DK2483744T3 - Sprøjtestøbningsværktøj med mikro-/nano-metermønstre - Google Patents

Sprøjtestøbningsværktøj med mikro-/nano-metermønstre Download PDF

Info

Publication number
DK2483744T3
DK2483744T3 DK10763594.8T DK10763594T DK2483744T3 DK 2483744 T3 DK2483744 T3 DK 2483744T3 DK 10763594 T DK10763594 T DK 10763594T DK 2483744 T3 DK2483744 T3 DK 2483744T3
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
tool
injection molding
micro
base plate
nanometer
Prior art date
Application number
DK10763594.8T
Other languages
English (en)
Inventor
Theodor Kamp Nielsen
Brian Bilenberg Olsen
Anders Kristensen
Kristian Smistrup
Jesper Nørregaard
Emil Søgaard
Original Assignee
Univ Danmarks Tekniske
Nil Tech Aps
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univ Danmarks Tekniske, Nil Tech Aps filed Critical Univ Danmarks Tekniske
Application granted granted Critical
Publication of DK2483744T3 publication Critical patent/DK2483744T3/da

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)

Claims (16)

1
1. Fremgangsmåde til fremstilling af et mikro-/nanometer-struktureret mønster i, eller på, den aktive flade af et sprøjtestøbningsværktøj, hvilken fremgangsmåde omfatter at: 5 · tilvejebringe sprøjtestøbningsværktøjet; • tilvejebringe en mikro-/nanometer-struktureret præge/trykindretning med en struktur der skal trykkes i værktøjet; og • anvende trykindretningen i, eller på, den aktive flade til at overføre den mikroVnanomønstrede struktur til værktøjet mens trykindretningen er, 10 mindst delvist, inde i et hulrum af sprøjtestøbningsværktøjet, kendetegnet ved • trykindretningen er fjernet før udførelse af formningsprocessen.
2. Fremgangsmåden ifølge krav 1, hvor den aktive flade trykt med mikro-15 /nanomønsteret er ikke-plan i en makroskopisk skala.
3. Fremgangsmåden ifølge krav 1 or 2, hvor den aktive flade trykt med mikro-/nanomønsteret er krummet i en makroskopisk skala.
4. Fremgangsmåden ifølge krav 1, hvor anvendelsen aftrykindretningen udføres når sprøjtestøbningsværktøjet er i en samlet form, den samlede form er klar, eller i det væsentlige klar, til sprøjtestøbning.
5. Fremgangsmåden ifølge krav 1, hvor mikro-/nanometermønsterstrukturen er 25 permanent overført til værktøjet.
6. Fremgangsmåden ifølge krav 1, hvor mikro-/nanometermønsteret præges direkte i, eller på, værktøjet. 2
7. Fremgangsmåden ifølge krav 1, hvor mikro-/nanometermønsteret indledende præges i et tilberedningslag, tilberedningslaget efterfølgende forarbejdes til at danne de ønskede mønstre.
8. Fremgangsmåden ifølge krav 1, hvor trykindretningen omfattende et første og andet hulrum, det første og andet hulrum er adskilt af et fleksibelt mellemlægselement inde i trykindretningen, mellemlægselementet omfatter et stempel med mikro-/nanometer-prægede mønstre.
9. Fremgangsmåden ifølge krav 8, fremgangsmåden yderligere omfatter - anbringe trykindretningen på værktøjet for at dannet et i det væsentlige lufttæt indelukke inde i det andet hulrum, indelukket defineres mindst af tilsvarende værktøjsflade og det fleksible mellemlægselement, og - ændre det relative tryk mellem det første og andet hulrum til at forårsage 15 en aftagen i volumen af det andet hulrum ved at forskyde det fleksible mellemlægselement mod værktøjsfladen og derved præge mikro-/nanomønsteret i, eller på, værktøjet.
10. Fremgangsmåden ifølge krav 8, hvor forseglingsmidler er tilvejebragt på en 20 del af trykindretningen der vender mod værktøjet der skal præges, forseglingsmidlerne er anbragt til, i kombination med værktøjsfladen, at tilvejebringe en i det væsentlige lufttæt forsegling af det andet hulrum.
11. Fremgangsmåde til fremstilling afen mikro/nano-metermønstret struktur i, 25 eller på, den aktive flade af sprøjtestøbningsværktøj, hvilken fremgangsmåde omfatter at: - tilvejebringe et værktøj; - tilvejebringe en basisplade, basispladen har et mikro-/nanometer-struktureret mønster anbragt på en øvre del, 30 - anbringe basispladen på den aktive flade inde i værktøjet, den nedre del af basispladen vendende mod værktøjet, og 3 - sikre positionen af basispladen inde i værktøjet, kendetegnet ved at den aktive flade, der modtager basispladen, er ikke-plan i en makroskopisk skala.
12. Fremgangsmåden ifølge krav 11, hvor den aktive flade, der modtager basispladen, er krummet i en makroskopisk skala.
13. Fremgangsmåden ifølge krav 11, hvor basispladen er deformerbar i henhold til formen af den aktive flade af sprøjtestøbningsværktøjet, fortrinsvis ved plastisk 10 deformation.
14. Fremgangsmåden ifølge krav 11, hvor anbringelsen af basispladen udføres af et relativt overtryk påvirket fra den side hvor den øvre del af basispladen er.
15. Fremgangsmåden ifølge krav 14, hvor overtrykket tilvejebringes af et sprøjtestøbningssystem der arbejder i samarbejde med sprøjtestøbningsværktøjet, fortrinsvis som en sprøjtestøbningsproces.
16. Sprøjtestøbningsværktøj omfattende en mikroVnano-metermønstret struktur 20 i, eller på, den aktive flade af sprøjtestøbningsværktøjet, strukturen overføres i henhold til fremgangsmåden ifølge krav 1, eller i henhold til fremgangsmåden ifølge krav 11. 25
DK10763594.8T 2009-10-02 2010-10-01 Sprøjtestøbningsværktøj med mikro-/nano-metermønstre DK2483744T3 (da)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DKPA200970145 2009-10-02
US25719109P 2009-11-02 2009-11-02
EP09174778 2009-11-02
DKPA200970228 2009-11-24
PCT/DK2010/050249 WO2011038741A1 (en) 2009-10-02 2010-10-01 Injection molding tools with micro/nano-meter pattern

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DK2483744T3 true DK2483744T3 (da) 2016-07-18

Family

ID=43382306

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK10763594.8T DK2483744T3 (da) 2009-10-02 2010-10-01 Sprøjtestøbningsværktøj med mikro-/nano-metermønstre

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9268215B2 (da)
EP (1) EP2483744B1 (da)
CN (1) CN102713751B (da)
DK (1) DK2483744T3 (da)
WO (1) WO2011038741A1 (da)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG2014009948A (en) 2011-12-06 2014-08-28 Ev Group E Thallner Gmbh Nanostructured stamp, embossing roller, and device and method for the continuous embossing of nanostructures
CN103182762B (zh) * 2011-12-29 2016-06-29 香港理工大学 荷叶结构的自清洁塑料膜、表面微型结构及其制备方法
EP3093709A1 (en) 2015-05-14 2016-11-16 Morphotonix Sarl Tool surface nano-structure patterning process
WO2016199100A1 (en) 2015-06-10 2016-12-15 Sabic Global Technologies B.V. Plastic-metal junctions and methods of making the same
US10559237B2 (en) * 2015-07-24 2020-02-11 The Boeing Company Method for conforming a display panel
FR3041118B1 (fr) * 2015-09-15 2018-02-09 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Moule de lithographie pour impression nanometrique et procedes de fabrication et d'utilisation d'un tel moule
CN105293429B (zh) * 2015-11-05 2016-12-07 西安交通大学 一种表面疏水性能可控结构的制备方法
TWI672212B (zh) * 2016-08-25 2019-09-21 國立成功大學 奈米壓印組合體及其壓印方法
CN107416763B (zh) * 2017-08-18 2019-04-16 西安交通大学 复杂腔体内表面微纳结构的自适应随形制造方法
US10612514B2 (en) * 2017-10-25 2020-04-07 10X Technology Llc Rigid polymeric blade for a wind turbine and method and apparatus to manufacture same
CN108008598B (zh) * 2017-11-30 2021-07-02 Tcl华星光电技术有限公司 压印模板的制造方法
US11254032B2 (en) 2018-11-08 2022-02-22 ATSP Innovations, Inc. Surface texturing for advanced polymers
CN109765687B (zh) * 2018-12-04 2021-12-14 上海安翰医疗技术有限公司 曲面外壳上疏水涂层的制作方法及内窥镜
WO2020152345A1 (en) * 2019-01-24 2020-07-30 Nil Technology Aps A component for liquid handling with self-cleaning properties
KR102299172B1 (ko) * 2020-02-11 2021-09-06 이민호 가변 초점을 제공하기 위한 하이브리드형 렌즈 및 안경
EP4016200A1 (fr) * 2020-12-21 2022-06-22 The Swatch Group Research and Development Ltd Procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage digital et dispositif d'affichage digital

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6482742B1 (en) 2000-07-18 2002-11-19 Stephen Y. Chou Fluid pressure imprint lithography
US6173925B1 (en) 1998-04-16 2001-01-16 Daimlerchrysler Ag Skin-rib structure
US5947027A (en) 1998-09-08 1999-09-07 Motorola, Inc. Printing apparatus with inflatable means for advancing a substrate towards the stamping surface
US20030006527A1 (en) 2001-06-22 2003-01-09 Rabolt John F. Method of fabricating micron-and submicron-scale elastomeric templates for surface patterning
US20030017424A1 (en) 2001-07-18 2003-01-23 Miri Park Method and apparatus for fabricating complex grating structures
DE50209246D1 (de) 2002-11-25 2007-02-22 Weidmann Plastics Tech Ag Verfahren zur Herstellung eines Werkzeugeinsatzes zum Spritzgiessen eines mikrostrukturierten Teils
US20050017404A1 (en) 2003-07-21 2005-01-27 Youngs John D. Method of molding a vehicle trim component
US7320584B1 (en) 2004-07-07 2008-01-22 Komag, Inc. Die set having sealed compliant member
JP4733134B2 (ja) 2004-09-08 2011-07-27 ニル テクノロジー エイピーエス 柔軟なナノインプリントスタンプ
US20070138341A1 (en) 2004-12-07 2007-06-21 Joshi Shiv P Transformable skin
EP1700680A1 (en) * 2005-03-09 2006-09-13 EPFL Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne Easy release fluoropolymer molds for micro- and nano-pattern replication
EP1731965B1 (en) 2005-06-10 2012-08-08 Obducat AB Imprint stamp comprising cyclic olefin copolymer
US8113469B2 (en) 2006-02-21 2012-02-14 University Of Alabama Passive micro-roughness array for drag modification
US7830498B2 (en) 2006-10-10 2010-11-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Hydraulic-facilitated contact lithography apparatus, system and method
EP1925779A1 (de) 2006-11-23 2008-05-28 Siemens Aktiengesellschaft Strömungsführendes Bauteil und Verfahren zur Herstellung eines solchen
US8025829B2 (en) 2006-11-28 2011-09-27 Nanonex Corporation Die imprint by double side force-balanced press for step-and-repeat imprint lithography
WO2009028745A1 (en) 2007-08-28 2009-03-05 Lg Electronics Inc. Injection moldings, injection-molding apparatus and method thereof
TWI342862B (en) * 2008-01-31 2011-06-01 Univ Nat Taiwan Method of micro/nano imprinting
CN101372547B (zh) 2008-10-16 2010-08-11 北京航空航天大学 具有自润滑沟槽复合减阻功能的仿鲨鱼蒙皮的制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
US9268215B2 (en) 2016-02-23
EP2483744A1 (en) 2012-08-08
US20120244246A1 (en) 2012-09-27
WO2011038741A1 (en) 2011-04-07
CN102713751A (zh) 2012-10-03
EP2483744B1 (en) 2016-03-30
CN102713751B (zh) 2016-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK2483744T3 (da) Sprøjtestøbningsværktøj med mikro-/nano-metermønstre
JP5276436B2 (ja) 中間スタンプによるパターン複製
CN1979336B (zh) 具有中间模具的图案复制用装置
CN102566262B (zh) 一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置
TWI464020B (zh) A method for making a mold having a three-dimensional microstructure and a mold having a three-dimensional microstructure
JP2008542081A5 (da)
US20050162733A1 (en) Method of fabricating diffractive lens array and UV dispenser used therein
CN113238456B (zh) 一种采用具厚度变化的可挠式模仁的压印方法
Park et al. Micro-macro hybrid soft-lithography master (MMHSM) fabrication for lab-on-a-chip applications
Mekaru Formation of metal nanostructures by high-temperature imprinting
CN108008599B (zh) 用于三维曲面纳米级压印的方法、装置及模具制备方法
US20160059603A1 (en) Pdms imprinting stamp with embedded flexure
US9513543B2 (en) Method for forming a non-deformable patterned template
CN207663209U (zh) 一种用于三维曲面的纳米级压印装置
TW202141177A (zh) 分離一壓印器之方法及裝置
Shibata et al. Micromachining of electroformed nickel mold using thick photoresist microstructure for imprint technology
US8366862B2 (en) Method for forming structure and method for manufacturing liquid ejecting head
KR101065707B1 (ko) 사출금형용 스탬퍼 제작방법
CN104570595B (zh) 具有低表面粗糙度的压印模具及其制备方法
CN209813364U (zh) 基于弹性模板的微纳米热压印设备
TWI671201B (zh) 微流道晶片製造方法及其成品
KR101008647B1 (ko) 곡면스탬퍼의 제작방법
KR20100018185A (ko) 곡면스탬퍼의 제작방법
Wissmann et al. Alternative mould insert fabrication technology for micromoulding by galvanic replication
Senn Process development for nanostructuring and 3D micro/nanointegration