сорбиновую кислоту, галловую кислота и пропилпарабен.The preservative maintains the stability of the composition described in the present invention. The preservative may also prevent the growth of microorganisms in the composition described in the present invention. Non-limiting examples of preservatives include methylparaben, phenoxyethanol, capryl glycol, glyceryl caprylate, benzoic acid, sorbic acid, gallic acid and propylparaben.

pH композиции, описанной в настоящем изобретении, можно регулировать до любого pH, который позволяет композиции, описанной в настоящем изобретении, достигать желаемого полезного эффекта. В аспектах согласно указанному варианту реализации pH композиции, описанной в настоящем изобретении, составляет, например, по меньшей мере 2, по меньшей мере 3, по меньшей мере 4, по меньшей мере 5, по меньшей мере 6, по меньшей мере 7, по меньшей мере 8, по меньшей мере 9, по меньшей мере 10The pH of the composition described in the present invention can be adjusted to any pH that allows the composition described in the present invention to achieve the desired beneficial effect. In aspects according to this embodiment, the pH of the composition described in the present invention is, for example, at least 2, at least 3, at least 4, at least 5, at least 6, at least 7, at least at least 8, at least 9, at least 10

- 37 043933 или по меньшей мере 11. В других аспектах согласно указанному варианту реализации pH композиции, описанной в настоящем изобретении, составляет, например, не более 2, не более 3, не более 4, не более 5, не более 6, не более 7, не более 8, не более 9, не более 10 или не более 11.- 37 043933 or at least 11. In other aspects, according to this embodiment, the pH of the composition described in the present invention is, for example, no more than 2, no more than 3, no more than 4, no more than 5, no more than 6, no more 7, no more than 8, no more than 9, no more than 10 or no more than 11.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации pH композиции, описанной в настоящем изобретении, составляет, например, от примерно 2 до примерно 5, от примерно 2 до примерно 5,5, от примерно 2 до примерно 6, от примерно 2 до примерно 6,5, от примерно 2 до примерно 7, от примерно 2 до примерно 7,5, от примерно 2 до примерно 8, от примерно 2 до примерно 8,5, от примерно 2 до примерно 9, от примерно 2,5 до примерно 5, от примерно 2,5 до примерно 5,5, от примерно 2,5 до примерно 6, от примерно 2,5 до примерно 6,5, от примерно 2,5 до примерно 7, от примерно 2,5 до примерно 7,5, от примерно 2,5 до примерно 8, от примерно 2,5 до примерно 8,5, от примерно 2,5 до примерно 9, от примерно 3 до примерно 5, от примерно 3 до примерно 5,5, от примерно 3 до примерно 6, от примерно 3 до примерно 6,5, от примерно 3 до примерно 7, от примерно 3 до примерно 7,5, от примерно 3 до примерно 8, от примерно 3 до примерно 8,5, от примерно 3 до примерно 9, от примерно 3,5 до примерно 5, от примерно 3,5 до примерно 5,5, от примерно 3,5 до примерно 6, от примерно 3,5 до примерно 6,5, от примерно 3,5 до примерно 7, от примерно 3,5 до примерно 7,5, от примерно 3,5 до примерно 8, от примерно 3,5 до примерно 8,5, от примерно 3,5 до примерно 9, от примерно 4 до примерно 5, от примерно 4 до примерно 5,5, от примерно 4 до примерно 6, от примерно 4 до примерно 6,5, от примерно 4 до примерно 7, от примерно 4 до примерно 7,5, от примерно 4 до примерно 8, от примерно 4 до примерно 8,5, от примерно 4 до примерно 9, от примерно 4,5 до примерно 5, от примерно 4,5 до примерно 5,5, от примерно 4,5 до примерно 6, от примерно 4,5 до примерно 6,5, от примерно 4,5 до примерно 7, от примерно 4,5 до примерно 7,5, от примерно 4,5 до примерно 8, от примерно 4,5 до примерно 8,5, от примерно 4,5 до примерно 9, от примерно 5 до примерно 5,5, от примерно 5 до примерно 6, от примерно 5 до примерно 6,5, от примерно 5 до примерно 7, от примерно 5 до примерно 7,5, от примерно 5 до примерно 8, от примерно 5 до примерно 8,5, от примерно 5 до примерно 9, от примерно 5,5 до примерно 6, от примерно 5,5 до примерно 6,5, от примерно 5,5 до примерно 7, от примерно 5,5 до примерно 7,5, от примерно 5,5 до примерно 8, от примерно 5,5 до примерно 8,5, от примерно 5,5 до примерно 9, от примерно 6 до примерно 6,5, от примерно 6 до примерно 7, от примерно 6 до примерно 7,5, от примерно 6 до примерно 8, от примерно 6 до примерно 8,5, от примерно 6 до примерно 9, от примерно 6,5 до примерно 7, от примерно 6,5 до примерно 7,5, от примерно 6,5 до примерно 8, от примерно 6,5 до примерно 8,5, от примерно 6,5 до примерно 9, от примерно 7 до примерно 7,5, от примерно 7 до примерно 8, от примерно 7 до примерно 8,5, от примерно 7 до примерно 9, от примерно 7,5 до примерно 8, от примерно 7,5 до примерно 8,5, от примерно 7,5 до примерно 9, от примерно 8 до примерно 8,5, от примерно 8 до примерно 9 или от примерно 8,5 до примерно 9.In other aspects, according to this embodiment, the pH of the composition described in the present invention is, for example, from about 2 to about 5, from about 2 to about 5.5, from about 2 to about 6, from about 2 to about 6.5 , from about 2 to about 7, from about 2 to about 7.5, from about 2 to about 8, from about 2 to about 8.5, from about 2 to about 9, from about 2.5 to about 5, from about 2.5 to about 5.5, about 2.5 to about 6, about 2.5 to about 6.5, about 2.5 to about 7, about 2.5 to about 7.5, from about 2.5 to about 8, from about 2.5 to about 8.5, from about 2.5 to about 9, from about 3 to about 5, from about 3 to about 5.5, from about 3 to about 6, from about 3 to about 6.5, from about 3 to about 7, from about 3 to about 7.5, from about 3 to about 8, from about 3 to about 8.5, from about 3 to about 9, from about 3.5 to about 5, from about 3.5 to about 5.5, from about 3.5 to about 6, from about 3.5 to about 6.5, from about 3.5 to about 7, from about 3.5 to about 7.5, about 3.5 to about 8, about 3.5 to about 8.5, about 3.5 to about 9, about 4 to about 5, about 4 to about 5.5, about 4 to about 6, about 4 to about 6.5, about 4 to about 7, about 4 to about 7.5, about 4 to about 8, about 4 to about 8 .5, from about 4 to about 9, from about 4.5 to about 5, from about 4.5 to about 5.5, from about 4.5 to about 6, from about 4.5 to about 6.5, from about 4.5 to about 7, from about 4.5 to about 7.5, from about 4.5 to about 8, from about 4.5 to about 8.5, from about 4.5 to about 9, from about 5 to about 5.5, about 5 to about 6, about 5 to about 6.5, about 5 to about 7, about 5 to about 7.5, about 5 to about 8, about 5 to about 8.5, from about 5 to about 9, from about 5.5 to about 6, from about 5.5 to about 6.5, from about 5.5 to about 7, from about 5.5 to about 7 .5, from about 5.5 to about 8, from about 5.5 to about 8.5, from about 5.5 to about 9, from about 6 to about 6.5, from about 6 to about 7, from about 6 to about 7.5, about 6 to about 8, about 6 to about 8.5, about 6 to about 9, about 6.5 to about 7, about 6.5 to about 7.5, from about 6.5 to about 8, from about 6.5 to about 8.5, from about 6.5 to about 9, from about 7 to about 7.5, from about 7 to about 8, from about 7 to about 8.5, from about 7 to about 9, from about 7.5 to about 8, from about 7.5 to about 8.5, from about 7.5 to about 9, from about 8 to about 8.5, from about 8 to about 9 or about 8.5 to about 9.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, является устойчивой к инактивации под воздействием жидкостей организма. Жидкость организма представляет собой жидкость, содержащую заряженные молекулы, и включает, без ограничений, кровь и побочные препараты на основе крови, такие как плазма и сыворотка. В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является устойчивой к инактивации, когда она демонстрирует, например, не более 1% инактивации, не более 2% инактивации, не более 3% инактивации, не более 4% инактивации, не более 5% инактивации, не более 6% инактивации, не более 7% инактивации, не более 8% инактивации, не более 9% инактивации или не более 10% инактивации под воздействием жидкостей организма. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является устойчивой к инактивации, когда она демонстрирует, например, не более 10% инактивации, не более 15% инактивации, не более 20% инактивации, не более 25% инактивации, не более 30% инактивации, не более 35% инактивации, не более 40% инактивации, не более 45% инактивации, не более 50% инактивации под воздействием жидкостей организма. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является устойчивой к инактивации, когда она демонстрирует, например, от примерно 1% до примерно 10% инактивации, от примерно 1% до примерно 20% инактивации, от примерно 1% до примерно 30% инактивации, от примерно 1% до примерно 40% инактивации, от примерно 1% до примерно 50% инактивации, от примерно 5% до примерно 10% инактивации, от примерно 5% до примерно 20% инактивации, от примерно 5% до примерно 30% инактивации, от примерно 5% до примерно 40% инактивации, от примерно 5% до примерно 50% инактивации, от примерно 10% до примерно 20% инактивации, от примерно 10% до примерно 30% инактивации, от примерно 10% до примерно 40% инактивации, от примерно 10% до примерно 50% инактивации, 20% до примерно 30% инактивации, от примерно 20% до примерно 40% инактивации, от примерно 20% до примерно 50% инактивации, от примерно 30% до примерно 40% инактивации, от примерно 30% до примерно 50% инактивации или от примерно 40% до примерно 50% инактивации под воздействием жидкостей организма.The composition described in the present invention is resistant to inactivation by exposure to body fluids. A body fluid is a fluid containing charged molecules and includes, but is not limited to, blood and blood-based byproducts such as plasma and serum. In one embodiment, a composition described in the present invention is resistant to inactivation when it exhibits, for example, no more than 1% inactivation, no more than 2% inactivation, no more than 3% inactivation, no more than 4% inactivation, no more than 5 % inactivation, no more than 6% inactivation, no more than 7% inactivation, no more than 8% inactivation, no more than 9% inactivation, or no more than 10% inactivation when exposed to body fluids. In another embodiment, a composition described in the present invention is resistant to inactivation when it exhibits, for example, no more than 10% inactivation, no more than 15% inactivation, no more than 20% inactivation, no more than 25% inactivation, no more than 30% inactivation, no more than 35% inactivation, no more than 40% inactivation, no more than 45% inactivation, no more than 50% inactivation under the influence of body fluids. In another embodiment, a composition described herein is resistant to inactivation when it exhibits, for example, about 1% to about 10% inactivation, about 1% to about 20% inactivation, about 1% to about 30% inactivation, from about 1% to about 40% inactivation, from about 1% to about 50% inactivation, from about 5% to about 10% inactivation, from about 5% to about 20% inactivation, from about 5% to about 30% inactivation, about 5% to about 40% inactivation, about 5% to about 50% inactivation, about 10% to about 20% inactivation, about 10% to about 30% inactivation, about 10% to about 40% inactivation, about 10% to about 50% inactivation, 20% to about 30% inactivation, about 20% to about 40% inactivation, about 20% to about 50% inactivation, about 30% to about 40% inactivation, from about 30% to about 50% inactivation or from about 40% to about 50% inactivation by exposure to body fluids.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является устойчивой к инактивации, когда она демонстрирует, например, не более 1% разложения, не более 2% разложения, не более 3% разложения, не более 4% разложения, не более 5% разложения, не более 6% разложения, не более 7% разложения, не более 8% разложения, не более 9% разложения или не более 10% разложения хлорноватистой кислоты под воздействием физиологической жидкости. В другом вариантеIn one embodiment, a composition described in the present invention is resistant to inactivation when it exhibits, for example, no more than 1% degradation, no more than 2% degradation, no more than 3% degradation, no more than 4% degradation, no more than 5 % decomposition, not more than 6% decomposition, not more than 7% decomposition, not more than 8% decomposition, not more than 9% decomposition, or not more than 10% decomposition of hypochlorous acid when exposed to physiological fluid. In another version

- 38 043933 реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является устойчивой к инактивации, когда она демонстрирует, например, не более 10% разложения, не более 15% разложения, не более 20% разложения, не более 25% разложения, не более 30% разложения, не более 35% разложения, не более 40% разложения, не более 45% разложения, не более 50% разложения хлорноватистой кислоты под воздействием физиологической жидкости. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является устойчивой к инактивации, когда она демонстрирует, например, от примерно 1% до примерно 10% разложения, от примерно 1% до примерно 20% разложения, от примерно 1% до примерно 30% разложения, от примерно 1% до примерно 40% разложения, от примерно 1% до примерно 50% разложения, от примерно 5% до примерно 10% разложения, от примерно 5% до примерно 20% разложения, от примерно 5% до примерно 30% разложения, от примерно 5% до примерно 40% разложения, от примерно 5% до примерно 50% разложения, от примерно 10% до примерно 20% разложения, от примерно 10% до примерно 30% разложения, от примерно 10% до примерно 40% разложения, от примерно 10% до примерно 50% разложения, 20% до примерно 30% разложения, от примерно 20% до примерно 40% разложения, от примерно 20% до примерно 50% разложения, от примерно 30% до примерно 40% разложения, от примерно 30% до примерно 50% разложения или от примерно 40% до примерно 50% разложения хлорноватистой кислоты под воздействием физиологической жидкости.- 38 043933 implementations of the composition described in the present invention is resistant to inactivation when it exhibits, for example, no more than 10% degradation, no more than 15% degradation, no more than 20% degradation, no more than 25% degradation, no more than 30% decomposition, no more than 35% decomposition, no more than 40% decomposition, no more than 45% decomposition, no more than 50% decomposition of hypochlorous acid under the influence of physiological fluid. In another embodiment, a composition described in the present invention is resistant to inactivation when it exhibits, for example, from about 1% to about 10% degradation, from about 1% to about 20% degradation, from about 1% to about 30% degradation, about 1% to about 40% degradation, about 1% to about 50% degradation, about 5% to about 10% degradation, about 5% to about 20% degradation, about 5% to about 30% decomposition, about 5% to about 40% decomposition, about 5% to about 50% decomposition, about 10% to about 20% decomposition, about 10% to about 30% decomposition, about 10% to about 40% decomposition, about 10% to about 50% decomposition, 20% to about 30% decomposition, about 20% to about 40% decomposition, about 20% to about 50% decomposition, about 30% to about 40% decomposition, from about 30% to about 50% degradation or from about 40% to about 50% degradation of hypochlorous acid when exposed to physiological fluid.

Композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной. В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной, когда она демонстрирует, например, не более 1% разложения, не более 2% разложения, не более 3% разложения, не более 4% разложения, не более 5% разложения, не более 6% разложения, не более 7% разложения, не более 8% разложения, не более 9% разложения или не более 10% разложения хлорноватистой кислоты. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной, когда она демонстрирует, например, не более 10% разложения, не более 15% разложения, не более 20% разложения, не более 25% разложения, не более 30% разложения, не более 35% разложения, не более 40% разложения, не более 45% разложения, не более 50% разложения, не более 55% разложения, не более 60% разложения, не более 65% разложения, не более 70% разложения, не более 75% разложения, не более 80% разложения, не более 85% разложения, не более 90% разложения или не более 95% разложения хлорноватистой кислоты. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной, когда она демонстрирует, например, от примерно 1% до примерно 10% разложения, от примерно 1% до примерно 20% разложения, от примерно 1% до примерно 30% разложения, от примерно 1% до примерно 40% разложения, от примерно 1% до примерно 50% разложения, от примерно 1% до примерно 60% разложения, от примерно 1% до примерно 70% разложения, от примерно 1% до примерно 80% разложения, от примерно 1% до примерно 90% разложения, от примерно 1% до примерно 95% разложения, от примерно 5% до примерно 10% разложения, от примерно 5% до примерно 20% разложения, от примерно 5% до примерно 30% разложения, от примерно 5% до примерно 40% разложения, от примерно 5% до примерно 50% разложения, от примерно 5% до примерно 60% разложения, от примерно 5% до примерно 70% разложения, от примерно 5% до примерно 80% разложения, от примерно 5% до примерно 90% разложения, от примерно 5% до примерно 95% разложения, от примерно 10% до примерно 20% разложения, от примерно 10% до примерно 30% разложения, от примерно 10% до примерно 40% разложения, от примерно 10% до примерно 50% разложения, от примерно 10% до примерно 60% разложения, от примерно 10% до примерно 70% разложения, от примерно 10% до примерно 80% разложения, от примерно 10% до примерно 90% разложения, от примерно 10% до примерно 95% разложения, 20% до примерно 30% разложения, от примерно 20% до примерно 40% разложения, от примерно 20% до примерно 50% разложения, от примерно 20% до примерно 60% разложения, от примерно 20% до примерно 70% разложения, от примерно 20% до примерно 80% разложения, от примерно 20% до примерно 90% разложения, от примерно 20% до примерно 95% разложения, от примерно 30% до примерно 40% разложения, от примерно 30% до примерно 50% разложения, от примерно 30% до примерно 60% разложения, от примерно 30% до примерно 70% разложения, от примерно 30% до примерно 80% разложения, от примерно 30% до примерно 90% разложения, от примерно 30% до примерно 95% разложения, от примерно 40% до примерно 50% разложения, от примерно 40% до примерно 60% разложения, от примерно 40% до примерно 70% разложения, от примерно 40% до примерно 80% разложения, от примерно 40% до примерно 90% разложения, от примерно 40% до примерно 95% разложения, от примерно 50% до примерно 60% разложения, от примерно 50% до примерно 70% разложения, от примерно 50% до примерно 80% разложения, от примерно 50% до примерно 90% разложения, от примерно 50% до примерно 95% разложения, от примерно 60% до примерно 70% разложения, от примерно 60% до примерно 80% разложения, от примерно 60% до примерно 90% разложения, от примерно 60% до примерно 95% разложения, от примерно 70% до примерно 80% разложения, от примерно 70% до примерно 90% разложения, от примерно 70% до примерно 95% разложения, от примерно 80% до примерно 90% разложения, от примерно 80% до примерно 95% разложения или от примерно 90% до примерно 95% разложения хлорноватистой кислоты.The composition described in the present invention is stable. In one embodiment, a composition described in the present invention is stable when it exhibits, for example, no more than 1% degradation, no more than 2% degradation, no more than 3% degradation, no more than 4% degradation, no more than 5% degradation , not more than 6% decomposition, not more than 7% decomposition, not more than 8% decomposition, not more than 9% decomposition or not more than 10% decomposition of hypochlorous acid. In another embodiment, a composition described in the present invention is stable when it exhibits, for example, no more than 10% degradation, no more than 15% degradation, no more than 20% degradation, no more than 25% degradation, no more than 30% degradation, no more than 35% decomposition, no more than 40% decomposition, no more than 45% decomposition, no more than 50% decomposition, no more than 55% decomposition, no more than 60% decomposition, no more than 65% decomposition, no more than 70% decomposition, no more 75% decomposition, no more than 80% decomposition, no more than 85% decomposition, no more than 90% decomposition, or no more than 95% decomposition of hypochlorous acid. In another embodiment, a composition described in the present invention is stable when it exhibits, for example, from about 1% to about 10% degradation, from about 1% to about 20% degradation, from about 1% to about 30% degradation, from about 1% to about 40% degradation, from about 1% to about 50% degradation, from about 1% to about 60% degradation, from about 1% to about 70% degradation, from about 1% to about 80% degradation, from about 1% to about 90% degradation, from about 1% to about 95% degradation, from about 5% to about 10% degradation, from about 5% to about 20% degradation, from about 5% to about 30% degradation, about 5% to about 40% degradation, about 5% to about 50% degradation, about 5% to about 60% degradation, about 5% to about 70% degradation, about 5% to about 80% degradation, from about 5% to about 90% degradation, from about 5% to about 95% degradation, from about 10% to about 20% degradation, from about 10% to about 30% degradation, from about 10% to about 40% degradation, from about 10% to about 50% degradation, from about 10% to about 60% degradation, from about 10% to about 70% degradation, from about 10% to about 80% degradation, from about 10% to about 90% degradation, about 10% to about 95% degradation, 20% to about 30% degradation, about 20% to about 40% degradation, about 20% to about 50% degradation, about 20% to about 60% degradation, about 20% to about 70% degradation, about 20% to about 80% degradation, about 20% to about 90% degradation, about 20% to about 95% degradation, about 30% to about 40% degradation, about 30% to about 50% degradation, about 30% to about 60% degradation, about 30% to about 70% degradation, about 30% to about 80% degradation, about 30% to about 90% degradation, about 30% to about 95% degradation, about 40% to about 50% degradation, about 40% to about 60% degradation, about 40% to about 70% degradation, about 40% to about 80% degradation, about 40% to about 90% degradation, about 40% to about 95% degradation, about 50% to about 60% degradation, about 50% to about 70% degradation, about 50% to about 80% degradation, about 50% to about 90% degradation, about 50% to about 95% degradation, about 60% to about 70% degradation, about 60% to about 80% degradation, about 60% to about 90% degradation, about 60% to about 95% degradation, about 70% to about 80% degradation, about 70% to about 90% degradation, about 70% to about 95% degradation, about 80% to about 90% degradation, about 80% to about 95% degradation or about 90% to about 95% degradation of hypochlorous acid.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной, когда она демонстрирует, например, не более 1% разложения, не более 2% разложения, не боIn one embodiment, a composition described in the present invention is stable when it exhibits, for example, no more than 1% degradation, no more than 2% degradation, no more

- 39 043933 лее 3% разложения, не более 4% разложения, не более 5% разложения, не более 6% разложения, не более 7% разложения, не более 8% разложения, не более 9% разложения или не более 10% разложения свободного активного хлора. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной, когда она демонстрирует, например, не более 10% разложения, не более 15% разложения, не более 20% разложения, не более 25% разложения, не более 30% разложения, не более 35% разложения, не более 40% разложения, не более 45% разложения, не более 50% разложения, не более 55% разложения, не более 60% разложения, не более 65% разложения, не более 70% разложения, не более 75% разложения, не более 80% разложения, не более 85% разложения, не более 90% разложения или не более 95% разложения свободного активного хлора. В другом варианте реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной, когда она демонстрирует, например, от примерно 1% до примерно 10% разложения, от примерно 1% до примерно 20% разложения, от примерно 1% до примерно 30% разложения, от примерно 1% до примерно 40% разложения, от примерно 1% до примерно 50% разложения, от примерно 1% до примерно 60% разложения, от примерно 1% до примерно 70% разложения, от примерно 1% до примерно 80% разложения, от примерно 1% до примерно 90% разложения, от примерно 1% до примерно 95% разложения, от примерно 5% до примерно 10% разложения, от примерно 5% до примерно 20% разложения, от примерно 5% до примерно 30% разложения, от примерно 5% до примерно 40% разложения, от примерно 5% до примерно 50% разложения, от примерно 5% до примерно 60% разложения, от примерно 5% до примерно 70% разложения, от примерно 5% до примерно 80% разложения, от примерно 5% до примерно 90% разложения, от примерно 5% до примерно 95% разложения, от примерно 10% до примерно 20% разложения, от примерно 10% до примерно 30% разложения, от примерно 10% до примерно 40% разложения, от примерно 10% до примерно 50% разложения, от примерно 10% до примерно 60% разложения, от примерно 10% до примерно 70% разложения, от примерно 10% до примерно 80% разложения, от примерно 10% до примерно 90% разложения, от примерно 10% до примерно 95% разложения, 20% до примерно 30% разложения, от примерно 20% до примерно 40% разложения, от примерно 20% до примерно 50% разложения, от примерно 20% до примерно 60% разложения, от примерно 20% до примерно 70% разложения, от примерно 20% до примерно 80% разложения, от примерно 20% до примерно 90% разложения, от примерно 20% до примерно 95% разложения, от примерно 30% до примерно 40% разложения, от примерно 30% до примерно 50% разложения, от примерно 30% до примерно 60% разложения, от примерно 30% до примерно 70% разложения, от примерно 30% до примерно 80% разложения, от примерно 30% до примерно 90% разложения, от примерно 30% до примерно 95% разложения, от примерно 40% до примерно 50% разложения, от примерно 40% до примерно 60% разложения, от примерно 40% до примерно 70% разложения, от примерно 40% до примерно 80% разложения, от примерно 40% до примерно 90% разложения, от примерно 40% до примерно 95% разложения, от примерно 50% до примерно 60% разложения, от примерно 50% до примерно 70% разложения, от примерно 50% до примерно 80% разложения, от примерно 50% до примерно 90% разложения, от примерно 50% до примерно 95% разложения, от примерно 60% до примерно 70% разложения, от примерно 60% до примерно 80% разложения, от примерно 60% до примерно 90% разложения, от примерно 60% до примерно 95% разложения, от примерно 70% до примерно 80% разложения, от примерно 70% до примерно 90% разложения, от примерно 70% до примерно 95% разложения, от примерно 80% до примерно 90% разложения, от примерно 80% до примерно 95% разложения или от примерно 90% до примерно 95% разложения свободного активного хлора.- 39 043933 more than 3% decomposition, no more than 4% decomposition, no more than 5% decomposition, no more than 6% decomposition, no more than 7% decomposition, no more than 8% decomposition, no more than 9% decomposition or no more than 10% free decomposition active chlorine. In another embodiment, a composition described in the present invention is stable when it exhibits, for example, no more than 10% degradation, no more than 15% degradation, no more than 20% degradation, no more than 25% degradation, no more than 30% degradation, no more than 35% decomposition, no more than 40% decomposition, no more than 45% decomposition, no more than 50% decomposition, no more than 55% decomposition, no more than 60% decomposition, no more than 65% decomposition, no more than 70% decomposition, no more 75% decomposition, no more than 80% decomposition, no more than 85% decomposition, no more than 90% decomposition, or no more than 95% decomposition of free active chlorine. In another embodiment, a composition described in the present invention is stable when it exhibits, for example, from about 1% to about 10% degradation, from about 1% to about 20% degradation, from about 1% to about 30% degradation, from about 1% to about 40% degradation, from about 1% to about 50% degradation, from about 1% to about 60% degradation, from about 1% to about 70% degradation, from about 1% to about 80% degradation, from about 1% to about 90% degradation, from about 1% to about 95% degradation, from about 5% to about 10% degradation, from about 5% to about 20% degradation, from about 5% to about 30% degradation, about 5% to about 40% degradation, about 5% to about 50% degradation, about 5% to about 60% degradation, about 5% to about 70% degradation, about 5% to about 80% degradation, from about 5% to about 90% degradation, from about 5% to about 95% degradation, from about 10% to about 20% degradation, from about 10% to about 30% degradation, from about 10% to about 40% degradation, from about 10% to about 50% degradation, from about 10% to about 60% degradation, from about 10% to about 70% degradation, from about 10% to about 80% degradation, from about 10% to about 90% degradation, about 10% to about 95% degradation, 20% to about 30% degradation, about 20% to about 40% degradation, about 20% to about 50% degradation, about 20% to about 60% degradation, about 20% to about 70% degradation, about 20% to about 80% degradation, about 20% to about 90% degradation, about 20% to about 95% degradation, about 30% to about 40% degradation, about 30% to about 50% degradation, about 30% to about 60% degradation, about 30% to about 70% degradation, about 30% to about 80% degradation, about 30% to about 90% degradation, about 30% to about 95% degradation, about 40% to about 50% degradation, about 40% to about 60% degradation, about 40% to about 70% degradation, about 40% to about 80% degradation, about 40% to about 90% degradation, about 40% to about 95% degradation, about 50% to about 60% degradation, about 50% to about 70% degradation, about 50% to about 80% degradation, about 50% to about 90% degradation, about 50% to about 95% degradation, about 60% to about 70% degradation, about 60% to about 80% degradation, about 60% to about 90% degradation, about 60% to about 95% degradation, about 70% to about 80% degradation, about 70% to about 90% degradation, about 70% to about 95% degradation, about 80% to about 90% degradation, about 80% to about 95% decomposition or about 90% to about 95% decomposition of free active chlorine.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, примерно 1 дня, примерно 2 дней, 3 дней, 4 дней, 5 дней, 6 дней, 7 дней, 8 дней, 9 дней, 10 дней, 11 дней, 12 дней, 13 дней, 14 дней или 15 дней. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, по меньшей мере 1 дня, по меньшей мере 2 дней, по меньшей мере 3 дней, по меньшей мере 4 дней, по меньшей мере 5 дней, по меньшей мере 6 дней, по меньшей мере 7 дней, по меньшей мере 8 дней, по меньшей мере 9 дней, по меньшей мере 10 дней, по меньшей мере 11 дней, по меньшей мере 12 дней, по меньшей мере 13 дней, по меньшей мере 14 дней или по меньшей мере 15 дней. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, не более 1 дня, не более 2 дней, не более 3 дней, не более 4 дней, не более 5 дней, не более 6 дней, не более 7 дней, не более 8 дней, не более 9 дней, не более 10 дней, не более 11 дней, не более 12 дней, не более 13 дней, не более 14 дней или не более 15 дней.In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, about 1 day, about 2 days, 3 days, 4 days, 5 days, 6 days, 7 days, 8 days, 9 days, 10 days, 11 days, 12 days, 13 days, 14 days or 15 days. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, at least 1 day, at least 2 days, at least 3 days, at least 4 days, at least 5 days , at least 6 days, at least 7 days, at least 8 days, at least 9 days, at least 10 days, at least 11 days, at least 12 days, at least 13 days, according to at least 14 days or at least 15 days. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, no more than 1 day, no more than 2 days, no more than 3 days, no more than 4 days, no more than 5 days, no more than 6 days , no more than 7 days, no more than 8 days, no more than 9 days, no more than 10 days, no more than 11 days, no more than 12 days, no more than 13 days, no more than 14 days or no more than 15 days.

В других аспектах указанного варианта реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, от примерно 1 дня до примерно 2 дней, от примерно 1 дня до примерно 3 дней, от примерно 1 дня до примерно 4 дней, от примерно 1 дня до примерно 5 дней, от примерно 1 дня до примерно 6 дней, от примерно 1 дня до примерно 7 дней, от примерно 1 дня до примерно 8 дней, от примерно 1 дня до примерно 9 дней, от примерно 1 дня до примерно 10 дней, от примерно 1 дня до примерно 11 дней, от примерно 1 дня до примерно 12 дней, от примерно 1 дня до примерно 13 дней, от примерно 1 дня до примерно 14 дней, от примерно 1 дня до примерно 15 дней, от примерно 2 дней до примерно 3 дней, от примерно 2 дней до примерно 4 дней, от примерно 2 дней до приIn other aspects of this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, from about 1 day to about 2 days, from about 1 day to about 3 days, from about 1 day to about 4 days, from about 1 days to about 5 days, about 1 day to about 6 days, about 1 day to about 7 days, about 1 day to about 8 days, about 1 day to about 9 days, about 1 day to about 10 days , from about 1 day to about 11 days, from about 1 day to about 12 days, from about 1 day to about 13 days, from about 1 day to about 14 days, from about 1 day to about 15 days, from about 2 days up to about 3 days, from about 2 days to about 4 days, from about 2 days to at

- 40 043933 мерно 5 дней, от примерно 2 дней до примерно 6 дней, от примерно 2 дней до примерно 7 дней, от примерно 2 дней до примерно 8 дней, от примерно 2 дней до примерно 9 дней, от примерно 2 дней до примерно 10 дней, от примерно 2 дней до примерно 11 дней, от примерно 2 дней до примерно 12 дней, от примерно 2 дней до примерно 13 дней, от примерно 2 дней до примерно 14 дней, от примерно 2 дней до примерно 15 дней, от примерно 3 дней до примерно 4 дней, от примерно 3 дней до примерно 5 дней, от примерно 3 дней до примерно 6 дней, от примерно 3 дней до примерно 7 дней, от примерно 3 дней до примерно 8 дней, от примерно 3 дней до примерно 9 дней, от примерно 3 дней до примерно 10 дней, от примерно 3 дней до примерно 11 дней, от примерно 3 дней до примерно 12 дней, от примерно 3 дней до примерно 13 дней, от примерно 3 дней до примерно 14 дней, от примерно 3 дней до примерно 15 дней, от примерно 4 дней до примерно 5 дней, от примерно 4 дней до примерно 6 дней, от примерно 4 дней до примерно 7 дней, от примерно 4 дней до примерно 8 дней, от примерно 4 дней до примерно 9 дней, от примерно 4 дней до примерно 10 дней, от примерно 4 дней до примерно 11 дней, от примерно 4 дней до примерно 12 дней, от примерно 4 дней до примерно 13 дней, от примерно 4 дней до примерно 14 дней, от примерно 4 дней до примерно 15 дней, от примерно 5 дней до примерно 6 дней, от примерно 5 дней до примерно 7 дней, от примерно 5 дней до примерно 8 дней, от примерно 5 дней до примерно 9 дней, от примерно 5 дней до примерно 10 дней, от примерно 5 дней до примерно 11 дней, от примерно 5 дней до примерно 12 дней, от примерно 5 дней до примерно 13 дней, от примерно 5 дней до примерно 14 дней, от примерно 5 дней до примерно 15 дней, от примерно 6 дней до примерно 7 дней, от примерно 6 дней до примерно 8 дней, от примерно 6 дней до примерно 9 дней, от примерно 6 дней до примерно 10 дней, от примерно 6 дней до примерно 11 дней, от примерно 6 дней до примерно 12 дней, от примерно 6 дней до примерно 13 дней, от примерно 6 дней до примерно 14 дней, от примерно 6 дней до примерно 15 дней, от примерно 7 дней до примерно 8 дней, от примерно 7 дней до примерно 9 дней, от примерно 7 дней до примерно 10 дней, от примерно 7 дней до примерно 11 дней, от примерно 7 дней до примерно 12 дней, от примерно 7 дней до примерно 13 дней, от примерно 7 дней до примерно 14 дней, от примерно 7 дней до примерно 15 дней, от примерно 8 дней до примерно 9 дней, от примерно 8 дней до примерно 10 дней, от примерно 8 дней до примерно 11 дней, от примерно 8 дней до примерно 12 дней, от примерно 8 дней до примерно 13 дней, от примерно 8 дней до примерно 14 дней, от примерно 8 дней до примерно 15 дней, от примерно 9 дней до примерно 10 дней, от примерно 9 дней до примерно 11 дней, от примерно 9 дней до примерно 12 дней, от примерно 9 дней до примерно 13 дней, от примерно 9 дней до примерно 14 дней, от примерно 9 дней до примерно 15 дней, от примерно 10 дней до примерно 11 дней, от примерно 10 дней до примерно 12 дней, от примерно 10 дней до примерно 13 дней, от примерно 10 дней до примерно 14 дней, от примерно 10 дней до примерно 15 дней, от примерно 11 дней до примерно 12 дней, от примерно 11 дней до примерно 13 дней, от примерно 11 дней до примерно 14 дней, от примерно 11 дней до примерно 15 дней, от примерно 12 дней до примерно 13 дней, от примерно 12 дней до примерно 14 дней, от примерно 12 дней до примерно 15 дней, от примерно 13 дней до примерно 14 дней, от примерно 13 дней до примерно 15 дней или от примерно 14 дней до примерно 15 дней.- 40 043933 approximately 5 days, from about 2 days to about 6 days, from about 2 days to about 7 days, from about 2 days to about 8 days, from about 2 days to about 9 days, from about 2 days to about 10 days, from about 2 days to about 11 days, from about 2 days to about 12 days, from about 2 days to about 13 days, from about 2 days to about 14 days, from about 2 days to about 15 days, from about 3 days to about 4 days, about 3 days to about 5 days, about 3 days to about 6 days, about 3 days to about 7 days, about 3 days to about 8 days, about 3 days to about 9 days , from about 3 days to about 10 days, from about 3 days to about 11 days, from about 3 days to about 12 days, from about 3 days to about 13 days, from about 3 days to about 14 days, from about 3 days to about 15 days, from about 4 days to about 5 days, from about 4 days to about 6 days, from about 4 days to about 7 days, from about 4 days to about 8 days, from about 4 days to about 9 days, from about 4 days to about 10 days, from about 4 days to about 11 days, from about 4 days to about 12 days, from about 4 days to about 13 days, from about 4 days to about 14 days, from about 4 days to about 15 days, from about 5 days to about 6 days, from about 5 days to about 7 days, from about 5 days to about 8 days, from about 5 days to about 9 days, from about 5 days to about 10 days, from about 5 days to about 11 days, about 5 days to about 12 days, about 5 days to about 13 days, about 5 days to about 14 days, about 5 days to about 15 days, about 6 days to about 7 days, from about 6 days to about 8 days, from about 6 days to about 9 days, from about 6 days to about 10 days, from about 6 days to about 11 days, from about 6 days to about 12 days, from about 6 days to about 13 days, about 6 days to about 14 days, about 6 days to about 15 days, about 7 days to about 8 days, about 7 days to about 9 days, about 7 days to about 10 days, from about 7 days to about 11 days, from about 7 days to about 12 days, from about 7 days to about 13 days, from about 7 days to about 14 days, from about 7 days to about 15 days, from about 8 days to about 9 days, about 8 days to about 10 days, about 8 days to about 11 days, about 8 days to about 12 days, about 8 days to about 13 days, about 8 days to about 14 days , from about 8 days to about 15 days, from about 9 days to about 10 days, from about 9 days to about 11 days, from about 9 days to about 12 days, from about 9 days to about 13 days, from about 9 days to about 14 days, from about 9 days to about 15 days, from about 10 days to about 11 days, from about 10 days to about 12 days, from about 10 days to about 13 days, from about 10 days to about 14 days, from about 10 days to about 15 days, from about 11 days to about 12 days, from about 11 days to about 13 days, from about 11 days to about 14 days, from about 11 days to about 15 days, from about 12 days to about 13 days, about 12 days to about 14 days, about 12 days to about 15 days, about 13 days to about 14 days, about 13 days to about 15 days, or about 14 days to about 15 days.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, примерно 1 недели, примерно 2 недель, 3 недель, 4 недель, 5 недель, 6 недель, 7 недель, 8 недель, 9 недель, 10 недель, 11 недель, 12 недель, 13 недель, 14 недель или 15 недель. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, по меньшей мере 1 недели, по меньшей мере 2 недель, по меньшей мере 3 недель, по меньшей мере 4 недель, по меньшей мере 5 недель, по меньшей мере 6 недель, по меньшей мере 7 недель, по меньшей мере 8 недель, по меньшей мере 9 недель, по меньшей мере 10 недель, по меньшей мере 11 недель, по меньшей мере 12 недель, по меньшей мере 13 недель, по меньшей мере 14 недель или по меньшей мере 15 недель. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, не более 1 недели, не более 2 недель, не более 3 недель, не более 4 недель, не более 5 недель, не более 6 недель, не более 7 недель, не более 8 недель, не более 9 недель, не более 10 недель, не более 11 недель, не более 12 недель, не более 13 недель, не более 14 недель или не более 15 недель.In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, about 1 week, about 2 weeks, 3 weeks, 4 weeks, 5 weeks, 6 weeks, 7 weeks, 8 weeks, 9 weeks, 10 weeks, 11 weeks, 12 weeks, 13 weeks, 14 weeks or 15 weeks. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, at least 1 week, at least 2 weeks, at least 3 weeks, at least 4 weeks, at least 5 weeks , at least 6 weeks, at least 7 weeks, at least 8 weeks, at least 9 weeks, at least 10 weeks, at least 11 weeks, at least 12 weeks, at least 13 weeks, according to at least 14 weeks or at least 15 weeks. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, no more than 1 week, no more than 2 weeks, no more than 3 weeks, no more than 4 weeks, no more than 5 weeks, no more than 6 weeks , no more than 7 weeks, no more than 8 weeks, no more than 9 weeks, no more than 10 weeks, no more than 11 weeks, no more than 12 weeks, no more than 13 weeks, no more than 14 weeks or no more than 15 weeks.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, от примерно 1 недели до примерно 2 недель, от примерно 1 недели до примерно 3 недель, от примерно 1 недели до примерно 4 недель, от примерно 1 недели до примерно 5 недель, от примерно 1 недели до примерно 6 недель, от примерно 1 недели до примерно 7 недель, от примерно 1 недели до примерно 8 недель, от примерно 1 недели до примерно 9 недель, от примерно 1 недели до примерно 10 недель, от примерно 1 недели до примерно 11 недель, от примерно 1 недели до примерно 12 недель, от примерно 1 недели до примерно 13 недель, от примерно 1 недели до примерно 14 недель, от примерно 1 недели до примерно 15 недель, от примерно 2 недель до примерно 3 недель, от примерно 2 недель до примерно 4 недель, от примерно 2 недель до примерно 5 недель, от примерно 2 недель до примерно 6 недель, от примерно 2 недель до примерно 7 недель, от примерно 2 недель до примерно 8 недель, от примерно 2 недель до примерно 9 недель, от примерно 2 недель до примерно 10 недель, от примерно 2 недель до примерно 11 недель, от примерно 2 недель до примерно 12In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, from about 1 week to about 2 weeks, from about 1 week to about 3 weeks, from about 1 week to about 4 weeks, from about 1 weeks to about 5 weeks, about 1 week to about 6 weeks, about 1 week to about 7 weeks, about 1 week to about 8 weeks, about 1 week to about 9 weeks, about 1 week to about 10 weeks , from about 1 week to about 11 weeks, from about 1 week to about 12 weeks, from about 1 week to about 13 weeks, from about 1 week to about 14 weeks, from about 1 week to about 15 weeks, from about 2 weeks to about 3 weeks, from about 2 weeks to about 4 weeks, from about 2 weeks to about 5 weeks, from about 2 weeks to about 6 weeks, from about 2 weeks to about 7 weeks, from about 2 weeks to about 8 weeks, from about 2 weeks to about 9 weeks, from about 2 weeks to about 10 weeks, from about 2 weeks to about 11 weeks, from about 2 weeks to about 12

- 41 043933 недель, от примерно 2 недель до примерно 13 недель, от примерно 2 недель до примерно 14 недель, от примерно 2 недель до примерно 15 недель, от примерно 3 недель до примерно 4 недель, от примерно 3 недель до примерно 5 недель, от примерно 3 недель до примерно 6 недель, от примерно 3 недель до примерно 7 недель, от примерно 3 недель до примерно 8 недель, от примерно 3 недель до примерно 9 недель, от примерно 3 недель до примерно 10 недель, от примерно 3 недель до примерно 11 недель, от примерно 3 недель до примерно 12 недель, от примерно 3 недель до примерно 13 недель, от примерно 3 недель до примерно 14 недель, от примерно 3 недель до примерно 15 недель, от примерно 4 недель до примерно 5 недель, от примерно 4 недель до примерно 6 недель, от примерно 4 недель до примерно 7 недель, от примерно 4 недель до примерно 8 недель, от примерно 4 недель до примерно 9 недель, от примерно 4 недель до примерно 10 недель, от примерно 4 недель до примерно 11 недель, от примерно 4 недель до примерно 12 недель, от примерно 4 недель до примерно 13 недель, от примерно 4 недель до примерно 14 недель, от примерно 4 недель до примерно 15 недель, от примерно 5 недель до примерно 6 недель, от примерно 5 недель до примерно 7 недель, от примерно 5 недель до примерно 8 недель, от примерно 5 недель до примерно 9 недель, от примерно 5 недель до примерно 10 недель, от примерно 5 недель до примерно 11 недель, от примерно 5 недель до примерно 12 недель, от примерно 5 недель до примерно 13 недель, от примерно 5 недель до примерно 14 недель, от примерно 5 недель до примерно 15 недель, от примерно 6 недель до примерно 7 недель, от примерно 6 недель до примерно 8 недель, от примерно 6 недель до примерно 9 недель, от примерно 6 недель до примерно 10 недель, от примерно 6 недель до примерно 11 недель, от примерно 6 недель до примерно 12 недель, от примерно 6 недель до примерно 13 недель, от примерно 6 недель до примерно 14 недель, от примерно 6 недель до примерно 15 недель, от примерно 7 недель до примерно 8 недель, от примерно 7 недель до примерно 9 недель, от примерно 7 недель до примерно 10 недель, от примерно 7 недель до примерно 11 недель, от примерно 7 недель до примерно 12 недель, от примерно 7 недель до примерно 13 недель, от примерно 7 недель до примерно 14 недель, от примерно 7 недель до примерно 15 недель, от примерно 8 недель до примерно 9 недель, от примерно 8 недель до примерно 10 недель, от примерно 8 недель до примерно 11 недель, от примерно 8 недель до примерно 12 недель, от примерно 8 недель до примерно 13 недель, от примерно 8 недель до примерно 14 недель, от примерно 8 недель до примерно 15 недель, от примерно 9 недель до примерно 10 недель, от примерно 9 недель до примерно 11 недель, от примерно 9 недель до примерно 12 недель, от примерно 9 недель до примерно 13 недель, от примерно 9 недель до примерно 14 недель, от примерно 9 недель до примерно 15 недель, от примерно 10 недель до примерно 11 недель, от примерно 10 недель до примерно 12 недель, от примерно 10 недель до примерно 13 недель, от примерно 10 недель до примерно 14 недель, от примерно 10 недель до примерно 15 недель, от примерно 11 недель до примерно 12 недель, от примерно 11 недель до примерно 13 недель, от примерно 11 недель до примерно 14 недель, от примерно 11 недель до примерно 15 недель, от примерно 12 недель до примерно 13 недель, от примерно 12 недель до примерно 14 недель, от примерно 12 недель до примерно 15 недель, от примерно 13 недель до примерно 14 недель, от примерно 13 недель до примерно 15 недель или от примерно 14 недель до примерно 15 недель.- 41 043933 weeks, from about 2 weeks to about 13 weeks, from about 2 weeks to about 14 weeks, from about 2 weeks to about 15 weeks, from about 3 weeks to about 4 weeks, from about 3 weeks to about 5 weeks, from about 3 weeks to about 6 weeks, from about 3 weeks to about 7 weeks, from about 3 weeks to about 8 weeks, from about 3 weeks to about 9 weeks, from about 3 weeks to about 10 weeks, from about 3 weeks to about 11 weeks, from about 3 weeks to about 12 weeks, from about 3 weeks to about 13 weeks, from about 3 weeks to about 14 weeks, from about 3 weeks to about 15 weeks, from about 4 weeks to about 5 weeks, from about 4 weeks to about 6 weeks, about 4 weeks to about 7 weeks, about 4 weeks to about 8 weeks, about 4 weeks to about 9 weeks, about 4 weeks to about 10 weeks, about 4 weeks to about 11 weeks, from about 4 weeks to about 12 weeks, from about 4 weeks to about 13 weeks, from about 4 weeks to about 14 weeks, from about 4 weeks to about 15 weeks, from about 5 weeks to about 6 weeks, from about 5 weeks to about 7 weeks, about 5 weeks to about 8 weeks, about 5 weeks to about 9 weeks, about 5 weeks to about 10 weeks, about 5 weeks to about 11 weeks, about 5 weeks to about 12 weeks, from about 5 weeks to about 13 weeks, from about 5 weeks to about 14 weeks, from about 5 weeks to about 15 weeks, from about 6 weeks to about 7 weeks, from about 6 weeks to about 8 weeks, from about 6 weeks to about 9 weeks, about 6 weeks to about 10 weeks, about 6 weeks to about 11 weeks, about 6 weeks to about 12 weeks, about 6 weeks to about 13 weeks, about 6 weeks to about 14 weeks , from about 6 weeks to about 15 weeks, from about 7 weeks to about 8 weeks, from about 7 weeks to about 9 weeks, from about 7 weeks to about 10 weeks, from about 7 weeks to about 11 weeks, from about 7 weeks to about 12 weeks, from about 7 weeks to about 13 weeks, from about 7 weeks to about 14 weeks, from about 7 weeks to about 15 weeks, from about 8 weeks to about 9 weeks, from about 8 weeks to about 10 weeks, from about 8 weeks to about 11 weeks, from about 8 weeks to about 12 weeks, from about 8 weeks to about 13 weeks, from about 8 weeks to about 14 weeks, from about 8 weeks to about 15 weeks, from about 9 weeks to about 10 weeks, from about 9 weeks to about 11 weeks, from about 9 weeks to about 12 weeks, from about 9 weeks to about 13 weeks, from about 9 weeks to about 14 weeks, from about 9 weeks to about 15 weeks, from about 10 weeks to about 11 weeks, about 10 weeks to about 12 weeks, about 10 weeks to about 13 weeks, about 10 weeks to about 14 weeks, about 10 weeks to about 15 weeks, about 11 weeks to about 12 weeks, from about 11 weeks to about 13 weeks, from about 11 weeks to about 14 weeks, from about 11 weeks to about 15 weeks, from about 12 weeks to about 13 weeks, from about 12 weeks to about 14 weeks, from about 12 weeks to about 15 weeks, about 13 weeks to about 14 weeks, about 13 weeks to about 15 weeks, or about 14 weeks to about 15 weeks.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, примерно 1 месяца, примерно 2 месяцев, 3 месяцев, 4 месяцев, 5 месяцев, 6 месяцев, 7 месяцев, 8 месяцев, 9 месяцев, 10 месяцев, 11 месяцев, 12 месяцев, 13 месяцев, 14 месяцев, 15 месяцев, 16 месяцев, 17 месяцев или 18 месяцев. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, по меньшей мере 1 месяца, по меньшей мере 2 месяцев, по меньшей мере 3 месяцев, по меньшей мере 4 месяцев, по меньшей мере 5 месяцев, по меньшей мере 6 месяцев, по меньшей мере 7 месяцев, по меньшей мере 8 месяцев, по меньшей мере 9 месяцев, по меньшей мере 10 месяцев, по меньшей мере 11 месяцев, по меньшей мере 12 месяцев, по меньшей мере 13 месяцев, по меньшей мере 14 месяцев, по меньшей мере 15 месяцев, по меньшей мере 16 месяцев, по меньшей мере 17 месяцев или по меньшей мере 18 месяцев. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, не более 1 месяца, не более 2 месяцев, не более 3 месяцев, не более 4 месяцев, не более 5 месяцев, не более 6 месяцев, не более 7 месяцев, не более 8 месяцев, не более 9 месяцев, не более 10 месяцев, не более 11 месяцев, не более 12 месяцев, не более 13 месяцев, не более 14 месяцев, не более 15 месяцев, не более 16 месяцев, не более 17 месяцев или не более 18 месяцев.In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, about 1 month, about 2 months, 3 months, 4 months, 5 months, 6 months, 7 months, 8 months, 9 months, 10 months, 11 months, 12 months, 13 months, 14 months, 15 months, 16 months, 17 months or 18 months. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, at least 1 month, at least 2 months, at least 3 months, at least 4 months, at least 5 months , at least 6 months, at least 7 months, at least 8 months, at least 9 months, at least 10 months, at least 11 months, at least 12 months, at least 13 months, according to at least 14 months, at least 15 months, at least 16 months, at least 17 months or at least 18 months. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, no more than 1 month, no more than 2 months, no more than 3 months, no more than 4 months, no more than 5 months, no more than 6 months , no more than 7 months, no more than 8 months, no more than 9 months, no more than 10 months, no more than 11 months, no more than 12 months, no more than 13 months, no more than 14 months, no more than 15 months, no more than 16 months , no more than 17 months or no more than 18 months.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, от примерно 1 месяца до примерно 2 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 3 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 4 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 5 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 6 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 7 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 8 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 9 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 10 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 11 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 12 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 13 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 14 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 15 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 16 месяцев, от примерно 1 месяца до примерно 17 месяцев, от примерно 1 месяца доIn aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, from about 1 month to about 2 months, from about 1 month to about 3 months, from about 1 month to about 4 months, from about 1 month to about 5 months, from about 1 month to about 6 months, from about 1 month to about 7 months, from about 1 month to about 8 months, from about 1 month to about 9 months, from about 1 month to about 10 months , from about 1 month to about 11 months, from about 1 month to about 12 months, from about 1 month to about 13 months, from about 1 month to about 14 months, from about 1 month to about 15 months, from about 1 month up to about 16 months, from about 1 month to about 17 months, from about 1 month to

- 42 043933 примерно 18 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 3 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 4 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 5 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 6 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 7 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 8 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 9 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 10 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 11 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 2 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 4 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 5 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 6 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 7 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 8 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 9 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 10 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 11 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 3 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 5 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 6 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 7 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 8 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 9 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 10 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 11 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 4 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 6 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 7 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 8 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 9 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 10 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 11 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 5 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 7 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 8 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 9 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 10 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 11 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 6 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 8 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 9 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 10 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 11 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 7 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 9 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 10 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 11 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 8 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 9 месяцев до примерно 10 месяцев, от примерно 9 месяцев до примерно 11 месяцев, от примерно 9 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 9 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 9 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 9 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 9 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 9 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 9 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 10 месяцев до примерно 11 месяцев, от примерно 10 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 10 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 10 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 10 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 10 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 10 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 10 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 11 месяцев до примерно 12 месяцев, от примерно 11 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 11 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 11 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 11 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 11 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 1 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 12 месяцев до примерно 13 месяцев, от примерно 12 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 12 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 12 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 12 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 12 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 13 месяцев до примерно 14 месяцев, от примерно 13 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 13 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 13 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 13 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 14 месяцев до примерно 15 месяцев, от примерно 14 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 14 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 14 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 15 месяцев до примерно 16 месяцев, от примерно 15 месяцев до пример- 43 043933 но 17 месяцев, от примерно 15 месяцев до примерно 18 месяцев, от примерно 16 месяцев до примерно 17 месяцев, от примерно 16 месяцев до примерно 18 месяцев или от примерно 17 месяцев до примерно 18 месяцев.- 42 043933 approximately 18 months, from approximately 2 months to approximately 3 months, from approximately 2 months to approximately 4 months, from approximately 2 months to approximately 5 months, from approximately 2 months to approximately 6 months, from approximately 2 months to approximately 7 months, from about 2 months to about 8 months, from about 2 months to about 9 months, from about 2 months to about 10 months, from about 2 months to about 11 months, from about 2 months to about 12 months, from about 2 months to about 13 months, about 2 months to about 14 months, about 2 months to about 15 months, about 2 months to about 16 months, about 2 months to about 17 months, about 2 months to about 18 months , from about 3 months to about 4 months, from about 3 months to about 5 months, from about 3 months to about 6 months, from about 3 months to about 7 months, from about 3 months to about 8 months, from about 3 months up to about 9 months, from about 3 months to about 10 months, from about 3 months to about 11 months, from about 3 months to about 12 months, from about 3 months to about 13 months, from about 3 months to about 14 months, from about 3 months to about 15 months, from about 3 months to about 16 months, from about 3 months to about 17 months, from about 3 months to about 18 months, from about 4 months to about 5 months, from about 4 months to about 6 months, from about 4 months to about 7 months, from about 4 months to about 8 months, from about 4 months to about 9 months, from about 4 months to about 10 months, from about 4 months to about 11 months, from about 4 months to about 12 months, about 4 months to about 13 months, about 4 months to about 14 months, about 4 months to about 15 months, about 4 months to about 16 months, about 4 months to about 17 months, from about 4 months to about 18 months, from about 5 months to about 6 months, from about 5 months to about 7 months, from about 5 months to about 8 months, from about 5 months to about 9 months, from about 5 months to about 10 months, about 5 months to about 11 months, about 5 months to about 12 months, about 5 months to about 13 months, about 5 months to about 14 months, about 5 months to about 15 months, from about 5 months to about 16 months, from about 5 months to about 17 months, from about 5 months to about 18 months, from about 6 months to about 7 months, from about 6 months to about 8 months, from about 6 months months to about 9 months, about 6 months to about 10 months, about 6 months to about 11 months, about 6 months to about 12 months, about 6 months to about 13 months, about 6 months to about 14 months , from about 6 months to about 15 months, from about 6 months to about 16 months, from about 6 months to about 17 months, from about 6 months to about 18 months, from about 7 months to about 8 months, from about 7 months up to about 9 months, from about 7 months to about 10 months, from about 7 months to about 11 months, from about 7 months to about 12 months, from about 7 months to about 13 months, from about 7 months to about 14 months, from about 7 months to about 15 months, from about 7 months to about 16 months, from about 7 months to about 17 months, from about 7 months to about 18 months, from about 8 months to about 9 months, from about 8 months to about 10 months, from about 8 months to about 11 months, from about 8 months to about 12 months, from about 8 months to about 13 months, from about 8 months to about 14 months, from about 8 months to about 15 months, from about 8 months to about 16 months, about 8 months to about 17 months, about 8 months to about 18 months, about 9 months to about 10 months, about 9 months to about 11 months, about 9 months to about 12 months, from about 9 months to about 13 months, from about 9 months to about 14 months, from about 9 months to about 15 months, from about 9 months to about 16 months, from about 9 months to about 17 months, from about 9 months to about 18 months, about 10 months to about 11 months, about 10 months to about 12 months, about 10 months to about 13 months, about 10 months to about 14 months, about 10 months to about 15 months, from about 10 months to about 16 months, from about 10 months to about 17 months, from about 10 months to about 18 months, from about 11 months to about 12 months, from about 11 months to about 13 months, from about 11 months to about 14 months, about 11 months to about 15 months, about 11 months to about 16 months, about 11 months to about 17 months, about 1 month to about 18 months, about 12 months to about 13 months , from about 12 months to about 14 months, from about 12 months to about 15 months, from about 12 months to about 16 months, from about 12 months to about 17 months, from about 12 months to about 18 months, from about 13 months to about 14 months, from about 13 months to about 15 months, from about 13 months to about 16 months, from about 13 months to about 17 months, from about 13 months to about 18 months, from about 14 months to about 15 months, from about 14 months to about 16 months, from about 14 months to about 17 months, from about 14 months to about 18 months, from about 15 months to about 16 months, from about 15 months to about 43 043933 but 17 months, from about 15 months to about 18 months, about 16 months to about 17 months, about 16 months to about 18 months, or about 17 months to about 18 months.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, примерно 1 года, примерно 2 лет, примерно 3 лет, примерно 4 лет или примерно 5 лет. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, по меньшей мере 1 года, по меньшей мере 2 лет, по меньшей мере 3 лет, по меньшей мере 4 лет или по меньшей мере 5 лет. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, не более 1 года, не более 2 лет, не более 3 лет, не более 4 лет или не более 5 лет. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, является стабильной в течение, например, от примерно 1 года до примерно 2 лет, от примерно 1 года до примерно 3 лет, от примерно 1 года до примерно 4 лет, от примерно 1 года до примерно 5 лет, от примерно 2 лет до примерно 3 лет, от примерно 2 лет до примерно 4 лет, от примерно 2 лет до примерно 5 лет, от примерно 3 лет до примерно 4 лет, от примерно 3 лет до примерно 5 лет или от примерно 4 лет до примерно 5 лет.In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, about 1 year, about 2 years, about 3 years, about 4 years, or about 5 years. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, at least 1 year, at least 2 years, at least 3 years, at least 4 years, or at least 5 years . In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, no more than 1 year, no more than 2 years, no more than 3 years, no more than 4 years, or no more than 5 years. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is stable for, for example, from about 1 year to about 2 years, from about 1 year to about 3 years, from about 1 year to about 4 years, from about 1 year to about 5 years, from about 2 years to about 3 years, from about 2 years to about 4 years, from about 2 years to about 5 years, from about 3 years to about 4 years, from about 3 years to about 5 years years or from about 4 years to about 5 years.

Композицию, описанную в настоящем изобретении, можно получать в любой форме, которая позволяет наносить композицию, описанную в настоящем изобретении, таким образом, чтобы достигать желаемого полезного эффекта. В одном из вариантов реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, можно получать, например, в виде однофазного состава или двухфазного состава, содержащего фазу среды и диспергированную фазу. В другом варианте реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, можно получать, например, в виде жидкой композиции, коллоидной композиции, полутвердой композиции или твердой композиции. В другом варианте реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, можно получать, например, в виде аэрозоля жидких частиц, пены, эмульсии, геля, золя или твердого золя. В другом варианте реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, можно получать, например, в виде спрея, аэрозоля жидких частиц, мыла или суспензии.The composition described in the present invention can be obtained in any form that allows the composition described in the present invention to be applied in such a way as to achieve the desired beneficial effect. In one embodiment, the composition described in the present invention can be obtained, for example, in the form of a single-phase composition or a two-phase composition containing a medium phase and a dispersed phase. In another embodiment, the composition described in the present invention can be obtained, for example, in the form of a liquid composition, colloidal composition, semi-solid composition or solid composition. In another embodiment, the composition described in the present invention can be obtained, for example, in the form of an aerosol of liquid particles, foam, emulsion, gel, sol or solid sol. In another embodiment, the composition described in the present invention can be obtained, for example, in the form of a spray, aerosol of liquid particles, soap or suspension.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и одно или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид или тетрадецилдиметил-(3 -триметоксисилил)пропиламмония хлорид.In one embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-(3-trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 250 ppm до 1500 ppm одного или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 100 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 250 ppm до 1500 ppm одного или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 250 ppm до 1500 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида или тетрадецилдиметил-(3триметоксисилил)пропиламмония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 1000 ppm of hypochlorous acid or free active chlorine and from 250 ppm to 1500 ppm of one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 100 ppm to 1000 ppm of hypochlorous acid or free active chlorine and from 250 ppm to 1500 ppm of one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 250 ppm to 1500 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-( 3trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 1500 ppm одного или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 1500 ppm одного или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 1500 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида или тетрадецилдиметил-(3триметоксисилил)пропиламмония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 1000 ppm of hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 1500 ppm of one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 1000 ppm of hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 1500 ppm of one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 1500 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-( 3trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 800 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 1500 ppm одного или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 800 ppm хлорноватистой кислоты или сво- 44 043933 бодного активного хлора и от 500 ppm до 1500 ppm одного или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 800 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 1500 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида или тетрадецилдиметил-(3триметоксисилил)пропиламмония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 800 ppm of hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 1500 ppm of one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 800 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 1500 ppm of one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds . In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 800 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 1500 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-( 3trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 800 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 1200 ppm одного или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 800 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 1200 ppm одного или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 800 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 1200 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида или тетрадецилдиметил-(3-триметоксисилил)пропиламмония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 800 ppm of hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 1200 ppm of one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 800 ppm of hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 1200 ppm of one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 800 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 1200 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-(3 -trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 170 ppm до 370 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 100 ppm до 200 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 190 ppm до 350 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 120 ppm до 280 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 210 ppm до 330 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 140 ppm до 260 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 230 ppm до 310 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 160 ppm до 240 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 250 ppm до 290 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 180 ppm до 220 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 273 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 200 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 170 ppm to 370 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 100 ppm to 200 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 190 ppm to 350 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 120 ppm to 280 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 210 ppm to 330 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 140 ppm to 260 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 230 ppm to 310 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 160 ppm to 240 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 250 ppm to 290 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 180 ppm to 220 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 273 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 200 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 170 ppm до 370 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 200 ppm до 400 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 190 ppm до 350 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 220 ppm до 380 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 210 ppm до 330 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 240 ppm до 360 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 230 ppm до 310 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 260 ppm до 340 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 250 ppm до 290 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 280 ppm до 320 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 273 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 300 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 170 ppm to 370 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 200 ppm to 400 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 190 ppm to 350 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 220 ppm to 380 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 210 ppm to 330 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 240 ppm to 360 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 230 ppm to 310 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 260 ppm to 340 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 250 ppm to 290 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 280 ppm to 320 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 273 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 300 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 400 ppm до 600 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 420 ppm до 580 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 440 ppm до 560 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 460 ppm до 540 ppm диметиIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 400 ppm to 600 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 420 ppm to 580 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 440 ppm to 560 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 460 ppm to 540 ppm dimethyl

- 45 043933 локтадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 480 ppm до 520 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 500 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.- 45 043933 loctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 480 ppm to 520 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 500 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 400 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 25 ppm до 300 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 400 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In another aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 25 ppm to 300 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 250 ppm до 350 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 260 ppm до 340 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 270 ppm до 330 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 280 ppm до 320 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 290 ppm до 310 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 300 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 250 ppm to 350 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 260 ppm to 340 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 270 ppm to 330 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 280 ppm to 320 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 290 ppm to 310 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 300 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 200 ppm до 300 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 210 ppm до 290 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 220 ppm до 280 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 230 ppm до 270 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 240 ppm до 260 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 250 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 200 ppm to 300 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 210 ppm to 290 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 220 ppm to 280 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 230 ppm to 270 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 240 ppm to 260 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 250 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 150 ppm до 250 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 160 ppm до 240 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 170 ppm до 230 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 180 ppm до 220 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 190 ppm до 210 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты илиIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 150 ppm to 250 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 160 ppm to 240 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 170 ppm to 230 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 180 ppm to 220 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 190 ppm to 210 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or

- 46 043933 свободного активного хлора и 200 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.- 46 043933 free active chlorine and 200 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 100 ppm до 200 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 110 ppm до 190 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 120 ppm до 180 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 130 ppm до 170 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 140 ppm до 160 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 150 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 125 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 100 ppm to 200 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 110 ppm to 190 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 120 ppm to 180 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 130 ppm to 170 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 140 ppm to 160 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 150 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 125 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 150 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 60 ppm до 140 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 70 ppm до 130 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 80 ppm до 120 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 90 ppm до 110 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 100 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 125 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 150 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 60 ppm to 140 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 70 ppm to 130 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 80 ppm to 120 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 90 ppm to 110 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 100 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 125 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 100 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 90 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 80 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 30 ppm до 70 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 40 ppm до 60 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 50 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 100 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 90 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 80 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 30 ppm to 70 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 40 ppm to 60 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 50 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 50 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении,In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 50 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention

- 47 043933 содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 5 ppm до 45 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 40 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 15 ppm до 35 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 30 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 25 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.- 47 043933 contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 5 ppm to 45 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 40 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 15 ppm to 35 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 30 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 25 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 400 ppm до 600 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 420 ppm до 580 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 440 ppm до 560 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 460 ppm до 540 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 480 ppm до 520 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 500 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 400 ppm to 600 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 420 ppm to 580 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 440 ppm to 560 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 460 ppm to 540 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 480 ppm to 520 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 500 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 700 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 520 ppm до 680 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 540 ppm до 660 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 560 ppm до 640 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 580 ppm до 620 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 600 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 700 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 520 ppm to 680 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 540 ppm to 660 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 560 ppm to 640 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 580 ppm to 620 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 600 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 700 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 520 ppm до 680 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 540 ppm до 660 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 560 ppm до 640 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации компоIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 700 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 520 ppm to 680 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 540 ppm to 660 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 560 ppm to 640 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to a specified embodiment of the component

- 48 043933 зиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 580 ppm до 620 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 600 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения.- 48 043933 The item described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 580 ppm to 620 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 600 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 500 ppm до 700 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 520 ppm до 680 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 540 ppm до 660 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 560 ppm до 640 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 580 ppm до 620 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 600 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 500 ppm to 700 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 520 ppm to 680 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 540 ppm to 660 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 560 ppm to 640 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 580 ppm to 620 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 600 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 600 ppm до 800 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 620 ppm до 780 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 640 ppm до 760 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 660 ppm до 740 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 680 ppm до 720 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 700 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 600 ppm to 800 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 620 ppm to 780 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 640 ppm to 760 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 660 ppm to 740 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 680 ppm to 720 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 700 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 600 ppm до 800 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 620 ppm до 780 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 640 ppm до 760 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 660 ppm до 740 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 680 ppm до 720 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 700 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 600 ppm to 800 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 620 ppm to 780 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 640 ppm to 760 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 660 ppm to 740 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 680 ppm to 720 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 700 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настояIn one aspect, according to a specified embodiment, the composition described in the present

- 49 043933 щем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 600 ppm до 800 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 620 ppm до 780 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 640 ppm до 760 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 660 ppm до 740 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 680 ppm до 720 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 700 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.- 49 043933 of our invention, contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 600 ppm to 800 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 620 ppm to 780 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 640 ppm to 760 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 660 ppm to 740 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 680 ppm to 720 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 700 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 700 ppm до 900 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 720 ppm до 880 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 740 ppm до 860 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 760 ppm до 840 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 780 ppm до 820 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 800 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 700 ppm to 900 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 720 ppm to 880 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 740 ppm to 860 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 760 ppm to 840 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 780 ppm to 820 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 800 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 700 ppm до 900 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 720 ppm до 880 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 740 ppm до 860 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 760 ppm до 840 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 780 ppm до 820 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 800 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 700 ppm to 900 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 720 ppm to 880 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 740 ppm to 860 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 760 ppm to 840 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 780 ppm to 820 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 800 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 700 ppm до 900 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 720 ppm до 880 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 740 ppm доIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 700 ppm to 900 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 720 ppm to 880 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 740 ppm to

- 50 043933- 50 043933

860 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 760 ppm до 840 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 780 ppm до 820 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 800 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.860 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 760 ppm to 840 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 780 ppm to 820 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 800 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 800 ppm до 1000 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 820 ppm до 980 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 840 ppm до 960 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 860 ppm до 940 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 880 ppm до 920 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 900 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 800 ppm to 1000 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 820 ppm to 980 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 840 ppm to 960 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 860 ppm to 940 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 880 ppm to 920 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 900 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 800 ppm до 1000 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 820 ppm до 980 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 840 ppm до 960 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 860 ppm до 940 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 880 ppm до 920 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 900 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 800 ppm to 1000 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 820 ppm to 980 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 840 ppm to 960 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 860 ppm to 940 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 880 ppm to 920 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 900 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 800 ppm до 1000 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 820 ppm до 980 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 840 ppm до 960 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 860 ppm до 940 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 880 ppm до 920 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному вари- 51 043933 анту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 900 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 800 ppm to 1000 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 820 ppm to 980 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 840 ppm to 960 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 860 ppm to 940 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 880 ppm to 920 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 900 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 900 ppm до 1100 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 920 ppm до 1080 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 940 ppm до 1060 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 960 ppm до 1040 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 980 ppm до 1020 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 1000 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 900 ppm to 1100 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 920 ppm to 1080 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 940 ppm to 1060 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 960 ppm to 1040 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 980 ppm to 1020 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 1000 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 900 ppm до 1100 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 920 ppm до 1080 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 940 ppm до 1060 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 960 ppm до 1040 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 980 ppm до 1020 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 1000 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 900 ppm to 1100 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 920 ppm to 1080 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 940 ppm to 1060 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 960 ppm to 1040 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 980 ppm to 1020 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 1000 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 900 ppm до 1100 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 920 ppm до 1080 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 940 ppm до 1060 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 960 ppm до 1040 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 980 ppm до 1020 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 1000 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 900 ppm to 1100 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 920 ppm to 1080 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 940 ppm to 1060 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 960 ppm to 1040 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 980 ppm to 1020 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 1000 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активногоIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active

- 52 043933 хлора и от 1000 ppm до 1200 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1020 ppm до 1180 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1040 ppm до 1160 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1060 ppm до 1140 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1080 ppm до 1120 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 1100 ppm четвертичного соединения или кремнийорганического четвертичного соединения.- 52 043933 chlorine and from 1000 ppm to 1200 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1020 ppm to 1180 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1040 ppm to 1160 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1060 ppm to 1140 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1080 ppm to 1120 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 1100 ppm quaternary compound or organosilicon quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1000 ppm до 1200 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1020 ppm до 1180 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1040 ppm до 1160 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1060 ppm до 1140 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1080 ppm до 1120 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 1100 ppm диалкильного четвертичного соединения или кремнийорганического диалкильного четвертичного соединения.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1000 ppm to 1200 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1020 ppm to 1180 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1040 ppm to 1160 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1060 ppm to 1140 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1080 ppm to 1120 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 1100 ppm dialkyl quaternary compound or organosilicon dialkyl quaternary compound.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1000 ppm до 1200 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1020 ppm до 1180 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1040 ppm до 1160 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1060 ppm до 1140 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1080 ppm до 1120 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 1100 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1000 ppm to 1200 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1020 ppm to 1180 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1040 ppm to 1160 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1060 ppm to 1140 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1080 ppm to 1120 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 1100 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит один или более спиртов и одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит один или более спиртов и одно или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит один или более спиртов и диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид или тетрадеIn one embodiment, the composition described in the present invention contains one or more alcohols and one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains one or more alcohols and one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains one or more alcohols and dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetrad

- 53 043933 цилдиметил-(3-триметоксисилил)пропиламмония хлорид.- 53 043933 cyldimethyl-(3-trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% одного или более спиртов и от 1% до 15% одного или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% одного или более спиртов и от 1% до 15% одного или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% одного или более спиртов и от 1% до 15% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида или тетрадецилдиметил-(3-триметоксисилил)пропиламмония хлорида.In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% of one or more alcohols and from 1% to 15% of one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% of one or more alcohols and from 1% to 15% of one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% of one or more alcohols and from 1% to 15% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-(3- trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% одного или более спиртов и от 1% до 10% одного или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% одного или более спиртов и от 1% до 10% одного или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% одного или более спиртов и от 1% до 10% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида или тетрадецилдиметил-(3-триметоксисилил)пропиламмония хлорида.In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% of one or more alcohols and from 1% to 10% of one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% of one or more alcohols and from 1% to 10% of one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% of one or more alcohols and from 1% to 10% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-(3- trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит изопропанол, метанол и одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит изопропанол, метанол и одно или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит изопропанол, метанол и диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид или тетрадецилдиметил-(3-триметоксисилил)пропиламмония хлорид.In one embodiment, the composition described in the present invention contains isopropanol, methanol and one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains isopropanol, methanol and one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains isopropanol, methanol and dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-(3-trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% смеси изопропанола и метанола и от 1% до 15% одного или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% смеси изопропанола и метанола и от 1% до 15% одного или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% смеси изопропанола и метанола и от 1% до 15% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида или тетрадецилдиметил-(3-триметоксисилил)пропиламмония хлорида.In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% a mixture of isopropanol and methanol and from 1% to 15% of one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% a mixture of isopropanol and methanol and from 1% to 15% of one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% a mixture of isopropanol and methanol and from 1% to 15% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-(3- trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% смеси изопропанола и метанола и от 1% до 10% одного или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% смеси изопропанола и метанола и от 1% до 10% одного или более диалкильных четвертичных соединений или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% смеси изопропанола и метанола и от 1% до 10% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида или тетрадецилдиметил-(3-триметоксисилил)пропиламмония хлорида.In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% a mixture of isopropanol and methanol and from 1% to 10% of one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% a mixture of isopropanol and methanol and from 1% to 10% of one or more dialkyl quaternary compounds or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% a mixture of isopropanol and methanol and from 1% to 10% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-(3- trimethoxysilyl)propylammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 30% до 70% изопропанола, от 0,1% до 4,0% метанола и от 1% до 9% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 35% до 65% изопропанола, от 0,5% до 3,5% метанола и от 2% до 8% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 40% до 60% изопропанола, от 1,0% до 3,0% метанола и от 3% до 7% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 45% до 55% изопропанола, от 1,5% до 2,5% метанола и от 4% до 6% диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 50% изопропанола, 2% метанола и 5% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 30% to 70% isopropanol, from 0.1% to 4.0% methanol and from 1% to 9% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl ]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 35% to 65% isopropanol, from 0.5% to 3.5% methanol and from 2% to 8% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl ]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 40% to 60% isopropanol, from 1.0% to 3.0% methanol and from 3% to 7% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl ]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 45% to 55% isopropanol, from 1.5% to 2.5% methanol and from 4% to 6% dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 50% isopropanol, 2% methanol and 5% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 30% до 70% изопропанола, от 2% до 10% метанола и от 1% до 9% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 35% до 65% изоIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 30% to 70% isopropanol, from 2% to 10% methanol and from 1% to 9% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 35% to 65% iso

- 54 043933 пропанола, от 3% до 9% метанола и от 2% до 8% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 40% до 60% изопропанола, от 4% до 8% метанола и от 3% до 7% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 45% до 55% изопропанола, от 5% до 7% метанола и от 4% до 6% диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 50% изопропанола, 6% метанола и 5% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.- 54 043933 propanol, from 3% to 9% methanol and from 2% to 8% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 40% to 60% isopropanol, from 4% to 8% methanol and from 3% to 7% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 45% to 55% isopropanol, from 5% to 7% methanol and from 4% to 6% dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 50% isopropanol, 6% methanol and 5% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 94% до 99% изопропанола, от 0,1% до 2,0% метанола и от 0,1% до 2,0% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 95% до 99% изопропанола, от 0,25% до 1,75% метанола и от 0,25% до 1,75% диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 96% до 99% изопропанола, от 0,5% до 1,5% метанола и от 0,5% до 1,5% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 97% до 99% изопропанола, от 0,75% до 1,25% метанола и от 0,75% до 1,25% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 98% изопропанола, 1% метанола и 1% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 94% to 99% isopropanol, from 0.1% to 2.0% methanol and from 0.1% to 2.0% dimethyloctadecyl[3- (trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 95% to 99% isopropanol, from 0.25% to 1.75% methanol and from 0.25% to 1.75% dimethyloctadecyl[3( trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 96% to 99% isopropanol, from 0.5% to 1.5% methanol and from 0.5% to 1.5% dimethyloctadecyl[3- (trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 97% to 99% isopropanol, from 0.75% to 1.25% methanol and from 0.75% to 1.25% dimethyloctadecyl[3- (trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 98% isopropanol, 1% methanol and 1% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 70% до 99% изопропанола, от 1% до 10% метанола и от 1% до 10% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 75% до 97% изопропанола, от 4% до 9% метанола и от 2% до 8% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 80% до 95% изопропанола, от 5% до 8% метанола и от 3% до 7% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 85% до 90% изопропанола, от 6% до 7% метанола и от 4% до 6% диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 88,4% изопропанола, 6,6% метанола и 5% диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 70% to 99% isopropanol, from 1% to 10% methanol and from 1% to 10% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 75% to 97% isopropanol, from 4% to 9% methanol and from 2% to 8% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 80% to 95% isopropanol, from 5% to 8% methanol and from 3% to 7% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 85% to 90% isopropanol, from 6% to 7% methanol and from 4% to 6% dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 88.4% isopropanol, 6.6% methanol and 5% dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит изопропанол и дидодецилдиметиламмония хлорид. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 30% до 70% изопропанола и от 1,0% до 20,0% дидодецилдиметиламмония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 35% до 65% изопропанола и от 2,5% до 17,5% дидодецилдиметиламмония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 40% до 60% изопропанола и от 5,0% до 15,0% дидодецилдиметиламмония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 45% до 55% изопропанола и от 7,5% до 12,5% дидодецилдиметиламмония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 50% изопропанола и 10% дидодецилдиметиламмония хлорида.In one embodiment, the composition described in the present invention contains isopropanol and didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 30% to 70% isopropanol and from 1.0% to 20.0% didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 35% to 65% isopropanol and from 2.5% to 17.5% didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 40% to 60% isopropanol and from 5.0% to 15.0% didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 45% to 55% isopropanol and from 7.5% to 12.5% didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 50% isopropanol and 10% didodecyldimethylammonium chloride.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и дидодецилдиметиламмония хлорид. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 200 ppm до 400 ppm дидодецилдиметиламмония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 220 ppm до 380 ppm дидодецилдиметиламмония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 240 ppm до 360 ppm дидодецилдиметиламмония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 260 ppm до 340 ppm дидодецилдиметиламмония хлорида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 280 ppm до 320 ppm дидодецилдиметиламмония хлорида. В одном изIn one embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 200 ppm to 400 ppm didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 220 ppm to 380 ppm didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 240 ppm to 360 ppm didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 260 ppm to 340 ppm didodecyldimethylammonium chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 280 ppm to 320 ppm didodecyldimethylammonium chloride. In one of

- 55 043933 аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 300 ppm дидодецилдиметиламмония хлорида.- 55 043933 aspects according to the specified embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 300 ppm didodecyldimethylammonium chloride.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит один или более спиртов и одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит один или более спиртов и одно или более соединений, содержащих бигуанидный фрагмент или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит один или более спиртов и полигексаметиленбигуанид.In one embodiment, the composition described in the present invention contains one or more alcohols and one or more compounds containing a guanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains one or more alcohols and one or more compounds containing a biguanide moiety or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains one or more alcohols and polyhexamethylene biguanide.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% одного или более спиртов и от 0,1% до 5% одного или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% одного или более спиртов и от 0,1% до 5% одного или более соединений, содержащих бигуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% одного или более спиртов и от 0,1% до 5% полигексаметиленбигуанида.In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% of one or more alcohols and from 0.1% to 5% of one or more compounds containing a guanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% of one or more alcohols and from 0.1% to 5% of one or more compounds containing a biguanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% of one or more alcohols and from 0.1% to 5% polyhexamethylene biguanide.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% одного или более спиртов и от 0,5% до 2,5% одного или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% одного или более спиртов и от 0,5% до 2,5% одного или более соединений, содержащих бигуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% одного или более спиртов и от 0,5% до 2,5% полигексаметиленбигуанида.In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% of one or more alcohols and from 0.5% to 2.5% of one or more compounds containing a guanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% of one or more alcohols and from 0.5% to 2.5% of one or more compounds containing a biguanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% of one or more alcohols and from 0.5% to 2.5% polyhexamethylene biguanide.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит изопропанол и одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит изопропанол и одно или более соединений, содержащих бигуанидный фрагмент или кремнийорганических диалкильных четвертичных соединений. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит изопропанол и полигексаметиленбигуанид.In one embodiment, the composition described in the present invention contains isopropanol and one or more compounds containing a guanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains isopropanol and one or more compounds containing a biguanide moiety or organosilicon dialkyl quaternary compounds. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains isopropanol and polyhexamethylene biguanide.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% изопропанола и от 0,1% до 5% одного или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% изопропанола и от 0,1% до 5% одного или более соединений, содержащих бигуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10% до 90% изопропанола и от 0,1% до 5% полигексаметиленбигуанида.In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% isopropanol and from 0.1% to 5% of one or more compounds containing a guanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% isopropanol and from 0.1% to 5% of one or more compounds containing a biguanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10% to 90% isopropanol and from 0.1% to 5% polyhexamethylene biguanide.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% изопропанола и от 0,5% до 2,5% одного или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% изопропанола и от 0,5% до 2,5% одного или более соединений, содержащих бигуанидный фрагмент. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 25% до 75% изопропанола и от 0,5% до 2,5% полигексаметиленбигуанида.In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% isopropanol and from 0.5% to 2.5% of one or more compounds containing a guanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% isopropanol and from 0.5% to 2.5% of one or more compounds containing a biguanide moiety. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 25% to 75% isopropanol and from 0.5% to 2.5% polyhexamethylene biguanide.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 30% до 70% изопропанола и от 0,1% до 2,0% полигексаметиленбигуанида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 35% до 65% изопропанола и от 0,25% до 1,75% полигексаметиленбигуанида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 40% до 60% изопропанола и от 0,5% до 1,5% полигексаметиленбигуанида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 45% до 55% изопропанола и от 0,75% до 1,25% полигексаметиленбигуанида. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 50% изопропанола и 1% полигексаметиленбигуанида.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 30% to 70% isopropanol and from 0.1% to 2.0% polyhexamethylene biguanide. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 35% to 65% isopropanol and from 0.25% to 1.75% polyhexamethylene biguanide. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 40% to 60% isopropanol and from 0.5% to 1.5% polyhexamethylene biguanide. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 45% to 55% isopropanol and from 0.75% to 1.25% polyhexamethylene biguanide. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 50% isopropanol and 1% polyhexamethylene biguanide.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и металлические частицы и/или соли металлов. В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm металлических частиц и/или солей металлов.In one embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and metal particles and/or metal salts. In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm metal particles and/or metal salts.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и нитрат серебра. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm доIn one embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and silver nitrate. In aspects according to the specified embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to

- 56 043933- 56 043933

1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm нитрата серебра. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 300 ppm до 900 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 100 ppm до 400 ppm нитрата серебра. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 800 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 150 ppm до 350 ppm нитрата серебра.1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 50 ppm to 500 ppm silver nitrate. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 300 ppm to 900 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 100 ppm to 400 ppm silver nitrate. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 800 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 150 ppm to 350 ppm silver nitrate.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 200 ppm до 400 ppm нитрата серебра. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 220 ppm до 380 ppm нитрата серебра. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 240 ppm до 360 ppm нитрата серебра. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 260 ppm до 340 ppm нитрата серебра. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 280 ppm до 320 ppm нитрата серебра. В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 300 ppm нитрата серебра.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 200 ppm to 400 ppm silver nitrate. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 220 ppm to 380 ppm silver nitrate. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 240 ppm to 360 ppm silver nitrate. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 260 ppm to 340 ppm silver nitrate. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 280 ppm to 320 ppm silver nitrate. In one embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 300 ppm silver nitrate.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, нитрат серебра и частицы диоксида титана. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 50 ppm до 500 ppm нитрата серебра и от 10 ppm до 400 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 300 ppm до 900 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 100 ppm до 400 ppm нитрата серебра и от 25 ppm до 350 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 800 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 150 ppm до 350 ppm нитрата серебра и от 50 ppm до 250 ppm частиц диоксида титана.In one embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine, silver nitrate and titanium dioxide particles. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 50 ppm to 500 ppm silver nitrate, and from 10 ppm to 400 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 300 ppm to 900 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 100 ppm to 400 ppm silver nitrate and from 25 ppm to 350 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 800 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 150 ppm to 350 ppm silver nitrate and from 50 ppm to 250 ppm titanium dioxide particles.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 50 ppm до 500 ppm нитрата серебра и от 10 ppm до 400 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 175 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 100 ppm до 400 ppm нитрата серебра и от 25 ppm до 350 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 150 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 150 ppm до 350 ppm нитрата серебра и от 50 ppm до 250 ppm частиц диоксида титана.In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 50 ppm to 500 ppm silver nitrate, and from 10 ppm to 400 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 175 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 100 ppm to 400 ppm silver nitrate and from 25 ppm to 350 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 150 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 150 ppm to 350 ppm silver nitrate and from 50 ppm to 250 ppm titanium dioxide particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 100 ppm до 300 ppm нитрата серебра и от 50 ppm до 150 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 120 ppm до 280 ppm нитрата серебра и от 60 ppm до 140 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 140 ppm до 260 ppm нитрата серебра и от 70 ppm до 130 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 160 ppm до 240 ppm нитрата серебра и от 80 ppm до 120 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 180 ppm до 220 ppm нитрата серебра и от 90 ppm до 110 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 200 ppm нитрата серебра и 100 ppm частиц диоксида титана.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 100 ppm to 300 ppm silver nitrate and from 50 ppm to 150 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 120 ppm to 280 ppm silver nitrate and from 60 ppm to 140 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 140 ppm to 260 ppm silver nitrate and from 70 ppm to 130 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 160 ppm to 240 ppm silver nitrate and from 80 ppm to 120 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 180 ppm to 220 ppm silver nitrate and from 90 ppm to 110 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 200 ppm silver nitrate and 100 ppm titanium dioxide particles.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, четвертичное соединение или кремнийорганическое четвертичное соединение и металлические частицы и/или соли металлов. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, диалкильное четвертичное соединение или кремнийор- 57 043933 ганическое диалкильное четвертичное соединение и металлические частицы и/или соли металлов. В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид или тетрадецилдиметил-(З-триметоксисилил)пропиламмония хлорид, нитрат серебра и частицы диоксида титана.In one embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine, a quaternary compound or an organosilicon quaternary compound, and metal particles and/or metal salts. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine, a dialkyl quaternary compound or an organosilicon dialkyl quaternary compound, and metal particles and/or metal salts. In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine, dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride or tetradecyldimethyl-(3-trimethoxysilyl)propylammonium chloride, silver nitrate and titanium dioxide particles.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 200 ppm до 1000 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 50 ppm до 500 ppm нитрата серебра и от 10 ppm до 400 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 300 ppm до 900 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 300 ppm до 900 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 100 ppm до 400 ppm нитрата серебра и от 25 ppm до 350 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 800 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 400 ppm до 800 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 150 ppm до 350 ppm нитрата серебра и от 50 ppm до 250 ppm частиц диоксида титана.In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 200 ppm to 1000 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 50 ppm to 500 ppm silver nitrate and from 10 ppm to 400 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 300 ppm to 900 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 300 ppm to 900 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 100 ppm up to 400 ppm silver nitrate and from 25 ppm to 350 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 800 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 400 ppm to 800 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 150 ppm to 350 ppm silver nitrate and 50 ppm to 250 ppm titanium dioxide particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 180 ppm до 380 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 200 ppm до 400 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 100 ppm до 300 ppm нитрата серебра и от 50 ppm до 150 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 360 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 220 ppm до 380 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 120 ppm до 280 ppm нитрата серебра и от 60 ppm до 140 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 220 ppm до 340 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 240 ppm до 360 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 140 ppm до 260 ppm нитрата серебра и от 70 ppm до 130 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 240 ppm до 320 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 260 ppm до 340 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 160 ppm до 240 ppm нитрата серебра и от 80 ppm до 120 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 260 ppm до 300 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 280 ppm до 320 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 180 ppm до 220 ppm нитрата серебра и от 90 ppm до 110 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 281 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 300 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, 200 ppm нитрата серебра и 100 ppm частиц диоксида титана.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 180 ppm to 380 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 200 ppm to 400 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 100 ppm up to 300 ppm silver nitrate and from 50 ppm to 150 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 360 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 220 ppm to 380 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 120 ppm up to 280 ppm silver nitrate and from 60 ppm to 140 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 220 ppm to 340 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 240 ppm to 360 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 140 ppm to 260 ppm silver nitrate and 70 ppm to 130 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 240 ppm to 320 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 260 ppm to 340 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 160 ppm to 240 ppm silver nitrate and 80 ppm to 120 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 260 ppm to 300 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 280 ppm to 320 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 180 ppm to 220 ppm silver nitrate and 90 ppm to 110 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 281 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 300 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, 200 ppm silver nitrate and 100 ppm titanium dioxide particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 430 ppm до 630 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 400 ppm до 600 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 200 ppm до 400 ppm нитрата серебра и от 50 ppm до 150 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 450 ppm до 610 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 420 ppm до 580 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 220 ppm до 380 ppm нитрата серебра и от 60 ppm до 140 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 470 ppm до 590 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 440 ppm до 560 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 240 ppm до 360 ppm нитрата серебра и от 70 ppm до 130 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 490 ppm до 570 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 460 ppm до 540 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 260 ppm до 340 ppm нитрата серебра и от 80 ppm до 120 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 510 ppm до 550 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 480 ppm до 520 ppm диметилоктадецил[3(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, от 280 ppm до 320 ppm нитрата серебра и от 90 ppm до 110 ppm частиц диоксида титана. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 530 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 500 ppm диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорида, 300 ppmIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 430 ppm to 630 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 400 ppm to 600 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 200 ppm up to 400 ppm silver nitrate and from 50 ppm to 150 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 450 ppm to 610 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 420 ppm to 580 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 220 ppm up to 380 ppm silver nitrate and from 60 ppm to 140 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 470 ppm to 590 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 440 ppm to 560 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 240 ppm to 360 ppm silver nitrate and 70 ppm to 130 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 490 ppm to 570 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 460 ppm to 540 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 260 ppm to 340 ppm silver nitrate and 80 ppm to 120 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 510 ppm to 550 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 480 ppm to 520 ppm dimethyloctadecyl[3(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, from 280 ppm to 320 ppm silver nitrate and 90 ppm to 110 ppm titanium dioxide particles. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 530 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 500 ppm dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, 300 ppm

- 58 043933 нитрата серебра и 100 ppm частиц диоксида титана.- 58 043933 silver nitrate and 100 ppm titanium dioxide particles.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и частицу меди, частицу цинка, частицу железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и частицу оксида меди, частицу оксида цинка, частицу оксида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и частицу смешанного оксида меди, цинка и железа.In one embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and a copper particle, a zinc particle, an iron particle, or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and a copper oxide particle, a zinc oxide particle, an iron oxide particle, or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and a particle of mixed oxide of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm частицы меди, от 50 ppm до 500 ppm частицы цинка, 50 ppm до 500 ppm частицы железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm частицы оксида меди, от 50 ppm до 500 ppm частицы оксида цинка, от 50 ppm до 500 ppm частицы оксида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm частицы смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper particles, from 50 ppm to 500 ppm zinc particles, 50 ppm to 500 ppm iron particles or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper oxide particles, from 50 ppm to 500 ppm zinc oxide particles, from 50 ppm to 500 ppm iron oxide particles or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm частицы меди, от 50 ppm до 500 ppm частицы цинка, от 50 ppm до 500 ppm частицы железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm частицы оксида меди, от 50 ppm до 500 ppm частицы оксида цинка, от 50 ppm до 500 ppm частицы оксида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm частицы смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper particles, from 50 ppm to 500 ppm zinc particles, from 50 ppm up to 500 ppm iron particles or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper oxide particles, from 50 ppm to 500 ppm zinc oxide particles, from 50 ppm to 500 ppm iron oxide particles or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 400 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 25 ppm до 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 400 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In another aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 25 ppm to 300 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 50 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 5 ppm до 45 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 40 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 15 ppm до 35 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 30 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 25 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 50 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 5 ppm to 45 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 40 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 15 ppm to 35 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 30 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 25 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 100 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 90 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 80 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 30 ppm до 70 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одномIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 100 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 90 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 80 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 30 ppm to 70 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one

- 59 043933 из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 40 ppm до 60 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 50 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.- 59 043933 of aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 40 ppm to 60 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 50 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 150 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 60 ppm до 140 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 70 ppm до 130 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 80 ppm до 120 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 90 ppm до 110 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 100 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 150 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 60 ppm to 140 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 70 ppm to 130 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 80 ppm to 120 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 90 ppm to 110 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 100 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 100 ppm до 200 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 110 ppm до 190 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 120 ppm до 180 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 130 ppm до 170 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 140 ppm до 160 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 150 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 100 ppm to 200 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 110 ppm to 190 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 120 ppm to 180 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 130 ppm to 170 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 140 ppm to 160 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 150 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 150 ppm до 250 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 160 ppm до 240 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 170 ppm до 230 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 180 ppm до 220 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 190 ppm до 210 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 200 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 150 ppm to 250 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 160 ppm to 240 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 170 ppm to 230 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 180 ppm to 220 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 190 ppm to 210 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 200 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 200 ppm до 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 210 ppm до 290 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppmIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 200 ppm to 300 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 210 ppm to 290 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm

- 60 043933 хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 220 ppm до 280 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 230 ppm до 270 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 240 ppm до 260 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 250 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.- 60 043933 hypochlorous acid or free active chlorine and from 220 ppm to 280 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 230 ppm to 270 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 240 ppm to 260 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 250 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 250 ppm до 350 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 260 ppm до 340 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 270 ppm до 330 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 280 ppm до 320 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 290 ppm до 310 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 250 ppm to 350 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 260 ppm to 340 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 270 ppm to 330 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 280 ppm to 320 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 290 ppm to 310 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 300 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 400 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 25 ppm до 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 400 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In another aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 25 ppm to 300 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 150 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 400 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 150 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 25 ppm до 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 150 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 400 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In another aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 150 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 25 ppm to 300 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 100 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 400 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 100 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 25 ppm до 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 100 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 400 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In another aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 100 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 25 ppm to 300 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 75 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 400 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 75 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 25 ppm до 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 75 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 400 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In another aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 75 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 25 ppm to 300 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 400 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 25 ppm до 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 400 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In another aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 25 ppm to 300 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 50 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 5 ppm до 45 ppm частиц смеIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 50 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 5 ppm to 45 ppm mixture particles

- 61 043933 шанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 40 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 15 ppm до 35 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 30 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 25 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.- 61 043933 oxide of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 40 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 15 ppm to 35 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 30 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 25 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 1 ppm до 100 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 90 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 80 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 30 ppm до 70 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 40 ppm до 60 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 50 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 1 ppm to 100 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 90 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 80 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 30 ppm to 70 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 40 ppm to 60 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 50 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 150 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 60 ppm до 140 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 70 ppm до 130 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 80 ppm до 120 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 90 ppm до 110 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 100 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 150 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 60 ppm to 140 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 70 ppm to 130 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 80 ppm to 120 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 90 ppm to 110 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 100 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 100 ppm до 200 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 110 ppm до 190 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 120 ppm до 180 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 130 ppm до 170 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 140 ppm до 160 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 150 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 100 ppm to 200 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 110 ppm to 190 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 120 ppm to 180 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 130 ppm to 170 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 140 ppm to 160 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 150 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 150 ppm до 250 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов соIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 150 ppm to 250 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect

- 62 043933 гласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 160 ppm до 240 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 170 ppm до 230 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 180 ppm до 220 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 190 ppm до 210 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 200 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.- 62 043933 According to the specified embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 160 ppm to 240 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 170 ppm to 230 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 180 ppm to 220 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 190 ppm to 210 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 200 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 200 ppm до 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 210 ppm до 290 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 220 ppm до 280 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 230 ppm до 270 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 240 ppm до 260 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 250 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 200 ppm to 300 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 210 ppm to 290 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 220 ppm to 280 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 230 ppm to 270 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 240 ppm to 260 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 250 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 250 ppm до 350 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 260 ppm до 340 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 270 ppm до 330 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 280 ppm до 320 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 290 ppm до 310 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и 300 ppm частиц смешанного оксида меди, цинка и железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 250 ppm to 350 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 260 ppm to 340 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 270 ppm to 330 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 280 ppm to 320 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 290 ppm to 310 ppm mixed oxide particles of copper, zinc and iron. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and 300 ppm mixed oxide copper, zinc and iron particles.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и одну или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и соль меди, соль цинка, соль железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и соль меди, соль цинка и соль железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и хлорид меди, хлорид цинка, хлорид железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и хлорид меди, хлорид цинка и хлорид железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and one or more metal salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and a copper salt, a zinc salt, an iron salt, or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and a copper salt, a zinc salt and an iron salt. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and copper chloride, zinc chloride, ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and copper chloride, zinc chloride and ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm одной или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка, отIn one embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm one or more metal salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt, from

- 63 043933 ppm до 500 ppm соли железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка и от 50 ppm до 500 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка, от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 200 ppm до 1000 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка и от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).- 63 043933 ppm to 500 ppm iron salts or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt and from 50 ppm up to 500 ppm iron salt. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride, from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 200 ppm to 1000 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride and from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 50 ppm до 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 250 ppm одной или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 50 ppm до 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 250 ppm соли меди, от 10 ppm до 250 ppm соли цинка, от 10 ppm до 250 ppm соли железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 50 ppm до 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 250 ppm соли меди, от 10 ppm до 250 ppm соли цинка и от 10 ppm до 250 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 50 ppm до 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 250 ppm хлорида меди, от 10 ppm до 250 ppm хлорида цинка, от 10 ppm до 250 ppm хлорида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 50 ppm до 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 10 ppm до 250 ppm хлорида меди, от 10 ppm до 250 ppm хлорида цинка и от 10 ppm до 250 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 50 ppm to 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 250 ppm one or more metal salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 50 ppm to 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 250 ppm copper salt, from 10 ppm to 250 ppm zinc salt, from 10 ppm up to 250 ppm iron salts or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 50 ppm to 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 250 ppm copper salt, from 10 ppm to 250 ppm zinc salt and from 10 ppm up to 250 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 50 ppm to 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 250 ppm copper chloride, from 10 ppm to 250 ppm zinc chloride, from 10 ppm up to 250 ppm ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 50 ppm to 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 10 ppm to 250 ppm copper chloride, from 10 ppm to 250 ppm zinc chloride and from 10 ppm up to 250 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 75 ppm до 400 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 200 ppm одной или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 75 ppm до 400 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 200 ppm соли меди, от 20 ppm до 200 ppm соли цинка, от 20 ppm до 200 ppm соли железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 75 ppm до 400 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 200 ppm соли меди, от 20 ppm до 200 ppm соли цинка и от 20 ppm до 200 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 75 ppm до 400 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 200 ppm хлорида меди, от 20 ppm до 200 ppm хлорида цинка, от 20 ppm до 200 ppm хлорида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 75 ppm до 400 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 20 ppm до 200 ppm хлорида меди, от 20 ppm до 200 ppm хлорида цинка и от 20 ppm до 200 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 75 ppm to 400 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 200 ppm one or more metal salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 75 ppm to 400 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 200 ppm copper salt, from 20 ppm to 200 ppm zinc salt, from 20 ppm up to 200 ppm iron salts or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 75 ppm to 400 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 200 ppm copper salt, from 20 ppm to 200 ppm zinc salt and from 20 ppm up to 200 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 75 ppm to 400 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 200 ppm copper chloride, from 20 ppm to 200 ppm zinc chloride, from 20 ppm up to 200 ppm ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 75 ppm to 400 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 20 ppm to 200 ppm copper chloride, from 20 ppm to 200 ppm zinc chloride and from 20 ppm up to 200 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 350 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 40 ppm до 140 ppm одной или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 350 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 40 ppm до 140 ppm соли меди, от 40 ppm до 140 ppm соли цинка, от 40 ppm до 140 ppm соли железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 350 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 40 ppm до 140 ppm соли меди, от 40 ppm до 140 ppm соли цинка и от 40 ppm до 140 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 350 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 40 ppm до 140 ppm хлорида меди, от 40 ppm до 140 ppm хлорида цинка, от 40 ppm до 140 ppm хлорида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 100 ppm до 350 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 40 ppm до 140 ppm хлорида меди, от 40 ppm до 140 ppm хлорида цинка и от 40 ppm до 140 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 350 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 40 ppm to 140 ppm one or more metal salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 350 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 40 ppm to 140 ppm copper salt, from 40 ppm to 140 ppm zinc salt, from 40 ppm up to 140 ppm iron salts or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 350 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 40 ppm to 140 ppm copper salt, from 40 ppm to 140 ppm zinc salt and from 40 ppm up to 140 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 350 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 40 ppm to 140 ppm copper chloride, from 40 ppm to 140 ppm zinc chloride, from 40 ppm up to 140 ppm ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 100 ppm to 350 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 40 ppm to 140 ppm copper chloride, from 40 ppm to 140 ppm zinc chloride and from 40 ppm up to 140 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm одной или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиIn one embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm one or more metal salts. In one aspect, according to a specified embodiment of the composition

- 64 043933 ция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка, от 50 ppm до 500 ppm соли железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка и от 50 ppm до 500 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка, от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 200 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка и от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).- 64 043933 tion described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt, from 50 ppm to 500 ppm iron salt or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt and from 50 ppm up to 500 ppm iron salt. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride, from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 200 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride and from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 150 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm одной или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 150 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка, от 50 ppm до 500 ppm соли железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 150 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка и от 50 ppm до 500 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 150 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка, от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 150 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка и от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 150 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm one or more metal salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 150 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt, from 50 ppm up to 500 ppm iron salts or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 150 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt and from 50 ppm up to 500 ppm iron salt. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 150 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride, from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 150 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride and from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 100 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm одной или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 100 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка, от 50 ppm до 500 ppm соли железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 100 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка и от 50 ppm до 500 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 100 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка, от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 100 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка и от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 100 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm one or more metal salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 100 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt, from 50 ppm up to 500 ppm iron salts or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 100 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt and from 50 ppm up to 500 ppm iron salt. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 100 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride, from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 100 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride and from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 75 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm одной или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 75 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка, от 50 ppm до 500 ppm соли железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 75 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка и от 50 ppm до 500 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 75 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка, от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 75 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка и от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 75 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm one or more metal salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 75 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt, from 50 ppm up to 500 ppm iron salts or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 75 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt and from 50 ppm up to 500 ppm iron salt. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 75 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride, from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 75 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride and from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит отIn one embodiment, the composition described in the present invention contains:

- 65 043933 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm одной или более солей металлов. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка, от 50 ppm до 500 ppm соли железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm соли меди, от 50 ppm до 500 ppm соли цинка и от 50 ppm до 500 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка, от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа или любую их комбинацию. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора и от 50 ppm до 500 ppm хлорида меди, от 50 ppm до 500 ppm хлорида цинка и от 50 ppm до 500 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).- 65 043933 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm one or more metal salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt, from 50 ppm up to 500 ppm iron salts or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper salt, from 50 ppm to 500 ppm zinc salt and from 50 ppm up to 500 ppm iron salt. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride, from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride or any combination thereof. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine and from 50 ppm to 500 ppm copper chloride, from 50 ppm to 500 ppm zinc chloride and from 50 ppm up to 500 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 50 ppm до 150 ppm соли меди, от 50 ppm до 150 ppm соли цинка и от 50 ppm до 150 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 60 ppm до 140 ppm соли меди, от 60 ppm до 140 ppm соли цинка и от 60 ppm до 140 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 70 ppm до 130 ppm соли меди, от 70 ppm до 130 ppm соли цинка и от 70 ppm до 130 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 80 ppm до 120 ppm соли меди, от 80 ppm до 120 ppm соли цинка и от 80 ppm до 120 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 90 ppm до 110 ppm соли меди, от 90 ppm до 110 ppm соли цинка и от 90 ppm до 110 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 100 ppm соли меди, 100 ppm соли цинка и 100 ppm соли железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 50 ppm to 150 ppm copper salt, from 50 ppm to 150 ppm zinc salt and from 50 ppm up to 150 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 60 ppm to 140 ppm copper salt, from 60 ppm to 140 ppm zinc salt and from 60 ppm up to 140 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 70 ppm to 130 ppm copper salt, from 70 ppm to 130 ppm zinc salt and from 70 ppm up to 130 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 80 ppm to 120 ppm copper salt, from 80 ppm to 120 ppm zinc salt and from 80 ppm up to 120 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 90 ppm to 110 ppm copper salt, from 90 ppm to 110 ppm zinc salt and from 90 ppm up to 110 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 100 ppm copper salt, 100 ppm zinc salt and 100 ppm iron salt.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 50 ppm до 150 ppm хлорида цинка, от 50 ppm до 150 ppm хлорида цинка и от 50 ppm до 150 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 60 ppm до 140 ppm хлорида цинка, от 60 ppm до 140 ppm хлорида цинка и от 60 ppm до 140 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 70 ppm до 130 ppm хлорида цинка, от 70 ppm до 130 ppm хлорида цинка и от 70 ppm до 130 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 80 ppm до 120 ppm хлорида цинка, от 80 ppm до 120 ppm хлорида цинка и от 80 ppm до 120 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 90 ppm до 110 ppm хлорида цинка, от 90 ppm до 110 ppm хлорида цинка и от 90 ppm до 110 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 100 ppm хлорида цинка, 100 ppm хлорида цинка и 100 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 50 ppm to 150 ppm zinc chloride, from 50 ppm to 150 ppm zinc chloride and from 50 ppm up to 150 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 60 ppm to 140 ppm zinc chloride, from 60 ppm to 140 ppm zinc chloride and from 60 ppm up to 140 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 70 ppm to 130 ppm zinc chloride, from 70 ppm to 130 ppm zinc chloride and from 70 ppm up to 130 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 80 ppm to 120 ppm zinc chloride, from 80 ppm to 120 ppm zinc chloride and from 80 ppm up to 120 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 90 ppm to 110 ppm zinc chloride, from 90 ppm to 110 ppm zinc chloride and from 90 ppm up to 110 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 100 ppm zinc chloride, 100 ppm zinc chloride and 100 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 100 ppm до 200 ppm соли меди, от 100 ppm до 200 ppm соли цинка и от 100 ppm до 200 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 110 ppm до 190 ppm соли меди, от 110 ppm до 190 ppm соли цинка и от 110 ppm до 190 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 120 ppm до 180 ppm соли меди, от 120 ppm до 180 ppm соли цинка и от 120 ppmIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 100 ppm to 200 ppm copper salt, from 100 ppm to 200 ppm zinc salt and from 100 ppm up to 200 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 110 ppm to 190 ppm copper salt, from 110 ppm to 190 ppm zinc salt and from 110 ppm up to 190 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 120 ppm to 180 ppm copper salt, from 120 ppm to 180 ppm zinc salt and from 120 ppm

- 66 043933 до 180 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 130 ppm до 170 ppm соли меди, от 130 ppm до 170 ppm соли цинка и от 130 ppm до 170 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 140 ppm до 160 ppm соли меди, от 140 ppm до 160 ppm соли цинка и от 140 ppm до 160 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 150 ppm соли меди, 150 ppm соли цинка и 150 ppm соли железа.- 66 043933 up to 180 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 130 ppm to 170 ppm copper salt, from 130 ppm to 170 ppm zinc salt and from 130 ppm up to 170 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 140 ppm to 160 ppm copper salt, from 140 ppm to 160 ppm zinc salt and from 140 ppm up to 160 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 150 ppm copper salt, 150 ppm zinc salt and 150 ppm iron salt.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 100 ppm до 200 ppm хлорида цинка, от 100 ppm до 200 ppm хлорида цинка и от 100 ppm до 200 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 110 ppm до 190 ppm хлорида цинка, от 110 ppm до 190 ppm хлорида цинка и от 110 ppm до 190 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 120 ppm до 180 ppm хлорида цинка, от 120 ppm до 180 ppm хлорида цинка и от 120 ppm до 180 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 130 ppm до 170 ppm хлорида цинка, от 130 ppm до 170 ppm хлорида цинка и от 130 ppm до 170 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 140 ppm до 160 ppm хлорида цинка, от 140 ppm до 160 ppm хлорида цинка и от 140 ppm до 160 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 150 ppm хлорида цинка, 150 ppm хлорида цинка и 150 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 100 ppm to 200 ppm zinc chloride, from 100 ppm to 200 ppm zinc chloride and from 100 ppm up to 200 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 110 ppm to 190 ppm zinc chloride, from 110 ppm to 190 ppm zinc chloride and from 110 ppm up to 190 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 120 ppm to 180 ppm zinc chloride, from 120 ppm to 180 ppm zinc chloride and from 120 ppm up to 180 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 130 ppm to 170 ppm zinc chloride, from 130 ppm to 170 ppm zinc chloride and from 130 ppm up to 170 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 140 ppm to 160 ppm zinc chloride, from 140 ppm to 160 ppm zinc chloride and from 140 ppm up to 160 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 150 ppm zinc chloride, 150 ppm zinc chloride and 150 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 150 ppm до 250 ppm соли меди, от 150 ppm до 250 ppm соли цинка и от 150 ppm до 250 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 160 ppm до 240 ppm соли меди, от 160 ppm до 240 ppm соли цинка и от 160 ppm до 240 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 170 ppm до 230 ppm соли меди, от 170 ppm до 230 ppm соли цинка и от 170 ppm до 230 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 180 ppm до 220 ppm соли меди, от 180 ppm до 220 ppm соли цинка и от 180 ppm до 220 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 190 ppm до 210 ppm соли меди, от 190 ppm до 210 ppm соли цинка и от 190 ppm до 210 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 200 ppm соли меди, 200 ppm соли цинка и 200 ppm соли железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 150 ppm to 250 ppm copper salt, from 150 ppm to 250 ppm zinc salt and from 150 ppm up to 250 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 160 ppm to 240 ppm copper salt, from 160 ppm to 240 ppm zinc salt and from 160 ppm up to 240 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 170 ppm to 230 ppm copper salt, from 170 ppm to 230 ppm zinc salt and from 170 ppm up to 230 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 180 ppm to 220 ppm copper salt, from 180 ppm to 220 ppm zinc salt and from 180 ppm up to 220 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 190 ppm to 210 ppm copper salt, from 190 ppm to 210 ppm zinc salt and from 190 ppm up to 210 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 200 ppm copper salt, 200 ppm zinc salt and 200 ppm iron salt.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 150 ppm до 250 ppm хлорида цинка, от 150 ppm до 250 ppm хлорида цинка и от 150 ppm до 250 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 160 ppm до 240 ppm хлорида цинка, от 160 ppm до 240 ppm хлорида цинка и от 160 ppm до 240 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 170 ppm до 230 ppm хлорида цинка, от 170 ppm до 230 ppm хлорида цинка и от 170 ppm до 230 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 180 ppm до 220 ppm хлорида цинка, от 180 ppm до 220 ppm хлорида цинка и от 180 ppm до 220 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 190 ppm до 210 ppmIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 150 ppm to 250 ppm zinc chloride, from 150 ppm to 250 ppm zinc chloride and from 150 ppm up to 250 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 160 ppm to 240 ppm zinc chloride, from 160 ppm to 240 ppm zinc chloride and from 160 ppm up to 240 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 170 ppm to 230 ppm zinc chloride, from 170 ppm to 230 ppm zinc chloride and from 170 ppm up to 230 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 180 ppm to 220 ppm zinc chloride, from 180 ppm to 220 ppm zinc chloride and from 180 ppm up to 220 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 190 ppm to 210 ppm

- 67 043933 хлорида цинка, от 190 ppm до 210 ppm хлорида цинка и от 190 ppm до 210 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 200 ppm хлорида цинка,- 67 043933 zinc chloride, from 190 ppm to 210 ppm zinc chloride and from 190 ppm to 210 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 200 ppm zinc chloride,

200 ppm хлорида цинка и 200 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).200 ppm zinc chloride and 200 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 200 ppm до 300 ppm соли меди, от 200 ppm до 300 ppm соли цинка и от 200 ppm до 300 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 210 ppm до 290 ppm соли меди, от 210 ppm до 290 ppm соли цинка и от 210 ppm до 290 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 220 ppm до 280 ppm соли меди, от 220 ppm до 280 ppm соли цинка и от 220 ppm до 280 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 230 ppm до 270 ppm соли меди, от 230 ppm до 270 ppm соли цинка и от 230 ppm до 270 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 240 ppm до 260 ppm соли меди, от 240 ppm до 260 ppm соли цинка и от 240 ppm до 260 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 250 ppm соли меди, 250 ppm соли цинка и 250 ppm соли железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 200 ppm to 300 ppm copper salt, from 200 ppm to 300 ppm zinc salt and from 200 ppm up to 300 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 210 ppm to 290 ppm copper salt, from 210 ppm to 290 ppm zinc salt and from 210 ppm up to 290 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 220 ppm to 280 ppm copper salt, from 220 ppm to 280 ppm zinc salt and from 220 ppm up to 280 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 230 ppm to 270 ppm copper salt, from 230 ppm to 270 ppm zinc salt and from 230 ppm up to 270 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 240 ppm to 260 ppm copper salt, from 240 ppm to 260 ppm zinc salt and from 240 ppm up to 260 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 250 ppm copper salt, 250 ppm zinc salt and 250 ppm iron salt.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 200 ppm до 300 ppm хлорида цинка, от 200 ppm до 300 ppm хлорида цинка и от 200 ppm до 300 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 210 ppm до 290 ppm хлорида цинка, от 210 ppm до 290 ppm хлорида цинка и от 210 ppm до 290 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 220 ppm до 280 ppm хлорида цинка, от 220 ppm до 280 ppm хлорида цинка и от 220 ppm до 280 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 230 ppm до 270 ppm хлорида цинка, от 230 ppm до 270 ppm хлорида цинка и от 230 ppm до 270 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 240 ppm до 260 ppm хлорида цинка, от 240 ppm до 260 ppm хлорида цинка и от 240 ppm до 260 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 250 ppm хлорида цинка, 250 ppm хлорида цинка и 250 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 200 ppm to 300 ppm zinc chloride, from 200 ppm to 300 ppm zinc chloride and from 200 ppm up to 300 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 210 ppm to 290 ppm zinc chloride, from 210 ppm to 290 ppm zinc chloride and from 210 ppm up to 290 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 220 ppm to 280 ppm zinc chloride, from 220 ppm to 280 ppm zinc chloride and from 220 ppm up to 280 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 230 ppm to 270 ppm zinc chloride, from 230 ppm to 270 ppm zinc chloride and from 230 ppm up to 270 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 240 ppm to 260 ppm zinc chloride, from 240 ppm to 260 ppm zinc chloride and from 240 ppm up to 260 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 250 ppm zinc chloride, 250 ppm zinc chloride and 250 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 250 ppm до 350 ppm соли меди, от 250 ppm до 350 ppm соли цинка и от 250 ppm до 350 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 260 ppm до 340 ppm соли меди, от 260 ppm до 340 ppm соли цинка и от 260 ppm до 340 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 270 ppm до 330 ppm соли меди, от 270 ppm до 330 ppm соли цинка и от 270 ppm до 330 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 280 ppm до 320 ppm соли меди, от 280 ppm до 320 ppm соли цинка и от 280 ppm до 320 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 290 ppm до 310 ppm соли меди, от 290 ppm до 310 ppm соли цинка и от 290 ppm до 310 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 300 ppm соли меди, 300 ppm соли цинка и 300 ppm соли железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 250 ppm to 350 ppm copper salt, from 250 ppm to 350 ppm zinc salt and from 250 ppm up to 350 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 260 ppm to 340 ppm copper salt, from 260 ppm to 340 ppm zinc salt and from 260 ppm up to 340 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 270 ppm to 330 ppm copper salt, from 270 ppm to 330 ppm zinc salt and from 270 ppm up to 330 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 280 ppm to 320 ppm copper salt, from 280 ppm to 320 ppm zinc salt and from 280 ppm up to 320 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 290 ppm to 310 ppm copper salt, from 290 ppm to 310 ppm zinc salt and from 290 ppm up to 310 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 300 ppm copper salt, 300 ppm zinc salt and 300 ppm iron salt.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоя- 68 043933 щем изобретении, содержит от 400 ppm до 600 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 250 ppm до 350 ppm хлорида цинка, от 250 ppm до 350 ppm хлорида цинка и от 250 ppm до 350 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 420 ppm до 580 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 260 ppm до 340 ppm хлорида цинка, от 260 ppm до 340 ppm хлорида цинка и от 260 ppm до 340 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 440 ppm до 560 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 270 ppm до 330 ppm хлорида цинка, от 270 ppm до 330 ppm хлорида цинка и от 270 ppm до 330 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 460 ppm до 540 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 280 ppm до 320 ppm хлорида цинка, от 280 ppm до 320 ppm хлорида цинка и от 280 ppm до 320 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 480 ppm до 520 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 290 ppm до 310 ppm хлорида цинка, от 290 ppm до 310 ppm хлорида цинка и от 290 ppm до 310 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 500 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 300 ppm хлорида цинка, 300 ppm хлорида цинка и 300 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 400 ppm to 600 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 250 ppm to 350 ppm zinc chloride, from 250 ppm to 350 ppm zinc chloride and 250 ppm to 350 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 420 ppm to 580 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 260 ppm to 340 ppm zinc chloride, from 260 ppm to 340 ppm zinc chloride and from 260 ppm up to 340 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 440 ppm to 560 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 270 ppm to 330 ppm zinc chloride, from 270 ppm to 330 ppm zinc chloride and from 270 ppm up to 330 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 460 ppm to 540 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 280 ppm to 320 ppm zinc chloride, from 280 ppm to 320 ppm zinc chloride and from 280 ppm up to 320 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 480 ppm to 520 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 290 ppm to 310 ppm zinc chloride, from 290 ppm to 310 ppm zinc chloride and from 290 ppm up to 310 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 500 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 300 ppm zinc chloride, 300 ppm zinc chloride and 300 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 50 ppm до 150 ppm соли меди, от 50 ppm до 150 ppm соли цинка и от 50 ppm до 150 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 60 ppm до 140 ppm соли меди, от 60 ppm до 140 ppm соли цинка и от 60 ppm до 140 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 70 ppm до 130 ppm соли меди, от 70 ppm до 130 ppm соли цинка и от 70 ppm до 130 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 80 ppm до 120 ppm соли меди, от 80 ppm до 120 ppm соли цинка и от 80 ppm до 120 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 90 ppm до 110 ppm соли меди, от 90 ppm до 110 ppm соли цинка и от 90 ppm до 110 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 100 ppm соли меди, 100 ppm соли цинка и 100 ppm соли железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 50 ppm to 150 ppm copper salt, from 50 ppm to 150 ppm zinc salt and from 50 ppm up to 150 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 60 ppm to 140 ppm copper salt, from 60 ppm to 140 ppm zinc salt and from 60 ppm up to 140 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 70 ppm to 130 ppm copper salt, from 70 ppm to 130 ppm zinc salt and from 70 ppm up to 130 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 80 ppm to 120 ppm copper salt, from 80 ppm to 120 ppm zinc salt and from 80 ppm up to 120 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 90 ppm to 110 ppm copper salt, from 90 ppm to 110 ppm zinc salt and from 90 ppm up to 110 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 100 ppm copper salt, 100 ppm zinc salt and 100 ppm iron salt.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 50 ppm до 150 ppm хлорида цинка, от 50 ppm до 150 ppm хлорида цинка и от 50 ppm до 150 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 60 ppm до 140 ppm хлорида цинка, от 60 ppm до 140 ppm хлорида цинка и от 60 ppm до 140 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 70 ppm до 130 ppm хлорида цинка, от 70 ppm до 130 ppm хлорида цинка и от 70 ppm до 130 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 80 ppm до 120 ppm хлорида цинка, от 80 ppm до 120 ppm хлорида цинка и от 80 ppm до 120 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 90 ppm до 110 ppm хлорида цинка, от 90 ppm до 110 ppm хлорида цинка и от 90 ppm до 110 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 100 ppm хлорида цинка, 100 ppm хлорида цинка и 100 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 50 ppm to 150 ppm zinc chloride, from 50 ppm to 150 ppm zinc chloride and from 50 ppm up to 150 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 60 ppm to 140 ppm zinc chloride, from 60 ppm to 140 ppm zinc chloride and from 60 ppm up to 140 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 70 ppm to 130 ppm zinc chloride, from 70 ppm to 130 ppm zinc chloride and from 70 ppm up to 130 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 80 ppm to 120 ppm zinc chloride, from 80 ppm to 120 ppm zinc chloride and from 80 ppm up to 120 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 90 ppm to 110 ppm zinc chloride, from 90 ppm to 110 ppm zinc chloride and from 90 ppm up to 110 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 100 ppm zinc chloride, 100 ppm zinc chloride and 100 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 100 ppm до 200 ppm соли меди, от 100 ppm до 200 ppm соли цинка и от 100 ppm до 200 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активногоIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 100 ppm to 200 ppm copper salt, from 100 ppm to 200 ppm zinc salt and from 100 ppm up to 200 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active

- 69 043933 хлора, от 110 ppm до 190 ppm соли меди, от 110 ppm до 190 ppm соли цинка и от 110 ppm до 190 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 120 ppm до 180 ppm соли меди, от 120 ppm до 180 ppm соли цинка и от 120 ppm до 180 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 130 ppm до 170 ppm соли меди, от 130 ppm до 170 ppm соли цинка и от 130 ppm до 170 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 140 ppm до 160 ppm соли меди, от 140 ppm до 160 ppm соли цинка и от 140 ppm до 160 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 150 ppm соли меди, 150 ppm соли цинка и 150 ppm соли железа.- 69 043933 chlorine, from 110 ppm to 190 ppm copper salts, from 110 ppm to 190 ppm zinc salts and from 110 ppm to 190 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 120 ppm to 180 ppm copper salt, from 120 ppm to 180 ppm zinc salt and from 120 ppm up to 180 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 130 ppm to 170 ppm copper salt, from 130 ppm to 170 ppm zinc salt and from 130 ppm up to 170 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 140 ppm to 160 ppm copper salt, from 140 ppm to 160 ppm zinc salt and from 140 ppm up to 160 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 150 ppm copper salt, 150 ppm zinc salt and 150 ppm iron salt.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 100 ppm до 200 ppm хлорида цинка, от 100 ppm до 200 ppm хлорида цинка и от 100 ppm до 200 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 110 ppm до 190 ppm хлорида цинка, от 110 ppm до 190 ppm хлорида цинка и от 110 ppm до 190 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 120 ppm до 180 ppm хлорида цинка, от 120 ppm до 180 ppm хлорида цинка и от 120 ppm до 180 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 130 ppm до 170 ppm хлорида цинка, от 130 ppm до 170 ppm хлорида цинка и от 130 ppm до 170 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 140 ppm до 160 ppm хлорида цинка, от 140 ppm до 160 ppm хлорида цинка и от 140 ppm до 160 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 150 ppm хлорида цинка, 150 ppm хлорида цинка и 150 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 100 ppm to 200 ppm zinc chloride, from 100 ppm to 200 ppm zinc chloride and from 100 ppm up to 200 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 110 ppm to 190 ppm zinc chloride, from 110 ppm to 190 ppm zinc chloride and from 110 ppm up to 190 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 120 ppm to 180 ppm zinc chloride, from 120 ppm to 180 ppm zinc chloride and from 120 ppm up to 180 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 130 ppm to 170 ppm zinc chloride, from 130 ppm to 170 ppm zinc chloride and from 130 ppm up to 170 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 140 ppm to 160 ppm zinc chloride, from 140 ppm to 160 ppm zinc chloride and from 140 ppm up to 160 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 150 ppm zinc chloride, 150 ppm zinc chloride and 150 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 150 ppm до 250 ppm соли меди, от 150 ppm до 250 ppm соли цинка и от 150 ppm до 250 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 160 ppm до 240 ppm соли меди, от 160 ppm до 240 ppm соли цинка и от 160 ppm до 240 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 170 ppm до 230 ppm соли меди, от 170 ppm до 230 ppm соли цинка и от 170 ppm до 230 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 180 ppm до 220 ppm соли меди, от 180 ppm до 220 ppm соли цинка и от 180 ppm до 220 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 190 ppm до 210 ppm соли меди, от 190 ppm до 210 ppm соли цинка и от 190 ppm до 210 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 200 ppm соли меди, 200 ppm соли цинка и 200 ppm соли железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 150 ppm to 250 ppm copper salt, from 150 ppm to 250 ppm zinc salt and from 150 ppm up to 250 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 160 ppm to 240 ppm copper salt, from 160 ppm to 240 ppm zinc salt and from 160 ppm up to 240 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 170 ppm to 230 ppm copper salt, from 170 ppm to 230 ppm zinc salt and from 170 ppm up to 230 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 180 ppm to 220 ppm copper salt, from 180 ppm to 220 ppm zinc salt and from 180 ppm up to 220 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 190 ppm to 210 ppm copper salt, from 190 ppm to 210 ppm zinc salt and from 190 ppm up to 210 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 200 ppm copper salt, 200 ppm zinc salt and 200 ppm iron salt.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 150 ppm до 250 ppm хлорида цинка, от 150 ppm до 250 ppm хлорида цинка и от 150 ppm до 250 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 160 ppm до 240 ppm хлорида цинка, от 160 ppm до 240 ppm хлорида цинка и от 160 ppm до 240 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 170 ppm до 230 ppm хлорида цинка, от 170 ppm до 230 ppm хлорида цинка и от 170 ppm до 230 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 180 ppm до 220 ppm хлорида цинка, от 180 ppm до 220 ppm хлоIn one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 150 ppm to 250 ppm zinc chloride, from 150 ppm to 250 ppm zinc chloride and from 150 ppm up to 250 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 160 ppm to 240 ppm zinc chloride, from 160 ppm to 240 ppm zinc chloride and from 160 ppm up to 240 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 170 ppm to 230 ppm zinc chloride, from 170 ppm to 230 ppm zinc chloride and from 170 ppm up to 230 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 180 ppm to 220 ppm zinc chloride, from 180 ppm to 220 ppm chlorine

- 70 043933 рида цинка и от 180 ppm до 220 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 190 ppm до 210 ppm хлорида цинка, от 190 ppm до 210 ppm хлорида цинка и от 190 ppm до 210 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 200 ppm хлорида цинка, 200 ppm хлорида цинка и 200 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (Ш).- 70 043933 zinc and 180 ppm to 220 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 190 ppm to 210 ppm zinc chloride, from 190 ppm to 210 ppm zinc chloride and from 190 ppm up to 210 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 200 ppm zinc chloride, 200 ppm zinc chloride and 200 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 200 ppm до 300 ppm соли меди, от 200 ppm до 300 ppm соли цинка и от 200 ppm до 300 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 210 ppm до 290 ppm соли меди, от 210 ppm до 290 ppm соли цинка и от 210 ppm до 290 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 220 ppm до 280 ppm соли меди, от 220 ppm до 280 ppm соли цинка и от 220 ppm до 280 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 230 ppm до 270 ppm соли меди, от 230 ppm до 270 ppm соли цинка и от 230 ppm до 270 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 240 ppm до 260 ppm соли меди, от 240 ppm до 260 ppm соли цинка и от 240 ppm до 260 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 250 ppm соли меди, 250 ppm соли цинка и 250 ppm соли железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 200 ppm to 300 ppm copper salt, from 200 ppm to 300 ppm zinc salt and from 200 ppm up to 300 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 210 ppm to 290 ppm copper salt, from 210 ppm to 290 ppm zinc salt and from 210 ppm up to 290 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 220 ppm to 280 ppm copper salt, from 220 ppm to 280 ppm zinc salt and from 220 ppm up to 280 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 230 ppm to 270 ppm copper salt, from 230 ppm to 270 ppm zinc salt and from 230 ppm up to 270 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 240 ppm to 260 ppm copper salt, from 240 ppm to 260 ppm zinc salt and from 240 ppm up to 260 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 250 ppm copper salt, 250 ppm zinc salt and 250 ppm iron salt.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 200 ppm до 300 ppm хлорида цинка, от 200 ppm до 300 ppm хлорида цинка и от 200 ppm до 300 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 210 ppm до 290 ppm хлорида цинка, от 210 ppm до 290 ppm хлорида цинка и от 210 ppm до 290 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 220 ppm до 280 ppm хлорида цинка, от 220 ppm до 280 ppm хлорида цинка и от 220 ppm до 280 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 230 ppm до 270 ppm хлорида цинка, от 230 ppm до 270 ppm хлорида цинка и от 230 ppm до 270 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 240 ppm до 260 ppm хлорида цинка, от 240 ppm до 260 ppm хлорида цинка и от 240 ppm до 260 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 250 ppm хлорида цинка, 250 ppm хлорида цинка и 250 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 200 ppm to 300 ppm zinc chloride, from 200 ppm to 300 ppm zinc chloride and from 200 ppm up to 300 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 210 ppm to 290 ppm zinc chloride, from 210 ppm to 290 ppm zinc chloride and from 210 ppm up to 290 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 220 ppm to 280 ppm zinc chloride, from 220 ppm to 280 ppm zinc chloride and from 220 ppm up to 280 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 230 ppm to 270 ppm zinc chloride, from 230 ppm to 270 ppm zinc chloride and from 230 ppm up to 270 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 240 ppm to 260 ppm zinc chloride, from 240 ppm to 260 ppm zinc chloride and from 240 ppm up to 260 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 250 ppm zinc chloride, 250 ppm zinc chloride and 250 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 250 ppm до 350 ppm соли меди, от 250 ppm до 350 ppm соли цинка и от 250 ppm до 350 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 260 ppm до 340 ppm соли меди, от 260 ppm до 340 ppm соли цинка и от 260 ppm до 340 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 270 ppm до 330 ppm соли меди, от 270 ppm до 330 ppm соли цинка и от 270 ppm до 330 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 280 ppm до 320 ppm соли меди, от 280 ppm до 320 ppm соли цинка и от 280 ppm до 320 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 290 ppm до 310 ppm соли меди, от 290 ppm до 310 ppm соли цинка и от 290 ppm до 310 ppm соли железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 300 ppm соли меди, 300 ppm соли цинка и 300 ppm соли железа.In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 250 ppm to 350 ppm copper salt, from 250 ppm to 350 ppm zinc salt and from 250 ppm up to 350 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 260 ppm to 340 ppm copper salt, from 260 ppm to 340 ppm zinc salt and from 260 ppm up to 340 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 270 ppm to 330 ppm copper salt, from 270 ppm to 330 ppm zinc salt and from 270 ppm up to 330 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 280 ppm to 320 ppm copper salt, from 280 ppm to 320 ppm zinc salt and from 280 ppm up to 320 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 290 ppm to 310 ppm copper salt, from 290 ppm to 310 ppm zinc salt and from 290 ppm up to 310 ppm iron salts. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 300 ppm copper salt, 300 ppm zinc salt and 300 ppm iron salt.

- 71 043933- 71 043933

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 1 ppm до 50 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 250 ppm до 350 ppm хлорида цинка, от 250 ppm до 350 ppm хлорида цинка и от 250 ppm до 350 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 5 ppm до 45 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 260 ppm до 340 ppm хлорида цинка, от 260 ppm до 340 ppm хлорида цинка и от 260 ppm до 340 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 10 ppm до 40 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 270 ppm до 330 ppm хлорида цинка, от 270 ppm до 330 ppm хлорида цинка и от 270 ppm до 330 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 15 ppm до 35 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 280 ppm до 320 ppm хлорида цинка, от 280 ppm до 320 ppm хлорида цинка и от 280 ppm до 320 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит от 20 ppm до 30 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, от 290 ppm до 310 ppm хлорида цинка, от 290 ppm до 310 ppm хлорида цинка и от 290 ppm до 310 ppm хлорида железа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, содержит 25 ppm хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, 300 ppm хлорида цинка, 300 ppm хлорида цинка и 300 ppm хлорида железа. Хлорид железа может представлять собой хлорид железа (II) или хлорид железа (III).In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 1 ppm to 50 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 250 ppm to 350 ppm zinc chloride, from 250 ppm to 350 ppm zinc chloride and from 250 ppm up to 350 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 5 ppm to 45 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 260 ppm to 340 ppm zinc chloride, from 260 ppm to 340 ppm zinc chloride and from 260 ppm up to 340 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 10 ppm to 40 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 270 ppm to 330 ppm zinc chloride, from 270 ppm to 330 ppm zinc chloride and from 270 ppm up to 330 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 15 ppm to 35 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 280 ppm to 320 ppm zinc chloride, from 280 ppm to 320 ppm zinc chloride and from 280 ppm up to 320 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains from 20 ppm to 30 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, from 290 ppm to 310 ppm zinc chloride, from 290 ppm to 310 ppm zinc chloride and from 290 ppm up to 310 ppm ferric chloride. In one aspect, according to this embodiment, the composition described in the present invention contains 25 ppm hypochlorous acid or free active chlorine, 300 ppm zinc chloride, 300 ppm zinc chloride and 300 ppm ferric chloride. The ferric chloride may be ferric chloride (II) or ferric chloride (III).

В аспектах согласно настоящему изобретению описан набор. В одном из вариантов реализации набор может включать емкость, содержащую композицию, описанную в настоящем изобретении. В другом варианте реализации набор может включать одну или более емкостей, при этом каждая из емкостей содержит отдельный компонент или комбинацию более одного отдельных компонентов, описанных в настоящем изобретении. Например, набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, и вторую емкость, содержащую одну или более металлических частиц. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, и вторую емкость, содержащую частицы смешанного оксида меди, цинка и железа. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую один или более спиртов, и вторую емкость, содержащую одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую изопропанол, и вторую емкость, содержащую полигексаметиленбигуанид. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, и вторую емкость, содержащую одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, и вторую емкость, содержащую диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид. Остальные компоненты композиции, описанной в настоящем изобретении, могут содержаться в первой или во второй емкости или могут раздельно содержаться в по меньшей мере третьей емкости. Например, в набор может быть включена третья емкость, содержащая раствор для промывания, описанный в настоящем изобретении. Упаковка отдельных компонентов в отдельную емкость может способствовать продлению срока стабильности отдельных компонентов и, таким образом, увеличению срока годности продукта.Aspects of the present invention describe a kit. In one embodiment, the kit may include a container containing a composition described in the present invention. In another embodiment, the kit may include one or more containers, each of the containers containing an individual component or a combination of more than one individual components described in the present invention. For example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid or free active chlorine and a second container containing one or more metal particles. As another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid or free active chlorine and a second container containing mixed copper-zinc-iron oxide particles. As another example, the kit may include a first container containing one or more alcohols and a second container containing one or more compounds containing a guanide moiety. As another example, the kit may include a first container containing isopropanol and a second container containing polyhexamethylene biguanide. As another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid or free active chlorine and a second container containing one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds. As another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid or free active chlorine and a second container containing dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride. The remaining components of the composition described in the present invention may be contained in the first or second container, or may be separately contained in at least a third container. For example, the kit may include a third container containing the rinsing solution described in the present invention. Packaging individual components in a separate container can help extend the stability of the individual components and thus increase the shelf life of the product.

В другом примере набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту и/или свободный активный хлор, вторую емкость, содержащую одну или более металлических частиц, и третью емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту и/или свободный активный хлор, вторую емкость, содержащую частицы смешанного оксида меди, цинка и железа, и третью емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую один или более спиртов, вторую емкость, содержащую одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент, и третью емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую изопропанол, вторую емкость, содержащую полигексаметиленбигуанид, и третью емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, вторую емкость, содержащую одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, и третью емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, вторую емкость, содержащую диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид, и третью емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую изопропанол, вторую емкость, содержащую полигексаметиленбигуанид, третью емкость, содержащую одно или более катионных поверхностно-активных веществ, и четвертую емкость, содержащую раствор для промывания.In another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid and/or free active chlorine, a second container containing one or more metal particles, and a third container containing a rinse solution. As another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid and/or free active chlorine, a second container containing mixed copper-zinc-iron oxide particles, and a third container containing a rinsing solution. As another example, the kit may include a first container containing one or more alcohols, a second container containing one or more guanide moiety-containing compounds, and a third container containing a wash solution. As another example, the kit may include a first container containing isopropanol, a second container containing polyhexamethylene biguanide, and a third container containing a rinse solution. As another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid or free active chlorine, a second container containing one or more quaternaries or organosilicon quaternaries, and a third container containing a rinse solution. As another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid or free active chlorine, a second container containing dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, and a third container containing a rinse solution. As another example, the kit may include a first container containing isopropanol, a second container containing polyhexamethylene biguanide, a third container containing one or more cationic surfactants, and a fourth container containing a wash solution.

В другом варианте реализации набор может включать первую емкость, содержащую композицию, описанную в настоящем изобретении, и вторую емкость, содержащую раствор для промывания, описанIn another embodiment, the kit may include a first container containing a composition described in the present invention and a second container containing a rinse solution described

- 72 043933 ный в настоящем изобретении. Например, набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту и/или свободный активный хлор и одну или более металлических частиц, и вторую емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту и/или свободный активный хлор и частицы смешанного оксида меди, цинка и железа, и вторую емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую один или более спиртов и одно или более соединений, содержащих гуанидный фрагмент, и вторую емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую изопропанол и полигексаметиленбигуанид, и вторую емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту и/или свободный активный хлор и одно или более четвертичных соединений или кремнийорганических четвертичных соединений, и вторую емкость, содержащую раствор для промывания. В качестве другого примера набор может включать первую емкость, содержащую хлорноватистую кислоту и/или свободный активный хлор и диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид, и вторую емкость, содержащую раствор для промывания. Остальные компоненты композиции, описанной в настоящем изобретении, могут содержаться в первой емкости или могут раздельно содержаться в по меньшей мере третьей емкости. Упаковка отдельных компонентов в отдельную емкость может способствовать продлению срока стабильности отдельных компонентов и, таким образом, увеличению срока годности продукта.- 72 043933 ny in the present invention. For example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid and/or free active chlorine and one or more metal particles, and a second container containing a rinsing solution. As another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid and/or free active chlorine and mixed copper-zinc-iron oxide particles and a second container containing a rinsing solution. As another example, the kit may include a first container containing one or more alcohols and one or more guanide moiety-containing compounds, and a second container containing a wash solution. As another example, the kit may include a first container containing isopropanol and polyhexamethylene biguanide and a second container containing a rinse solution. As another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid and/or free active chlorine and one or more quaternary compounds or organosilicon quaternary compounds, and a second container containing a rinsing solution. As another example, the kit may include a first container containing hypochlorous acid and/or free active chlorine and dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride and a second container containing a rinse solution. The remaining components of the composition described in the present invention may be contained in the first container or may be separately contained in at least a third container. Packaging individual components in a separate container can help extend the stability of the individual components and thus increase the shelf life of the product.

Набор, описанный в настоящем изобретении, может включать систему доставки или нанесения. Система доставки или нанесения набора является полезной для нанесения композиции, описанной в настоящем изобретении, и/или отдельных компонентов, описанных в настоящем изобретении, на интересующую область, такую как, например, поверхность устройства, описанного в настоящем изобретении. Система доставки или нанесения, описанная в настоящем изобретении, включает, без ограничений, одну или более щеточек-аппликаторов, тампонов или салфеток из пористой пены, полых трубочек, индикаторных полосок или их комбинацию. В одном из вариантов реализации набор включает одну систему доставки или нанесения. В другом варианте реализации набор включает множество систем доставки или нанесения. Например, набор, рассчитанный на 30 дней, может включать 30 систем доставки или нанесения, так что на каждый из 30 дней представлено по одной системе доставки или нанесения. Альтернативно, набор может включать 2, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 90, 120 и т.д. систем доставки или нанесения. Включенная в набор система доставки или нанесения может быть упакована отдельно или в виде наборов по 2 или более. Систему доставки или нанесения можно упаковывать таким образом, чтобы она оставалась стерильной до применения. В некоторых вариантах реализации систему доставки или нанесения, описанную в настоящем изобретении, можно упаковывать в пластмассовые емкости. Кроме того, для предотвращения загрязнения система доставки или нанесения, описанная в настоящем изобретении, предпочтительно представляет собой одноразовую систему доставки или нанесения.The kit described in the present invention may include a delivery or application system. A delivery or application kit system is useful for applying the composition described in the present invention and/or the individual components described in the present invention to an area of interest, such as, for example, the surface of a device described in the present invention. The delivery or application system described in the present invention includes, without limitation, one or more applicator brushes, foam swabs or wipes, hollow tubes, test strips, or a combination thereof. In one embodiment, the kit includes one delivery or application system. In another embodiment, the kit includes a plurality of delivery or application systems. For example, a 30-day kit may include 30 delivery or application systems, such that one delivery or application system is provided for each of the 30 days. Alternatively, the set may include 2, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 90, 120, etc. delivery or application systems. The included delivery or application system may be packaged individually or in sets of 2 or more. The delivery or application system may be packaged to remain sterile until use. In some embodiments, the delivery or application system described in the present invention can be packaged in plastic containers. In addition, to prevent contamination, the delivery or application system described in the present invention is preferably a disposable delivery or application system.

Набор также может включать комплект инструкций. Инструкции могут включать информацию, полезную для конечного пользователя, такую как описание применения системы доставки или нанесения для нанесения композиции и/или отдельных компонентов, описанных в настоящем изобретении, и/или описание частоты нанесения композиции и/или отдельных компонентов, описанных в настоящем изобретении. Кроме того, такие инструкции могут включать информацию о том, как смешивать отдельные компоненты, описанные в настоящем изобретении, с получением композиции, описанной в настоящем изобретении. Такие инструкции могут указывать, что смешивание следует проводить в определенное время перед нанесением, такое как, например, непосредственно перед применением. Инструкции, описанные в настоящем изобретении, также могут включать информацию о том, как наносить отдельные компоненты, описанные в настоящем изобретении, непосредственно на интересующую область, такую как, например, поверхность устройства, описанного в настоящем изобретении, и в каком порядке следует наносить отдельные компоненты на такие интересующие области.The kit may also include a set of instructions. The instructions may include information useful to the end user, such as a description of the use of the delivery or application system for applying the composition and/or individual components described in the present invention, and/or a description of the frequency of application of the composition and/or individual components described in the present invention. In addition, such instructions may include information on how to mix the individual components described in the present invention to obtain the composition described in the present invention. Such instructions may indicate that mixing should be carried out at a certain time before application, such as, for example, immediately before use. The instructions described in the present invention may also include information on how to apply the individual components described in the present invention directly to an area of interest, such as, for example, the surface of a device described in the present invention, and in what order the individual components should be applied to such areas of interest.

Содержимое набора, включая емкость, содержащую композицию или компонент, описанный в настоящем изобретении, систему доставки или нанесения и инструкции, помещают во внешний корпус. Внешний корпус может представлять собой коробку, запечатанный пакет, саше из фольги и т.п. В некоторых вариантах реализации систему доставки, емкость и инструкции помещают в коробку. В других вариантах реализации набора емкость и инструкции помещают в первую коробку, систему доставки помещают во вторую коробку и первую и вторую коробки помещают вместе в третью коробку.The contents of the kit, including the container containing the composition or component described in the present invention, the delivery or application system and instructions, are placed in an outer housing. The outer casing may be a box, a sealed bag, a foil sachet, etc. In some embodiments, the delivery system, container, and instructions are contained within a box. In other embodiments of the kit, the container and instructions are placed in a first box, the delivery system is placed in a second box, and the first and second boxes are placed together in a third box.

Описанные в настоящем изобретении композиции подходят для любого применения, включающего очистку, дезинфицирование или стерилизацию. В одном из вариантов реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, применяют для очистки, дезинфицирования или стерилизации устройства. В одном из вариантов реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, применяют для очистки, дезинфицирования или стерилизации эндоскопа. В одном из вариантов реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, применяют для очистки, дезинфицирования или стерилизации твердой поверхности. В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, подходит для любого применения, в котором наносят или вводят хлорноватистую кислоту.The compositions described in the present invention are suitable for any application involving cleaning, disinfection or sterilization. In one embodiment, the composition described in the present invention is used to clean, disinfect or sterilize a device. In one embodiment, the composition described in the present invention is used to clean, disinfect or sterilize an endoscope. In one embodiment, the composition described in the present invention is used to clean, disinfect or sterilize a hard surface. In one embodiment, the composition described in the present invention is suitable for any application in which hypochlorous acid is applied or administered.

В аспектах согласно настоящему изобретению описан способ очистки, дезинфицирования и/илиAspects of the present invention describe a method for cleaning, disinfecting and/or

- 73 043933 стерилизации устройства. В одном из вариантов реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает нанесение композиции, описанной в настоящем изобретении, на устройство на определенный период времени, при этом нанесение приводит к очистке, дезинфицированию и/или стерилизации устройства. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, дополнительно включает промывание очищенного, дезинфицированного и/или стерилизованного устройства раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации устройства, включая медицинское устройство. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации устройства, включая медицинское устройство.- 73 043933 sterilization of the device. In one embodiment, the method described in the present invention includes applying a composition described in the present invention to a device for a specified period of time, the application resulting in cleaning, disinfection and/or sterilization of the device. In another aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention further includes washing the cleaned, disinfected and/or sterilized device with a washing solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described in the present invention for use in cleaning, disinfecting and/or sterilizing a device, including a medical device. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a device, including a medical device.

В аспектах согласно настоящему изобретению описан способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации эндоскопа. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает нанесение композиции, описанной в настоящем изобретении, на эндоскоп на определенный период времени, при этом нанесение приводит к очистке, дезинфицированию и/или стерилизации эндоскопа. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, дополнительно включает промывание очищенного, дезинфицированного и/или стерилизованного эндоскопа раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации эндоскопа. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации эндоскопа.Aspects of the present invention describe a method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing an endoscope. In one aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention includes applying a composition described in the present invention to an endoscope for a specified period of time, the application resulting in cleaning, disinfection and/or sterilization of the endoscope. In another aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention further includes washing the cleaned, disinfected and/or sterilized endoscope with a rinsing solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in cleaning, disinfecting, and/or sterilizing an endoscope. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing an endoscope.

Устройство, включая медицинское устройство, очищают путем удаления видимых загрязнений, таких как, например, органический и неорганический материал, с объектов и поверхностей и очистку обычно осуществляют вручную или механически. Перед дезинфицированием и стерилизацией необходима тщательная очистка поскольку неорганические и органические материалы, которые остаются на поверхностях медицинского устройства, ухудшают эффективность указанных процессов.A device, including a medical device, is cleaned by removing visible contaminants, such as, for example, organic and inorganic material, from objects and surfaces, and cleaning is typically performed manually or mechanically. Thorough cleaning is necessary before disinfection and sterilization because inorganic and organic materials that remain on medical device surfaces impair the effectiveness of these processes.

Устройство, включая медицинское устройство, дезинфицируют путем уничтожения многих или всех патогенных микроорганизмов, за исключением бактериальных спор. Дезинфицирование является менее разрушительным по сравнению со стерилизацией, поскольку оно уничтожает большинство признанных патогенных микроорганизмов, но не обязательно все микробные формы (например, бактериальные споры). Медицинское устройство стерилизуют путем уничтожения или устранения всех форм микроорганизмов. Обеззараживание медицинского устройства удаляет патогенные микроорганизмы с медицинского устройства, чтобы его можно было безопасно использовать, применять или утилизировать.A device, including a medical device, is disinfected by destroying many or all pathogenic microorganisms, excluding bacterial spores. Disinfection is less destructive than sterilization because it destroys most recognized pathogens, but not necessarily all microbial forms (eg, bacterial spores). A medical device is sterilized by killing or eliminating all forms of microorganisms. Medical device decontamination removes pathogenic microorganisms from the medical device so that it can be safely used, applied, or disposed of.

Медицинское устройство представляет собой инструмент, аппарат, материал или другое изделие, которое можно применять индивидуально или в комбинации, включая программное обеспечение, необходимое для его применения, предназначенное производителем для применения у человека для диагностики, предотвращения, контролирования лечения или облегчения заболевания; диагностики, контролирования, лечения или облегчения травмы или дефекта или компенсации последствий травмы или дефекта; исследования, замены или модификации анатомии или физиологического процесса; или управления зачатием, и для процессов, которые не достигают своего основного предполагаемого действия в или на организме человека при помощи фармакологических, иммунологических или метаболических средств, но могут получать содействие в своем функционировании при помощи таких средств. Медицинское устройство включает, без ограничений, хирургический инструмент, инструмент для респираторной терапии, инструмент для анестезии, катетер, имплантат, зонд, эндоскоп, артроскоп, лапароскоп, лезвие, цистоскоп, спирометр, маску и трубки для СИПАП-терапии, инструмент и комплектующие для диализа, аппарат искусственного кровообращения для ЭКМО и комплектующие для него, аппарат искусственного кровообращения и комплектующие для него и кольцо для подгонки диафрагмы. Неограничивающие примеры зондов включают ультразвуковой зонд и зонд для манометрии пищевода. Неограничивающие примеры катетеров включают сердечный катетер, мочевой катетер, катетер для аноректальной манометрии. Неограничивающие примеры эндоскопов включают эндоскоп для желудочно-кишечного тракта, бронхоскоп и назофарингоскоп. Неограничивающие примеры лезвий включают клинок ларингоскопа.A medical device is an instrument, apparatus, material or other article that can be used individually or in combination, including software necessary for its use, intended by the manufacturer for use in humans to diagnose, prevent, monitor the treatment or alleviate a disease; diagnosing, monitoring, treating or alleviating an injury or defect or compensating for the consequences of an injury or defect; research, replacement or modification of anatomy or physiological process; or management of conception, and for processes which do not achieve their primary intended action in or on the human body by pharmacological, immunological or metabolic means, but may be assisted in their functioning by such means. The medical device includes, but is not limited to, a surgical instrument, a respiratory therapy instrument, an anesthesia instrument, a catheter, an implant, a probe, an endoscope, an arthroscope, a laparoscope, a blade, a cystoscope, a spirometer, a CPAP therapy mask and tubing, and a dialysis instrument and components. , heart-lung machine for ECMO and its components, heart-lung machine and accessories for it, and a ring for adjusting the diaphragm. Non-limiting examples of probes include an ultrasound probe and an esophageal manometry probe. Non-limiting examples of catheters include a cardiac catheter, a urinary catheter, an anorectal manometry catheter. Non-limiting examples of endoscopes include a gastrointestinal endoscope, a bronchoscope, and a nasopharyngoscope. Non-limiting examples of blades include a laryngoscope blade.

В аспектах согласно настоящему изобретению описан способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации области твердой поверхности. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает нанесение композиции, описанной в настоящем изобретении, на область твердой поверхности на определенный период времени, при этом нанесение приводит к очистке, дезинфицированию и/или стерилизации области твердой поверхности. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, дополнительно включает промывание очищенной, дезинфицированной и/или стерилизованной поверхности раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации области твердой поверхности. В других аспектах со- 74 043933 гласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации области твердой поверхности. Область твердой поверхности может представлять собой область пористой поверхности или область непористой поверхности.Aspects of the present invention describe a method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a hard surface area. In one aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention includes applying a composition described in the present invention to an area of a hard surface for a specified period of time, wherein the application results in cleaning, disinfecting and/or sterilizing the area of the hard surface. In another aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention further includes washing the cleaned, disinfected and/or sterilized surface with a rinsing solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in cleaning, disinfecting, and/or sterilizing a hard surface area. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a hard surface area. The solid surface region may be a porous surface region or a non-porous surface region.

В другом аспекте согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает нанесение одного или более отдельных компонентов, описанных в настоящем изобретении, на область твердой поверхности на определенный период времени, при этом нанесение приводит к очистке, дезинфицированию и/или стерилизации области твердой поверхности. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации один или более отдельных компонентов включают первый компонент, содержащий хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, и второй компонент, содержащий один или более дезинфицирующих агентов. В другом аспекте нанесение одного или более отдельных компонентов происходит в определенном порядке, таком как, например, сначала наносят первый компонент, содержащий хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор, а затем наносят второй компонент, содержащий один или более дезинфицирующих агентов. Область твердой поверхности может представлять собой область пористой поверхности или область непористой поверхности.In another aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention includes applying one or more of the individual components described in the present invention to an area of a hard surface for a specified period of time, wherein the application results in cleaning, disinfecting and/or sterilizing the area of the hard surface. surfaces. In one aspect, according to this embodiment, the one or more separate components include a first component containing hypochlorous acid or free active chlorine, and a second component containing one or more disinfectant agents. In another aspect, application of one or more individual components occurs in a specific order, such as, for example, first applying a first component containing hypochlorous acid or free active chlorine, and then applying a second component containing one or more disinfectant agents. The solid surface region may be a porous surface region or a non-porous surface region.

Область твердой поверхности может включать любые предметы, присутствующие в жилом или коммерческом, промышленном и/или сельскохозяйственном учреждении, таком как, например, больница, лаборатория, ресторан, учебный центр, предприятие пищевой промышленности, молокоперерабатывающее предприятие, аэропорт, нефтепромысловая система, спортивный комплекс, отгрузочный порт, центр грузовых перевозок и любые другие коммерческие или промышленные объекты. Область поверхности может включать любой тип транспортных перевозчиков, таких как, например, водное судно, такое как лодка, баржа или корабль, летательный аппарат, такой как самолет или вертолет, наземное транспортное средство, такое как мотоцикл, легковой автомобиль, грузовик или поезд. Область поверхности может быть изготовлена из любого материала, включая латунь, медь, алюминий, нержавеющую сталь, углеродистую сталь, резину, пластмассу, стекло, древесину, окрашенную поверхность или любую их комбинацию. Область поверхности включает, без ограничений, верхнюю поверхность стола, столешницу, пол, стену, потолок, окно, кровать, каталку, дверь, дверную ручку, душ, ванну, раковину, смеситель, унитаз, сиденье унитаза, слив, оборудование, технику, средства индивидуальной защиты, средства индивидуальной биологической защиты и т.п.The hard surface area may include any items found in a residential or commercial, industrial and/or agricultural establishment, such as, for example, a hospital, laboratory, restaurant, training center, food processing plant, dairy processing plant, airport, oil field system, sports complex, shipping port, freight transportation center, and any other commercial or industrial facility. The surface area may include any type of vehicle, such as, for example, a watercraft such as a boat, barge or ship, an aircraft such as an airplane or helicopter, a land vehicle such as a motorcycle, car, truck or train. The surface area can be made of any material, including brass, copper, aluminum, stainless steel, carbon steel, rubber, plastic, glass, wood, painted surface, or any combination thereof. Surface area includes, but is not limited to, table top, countertop, floor, wall, ceiling, window, bed, gurney, door, door handle, shower, bathtub, sink, faucet, toilet, toilet seat, drain, equipment, appliances, facilities personal protective equipment, personal biological protection equipment, etc.

Область поверхности может включать медицинское, стоматологическое, фармацевтическое, ветеринарное устройство или устройство для морга. Область поверхности может включать кожу человека.The surface area may include a medical, dental, pharmaceutical, veterinary, or mortuary device. The surface area may include human skin.

Композицию или компонент, описанные в настоящем изобретении, можно наносить на область твердой поверхности в соответствии со способом, описанным в настоящем изобретении, так часто, как это необходимо и/или желательно. Композицию, описанную в настоящем изобретении, можно наносить на область твердой поверхности ежедневно, через день, через два дня, раз в неделю, несколько раз в неделю, раз в месяц, несколько раз в месяц, раз в год или несколько раз в год, по желанию. Композицию, описанную в настоящем изобретении, можно наносить на область твердой поверхности несколько раз в день, например, два раза в день, три раза в день, четыре раза в день, пять раз в день, шесть раз в день или так часто, как это желательно.The composition or component described in the present invention can be applied to an area of a hard surface in accordance with the method described in the present invention, as often as necessary and/or desired. The composition described in the present invention can be applied to a hard surface area daily, every other day, every other day, once a week, several times a week, once a month, several times a month, once a year or several times a year, according to desire. The composition described in the present invention can be applied to a hard surface area several times a day, for example, twice a day, three times a day, four times a day, five times a day, six times a day, or as often as possible. desirable.

Описанные в настоящем изобретении композиции подходят для любого применения, включающего лечение пациента. Описанные в настоящем изобретении композиции подходят для любого применения, включающего медицинское применение, ветеринарное применение или оба указанных применения. В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, подходит для любого применения, в котором наносят или вводят хлорноватистую кислоту.The compositions described in the present invention are suitable for any application involving the treatment of a patient. The compositions described in the present invention are suitable for any use, including medical use, veterinary use, or both. In one embodiment, the composition described in the present invention is suitable for any application in which hypochlorous acid is applied or administered.

В одном из вариантов реализации описанные в настоящем изобретении композиции подходят для любого применения, включающего лечение ткани пациента. Например, композиции, описанные в настоящем изобретении, можно применять для лечения раны путем усиления ангиогенеза в области внутри и вокруг раны или содействия быстрому заживлению раны.In one embodiment, the compositions described herein are suitable for any application involving the treatment of patient tissue. For example, the compositions described in the present invention can be used to treat a wound by enhancing angiogenesis in the area in and around the wound or promoting rapid wound healing.

В одном из вариантов реализации описанные в настоящем изобретении композиции подходят для любого применения, включающего лечение раны у пациента. Например, композиции, описанные в настоящем изобретении, можно применять для лечения раны путем усиления ангиогенеза в области внутри и вокруг раны или содействия быстрому заживлению раны. Рана может представлять собой открытую рану, закрытую рану или ожог. Неограничивающие примеры открытых ран включают порез, царапину, рассечение, колотую рану, отрыв, язву и разрыв. Неограничивающие примеры закрытых ран включают синяк, ушиб и гематому.In one embodiment, the compositions described herein are suitable for any application involving the treatment of a wound on a patient. For example, the compositions described in the present invention can be used to treat a wound by enhancing angiogenesis in the area in and around the wound or promoting rapid wound healing. The wound may be an open wound, a closed wound, or a burn. Non-limiting examples of open wounds include cut, scrape, laceration, puncture wound, avulsion, ulcer and tear. Non-limiting examples of closed wounds include bruise, contusion, and hematoma.

В аспектах согласно настоящему изобретению описан способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации раны у пациента. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает нанесение композиции, описанной в настоящем изобретении, на рану на определенный период времени, причем нанесение приводит к очистке, дезинфицированию и/или стерилизации раны. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, дополнительно включает промывание очищенной, дезинфицированной и/или стерилизованной раны раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изо- 75 043933 бретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации раны. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации раны.Aspects of the present invention describe a method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a wound on a patient. In one aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention includes applying a composition described in the present invention to a wound for a specified period of time, the application resulting in cleaning, disinfecting and/or sterilizing the wound. In another aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention further includes rinsing the cleaned, disinfected and/or sterilized wound with a rinse solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described in the present invention for use in cleaning, disinfecting and/or sterilizing a wound. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a wound.

В аспектах согласно настоящему изобретению описан способ лечения раны у пациента. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает нанесение композиции, описанной в настоящем изобретении, на рану в течение определенного периода времени, причем нанесение способствует заживлению раны. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, дополнительно включает промывание обработанной раны раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для лечения раны. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для лечения раны. Рана может представлять собой наружную рану, например, на области поверхности пациента, или внутреннюю рану, расположенную в теле или полости тела пациента.In aspects of the present invention, a method of treating a wound in a patient is described. In one aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention includes applying a composition described in the present invention to a wound for a certain period of time, and the application promotes healing of the wound. In another aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention further includes washing the treated wound with a rinse solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in treating a wound. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for the treatment of a wound. The wound may be an external wound, such as on a surface area of the patient, or an internal wound located in the body or body cavity of the patient.

В одном из вариантов реализации описанные в настоящем изобретении композиции подходят для любого применения, включающего микробную инфекцию у пациента. Микробная инфекция включает вирусную инфекцию, бактериальную инфекцию и грибковую инфекцию. Микробная инфекция представлять собой наружную инфекцию, например, на области поверхности пациента, или внутреннюю инфекцию, например, инфекцию МРЗС (англ. mercer infection) или сепсис, локализованную в теле или полости тела пациента.In one embodiment, the compositions described herein are suitable for any application involving a microbial infection in a patient. Microbial infection includes viral infection, bacterial infection and fungal infection. A microbial infection can be an external infection, such as on a patient's surface area, or an internal infection, such as a Mercer infection or sepsis, located in the patient's body or body cavity.

В аспектах согласно настоящему изобретению описан способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации микробной инфекции у пациента. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает применение композиции, описанной в настоящем изобретении, на микробной инфекции в течение определенного периода времени, причем применение приводит к очистке, дезинфицированию и/или стерилизации микробной инфекции. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, дополнительно включает промывание очищенной, дезинфицированной и/или стерилизованной микробной инфекции раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации микробной инфекции. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации микробной инфекции.Aspects of the present invention describe a method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a microbial infection in a patient. In one aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention includes the use of a composition described in the present invention on a microbial infection for a certain period of time, the application resulting in cleaning, disinfection and/or sterilization of the microbial infection. In another aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention further includes washing the purified, disinfected and/or sterilized microbial infection with a washing solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in cleaning, disinfecting, and/or sterilizing a microbial infection. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a microbial infection.

В одном из вариантов реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, применяют для очистки, дезинфицирования или стерилизации части тела пациента. Неограничивающие примеры применений композиции, описанной в настоящем изобретении, включают очистку/дезинфицирование ткани при уходе за раной, предоперационной подготовке и хирургии или другой инвазивной процедуре, очистку/дезинфицирование области кожи при дерматологических применениях и очистку/дезинфицирование глаза при офтальмологических применениях.In one embodiment, the composition described in the present invention is used to clean, disinfect or sterilize a part of a patient's body. Non-limiting examples of uses of the composition described in the present invention include tissue cleaning/disinfection in wound care, preoperative preparation and surgery or other invasive procedure, skin area cleaning/disinfection in dermatological applications, and eye cleaning/disinfection in ophthalmic applications.

В аспектах согласно настоящему изобретению описан способ лечения микробной инфекции у пациента. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает применение композиции, описанной в настоящем изобретении, на микробной инфекции в течение определенного периода времени, причем применение приводит к сокращению, устранению и/или уничтожению микробов, вызывающих микробную инфекцию. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, дополнительно включает промывание обработанной микробной инфекции раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для лечения микробной инфекции. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для лечения микробной инфекции.In aspects of the present invention, a method of treating a microbial infection in a patient is described. In one aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention includes the use of a composition described in the present invention on a microbial infection for a certain period of time, the application resulting in the reduction, elimination and/or destruction of microbes causing the microbial infection. In another aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention further includes washing the treated microbial infection with a washing solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in treating a microbial infection. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for the treatment of a microbial infection.

Дерматологическое применение относится к очистке/дезинфицированию области кожи пациента с микробной инфекцией, такой как, например, вирусная, бактериальная или грибковая инфекция. Неограничивающие примеры микробных инфекций области кожи включают инфекцию мочевыводящих путей, инфекции, занесенные при использовании средства для очистки век и лечении катаракты, бородавки, кожный лейшманиоз, кандидозный вульвовагинит, дерматофитоз, бромгидроз, разноцветный лишай, юношеские угри, розацеа, гнойный гидраденит, псориаз, экзему, очаговую алопецию, красный плоский лишай ротовой полости, пигментную ксеродерму, актинический керотоз, мелазму, келоиды и инфекции, занесенные при омолаживающих процедурах.Dermatological application refers to the cleaning/disinfection of an area of skin of a patient with a microbial infection, such as, for example, a viral, bacterial or fungal infection. Non-limiting examples of microbial infections of the skin area include urinary tract infection, eyelid cleanser and cataract treatment infections, warts, cutaneous leishmaniasis, vulvovaginal candidiasis, dermatophytosis, bromhidrosis, lichen versicolor, juvenile acne, rosacea, hidradenitis suppurativa, psoriasis, eczema , alopecia areata, oral lichen planus, xeroderma pigmentosum, actinic kerotosis, melasma, keloids and infections acquired during anti-aging procedures.

Офтальмологическое применение относится к очистке/дезинфицированию глаза пациента с микробной инфекцией, такой как, например, вирусная, бактериальная или грибковая инфекция. Неограничивающие примеры микробных инфекций глаза включают бактериальный конъюнктивит, вирусный конъюнктивит, эпидемический кератоконъюнктивит, фарингоконъюнктивальную лихорадку, ячмень, блефарит, эписклерит, кератит, трахому и язву роговицы.Ophthalmic use relates to cleaning/disinfecting the eye of a patient with a microbial infection, such as, for example, a viral, bacterial or fungal infection. Non-limiting examples of microbial infections of the eye include bacterial conjunctivitis, viral conjunctivitis, epidemic keratoconjunctivitis, pharyngoconjunctival fever, styes, blepharitis, episcleritis, keratitis, trachoma and corneal ulcers.

- 76 043933- 76 043933

Описанные в настоящем изобретении композиции подходят для любого применения, включающего лечение и/или обеспечения облегчения воспаления, ломоты и/или боли у пациента.The compositions described herein are suitable for any use involving treating and/or providing relief from inflammation, aches and/or pain in a patient.

В аспектах согласно настоящему изобретению описан способ лечения воспаления, ломоты и/или боли у пациента. В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает нанесение композиции, описанной в настоящем изобретении, на область воспаления, ломоты и/или боли в течение определенного периода времени, причем нанесение приводит к ослаблению и/или устранению боли. В другом аспекте согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, дополнительно включает промывание обработанной области раствором для промывания, описанным в настоящем изобретении. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для лечения воспаления, ломоты и/или боли. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для лечения воспаления, ломоты и/или боли.Aspects of the present invention describe a method of treating inflammation, aches and/or pain in a patient. In one aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention includes applying a composition described in the present invention to an area of inflammation, aches and/or pain for a certain period of time, the application resulting in relief and/or elimination of pain. In another aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention further includes washing the treated area with a rinse solution described in the present invention. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in treating inflammation, aches and/or pain. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for the treatment of inflammation, aches and/or pain.

Описанные в настоящем изобретении композиции подходят для энтерального и парентерального применения, включая пероральное, инъекционное и местное применение. Например, композиции, описанные в настоящем изобретении, можно применять для очистки, дезинфицирования или стерилизации области тела, поврежденной раной или инфицированной микробом.The compositions described in the present invention are suitable for enteral and parenteral use, including oral, injectable and topical use. For example, the compositions described in the present invention can be used to clean, disinfect or sterilize an area of the body that has been damaged by a wound or infected with a microbe.

В одном из аспектов согласно указанному варианту реализации способ, описанный в настоящем изобретении, включает применение композиции, описанной в настоящем изобретении, на пациенте в течение определенного периода времени, при этом применение приводит к очистке, дезинфицированию и/или стерилизации микробной инфекции у пациента. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для применения для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации микробной инфекции у пациента. В других аспектах согласно настоящему изобретению описано применение описанной композиции для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации микробной инфекции у пациента. В других аспектах согласно настоящему изобретению описана композиция, описанная в настоящем изобретении, для производства лекарственного средства для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации микробной инфекции у пациента.In one aspect, according to this embodiment, the method described in the present invention includes the use of a composition described in the present invention on a patient for a certain period of time, the use resulting in the cleaning, disinfection and/or sterilization of a microbial infection in the patient. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for use in cleaning, disinfecting, and/or sterilizing a microbial infection in a patient. In other aspects, the present invention describes the use of the described composition for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a microbial infection in a patient. In other aspects, the present invention provides a composition described herein for the production of a medicament for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a microbial infection in a patient.

В способе и/или применении, описанных в настоящем изобретении, композицию, описанную в настоящем изобретении, применяют на пациенте. Пациент представляет собой любое животное, включая, без ограничений, рыбу, амфибию, птицу или млекопитающее. Млекопитающее включает человека, лошадь, корову, овцу, собаку и кошку. Таким образом, способ, описанный в настоящем изобретении, предназначен для применения на людях, а также для ветеринарного применения.In the method and/or use described in the present invention, the composition described in the present invention is used on a patient. The patient is any animal, including, without limitation, a fish, amphibian, bird or mammal. Mammal includes human, horse, cow, sheep, dog and cat. Thus, the method described in the present invention is intended for use in humans as well as for veterinary use.

При применении на пациенте композицию, описанную в настоящем изобретении, можно наносить на поверхность кожи или можно вводить внутрь. В одном из вариантов реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, наносят местно на область кожи пациента для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации области кожи. Область кожи включает, без ограничений, лицо, лоб, губы, кожу головы, шею, плечи, руки, ладони, бедра, ноги, колени, ступни, грудную клетку, грудь, спину, пах, ягодицы и т.п.When used on a patient, the composition described in the present invention can be applied to the surface of the skin or can be administered orally. In one embodiment, the composition described in the present invention is applied topically to an area of the patient's skin to clean, disinfect and/or sterilize the area of skin. The skin area includes, but is not limited to, the face, forehead, lips, scalp, neck, shoulders, arms, hands, thighs, legs, knees, feet, chest, chest, back, groin, buttocks, and the like.

В одном из вариантов реализации композиция, описанная в настоящем изобретении, предназначается для внутреннего применения пациентом. Такие способы введения включают энтеральные способы введения и парентеральные способы введения.In one embodiment, the composition described in the present invention is intended for internal use by a patient. Such routes of administration include enteral routes of administration and parenteral routes of administration.

Композицию, описанную в настоящем изобретении, можно наносить в соответствии со способом, описанным в настоящем изобретении, на область кожи. Нанесение композиции, описанной в настоящем изобретении, можно осуществлять путем растирания, наливания, опрыскивания или распыления или иным способом нанесения на тело человека. Композицию, описанную в настоящем изобретении, можно наносить путем введения композиции в твердую подложку или на твердую подложку, такую как, например, салфетка, влажная салфетка, полотенце, рукавица, перчатка или маска, с последующим нанесением композиции на область кожи. Композицию, описанную в настоящем изобретении, можно наносить с применением устройства для доставки, такого как, например, аэрозольный распылитель, пульверизатор, курковый распылитель, легкосжимаемая бутылка, пластырь для местного нанесения, трансдермальный пластырь или кожный имплантат, для нанесения композиции на область кожи.The composition described in the present invention can be applied in accordance with the method described in the present invention to an area of the skin. Application of the composition described in the present invention can be carried out by rubbing, pouring, spraying or dispersing or otherwise applying to the human body. The composition described in the present invention can be applied by introducing the composition into or onto a solid support, such as, for example, a napkin, wet wipe, towel, mitten, glove or mask, and then applying the composition to the skin area. The composition described in the present invention can be applied using a delivery device, such as, for example, an aerosol spray, a spray bottle, a trigger spray, a squeeze bottle, a topical patch, a transdermal patch, or a dermal implant, to apply the composition to an area of the skin.

Композицию, описанную в настоящем изобретении, можно применять на пациенте в соответствии со способом, описанным в настоящем изобретении, так часто, как это необходимо и/или желательно. Композицию, описанную в настоящем изобретении, можно применять на пациенте ежедневно, через день, через два дня, раз в неделю, несколько раз в неделю, раз в месяц, несколько раз в месяц, раз в год или несколько раз в год, по желанию. Композицию, описанную в настоящем изобретении, можно применять на пациенте несколько раз в день, например, два раза в день, три раза в день, четыре раза в день, пять раз в день, шесть раз в день или так часто, как это желательно.The composition described in the present invention can be administered to a patient in accordance with the method described in the present invention, as often as necessary and/or desired. The composition described in the present invention can be administered to a patient daily, every other day, every other day, once a week, several times a week, once a month, several times a month, once a year, or several times a year, as desired. The composition described in the present invention can be administered to a patient several times a day, for example, twice a day, three times a day, four times a day, five times a day, six times a day, or as often as desired.

Описанные в настоящем изобретении композиции подходят для применения при производстве пищевых продуктов, птицы, мяса, овощей. Например, композиции, описанные в настоящем изобретении, можно применять для очистки, дезинфицирования или стерилизации оборудования, инструментов, столов, помещений, включая полы, потолки и стены, и любых других твердых поверхностей от микробного загрязнения.The compositions described in the present invention are suitable for use in the production of food products, poultry, meat, and vegetables. For example, the compositions described in the present invention can be used to clean, disinfect or sterilize equipment, instruments, tables, rooms, including floors, ceilings and walls, and any other hard surfaces from microbial contamination.

- 77 043933- 77 043933

Описанные в настоящем изобретении композиции подходят для применения в составах для растений в качестве консерванта или пестицида. Например, композиции, описанные в настоящем изобретении, можно применять для очистки, дезинфицирования или стерилизации растения, поврежденного раной или инфицированного микробом.The compositions described in the present invention are suitable for use in plant formulations as a preservative or pesticide. For example, the compositions described in the present invention can be used to clean, disinfect or sterilize a plant that has been wounded or infected with a microbe.

Описанные в настоящем изобретении композиции подходят для применения в составах для срезанных цветов для продления периода свежести и здоровья. Например, композиции, описанные в настоящем изобретении, можно применять для очистки, дезинфицирования или стерилизации среза срезанного цветка или для предотвращения микробной инфекции.The compositions described in the present invention are suitable for use in cut flower formulations to prolong the period of freshness and health. For example, the compositions described in the present invention can be used to clean, disinfect or sterilize a cut flower or to prevent microbial infection.

В описанном способе и/или применении композицию, описанную в настоящем изобретении, наносят на определенный период времени. В одном из вариантов реализации определенный период времени представляет собой время, достаточное для очистки медицинского устройства, поверхности или пациента. В другом варианте реализации определенный период времени представляет собой время, достаточное для дезинфицирования медицинского устройства, поверхности или пациента. В другом варианте реализации определенный период времени представляет собой время, достаточное для стерилизации медицинского устройства, поверхности или пациента.In the described method and/or application, the composition described in the present invention is applied for a certain period of time. In one embodiment, the specified period of time is a time sufficient to clean the medical device, surface, or patient. In another embodiment, the specified period of time is a time sufficient to disinfect the medical device, surface, or patient. In another embodiment, the specified period of time is a time sufficient to sterilize the medical device, surface, or patient.

В аспектах согласно указанному варианту реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, наносят на устройство, такое как медицинское устройство, поверхность или применяют на пациенте в течение периода времени, составляющего, например, примерно 1 мин, примерно 5 мин, примерно 10 мин, примерно 15 мин, примерно 20 мин, примерно 25 мин, примерно 30 мин, примерно 35 мин, примерно 40 мин, примерно 45 мин, примерно 50 мин, примерно 55 мин, примерно 60 мин, примерно 70 мин, примерно 80 мин, примерно 90 мин, примерно 100 мин, примерно 110 мин или примерно 120 мин. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, наносят на устройство, такое как медицинское устройство, поверхность или применяют на пациенте в течение периода времени, составляющего, например, по меньшей мере 1 мин, по меньшей мере 5 мин, по меньшей мере 10 мин, по меньшей мере 15 мин, по меньшей мере 20 мин, по меньшей мере 25 мин, по меньшей мере 30 мин, по меньшей мере 35 мин, по меньшей мере 40 мин, по меньшей мере 45 мин, по меньшей мере 50 мин, по меньшей мере 55 мин, по меньшей мере 60 мин, по меньшей мере 70 мин, по меньшей мере 80 мин, по меньшей мере 90 мин, по меньшей мере 100 мин, по меньшей мере 110 мин или по меньшей мере 120 мин. В других аспектах согласно указанному варианту реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, наносят на устройство, такое как медицинское устройство, поверхность или применяют на пациенте в течение периода времени, составляющего, например, не более 1 мин, не более 5 мин, не более 10 мин, не более 15 мин, не более 20 мин, не более 25 мин, не более 30 мин, не более 35 мин, не более 40 мин, не более 45 мин, не более 50 мин, не более 55 мин, не более 60 мин, не более 70 мин, не более 80 мин, не более 90 мин, не более 100 мин, не более 110 мин или не более 120 мин.In aspects according to this embodiment, the composition described in the present invention is applied to a device, such as a medical device, surface, or applied to a patient for a period of time of, for example, about 1 minute, about 5 minutes, about 10 minutes, about 15 min, about 20 min, about 25 min, about 30 min, about 35 min, about 40 min, about 45 min, about 50 min, about 55 min, about 60 min, about 70 min, about 80 min, about 90 min, about 100 minutes, about 110 minutes or about 120 minutes. In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is applied to a device, such as a medical device, a surface, or applied to a patient for a period of time of, for example, at least 1 minute, at least 5 minutes, at least 10 minutes, at least 15 minutes, at least 20 minutes, at least 25 minutes, at least 30 minutes, at least 35 minutes, at least 40 minutes, at least 45 minutes, at least 50 minutes, at least 55 minutes, at least 60 minutes, at least 70 minutes, at least 80 minutes, at least 90 minutes, at least 100 minutes, at least 110 minutes or at least 120 minutes . In other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is applied to a device, such as a medical device, surface, or applied to a patient for a period of time of, for example, no more than 1 minute, no more than 5 minutes, no more than 10 min, no more than 15 minutes, no more than 20 minutes, no more than 25 minutes, no more than 30 minutes, no more than 35 minutes, no more than 40 minutes, no more than 45 minutes, no more than 50 minutes, no more than 55 minutes, no more than 60 min, no more than 70 minutes, no more than 80 minutes, no more than 90 minutes, no more than 100 minutes, no more than 110 minutes or no more than 120 minutes.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации композицию, описанную в настоящем изобретении, наносят на устройство, такое как медицинское устройство, поверхность или применяют на пациенте в течение периода времени, составляющего, например, от примерно 1 мин до примерно 5 мин, от примерно 1 мин до примерно 10 мин, от примерно 1 мин до примерно 15 мин, от примерно 1 мин до примерно 20 мин, от примерно 1 мин до примерно 25 мин, от примерно 1 мин до примерно 30 мин, от примерно 1 мин до примерно 35 мин, от примерно 1 мин до примерно 40 мин, от примерно 1 мин до примерно 45 мин, от примерно 1 мин до примерно 50 мин, от примерно 1 мин до примерно 55 мин, от примерно 1 мин до примерно 60 мин, от примерно 5 мин до примерно 10 мин, от примерно 5 мин до примерно 15 мин, от примерно 5 мин до примерно 20 мин, от примерно 5 мин до примерно 25 мин, от примерно 5 мин до примерно 30 мин, от примерно 5 мин до примерно 35 мин, от примерно 5 мин до примерно 40 мин, от примерно 5 мин до примерно 45 мин, от примерно 5 мин до примерно 50 мин, от примерно 5 мин до примерно 55 мин, от примерно 5 мин до примерно 60 мин, от примерно 5 мин до примерно 70 мин, от примерно 5 мин до примерно 80 мин, от примерно 5 мин до примерно 90 мин, от примерно 5 мин до примерно 100 мин, от примерно 5 мин до примерно 110 мин, от примерно 5 мин до примерно 120 мин, от примерно 10 мин до примерно 15 мин, от примерно 10 мин до примерно 20 мин, от примерно 10 мин до примерно 25 мин, от примерно 10 мин до примерно 30 мин, от примерно 10 мин до примерно 35 мин, от примерно 10 мин до примерно 40 мин, от примерно 10 мин до примерно 45 мин, от примерно 10 мин до примерно 50 мин, от примерно 10 мин до примерно 55 мин, от примерно 10 мин до примерно 60 мин, от примерно 10 мин до примерно 70 мин, от примерно 10 мин до примерно 80 мин, от примерно 10 мин до примерно 90 мин, от примерно 10 мин до примерно 100 мин, от примерно 10 мин до примерно 110 мин, от примерно 10 мин до примерно 120 мин, от примерно 15 мин до примерно 20 мин, от примерно 15 мин до примерно 25 мин, от примерно 15 мин до примерно 30 мин, от примерно 15 мин до примерно 35 мин, от примерно 15 мин до примерно 40 мин, от примерно 15 мин до примерно 45 мин, от примерно 15 мин до примерно 50 мин, от примерно 15 мин до примерно 55 мин, от примерно 15 мин до примерно 60 мин, от примерно 15 мин до примерно 70 мин, от примерно 15 мин до примерно 80 мин, от примерно 15 мин до примерно 90 мин, от примерно 15 мин до примерно 100 мин, от примерно 15 мин до примерно 110 мин, от примерно 15 мин до примерно 120 мин, от примерно 20 мин до примерноIn other aspects, according to this embodiment, the composition described in the present invention is applied to a device, such as a medical device, surface, or applied to a patient for a period of time of, for example, from about 1 minute to about 5 minutes, from about 1 minute to about 10 minutes, from about 1 minute to about 15 minutes, from about 1 minute to about 20 minutes, from about 1 minute to about 25 minutes, from about 1 minute to about 30 minutes, from about 1 minute to about 35 minutes, from about 1 minute to about 40 minutes, from about 1 minute to about 45 minutes, from about 1 minute to about 50 minutes, from about 1 minute to about 55 minutes, from about 1 minute to about 60 minutes, from about 5 minutes to about 10 minutes, from about 5 minutes to about 15 minutes, from about 5 minutes to about 20 minutes, from about 5 minutes to about 25 minutes, from about 5 minutes to about 30 minutes, from about 5 minutes to about 35 minutes, from about 5 minutes to about 40 minutes, about 5 minutes to about 45 minutes, about 5 minutes to about 50 minutes, about 5 minutes to about 55 minutes, about 5 minutes to about 60 minutes, about 5 minutes to about 70 minutes, from about 5 minutes to about 80 minutes, from about 5 minutes to about 90 minutes, from about 5 minutes to about 100 minutes, from about 5 minutes to about 110 minutes, from about 5 minutes to about 120 minutes, from about 10 minutes to about 15 minutes, from about 10 minutes to about 20 minutes, from about 10 minutes to about 25 minutes, from about 10 minutes to about 30 minutes, from about 10 minutes to about 35 minutes, from about 10 minutes to about 40 min, from about 10 min to about 45 min, from about 10 min to about 50 min, from about 10 min to about 55 min, from about 10 min to about 60 min, from about 10 min to about 70 min, from about 10 min to about 80 min, from about 10 min to about 90 min, from about 10 min to about 100 min, from about 10 min to about 110 min, from about 10 min to about 120 min, from about 15 min to about 20 min , from about 15 minutes to about 25 minutes, from about 15 minutes to about 30 minutes, from about 15 minutes to about 35 minutes, from about 15 minutes to about 40 minutes, from about 15 minutes to about 45 minutes, from about 15 minutes to about 50 minutes, from about 15 minutes to about 55 minutes, from about 15 minutes to about 60 minutes, from about 15 minutes to about 70 minutes, from about 15 minutes to about 80 minutes, from about 15 minutes to about 90 minutes, from about 15 minutes to about 100 minutes, from about 15 minutes to about 110 minutes, from about 15 minutes to about 120 minutes, from about 20 minutes to about

- 78 043933 мин, от примерно 20 мин до примерно 30 мин, от примерно 20 мин до примерно 35 мин, от примерно 20 мин до примерно 40 мин, от примерно 20 мин до примерно 45 мин, от примерно 20 мин до примерно 50 мин, от примерно 20 мин до примерно 55 мин, от примерно 20 мин до примерно 60 мин, от примерно 20 мин до примерно 70 мин, от примерно 20 мин до примерно 80 мин, от примерно 20 мин до примерно 90 мин, от примерно 20 мин до примерно 100 мин, от примерно 20 мин до примерно 110 мин, от примерно 20 мин до примерно 120 мин, от примерно 25 мин до примерно 30 мин, от примерно 25 мин до примерно 35 мин, от примерно 25 мин до примерно 40 мин, от примерно 25 мин до примерно 45 мин, от примерно 25 мин до примерно 50 мин, от примерно 25 мин до примерно 55 мин, от примерно 25 мин до примерно 60 мин, от примерно 25 мин до примерно 70 мин, от примерно 25 мин до примерно 80 мин, от примерно 25 мин до примерно 90 мин, от примерно 25 мин до примерно 100 мин, от примерно 25 мин до примерно 110 мин, от примерно 25 мин до примерно 120 мин, от примерно 30 мин до примерно 35 мин, от примерно 30 мин до примерно 40 мин, от примерно 30 мин до примерно 45 мин, от примерно 30 мин до примерно 50 мин, от примерно 30 мин до примерно 55 мин, от примерно 30 мин до примерно 60 мин, от примерно 30 мин до примерно 70 мин, от примерно 30 мин до примерно 80 мин, от примерно 30 мин до примерно 90 мин, от примерно 30 мин до примерно 100 мин, от примерно 30 мин до примерно 110 мин, от примерно 30 мин до примерно 120 мин, от примерно 35 мин до примерно 40 мин, от примерно 35 мин до примерно 45 мин, от примерно 35 мин до примерно 50 мин, от примерно 35 мин до примерно 55 мин, от примерно 35 мин до примерно 60 мин, от примерно 35 мин до примерно 70 мин, от примерно 35 мин до примерно 80 мин, от примерно 35 мин до примерно 90 мин, от примерно 35 мин до примерно 100 мин, от примерно 35 мин до примерно 110 мин, от примерно 35 мин до примерно 120 мин, от примерно 40 мин до примерно 45 мин, от примерно 40 мин до примерно 50 мин, от примерно 40 мин до примерно 55 мин, от примерно 40 мин до примерно 60 мин, от примерно 40 мин до примерно 70 мин, от примерно 40 мин до примерно 80 мин, от примерно 40 мин до примерно 90 мин, от примерно 40 мин до примерно 100 мин, от примерно 40 мин до примерно 110 мин, от примерно 40 мин до примерно 120 мин, от примерно 45 мин до примерно 50 мин, от примерно 45 мин до примерно 55 мин, от примерно 45 мин до примерно 60 мин, от примерно 45 мин до примерно 70 мин, от примерно 45 мин до примерно 80 мин, от примерно 45 мин до примерно 90 мин, от примерно 45 мин до примерно 100 мин, от примерно 45 мин до примерно 110 мин, от примерно 45 мин до примерно 120 мин, от примерно 50 мин до примерно 55 мин, от примерно 50 мин до примерно 60 мин, от примерно 50 мин до примерно 70 мин, от примерно 50 мин до примерно 80 мин, от примерно 50 мин до примерно 90 мин, от примерно 50 мин до примерно 100 мин, от примерно 50 мин до примерно 110 мин, от примерно 50 мин до примерно 120 мин, от примерно 55 мин до примерно 60 мин, от примерно 55 мин до примерно 70 мин, от примерно 55 мин до примерно 80 мин, от примерно 55 мин до примерно 90 мин, от примерно 55 мин до примерно 100 мин, от примерно 55 мин до примерно 110 мин, от примерно 55 мин до примерно 120 мин, от примерно 60 мин до примерно 70 мин, от примерно 60 мин до примерно 80 мин, от примерно 60 мин до примерно 90 мин, от примерно 60 мин до примерно 100 мин, от примерно 60 мин до примерно 110 мин, от примерно 60 мин до примерно 120 мин, от примерно 70 мин до примерно 80 мин, от примерно 70 мин до примерно 90 мин, от примерно 70 мин до примерно 100 мин, от примерно 70 мин до примерно 110 мин, от примерно 70 мин до примерно 120 мин, от примерно 80 мин до примерно 90 мин, от примерно 80 мин до примерно 100 мин, от примерно 80 мин до примерно 110 мин, от примерно 80 мин до примерно 120 мин, от примерно 90 мин до примерно 100 мин, от примерно 90 мин до примерно 110 мин, от примерно 90 мин до примерно 120 мин, от примерно 100 мин до примерно 110 мин, от примерно 100 мин до примерно 120 мин или от примерно 110 мин до примерно 120 мин.- 78 043933 min, from about 20 min to about 30 min, from about 20 min to about 35 min, from about 20 min to about 40 min, from about 20 min to about 45 min, from about 20 min to about 50 min, from about 20 minutes to about 55 minutes, from about 20 minutes to about 60 minutes, from about 20 minutes to about 70 minutes, from about 20 minutes to about 80 minutes, from about 20 minutes to about 90 minutes, from about 20 minutes to about 100 minutes, from about 20 minutes to about 110 minutes, from about 20 minutes to about 120 minutes, from about 25 minutes to about 30 minutes, from about 25 minutes to about 35 minutes, from about 25 minutes to about 40 minutes, from about 25 minutes to about 45 minutes, about 25 minutes to about 50 minutes, about 25 minutes to about 55 minutes, about 25 minutes to about 60 minutes, about 25 minutes to about 70 minutes, about 25 minutes to about 80 minutes, from about 25 minutes to about 90 minutes, from about 25 minutes to about 100 minutes, from about 25 minutes to about 110 minutes, from about 25 minutes to about 120 minutes, from about 30 minutes to about 35 minutes, from about 30 minutes to about 40 minutes, from about 30 minutes to about 45 minutes, from about 30 minutes to about 50 minutes, from about 30 minutes to about 55 minutes, from about 30 minutes to about 60 minutes, from about 30 minutes to about 70 min, from about 30 min to about 80 min, from about 30 min to about 90 min, from about 30 min to about 100 min, from about 30 min to about 110 min, from about 30 min to about 120 min, from about 35 min to about 40 min, from about 35 min to about 45 min, from about 35 min to about 50 min, from about 35 min to about 55 min, from about 35 min to about 60 min, from about 35 min to about 70 min , from about 35 minutes to about 80 minutes, from about 35 minutes to about 90 minutes, from about 35 minutes to about 100 minutes, from about 35 minutes to about 110 minutes, from about 35 minutes to about 120 minutes, from about 40 minutes to about 45 minutes, from about 40 minutes to about 50 minutes, from about 40 minutes to about 55 minutes, from about 40 minutes to about 60 minutes, from about 40 minutes to about 70 minutes, from about 40 minutes to about 80 minutes, from about 40 minutes to about 90 minutes, from about 40 minutes to about 100 minutes, from about 40 minutes to about 110 minutes, from about 40 minutes to about 120 minutes, from about 45 minutes to about 50 minutes, from about 45 minutes to about 55 minutes, from about 45 minutes to about 60 minutes, from about 45 minutes to about 70 minutes, from about 45 minutes to about 80 minutes, from about 45 minutes to about 90 minutes, from about 45 minutes to about 100 minutes, from from about 45 minutes to about 110 minutes, from about 45 minutes to about 120 minutes, from about 50 minutes to about 55 minutes, from about 50 minutes to about 60 minutes, from about 50 minutes to about 70 minutes, from about 50 minutes to about 80 minutes, from about 50 minutes to about 90 minutes, from about 50 minutes to about 100 minutes, from about 50 minutes to about 110 minutes, from about 50 minutes to about 120 minutes, from about 55 minutes to about 60 minutes, from about 55 minutes to about 70 minutes, about 55 minutes to about 80 minutes, about 55 minutes to about 90 minutes, about 55 minutes to about 100 minutes, about 55 minutes to about 110 minutes, about 55 minutes to about 120 min, from about 60 min to about 70 min, from about 60 min to about 80 min, from about 60 min to about 90 min, from about 60 min to about 100 min, from about 60 min to about 110 min, from about 60 min to about 120 min, from about 70 min to about 80 min, from about 70 min to about 90 min, from about 70 min to about 100 min, from about 70 min to about 110 min, from about 70 min to about 120 min , from about 80 minutes to about 90 minutes, from about 80 minutes to about 100 minutes, from about 80 minutes to about 110 minutes, from about 80 minutes to about 120 minutes, from about 90 minutes to about 100 minutes, from about 90 minutes to about 110 minutes, from about 90 minutes to about 120 minutes, from about 100 minutes to about 110 minutes, from about 100 minutes to about 120 minutes, or from about 110 minutes to about 120 minutes.

Описанная композиция, способ и/или применение являются менее разрушительными для медицинского устройства, что приводит к более длительному сроку службы медицинского устройства. В аспектах согласно указанному варианту реализации медицинское устройство можно очищать, дезинфицировать и/или стерилизовать, например, примерно 50 раз, примерно 60 раз, примерно 70 раз, примерно 80 раз, примерно 90 раз, примерно 100 раз, примерно 110 раз, примерно 120 раз, примерно 130 раз, примерно 140 раз, примерно 150 раз, примерно 160 раз, примерно 170 раз, примерно 180 раз, примерно 190 раз, примерно 200 раз, примерно 210 раз, примерно 220 раз, примерно 230 раз, примерно 240 раз, примерно 250 раз, примерно 260 раз, примерно 270 раз, примерно 280 раз, примерно 290 раз или примерно 300 раз. В других аспектах согласно указанному варианту реализации медицинское устройство можно очищать, дезинфицировать и/или стерилизовать, например, по меньшей мере 50 раз, по меньшей мере 60 раз, по меньшей мере 70 раз, по меньшей мере 80 раз, по меньшей мере 90 раз, по меньшей мере 100 раз, по меньшей мере 110 раз, по меньшей мере 120 раз, по меньшей мере 130 раз, по меньшей мереThe described composition, method and/or use are less destructive to the medical device, resulting in a longer service life of the medical device. In aspects according to this embodiment, the medical device can be cleaned, disinfected and/or sterilized, for example, about 50 times, about 60 times, about 70 times, about 80 times, about 90 times, about 100 times, about 110 times, about 120 times , about 130 times, about 140 times, about 150 times, about 160 times, about 170 times, about 180 times, about 190 times, about 200 times, about 210 times, about 220 times, about 230 times, about 240 times, about 250 times, about 260 times, about 270 times, about 280 times, about 290 times, or about 300 times. In other aspects, according to this embodiment, the medical device can be cleaned, disinfected and/or sterilized, for example, at least 50 times, at least 60 times, at least 70 times, at least 80 times, at least 90 times, at least 100 times, at least 110 times, at least 120 times, at least 130 times, at least

140 раз, по меньшей мере 150 раз, по меньшей мере 160 раз, по меньшей мере 170 раз, по меньшей мере140 times, at least 150 times, at least 160 times, at least 170 times, at least

180 раз, по меньшей мере 190 раз, по меньшей мере 200 раз, по меньшей мере 210 раз, по меньшей мере180 times, at least 190 times, at least 200 times, at least 210 times, at least

220 раз, по меньшей мере 230 раз, по меньшей мере 240 раз, по меньшей мере 250 раз, по меньшей мере220 times, at least 230 times, at least 240 times, at least 250 times, at least

260 раз, по меньшей мере 270 раз, по меньшей мере 280 раз, по меньшей мере 290 раз или по меньшей мере 300 раз. В других аспектах согласно указанному варианту реализации медицинское устройство можно очищать, дезинфицировать и/или стерилизовать, например, не более 50 раз, не более 60 раз, не более 70 раз, не более 80 раз, не более 90 раз, не более 100 раз, не более 110 раз, не более 120 раз, не бо- 79 043933 лее 130 раз, не более 140 раз, не более 150 раз, не более 160 раз, не более 170 раз, не более 180 раз, не более 190 раз, не более 200 раз, не более 210 раз, не более 220 раз, не более 230 раз, не более 240 раз, не более 250 раз, не более 260 раз, не более 270 раз, не более 280 раз, не более 290 раз или не более 300 раз.260 times, at least 270 times, at least 280 times, at least 290 times or at least 300 times. In other aspects, according to this embodiment, the medical device can be cleaned, disinfected and/or sterilized, for example, no more than 50 times, no more than 60 times, no more than 70 times, no more than 80 times, no more than 90 times, no more than 100 times, no more than 110 times, no more than 120 times, no more than 79 043933 no more than 130 times, no more than 140 times, no more than 150 times, no more than 160 times, no more than 170 times, no more than 180 times, no more than 190 times, no more than 200 times, no more than 210 times, no more than 220 times, no more than 230 times, no more than 240 times, no more than 250 times, no more than 260 times, no more than 270 times, no more than 280 times, no more than 290 times or not more than 300 times.

В других аспектах согласно указанному варианту реализации медицинское устройство можно очищать, дезинфицировать и/или стерилизовать, например, от примерно 50 раз до примерно 60 раз, от примерно 50 раз до примерно 70 раз, от примерно 50 раз до примерно 80 раз, от примерно 50 раз до примерно 90 раз, от примерно 50 раз до примерно 100 раз, от примерно 50 раз до примерно 110 раз, от примерно 50 раз до примерно 120 раз, от примерно 50 раз до примерно 130 раз, от примерно 50 раз до примерно 140 раз, от примерно 50 раз до примерно 150 раз, от примерно 50 раз до примерно 175 раз, от примерно 50 раз до примерно 200 раз, от примерно 50 раз до примерно 225 раз, от примерно 50 раз до примерно 250 раз, от примерно 50 раз до примерно 275 раз, от примерно 50 раз до примерно 300 раз, от примерно 75 раз до примерно 90 раз, от примерно 75 раз до примерно 100 раз, от примерно 75 раз до примерно 110 раз, от примерно 75 раз до примерно 120 раз, от примерно 75 раз до примерно 130 раз, от примерно 75 раз до примерно 140 раз, от примерно 75 раз до примерно 150 раз, от примерно 75 раз до примерно 175 раз, от примерно 75 раз до примерно 200 раз, от примерно 75 раз до примерно 225 раз, от примерно 75 раз до примерно 250 раз, от примерно 75 раз до примерно 275 раз, от примерно 75 раз до примерно 300 раз, от примерно 100 раз до примерно 110 раз, от примерно 100 раз до примерно 120 раз, от примерно 100 раз до примерно 130 раз, от примерно 100 раз до примерно 140 раз, от примерно 100 раз до примерно 150 раз, от примерно 100 раз до примерно 175 раз, от примерно 100 раз до примерно 200 раз, от примерно 100 раз до примерно 225 раз, от примерно 100 раз до примерно 250 раз, от примерно 100 раз до примерно 275 раз, от примерно 100 раз до примерно 300 раз, от примерно 125 раз до примерно 150 раз, от примерно 125 раз до примерно 175 раз, от примерно 125 раз до примерно 200 раз, от примерно 125 раз до примерно 225 раз, от примерно 125 раз до примерно 250 раз, от примерно 125 раз до примерно 275 раз, от примерно 125 раз до примерно 300 раз, от примерно 150 раз до примерно 175 раз, от примерно 150 раз до примерно 200 раз, от примерно 150 раз до примерно 225 раз, от примерно 150 раз до примерно 250 раз, от примерно 150 раз до примерно 275 раз, от примерно 150 раз до примерно 300 раз, от примерно 175 раз до примерно 200 раз, от примерно 175 раз до примерно 225 раз, от примерно 175 раз до примерно 250 раз, от примерно 175 раз до примерно 275 раз, от примерно 175 раз до примерно 300 раз, от примерно 200 раз до примерно 225 раз, от примерно 200 раз до примерно 250 раз, от примерно 200 раз до примерно 275 раз, от примерно 200 раз до примерно 300 раз, от примерно 225 раз до примерно 250 раз, от примерно 225 раз до примерно 275 раз, от примерно 225 раз до примерно 300 раз, от примерно 250 раз до примерно 275 раз, от примерно 250 раз до примерно 300 раз или от примерно 275 раз до примерно 300 раз.In other aspects, according to this embodiment, the medical device can be cleaned, disinfected and/or sterilized, for example, from about 50 times to about 60 times, from about 50 times to about 70 times, from about 50 times to about 80 times, from about 50 times to about 90 times, about 50 times to about 100 times, about 50 times to about 110 times, about 50 times to about 120 times, about 50 times to about 130 times, about 50 times to about 140 times , from about 50 times to about 150 times, from about 50 times to about 175 times, from about 50 times to about 200 times, from about 50 times to about 225 times, from about 50 times to about 250 times, from about 50 times to about 275 times, from about 50 times to about 300 times, from about 75 times to about 90 times, from about 75 times to about 100 times, from about 75 times to about 110 times, from about 75 times to about 120 times, from about 75 times to about 130 times, from about 75 times to about 140 times, from about 75 times to about 150 times, from about 75 times to about 175 times, from about 75 times to about 200 times, from about 75 times to about 225 times, about 75 times to about 250 times, about 75 times to about 275 times, about 75 times to about 300 times, about 100 times to about 110 times, about 100 times to about 120 times, about about 100 times to about 130 times, about 100 times to about 140 times, about 100 times to about 150 times, about 100 times to about 175 times, about 100 times to about 200 times, about 100 times to about 225 times, about 100 times to about 250 times, about 100 times to about 275 times, about 100 times to about 300 times, about 125 times to about 150 times, about 125 times to about 175 times, about 125 times to about 200 times, about 125 times to about 225 times, about 125 times to about 250 times, about 125 times to about 275 times, about 125 times to about 300 times, about 150 times to about 175 times times, from about 150 times to about 200 times, from about 150 times to about 225 times, from about 150 times to about 250 times, from about 150 times to about 275 times, from about 150 times to about 300 times, from about 175 times to about 200 times, about 175 times to about 225 times, about 175 times to about 250 times, about 175 times to about 275 times, about 175 times to about 300 times, about 200 times to about 225 times , from about 200 times to about 250 times, from about 200 times to about 275 times, from about 200 times to about 300 times, from about 225 times to about 250 times, from about 225 times to about 275 times, from about 225 times to about 300 times, from about 250 times to about 275 times, from about 250 times to about 300 times, or from about 275 times to about 300 times.

Способ, описанный в настоящем изобретении, может дополнительно включать стадию промывания с применением раствора для промывания. Как правило, раствор для промывания применяют для промывания очищенного, дезинфицированного и/или стерилизованного медицинского устройства или поверхности. Раствор для промывания предпочтительно представляет собой стерильный раствор. В одном из вариантов реализации раствор для промывания, описанный в настоящем изобретении, содержит воду. В другом варианте реализации раствор для промывания, описанный в настоящем изобретении, содержит хлорноватистую кислоту или свободный активный хлор и воду. В другом варианте реализации раствор для промывания, описанный в настоящем изобретении, не содержит хлорноватистую кислоту и/или свободный активный хлор. При присутствии в наборе, описанном в настоящем изобретении, раствор для промывания содержится в отдельной емкости.The method described in the present invention may further include a washing step using a washing solution. Typically, a rinse solution is used to rinse a cleaned, disinfected and/or sterilized medical device or surface. The rinsing solution is preferably a sterile solution. In one embodiment, the rinse solution described in the present invention contains water. In another embodiment, the rinse solution described in the present invention contains hypochlorous acid or free active chlorine and water. In another embodiment, the rinse solution described in the present invention does not contain hypochlorous acid and/or free active chlorine. When present in the kit described in the present invention, the rinse solution is contained in a separate container.

Количество хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, содержащихся в растворе для промывания, описанном в настоящем изобретении, представляет собой любое количество, которое обеспечивает противомикробный эффект, при условии, что общее количество содержащихся хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора представляет собой количество, которое меньше порогового уровня, который приводит к окислению медицинского устройства или поверхности, как описано в настоящем изобретении. В аспектах согласно указанному варианту реализации количество хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, содержащихся в растворе для промывания, может составлять, например, примерно 5 ppm, примерно 10 ppm, примерно 20 ppm, примерно 30 ppm, примерно 40 ppm, примерно 50 ppm, примерно 60 ppm, примерно 70 ppm, примерно 80 ppm, примерно 90 ppm, примерно 100 ppm, примерно 110 ppm или примерно 120 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации количество хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, содержащихся в растворе для промывания, может составлять, например, не более 5 ppm, не более 10 ppm, не более 20 ppm, не более 30 ppm, не более 40 ppm, не более 50 ppm, не более 60 ppm, не более 70 ppm, не более 80 ppm, не более 90 ppm, не более 100 ppm, не более 110 ppm или не более 120 ppm. В других аспектах согласно указанному варианту реализации количество хлорноватистой кислоты или свободного активного хлора, содержащихся в растворе для промывания, может составлять, например, от примерно 5 ppm до примерно 10 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 5 ppm до примерноThe amount of hypochlorous acid or free active chlorine contained in the wash solution described in the present invention is any amount that provides an antimicrobial effect, provided that the total amount of hypochlorous acid or free active chlorine contained is an amount that is less than the threshold level , which results in oxidation of the medical device or surface as described in the present invention. In aspects of this embodiment, the amount of hypochlorous acid or free active chlorine contained in the rinsing solution may be, for example, about 5 ppm, about 10 ppm, about 20 ppm, about 30 ppm, about 40 ppm, about 50 ppm, about 60 ppm, about 70 ppm, about 80 ppm, about 90 ppm, about 100 ppm, about 110 ppm or about 120 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the amount of hypochlorous acid or free active chlorine contained in the rinsing solution may be, for example, no more than 5 ppm, no more than 10 ppm, no more than 20 ppm, no more than 30 ppm, no more than 40 ppm , no more than 50 ppm, no more than 60 ppm, no more than 70 ppm, no more than 80 ppm, no more than 90 ppm, no more than 100 ppm, no more than 110 ppm or no more than 120 ppm. In other aspects, according to this embodiment, the amount of hypochlorous acid or free active chlorine contained in the rinsing solution may be, for example, from about 5 ppm to about 10 ppm, from about 5 ppm to about 20 ppm, from about 5 ppm to about 30 ppm, from about 5 ppm to about 40 ppm, from about 5 ppm to about 50 ppm, from about 5 ppm to about 60 ppm, from about 5 ppm to about 70 ppm, from about 5 ppm to about

- 80 043933 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 5 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 20 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 10 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 30 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 20 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 30 ppm до примерно 40 ppm, от примерно 30 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 30 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 30 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 30 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 30 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 30 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 30 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 30 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 40 ppm до примерно 50 ppm, от примерно 40 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 40 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 40 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 40 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 40 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 40 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 40 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 60 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 50 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 60 ppm до примерно 70 ppm, от примерно 60 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 60 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 60 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 60 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 60 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 70 ppm до примерно 80 ppm, от примерно 70 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 70 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 70 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 70 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 80 ppm до примерно 90 ppm, от примерно 80 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 80 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 80 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 90 ppm до примерно 100 ppm, от примерно 90 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 90 ppm до примерно 120 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 110 ppm, от примерно 100 ppm до примерно 120 ppm или от примерно 110 ppm до примерно 120 ppm.- 80 043933 ppm, from about 5 ppm to about 90 ppm, from about 5 ppm to about 100 ppm, from about 5 ppm to about 110 ppm, from about 5 ppm to about 120 ppm, from about 10 ppm to about 20 ppm, from about 10 ppm to about 30 ppm, from about 10 ppm to about 40 ppm, from about 10 ppm to about 50 ppm, from about 10 ppm to about 60 ppm, from about 10 ppm to about 70 ppm, from about 10 ppm to about 80 ppm, from about 10 ppm to about 90 ppm, from about 10 ppm to about 100 ppm, from about 10 ppm to about 110 ppm, from about 10 ppm to about 120 ppm, from about 20 ppm to about 30 ppm, from about 20 ppm to about 40 ppm, about 20 ppm to about 50 ppm, about 20 ppm to about 60 ppm, about 20 ppm to about 70 ppm, about 20 ppm to about 80 ppm, about 20 ppm to about 90 ppm, from about 20 ppm to about 100 ppm, from about 20 ppm to about 110 ppm, from about 20 ppm to about 120 ppm, from about 30 ppm to about 40 ppm, from about 30 ppm to about 50 ppm, from about 30 ppm to about 60 ppm, from about 30 ppm to about 70 ppm, from about 30 ppm to about 80 ppm, from about 30 ppm to about 90 ppm, from about 30 ppm to about 100 ppm, from about 30 ppm to about 110 ppm, from about 30 ppm to about 120 ppm, from about 40 ppm to about 50 ppm, from about 40 ppm to about 60 ppm, from about 40 ppm to about 70 ppm, from about 40 ppm to about 80 ppm, from about 40 ppm to about 90 ppm, from about 40 ppm to about 100 ppm, from about 40 ppm to about 110 ppm, from about 40 ppm to about 120 ppm, from about 50 ppm to about 60 ppm, from about 50 ppm to about 70 ppm , from about 50 ppm to about 80 ppm, from about 50 ppm to about 90 ppm, from about 50 ppm to about 100 ppm, from about 50 ppm to about 110 ppm, from about 50 ppm to about 120 ppm, from about 60 ppm to about 70 ppm, from about 60 ppm to about 80 ppm, from about 60 ppm to about 90 ppm, from about 60 ppm to about 100 ppm, from about 60 ppm to about 110 ppm, from about 60 ppm to about 120 ppm, from about 70 ppm to about 80 ppm, from about 70 ppm to about 90 ppm, from about 70 ppm to about 100 ppm, from about 70 ppm to about 110 ppm, from about 70 ppm to about 120 ppm, from about 80 ppm to about 90 ppm, from about 80 ppm to about 100 ppm, from about 80 ppm to about 110 ppm, from about 80 ppm to about 120 ppm, from about 90 ppm to about 100 ppm, from about 90 ppm to about 110 ppm, from about 90 ppm to about 120 ppm, about 100 ppm to about 110 ppm, about 100 ppm to about 120 ppm, or about 110 ppm to about 120 ppm.

ПримерыExamples

Следующие неограничивающие примеры приведены только в иллюстративных целях для облегчения более полного понимания рассматриваемых вариантов реализации, приведенных в качестве примеров. Указанные примеры не следует считать ограничивающими любой из вариантов реализации, описанных в настоящем изобретении, включая варианты реализации, которые относятся к композициям, наборам, способам и применениям, описанным в настоящем изобретении.The following non-limiting examples are provided for illustrative purposes only to facilitate a more complete understanding of the contemplated exemplary embodiments. These examples should not be considered limiting to any of the embodiments described in the present invention, including embodiments that relate to the compositions, kits, methods and uses described in the present invention.

Пример 1. Композиции.Example 1. Compositions.

Указанный пример иллюстрирует способ получения композиции, описанной в настоящем изобретении. Компоненты, перечисленные ниже, смешивали при температуре окружающей среды с применением смесителя с высоким сдвиговым усилием до получения однородной смеси. pH смеси регулировали, как показано.This example illustrates a method for preparing the composition described in the present invention. The components listed below were mixed at ambient temperature using a high shear mixer until a homogeneous mixture was obtained. The pH of the mixture was adjusted as shown.

Таблица 1Table 1

Составы композицийCompositions

Компонент Component F72 F72 F73 F73 F74 F74 F75 F75 F76 F76 F77 F77 Хлорноватистая кислота/F АСС Hypochlorous acid/F AC C 273 ppm 273 ppm 273 ppm 273 ppm 273 ppm 273 ppm 273 ppm 273 ppm 273 ppm 273 ppm 273 ppm 273 ppm Частицы диоксида титана Titanium dioxide particles 50 ppm 50 ppm 100 ppm 100 ppm Частицы оксида цинка Zinc oxide particles 50 ppm 50 ppm 100 ppm 100 ppm DTSACla DTSACl a 100 ppm 100 ppm 200 ppm 200 ppm Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 5,5 5.5 6,3 6.3 4,1 4.1 3,9 3.9 3,9 3.9 3,6 3.6 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

- 81 043933- 81 043933

Составы композицийCompositions

Таблица 2table 2

Компонент Component F78 F78 F79 F79 F80 F80 F81 F81 F82 F82 F83 F83 Хлорноватистая кислота/F АСС Hypochlorous acid/F AC C 273 ррш 273 rrsh 273 ррш 273 rrsh 273 ррш 273 rrsh Частицы оксида меди Copper oxide particles 200 ррш 200 rrsh 300 ррш 300 rrsh DTSACla DTSACl a 300 ррш 300 rrsh 1% 1% 5% 5% 1% 1% Изопропанол Isopropanol 50% 50% 50% 50% 98% 98% Метанол Methanol 2% 2% 6% 6% 1% 1% Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 4,8 4.8 5,3 5.3 3,4 3.4 5,5 5.5 5,1 5.1 6,6 6.6 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле ъ q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient amount with FAC: - free active chlorine

Составы композицийCompositions

Таблица 3Table 3

Компонент Component F84 F84 F85 F85 F86 F86 F87 F87 F88 F88 F89 F89 Хлорноватистая кислота/F АСС Hypochlorous acid/F AC C 273 ррш 273 rrsh 273 ррш 273 rrsh 273 ррш 273 rrsh 273 ррш 273 rrsh 530 ppm 530 ppm Частицы диоксида титана Titanium dioxide particles 200 ррш 200 rrsh DTSACla DTSACl a 5% 5% Хлорид меди (I) Copper(I) chloride 300 ррш 300 rrsh Хлорид меди (II) Copper(II) chloride 300 ррш 300 rrsh Хлорид цинка Zinc chloride 300 ррш 300 rrsh Нитрат серебра Silver nitrate 300 ppm 300 ppm Изопропанол Isopropanol 88,4% 88.4% Метанол Methanol 6,6% 6.6% Вода Water q.s? q.s? q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 3,9 3.9 4,4 4.4 3,9 3.9 3,6 3.6 6,4 6.4 3,7 3.7 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

Составы композицийCompositions

Таблица 4Table 4

Компонент Component F90 F90 F91 F91 F92 F92 F93 F93 F94 F94 F95A F95A Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm Частицы оксида железа Iron oxide particles 300 ppm 300 ppm Частицы диоксида титана Titanium dioxide particles 100 ppm 100 ppm DTSACla DTSACl a 500 ppm 500 ppm Дидодецилдиметиламмония хлорид Didodecyldimethylammonium chloride 10% 10% 300 ppm 300 ppm 300 ppm 300 ppm Нитрат серебра Silver nitrate 200 ppm 200 ppm Изопропанол Isopropanol 50% 50% Вода Water q.s? q.s? q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 3,5 3.5 3,8 3.8 8,4 8.4 3,7 3.7 3,5 3.5 3,4 3.4 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид в 58% метаноле или воде b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride in 58% methanol or water b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

- 82 043933- 82 043933

Таблица 5Table 5

Составы композицийCompositions

Компонент Component F96 F96 F100 F100 F101 F101 F102 F102 F103 F103 F104 F104 Хлорноватистая кислота/F АСС Hypochlorous acid/F AC C 107 ppm 107 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm Частицы оксида серебра Silver oxide particles 200 ppm 200 ppm Частицы оксида цинка Zinc oxide particles 200 ppm 200 ppm DTSACla DTSACl a 100 ppm 100 ppm 5% 5% Дидодецилдиметиламмония хлорид Didodecyldimethylammonium chloride 5% 5% Хлорид меди (II) Copper(II) chloride 500 ppm 500 ppm Хлорид калия Potassium chloride 4000 ppm 4000 ppm Полигексаметиленбигуанид Polyhexamethylene biguanide 10% 10% 10% 10% Изопропанол Isopropanol 45% 45% 45% 45% Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 3,7 3.7 3,4 3.4 3,7 3.7 6,4 6.4 8,3 8.3 6,8 6.8 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient amount with FAC: - free active chlorine

Таблица 6Table 6

Составы композицийCompositions

Компонент Component F105 F105 F106 F106 F107 F107 F108 F108 F109 F109 F110 F110 Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm 530 ppm DTSACla DTSACl a 4% 4% 1000 ppm 1000 ppm Дидодецилдиметиламмония хлорид Didodecyldimethylammonium chloride 4% 4% Хлорид калия Potassium chloride 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm Фосфат калия Potassium phosphate 6000 ppm 6000 ppm 2000 ppm 2000 ppm 2000 PPm 2000 ppm Полигексаметиленбигуанид Polyhexamethylene biguanide 6% 6% 6% 6% Изопропанол Isopropanol 50% 50% 50% 50% Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 6,6 6.6 8,5 8.5 H,9 H.9 7,7 7.7 8,9 8.9 4,4 4.4 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient amount with FAC: - free active chlorine

Таблица 7Table 7

Составы композицийCompositions

Компонент Component F112 F112 F115 F115 F116 F116 F117 F117 F118 F118 F119 F119 Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 281 ppm 281 ppm 530 ppm 530 ppm 1933 ppm 1933 ppm Хлоргексидин Chlorhexidine 0,06% 0.06% 0,12% 0.12% DTSACla DTSACl a 2000 ppm 2000 ppm Ацетат цинка Zinc acetate 0,14% 0.14% 300 ppm 300 ppm 600 ppm 600 ppm Полигексаметиленбигуанид Polyhexamethylene biguanide 0,06% 0.06% 0,12% 0.12% Этанол Ethanol 15% 15% 15% 15% 15% 15% Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 7,6 7.6 7,3 7.3 6,9 6.9 5,4 5.4 5,4 5.4 3,7 3.7 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

- 83 043933- 83 043933

Таблица 8Table 8

Составы композицийCompositions

Компонент Component F120 F120 F121 F121 F122 F122 F123 F123 F124 F124 F125 F125 Хлорноватистая кислота/РАСс Hypochlorous acid/PAC with 105 ppm 105 ppm 105 ppm 105 ppm 500 ppm 500 ppm 281 ppm 281 ppm 281 ppm 281 ppm 530 ppm 530 ppm Частицы диоксида титана Titanium dioxide particles Частицы смешанного оксида меди, цинка и железа Mixed copper, zinc and iron oxide particles 300 ppm 300 ppm DTSACla DTSACl a 300 ppm 300 ppm 500 ppm 500 ppm Хлорид калия Potassium chloride 600 ppm 600 ppm 120 ppm 120 ppm Фосфат калия Potassium phosphate 2000 ppm 2000 ppm 400 ppm 400 ppm Нитрат серебра Silver nitrate 300 ppm 300 ppm 500 ppm 500 ppm Сульфат цинка Zinc sulfate 600 ppm 600 ppm Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 7,0 7.0 7,6 7.6 3,7 3.7 5,2 5.2 3,5 3.5 3,5 3.5 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

Таблица 9Table 9

Составы композицийCompositions

Компонент Component F126 F126 F127 F127 F128 F128 F129 F129 F130 F130 F131 F131 Хлорноватистая кислота/РАСс Hypochlorous acid/PAC with 281 ppm 281 ppm 530 ppm 530 ppm 600 ppm 600 ppm 278 ppm 278 ppm 1933 PPm 1933 ppm 600 ppm 600 ppm Частицы диоксида титана Titanium dioxide particles 100 ppm 100 ppm 100 ppm 100 ppm DTSACla Нитрат серебра Поли(акриловая кислота) ВодаDTSACl a Silver nitrate Poly(acrylic acid) Water 300 ppm 200 ppm q.s.b 300 ppm 200 ppm qs b 500 ppm 300 ppm q.s. 500 ppm 300 ppm q.s. 45% q.s. 45% q.s. 2% q.s. 2% q.s. 2% q.s. 2% q.s. 2% q.s. 2% q.s. pH pH 3,7 3.7 3,5 3.5 2,9 2.9 2,8 2.8 2,9 2.9 7,3 7.3 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид в 58( метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride in 58 ( methanol b qs: - sufficient amount with FAC: - free active chlorine /O

Таблица 10Table 10

Составы композицийCompositions

Компонент Component F132 F132 F133 F133 F134 F134 F135 F135 F138 F138 F139 F139 Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 1933 ppm 1933 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm DTSACla DTSACl a 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 1200 ppm 1200 ppm Нитрат серебра Silver nitrate 600 ppm 600 ppm Сульфат цинка Zinc sulfate 600 ppm 600 ppm Полигексаметиленбигуанид Polyhexamethylene biguanide 600 ppm 600 ppm 1200 ppm 1200 ppm Поли(акриловая кислота) Poly(acrylic acid) 2% 2% 2% 2% 2% 2% Цетилпиридиния хлорид Cetylpyridinium chloride 600 ppm 600 ppm Вода Water q.sb qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 2,7 2.7 2,9 2.9 2,9 2.9 4,0 4.0 3,0 3.0 3,0 3.0 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил]аммония хлорид в 58е метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride in 58 methanol b qs: - sufficient amount with FAC: - free active chlorine /O

- 84 043933- 84 043933

Таблица 11Table 11

Составы композицийCompositions

Компонент Component F140 F140 F141 F141 F142 F142 F143 F143 F144 F144 F145 F145 Хлорноватистая кислота/F ACd Hypochlorous acid/F AC d 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm Частицы смешанного оксида меди, цинка и железа Mixed copper, zinc and iron oxide particles 600 ppm 600 ppm 300 ppm 300 ppm DTSACla DTSACl a 600 ppm 600 ppm 1200 ppm 1200 ppm 600 ppm 600 ppm TTSAClb TTSACl b 500 ppm 500 ppm Полигексаметиленбигуанид Polyhexamethylene biguanide Opmo-фталевый альдегид Opmo-phthalaldehyde 600 ppm 600 ppm 600 ppm 600 ppm 1200 ppm 1200 ppm Вода Water q.s.c qs c q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 2,6 2.6 3,4 3.4 3,2 3.2 5,2 5.2 5,0 5.0 3,4 3.4 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b TTSAC1: тетрадецилдиметил-(3-триметоксисилил)пропиламмония хлорид в воде cq.s.: - достаточное количество d FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b TTSAC1: tetradecyldimethyl-(3-trimethoxysilyl)propylammonium chloride in water c qs: - sufficient quantity d FAC: - free active chlorine

Таблица 12Table 12

Составы композицийCompositions

Компонент Component F146 F146 F147 F147 F148 F148 F149 F149 F150 F150 F151A F151A Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 2200 ppm 2200 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm Частицы смешанного оксида меди, цинка и железа Mixed copper, zinc and iron oxide particles 300 ppm 300 ppm 250 ppm 250 ppm DTSACla DTSACl a 250 ppm 250 ppm 125 ppm 125 ppm 50 ppm 50 ppm 25 ppm 25 ppm Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. рн rn 4,6 4.6 3,6 3.6 3,7 3.7 3,7 3.7 3,6 3.6 4,7 4.7 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле bq.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

Таблица 13Table 13

Составы композицийCompositions

Компонент Component F152 F152 F153 F153 F154 F154 F155 F155 F156 F156 F157 F157 Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm Частицы смешанного оксида меди, цинка и железа Mixed copper, zinc and iron oxide particles 200 ppm 200 ppm 150 ppm 150 ppm 100 ppm 100 ppm 50 ppm 50 ppm 25 ppm 25 ppm DTSACla DTSACl a 10% 10% Изопропанол Isopropanol 50% 50% Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 4,3 4.3 3,8 3.8 3,2 3.2 3,8 3.8 3,7 3.7 4,6 4.6 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле bq.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

- 85 043933- 85 043933

Составы композицийCompositions

Таблица 14Table 14

Компонент Component F158 F158 F163 F163 F168 F168 F169 F169 F170 F170 F171 F171 DTSACla DTSACl a 20% 20% 10% 10% Дидодецилдиметиламмония хлорид Didodecyldimethylammonium chloride 5% 5% Полигексаметиленбигуанид Polyhexamethylene biguanide 5% 5% Изопропанол Isopropanol 5% 5% 50% 50% 5% 5% Метанол Methanol 7% 7% 50% 50% TRITON CG-110 TRITON CG-110 3% 3% Полоксамер 407 Poloxamer 407 2% 2% Quatemium-18 Quatemium-18 6% 6% 10% 10% 10% 10% Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH Н/О BUT 6,4 6.4 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity

Составы композицийCompositions

Таблица 15Table 15

Компонент Component F172 F172 F173 F173 F177 F177 F178 F178 F179 F179 F180 F180 Хлорноватистая кислота/РАСс Hypochlorous acid/PAC with 540 ppm 540 ppm DTSACla DTSACl a 500 ррш 500 rrsh 20% 20% Ди-н-алкилдиметиламмония хлорид Di-n-alkyldimethylammonium chloride 500 ppm 500 ppm Дидодецилдиметиламмония хлорид Didodecyldimethylammonium chloride 500 ppm 500 ppm Метанол Methanol 7% 7% Хлорид меди (II) Copper(II) chloride 200 ppm 200 ppm Хлорид железа (II) или хлорид железа (III) Ferric(II) chloride or ferric(III) chloride 200 ppm 200 ppm Нитрат серебра Silver nitrate 500 ppm 500 ppm Ацетат цинка Zinc acetate 500 ppm 500 ppm Хлорид цинка Zinc chloride 200 ppm 200 ppm Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 5,4 5.4 6,4 6.4 7,6 7.6 6,2 6.2 6,9 6.9 2,6 2.6 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

Составы композицийCompositions

Таблица 16Table 16

Компонент Component F181 F181 F182 F182 F183 F183 F184 F184 F185 F185 F186 F186 Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 540 ppm 540 ppm 540 ppm 540 ppm 540 ppm 540 ppm 540 ppm 540 ppm 540 ppm 540 ppm 540 ppm 540 ppm DTSACla DTSACl a 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm 500 ppm Хлорид меди (II) Copper(II) chloride 200 ppm 200 ppm Хлорид железа (II) или хлорид железа (III) Ferric(II) chloride or ferric(III) chloride 200 ppm 200 ppm Хлорид цинка Zinc chloride 200 ppm 200 ppm Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 2,4 2.4 5,9 5.9 5,4 5.4 6,0 6.0 5,1 5.1 6,4 6.4 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

- 86 043933- 86 043933

Таблица 17Table 17

Составы композицийCompositions

Компонент Component F187 F187 F188 F188 F189 F189 F190 F190 F191 F191 F192 F192 Хлорноватистая кислота/FAC Hypochlorous acid/FAC 540 ppm 540 ppm 350 ppm 350 ppm 350 ppm 350 ppm 260 ppm 260 ppm 260 ppm 260 ppm 190 ppm 190 ppm DTSACla DTSACl a 300 ppm 300 ppm 500 ppm 500 ppm 300 ppm 300 ppm 500 ppm 500 ppm 300 ppm 300 ppm 500 ppm 500 ppm Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 5,5 5.5 5,7 5.7 5,5 5.5 5,2 5.2 5,4 5.4 5,4 5.4 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride at 58% метаноле methanol b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine Таблица 18 Table 18 Составы композиций Compositions Компонент Component F193 F193 F194 F194 F195 F195 F95B F95B F95C F95C F95D F95D Хлорноватистая кислота/F ACd Hypochlorous acid/F AC d 190 ppm 190 ppm 100 ppm 100 ppm 100 ppm 100 ppm 530 ppm 530 ppm 75 ppm 75 ppm 75 ppm 75 ppm DTSACla DTSACl a 300 ppm 300 ppm 500 ppm 500 ppm 300 ppm 300 ppm 300 ppm 300 ppm 500 ppm 500 ppm DTSAClb DTSACl b 530 ppm 530 ppm Вода Water q.s.c qs c q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 5,5 5.5 5,8 5.8 5,4 5.4 3,2 3.2 5,8 5.8 5,4 5.4

aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b DTSAC1: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в воде cq.s.: - достаточное количество d FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b DTSAC1: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in water c qs: - sufficient quantity d FAC: - free active chlorine

Составы композицийCompositions

Таблица 19Table 19

Компонент Component F95E F95E F95F F95F F95G F95G F95H F95H F95I F95I F95J F95J Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 50 ppm 50 ppm 50 ppm 50 ppm 40 ppm 40 ppm 40 ppm 40 ppm 35 ppm 35 ppm 35 ppm 35 ppm DTSACla DTSACl a 500 ppm 500 ppm 300 ppm 300 ppm 500 ppm 500 ppm 300 ppm 300 ppm 500 ppm 500 ppm 300 ppm 300 ppm Вода Water q.s.b qs b q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 5,8 5.8 5,4 5.4 5,8 5.8 5,4 5.4 5,8 5.8 5,4 5.4 aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine Компонент Хлорноватистая кислота/F АСС DTSACla Вода pHComponent Hypochlorous acid/F AC C DTSACl a Water pH Состав F95K 25 ppm 500 ppm q.s.b 5,8Composition F95K 25 ppm 500 ppm qs b 5.8 в ы композ F95L 25 ppm 300 ppm q.s. 5,4 in you composition F95L 25 ppm 300 ppm q.s. 5.4 иций F95M 10 ppm 500 ppm q.s. 5,8 tions F95M 10 ppm 500 ppm q.s. 5.8 F95N 10 ppm 300 ppm q.s. 5,4 F95N 10 ppm 300 ppm q.s. 5.4 Т. F95O 5 ppm 500 ppm q.s. 5,8 T. F95O 5 ppm 500 ppm q.s. 5.8 аблица 20 F95P 5 ppm 300 ppm q.s. 5,4 table 20 F95P 5 ppm 300 ppm q.s. 5.4

aDTSACl: диметилоктадецил[3-(триметоксисилил)пропил] аммония хлорид в 58% метаноле b q.s.: - достаточное количество с FAC: - свободный активный хлор a DTSACl: dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl] ammonium chloride in 58% methanol b qs: - sufficient quantity with FAC: - free active chlorine

Составы композицийCompositions

Таблица 21Table 21

Компонент Component F151B F151B F151C F151C F151D F151D F151E F151E F151F F151F F151G F151G Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 350 ppm 350 ppm 260 ppm 260 ppm 190 ppm 190 ppm 100 ppm 100 ppm 75 ppm 75 ppm 50 ppm 50 ppm Частицы смешанного оксида Mixed Oxide Particles 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm

- 87 043933- 87 043933

меди, цинка и железа copper, zinc and iron Вода Water q.sa qs a q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 4,7 4.7 4,7 4.7 4,7 4.7 4,7 4.7 4,7 4.7 4,7 4.7 aq.s.: - достаточное количество b FAC: - свободный активный хлор a qs: - sufficient amount b FAC: - free active chlorine

Таблица 22Table 22

Составы композицийCompositions

Компонент Component F151H F151H F151I F151I F151J F151J F151K F151K F151L F151L F180A F180A Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 40 ppm 40 ppm 35 ppm 35 ppm 25 ppm 25 ppm 10 ppm 10 ppm 5 ppm 5 ppm 350 ppm 350 ppm Частицы смешанного оксида меди, цинка и железа Mixed copper, zinc and iron oxide particles 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm 250 ppm Хлорид меди (II) Copper(II) chloride 200 ppm 200 ppm Хлорид железа (II) или хлорид железа (III) Ferric(II) chloride or ferric(III) chloride 200 ppm 200 ppm Хлорид цинка Zinc chloride 200 ppm 200 ppm Вода Water q.s.a qs a q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 4,7 4.7 4,7 4.7 4,7 4.7 4,7 4.7 4,7 4.7 2,6 2.6 aq.s.: - достаточное количество b FAC: - свободный активный хлор a qs: - sufficient amount b FAC: - free active chlorine Таблица 23 Table 23 Составы композиций Compositions Компонент Component F180B F180B F180C F180C F180D F180D F180E F180E F180F F180F F180G F180G Хлорноватистая кислота/F АСС Hypochlorous acid/F AC C 260 ppm 260 ppm 190 ppm 190 ppm 100 ppm 100 ppm 75 ppm 75 ppm 50 ppm 50 ppm 40 ppm 40 ppm Хлорид меди (II) Copper(II) chloride 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm Хлорид железа (II) или хлорид железа (III) Ferric(II) chloride or ferric(III) chloride 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm Хлорид цинка Zinc chloride 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm Вода Water 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH q.s.a qs a q.s. q.s. 2,6 2.6 2,6 2.6 2,6 2.6 2,6 2.6 2,6 2.6 2,6 2.6

q.s.: - достаточное количество b FAC: - свободный активный хлорqs: - sufficient quantity b FAC: - free active chlorine

Таблица 24Table 24

Составы композицийCompositions

Компонент Component F180H F180H F180I F180I F180J F180J F180K F180K Хлорноватистая кислота/F ACC Hypochlorous acid/F AC C 35 ppm 35 ppm 25 ppm 25 ppm 10 ppm 10 ppm 5 ppm 5 ppm Хлорид меди (II) Copper(II) chloride 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm Хлорид железа (II) или хлорид железа (III) Ferric(II) chloride or ferric(III) chloride 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm Хлорид цинка Zinc chloride 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm 200 ppm Вода Water q.s. a qs a q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 2,6 2.6 2,6 2.6 2,6 2.6 2,6 2.6 aq.s.: - достаточное количество b FAC: - свободный активный хлор a qs: - sufficient amount b FAC: - free active chlorine

Пример 2. Анализы жизнеспособности спор.Example 2: Spore viability assays.

Указанный пример иллюстрирует, как проводить анализ жизнеспособности спор с применением композиции, описанной в настоящем изобретении.This example illustrates how to perform a spore viability assay using the composition described in the present invention.

Для приготовления исходных культур патогенных спор 10 мл питательного бульона инокулировали с применением исходной культуры Bacillus subtilis (ATCC #19659) и инкубировали на орбитальном шейкере в течение 24±2 ч при примерно 150 об/мин при 36±1°С. Указанную культуру использовали для инокуляции чашек с триптическим соевым агаром (TSA). Каждую чашку инокулировали 500 мкл бульонной культуры и инокулят распределяли стерильным L-образным распределителем. Кроме того, чистоту указанной культуры подтверждали путем посева штрихами в чашках с TSA и инкубирования чашек при 36±1°С в течение 24±2 ч. Каждую чашку оборачивали парафильмом, переворачивали и инкубировали в течение 12-14 дней при 36±1°С. После инкубирования споры собирали путем добавления в каждую чашку 10 мл холодной стерильной воды, выращенную культуру удаляли из чашек при помощи распределиTo prepare pathogenic spore stock cultures, 10 ml of nutrient broth was inoculated using a Bacillus subtilis stock culture (ATCC #19659) and incubated on an orbital shaker for 24 ± 2 h at approximately 150 rpm at 36 ± 1°C. This culture was used to inoculate Tryptic Soy Agar (TSA) plates. Each plate was inoculated with 500 μl of broth culture and the inoculum was distributed with a sterile L-shaped spreader. In addition, the purity of the specified culture was confirmed by streaking plates with TSA and incubating the plates at 36±1°C for 24±2 hours. Each plate was wrapped in parafilm, inverted and incubated for 12-14 days at 36±1°C . After incubation, spores were collected by adding 10 ml of cold sterile water to each dish, the grown culture was removed from the dishes using a spreader.

- 88 043933 теля и полученные суспензии переносили в стерильные 15 мл конические пробирки. Суспензии центрифугировали при 5000 об/мин (4500xg) в течение примерно 10 мин при комнатной температуре. После удаления надосадочной жидкости осадок спор промывали путем повторного суспендирования осадка в 10 мл холодной стерильной воды и центрифугировали при 5000 об/мин (4500xg) в течение примерно 10 мин. Указанную стадию промывания повторяли еще два раза. Осадок спор повторно суспендировали в 10 мл стерильной воды и суспензию спор хранили при 2-5°С до применения. Суспензию спор окрашивали с применением окрашивающего агента и споры исследовали под микроскопом для оценки качества спор. Исследовали по меньшей мере пять полей и определяли отношение спор к вегетативным клеткам (или спорангиям). Процентное значение спор по сравнению с вегетативными клетками составляло примерно 95% спор. Титр спор определяли путем приготовления серийных разведений, посева разведений в чашках с TSA, инкубирования чашек в течение 48±2 ч при 36±1°С и подсчета количества образовавшихся колоний для определения титра. Испытываемую культуру стандартизировали при помощи фосфатного буфера с получением конечной микробной популяции испытываемой культуры 1,0x106 КОЕ/мл.- 88 043933 calves and the resulting suspensions were transferred into sterile 15 ml conical tubes. The suspensions were centrifuged at 5000 rpm (4500xg) for approximately 10 min at room temperature. After removal of the supernatant, the spore pellet was washed by resuspending the pellet in 10 ml of cold sterile water and centrifuged at 5000 rpm (4500xg) for approximately 10 min. This washing step was repeated two more times. The spore pellet was resuspended in 10 ml of sterile water and the spore suspension was stored at 2-5°C until use. The spore suspension was stained using a staining agent and the spores were examined under a microscope to evaluate the quality of the spores. At least five fields were examined and the ratio of spores to vegetative cells (or sporangia) was determined. The percentage of spores compared to vegetative cells was approximately 95% spores. Spore titer was determined by preparing serial dilutions, plating the dilutions on TSA plates, incubating the plates for 48 ± 2 h at 36 ± 1°C, and counting the number of colonies formed to determine the titer. The test culture was standardized using phosphate buffer to obtain a final microbial population of the test culture of 1.0 x 106 CFU/ml.

Образцы для анализа готовили с сывороткой, такой как, например, триптический соевый бульон (TSB) или бычья сыворотка (BS), или без сыворотки. Задача сыворотки заключалась в том, чтобы лучше имитировать органическую нагрузку в крови и других тканях, которая имеет тенденцию дезактивировать противомикробный агент. В целом, анализы проводили сначала путем инкубирования образца спор патогена с композицией, описанной в настоящем изобретении, в течение определенного периода времени обработки, необязательно с сывороткой, с последующим культивированием образца в питательной среде для измерения образования бактериальных колоний и, следовательно, жизнеспособности спор.Samples for analysis were prepared with serum, such as tryptic soy broth (TSB) or bovine serum (BS), or without serum. The purpose of the serum was to better mimic the organic load in the blood and other tissues that tends to deactivate the antimicrobial agent. In general, assays are performed by first incubating a sample of pathogen spores with a composition described herein for a specified period of treatment, optionally with serum, followed by culturing the sample in a growth medium to measure bacterial colony formation and hence spore viability.

В одной серии экспериментов образцы композиций F72-F92 обрабатывали сывороткой, чтобы они содержали 100 мкл суспензии спор патогена (содержащей примерно 1x103 КОЕ/мл), 50 мкл сыворотки и 850 мкл композиции, описанной в примере 1. В анализах, в которых образцы не обрабатывали сывороткой, образцы содержали 100 мкл суспензии спор патогена (содержащей примерно 1x103 КОЕ/мл) и 900 мкл композиции, описанной в примере 1. Все образцы выдерживали в течение 15 мин, а затем высеивали в чашки Петри, содержащие питательную среду TSA. Затем инокулированные чашки инкубировали при 30°С-35°С в течение 48 ч и подсчитывали количество колоний, при их наличии. Следует отметить, что при описании определенных количеств и объемов можно использовать различные количества и объемы. Например, обработанный образец может содержать 100 мкл суспензии спор патогена (содержащей примерно 1x106 КОЕ/мл), 500 мкл сыворотки и 9400 мкл композиции, описанной в настоящем изобретении. Необработанный образец может содержать 100 мкл суспензии спор патогена (содержащей примерно 1x103 КОЕ/мл) и 9900 мкл композиции, описанной в настоящем изобретении. Результаты указанной серии экспериментов представлены в табл. 25.In one set of experiments, samples of compositions F72-F92 were serum treated to contain 100 μl of a pathogen spore suspension (containing approximately 1x10 3 CFU/ml), 50 μl of serum and 850 μl of the composition described in example 1. In assays in which samples were not treated with serum, the samples contained 100 μl of a suspension of pathogen spores (containing approximately 1x103 CFU/ml) and 900 μl of the composition described in example 1. All samples were incubated for 15 minutes and then sown in Petri dishes containing TSA nutrient medium. The inoculated plates were then incubated at 30°C-35°C for 48 hours and the number of colonies, if present, was counted. It should be noted that when describing specific quantities and volumes, different quantities and volumes may be used. For example, the processed sample may contain 100 μl of a pathogen spore suspension (containing approximately 1 x 106 CFU/ml), 500 μl of serum and 9400 μl of the composition described in the present invention. The raw sample may contain 100 μl of a pathogen spore suspension (containing approximately 1 x 103 CFU/ml) and 9900 μl of the composition described in the present invention. The results of this series of experiments are presented in table. 25.

В другой серии экспериментов образцы композиций F103-F106, F112, F115, F116, F138, F139 и F157 обрабатывали сывороткой, чтобы они содержали 100 мкл суспензии спор патогена (содержащей примерно 1x106 КОЕ/мл), 50 мкл сыворотки и 850 мкл композиции, описанной в примере 1. В анализах, в которых образцы не обрабатывали сывороткой, образцы содержали 100 мкл суспензии спор патогена (содержащей примерно 1x106 КОЕ/мл) и 900 мкл композиции, описанной в примере 1. Все образцы выдерживали в течение 30 мин, серийно 6 раз разбавляли 1:10 с применением бульона по Ди-Ингли (DE), а затем высеивали в чашки Петри, содержащие питательную среду TSA. Затем инокулированные чашки инкубировали при 30°С-35°С в течение 48 ч и подсчитывали количество колоний, при их наличии. Следует отметить, что при описании определенных количеств и объемов можно использовать различные количества и объемы. Например, обработанный образец может содержать 100 мкл суспензии спор патогена (содержащей примерно 1x106 КОЕ/мл), 500 мкл сыворотки и 9400 мкл композиции, описанной в настоящем изобретении. Необработанный образец может содержать 100 мкл суспензии спор патогена (содержащей примерно 1x106 КОЕ/мл) и 9900 мкл композиции, описанной в настоящем изобретении. Результаты указанной серии экспериментов представлены в табл. 26.In another series of experiments, samples of compositions F103-F106, F112, F115, F116, F138, F139 and F157 were treated with serum to contain 100 μl of a suspension of pathogen spores (containing approximately 1x106 CFU/ml), 50 μl of serum and 850 μl of the composition described in Example 1. In assays in which samples were not treated with serum, samples contained 100 μl of a pathogen spore suspension (containing approximately 1x106 CFU/ml) and 900 μl of the composition described in example 1. All samples were incubated for 30 min, 6 times serially diluted 1:10 using DiE broth (DE) and then inoculated into Petri dishes containing TSA nutrient medium. The inoculated plates were then incubated at 30°C-35°C for 48 hours and the number of colonies, if present, was counted. It should be noted that when describing specific quantities and volumes, different quantities and volumes may be used. For example, the processed sample may contain 100 μl of a pathogen spore suspension (containing approximately 1 x 106 CFU/ml), 500 μl of serum and 9400 μl of the composition described in the present invention. The raw sample may contain 100 μl of a pathogen spore suspension (containing approximately 1 x 106 CFU/ml) and 9900 μl of the composition described in the present invention. The results of this series of experiments are presented in table. 26.

Результаты указывают, что по меньшей мере композиции F81, F82, F83, F88 и F92 демонстрируют более высокий потенциал в качестве дезинфицирующего агента для применений, описанных в настоящем изобретении.The results indicate that at least compositions F81, F82, F83, F88 and F92 demonstrate greater potential as a disinfectant for the applications described in the present invention.

- 89 043933- 89 043933

Таблица 25Table 25

Анализ жизнеспособности спор_______________________Spore viability analysis_______________________

Состав Compound Количество колонийа,ь,с Number of colonies a, b, c 0% сыворотки 0% whey 2,5% сыворотки 2.5% whey 5% сыворотки 5% whey F81 F81 0 0 0 0 0 0 F82 F82 0 0 0 0 0 0 F83 F83 0 0 0 0 0 0 F88 F88 0 0 0 0 0 0 F92 F92 0 0 0 0 0 0 а Значения, обозначенные как >500, указывают на то, что было слишком много бактериальных колоний для подсчета, поэтому присваивали оценку более 500 ь Положительные контроли для всех проведенных анализов составляли >500 бактериальных колоний с Н/О, не определено a Values designated as >500 indicate that there were too many bacterial colonies to count, so a score of greater than 500 was assigned. b Positive controls for all assays performed were >500 bacterial colonies with H/O, not determined.

Таблица 26Table 26

Анализ жизнеспособности спорSpore viability analysis

Состав Compound Log снижения ростаа,ь,с Log growth reduction a, b, c 0% сыворотки 0% whey 2,5% сыворотки 2.5% whey 5% сыворотки 5% whey F103 F103 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F104 F104 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F105 F105 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F106 F106 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F112 F112 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F115 F115 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F116 F116 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F138 F138 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F139 F139 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F157 F157 Н/О BUT Н/О BUT >1,7 log >1.7 log

а Минимальное снижение роста бактерий на 3 порядка представляет собой уничтожение >99,9% бактерий ь Положительные контроля для всех проведенных анализов показывали 0 log снижение роста бактерий с Н/О, не определено a A minimum reduction of 3 orders of magnitude in bacterial growth represents >99.9% bacterial kill b Positive controls for all assays performed showed a 0 log reduction in bacterial growth with H/O, not determined

Можно проводить аналогичные анализы жизнеспособности спор, как описано выше, за исключением того, что оцениваемым патогеном будут виды Escherichia coli и Pseudomonas.Similar spore viability assays can be performed as described above, except that the pathogen being assessed will be Escherichia coli and Pseudomonas species.

Пример 3. Анализы жизнеспособности бактерий.Example 3: Bacterial Viability Assays.

Указанный пример иллюстрирует, как проводить анализ жизнеспособности бактерий с применением композиции, описанной в настоящем изобретении.This example illustrates how to perform a bacterial viability assay using the composition described in the present invention.

Для приготовления исходных культур патогенных бактерий 10 мл питательного бульона инокулировали с применением исходной культуры Staphylococcus epidermidis (АТСС 12228) и инкубировали на орбитальном шейкере в течение 24±2 ч при примерно 150 об/мин при 36±1°С. Указанную культуру применяли для инокуляции планшетов с триптическим соевым агаром (TSA). Каждый планшет инокулировали культурой. Каждый планшет инкубировали вплоть до 5 дней при 30°С-35°С. После инкубирования суспензии готовили путем добавления выращенных культур из планшетов с TSA в пробирку, содержащую стерильную воду. Затем каждую из пробирок перемешивали на вортексе и аликвоту серийно разбавляли и высеивали на планшет с TSA для дальнейшего подсчета. Для конечного подсчета использовали объем аликвоты, количество, полученное на планшете с TSA, и общий исходный объем культуры. Оставшееся в пробирке количество использовали для инокуляции реальных испытываемых образцов.To prepare stock cultures of pathogenic bacteria, 10 ml of nutrient broth was inoculated with Staphylococcus epidermidis stock culture (ATCC 12228) and incubated on an orbital shaker for 24 ± 2 h at approximately 150 rpm at 36 ± 1°C. This culture was used to inoculate Tryptic Soy Agar (TSA) plates. Each plate was inoculated with a culture. Each plate was incubated for up to 5 days at 30°C-35°C. After incubation, suspensions were prepared by adding the grown cultures from the TSA plates to a tube containing sterile water. Each tube was then vortexed and an aliquot was serially diluted and plated onto a TSA plate for further counting. The aliquot volume, the amount obtained on the TSA plate, and the total initial culture volume were used for the final count. The remaining amount in the tube was used to inoculate the actual test samples.

Образцы каждой из испытываемых композиций готовили с сывороткой (TSB или бычья сыворотка) или без сыворотки следующим образом: 1) анализы с сывороткой содержали 100 мкл суспензии патогенных бактерий, 500 мкл сыворотки и 9400 мкл композиции, описанной в настоящем изобретении; и 2) анализы без сыворотки содержали 100 мкл суспензии патогенных бактерий и 9900 мкл композиции, описанной в примере 1. Образцы выдерживали в течение 5 мин, после чего применяли нейтрализующий агент для ингибирования активности испытываемого микробного агента. В случае композиций F72-F80, F84-F87, F89-F91, F93, F94, F96 и F100-F102 обработанный образец высеивали в чашки Петри, содержащие питательную среду TSA, и инкубировали при 30°С-35°С вплоть до 5 дней. Затем измеряли присутствие жизнеспособных бактерий путем подсчета количества колоний, наблюдаемых в среде с агаром. Результаты указанной серии экспериментов представлены в табл. 27.Samples of each of the test compositions were prepared with serum (TSB or bovine serum) or without serum as follows: 1) serum assays contained 100 μl of a suspension of pathogenic bacteria, 500 μl of serum and 9400 μl of the composition described in the present invention; and 2) serum-free assays contained 100 μl of a pathogenic bacterial suspension and 9900 μl of the composition described in Example 1. The samples were incubated for 5 minutes, after which a neutralizing agent was applied to inhibit the activity of the microbial agent being tested. In the case of compositions F72-F80, F84-F87, F89-F91, F93, F94, F96 and F100-F102, the treated sample was sown in Petri dishes containing TSA nutrient medium and incubated at 30°C-35°C for up to 5 days . The presence of viable bacteria was then measured by counting the number of colonies observed in the agar medium. The results of this series of experiments are presented in table. 27.

В случае композиций F95, F107-F110, F117-F135, F140-F156 и F163 обработанные образцы серийно 6 раз разбавляли 1:10 после обработки нейтрализующим агентом и обработанный образец высеивали вIn the case of compositions F95, F107-F110, F117-F135, F140-F156 and F163, the treated samples were serially diluted 6 times 1:10 after treatment with a neutralizing agent and the treated sample was plated in

- 90 043933 чашки Петри, содержащие питательную среду TSA, и инкубировали при 30°С-35°С вплоть до 5 дней.- 90 043933 Petri dishes containing TSA nutrient medium and incubated at 30°C-35°C for up to 5 days.

Затем измеряли присутствие жизнеспособных бактерий путем подсчета количества колоний, наблюдаемых в среде с агаром. Результаты указанной серии экспериментов представлены в табл. 28.The presence of viable bacteria was then measured by counting the number of colonies observed in the agar medium. The results of this series of experiments are presented in table. 28.

Результаты указывают, что по меньшей мере композиции F80, F81, F82, F83, F88, F89, F90, F92, F93, F94, F95, F102, F144, F145, F146, F147, F148, F149, F150, F151, F152, F153, F154, F155 и F156 демонстрируют более высокий потенциал в качестве дезинфицирующего агента для применений, описанных в настоящем изобретении.The results indicate that at least compositions F80, F81, F82, F83, F88, F89, F90, F92, F93, F94, F95, F102, F144, F145, F146, F147, F148, F149, F150, F151, F152, F153, F154, F155 and F156 show greater potential as a disinfectant for the applications described in the present invention.

Таблица 27Table 27

Анализ жизнеспособности бактерийBacterial viability assay

Состав Compound Количество колонийа,ь,с Number of colonies a, b, c 0% сыворотки 0% whey 2,5% сыворотки 2.5% whey 5% сыворотки 5% whey F72 F72 0 0 205 205 225 225 F73 F73 0 0 204 204 209 209 F74 F74 0 0 156 156 205 205 F75 F75 0 0 200 200 190 190 F76 F76 0 0 152 152 105 105 F77 F77 0 0 70 70 69 69 F78 F78 0 0 190 190 223 223 F79 F79 0 0 185 185 140 140 F80 F80 0 0 0 0 0 0 F81 F81 0 0 0 0 0 0 F82 F82 0 0 0 0 0 0 F83 F83 0 0 0 0 0 0 F84 F84 0 0 232 232 225 225 F85 F85 0 0 260 260 206 206 F86 F86 0 0 205 205 180 180 F87 F87 0 0 180 180 165 165 F88 F88 0 0 0 0 0 0 F89 F89 0 0 6 6 21 21 F90 F90 0 0 3 3 15 15 F91 F91 0 0 302 302 220 220 F93 F93 0 0 0 0 0 0 F94 F94 0 0 0 0 0 0 F96 F96 0 0 >500 >500 >500 >500 F100 F100 0 0 >500 >500 >500 >500 F101 F101 0 0 >500 >500 >500 >500 F102 F102 0 0 10 10 100 100

а Значения, обозначенные как >500, указывают на то, что было слишком много бактериальных колоний для подсчета, поэтому присваивали оценку более 500 ь Положительные контроля для всех проведенных анализов составляли >500 бактериальных колоний с Н/О, не определено a Values designated as >500 indicate that there were too many bacterial colonies to count, so a score of greater than 500 was assigned. b Positive controls for all assays performed were >500 bacterial colonies with H/O, not determined.

- 91 043933- 91 043933

Таблица 28Table 28

Анализ жизнеспособности бактерийBacterial viability assay

Состав Compound Log снижения ростаа,ь,с Log growth reduction a, b, c 0% сыворотки 0% whey 2,5% сыворотки 2.5% whey 5% сыворотки 5% whey F95 F95 >7,2 log >7.2 log >7,1 log >7.1 log >6,8 log >6.8 log F107 F107 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F108 F108 н/о But н/о But н/о But F109 F109 Н/О BUT н/о But н/о But F110 F110 н/о But н/о But <6,0 log <6.0 log F117 F117 н/о But н/о But н/о But F118 F118 н/о But н/о But н/о But F119 F119 н/о But н/о But 6 log 6 log F120 F120 н/о But н/о But н/о But F121 F121 н/о But н/о But н/о But F122 F122 н/о But н/о But н/о But F123 F123 н/о But н/о But <6,0 log <6.0 log F124 F124 н/о But н/о But н/о But F125 F125 н/о But н/о But н/о But F126 F126 н/о But н/о But н/о But F127 F127 н/о But н/о But н/о But F128 F128 н/о But н/о But н/о But F129 F129 н/о But н/о But н/о But F130 F130 н/о But н/о But н/о But F131 F131 н/о But н/о But н/о But F132 F132 н/о But н/о But н/о But F133 F133 н/о But н/о But н/о But F134 F134 н/о But н/о But н/о But F135 F135 н/о But н/о But н/о But F140 F140 н/о But н/о But н/о But

- 92 043933- 92 043933

F141 F141 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F142 F142 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F143 F143 Н/О BUT Н/О BUT Н/О BUT F144 F144 Н/О BUT Н/О BUT >6,8 log >6.8 log F145 F145 Н/О BUT Н/О BUT >7,4 log >7.4 log F146 F146 Н/О BUT Н/О BUT >7,3 log >7.3 log F147 F147 Н/О BUT Н/О BUT >7,4 log >7.4 log F148 F148 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F149 F149 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F150 F150 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F151 F151 >7,2 log >7.2 log >7,1 log >7.1 log >7,2 log >7.2 log F152 F152 Н/О BUT Н/О BUT >6,2 log >6.2 log F153 F153 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F154 F154 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F155 F155 Н/О BUT Н/О BUT >7,1 log >7.1 log F156 F156 Н/О BUT Н/О BUT >7,6 log >7.6 log F157 F157 Н/О BUT Н/О BUT >7,1 log >7.1 log F163 F163 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F168 F168 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F169 F169 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F170 F170 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F171 F171 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F172 F172 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F173 F173 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F177 F177 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F178 F178 Н/О BUT Н/О BUT >7,0 log >7.0 log F179 F179 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F180 F180 Н/О BUT Н/О BUT >7,1 log >7.1 log F181 F181 Н/О BUT Н/О BUT >7,1 log >7.1 log F182 F182 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F183 F183 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F184 F184 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F185 F185 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F186 F186 Н/О BUT Н/О BUT <6,0 log <6.0 log F187 F187 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F188 F188 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F189 F189 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F190 F190 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F191 F191 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F192 F192 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F193 F193 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F194 F194 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O F195 F195 Н/О BUT Н/О BUT H/O H/O а Минимальное снижение роста бактерий на 3 порядка представляет собой уничтожение >99,9% бактерий ь Положительные контроли для всех проведенных анализов показывали 0 log снижение a A minimum reduction of 3 orders of magnitude in bacterial growth represents >99.9% bacterial kill b Positive controls for all assays performed showed a 0 log reduction роста бактерий с Н/О, не определеноbacterial growth with H/O, not determined

Пример 4. Анализы жизнеспособности бактерий.Example 4: Bacterial Viability Assays.

Указанный пример иллюстрирует, как проводить анализ жизнеспособности бактерий с применением композиции, описанной в настоящем изобретении.This example illustrates how to perform a bacterial viability assay using the composition described in the present invention.

Исходные культуры патогенных бактерий Staphylococcus epidermidis (АТСС 12228) готовили, как описано в примере 3. Для конечного подсчета использовали объем аликвоты, количество, полученное на планшете с TSA, и общий исходный объем культуры. Оставшееся в пробирке количество использовали для инокуляции реальных испытываемых образцов.Stock cultures of the pathogenic bacteria Staphylococcus epidermidis (ATCC 12228) were prepared as described in Example 3. The aliquot volume, the amount obtained on the TSA plate, and the total original culture volume were used for the final count. The remaining amount in the tube was used to inoculate the actual test samples.

Образцы каждой из испытываемых композиций готовили с бычьей сывороткой следующим образом: 1) анализы с сывороткой содержали 100 мкл суспензии патогенных бактерий, 500 мкл бычьей сыворотки и 9400 мкл одной из композиций, представленных в таблице 29; 2) анализы НОС1 контроля содержали 100 мкл суспензии патогенных бактерий, 500 мкл бычьей сыворотки и 9400 мкл 350 ppm, 200 ppm,Samples of each of the tested compositions were prepared with bovine serum as follows: 1) serum tests contained 100 μl of a suspension of pathogenic bacteria, 500 μl of bovine serum and 9400 μl of one of the compositions presented in table 29; 2) HOC1 control assays contained 100 μl of a suspension of pathogenic bacteria, 500 μl of bovine serum and 9400 μl of 350 ppm, 200 ppm,

-93 043933-93 043933

100 ppm или 50 ppm хлорноватистой кислоты; 3) анализы солевого контроля содержали 100 мкл суспензии патогенных бактерий, 500 мкл бычьей сыворотки и 9400 мкл 140 ppm, 80 ppm, 40 ppm или 20 ppm каждого из хлорида меди (II), хлорида железа (II) и хлорида цинка или каждого из хлорида меди (II), хлорида железа (III) и хлорида цинка; и 4) анализы отрицательного контроля содержали 100 мкл суспензии патогенных бактерий, 500 мкл бычьей сыворотки и 9400 мкл стерильной воды. Образцы выдерживали в течение пяти (5) минут, после чего применяли нейтрализующий агент для ингибирования активности испытываемого микробного агента. Композиции высеивали в чашки Петри, содержащие питательную среду TSA, и инкубировали при 30°С-35°С вплоть до 5 дней. Затем измеряли присутствие жизнеспособных бактерий путем подсчета количества колоний, наблюдаемых в среде с агаром. Результаты указанной серии экспериментов представлены в табл. 30.100 ppm or 50 ppm hypochlorous acid; 3) salt control assays contained 100 μl of a pathogenic bacterial suspension, 500 μl of bovine serum, and 9400 μl of 140 ppm, 80 ppm, 40 ppm, or 20 ppm each of copper(II) chloride, ferric chloride, and zinc chloride or each of chloride copper(II), iron(III) chloride and zinc chloride; and 4) negative control assays contained 100 μl of pathogenic bacterial suspension, 500 μl of bovine serum, and 9400 μl of sterile water. The samples were held for five (5) minutes, after which a neutralizing agent was applied to inhibit the activity of the microbial agent being tested. The compositions were sown in Petri dishes containing TSA nutrient medium and incubated at 30°C-35°C for up to 5 days. The presence of viable bacteria was then measured by counting the number of colonies observed in the agar medium. The results of this series of experiments are presented in table. thirty.

Таблица 29Table 29

Составы композицииCompositions

Компонент Component F196 F196 F197 F197 F198 F198 F199 F199 F200 F200 F201 F201 F202 F202 F203 F203 Хлорноватистая кислота/FAC Hypochlorous acid/FAC 350 ppm 350 ppm 200 ppm 200 ppm 100 PPm 100 PPm 50 ppm 50 ppm 350 ppm 350 ppm 200 PPm 200 PPm 100 PPm 100 PPm 50 ppm 50 ppm Хлорид меди (II) Copper(II) chloride 140 ppm 140 ppm 80 ppm 80 ppm 40 ppm 40 ppm 20 ppm 20 ppm 140 ppm 140 ppm 80 ppm 80 ppm 40 ppm 40 ppm 20 ppm 20 ppm Хлорид железа (II) Iron(II) chloride 140 ppm 140 ppm 80 ppm 80 ppm 40 ppm 40 ppm 20 ppm 20 ppm Хлорид железа (III) Iron(III) chloride 140 ppm 140 ppm 80 ppm 80 ppm 40 ppm 40 ppm 20 ppm 20 ppm Хлорид цинка Zinc chloride 140 ppm 140 ppm 80 ppm 80 ppm 40 ppm 40 ppm 20 ppm 20 ppm 140 ppm 140 ppm 80 ppm 80 ppm 40 ppm 40 ppm 20 ppm 20 ppm Вода Water q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. q.s. pH pH 3,2 3.2 3,6 3.6 3,7 3.7 4,0 4.0 3,0 3.0 3,2 3.2 3,6 3.6 3,7 3.7

Результаты показывают, что композиции, содержащие хлорид железа (III), демонстрировали синергетический эффект в отношении снижения роста бактерий по сравнению с контролями. Например, F200 и F201 демонстрируют снижение в два с лишним раза роста бактерий по сравнению с контролями с хлорноватистой кислотой в применениях, описанных в настоящем изобретении. Смеси солей металлов, хлорида цинка, хлорида железа (II) и хлорида меди или хлорида цинка, хлорида железа (III) и хлорида меди, не демонстрируют какой-либо детектируемой противомикробной активности в указанных анализах. Другим важным открытием является то, что F2020 демонстрирует эквивалентное снижение роста бактерий по сравнению с НОС1 контролем, содержащим 200 ppm хлорноватистой кислоты. F202 содержит только 100 ppm хлорноватистой кислоты, и указанное 50% снижение имеет критическое значение для обеспечения повышенной стабильности хлорноватистой кислоты.The results show that the compositions containing iron (III) chloride showed a synergistic effect in reducing bacterial growth compared to controls. For example, F200 and F201 exhibit more than a two-fold reduction in bacterial growth compared to hypochlorous acid controls in the applications described herein. Mixtures of the metal salts, zinc chloride, iron (II) chloride and copper chloride or zinc chloride, iron (III) chloride and copper chloride, do not demonstrate any detectable antimicrobial activity in these assays. Another important finding is that F2020 showed an equivalent reduction in bacterial growth compared to the HOC1 control containing 200 ppm hypochlorous acid. F202 contains only 100 ppm hypochlorous acid, and this 50% reduction is critical to provide increased hypochlorous acid stability.

Таблица 30Table 30

Анализ жизнеспособности бактерийBacterial viability assay

Состав Compound Log снижения ростаа,ь,с Log growth reduction a, b, c Состав Compound НОС1 контроль NOS1 control Солевой контроль'1 Salt control' 1 F196 F196 4,19 4.19 4,47 4.47 0 0 F197 F197 1,72 1.72 3,00 3.00 0 0 F198 F198 2,18 2.18 2,24 2.24 0 0 F199 F199 1,87 1.87 1,41 1.41 0 0 F200 F200 6,65 6.65 3,18 3.18 0 0 F201 F201 6,65 6.65 3,03 3.03 0 0 F202 F202 2,71 2.71 2,77 2.77 0 0 F203 F203 1,62 1.62 0,77 0.77 0 0 a Минимальное снижение роста бактерий на 3 порядка представляет собой уничтожение >99,9% бактерий ь Положительные контроли для всех проведенных анализов показывали 0 log снижение роста бактерий с НОС1 контроль соответствовал концентрации хлорноватистой кислоты, присутствующей в составе композиции d Контроль солью металла соответствовал концентрации соли металла, присутствующей в составе композиции a A minimum reduction of 3 orders of magnitude in bacterial growth represents >99.9% bacterial kill b Positive controls for all assays performed showed a 0 log reduction in bacterial growth with HOC1 control matched the concentration of hypochlorous acid present in the formulation d Metal salt control matched the metal salt concentration , present in the composition

В другой серии экспериментов составы COL1 и COL2 сравнивали с шестью коммерческими продуктами, содержащими только НОС1 (табл. 31). В указанной серии экспериментов образцы каждой из испытываемых композиций готовили с бычьей сывороткой следующим образом: 1) анализы с сывороткой содержали 100 мкл суспензии патогенных бактерий, 500 мкл бычьей сыворотки и 9400 мкл одной из композиций, как показано в табл. 31; 2) анализы положительного НОС1 контроля содержали 100 мкл суспензии патогенных бактерий и 9900 мкл стерильной воды. Образцы выдерживали в течение одной (1) минуты, после чего применяли нейтрализующий агент для ингибирования активности испытываемогоIn another series of experiments, the COL1 and COL2 formulations were compared with six commercial products containing only HOC1 (Table 31). In this series of experiments, samples of each of the test compositions were prepared with bovine serum as follows: 1) serum tests contained 100 μl of a suspension of pathogenic bacteria, 500 μl of bovine serum and 9400 μl of one of the compositions, as shown in table. 31; 2) positive HOC1 control assays contained 100 μl of pathogenic bacteria suspension and 9900 μl of sterile water. Samples were allowed to stand for one (1) minute, after which a neutralizing agent was applied to inhibit the activity of the test substance.

-94043933 микробного агента. Композиции высеивали в чашки Петри, содержащие питательную среду TSA, и инкубировали при 30°С-35°С вплоть до 5 дней. Затем измеряли присутствие жизнеспособных бактерий путем подсчета количества колоний, наблюдаемых в среде с агаром. Результаты указанной серии экспериментов представлены в табл. 31.-94043933 microbial agent. The compositions were sown in Petri dishes containing TSA nutrient medium and incubated at 30°C-35°C for up to 5 days. The presence of viable bacteria was then measured by counting the number of colonies observed in the agar medium. The results of this series of experiments are presented in table. 31.

Результаты указывают, что композиции COL1 и COL2 демонстрируют такой же или больший потенциал, как коммерчески доступные чистящие и дезинфицирующие средства с равными или большими уровнями хлорноватистой кислоты, в применениях, описанных в настоящем изобретении. В частности, COL1, который содержал 40 ppm хлорноватистой кислоты и 1000 ppm DTSACl, демонстрировал снижение в 3 с лишним раза роста бактерий по сравнению с коммерческим продуктом 6, который содержит только 40 ppm хлорноватистой кислоты. Аналогично, COL2, который содержал 90 ppm хлорноватистой кислоты и 500 ppm DTSACl, демонстрировал снижение в 2 с лишним раза роста бактерий по сравнению с коммерческим продуктом 3, который содержит только 104 ppm хлорноватистой кислоты. Синергетическая активность, наблюдаемая в COL1 и COL2, объясняется присутствием DTSACl в указанных составах.The results indicate that the COL1 and COL2 compositions exhibit equal or greater potential than commercially available cleaners and disinfectants with equal or greater levels of hypochlorous acid in the applications described in the present invention. Specifically, COL1, which contained 40 ppm hypochlorous acid and 1000 ppm DTSACl, showed more than a 3-fold reduction in bacterial growth compared to commercial product 6, which contains only 40 ppm hypochlorous acid. Likewise, COL2, which contained 90 ppm hypochlorous acid and 500 ppm DTSACl, showed more than a 2-fold reduction in bacterial growth compared to commercial product 3, which contained only 104 ppm hypochlorous acid. The synergistic activity observed in COL1 and COL2 is attributed to the presence of DTSACl in these formulations.

Таблица 31Table 31

Анализ жизнеспособности бактерийBacterial viability assay

Состав Compound Log снижения ростаа,ь Log growth reduction a,b COL1 (40 ppm НОС1 и 1000 ppm DTSACl) COL1 (40 ppm HOC1 and 1000 ppm DTSACl) 3,6 3.6 COL2 (99 ppm НОС1 и 500 ppm DTSACl) COL2 (99 ppm HOC1 and 500 ppm DTSACl) 2,3 2.3 Коммерческий продукт 1 (68 ppm HOC1) Commercial Product 1 (68 ppm HOC1) 1,1 1.1 Коммерческий продукт 2 (104 ppm HOC1) Commercial Product 2 (104 ppm HOC1) 1,0 1.0 Коммерческий продукт 3(110 ppm HOC1) Commercial Product 3(110 ppm HOC1) 2,0 2.0 Коммерческий продукт 4 (154 ppm HOC1) Commercial Product 4 (154 ppm HOC1) 1,2 1.2 Коммерческий продукт 5 (223 ppm HOG) Commercial Product 5 (223 ppm HOG) 2,3 2.3 Коммерческий продукт 6 (270 ppm HOC!) Commercial Product 6 (270 ppm HOC!) 3,0 3.0 a Минимальное снижение роста бактерий на 3 порядка представляет собой уничтожение a A minimum reduction of 3 orders of magnitude in bacterial growth represents eradication >99,9% бактерий ь Положительные контроли для всех проведенных анализов показывали 0 log снижение>99.9% bacteria b Positive controls for all assays performed showed a 0 log reduction роста бактерий bacterial growth

В заключение, следует понимать, что хотя аспекты настоящего изобретения проиллюстрированы со ссылкой на конкретные варианты реализации, специалист в данной области техники легко поймет, что указанные описанные варианты реализации являются только иллюстрацией принципов предмета изобретения, описанного в настоящем изобретении. Следовательно, следует понимать, что описанный предмет изобретения не ограничивается в какой-либо степени конкретным соединением, композицией, изделием, аппаратом, методологией, протоколом и/или реагентом и т.п., описанными в настоящем изобретении, если прямо не указано иное. Кроме того, специалистам в данной области техники понятно, что могут быть осуществлены определенные изменения, модификации, перестановки, исправления, дополнения, изъятия и их подкомбинации в соответствии с идеями, представленными в настоящем изобретении, без отступления от сущности настоящего изобретения. Таким образом, полагают, что следующие пункты прилагаемой формулы изобретения и пункты формулы изобретения, которые могут быть добавлены после подачи заявки, интерпретируют как включающие все такие изменения, модификации, перестановки, исправления, дополнения, изъятия и подкомбинации, которые соответствуют их фактической сущности и объему.Finally, it should be understood that although aspects of the present invention are illustrated with reference to specific embodiments, one skilled in the art will readily understand that these described embodiments are only illustrative of the principles of the subject matter described herein. Therefore, it should be understood that the described subject matter is not limited to any extent to the specific compound, composition, article, apparatus, methodology, protocol and/or reagent, etc. described in the present invention, unless expressly stated otherwise. Moreover, those skilled in the art will appreciate that certain changes, modifications, permutations, corrections, additions, deletions, and subcombinations thereof may be made in accordance with the teachings presented in the present invention without departing from the spirit of the present invention. Accordingly, the following claims and claims that may be added after filing are intended to be interpreted to include all such changes, modifications, permutations, corrections, additions, deletions and subcombinations as fall within their actual spirit and scope. .

В настоящем изобретении описаны некоторые варианты реализации согласно настоящему изобретению, включая лучший способ, известный авторам настоящего изобретения, реализации настоящего изобретения. Конечно, изменения в указанных описанных вариантах реализации будут очевидны для специалистов в данной области техники после прочтения представленного выше описания. Авторы настоящего изобретения ожидают, что квалифицированные специалисты будут применять такие изменения при необходимости, и авторы настоящего изобретения полагают, что настоящее изобретение может быть реализовано на практике способом, отличным от конкретно описанных в настоящем изобретении. Соответственно, настоящее изобретение включает все модификации и эквиваленты предмета изобретения, приведенного в пунктах прилагаемой формулы изобретения, в рамках применяемого закона. Кроме того, настоящее изобретение охватывает любые комбинации описанных выше вариантов реализации во всех их возможных вариантах, если в настоящем изобретении не указано иное, или в контексте явно не указано иное.The present invention describes some embodiments according to the present invention, including the best method known to the inventors of the present invention for implementing the present invention. Of course, changes in these described embodiments will be apparent to those skilled in the art upon reading the above description. The present inventors expect that those skilled in the art will make such modifications as necessary, and the present inventors believe that the present invention may be practiced in a manner other than those specifically described in the present invention. Accordingly, the present invention includes all modifications and equivalents of the subject matter set forth in the appended claims, within the limits of applicable law. In addition, the present invention covers any combination of the above-described embodiments in all possible embodiments, unless otherwise indicated in the present invention or the context clearly indicates otherwise.

Группировки альтернативных вариантов реализации, элементов или стадий согласно настоящему изобретению не следует рассматривать в качестве ограничений. Каждый член группы может быть упомянут и заявлен индивидуально или в любой комбинации с другими членами группы, описанными в настоящем изобретении. Полагают, что один или более членов группы могут быть включены в группу или исключены из группы по причинам удобства и/или патентоспособности. При осуществлении такогоThe groupings of alternative embodiments, elements or steps according to the present invention should not be construed as limitations. Each group member may be mentioned and claimed individually or in any combination with other group members described in the present invention. It is believed that one or more members of the group may be included or excluded from the group for reasons of convenience and/or patentability. When implementing such

- 95 043933 включения или удаления полагают, что описание включает измененную группу, таким образом полностью соответствуя описанию всех групп Маркуша, применяемых в пунктах прилагаемой формулы изобретения.- 95 043933 inclusions or deletions are considered to include the modified group, thus fully complying with the description of all Markush groups used in the claims of the attached claims.

Если не указано иное, все числа, выражающие характеристику, предмет, количество, параметр, свойство, термин и т.д., применяемые в настоящем изобретении и пунктах формулы изобретения, следует понимать, как модифицированные во всех случаях термином примерно. Применяемый в настоящем изобретении термин примерно означает, что характеристика, предмет, количество, параметр, свойство или термин, квалифицированные таким образом, охватывают диапазон плюс/минус десять процентов выше или ниже значения указанной характеристики, предмета, количества, параметра, свойства или термина. Соответственно, если не указано иное, числовые параметры, представленные в описании и пунктах прилагаемой формулы изобретения, являются приблизительными значениями, которые могут варьироваться. Например, поскольку инструменты масс-спектрометрии могут незначительно различаться при определении массы данного аналита, термин примерно в контексте массы иона или отношения масса/заряд иона относится к ±0,50 атомной единицы массы. По меньшей мере, и не в качестве попытки ограничить применение доктрины эквивалентов к объему пунктов формулы изобретения, каждое числовое указание следует рассматривать по меньшей мере с точки зрения количества приведенных значащих цифр и с использованием обычных способов округления.Unless otherwise indicated, all numbers expressing a characteristic, object, quantity, parameter, property, term, etc., used in the present invention and claims are to be understood as modified in all cases by the term about. As used herein, the term roughly means that the characteristic, item, quantity, parameter, property or term so qualified covers a range of plus/minus ten percent above or below the value of the specified characteristic, subject, quantity, parameter, property or term. Accordingly, unless otherwise indicated, figures set forth in the specification and claims are approximate values that may vary. For example, since mass spectrometry instruments may vary slightly in determining the mass of a given analyte, the term roughly in the context of ion mass or ion mass/charge ratio refers to ±0.50 atomic mass unit. At the very least, and not as an attempt to limit the application of the doctrine of equivalents to the scope of the claims, each numerical indication should be considered at least in terms of the number of significant figures given and using normal rounding techniques.

Применение терминов может или способно применительно к варианту реализации или аспекту варианта реализации также включает альтернативное значение не может или не способно. По существу, если в настоящем изобретении описано, что вариант реализации или аспект варианта реализации может или способен включаться как часть предмета настоящего изобретения, то также явно подразумевают отрицательное ограничение или исключающее условие, означающие, что вариант реализации или аспект варианта реализации может не включаться или не способен включаться как часть предмета настоящего изобретения. Аналогичным образом, применение термина необязательно применительно к варианту реализации или аспекту варианта реализации означает, что такой вариант реализации или аспект варианта реализации может включаться как часть предмета настоящего изобретения или может не включаться как часть предмета настоящего изобретения. Применимость такого отрицательного ограничения или исключающего условия зависит от того, указано ли отрицательное ограничение или исключающее условие в заявленном предмете изобретения.The use of the terms can or able when applied to an embodiment or aspect of an implementation option also includes the alternative meaning can't or can't. As such, if the present invention describes that an embodiment or aspect of an embodiment may or is capable of being included as part of the subject matter of the present invention, then a negative limitation or exclusionary condition is also expressly implied to mean that the embodiment or aspect of an embodiment may not be included or not capable of being included as part of the subject matter of the present invention. Likewise, the use of a term optionally in relation to an embodiment or aspect of an embodiment means that such embodiment or aspect of an embodiment may or may not be included as part of the subject matter of the present invention. The applicability of such a negative limitation or exclusionary condition depends on whether the negative limitation or exclusionary condition is specified in the claimed subject matter.

Несмотря на то, что числовые диапазоны и значения, представляющие широкий объем настоящего изобретения, являются приблизительными, числовые диапазоны и значения, приведенные в конкретных примерах, указываются настолько точно, насколько возможно. Тем не менее, любой числовой диапазон или значение по определению включают определенные ошибки, являющиеся обязательным результатом стандартного отклонения, обнаруживаемого при их соответствующих испытательных измерениях. Перечисление в настоящем изобретении числовых диапазонов значений предназначено только для короткого способа представления индивидуальных ссылок на каждое отдельное числовое значение, находящееся в пределах диапазона. Если в настоящем изобретении не указано иное, каждое отдельное значение числового диапазона включено в настоящее описание, как если бы оно было отдельно указано в настоящем изобретении.Although numerical ranges and values representing the broad scope of the present invention are approximate, numerical ranges and values given in specific examples are stated as accurately as possible. However, any numerical range or value by definition includes certain errors that are necessarily the result of the standard deviation found in its respective test measurements. The present invention's listing of numeric value ranges is intended only as a shorthand way of providing individual references to each individual numeric value within the range. Unless otherwise specified in the present invention, each individual numerical range value is included herein as if it were separately identified in the present invention.

Формы единственного числа и аналогичные ссылки, применяемые в контексте описания настоящего изобретения (особенно в контексте следующих пунктов формулы изобретения), охватывают формы единственного и множественного числа, если в настоящем изобретении не указано иное, или в контексте явно не указано иное. Кроме того, порядковые указатели, такие как первый, второй, третий и т.д., для идентифицированных элементов применяют для различения элементов, и они не указывают или не подразумевают требуемое или ограниченное количество таких элементов и не указывают конкретную позицию или порядок таких элементов, если специально не указано иное. Все способы, описанные в настоящем изобретении, можно осуществлять в любом подходящем порядке, если в настоящем изобретении не указано иное, или в контексте явно не указано иное. Применение любого и всех примеров или примерных формулировок (например, такой как), представленных в настоящем изобретении, предназначено только для лучшей демонстрации настоящего изобретения и не накладывает ограничения на объем настоящего изобретения, заявленного иным образом. Ни одно выражение в настоящем описании не следует считать указанием на любой незаявленный элемент, существенный для практического применения настоящего изобретения.The singular number and similar references used in the context of the description of the present invention (especially in the context of the following claims) include the singular and plural forms, unless otherwise indicated in the present invention or the context clearly indicates otherwise. In addition, ordinal indices, such as first, second, third, etc., for identified elements are used to distinguish elements, and they do not indicate or imply a required or limited number of such elements or indicate a specific position or order of such elements, unless specifically stated otherwise. All methods described in the present invention can be carried out in any suitable order, unless otherwise indicated in the present invention or the context clearly indicates otherwise. The use of any and all examples or exemplary statements (eg, such as) presented in the present invention is intended only to better demonstrate the present invention and does not limit the scope of the present invention as otherwise claimed. Nothing in this specification should be taken to indicate any unclaimed element essential to the practice of the present invention.

При использовании в пунктах формулы изобретения, независимо от того, использовался ли он на момент подачи или был добавлен в правках, открытый переходный термин содержащий (и эквивалентные ему открытые переходные фразы, например, включающий, содержащий и имеющий) охватывает все явно указанные элементы, ограничения, стадии и/или отличительные признаки, по отдельности или в комбинации с неуказанным предметом изобретения; при этом названные элементы, ограничения и/или отличительные признаки являются существенными, а другие неназванные элементы, ограничения и/или отличительные признаки можно добавлять при сохранении образования конструкции в рамках объема формулы изобретения. Конкретные варианты реализации, описанные в настоящем изобретении, могут быть дополнительно ограничены в пунктах формулы изобретения с применением закрытых переходныхWhen used in claims, whether in use at the time of filing or added in revisions, the open transitional term containing (and equivalent open transitional phrases, such as including, containing and having) covers all expressly stated elements, limitations , steps and/or features, alone or in combination with unspecified subject matter; provided that named elements, limitations and/or features are essential, and other unnamed elements, limitations and/or features may be added while remaining within the scope of the claims. Specific embodiments described in the present invention may be further limited in the claims by the use of closed transitions

--

Claims (38)

фраз состоящий из или состоящий по существу из вместо или в качестве дополнения для термина содержащий. При использовании в пунктах формулы изобретения, независимо от того, использовалась ли она на момент подачи или была добавлена в правках, закрытая переходная фраза состоящий из исключает любой элемент, ограничение, стадию или отличительный признак, явно не указанные в пунктах формулы изобретения. Закрытая переходная фраза состоящий по существу из ограничивает объем формулы изобретения явно указанными элементами, ограничениями, стадиями и/или отличительными признаками и любыми другими элементами, ограничениями, стадиями и/или отличительными признаками, которые не оказывают существенного влияния на основные и новые характеристики заявленного предмета изобретения. Таким образом, значение открытой переходной фразы содержащий определяется, как охватывающее все явно указанные элементы, ограничения, стадии и/или отличительные признаки, а также любые необязательные, дополнительные, неуказанные элементы, ограничения, стадии и/или отличительные признаки. Значение закрытой переходной фразы состоящий из определяется, как включающее только элементы, ограничения, стадии и/или отличительные признаки, явно указанные в формуле изобретения, тогда как значение закрытой переходной фразы состоящий по существу из определяется, как включающее только элементы, ограничения, стадии и/или отличительные признаки, явно указанные в формуле изобретения, и элементы, ограничения, стадии и/или отличительные признаки, которые не оказывают существенного влияния на основные и новые характеристики заявленного предмета изобретения. Таким образом, открытая переходная фраза содержащий (и эквивалентные ей открытые переходные фразы) включает в свое значение, в качестве ограничивающего случая, заявленный предмет изобретения, определенный при помощи закрытых переходных фраз состоящий из или состоящий по существу из. Следовательно, такие варианты реализации, описанные в настоящем изобретении или заявленные при помощи фразы состоящий, явно или по определению однозначно описываются, обеспечиваются и поддерживаются в настоящем изобретении фразами состоящий по существу из и состоящий из. Все патенты, патентные публикации и другие публикации, указанные и идентифицированные в настоящем описании, индивидуально и явно включены в настоящую заявку во всей полноте посредством ссылки с целью описания и раскрытия, например, композиций и методологий, описанных в таких публикациях, которые можно использовать в контексте настоящего изобретения. Указанные публикации представлены исключительно для их раскрытия до даты подачи настоящей заявки. Никакая информация в этом отношении не должно быть истолковано, как признание того, что авторы настоящего изобретения не имеют права предшествовать такому раскрытию в силу предшествующего изобретения или по любой другой причине. Все заявления относительно даты или представления относительно содержания указанных документов основаны на информации, доступной заявителями, и не представляют собой какоголибо признания в отношении правильности дат или содержания указанных документов. Наконец, применяемая в настоящем изобретении терминология предназначена только для описания конкретных вариантов реализации и не предназначена для ограничения объема настоящего изобретения, который определяется только пунктами формулы изобретения. Соответственно, настоящее изобретение не ограничивается только представленным описанием. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯphrases consisting of or consisting essentially of instead of or as a complement to the term containing. When used in claims, whether in use at the time of filing or added in revisions, a closed transition phrase consisting of excludes any element, limitation, step or feature not expressly stated in the claims. A closed transition phrase consisting essentially of limits the scope of the claims to the expressly stated elements, limitations, steps and/or features and any other elements, limitations, steps and/or features that do not materially affect the essential and novel characteristics of the claimed subject matter. . Thus, the meaning of the open transition phrase containing is defined to include all explicitly stated elements, limitations, steps and/or features, as well as any optional, additional, unspecified elements, limitations, steps and/or features. The meaning of the closed transition phrase consisting of is defined as including only the elements, limitations, steps and/or features expressly stated in the claims, while the meaning of the closed transition phrase consisting essentially of is defined as including only the elements, limitations, steps and/ or features expressly stated in the claims, and elements, limitations, steps and/or features that do not materially affect the essential and novel characteristics of the claimed subject matter. Thus, the open transition phrase containing (and its equivalent open transition phrases) includes within its meaning, as a limiting case, the claimed subject matter, defined by the closed transition phrases as consisting of or consisting essentially of. Therefore, such embodiments described in the present invention or claimed by the phrase consisting of are expressly or by definition unambiguously described, provided and supported in the present invention by the phrases consisting essentially of and consisting of. All patents, patent publications, and other publications set forth and identified herein are individually and expressly incorporated herein by reference in their entirety for the purpose of describing and disclosing, for example, the compositions and methodologies described in such publications as may be used in context of the present invention. Said publications are presented solely for their disclosure prior to the filing date of this application. Nothing in this regard should be construed as an admission that the inventors of the present invention are not entitled to precede such disclosure by virtue of prior invention or for any other reason. All statements as to the date or representations regarding the contents of the said documents are based on information available to the applicants and do not constitute any admission as to the correctness of the dates or the contents of the said documents. Finally, the terminology used in the present invention is intended only to describe specific embodiments and is not intended to limit the scope of the present invention, which is defined only by the claims. Accordingly, the present invention is not limited to the present description. CLAIM 1) от по меньшей мере 50 ppm до не более 500 ppm хлорноватистой кислоты или от по меньшей мере 50 ppm до не более 500 ppm свободного активного хлора;1) from at least 50 ppm to not more than 500 ppm hypochlorous acid or from at least 50 ppm to not more than 500 ppm free active chlorine; 1) от по меньшей мере 30 ppm до не более 700 ppm хлорноватистой кислоты или от по меньшей мере 30 ppm до не более 700 ppm свободного активного хлора; и1) from at least 30 ppm to not more than 700 ppm hypochlorous acid or from at least 30 ppm to not more than 700 ppm free active chlorine; And 1. Дезинфицирующая композиция, содержащая1. Disinfectant composition containing 2) от по меньшей мере 150 ppm до не более 900 ppm одной или более солей хлоридов металлов, и где одна или более солей хлоридов металлов представляют собой хлорид меди в количестве от 50 ppm до 300 ppm, хлорид железа (III) в количестве от 50 ppm до 300 ppm и хлорид цинка в количестве от 50 ppm до 300 ppm.2) from at least 150 ppm to no more than 900 ppm of one or more metal chloride salts, and where one or more metal chloride salts are copper chloride in an amount from 50 ppm to 300 ppm, iron (III) chloride in an amount from 50 ppm to 300 ppm and zinc chloride in amounts from 50 ppm to 300 ppm. 2. Дезинфицирующая композиция по п.1, отличающаяся тем, что хлорноватистая кислота или свободный активный хлор присутствуют в количестве от 30 ppm до 650 ppm.2. Disinfectant composition according to claim 1, characterized in that hypochlorous acid or free active chlorine is present in an amount from 30 ppm to 650 ppm. 2) одну или более частиц оксида металла, при этом одна или более частиц оксида металла присутствует в количестве от 10 ppm до 300 ppm, или одну или более солей металлов, при этом одна или более солей металлов присутствует в количестве от по меньшей мере 30 ppm до не более 900 ppm, где одна или более частиц оксида металла включают медь, железо, титан, цинк или любую их комбинацию, где одна или более солей металлов включают ацетат металла, хлорид металла или нитрат металла; и где одна или более солей металлов включают соль меди в количестве от 10 ppm до 300 ppm, соль железа в количестве от 10 ppm до 300 ppm и соль цинка в количестве от 10 ppm до 300 ppm.2) one or more metal oxide particles, wherein one or more metal oxide particles are present in an amount of from 10 ppm to 300 ppm, or one or more metal salts, wherein one or more metal salts are present in an amount of at least 30 ppm up to not more than 900 ppm, where one or more metal oxide particles include copper, iron, titanium, zinc or any combination thereof, where one or more metal salts include a metal acetate, a metal chloride or a metal nitrate; and wherein the one or more metal salts include a copper salt in an amount of 10 ppm to 300 ppm, an iron salt in an amount of 10 ppm to 300 ppm, and a zinc salt in an amount of 10 ppm to 300 ppm. 3. Дезинфицирующая композиция по п.2, отличающаяся тем, что хлорноватистая кислота или свободный активный хлор присутствуют в количестве от 50 ppm до 600 ppm.3. Disinfectant composition according to claim 2, characterized in that hypochlorous acid or free active chlorine is present in an amount from 50 ppm to 600 ppm. 4. Дезинфицирующая композиция по п.3, отличающаяся тем, что хлорноватистая кислота или свободный активный хлор присутствуют в количестве от 100 ppm до 550 ppm.4. Disinfectant composition according to claim 3, characterized in that hypochlorous acid or free active chlorine is present in an amount from 100 ppm to 550 ppm. 5. Дезинфицирующая композиция по п.4, отличающаяся тем, что хлорноватистая кислота или свободный активный хлор присутствуют в количестве от 300 ppm до 500 ppm.5. Disinfectant composition according to claim 4, characterized in that hypochlorous acid or free active chlorine is present in an amount from 300 ppm to 500 ppm. 6. Дезинфицирующая композиция по любому из пп.1-5, отличающаяся тем, что одна или более частиц оксида металла присутствуют в количестве от 50 ppm до 300 ppm или одна или более солей металлов присутствуют в количестве от по меньшей мере 50 ppm до не более 800 ppm.6. Disinfectant composition according to any one of claims 1 to 5, characterized in that one or more metal oxide particles are present in an amount from 50 ppm to 300 ppm or one or more metal salts are present in an amount from at least 50 ppm to no more 800 ppm. - 97 043933- 97 043933 7. Дезинфицирующая композиция по п.6, отличающаяся тем, что одна или более частиц оксида металла присутствуют в количестве от 100 ppm до 300 ppm или одна или более солей металлов присутствуют в количестве от по меньшей мере 75 ppm до не более 775 ppm.7. The disinfectant composition of claim 6, wherein one or more metal oxide particles are present in an amount from 100 ppm to 300 ppm or one or more metal salts are present in an amount from at least 75 ppm to no more than 775 ppm. 8. Дезинфицирующая композиция по п.7, отличающаяся тем, что одна или более частиц оксида металла присутствуют в количестве от 100 ppm до 275 ppm или одна или более солей металлов присутствуют в количестве от по меньшей мере 100 ppm до не более 750 ppm.8. The disinfectant composition of claim 7, wherein one or more metal oxide particles are present in an amount from 100 ppm to 275 ppm or one or more metal salts are present in an amount from at least 100 ppm to no more than 750 ppm. 9. Дезинфицирующая композиция по п.8, отличающаяся тем, что одна или более частиц оксида металла присутствуют в количестве от 150 ppm до 250 ppm или одна или более солей металлов присутствуют в количестве от по меньшей мере 125 ppm до не более 600 ppm.9. The disinfectant composition of claim 8, wherein one or more metal oxide particles are present in an amount from 150 ppm to 250 ppm or one or more metal salts are present in an amount from at least 125 ppm to no more than 600 ppm. 10. Дезинфицирующая композиция по любому из пп.1-9, отличающаяся тем, что одна или более частиц оксида металла включают оксид меди, оксид железа, диоксид титана, оксид цинка, смешанный оксид меди, цинка и железа или любую их комбинацию.10. The disinfectant composition according to any one of claims 1 to 9, characterized in that one or more metal oxide particles include copper oxide, iron oxide, titanium dioxide, zinc oxide, mixed oxide of copper, zinc and iron, or any combination thereof. 11. Дезинфицирующая композиция по любому из пп.1-10, отличающаяся тем, что одна или более солей металлов дополнительно включают калий, титан.11. Disinfectant composition according to any one of claims 1 to 10, characterized in that one or more metal salts additionally include potassium, titanium. 12. Дезинфицирующая композиция по любому из пп.1-11, отличающаяся тем, что одна или более солей металла включают ацетат металла, хлорид металла, нитрат металла, сульфат металла или любую их комбинацию.12. The disinfectant composition according to any one of claims 1 to 11, characterized in that the one or more metal salts include a metal acetate, a metal chloride, a metal nitrate, a metal sulfate, or any combination thereof. 13. Дезинфицирующая композиция по п.12, отличающаяся тем, хлорид металла включает хлорид меди, хлорид железа (II), хлорид железа (III) и хлорид цинка.13. The disinfectant composition according to claim 12, wherein the metal chloride includes copper chloride, iron (II) chloride, iron (III) chloride and zinc chloride. 14. Дезинфицирующая композиция, содержащая:14. Disinfectant composition containing: 15. Дезинфицирующая композиция по п.14, отличающаяся тем, что дезинфицирующая композиция содержит от 100 ppm до 450 ppm хлорноватистой кислоты или от 100 ppm до 450 ppm свободного активного хлора и от 20 ppm до 200 ppm хлорида меди, от 20 ppm до 200 ppm хлорида железа (III) и от 20 ppm до 200 ppm хлорида цинка.15. Disinfectant composition according to claim 14, characterized in that the disinfectant composition contains from 100 ppm to 450 ppm hypochlorous acid or from 100 ppm to 450 ppm free active chlorine and from 20 ppm to 200 ppm copper chloride, from 20 ppm to 200 ppm iron (III) chloride and from 20 ppm to 200 ppm zinc chloride. 16. Дезинфицирующая композиция по любому из пп.1-15, дополнительно содержащая один или более носителей.16. Disinfectant composition according to any one of claims 1 to 15, further containing one or more carriers. 17. Дезинфицирующая композиция по любому из пп.1-16, дополнительно содержащая один или более дополнительных ингредиентов.17. Disinfectant composition according to any one of claims 1 to 16, further containing one or more additional ingredients. 18. Дезинфицирующая композиция по п.17, отличающаяся тем, что один или более дополнительных ингредиентов включают консервант, хелатирующий агент или любую их комбинацию.18. The disinfectant composition of claim 17, wherein the one or more additional ingredients include a preservative, a chelating agent, or any combination thereof. 19. Набор, содержащий композицию по любому из пп.1-18 и одну или более систем доставки или нанесения.19. A kit containing a composition according to any one of claims 1 to 18 and one or more delivery or application systems. 20. Набор по п.19, дополнительно содержащий инструкции и/или емкость.20. The kit according to claim 19, additionally containing instructions and/or container. 21. Способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации устройства, включающий нанесение дезинфицирующей композиции по любому из пп.1-18 на устройство, причем нанесение композиции очищает, дезинфицирует и/или стерилизует устройство.21. A method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a device, comprising applying a disinfectant composition according to any one of claims 1 to 18 to the device, wherein application of the composition cleans, disinfects and/or sterilizes the device. 22. Применение дезинфицирующей композиции по любому из пп.1-18 для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации устройства.22. Use of a disinfectant composition according to any one of claims 1 to 18 for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a device. 23. Способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации области поверхности, включающий нанесение дезинфицирующей композиции по любому из пп.1-18 на устройство, причем нанесение композиции очищает, дезинфицирует и/или стерилизует устройство.23. A method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a surface area, comprising applying a disinfectant composition according to any one of claims 1 to 18 to a device, wherein application of the composition cleans, disinfects and/or sterilizes the device. 24. Способ по п.23, отличающийся тем, что область поверхности представляет собой область пористой поверхности или область непористой поверхности.24. The method according to claim 23, wherein the surface region is a porous surface region or a non-porous surface region. 25. Способ по п.23 или 24, отличающийся тем, что область поверхности включает верхнюю поверхность стола, столешницу, пол, стену, потолок, окно, дверь, дверную ручку, душ, ванну, раковину, смеситель, унитаз, сиденье унитаза, слив, оборудование, технику, средства индивидуальной защиты, средства индивидуальной биологической защиты, медицинское устройство, стоматологическое устройство, фармацевтическое устройство, ветеринарное устройство, устройство для морга или кожу человека.25. The method according to claim 23 or 24, wherein the surface area includes a table top, countertop, floor, wall, ceiling, window, door, door handle, shower, bathtub, sink, faucet, toilet, toilet seat, drain , equipment, machinery, personal protective equipment, personal biological protective equipment, medical device, dental device, pharmaceutical device, veterinary device, morgue device or human skin. 26. Применение дезинфицирующей композиции по любому из пп.1-18 для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации области поверхности.26. Use of a disinfectant composition according to any one of claims 1 to 18 for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a surface area. 27. Применение по п.26, отличающееся тем, что область поверхности представляет собой область пористой поверхности или область непористой поверхности.27. The use of claim 26, wherein the surface region is a porous surface region or a non-porous surface region. 28. Применение по п.26 или 27, отличающееся тем, что область поверхности включает верхнюю поверхность стола, столешницу, пол, стену, потолок, окно, дверь, дверную ручку, душ, ванну, раковину, смеситель, унитаз, сиденье унитаза, слив, оборудование, технику, средства индивидуальной защиты, средства индивидуальной биологической защиты, медицинское устройство, стоматологическое устрой-28. The application of claim 26 or 27, wherein the surface area includes a table top, countertop, floor, wall, ceiling, window, door, door handle, shower, bathtub, sink, faucet, toilet, toilet seat, drain , equipment, machinery, personal protective equipment, personal biological protective equipment, medical device, dental device- - 98 043933 ство, фармацевтическое устройство, ветеринарное устройство, устройство для морга или кожу человека.- 98 043933 product, pharmaceutical device, veterinary device, mortuary device or human skin. 29. Способ очистки, дезинфицирования и/или стерилизации микробной инфекции у пациента, включающий нанесение дезинфицирующей композиции по любому из пи. 1-18 на пациента, причем нанесение композиции очищает, дезинфицирует и/или стерилизует пациента.29. A method for cleaning, disinfecting and/or sterilizing a microbial infection in a patient, including applying a disinfectant composition according to any of the following. 1-18 per patient, wherein application of the composition cleanses, disinfects and/or sterilizes the patient. 30. Способ по и.29, отличающийся тем, что дезинфицирующую композицию наносят местно или вводят энтерально или парентерально.30. The method according to claim 29, characterized in that the disinfectant composition is applied topically or administered enterally or parenterally. 31. Применение дезинфицирующей композиции по любому из пи. 1-18 для очистки, дезинфицирования и/или стерилизации микробной инфекции у пациента.31. Use of a disinfectant composition according to any of the following. 1-18 to clean, disinfect and/or sterilize a microbial infection in a patient. 32. Применение по и.31, отличающееся тем, что дезинфицирующую композицию наносят местно или вводят энтерально или парентерально.32. Application according to claim 31, characterized in that the disinfectant composition is applied topically or administered enterally or parenterally. 33. Способ лечения состояния у пациента, включающий нанесение дезинфицирующей композиции по любому из пи. 1-18 на пациента, причем нанесение композиции приводит к лечению состояния у пациента.33. A method of treating a condition in a patient, comprising applying a disinfectant composition according to any one of p. 1-18 per patient, wherein application of the composition results in treatment of a condition in the patient. 34. Способ по и.33, отличающийся тем, что дезинфицирующую композицию наносят местно или вводят энтерально или парентерально.34. Method according to claim 33, characterized in that the disinfectant composition is applied topically or administered enterally or parenterally. 35. Способ по и.33 или 34, отличающийся тем, что состояние представляет собой офтальмологическое состояние, дерматологическое состояние, воспаление, ломоту или боль.35. The method according to claim 33 or 34, characterized in that the condition is an ophthalmological condition, a dermatological condition, inflammation, aches or pain. 36. Применение дезинфицирующей композиции по любому из пи.1-18 для лечения состояния у пациента.36. Use of a disinfectant composition according to any one of claims 1-18 for treating a condition in a patient. 37. Применение по и.36, отличающееся тем, что дезинфицирующую композицию наносят местно или вводят энтерально или парентерально.37. Application according to claim 36, characterized in that the disinfectant composition is applied topically or administered enterally or parenterally. 38. Применение по и.36 или 37, отличающееся тем, что состояние представляет собой рану, офтальмологическое состояние, дерматологическое состояние, воспаление, ломоту или боль.38. The use of claim 36 or 37, wherein the condition is a wound, an ophthalmic condition, a dermatological condition, inflammation, aches or pain. Евразийская патентная организация, ЕАПВEurasian Patent Organization, EAPO Россия, 109012, Москва, Малый Черкасский пер., 2Russia, 109012, Moscow, Maly Cherkassky lane, 2
EA202091687 2018-01-14 2019-01-14 COMPOSITIONS, KITS, METHODS AND APPLICATIONS FOR CLEANING, DISINFECTING, STERILIZATION AND/OR TREATMENT EA043933B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US62/617,263 2018-01-14
US62/721,991 2018-08-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
EA043933B1 true EA043933B1 (en) 2023-07-07

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11910797B2 (en) Compositions, kits, methods and uses for cleaning, disinfecting, sterilizing and/or treating
JP7471218B2 (en) Compositions, methods and uses for cleaning, disinfection and/or sterilization
US20220323626A1 (en) Compositions, Kits, Methods and Uses for Preventing Microbial Growth
DK181496B1 (en) Compositions, kits, methods and uses for cleaning, disinfecting, steriliziing and/or treating
EA043933B1 (en) COMPOSITIONS, KITS, METHODS AND APPLICATIONS FOR CLEANING, DISINFECTING, STERILIZATION AND/OR TREATMENT
JP2023540234A (en) Methods and uses for producing compositions stably containing free available chlorine species and peroxides
AU2020428560A1 (en) Compositions, kits, methods and uses for cleaning, disinfecting, sterilizing and/or treating
WO2024102951A2 (en) Compositions comprising stable free available chlorine species and peroxides, methods of making and uses thereof
EA042144B1 (en) COMPOSITIONS, METHODS AND USES FOR CLEANING, DISINFECTING AND/OR STERILIZING