DK162969B - Fremgangsmaade til tilvejebringelse af specifikke kemiske funktionelle grupper paa overfladerne af organiske eller uorganiske substrater - Google Patents
Fremgangsmaade til tilvejebringelse af specifikke kemiske funktionelle grupper paa overfladerne af organiske eller uorganiske substrater Download PDFInfo
- Publication number
- DK162969B DK162969B DK368482A DK368482A DK162969B DK 162969 B DK162969 B DK 162969B DK 368482 A DK368482 A DK 368482A DK 368482 A DK368482 A DK 368482A DK 162969 B DK162969 B DK 162969B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- plasma
- substrate
- functional groups
- components
- organic
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 62
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 48
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 20
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 19
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 4
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 55
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 12
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 12
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 12
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Natural products CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229940105329 carboxymethylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- QCHWBGRKGNYJSM-UHFFFAOYSA-N ethene Chemical group C=C.C=C.C=C QCHWBGRKGNYJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000003018 immunoassay Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920003225 polyurethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920006216 polyvinyl aromatic Polymers 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 229920006215 polyvinyl ketone Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920006214 polyvinylidene halide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011028 pyrite Substances 0.000 description 1
- NIFIFKQPDTWWGU-UHFFFAOYSA-N pyrite Chemical compound [Fe+2].[S-][S-] NIFIFKQPDTWWGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052683 pyrite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/006—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by plasma or corona discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
i
DK 162969 B
Opfindelsen angår en fremgangsmåde til tilvejebringelse af specifikke kemiske funktionelle grupper på overfladerne af organiske substrater, hvilken fremgangsmåde omfatter, at man 5 anbringer et organisk substrat 47 inden i en reaktionszone 17, indfører et dampformigt materiale i reaktionszonen, hvilket materiale er egnet til tilvejebringelse af en plasma, 10 underkaster materialet plasmaproducerende betingelser til opnåelse af en plasma, som omfatter neutralt materiale, positive ioner af materialet, negative ioner af materialet, elektroner og fotoner, 15 bringer overfladen af substratet i kontakt med komponenter af plasmaen, og danner specifikke funktionelle grupper af materialet på overfladen af det organiske substrat.
20
Opfindelsen angår endvidere en fremgangsmåde til tilvejebringelse af specifikke kemiske funktionelle grupper på overfladerne af uorganiske substrater, hvilken fremgangsmåde omfatter, at man 25 anbringer et uorganisk substrat 47 inden i en reaktionszone 17, indfører et dampformigt materiale i reaktionszonen, hvilket 30 materiale er egnet til tilvejebringelse af en plasma, underkaster materialet plasmaproducerende betingelser til opnåelse af en plasma, som omfatter neutralt materiale, positive ioner af materialet, negative ioner af materialet, elektroner 35 og fotoner, bringer overfladen af substratet i kontakt med komponenter af plasmaen og
DK 162969 B
2 danner specifikke funktionelle grupper af materialet på overfladen af det uorganiske substrat.
Opfindelsen angår således modifikation af overfladerne af or-5 ganiske eller uorganiske substrater ved at underkaste overfla den af substratet udvalgte arter af en plasma af et fordampet materiale.
Brugen af en plasma til at modificere overfladen af forskelli-10 ge substrater er velkendt. Plasmaer defineres som højt reaktionsdygtige og energetiske blandinger af ioner, elektroner og fotoner med egenskaber, der adskiller sig fra sædvanlige gasarter. Fire typer menneskefremstillet plasma står til rådighed. Oisse er varmeplasmaer, udladningsplasmaer, stråleplas-15 maer og hybridplasmaer, såsom coronaudladninger og udladninger af ozon iseringstypen. Elektriske udladningsplasmaer skabes i almindelighed ved anvendelse af enten jævnstrømskilder eller vekselstrømskiler med en frekvens gennem mikrobølgeområdet ved kraftniveauer fra ca. 1,0W til ca. 10 KW.
20
Blandt anvendelserne eller foreslåede anvendelser for sådanne menneskefremstillede plasmaer er modifikation af overfladerne af uorganiske og organiske substrater. En sådan modifikation bevirkes i almindelighed ved at danne en plasma af uorganiske 25 eller organiske luftformige arter og bringe substratet i kon takt med det fulde spektrum af aktive arter fra plasmaen, som dannes. Det er kendt, at det fulde spektrum af aktive arter, der står til rådighed i plasmaen, kan virke til at modificere overfladen af substrat, såsom ved dannelse af et polymert 30 overtræk derpå, eller ved podning af forskellige kemiske arter på substratoverfladen. Ofte vælges materialet, hvoraf plasmaen dannes, med hensyn til substratet, hvormed det vil eller kan reagere, og modifikationen af overfladen, som bliver resultatet heraf ved at bringe substratet i kontakt med plasmaen, er 35 ikke en modifikation, som er ønsket, eller som frembringer et ønsket resultat. For eksempel har luft- eller oxygenplasmaer været anvendt til at modificere overfladen af polymere materi
DK 162969 B
3 aler, såsom polyethylen, med det formål at forøge deres klæbeegenskaber eller påtrykningsegenskaber, men de modificerede overflader er ikke nyttige til andre formål, såsom vævskulturvækst .
5
Den foreliggende opfindelse angiver en fremgangsmåde til modifikation af organiske og uorganiske substrater, herunder polymere materialer og metaller, uanset tykkelse, og som er uafhængig af substratsammensætningen, således at der fås specifik-10 ke kemiske funktionelle grupper på overfladen af substratet. Denne proces er egnet til enhver anvendelse, som kræver specifik overfladekemi, såsom vævskulturprodukter og protein-anti-stofbinding eller kobling til overflader til sådanne formål som immunbestemmelse.
15
Ifølge opfindelsen anvises således en fremgangsmåde til tilvejebringelse af specifikke kemiske funktionelle grupper på overfladerne af organiske substrater, hvilken fremgangsmåde er ejendommelig ved trinnene, at man forhindrer mindst én af kom-20 ponenterne af plasmaen i at komme i kontakt med overfladen af det organiske substrat og bringer overfladen af substratet i kontakt med resten af komponenterne af plasmaen. Endvidere anvises en fremgangsmåde til tilvejebringelse af specifkke kemiske funktionelle grupper på overfladerne af uorganiske 25 substrater, hvilken fremgangsmåde er ejendommelig ved trinnene, at man forhindrer mindste én af komponenterne af plasmaen fra at komme i kontakt med overfladen af det organiske substrat og bringer substratets overflade i kontakt med resten af komponenterne af plasmaen. Nærmere betegnet bliver overfla-30 derne af organiske og uorganiske substrater irreversibelt modificeret ved podning af specifikke kemiske funktionelle arter på overfladen af substratet ved at bringe overfladerne i kontakt med udvalgte komponenter af en plasma af et dampformigt materiale. Den anvendte plasma er en lavenergi eller kold 35 plasma, såsom en elektrisk glødeudladningsplasma eller corona-udladningsplasma. Overfladerne, som er modificeret ifølge opfindelsen, har specifikke kemiske funktionelle grupper podet
DK 162969 B
4 på overfladen af substratet og frembyder egnet overfladekemi til sådanne anvendelser som vævskulturprodukter og protein-antistofbinding eller kobling.
5 Fremgangsmåden til at modificere overfladen af organiske mate rialer, især organiske polymere materiale, kan illustreres således :
Tilvejebringelse af et organisk substrat i en reaktionszone.
10
Indføring af et fordampet materiale i reaktionszonen. Materialet er ét, der er egnet til at give en plasma, såsom under elektriske udladningsbetingelser. Egnede materialer indbefatter, men er ikke begrænset til oxygen, nitrogen, halogen, svovl og forbindelser deraf.
Materialet i reaktionszonen underkastes en ioniseringsproces. Der dannes en plasma, som indbefatter neutralt materiale, positive ioner af materialet, negative ioner af materialet, 20 elektroner og fotoner.
Mindst én af komponenterne i plasmaen forhindres i at komme i kontakt med overfladen af det organiske substrat i reaktionszonen. Overfladen af substratet bringes i kontakt med resten 25 af komponenterne af plasmaen i reaktionszonen, og der dannes specifikke funktionelle grupper af materialet på overfladen af det organiske substrat.
30 Den foreliggende opfindelse er baseret på den opdagelse, at udelukkelse af forskellige reaktionsdygtige arter af en plasma fra kontakt med et substrat i nærværelse af plasmaen kan vendes til at tilvejebringe specifikke kemiske funktionelle grupper på overfladen af substratet.
35
Den foreliggende opfindelse er nærmere beskrevet under henvisning til tegningen, hvor fig. 1 er et skematisk diagram af et apparat, der kan anvendes til udførelse af opfindelsen,
DK 162969 B
5 fig. 2 er et perspektivisk billede af en prøveholder anvendt i apparatet på fig. 1, fig. 3 - 7 er røntgenstrålefotoelektronspektroskopi-skanderinger (ESCA) af forskellige substrater, hvoraf nogle er blevet behandlet i overens s temiaelse med den foreliggende opfindelse, 5 fig. 8 er en kurve, der illustrerer forskelle i forhold melmel oxygen og kulstof, som forekommer ved forskellige energiniveauer med forskellige plasmaarter.
Idet der refereres til tegningerne, vil opfindelsen blive beskrevet under henvisning til et spe-10 cielt materiale, der er egnet til dannelse af en plasma, nemlig oxygen. Det må dog forstås, at fremgangsmåderne ifølge opfindelsen er lige så egnede til brug med andre materialer, som er i stand til at danne en plasma, såsom nitrogen, svovl, ammoniak, halogen, forbindelser deraf og 15 blandinger deraf.
Som vist på fig. 1, haves et første gasreservoir 11 og et andet gasreservoir 13 med en ledning 15 til at give enten den ene eller både en første og en anden gas til et vakuumkammer 17. Strømningsmålere 19 og 21 er anbragt til at måle 20 gasstrømningshastigheden, og en vakuummåler 23 er indrettet for at styre trykket i vakuumkammeret 17. Ventiler 25, 27 og 29 er indrettet for at regulere strømningshastigheden af gassen i det første gasreservoir 11, det andet gasreservoir 15 og gassen, der kommer ind i vakuumkammeret 17. Før brugen 25 bliver vakuumkammeret 17 evakueret ved at åbne ventilen 31 til en vakuumpumpe 33. Passende elektroder 35 og 37 er forbundet til en egnet spændingskilde 39. Reaktorsysternet indbefatter også en lås 41 og en udluftningsledning 43 og dens ventil 45.
30 Som det bedst ses på fig. 2 bliver et substrat 47, der skal behandles ifølge opfindelsen, anbragt i en prøveholder 51 og
DK 162969 B
6 anbragt i vakuurakammeret 17. Prøveholderen indbefatter en gittersamling af tre gitre, betegnet 1, 2 og 3. En strømaftager 49, der kan forspændes elektrisk, er anbragt på den anden side af prøven fra gittersysternet. Prøven holdes i 5 stilling mellem gitter 3 og strømaftageren ved hjælp af en passende holder 51.
Under driften kan enhver af de tre gitre eller strømaftageren forspændes med positiv eller negativ ladning for at frastøde selektive komponenter af en plasma, der er udviklet mellem 10 elektroderne 35 og 37. Substratet i prøveholderen udsættes så for reaktion med de komponenter af plasmaen, som ikke frastødes .
Den foreliggende opfindelse kan anvendes til at ændre overfladerne af faste polymere materialer, herunder naturlige 15 og syntetiske additionspolymere og kondensationspolymere.
Sådanne polymere materialer indbefatter polyolefiner, såsom polyethylen, polypropylen, polyisobutylen og ethylen-a-olefin-copolymere, acrylpolymere og -copolymere, såsom polyacrylat, polymethylmethacrylat, polyethylacrylat, vinylhalogenid-20 polymere og -copolymere, såsom polyvinylchlorid, polyvinyl= ethere, såsom polyvinylmethylether, polyvinylidenhalogenider, såsom polyvinylidenfluorid og polyvinylidenchlorid, poly= acrylnitril, polyvinylketoner, polyvinylamider, polyvinyl= aromatiske forbindelser, såsom polystyren, polyvinylestere, 25 såsom polyvinylacetat, copolymere af vinylmonomere med hinanden og olefiner, såsom ethylenmethylmethacrylat-copolymere, acrylnitril-styren-copolymere, ABS-harpikser og ethylen-vinyl-acetat-copolymere, naturlige og syntetiske kautsjukker, herunder butadien-styren-copolymere, polyisopren, syntetisk 30 polyisopren, polybutadien, butadien-acrylnitril-copolymere, polychloropren-kautsjukker, polyisobutylen-kautsjuk, ethylen-propylen-kautsjuk, ethylen-propylendien-kautsjukker, iso= butylen-isopren-copolymere og polyurethan-kautsjukker, poly= amider, såsom Nylon 66 og polycaprolactam, polyestere, såsom
DK 162969 B
7 polyethylenterephthaiat, alkyd-harpikser, phenol-formaldehyd-harpikser, urinstof-formaldehyd-harpikser, melamin-formaldehyd-harpikser, polycarbonater, polyoxymethylener, polyiraider, polyethere, epoxy-harpikser, polyurethaner, uld, bomuld, 5 silke, rayon, rayon-triacetat, cellulose, celluloseacetat, cellulosebutyrat, celluloseacetatbutyrat, cellophan, cellu= losenitrat, cellulosepropionat, celluloseethere og carboxy= methylcellulose.
Uorganiske materialer, hvis overflader kan modificeres ifølge 10 opfindelsen, indbefatter ikke-metaller, såsom grafit, metaller, såsom jern, aluminium, tin, kobber og nikkel, metaloxider og andre grundstofoxider, såsom magniumoxid, silicium= dioxid, aluminiumoxid og titandioxid, mineraler, såsom ler, pyrit og asbest, salte, såsom natriumchlorid og calciumcarbo= 15 nat, og syntetiske materialer, såsom glas og ildfaste materialer.
Substraterne kan have enhver form, såsom kontinuerlig eller partikelformet, porøs eller uigennemtrængelig og stor eller lille.
20 Opfindelsen kan anvendes til at ændre overfladen af krystaller, pulvere, plader, strimler, film, ark, tråd, fibre, stoffer, filamenter, rør og støbte, ekstruderede eller sammenpressede genstande og lignende.
For så vidt angår oxygen, er de plasmaarter, der dannes, når 25 oxygen bringes til at undergå elektriske glødeudladnings-betingelser, anført i følgende tabel 1.
TABEL· 1.
DK 162969 B
8
Oxygenplasmaarter.
Art x) Atomær oxygen Molekylær oxygen “neutral) -o- W' S <\> 5 (positiv) ·0·+, ·0·+2 02.+, 02+2 n_ — -2 — —2 (negativ) 0* , 0 Δ °2* f °2 x) - alle arter = η, n+, n / e , hv.
I de følgende eksempler underkastes et substrat af en polystyrenstrimmel forskellige komponenter af en oxygenplasma.
10 Substratet undersøges så ved røntgenstrålefotoelektron- spektroskopi (ESCA) for at bestemme karakteren af de kemiske funktionelle grupper på overfladen af polystyrensubstratet.
I de senere år har ESCA udviklet sig til et virksomt redskab til undersøgelse af polymeroverflader i en dybde af 100 Å.
15 ESCA anvendes til at måle bindingsenergiforskydningen/ .og resultaterne bringes i overskuelig form ved hjælp af en kurve, som viser bindingsenergiforskydningen i forhold til bestemte funktionelle grupper. I nedenstående tabel 2 er vist intervallet for bindingsenergiforskydning for forskellige kemiske 20 funktionelle grupper indført med en oxygenplasma. Tallene for bindingsenergiforskydningsintervallet, der er anført i tabel 2, er tilvejebragt ved sammenligning med standardkurver vedrørende ESCA-teknik. Se især C.Wagner, W.Riggs, L.Davis, J.Moulder & K.Nuilenberg, 1979, Handbook of X-Ray Photoelectron 25 Spectroscopy, Perkin-Elmer Corporation, Physical Electronics Division, Minnesota? D.T.Clark & A Dilks, J.Polym.Sci.Polym.
DK 162969B
9
Chem.Ed., 17, 957 (1979) og D.T.Clark, B.J.Cromarty & A.Dilks, J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed. 16, 3173 (1978), for så vidt angår mange baggrundsdata for undersøgelsen af overfladeoxiderede kulbrinte-polymere ved ESCA-teknik.
DK 162969 B
TABEL 2.
10 'tf . i" c c t= v I ^ *rj -Η 1
KD \D pi W
OM § O =s ·. i *. ro i
vo co CJ O
Φ Φ
i 5 O
^ VD σ, -S o-o
d> ^ ^ b O
Μ *τ> tø fe* ε u 8
<D oo η $ o Ή O
M oo 1 'i H 0-0-0 o o -o -ta ®
Di H i—ί
H >J
ffl n Q-S
s “i, ^ I Λ
5-J CM CM O
; i i
Ό O Q
<D HT
^ o oo Bj T
jj - I - H O
+J cm cm Q T .
<U T3 Ό Ή - § 3 S V1 i 5>3 I eA" I °·Ψ
IH
M ^ I
æ % , o D> · p Hl
r; nj 1 (D CM
il 3·3 I 9-8 g 9 ό ro
>iH
λ o. Ή + m a 'd h <d 6 ril
o en e b>. U
m >i cm oo S y
•Η X j· 1 jj· £ O
Di O HH Αί ΤΗ I
<D 0) £ 0) Di , g S , -S tf £>+> I i I ro -5 8 H ·©. -S £i nj ί B>
11 3sil? PI
" 5 møiH-H'-' OWDI
PQ *H
DK 162969 B
11
Fig. 3 viser en ESCA-skandering af et ubehandlet polystyren-substrat. tf-it -toppen refererer til ringstrukturtoppen.
Den eneste anden top er C-C-strukturen, som er det dominerende træk i det ubehandlede polystyrensubstrat.
5 Fig. 4 viser ESCA-skandering af et polystyrensubstrat, der har været udsat for en oxygenplasma indeholdende alle komponenterne i en oxygenplasma. Det kan ses, at mange af de funktionelle grupper forbundet med en oxygenplasma, som vist i tabel 2, er til stede i polystyrensubstratet, der 10 har været udsat for alle komponenterne, som findes i oxygen-plasmaen.
De følgende eksempler illustrerer forskellige træk ved opfindelsen, hvori et polystyrensubstrat underkastes en del af arterne i en oxygenplasma.
15 EKSEMPEL 1.
En prøveholder 51 indeholdende en polystyrenprøve 47 blev anbragt i en afstand af 6,35 cm fra parallelle pladeelektroder 35 og 37 i et vakuumkammer 17. De parallelle pladeelektroder havde en afstand på 21,6 cm. Systemet blev fra 20 begyndelsen udpumpet til et tryk på 3 mikron i 15 minutter. Elektrodespændingen blev holdt på 395 volt RMS med en frekvens på 60 Hz under de 3,0 minutters behandling, uden at der var lagt nogen forspænding på gittersamlingen eller strømaftageren. Alle gitre balancerede ved -2,5 v med en strøm-25 aftagerstrøm på -0,25 JJA. Oxygengas blev ført ind i vakuum-kammeret med en strømningshastighed på 5 cm pr. minut, medens der blev holdt et tryk på 6 mikron for at skabe en oxygenplasma. Overfladekemien, der fremkom ved behandlingen med det fulde spektrum af aktive arter i oxygenplasmaen, er 30 vist på fig. 4. Overfladekemien af en ubehandlet polystyrenprøve er som vist på fig. 3.
DK 162969 B
12 EKSEMPEL 2.
Polystyrenoverfladen blev bombarderet med kun neutrale arter af oxygenplasmaen ved at forspænde gitter 3 til +6v for at frastøde positive ioner og ved at forspænde strømaftageren til -6v for at frastøde negative arter. Strømmen til strøm-5 aftageren var mindre end 0,01 pA. Den fremkomne overfladekemi af prøven er vist med ESCA-skandering på fig. 5.
EKSEMPEL 3.
Et polystyrensubstrat blev derefter underkastet behandling med neutrale og positive ioner fra en oxygenplasma ved at 10 holde gitter 3 på -9v og strømaftageren på -60v. Den fremkomne overfladekemi af prøven er vist i ESCA-skandering på fig. 6.
EKSEMPEL 4.
Til plasmabehandling med negative ioner, elektroner og neutra-15 le blev gitter 3 holdt på en spænding af +l,0v med en strøm-aftagerspænding på +6v og en strømaftagerstrøm på -0,8 pA.
Den fremkomne overfladekemi af prøven er vist på fig. 7.
EKSEMPEL 5.
Evnen til selektiv regulering af omfanget af oxidation af en 20 overflade demonstreres ved at variere energien af de indfaldende ionarter. Følgende prøver blev fremstillet:
DK 162969 B
13
Strøm aftager-
Art Energi Gitterkonfiguration strøm n+,n K.E.. < 4ev Gitter 3 = -3,0 volt +0,05μΑ
XUIlwtL
Vc = -6,0 volt n+,n K.E.ioner < ^ev Gitter 3 = -6,0 volt +0,22μΑ
Vc = -15 volt 5 n+,n K,E*ioner <50ev Gitter 3 = -9,0 volt >+0,30μΑ
Vc = -60 volt n ,e ,n K.E. - < 8ev Gitter 3 = +1,0 volt -0,8 μΑ
Vc = +6,0 volt n,e ,n K.E.e~ <50ev Gitter 3 = +8,0 volt <"1/0 μΑ 10 Vc =+60,0 volt
Det målte overfladeforhold mellem oxygen og kulstof, O/C, afhænger både af energien og ionarterne, som vist på fig. 8.
Bindingsenergiforskydningerne, der repræsenterer de forskellige prøver i ovenstående eksempler, er angivet i nedenståen-15 de tabel 3.
Det vil let ses af tabel 3, at den foreliggende opfindelse kan anvendes til specifik indsætning af forskellige kemiske funktionelle grupper på substratoverflader ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen.
TABEL 3.
DK 162969 B
14 Ί _« tn p cn o ^ vø cm d G ΰ f w vø in ^ * ·Η ^ ^ K ^ *»
\D VØ pi U} KO KO \Q KD \D
i 1 w g nj O <N λ
i—i ». i ·. M
ft VØ VØ g a u
CD
s tø K ϋ O 3
(DO
3 vø σ\ H co 0) «. i *· 5 <* -* ^ ^ ti I—i 6 & ti H 8 -H co co D >6 0 h ** i ·· ω !3 - Ό co *=i* H O 'l* ti ϋ & in σ. Λ o co 0) . I . y <*> £ ™ « § ci o? rt 3 > ό
* S
O CO 3 O t" i_i » I " ft ni ni
0 ™ cm g ci oT
»g
^ -H
Φ 3 g g o »3 •ri - I » ft m ti HH 01¾
>1 H
1 §* S·) P m 0 •ψ vø Η Φ •W *· I ·· 5.3
•H HH a S
φ 3 d 0) CM CO 3 W »I- d coco co co
tn HH m CM CM CM CM
d .S *· *· » -
._l I Al Η Η Η H
3 g.
h i -5 S © <ij >· © ® 'rå ^ '$ Si r m I I ΰ I 'S ^ 1 Η β ffl S+J> § & I iS ^ 3 01 S P SS ^ od -h d o d © 3 η I h m oiipoo o&io g>h ^ EU φ Ή -H ^ £ & S <1 S 2 O ft-rl 2 O d -H O ©
Claims (8)
1. Fremgangsmåde til tilvejebringelse af specifikke kemiske 5 funktionelle grupper på overfladerne af organiske substrater, hvilken fremgangsmåde omfatter, at man anbringer et organisk substrat (47) inden i en reaktionszone (17), 10 indfører et dampformigt materiale i reaktionszonen, hvilket materiale er egnet til tilvejebringelse af en plasma, underkaster materialet piasmaproducerende betingelser til op-15 nåelse af en plasma, som omfatter neutralt materiale, positive ioner af materialet, negative ioner af materialet, elektroner og fotoner, bringer overfladen af substratet i kontakt med komponenter af 20 plasmaen, og danner specifikke funktionelle grupper af materialet på overfladen af det organiske substrat, kendetegnet ved trinnene, at man forhindrer mindst én af komponenterne af 25 plasmaen i at komme i kontakt med overfladen af det organiske substrat og bringer overfladen af substratet i kontakt med resten af komponenterne af plasmaen.
2. Fremgangmsåde til tilvejebringelse af specifikke kemiske 30 funktionelle grupper på overfladerne af uorganiske substrater, hvilken fremgangsmåde omfatter, at man anbringer et uorganisk substrat (47) inden i en reaktionszone (17), indfører et dampformigt materiale i reaktionszonen, hvilket materiale er egnet til tilvejebringelse af en plasma, 35 DK 162969 B underkaster materialet plasmaproducerende betingelser til opnåelse af en plasma, som omfatter neutralt materiale, positive ioner af materialet, negative ioner af materialet, elektroner og fotoner, 5 bringer overfladen af substratet i kontakt med komponenter af plasmaen og danner specifikke funktionelle grupper af materialet på over-10 fladen af det uorganiske substrat, kendetegnet ved trinnene, at man forhindrer mindst én af komponenterne af plasmaen i at komme i kontakt med overfladen af det uorganiske substrat og bringer overfladen af substratet i kontakt med resten af komponenterne af plasmaen. 15
3. Fremgangsmåde ifølge krav 1 eller 2, kendetegnet ved, at plasmaen fremstilles under elektriske udladningsbetingelser .
4. Fremgangsmåde ifølge krav 1, 2 eller 3, kendeteg net ved, at det dampformige materiale vælges blandt oxygen, nitrogen, halogen, svovl, forbindelser deraf og blandinger deraf.
5. Fremgangsmåde ifølge krav 4, kendetegnet ved, at det dampformige materiale er oxygen eller en forbindelse deraf .
6. Fremgangsmåde ifølge krav 4, kendetegnet ved, at 30 det dampformige materiale er nitrogen eller en forbindelse deraf.
7. Fremgangsmåde ifølge krav 4, kendetegnet ved, at det dampformige materiale er halogen eller en forbindelse der- 35 af.
8. Fremgangsmåde ifølge krav 4, kendetegnet ved, at det dampformige materiale er svovl eller en forbindelse deraf.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US30952581A | 1981-10-07 | 1981-10-07 | |
| US30952581 | 1981-10-07 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DK368482A DK368482A (da) | 1983-04-08 |
| DK162969B true DK162969B (da) | 1992-01-06 |
| DK162969C DK162969C (da) | 1992-06-15 |
Family
ID=23198582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DK368482A DK162969C (da) | 1981-10-07 | 1982-08-17 | Fremgangsmaade til tilvejebringelse af specifikke kemiske funktionelle grupper paa overfladerne af organiske eller uorganiske substrater |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0076562B1 (da) |
| JP (1) | JPS5871931A (da) |
| CA (1) | CA1188251A (da) |
| DE (1) | DE3276817D1 (da) |
| DK (1) | DK162969C (da) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1201400A (en) * | 1982-04-16 | 1986-03-04 | Joel L. Williams | Chemically specific surfaces for influencing cell activity during culture |
| JPS6091983A (ja) * | 1983-10-25 | 1985-05-23 | Susumu Kogyo Kk | タンパク質固定用膜担体およびその製造方法 |
| JPS6113628A (ja) * | 1984-06-27 | 1986-01-21 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | リフト・オフ・マスクの形成方法 |
| JPS61230058A (ja) * | 1985-04-04 | 1986-10-14 | Susumu Kogyo Kk | アルブミンの定量法 |
| EP0245310A1 (en) * | 1985-11-01 | 1987-11-19 | Biotechnology Australia Pty. Ltd. | Assay supports |
| DE19620634C2 (de) * | 1996-05-22 | 1998-08-27 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung haftvermittelnder Schichten auf Kunststoffoberflächen |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2402301A1 (fr) * | 1977-09-02 | 1979-03-30 | Commissariat Energie Atomique | Appareil de micro-usinage par erosion ionique utilisant une source de plasma |
| JPS5779621A (en) * | 1980-11-05 | 1982-05-18 | Mitsubishi Electric Corp | Plasma processing device |
| US4381453A (en) * | 1980-12-31 | 1983-04-26 | International Business Machines Corporation | System and method for deflecting and focusing a broad ion beam |
-
1982
- 1982-07-12 CA CA000407097A patent/CA1188251A/en not_active Expired
- 1982-07-27 EP EP19820303953 patent/EP0076562B1/en not_active Expired
- 1982-07-27 DE DE8282303953T patent/DE3276817D1/de not_active Expired
- 1982-08-17 DK DK368482A patent/DK162969C/da not_active IP Right Cessation
- 1982-09-29 JP JP17081682A patent/JPS5871931A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK162969C (da) | 1992-06-15 |
| EP0076562B1 (en) | 1987-07-22 |
| EP0076562A3 (en) | 1983-11-02 |
| JPS5871931A (ja) | 1983-04-28 |
| DE3276817D1 (en) | 1987-08-27 |
| CA1188251A (en) | 1985-06-04 |
| EP0076562A2 (en) | 1983-04-13 |
| JPS6133859B2 (da) | 1986-08-05 |
| DK368482A (da) | 1983-04-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4452679A (en) | Substrate with chemically modified surface and method of manufacture thereof | |
| EP0092302B1 (en) | Chemically specific surfaces for influencing cell activity during culture | |
| US4188426A (en) | Cold plasma modification of organic and inorganic surfaces | |
| GB1569833A (en) | Carbon coatings on substrates | |
| Martin et al. | Comparison of pulsed and downstream deposition of fluorocarbon materials from C 3 F 8 and c-C 4 F 8 plasmas | |
| Boonthanom et al. | Polymer-metal composite films | |
| DK162969B (da) | Fremgangsmaade til tilvejebringelse af specifikke kemiske funktionelle grupper paa overfladerne af organiske eller uorganiske substrater | |
| US4445991A (en) | Enhanced wettability of organic surfaces | |
| Cholvy et al. | Characterization and wear resistance of coatings in the Cr-CN ternary system deposited by physical vapour deposition | |
| Nam et al. | A study on plasma-assisted bonding of steels | |
| DE102008064134B4 (de) | Verfahren zur Beschichtung von Gegenständen mittels eines Niederdruckplasmas | |
| US4338420A (en) | Enhanced wettability of hope films | |
| Morancho et al. | Ti (C, N, H) coatings on glass substrates prepared by chemical vapour deposition using tris (2, 2′-bipyridine) titanium (0) | |
| Kondo et al. | Critical factors for nucleation and vertical growth of two dimensional nano-graphene sheets employing a novel Ar+ beam with hydrogen and fluorocarbon radical injection | |
| Holland et al. | The electrical properties of silicone films polymerized by electron bombardment | |
| GB2040317A (en) | Apparatus for evaporation coating | |
| Denes et al. | Does the thermal motion of macromolecules really influence the fluorine-atomic concentration of plasma-fluorinated polyolefin surfaces? | |
| Zhong et al. | Effect of pulsed plasma processing on controlling nanostructure and properties of thin film/coatings | |
| Uehara | Corona discharge treatment of polymers | |
| Cepeda-Jiménez et al. | Surface modifications of EVA copolymers induced by low pressure RF plasmas from different gases and their relation to adhesion properties | |
| Yamada et al. | Low-temperature deposition of optical films by oxygen radical beam-assisted evaporation | |
| EP3962989A1 (en) | Process for preparation of oxygen barrier film | |
| JPS5745226A (en) | Manufacture of thin film semiconductor | |
| Nowak et al. | XPS-Study of Metal-Polymer Interfaces After Polymer Surface Treatment by Ion and Plasma Techniques | |
| Jouve et al. | Surface chemistry induced by air corona discharges in a negative glow regime |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PBP | Patent lapsed |